JP2002082067A - 基板検査装置 - Google Patents

基板検査装置

Info

Publication number
JP2002082067A
JP2002082067A JP2000268945A JP2000268945A JP2002082067A JP 2002082067 A JP2002082067 A JP 2002082067A JP 2000268945 A JP2000268945 A JP 2000268945A JP 2000268945 A JP2000268945 A JP 2000268945A JP 2002082067 A JP2002082067 A JP 2002082067A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
inspected
light source
observation
defect
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000268945A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2002082067A5 (ja
Inventor
Nobuo Fujisaki
暢夫 藤崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
Priority to JP2000268945A priority Critical patent/JP2002082067A/ja
Priority to TW090106381A priority patent/TW493071B/zh
Priority to KR1020010014503A priority patent/KR100885560B1/ko
Priority to CN01208700U priority patent/CN2470821Y/zh
Priority to CNB011120509A priority patent/CN1179206C/zh
Publication of JP2002082067A publication Critical patent/JP2002082067A/ja
Publication of JP2002082067A5 publication Critical patent/JP2002082067A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8851Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/958Inspecting transparent materials or objects, e.g. windscreens
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8851Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
    • G01N2021/8854Grading and classifying of flaws
    • G01N2021/8861Determining coordinates of flaws
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8851Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
    • G01N2021/8887Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges based on image processing techniques
    • G01N2021/8893Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges based on image processing techniques providing a video image and a processed signal for helping visual decision

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】被検査基板に対し精度の高い欠陥検査を効率よ
く行なう。 【解決手段】被検査基板上の欠陥部の位置座標を検出す
る位置座標検出手段は、前記被検査基板の側縁に沿って
二方向へ設けられた二組のガイドレール(7031,7
032,704)と、一方向に設けられた一組のガイド
レール(704)に沿って移動可能に設けられこの一方
向と直交する方向に光を射出する光源(707)と、前
記被検査基板を跨ぐ状態で他方向に設けられた一組のガ
イドレール(7031,7032)に沿って移動可能に
設けられ、前記光源から射出された光が投射される投射
部材(743)と、前記光源から射出された光線と前記
投射部材を前記欠陥部上に位置せしめ、前記各組のガイ
ドレールにおける前記光源及び前記投射部材の位置を基
に前記欠陥部の位置座標を検出する検出部とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、液晶ディ
スプレイ(LCD)のガラス基板などの欠陥検査に用い
られる基板検査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、LCDに用いられるガラス基板の
欠陥を検査する装置には、ガラス基板表面に照明光を当
て、その反射光の光学的変化から前記ガラス基板の表面
の傷などの欠陥部分を観察するマクロ観察と、このマク
ロ観察で検出された欠陥部分を拡大して観察するミクロ
観察とを切り替えて行なうことを可能にしたものがあ
る。
【0003】例えば、特開平5−322783号公報に
は、X、Y方向に水平移動可能にしたX−Yステージに
対応させてマクロ観察系とミクロ観察系を設け、前記X
−Yステージ上に被検査基板を載置した状態から、前記
X−YステージをX、Y方向の2次元方向に移動して被
検査基板の検査部位をマクロ観察系またはミクロ観察系
の観察領域に位置させることで、前記被検査基板の表面
の欠陥部分に対するマクロ観察またはミクロ観察を可能
にした装置が開示されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、最近、LC
Dの大型化にともないガラス基板のサイズは、ますます
大型化の傾向にある。このため、このような大型サイズ
のガラス基板の欠陥検査において、上述したようなX−
YステージをX、Y方向の2次元方向に水平移動するよ
うにした装置では、前記X−Yステージの移動範囲とし
てガラス基板の面積の4倍もの範囲が必要となり、ガラ
ス基板サイズの大型化とともに、装置の大型化を免れな
い。
【0005】また、このように構成した装置では、被検
査基板の表面が検査者の目の位置から遠く離れるため、
微小な傷に対する検査が困難である。さらに、検出され
た被検査基板表面の欠陥部の位置情報などを取得するこ
とも難しいことなどから、精度の高い欠陥検査を行なう
ことができないという問題がある。
【0006】本発明の目的は、小型化を実現できるとと
もに、被検査基板に対し精度の高い欠陥検査を効率よく
行なうことができる基板検査装置を提供することにあ
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決し目的を
達成するために、本発明の基板検査装置は以下の如く構
成されている。
【0008】(1)本発明の基板検査装置は、被検査基
板を保持する矩形状の基板保持手段と、この基板保持手
段を所定角度まで立ち上げる駆動手段と、前記基板保持
手段に、前記被検査基板の側縁の少なくとも直交する2
方向に沿って設けられ、前記被検査基板上の欠陥部の位
置座標を検出する位置座標検出手段と、ミクロ観察系を
支持し、前記被検査基板の面上を移動するよう設けられ
た観察系支持手段と、前記位置座標検出手段により検出
された欠陥部の位置座標に基づいて、前記観察系支持手
段のミクロ観察系を前記被検査基板上の対応する欠陥部
上に位置するよう移動制御する制御手段と、から構成さ
れ、前記位置座標検出手段は、前記被検査基板の側縁に
沿って二方向へ設けられた二組のガイドレールと、前記
二方向のうち一方向に設けられた一組のガイドレールに
沿って移動可能に設けられ、この一方向と直交する方向
に光を射出する光源と、前記被検査基板を跨ぐ状態で前
記二方向のうち他方向に設けられた一組のガイドレール
に沿って移動可能に設けられ、前記光源から射出された
光が投射される投射部材と、前記光源から射出された光
線と前記投射部材を前記欠陥部上に位置せしめ、前記各
組のガイドレールにおける前記光源及び前記投射部材の
位置を基に前記欠陥部の位置座標を検出する検出部と、
を備えている。
【0009】(2)本発明の基板検査装置は上記(1)
に記載の装置であり、かつ前記投射部材を前記一組のガ
イドレールに沿って電動力にて移動する二つの移動手段
を備え、前記二つの移動手段の一つはモーターを備え、
前記各移動手段は、前記モーターの駆動により動作され
る二つのプーリーとベルトからなり、さらに、前記各移
動手段の一つのプーリ同士を連結する連結軸を備えてい
る。
【0010】(3)本発明の基板検査装置は上記(1)
または(2)に記載の装置であり、かつ前記投射部材を
前記被検査基板上から退避させる退避機構を備えてい
る。
【0011】上記手段を講じた結果、それぞれ以下のよ
うな作用を奏する。
【0012】(1)本発明の基板検査装置によれば、検
査者は目に近い位置で被検査基板のマクロ検査を行なう
ことができるので、楽な姿勢で欠陥検査を行なうことが
でき、基板保持手段がどのような角度に立ち上げられて
も、基板保持手段と一体になって位置座標検出手段を立
ち上げられることになるため、被検査基板をどのような
角度に傾斜しても、常に欠陥位置を正確に検知すること
ができる。特に大型の被検査基板を検査する場合、光と
投射部材を欠陥部に一致させることで、検査者から遠く
離れた欠陥部に対しても容易に位置情報を取り出すこと
ができる。さらに、基板保持手段の面積を被検査基板の
面積とほぼ同じ大きさに止めることができ、基板検査装
置の小型化を実現できるとともに、基板検査装置の設置
面積も大幅に小さくすることができる。
【0013】(2)本発明の基板検査装置によれば、連
結軸を介して連結された二つのプーリーが同方向に回転
し、二つのベルトが同方向に作動するため、二つの移動
手段が同期して同方向へ移動し、投射部材は常に平行な
状態を保って移動する。
【0014】(3)本発明の基板検査装置によれば、ミ
クロ観察の際、投射部材を被検査基板上から退避させる
ことで、ミクロ観察系が投射部材に衝突することがな
い。
【0015】
【発明の実施の形態】図1〜図3は、本発明の実施の形
態に係る基板検査装置の構成を示す図であり、図1は斜
視図、図2は側面図、図3は上面図である。図1〜図3
において、装置本体1上には、被検査基板3を保持する
ホルダ2が設けられている。図2に示すように、ホルダ
2はその基端部が支持軸15により装置本体1に対し回
動自在に支持され、支持軸15の周囲にプーリ16が設
けられている。装置本体1にはモータ18が備えられて
おり、モータ18の回転軸181とプーリ16に輪状の
ベルト17が掛けられている。モータ18の回転駆動力
を、回転軸181からベルト17を介してプーリ16に
伝達することで、支持軸15を軸としてホルダ2を水平
な状態から例えば二点鎖線の位置まで、すなわち所定角
度θまで立ち上げ傾斜させることができる。
【0016】また、ホルダ2は枠状をなしており、その
周縁部でLCDに用いられるガラス基板のような大型の
被検査基板3を載置保持する。ホルダ2において、その
周縁部に囲まれた空部は四角形状をなし、前記空部の面
積は被検査基板3の面積よりやや小さい。ホルダ2に
は、その周縁部に沿ってX軸方向とY軸方向に複数の円
柱状のピンからなる基板位置決め部材201がホルダ2
表面からやや突出するよう配置されている。ホルダ2上
で、被検査基板3の二辺を各基板位置決め部材201の
側部に接触させることで被検査基板3の位置決めがなさ
れる。また、ホルダ2の周縁部全周に沿って設けられた
図示しない複数の孔(吸着パッド)から、図示しない吸
引器により被検査基板3の周縁部がホルダ2表面に吸着
されることで、被検査基板3がホルダ2上で脱落しない
よう保持される。なお、ホルダ2の詳細な構成について
は後述する。
【0017】図1〜図3に示すように、装置本体1上に
はホルダ2の両側縁に沿ってY軸方向へ一対のガイドレ
ール4,4が平行に配置されている。また、ホルダ2の
上方には、このホルダ2を跨ぐように門柱型の観察ユニ
ット支持部5が配置されており、この観察ユニット支持
部5はガイドレール4,4に沿って被検査基板3上方す
なわち図1中の実線で示す水平な状態に保持されたホル
ダ2上方をY軸方向へ移動可能に設けられている。
【0018】観察ユニット支持部5には、観察ユニット
6が観察ユニット支持部5の移動方向(Y軸方向)に対
して直交する方向(X軸方向)へ図示しないガイドレー
ルに沿って移動可能に支持されている。さらに観察ユニ
ット支持部5には、観察ユニット6の移動ラインに対向
するよう透過ライン照明光源7が設けられている。この
透過ライン照明光源7は、ホルダ2下方を通過する支持
部5の裏板51上にX軸方向に沿って配置されており、
被検査基板3の下方から直線状の透過照明を行なうもの
で、観察ユニット支持部5とともにY軸方向へ移動可能
になっている。
【0019】観察ユニット6は、指標用照明光源8を設
けたミクロ観察ユニット9とマクロ観察用の部分マクロ
照明光源10を有している。指標用照明光源8は、被検
査基板3上の欠陥位置を特定するためのもので、光学的
に集光されたスポット光を被検査基板3表面に投光す
る。このスポット光による被検査基板3表面からの反射
光は、部分マクロ照明光源10による被検査基板3表面
からの反射光より明るいため、部分マクロ照明光源10
によるマクロ観察中に、スポット光により目視で観察す
ることが可能である。
【0020】ミクロ観察ユニット9は、対物レンズ9
1、接眼レンズ92、及び図示しない落射照明光源を有
する顕微鏡機能を備えており、検査者は被検査基板3表
面の像を対物レンズ91を介して接眼レンズ92により
観察することができる。またミクロ観察ユニット9に
は、三眼鏡筒を介してTVカメラ93が取り付けられて
いる。なお、目視によるミクロ観察が不要な場合には、
直筒を介してTVカメラ93のみを取り付けることもで
きる。TVカメラ93は、対物レンズ91により得られ
る被検査基板3表面の観察像を撮像し、制御部11へ送
る。制御部11は、TVカメラ93で撮像された観察像
をTVモニタ12に表示する。制御部11には、検査者
が動作指示やデータ入力を行なうための入力部111が
接続されている。
【0021】部分マクロ照明光源10は、マクロ観察に
用いられるものであり、水平状態に保持されたホルダ2
上の被検査基板3表面の一部分をマクロ照明光101で
照射する。また、被検査基板3表面に対する部分マクロ
照明光源10の照明角度は、マクロ観察に最適な角度に
調整することができる。
【0022】図4は、透過ライン照明光源7の構成例を
示す図である。図4に示すように、透過ライン照明光源
7は、光源部71と中実のガラスロッド72を有するも
のである。光源部71から射出され反射板712により
乱反射された光がガラスロッド72の端部に入射され、
ガラスロッド72中で全反射伝送されるとともに、ガラ
スロッド72の背部(下部)に沿って塗布加工された白
色縞73により拡散されることで、ガラスロッド72の
レンズ作用によりライン状の光が上方へ射出される。こ
の透過ライン照明は、上記の構成に限られるものではな
く、例えば蛍光灯などによるライン照明であってもよ
い。
【0023】図5は、本基板検査装置におけるホルダ2
の詳細な構成を示す図である。図5において図1と同一
な部分には同一符号を付してある。図5において、ホル
ダ2のY軸方向の両側面には、それぞれ保持部材701
1,7012が取り付けられている。また、ホルダ2の
X軸方向の一側面には、保持部材702が取り付けられ
ている。保持部材7011,7012,702の表面
は、ホルダ2の表面に対して段差を生じるよう下方に位
置している。保持部材7011,7012には、それぞ
れホルダ2側縁のY軸方向に沿うようガイドレール70
31,7032が設けられている。さらにガイド移動部
7051,7052が、それぞれガイドレール703
1,7032を跨ぐよう、ガイドレール7031、70
32に沿って移動可能に設けられている。また、保持部
材702には、ホルダ2側縁のX軸方向に沿うようガイ
ドレール704が設けられている。さらにガイド移動部
706が、ガイドレール704を跨ぐよう、ガイドレー
ル704に沿って移動可能に設けられている。
【0024】保持部材702の各両端部には、それぞれ
プーリ709,710が軸支されている。プーリ709
とプーリ710にはベルト712が、輪状に掛けられて
いる。ベルト712の一部にはガイド移動部706が係
着されている。プーリー710には、モーター714の
回転軸716が嵌挿されている。ホルダ2のX軸方向の
一側面には、ガイド移動部706の存在を検知するため
の光学的なセンサ719,720が設けられている。
【0025】ガイド移動部706にはY軸方向の反射体
(ミラー)707が、被検査基板3表面に対して直角ま
たは鋭角をなすよう立設されている。また保持部材70
11と702の交差する位置にはホルダ2とほぼ同じ高
さを有する保持部材721が設けられている。保持部材
721上には、ガイドレール704の延長線上に、後述
するレーザー光源21が設けられている。
【0026】保持部材7011,7012の各垂直面7
013,7014の両端部には、それぞれプーリ707
1,7081とプーリ7072,7082が軸支されて
いる。プーリ7071とプーリ7081にはベルト71
11が、プーリ7072とプーリ7082にはベルト7
112が、輪状に掛けられている。ベルト7111,7
112の各一部にはそれぞれガイド移動部7051,7
052が係着されている。プーリー7071には、モー
ター713の回転軸7131が嵌挿されている。ホルダ
2のY軸方向の一側面には、ガイド移動部7051の存
在を検知するための光学的なセンサ717,718が設
けられている。また、ホルダ2の下部には連結軸730
が配設されており、この連結軸730の両端部は、それ
ぞれプーリ7081とプーリ7082に嵌挿されてい
る。
【0027】ガイド移動部7051,7052のホルダ
2側の側面には、それぞれ支柱741,742が後述す
るように回動可能に軸支されている。これら支柱74
1,742の各頂部には、それぞれ長尺板状の投射板7
43の両端部が装着されている。投射板743の表面
は、例えば黒色をなすとともに、被検査基板3表面に対
して約45°をなすよう傾斜し、反射体707の方向へ
向いている。このとき支柱741,742は被検査基板
3表面に対して直立した状態にある。
【0028】投射板743は、ガイド移動部7051と
7052の同期した移動に従い、被検査基板3上をその
表面に対して所定の隙間を有する平行な状態で、Y軸方
向へ移動する。また、保持部材721付近におけるガイ
ドレール7031のホルダ2側に、後述するように支柱
741を回動させるためのガイド部材744が固着され
ている。
【0029】なお、センサ717または718にてガイ
ド移動部7051の存在が検知された場合、制御部11
によりモータ713の駆動が自動的に停止される。すな
わちガイド移動部7051は、センサ717,718間
に対応するガイドレール7031上の区間のみを往復移
動できる。同様に、センサ719または720にてガイ
ド移動部706の存在が検知された場合、制御部11に
よりモータ714の駆動が自動的に停止される。すなわ
ちガイド移動部706は、センサ719,720間に対
応するガイドレール704上の区間のみを往復移動でき
る。
【0030】また、ホルダ2の基端部に取付けられた保
持部材702が、図2に示すように、支持軸15により
装置本体1に対して回動自在に支持されている。このた
め、ホルダ2を図2中2点鎖線で示すように所定角度に
立ち上げ、または揺動動作させることができる。
【0031】また、図1に示す制御部11は、ガイドレ
ール704,7031に沿って設けられた図示しない各
ガイドスケールにより検出される被検査基板3上の欠陥
部の位置座標(X、Y)、Yスケール13及びXスケー
ル14により検出される観察ユニット支持部5と観察ユ
ニット6の位置座標に対する管理をはじめとして、図示
しない各駆動機構による観察ユニット支持部5及び観察
ユニット6の移動の制御などを行なう。さらに制御部1
1は、指標用照明光源8の光軸と対物レンズ91の光軸
との間隔X0 を予め自身の図示しないメモリに記憶して
いる。制御部11は、上記各ガイドスケールから与えら
れた被検査基板3上の欠陥部の位置座標(X、Y)にミ
クロ観察ユニット9における対物レンズ91の観察軸が
合致するよう、観察ユニット支持部5及び観察ユニット
6を移動制御する。
【0032】また制御部11は、指標用照明光源8のス
ポット中心を被検査基板3上の欠陥部に位置させた状態
で、検査者により入力部111から所定の指示が与えら
れた場合、Yスケール13及びXスケール14の図示し
ない検出部により検出された位置座標データから前記欠
陥部の位置座標を求め、この求めた位置座標と、指標用
照明光源8の光軸と対物レンズ91の光軸との間隔X0
を示すデータに基づいて、被検査基板3上の前記欠陥部
に対物レンズ91の観察軸が合致するよう、観察ユニッ
ト支持部5及び観察ユニット6を移動制御する。
【0033】図6は、本基板検査装置における位置検出
部の構成を示す図である。図6において図5と同一な部
分には同一符号を付してある。この位置検出部は、レー
ザー光源部211及びシリンドリカルレンズ212,2
13からなるレーザー光源21と、レーザー光源部21
1から発せられたレーザー光をY軸方向に反射する反射
体(ミラー)707からなっている。反射体707は、
被検査基板3表面に対して直角または鋭角をなすよう立
設されている。
【0034】光源21のレーザー光源部211から発せ
られシリンドリカルレンズ212,213を透過したレ
ーザー光は、被検査基板3表面に対してほぼ垂直な面状
のレーザー光になり、X軸方向へ射出される。このレー
ザー光は反射体707で直角方向すなわちY軸方向へ反
射され被検査基板3表面に対してほぼ垂直な面状のレー
ザー光750になり、投影板743の傾斜した表面に投
射される。
【0035】図7は、本基板検査装置における検査状況
を示す図である。図7に示すように、装置本体1の上方
には、ホルダ2上の被検査基板3の全面を照射する全面
マクロ照明光源30が設置されている。この全面マクロ
照明光源30は、点光源としてのメタルハライドランプ
31と、このメタルハライドランプ31に対向するよう
配置された反射ミラー32と、反射ミラー32の下方に
配置されたフレネルレンズ33からなる。反射ミラー3
2は、装置本体1に対してほぼ45°傾けて設けられて
おり、メタルハライドランプ31からの光を反射し、フ
レネルレンズ33に与える。フレネルレンズ33は、反
射ミラー32で反射された光を図示のように収束光にし
て、ホルダ2上の被検査基板3全面に照射する。なお図
1に示すように、装置本体1には、観察ユニット支持部
5のY軸方向の位置座標を検出するためのYスケール1
3が設けられ、観察ユニット支持部5には、観察ユニッ
ト6のX軸方向の位置座標を検出するためのXスケール
14が設けられている。
【0036】以上のように構成された本基板検査装置の
動作を説明する。まず、被検査基板3表面のマクロ観察
を行なう場合、検査者は入力部111から制御部11に
所定の指示を与えることで、制御部11の駆動制御によ
り観察ユニット支持部5を図1に示す初期位置に後退さ
せる。その後、検査者が水平な状態になっているホルダ
2上に被検査基板3を供給する。この状態で、複数の基
板位置決め部材201に被検査基板3を押し当てて位置
決めされるとともに、上記吸引器により被検査基板3が
ホルダ2上から脱落しないように吸着保持され、マクロ
観察による欠陥検査が開始される。
【0037】次に、マクロ照明を用いて被検査基板3の
全面を一括してマクロ観察する場合について説明する。
この全面マクロ観察の場合、検査者は図2に示すモータ
18を起動して、回転軸181及びベルト17を介して
プーリ16により支持軸15を回転させ、この支持軸1
5を中心にホルダ2を所定の角度θ、好ましくは30〜
45°に傾斜させた後、モータ18を停止してホルダ2
を静止させる。次いで、検査者は図7に示すメタルハラ
イドランプ31を点灯させ、メタルハライドランプ31
からの光を反射ミラー32及びフレネルレンズ33を介
して、収束光としてホルダ2上の被検査基板3全面に照
射させる。この状態で、検査者はホルダ2上の被検査基
板3を目視により被検査基板3上の傷や汚れなどの欠陥
検査を行なう。なお、ホルダ2を所定の角度に傾斜させ
静止させた状態で欠陥検査を行なうだけでなく、モータ
ー18の回転方向を周期的に変えるよう制御部11によ
り制御することで、支持軸15を中心にホルダ2を所定
範囲の角度内で揺動させながら欠陥検査を行なうことも
できる。この場合、メタルハライドランプ31からの照
射光の被検査基板3への入射角が可変になるため、被検
査基板3を様々な角度から入射する照射光にて観察する
ことができる。
【0038】検査者は、図7に示すようにホルダ2を所
定角度まで立ち上げた状態で被検査基板3の表面をマク
ロ照射し、そのマクロ観察において被検査基板3上で欠
陥部aを認識すると、上記操作部(ジョイスティック)
を操作しモーター714を駆動して回転軸716を一方
向または他方向へ回転させることで、プーリー710,
709を介してベルト712をX軸の一方向または他方
向へ作動させる。これにより、被検査基板3面上の欠陥
部aに対しガイドレール704に沿ってガイド移動部7
06上の反射体707を移動してレーザー光750を欠
陥部aに一致させる。
【0039】さらに検査者は、上記操作部を操作しモー
ター713を駆動して回転軸7131を一方向または他
方向へ回転させることで、プーリー7071,7081
を介してベルト7111をY軸の一方向または他方向へ
作動させる。これにより、被検査基板3面上の欠陥部a
に対しガイドレール7031に沿ってガイド移動部70
51とともに支柱741及び投射板743を移動して、
投射板743の下辺7431を欠陥部a上に一致させ
る。このとき、プーリー7081の回転に伴い、連結軸
730を介してプーリー7082がプーリー7081と
同方向に回転し、プーリー7072,7082を介して
ベルト7112がベルト7111と同方向に作動してい
る。すなわち、ガイド移動部7051と7052が同期
してY軸の同方向へ移動するため、投射板743は常に
X軸と平行な状態でY軸方向へ移動する。
【0040】なお、欠陥位置を指定する際には、上記と
は逆に投射板743を欠陥部aに一致させた後で、レー
ザー光750を一致させてもよい。
【0041】その後、検査者は上記フットスイッチをO
Nにする。すると、このときのガイドレール7031,
704に沿って設けられた図示しない各ガイドスケール
の値、すなわち投射板743の所定の原点からY軸方向
への変位量と反射体707の所定の原点からX軸方向へ
の変位量とが、上記各ガイドスケールの図示しない各検
出部により前記欠陥部aの位置座標(X,Y)として検
出され、この検出結果が前記各検出部から制御部11へ
出力される。
【0042】以降、検査者が被検査基板3上で欠陥部を
認識する度に同様の動作を繰り返すことで、各欠陥部の
各位置座標(X、Y)を示すデータが制御部11に取り
込まれ記憶される。検査者は、以上のようなマクロ観察
を被検査基板3全面について終了すると、再びモータ1
8を起動して、回転軸181及びベルト17を介してプ
ーリ16により支持軸15を上述と反対の方向に回転さ
せ、ホルダ2を最初の水平な状態に戻す。以上のマクロ
観察が終了すると、以下に示す投射板743の退避操作
が行なわれた後、ミクロ観察が行なわれる。
【0043】図8(a)〜(d)は、投射板743の退
避機構を示す図であり、図8(a)はガイド移動部70
51部分の上面図、図8(b)はその側面図、図8
(c)はガイド部材744部分の上面図、図8(d)は
その側面図である。前述した投射板743を欠陥部a上
に一致させる動作中は、図8(a),図8(b)に示す
ように支柱741,742は直立した状態にあり、投射
板743は約45°傾斜した状態で被検査基板3の上方
に位置している。なお、支柱741,742は、それぞ
れ回転軸7411,7421(不図示)により、ガイド
移動部7051,7052に回動自在に支持されてい
る。
【0044】図1に実線で示すように、ホルダ2を水平
にした状態でミクロ観察ユニット9によるミクロ観察を
行なう場合、対物レンズ91が投射板743に衝突しな
いよう、投射板743を被検査基板3上から退避させな
ければならない。この場合、操作者は上記操作部を操作
してモーター713を駆動し、ガイド移動部7051と
7052を保持部材702方向へ移動する。やがて支柱
741が図8(c)に示すガイド部材744に到達する
と、図8(d)に示すように、支柱741下部の突起部
がガイド部材744の斜面7441に沿って徐々に上方
へ押し上げられる。これに伴い、支柱741,742
は,それぞれ回転軸7411,7421周りに回動し、
最終的に被検査基板3と平行な状態になる。このとき支
柱741,742は、ホルダ2とガイドレール704の
間の空間の延長部に収まり退避された状態になるため、
ホルダ2より下方に位置する。これにより、ミクロ観察
の際、対物レンズ91が投射板743に衝突することは
ない。
【0045】続いて、前述したマクロ観察により検出し
た各欠陥部について、ミクロ観察ユニット9によりミク
ロ観察を行なう場合について説明する。まず制御部11
により、上記メモリに記憶された欠陥部の位置座標
(X、Y)が読み出され、続いて、この位置座標(X、
Y)にミクロ観察ユニット9における対物レンズ91の
観察軸が合致するよう、観察ユニット支持部5及び観察
ユニット6がガイドレール4,4及びX上記図示しない
ガイドレールに沿って移動制御される。
【0046】これにより、検査者はミクロ観察ユニット
9の接眼レンズ92を覗くことで、対物レンズ91を介
して得られる被検査基板3上の欠陥部を顕微鏡によるミ
クロ観察することができる。また、TVカメラ93に対
物レンズ91より得られる被検査基板3表面の欠陥部が
撮像され、その像がTVモニタ12に表示され、検査者
がその像を見ることでミクロ観察が行なわれる。
【0047】本実施の形態の基板検査装置によれば、被
検査基板3を保持したホルダ2を支持軸15を中心に回
動させて所定角度立ち上げることで、検査者は目に近い
位置で、かつ欠陥の見やすい角度に被検査基板3を傾斜
させてマクロ検査を行なうことができるので、楽な姿勢
で精度の高い目視検査を行なうことができる。また、ホ
ルダ2がどのような角度に立ち上げられても、ホルダ2
と一体になって位置座標検出部を立ち上げられることに
なるため、被検査基板3をどのような角度に傾斜して
も、常に欠陥位置を正確に検知することができる。さら
に、投射板743にレーザー光750を投射することに
より、レーザー指標点が投射板743上にはっきりと映
し出されることから、目視により容易に欠陥位置に合わ
せることができる。
【0048】また、位置座標検出部を構成するガイド移
動部7051,706を電気的に駆動させるため、検査
者が上記操作部を操作することにより手元で反射体70
7と投射板743の動作をコントロールすることができ
る。よって、特に大型の被検査基板を検査する場合、レ
ーザー光と投射板743を欠陥部に一致させることで、
検査者から遠く離れた欠陥部に対しても容易に位置情報
を取り出すことができる。
【0049】さらにホルダ2に対し、被検査基板3面上
における観察ユニット支持部5の一方向に沿った移動
と、観察ユニット支持部5の移動方向と直交する方向へ
の観察ユニット6の移動により、観察ユニット6を被検
査基板3上のいずれの位置にも移動させることができ
る。よって、ホルダ2の面積を被検査基板3の面積とほ
ぼ同じ大きさに止めることができ、基板検査装置の小型
化を実現できるとともに、基板検査装置の設置面積も大
幅に小さくすることができる。
【0050】なお、ガイド移動部7051,7052と
投射板743を駆動させるために、ガイド付きボールネ
ジやリニアモータを用いることもできる。また、LED
のような光型の平行光束を発する光源を用いることも可
能で、この光源を反射体707に変えガイド移動部70
6に取付けてもよい。さらに、投射板743はレーザー
光等のスリット光またはスポット光を投影できるもので
あれば、長尺板に限定されず、線材や三角柱の棒体であ
ってもよい。
【0051】なお、本発明は上記各実施の形態のみに限
定されず、要旨を変更しない範囲で適宜変形して実施で
きる。
【0052】
【発明の効果】本発明によれば、小型化を実現できると
ともに、被検査基板に対し精度の高い欠陥検査を効率よ
く行なうことができる基板検査装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態に係る基板検査装置の構成
を示す斜視図。
【図2】本発明の実施の形態に係る基板検査装置の構成
を示す側面図。
【図3】本発明の実施の形態に係る基板検査装置の構成
を示す上面図。
【図4】本発明の実施の形態に係る基板検査装置におけ
る透過ライン照明の構成例を示す図。
【図5】本発明の実施の形態に係る基板検査装置におけ
るホルダの詳細な構成を示す図。
【図6】本発明の実施の形態に係る基板検査装置におけ
る位置検出部の構成を示す図。
【図7】本発明の実施の形態に係る基板検査装置におけ
る検査状況を示す図。
【図8】本発明の実施の形態に係る基板検査装置におけ
る投射板の退避機構を示す図。
【符号の説明】
1…装置本体 2…ホルダ 3…被検査基板 4…ガイドレール 5…観察ユニット支持部 6…観察ユニット 7…透過ライン照明光源 8…指標用照明光源 9…ミクロ観察ユニット 10…部分マクロ照明光源 11…制御部 12…TVモニタ 13…Yスケール 14…Xスケール 15…支持軸 16…プーリ 17…ベルト 18…モータ 21…レーザー光源 30…全面マクロ照明光源 31…メタルハライドランプ 32…反射ミラー 33…フレネルレンズ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】被検査基板を保持する矩形状の基板保持手
    段と、 この基板保持手段を所定角度まで立ち上げる駆動手段
    と、 前記基板保持手段に、前記被検査基板の側縁の少なくと
    も直交する2方向に沿って設けられ、前記被検査基板上
    の欠陥部の位置座標を検出する位置座標検出手段と、 ミクロ観察系を支持し、前記被検査基板の面上を移動す
    るよう設けられた観察系支持手段と、 前記位置座標検出手段により検出された欠陥部の位置座
    標に基づいて、前記観察系支持手段のミクロ観察系を前
    記被検査基板上の対応する欠陥部上に位置するよう移動
    制御する制御手段と、を具備し、 前記位置座標検出手段は、 前記被検査基板の側縁に沿って二方向へ設けられた二組
    のガイドレールと、 前記二方向のうち一方向に設けられた一組のガイドレー
    ルに沿って移動可能に設けられ、この一方向と直交する
    方向に光を射出する光源と、 前記被検査基板を跨ぐ状態で前記二方向のうち他方向に
    設けられた一組のガイドレールに沿って移動可能に設け
    られ、前記光源から射出された光が投射される投射部材
    と、 前記光源から射出された光線と前記投射部材を前記欠陥
    部上に位置せしめ、前記各組のガイドレールにおける前
    記光源及び前記投射部材の位置を基に前記欠陥部の位置
    座標を検出する検出部と、を備えたことを特徴とする基
    板検査装置。
  2. 【請求項2】前記投射部材を前記一組のガイドレールに
    沿って電動力にて移動する二つの移動手段を備え、 前記二つの移動手段の一つはモーターを備え、 前記各移動手段は、 前記モーターの駆動により動作される二つのプーリーと
    ベルトからなり、 さらに、前記各移動手段の一つのプーリ同士を連結する
    連結軸を備えたことを特徴とする請求項1に記載の基板
    検査装置。
  3. 【請求項3】前記投射部材を前記被検査基板上から退避
    させる退避機構を備えた請求項1または2に記載の基板
    検査装置。
JP2000268945A 2000-09-05 2000-09-05 基板検査装置 Pending JP2002082067A (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000268945A JP2002082067A (ja) 2000-09-05 2000-09-05 基板検査装置
TW090106381A TW493071B (en) 2000-09-05 2001-03-19 Substrate inspecting device
KR1020010014503A KR100885560B1 (ko) 2000-09-05 2001-03-21 기판검사장치
CN01208700U CN2470821Y (zh) 2000-09-05 2001-03-26 基片检验装置
CNB011120509A CN1179206C (zh) 2000-09-05 2001-03-26 基片检验装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000268945A JP2002082067A (ja) 2000-09-05 2000-09-05 基板検査装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002082067A true JP2002082067A (ja) 2002-03-22
JP2002082067A5 JP2002082067A5 (ja) 2007-10-18

Family

ID=18755644

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000268945A Pending JP2002082067A (ja) 2000-09-05 2000-09-05 基板検査装置

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2002082067A (ja)
KR (1) KR100885560B1 (ja)
CN (2) CN2470821Y (ja)
TW (1) TW493071B (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006200917A (ja) * 2005-01-18 2006-08-03 Olympus Corp 座標検出装置及び被検体検査装置
JP2006266748A (ja) * 2005-03-22 2006-10-05 Mitsutoyo Corp 画像測定装置
CN102997795A (zh) * 2012-12-03 2013-03-27 京东方科技集团股份有限公司 一种蒸汽检查装置、摩擦装置和整机设备
CN107664646A (zh) * 2016-07-29 2018-02-06 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种全自动外观缺陷检查装置及方法

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100576030C (zh) * 2002-02-26 2009-12-30 乐金显示有限公司 检查液晶板的设备和制作液晶显示器的方法
KR100853775B1 (ko) * 2002-06-14 2008-08-25 엘지디스플레이 주식회사 테이블 손상 위치 검출 지그
KR100898781B1 (ko) * 2002-06-14 2009-05-20 엘지디스플레이 주식회사 외관검사장치 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법
US7272254B2 (en) * 2003-07-09 2007-09-18 General Electric Company System and method for analyzing and identifying flaws in a manufactured part
JP2006049384A (ja) * 2004-07-30 2006-02-16 Laserfront Technologies Inc ガントリー型xyステージ
KR100599060B1 (ko) * 2004-08-31 2006-07-12 주식회사 디이엔티 평판 표시패널 검사용 광조사방법 및 광조사장치
KR100596333B1 (ko) * 2004-09-22 2006-07-06 주식회사 에이디피엔지니어링 기판 외관 검사 장치
KR100688985B1 (ko) * 2005-08-05 2007-03-08 삼성전자주식회사 기판검사장치 및 그의 제어방법
KR101166828B1 (ko) * 2005-12-29 2012-07-19 엘지디스플레이 주식회사 평판표시장치용 검사장비 및 검사 방법
CN1987436B (zh) * 2006-12-27 2010-04-21 友达光电股份有限公司 基板检测设备及玻璃基板检测设备
TWI409499B (zh) * 2007-10-19 2013-09-21 Hon Hai Prec Ind Co Ltd 顯微鏡用載物台
KR101011721B1 (ko) * 2008-07-25 2011-01-28 한국에너지기술연구원 집광용 반사판 시험장치
KR200461270Y1 (ko) * 2010-01-20 2012-07-03 한화폴리드리머 주식회사 스마트 윈도우용 검사장치
JP5530984B2 (ja) 2010-07-26 2014-06-25 株式会社ジャパンディスプレイ 検査装置及び検査方法
US8854616B2 (en) 2011-08-03 2014-10-07 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Visual inspection apparatus for glass substrate of liquid crystal display and inspection method thereof
CN102393576A (zh) * 2011-08-03 2012-03-28 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示器中玻璃基板的目视检查机及检查方法
CN104520668B (zh) * 2012-08-07 2017-08-01 卡尔蔡司工业测量技术有限公司 具有白光传感器的坐标测量机
CN103604815B (zh) * 2013-11-26 2016-01-13 上海海事大学 玻璃晶片检测装置与标定方法
CN103837552A (zh) * 2014-03-14 2014-06-04 苏州精创光学仪器有限公司 触摸屏保护玻璃外观缺陷检测系统
CN104977306A (zh) * 2014-04-08 2015-10-14 上海微电子装备有限公司 一种表面缺陷检测系统及方法
CN104297259A (zh) * 2014-11-04 2015-01-21 苏州精创光学仪器有限公司 触摸屏保护玻璃外观缺陷检测方法
CN104765172A (zh) * 2015-04-27 2015-07-08 京东方科技集团股份有限公司 一种检测液晶屏的设备和方法
CN105783795A (zh) * 2016-04-15 2016-07-20 中国科学院上海光学精密机械研究所 大型环抛机抛光胶盘平面度的测量装置及其测量方法
CN107064173A (zh) * 2017-01-03 2017-08-18 中国科学院上海光学精密机械研究所 大型平面光学元件表面疵病的检测装置和检测方法
CN106646957B (zh) * 2017-03-14 2018-07-20 惠科股份有限公司 一种显示单元制程控制方法及系统
JP2019169608A (ja) * 2018-03-23 2019-10-03 株式会社ディスコ 研削装置
CN111487035B (zh) * 2019-01-25 2022-02-01 舜宇光学(浙江)研究院有限公司 一种用于近眼检测系统的对准方法及其系统
CN112129775B (zh) * 2020-09-23 2023-03-24 哈尔滨工业大学 一种匀光棒条形光源及基于该光源的光学元件损伤检测装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0715167A (ja) * 1993-06-21 1995-01-17 Sharp Corp 挿入位置指示器
JPH0735701A (ja) * 1993-07-23 1995-02-07 Sharp Corp パターン目視検査装置
JPH10325780A (ja) * 1997-05-23 1998-12-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd ディスプレイ画面検査装置
JPH11160242A (ja) * 1997-09-24 1999-06-18 Olympus Optical Co Ltd 基板検査装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990025834A (ko) * 1997-09-18 1999-04-06 윤종용 반도체 소자 검사 장치의 검사기판용 지지대
JP4385419B2 (ja) * 1998-11-30 2009-12-16 株式会社ニコン 外観検査方法及び外観検査装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0715167A (ja) * 1993-06-21 1995-01-17 Sharp Corp 挿入位置指示器
JPH0735701A (ja) * 1993-07-23 1995-02-07 Sharp Corp パターン目視検査装置
JPH10325780A (ja) * 1997-05-23 1998-12-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd ディスプレイ画面検査装置
JPH11160242A (ja) * 1997-09-24 1999-06-18 Olympus Optical Co Ltd 基板検査装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006200917A (ja) * 2005-01-18 2006-08-03 Olympus Corp 座標検出装置及び被検体検査装置
KR100827342B1 (ko) 2005-01-18 2008-05-06 올림푸스 가부시키가이샤 좌표 검출 장치 및 피검체 검사 장치
JP4653500B2 (ja) * 2005-01-18 2011-03-16 オリンパス株式会社 座標検出装置及び被検体検査装置
JP2006266748A (ja) * 2005-03-22 2006-10-05 Mitsutoyo Corp 画像測定装置
CN102997795A (zh) * 2012-12-03 2013-03-27 京东方科技集团股份有限公司 一种蒸汽检查装置、摩擦装置和整机设备
CN107664646A (zh) * 2016-07-29 2018-02-06 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种全自动外观缺陷检查装置及方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN1341853A (zh) 2002-03-27
TW493071B (en) 2002-07-01
KR100885560B1 (ko) 2009-02-24
KR20020019376A (ko) 2002-03-12
CN2470821Y (zh) 2002-01-09
CN1179206C (zh) 2004-12-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2002082067A (ja) 基板検査装置
JP4166340B2 (ja) 基板検査装置
KR100827342B1 (ko) 좌표 검출 장치 및 피검체 검사 장치
KR100783618B1 (ko) 매크로 검사장치
KR20040063131A (ko) 기판 검사 장치
US6671041B2 (en) Apparatus for inspecting a substrate
KR20070094471A (ko) 외관 검사 장치
JP2003270155A (ja) 基板保持装置及び検査装置
JP3782525B2 (ja) 基板検査装置
JP3944285B2 (ja) 基板検査装置
JP4755673B2 (ja) 基板検査装置
JP4256974B2 (ja) 基板検査装置
KR20190052516A (ko) 표면 검사 장치
JP4222934B2 (ja) 座標検出装置
JPH05322783A (ja) 基板観察装置
JP2000275594A (ja) 基板検査装置
KR101157081B1 (ko) 조명장치와 이를 포함하는 기판 검사 장치
JP3935911B2 (ja) 基板検査装置
KR200238929Y1 (ko) 기판검사장치
JP3907797B2 (ja) 基板検査装置
JP4020916B2 (ja) 基板検査装置
CN101859724A (zh) 具穿透照明的工作台
JPH0656762U (ja) 基板外観検査装置
KR20090030806A (ko) 기판검사장치 및 기판검사방법.
JPH1019767A (ja) 分光反射光量測定用光学系

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070905

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070905

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100301

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100323

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100713