CN1341853A - 基片检验装置 - Google Patents

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Abstract

基片检验装置,备有:矩形的基片保持机构、将该机构升起至预定角度的驱动机构、和沿基片侧缘至少直交的2个方向设于该保持机构,检测该基片的缺陷部的位置坐标的检测机构;该检测机构备有:沿基片侧缘朝二个方向设置的二组导轨;可沿一组导轨移动,朝与该一方向直交的方向射出光的光源;以横跨基片的状态,可沿一组导轨移动,从光源射出的光被投射的投射部件;依各组导轨的光源和投射部件的位置,检测该缺陷部的位置坐标的检测部。

Description

基片检验装置
本发明涉及基片检验装置，该检验装置用于检验液晶显示器(LCD)的玻璃基片等的缺陷。
现有技术中，检测LCD中用的玻璃基片缺陷的检验装置中，可交替进行宏观观察和微观观察。宏观观察是将照明光投射在玻璃基片表面，从其反射光的光学变化中，观察该玻璃基片表面的伤痕等缺陷。微观观察是将上述宏观观察到的缺陷部分放大进行观察。
例如，在日本特开平5-322783号公报中，揭示了可对上述被检验基片表面的缺陷部分进行宏观观察和微观观察的装置。该装置中，与在X、Y方向可水平移动的X-Y载物台对应地，设置宏观观察系统和微观观察系统，在被检验基片载置在上述X-Y载物台上的状态，将该X-Y载物台在X、Y方向的2维方向移动，使被检验基片的检验部位位于宏观观察系统或微观观察系统的观察区域，对被检验基片表面的缺陷进行宏观观察或微观观察。
但是最近，随着LCD的大型化，玻璃基片的尺寸有越来越大的倾向。因此，这种大型尺寸玻璃基片的缺陷检验时，上述那样的、使X-Y载物台在X、Y方向的2维方向水平移动的装置中，X-Y载物台的移动范围必须是玻璃基片面积的4倍，随着玻璃基片尺寸的大型化，装置也不可避免地大型化。
另外，上述构造的装置中，由于被检验基片的表面远离检验者的眼睛，所以，对微小伤痕的检验是困难的。另外，对被检验基片表面缺陷部的位置信息的取得，也比较困难，所以，不能进行高精度的缺陷检验。
本发明的目的是提供一种实现小型化的、能有效地对被检验基片进行高精度缺陷检验的基片检验装置。
为达到上述目的本发明采取以下技术方案：
(1)本发明的基片检验装置，其特征在于，备有：
保持被检验基片的矩形的基片保持机构、将该基片保持机构升起至预定角度的驱动机构、和位置座标检测机构；上述位置座标检测机构沿着被检验基片侧缘的至少直交的2个方向设在上述基片保持机构上，用于检测被检验基片上的缺陷部的位置座标；
上述位置座标检测机构，备有二组导轨、光源、投射部件和检测部；
上述二组导轨沿着被检验基片侧缘朝二个方向设置；
上述光源可沿着上述二方向之中的一方向的一组导轨移动，朝着与该一方向直交的方向射出光；
上述投射部件以横跨被检验基片的状态，可沿着上述二方向之中的一方向的一组导轨移动，从上述光源射出的光投射在该投射部件上；
上述检测部使光源射出的光线和上述投射部件位于上述缺陷部上，根据上述各组导轨上的光源和投射部件的位置，检测出上述缺陷部的位置座标。
(2)本发明的基片检验装置，是上述(1)记载的基片检验装置，其特征在于，备有用电动力使上述投射部件沿着上述一组导轨移动的二个移动机构；该二个移动机构中的一个备有马达；上述各移动机构由被马达驱动的二个皮带轮和皮带构成；另外，还备有将上述各移动机构中的一个的皮带轮相互连接起来的连接轴。
(3)本发明的基片检验装置，是上述(1)记载的基片检验装置，其特征在于，备有用电动力使上述投射部件沿着上述一组导轨移动的二个移动机构；上述各移动机构由二个皮带轮和皮带构成；还备有将上述移动机构中的一个的皮带轮相互连接起来的连接轴和驱动该连接轴的马达。
(4)本发明的基片检验装置，是上述(1)至(3)中任一项记载的基片检验装置，其特征在于，备有使上述投射部件从被检验基片上退避的退避机构。
(5)本发明的基片检验装置，是上述(1)至(3)中任一项所述的基片检验装置，其特征在于，备有调节机构，该调节机构调节从光源射出的光的光轴。
(6)本发明的基片检验装置，是上述(4)记载的基片检验装置，其特征在于，备有调节机构，该调节机构调节从光源射出的光的光轴。
下面，参照附图详细说明本发明的实施例。
图1是表示本发明实施例之基片检验装置构造的立体图。
图2是表示本发明实施例之基片检验装置构造的侧面图。
图3是表示本发明实施例之基片检验装置构造的俯视图。
图4是表示本发明实施例之基片检验装置中的透过线照明的构成例的图。
图5是表示本发明实施例之基片检验装置中的保持座的详细构造的图。
图6是表示本发明实施例之基片检验装置中的位置检测部的构造的图。
图7A～图7C是表示本发明实施例中的激光光源具体构造的图。
图8A～图8C是表示本发明实施例中的激光光源具体构造之变形例的图。
图9是表示本发明实施例之基片检验装置中的检验状况的图。
图10A～图10D是表示本发明实施例之基片检验装置中的投射板的退避机构的图。
图11A～图11D是表示本发明实施例之基片检验装置中的投射板的退避机构变形例的图。
图12是表示本发明实施例中的驱动机构变形例的图。
实施发明的最佳形态
下面，参照附图说明本发明的实施例。
图1～图3是表示本发明实施例之基片检验装置构造的图。图1是立体图，图2是侧面图，图3是俯视图。图1至图3中，在装置本体1上，设有保持被检验基片3的保持座2。如图2所示，保持座2的基端部由支承轴15支承着，使保持座2可相对于装置本体1自如转动。在支承轴15的周围，设有皮带轮16。在装置本体1上备有马达18，在该马达18的旋转轴181和皮带轮16上绕着环状的皮带17。马达18的旋转驱动力从旋转轴181通过皮带17传递到皮带轮16，可以使保持座2以支承轴15为轴、从水平状态到达双点线位置，即可以使其倾斜升至预定角度θ。
保持座2是框状，用其周缘部载置保持着LCD用的玻璃基片等大型被检验基片3。在保持座2中，被其周缘部包围的空部呈四方形，该空部的面积比被检验基片3的面积稍小。在保持座2上，沿着其周缘部在X轴方向和Y轴方向配置着基片定位部件201，该基片定位部件201由若干圆柱状销构成，稍稍突出于保持座2表面。在保持座2上，通过使被检验基片3的二边与各基片定位部件201的侧部接触，使被检验基片3定位。另外，从沿保持座2全周缘部设置的图未示若干孔(吸附垫)，用图未示的吸引器将被检验基片3的周缘部吸附在保持座2的表面，这样，被检验基片3就不脱落地被保持在保持座2上。关于保持座2的详细构造将在后面说明。
如图1至图3所示，在装置本体1上，沿着保持座2的两侧缘，平行地配置着朝Y方向延伸的一对导轨4、4。在保持座2的上方，配置着横跨该保持座2的门柱型观察单元支承部5。该观察单元支承部5，可沿着导轨4、4在被检验基片3上方、即在图1中实线所示水平状态的保持座2上方，在Y轴方向移动。
在观察单元支承部5上支承着观察单元6，该观察单元6可朝着与观察单元支承部5的移动方向(Y轴方向)直交的方向(X轴方向)、沿着图未示的导轨移动。另外，在观察单元支承部5上，还设有与观察单元6的移动线相向的透过线照明光源7。该透过线照明光源7，沿着X轴方向配置在通过保持座2下方的支承部5的里板51上，从被检验基片3的下方进行直线状的透过照明，能与观察单元支承部5一起朝Y轴方向移动。
观察单元6具有设置了指标用照明光源8的微观观察单元9和宏观观察用的局部宏观照明光源10。指标用照明光源8，用于特定被检验基片3上的缺陷位置，把聚光后的点光投射在被检验基片3表面。由该点光引起的被检验基片3表面的反射光，比由局部宏观照明光源10引起的被检验基片3表面的反射光明亮，所以，在采用局部宏观照明光源10的宏观观察中，可借助点光用肉眼观察。
微观观察单元9，备有物镜91、目镜92、以及具有图未示落射照明光源的显微镜功能。检验者可通过物镜91、用目镜92观察被检验基片3表面的像。另外，在微观观察单元9上，通过三目镜筒安装着TV照相机93。不需要肉眼微观观察时，也可以通过直筒只安装TV照相机93。TV照相机93对由物镜91得到的被检验基片3表面的观察像进行摄像后，送到控制部11。控制部11把由TV照相机93摄制的观察像在TV监视器12上显示。在控制部11连接着输入部111，该输入部111输入检验者的动作指示和数据。
局部宏观照明光源10用于宏观观察，用宏观照明光101照射水平状态保持座2上的被检验基片3表面的一部分。另外，局部宏观照明光源10相对于被检验基片3表面的照明角度，可调节为最适于宏观观察的角度。
图4表示透过光线照明光源7的构成例。如图4所示，透过光线照明光源7，具有光源部71和实心的玻璃杆72。从光源71射出后被反射板712散反射的光，入射到玻璃杆72的端部，在玻璃杆72中被全反射传送，同时，沿着玻璃杆72的背部(下部)被白色条纹73扩散，这样，借助玻璃杆72的透镜作用，线状光向上方射出。该透过光线照明，并不限于上述构造，例如，也可以用萤光灯等的光线照明。
图5是表示本基片检验装置中的保持座2详细构造的图。图5中，与图1中相同的部分注以相同标记。图5中，在保持座2的Y轴方向两侧面，分别安装着保持部件7011、7012。在保持座2的X轴方向的一侧面，安装着保持部件702。保持部分7011、7012、702的表面位于下方，相对于保持座2的表面形成台阶。在保持部件7011、7012上，沿着保持座2侧缘的Y轴方向分别设有导轨7031、7032。另外，导引移动部7051、7052分别跨过导轨7031、7032地可沿导舅7031、7032移动。在保持部件702上，沿着保持座2侧缘的X轴方向设有导轨704。导引移动部706跨过导轨704地可沿着导轨704移动。
在保持部件702的各两端部，分别轴支着皮带轮709、710。皮带712呈环状地绕在皮带轮709和皮带轮712上。在皮带712的一部分上接合着导引移动部706。在皮带轮710上，嵌插着马达714的旋转轴716。在保持座2的X轴方向的一侧面，设有用于检测导引移动部706是否存在的光学传感器719、720。
在导引移动部706上，立设着Y轴方向的反射体(反射镜)707，该反射体707相对于被检验基片3表面成直角或锐角。在保持部件7011和702的交叉位置，设有与保持座2约同样高度的保持部件721。在保持部件721上，在导轨704的延长线上，设有后述的激光光源21。
在保持部件7011、7012的各垂直面7013、7014的两端部，分别轴支着皮带轮7071、7081和皮带轮7072、7082。皮带7111呈环状地绕在皮带轮7071和皮带轮7081上。皮带7112呈环状地绕在皮带轮7072和皮带轮7082上。在皮带7111、7112的各一部分上，分别接合着导引移动部7051、7052。在皮带轮7071上，嵌插着马达713的旋转轴7131。在保持座2的Y轴方向的一侧面，设有用于检测导引移动部7051是否存在的光学传感器717、718。在保持座2的下部，配设着连接轴730。该连接轴730的两端部，分别嵌插在皮带轮7081和皮带轮7082上。
导引移动部7051、7052的靠保持座2侧的侧面上，如后所述，分别轴支着可转动的支柱741、742。在这些支柱741、742的各顶部，安装着长条板状的投射板743的两端部。投射板743的表面，例如是黑色的，并且相对被检验基片3表面约倾斜45°，朝向反射体707的方向。这时，支柱741、742相对于被检验基片3表面是直立状态。
随着导引移动部7051和7052的同步移动，投射板743以其表面相对于被检验基片3留有预定间隙并平行状态，朝Y轴方向移动。另外，在保持部件721附近的导轨7031的靠保持座2一侧，如后所述，固定着使支柱741转动的导引部件744。
当传感器717或718检测到导引移动部7051存在时，由控制部11使马达713的驱动自动停止。即，导引移动部7051仅在对应与传感器717、718间的导轨7031上的区间往复移动。同样地，当传感器719或720检测到导引移动部706存在时，由控制部11使马达714的驱动自动停止。即，导引移动部706仅在对应与传感器719、720间的导轨704上的区间往复移动。
安装在保持座2基端部的保持部件702，如图2所示，由支承轴15支承着，可相对于装置本体1转动。因此，可以将保持座2如图2中双点划线所示地升至预定角度、或使其作摆动动作。
图1中所示的控制部11，对被检验基片3上的缺陷部的位置座标(X、Y)和观察单元支承部5及观察单元6的位置座标进行管理。上述缺陷部的位置座标(X、Y)由沿导轨704、7031设置的图未示各导引标尺检测，上述观察单元支承部5及观察单元6的位置座标由Y标尺13及X标尺14检测。该控制部11控制图未示各驱动机构对观察单元支承部5及观察单元6的移动。另外，控制部11如图2所示，把指标用照明光源8的光轴与物镜91的光轴的间隔X0预先储存在它的图未示储存器中。控制部11控制观察单元支承部5和观察单元6的移动，使得微观观察单元9中的物镜91的观察轴与上述各导引标尺给出的被检验基片3上缺陷部的位置座标(X、Y)一致。
另外，在指标用照明光源8的亮点中心位于被检验基片3上缺陷部的状态，检验者对输入部111给出预定指示时，控制部11从Y标尺13及X标尺14的图未示检测检测出的位置座标数据中，求上述缺陷部的位置座标，根据该求得的位置座标、和表示指标用照明光源8的光轴与物镜91的光轴之间间隔X0的数据，控制观察单元支承部5和观察单元6的移动，使物镜91的观察轴与被检验基片3上的缺陷部一致。
图6是表示本基片检验装置中的位置检测部构造的图。图6中，与图5相同的部分注以相同标记。该位置检测部由激光光源21和反射体(反射镜)707构成。激光光源21由激光光源部211和圆柱形透镜212、213构成。反射体707把激光光源部211发出的激光向Y轴方向反射。反射体707相对于被检验基片3表面成直角或锐角地立设着。
从光源21的激光光源部211发出并透过了圆柱形透镜212、213的激光，是约垂直于被检验基片3表面的面状激光，朝X轴方向射出。该激光被反射体707朝着直角方向即Y轴方向反射，相对于被检验基片3表面成为垂直的面状激光750，被投射到投影板743的倾斜表面上。
图7A、图7B、图7C是表示图6所示激光光源21的具体构造的图。图7A是俯视图，图7B是图7A中的A-A线断面图(中央)，图7C是图7A中的B-B线断面图。圆柱形透镜213嵌装在镜框801的嵌接面8011上。圆柱形透镜212嵌在镜框802的嵌接面8021上。遮光筒803插入镜框801，用图未示的小螺丝固定在镜框801上。镜框802上安装着弹簧805，镜框802用调节螺丝806固定在镜框801上。
在基础板807上，立设着若干定位销811～814。由定位销811、812导引，镜框801、802被固定在基础板807上。另外，由定位销813、814导引，激光台815固定在基础板807上。激光光源部211借助激光推压部件816固定在激光台815上。基础板807固定在图5所示的保持部件721上。
调节激光的光轴时，检验者一边使激光光源211发出激光，一边将垫片放入镜框801的下面，使光轴不扭转地调节透镜212、213间的光轴，用小螺丝817将镜框801固定在基础板807上。然后，检验者用调节螺丝806使镜框803前后动，调节透镜212、213间的光轴距离，用小螺丝818将镜框803固定在基础板807上。
图8A、图8B、图8C是表示图6所示激光光源21的具体构造变形例的图。图8A是俯视图，图8B是图8A中的A-A线断面图(中央)，图8C是图8A中的B-B线断面图。圆柱形透镜213嵌装在镜框901的嵌接面9011上。圆柱形透镜212嵌装在镜框902的嵌接面9021上。镜框901插入镜框902，用小螺丝904固定在镜框902上。
在基础板907上，立设着若干定位销911～914。由定位销911、912导引，镜框901、902被固定在基础板907上。另外，由定位销913、914导引，激光台915固定在基础板907上。激光光源部211借助激光推压部件916固定在激光台915上。基础板907固定在图5所示的保持部件721上。
调节激光的光轴时，检验者一边使激光光源211部发出激光，一边用小螺丝904调节镜框901的位置。这时，检验者使光轴不扭转地调节透镜212、213间的光轴，同时调节透镜212、213间的光轴距离，使激光成为平行光。然后检验者用小螺丝904将镜框901固定在镜框902上。
已往的激光光源中，用于构成平行光的光学部件是整体加工的，所以不能调节透镜间的距离。另外，因透镜的嵌贴方式而产生光轴被扭转的问题。这样，激光在通过圆柱形透镜212、213后，扩散或收束，或扭曲而产生畸变。
将嵌贴透镜的透镜框分割，可调节透镜间的光轴扭转和光轴距离，使圆柱形透镜212、213间的光轴不扭转，可调节透镜间距离。通过了圆柱形透镜212、213后的激光，成为平行且无扭转的激光。
图9是表示本基片检验装置中的检验状况的图。如图9所示，在装置本体1的上方设有全面宏观照明光源30，该光源30照射保持座2上的被检验基片3的全面。该全面宏观照明光源30由作为点光源的金属卤化物灯31、与该金属卤化物灯31相向配置着的反射镜32、配置在反射镜32下方的菲涅尔透镜33构成。反射镜32相对于装置本体1倾斜约45°，反射来自金属卤化物灯31的光，送到菲涅尔透镜33。菲涅尔透镜33把反射镜32反射的光，如图所示地成为收束光，照射到保持座2上的被检验基片3全面。如图1所示，在装置本体1上，设有用于检测观察单元支承部5的Y轴方向位置座标的Y标尺13，在观察单元支承部5上，设有检测观察单元6的X轴方向位置座标的X标尺14。
下面说明上述构造的本基片检验装置的动作。首先，进行被检验基片3表面的宏观观察时，检验者从输入部111向控制部11发出预定的指示，借助控制部11的驱动控制，使观察单元支承部5后退到图1所示的初期位置。然后，检验者把被检验基片3供给到水平状态的保持座2上。在该状态，将被检验基片3压靠在若干基片定位部件201上进行定位。同时，用上述吸引器吸引保持住被检验基片3，使其不从保持座2上脱落，用宏观观察开始缺陷检验。
下面，说明用宏观照明对被检验基片3的全面进行总括宏观观察的情形。该全面宏观观察时，检验者起动图2所示的马达18，通过旋转轴181和皮带17，由皮带轮16使支承轴15旋转，使保持座2以该支承轴15为中心，倾斜预定角度θ、最好倾斜30～45°后，停止马达18，使保持座2静止。接着，检验者将图9所示的金属卤化物灯31点亮，使来自金属卤化物灯31的光通过反射镜32和菲涅尔透镜33成为收束光后，照射到保持座2上的被检验基片3全面。在该状态，检验者目视保持座2上的被检验基片3，进行被检验基片3上的伤痕和污点等的缺陷检验。另外，不仅可在保持座2倾斜预定角度并静止的状态，进行缺陷检验，也可以用控制部11进行控制，使马达18的旋转方向周期地变化，一边使保持座2以支承轴15为中心在预定范围内摆动一边进行缺陷检验。这时，由于来自金属卤化灯31的照射光入射到被检验基片3内的入射角可变，所以，可用从各种角度入射的照射光观察被检验基片3。
检验者如图9所示地，在把保持座2升至预定角度的状态宏观照射被检验基片3的表面，在该宏观观察中，识别出被检验基片3上的缺陷部a时，操作上述操作部(操纵杆)，驱动马达714使旋转轴716朝一方向或另一方向旋转，通过皮带轮710、709使皮带712朝X轴的一方向或另一方向动作。这样，相对于被检验基片3面上的缺陷部a使导引移动部706上的反射体707沿导轨704移动，使激光750与缺陷部a一致。
另外，检验者操作上述操作部，驱动马达713，使旋转轴7131朝一方向或另一方向旋转，通过皮带轮7071、7081使皮带7111朝Y轴的一方向或另一方向动作。这样，相对于被检验基片3面上的缺陷部a，使支柱741和投射板743与导引移动部7051一起沿导轨7031移动，，使投射板743的下边7431与缺陷部a一致。这时，随着皮带轮7081的旋转，通过连接轴730，皮带轮7082与皮带轮7081同方向旋转，通过皮带轮7072、7082，皮带7112与皮带7111同方向动作。即，导引移动部7051和7052同步地朝Y轴的同方向移动，所以，投射板743总保持与X轴平行的状态朝Y轴方向移动。
指定缺陷位置时，也可以与上述相反地，在使投射板743与缺陷部a一致后，使激光750一致。
然后，检验者接通上述脚踏开关。于是，这时，沿导轨7031、704设置的图未示各导引标尺的值、即投射板743从预定原点朝Y轴方向的变位量和反射体707从预定原点朝X轴方向的变位量，作为缺陷部a的位置座标(X、Y)被上述各导引标尺的图未示各检测部检测出，该检测结果从上述各检测部输入到控制部11。
然后，检验者每当识别出被检验基片3上的缺陷部时，反复同样的动作，表示各缺陷部的各位置座标(X、Y)的数据，被控制部11取入并存储。检验者对被检验基片3全面完成了上述的宏观观察后，再起动马达18，通过旋转轴181和皮带17，由皮带轮16使支承轴15朝着与上述相反的方向旋转，将保持座2返回最初的水平状态。上述的宏观观察结束后，在进行了下述的投射板743的退避动作后，进行微观观察。
图10A～图10D是表示投射板743的退避机构的图。图10A是导引移动部7051部分的俯视图，图10B是其侧面图，图10C是导引部件744部分的俯视图，图10D是其侧面图。在上述的使投射板743与缺陷部a一致的动作中，如图10A、图10B所示，支柱741、742是直立的状态，投射板743以约倾斜45°的状态位于被检验基片3的上方。另外，支柱741、742分别由旋转轴7411、7412(图未示)可转动地支承在导引移动部7051、7052上。
如图1中实线所示，在保持座2为水平的状态，用微观观察单元9进行微观观察时，为了使物镜91不碰撞投射板743，必须使投射板743从被检验基片3上退避。这时，操作者操作上述的操作部，驱动马达713，使导引移动部7051、7052朝保持部件702方向移动，当支柱741到达图10C所示的导引部件744时，如图10D所示，支柱741下部的突起部沿着导引部件744的斜面7441被慢慢往上方推。随之，支柱741、742分别绕旋转轴7411、7412转动，最后成为与被检验基片3平行的状态。这时，支柱741、742收在保持座2与导轨704间的空间的延长部内，成为退避的状态，所以，位于保持座2下方。这样，微观观察时，物镜91不碰撞投射板743。
图11A～图11D是表示投射板743的退避机构的变形例的图。图11A是俯视图，图11B是正面图，图11C、图11D是侧面图。支柱741、742分别由旋转轴7411、7412可转动地支承在导引移动部7051、7052上。在旋转轴7411、7421的周围，分别卷绕着螺旋弹簧751、752。
螺旋弹簧751、752的一端片7511、7521，分别接合在导引移动部7051、7052的里面顶部。螺旋弹簧751、752的另一端片7512、7522，分别以相对于一端片7511、7521约成90°的状态，卡在销7412(图未示)、7422上，该销7412、7422突设在支柱741、742的下方侧部。另外，在导轨7031、7032的内侧侧面，分别轴支着可旋转的圆柱状挡块7033、7034。
如图11A至图11C所示，支柱741、742为直立状态时，螺旋弹簧751、752的推压力分别通过销7412(图未示)、7422作用在支柱741、742上。
从该状态，使投射板743从被检验基片3上退避时，操作者操作上述操作部，驱动马达713，使导引移动部7051、7052朝保持部件702方向移动。当支柱741、742到达挡块7033、7034时，如图11D所示，支柱741、742下方的突出部7413、7423分别沿着挡块7033、7034的曲面被慢慢地往上方推压。随之，支柱741、742分别抵抗螺旋弹簧751、752的推压力，绕旋转轴7411、7421转动，最后成为与被检验基片3平行的状态。这时，螺旋弹簧751、752的各一端片7511、7521与另一端片7512、7522是约平行的状态。
下面，说明对上述宏观观察检测到的各缺陷部，用微观观察单元9进行微观观察的情形。首先，由控制部11读出存储在上述存储器内的缺陷部的位置座标(X、Y)，然后，观察单元支承部5和观察单元6沿着导轨4、4及X上述图未示导轨移动，使微观观察单元9中的物镜91的观察轴与该位置座标(X、Y)吻合。
这样，检验者窥视微观观察单元9的目镜92，可用显微镜微观观察由物镜91得到的被检验基片3上的缺陷部。另外，由接物镜91得到的被检验基片3表面的缺陷部，被TV照相机93摄像，该像在TV监视器12上显示，检验者看见像可进行微观观察。
根据本实施例的基片检验装置，使保持着被检验基片3的保持座2以支承轴15为中心转动并升至预定角度，检验者可将被检验基片3倾斜到靠近眼睛的位置以及容易看见缺陷的角度，进行宏观检验，所以，可用轻松的姿势进行高精度的目测检验。另外，无论保持座2升起到何种角度，与保持座2一体的位置座标检测部也升起，所以，无论被检验基片3倾斜到何种角度，都能准确地检测缺陷位置。另外，通过把激光750投射到投射板743上，激光指标点清楚地在投射板743上反映，所以，可用目视容易地对准缺陷位置。
另外，构成位置座标检测部的导引移动部7051、706被电驱动，所以，检验者操作上述操作部，可在手边控制反射体707和投射板743的动作。这样，在检验大型的被检验基片时，使激光和投射板743与缺陷部一致，即使对远离检验者的缺陷部，也可以容易地取出位置信息。
另外，借助被检验基片3面上的观察单元支承部5相对于保持座2的沿着一方向的移动、以及与观察单元支承部5的移动方向直交方向的观察单元6的移动，可以使观察单元6移动到被检验基片3上的任何位置。这样，可以使保持座2的面积与被检验基片3的面积约相同大小，可实现基片检验装置的小型化，并且也大幅度减小基板检验装置的设置面积。
另外，为了驱动导引移动部7051、7052和投射板743，也可以采用带导引件的圆头螺栓或线性马达。另外，也可以采用发出LED那样光型的平行光束的光源，也可以将该光源安装在导引移动部706上以取代反射体707。另外，投射板743不限于是长条板，也可以是线材或三角柱形杆体，只要能投影激光等的狭缝式光或点光即可。
上述图5的构造中，马达713是安装在皮带轮7071上，但是，也可以如图12所示，将二轴马达7130安装在连接轴730上。二轴马达7130的一方旋转轴7130a通过第1凸轮730a与一方连接轴730a连接，另一方旋转轴7130b通过第2凸轮730d与另一方连接轴730b连接。
根据该构造，驱动二轴马达7130，通过连接轴730a、730b使皮带轮7081、7082朝同方向旋转，使皮带7111、7112朝同方向动作。这样，可以使导引移动部7051、7052更准确地同步移动。
本发明具有以下作用。
(1)根据本发明的基片检验装置，由于检验者可在靠近眼睛的位置进行被检验基片的宏观检验，所以，可用轻松的姿势进行缺陷检验，无论基片保持机构升起到何种角度，由于与基片保持机构一体的位置座标检测机构也被升起，所以，无论被检验基片倾斜到何种角度，总能准确地检测缺陷位置。特别是在检验大型的被检验基片时，通过使光和投射部件与缺陷部一致，即使对于远离检验者的缺陷部，也可容易地取出位置信息。另外，可以使基片保持机构的面积与被检验基片的面积约同样大小，可实现基片检验装置的小型化，同时也大幅度减小基片检验装置的设置面积。
(2)根据本发明的基片检验装置，通过连接轴连接着的二个皮带轮朝同方向旋转，二个皮带朝同方向动作，所以，二个移动机构同步地朝同方向移动，这样投射部件总保持着平行状态移动。
(3)根据本发明的基片检验装置，微观观察时，使投射部件从被检验基片上退避，微观观察部件不碰撞投射部件。
本发明不限定于上述实施例，在不变更要旨的范围内可作适当变形。
工业实用性
根据本发明的基片检验装置，可实现小型化，能有效地对被检验基片进行高精度的缺陷检验。

Claims (6)

1.基片检验装置，其特征在于，备有：保持被检验基片的矩形的基片保持机构、将该基片保持机构升起至预定角度的驱动机构、和位置座标检测机构，上述位置座标检测机构沿着被检验基片侧缘的至少直交的2个方向设在上述基片保持机构上，用于检测被检验基片上的缺陷部的位置座标，
上述位置座标检测机构备有：投射部件和检测部；
沿着被检验基片侧缘朝二个方向设置的二组导轨；
光源，其可沿着上述二方向之中的一方向的一组导轨移动，朝着与该一方向直交的方向射出光；
投射部件，其以横跨被检验基片的状态，可沿着上述二方向之中的一方向的一组导轨移动，从上述光源射出的光投射在该投射部件上；
检测部，其使光源射出的光线和上述投射部件位于上述缺陷部上，根据上述各组导轨上的光源和投射部件的位置，检测出上述缺陷部的位置座标。
2.如权利要求1所述的基片检验装置，其特征在于备有：
用电动力使上述投射部件沿着上述一组导轨移动的二个移动机构；该二个移动机构中的一个备有马达；上述各移动机构由被马达驱动的二个皮带轮和皮带构成；另外，还备有将上述各移动机构中的一个的皮带轮相互连接起来的连接轴。
3.如权利要求1所述的基片检验装置，其特征在于备有：
用电动力使上述投射部件沿着上述一组导轨移动的二个移动机构；上述各移动机构由二个皮带轮和皮带构成；还备有将上述移动机构中的一个的皮带轮相互连接起来的连接轴和驱动该连接轴的马达。
4.如权利要求1至3中任一项所述的基片检验装置，其特征在于，备有使上述投射部件从被检验基片上退避的退避机构。
5.如权利要求1至3中任一项所述的基片检验装置，其特征在于，备有调节机构，该调节机构调节从光源射出的光的光轴。
6.如权利要求4所述的基片检验装置，其特征在于，备有调节机构，该调节机构调节从光源射出的光的光轴。
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Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100371777C (zh) * 2004-08-31 2008-02-27 De&T株式会社 用于检验平面显示板的投光器及通过投光器实现的投光方法
CN100421015C (zh) * 2004-07-30 2008-09-24 激光先进技术股份公司 移动式xy载物台
CN100476415C (zh) * 2003-07-09 2009-04-08 通用电气公司 分析和识别制造零件中的缺陷的系统及方法
CN100549681C (zh) * 2004-09-22 2009-10-14 爱德牌工程有限公司 衬底检测装置
CN100576030C (zh) * 2002-02-26 2009-12-30 乐金显示有限公司 检查液晶板的设备和制作液晶显示器的方法
CN1987436B (zh) * 2006-12-27 2010-04-21 友达光电股份有限公司 基板检测设备及玻璃基板检测设备
TWI409499B (zh) * 2007-10-19 2013-09-21 Hon Hai Prec Ind Co Ltd 顯微鏡用載物台
CN103604815A (zh) * 2013-11-26 2014-02-26 上海海事大学 玻璃晶片检测装置与标定方法
CN104520668A (zh) * 2012-08-07 2015-04-15 卡尔蔡司工业测量技术有限公司 具有白光传感器的坐标测量机
CN104765172A (zh) * 2015-04-27 2015-07-08 京东方科技集团股份有限公司 一种检测液晶屏的设备和方法
CN107064173A (zh) * 2017-01-03 2017-08-18 中国科学院上海光学精密机械研究所 大型平面光学元件表面疵病的检测装置和检测方法
CN110293480A (zh) * 2018-03-23 2019-10-01 株式会社迪思科 磨削装置
CN111487035A (zh) * 2019-01-25 2020-08-04 舜宇光学（浙江）研究院有限公司 一种用于近眼检测系统的对准方法及其系统
CN112129775A (zh) * 2020-09-23 2020-12-25 哈尔滨工业大学 一种匀光棒条形光源及基于该光源的光学元件损伤检测装置

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100853775B1 (ko) * 2002-06-14 2008-08-25 엘지디스플레이 주식회사 테이블 손상 위치 검출 지그
KR100898781B1 (ko) * 2002-06-14 2009-05-20 엘지디스플레이 주식회사 외관검사장치 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법
JP4653500B2 (ja) 2005-01-18 2011-03-16 オリンパス株式会社 座標検出装置及び被検体検査装置
JP2006266748A (ja) * 2005-03-22 2006-10-05 Mitsutoyo Corp 画像測定装置
KR100688985B1 (ko) * 2005-08-05 2007-03-08 삼성전자주식회사 기판검사장치 및 그의 제어방법
KR101166828B1 (ko) * 2005-12-29 2012-07-19 엘지디스플레이 주식회사 평판표시장치용 검사장비 및 검사 방법
KR101011721B1 (ko) * 2008-07-25 2011-01-28 한국에너지기술연구원 집광용 반사판 시험장치
KR200461270Y1 (ko) * 2010-01-20 2012-07-03 한화폴리드리머 주식회사 스마트 윈도우용 검사장치
JP5530984B2 (ja) 2010-07-26 2014-06-25 株式会社ジャパンディスプレイ 検査装置及び検査方法
CN102393576A (zh) * 2011-08-03 2012-03-28 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示器中玻璃基板的目视检查机及检查方法
US8854616B2 (en) 2011-08-03 2014-10-07 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Visual inspection apparatus for glass substrate of liquid crystal display and inspection method thereof
CN102997795B (zh) * 2012-12-03 2015-10-21 京东方科技集团股份有限公司 一种摩擦装置和整机设备
CN103837552A (zh) * 2014-03-14 2014-06-04 苏州精创光学仪器有限公司 触摸屏保护玻璃外观缺陷检测系统
CN104977306A (zh) * 2014-04-08 2015-10-14 上海微电子装备有限公司 一种表面缺陷检测系统及方法
CN104297259A (zh) * 2014-11-04 2015-01-21 苏州精创光学仪器有限公司 触摸屏保护玻璃外观缺陷检测方法
CN105783795A (zh) * 2016-04-15 2016-07-20 中国科学院上海光学精密机械研究所 大型环抛机抛光胶盘平面度的测量装置及其测量方法
CN107664646A (zh) * 2016-07-29 2018-02-06 上海微电子装备（集团）股份有限公司 一种全自动外观缺陷检查装置及方法
CN106646957B (zh) * 2017-03-14 2018-07-20 惠科股份有限公司 一种显示单元制程控制方法及系统

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0715167A (ja) * 1993-06-21 1995-01-17 Sharp Corp 挿入位置指示器
JPH0735701A (ja) * 1993-07-23 1995-02-07 Sharp Corp パターン目視検査装置
JPH10325780A (ja) * 1997-05-23 1998-12-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd ディスプレイ画面検査装置
KR19990025834A (ko) * 1997-09-18 1999-04-06 윤종용 반도체 소자 검사 장치의 검사기판용 지지대
JP4166340B2 (ja) * 1997-09-24 2008-10-15 オリンパス株式会社 基板検査装置
JP4385419B2 (ja) * 1998-11-30 2009-12-16 株式会社ニコン 外観検査方法及び外観検査装置

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100576030C (zh) * 2002-02-26 2009-12-30 乐金显示有限公司 检查液晶板的设备和制作液晶显示器的方法
CN100476415C (zh) * 2003-07-09 2009-04-08 通用电气公司 分析和识别制造零件中的缺陷的系统及方法
CN100421015C (zh) * 2004-07-30 2008-09-24 激光先进技术股份公司 移动式xy载物台
CN100371777C (zh) * 2004-08-31 2008-02-27 De&T株式会社 用于检验平面显示板的投光器及通过投光器实现的投光方法
CN100549681C (zh) * 2004-09-22 2009-10-14 爱德牌工程有限公司 衬底检测装置
CN1987436B (zh) * 2006-12-27 2010-04-21 友达光电股份有限公司 基板检测设备及玻璃基板检测设备
TWI409499B (zh) * 2007-10-19 2013-09-21 Hon Hai Prec Ind Co Ltd 顯微鏡用載物台
CN104520668A (zh) * 2012-08-07 2015-04-15 卡尔蔡司工业测量技术有限公司 具有白光传感器的坐标测量机
CN104520668B (zh) * 2012-08-07 2017-08-01 卡尔蔡司工业测量技术有限公司 具有白光传感器的坐标测量机
CN103604815A (zh) * 2013-11-26 2014-02-26 上海海事大学 玻璃晶片检测装置与标定方法
CN103604815B (zh) * 2013-11-26 2016-01-13 上海海事大学 玻璃晶片检测装置与标定方法
CN104765172A (zh) * 2015-04-27 2015-07-08 京东方科技集团股份有限公司 一种检测液晶屏的设备和方法
CN107064173A (zh) * 2017-01-03 2017-08-18 中国科学院上海光学精密机械研究所 大型平面光学元件表面疵病的检测装置和检测方法
CN110293480A (zh) * 2018-03-23 2019-10-01 株式会社迪思科 磨削装置
CN111487035A (zh) * 2019-01-25 2020-08-04 舜宇光学（浙江）研究院有限公司 一种用于近眼检测系统的对准方法及其系统
CN111487035B (zh) * 2019-01-25 2022-02-01 舜宇光学（浙江）研究院有限公司 一种用于近眼检测系统的对准方法及其系统
CN112129775A (zh) * 2020-09-23 2020-12-25 哈尔滨工业大学 一种匀光棒条形光源及基于该光源的光学元件损伤检测装置

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Publication number Publication date
KR100885560B1 (ko) 2009-02-24
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