TWI438504B - Polarizing plate, optical film and image display device - Google Patents

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TWI438504B
TWI438504B TW097113054A TW97113054A TWI438504B TW I438504 B TWI438504 B TW I438504B TW 097113054 A TW097113054 A TW 097113054A TW 97113054 A TW97113054 A TW 97113054A TW I438504 B TWI438504 B TW I438504B
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film
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resin
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TW097113054A
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Reiko Akari
Tetsurou Ikeda
Yuuki Nakano
Masahiro Yaegashi
Mitsuru Suzuki
Masayuki Satake
Kuniaki Ishibashi
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Nitto Denko Corp
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Description

偏光板、光學膜及圖像顯示裝置
本發明係關於一種偏光板。該偏光板可單獨或作為對其進行積層而成之光學膜形成液晶顯示裝置(LCD,liquid crystal display)、有機EL(electroluminescence,電激發光)顯示裝置、CRT(Cathode Ray Tude,陰極射線管)、PDP(Plasma Display Panel,電漿顯示器)等圖像顯示裝置。
於鐘錶、行動電話、PDP、筆記型電腦、個人電腦用監視器、DVD(digital versatile disc,數位化多功能光碟)播放器、TV(TeleVision,電視)等中,液晶顯示裝置之市場正於急遽地展開。液晶顯示裝置係使液晶之轉換所產生之偏光狀態可視化之裝置,自其顯示原理方面考慮,使用偏光片。尤其係於TV等用途中,越來越要求高亮度、高對比度、廣視角,對於偏光板亦越來越要求高透射率、高偏光度、高色再現性等。
作為偏光片,由於例如於聚乙烯醇中吸附碘且進行延伸而成之構造之碘類偏光片具有高透射率、高偏光度,故被廣泛用作最常用之偏光片。通常偏光板使用於偏光片之兩表面藉由將聚乙烯醇類材料溶於水中所成之所謂水系接著劑而黏合透明保護膜者(專利文獻1、專利文獻2)。作為透明保護膜,使用透濕度高之三乙醯基纖維素等。
然而,如上所述,於製造偏光板時,於使用有如聚乙烯醇系接著劑般之水系接著劑之情形時,於黏合偏光片和透 明保護膜之後,必需有乾燥步驟。於偏光板等製造步驟中存在之乾燥步驟,不利於提高偏光板之生產性。
又,於使用水系接著劑(所謂之濕式積層)之情形時,為了提高與接著劑之接著性,若不相對地提高偏光片之含水率(通常偏光片之含水率為30%左右),則無法獲得藉由水系接著劑而形成之接著性良好之偏光板。然而,以如此方式獲得之偏光板存在於高溫或高溫高濕度化環境中尺寸變化大之問題等。另一方面,為了抑制上述尺寸變化,可降低偏光片之含水率、或使用透濕度低之透明保護膜。然而,當使用水系接著劑黏合如此偏光片與透明保護膜時,乾燥步驟之效率降低,或偏光特性降低,或者產生外觀上之不良,無法獲得實質上有用之偏光板。
又,尤其係如TV所代表者般,近年來,隨著圖像顯示裝置趨於大畫面化,自生產性或成本方面(成本率、取數上升)考慮偏光板之大型化亦變得非常重要。然而,於使用有上述水系接著劑之偏光板中,存於如下問題,即因背光源之熱,而導致偏光板尺寸產生變化,此成為光斑而使得於整個畫面中之一部分中黑顯示看起來發白之類之所謂漏光(光斑)變得顯著。
自上述理由來考慮,大多提議使用活性能量線硬化型(尤其係紫外線硬化型)接著劑來代替水系接著劑。例如,作為接著劑,提議於環氧丙烯酸酯、丙烯酸胺基甲酸酯、聚酯丙烯酸酯等丙烯酸低聚物中,以丙烯酸或甲基丙烯酸系單體為稀釋劑之紫外線硬化型接著劑(專利文獻3)。
又,對偏光板所要求之耐久性能變得嚴格,要求其於高濕及高溫之更惡劣環境下之耐久性。然而,上述偏光板,無法滿足上述惡劣環境下之耐久性。
[專利文獻1]日本專利特開2006-220732號公報 [專利文獻2]日本專利特開2001-296427號公報 [專利文獻3]日本專利特開昭61-246719號公報
本發明之目的在於提供一種偏光板,該偏光板可滿足高濕及高溫之惡劣環境下之耐久性。
又,本發明之目的在於,提供一種積層有上述偏光板之光學膜,進而提供一種使用該偏光板、光學膜之液晶顯示裝置等圖像顯示裝置。
本發明者們為解決上述課題而反覆進行潛心研究,結果發現,可藉由以下所示之偏光板而達到上述目的,從而完成本發明。
即,本發明涉及一種偏光板,其於偏光片之至少一個表面上經由接著劑層設有透明保護膜,其特徵在於,接著劑層由含有至少1種硬化性成分之活性能量線硬化型接著劑形成,接著劑層之Tg為60℃以上,且,接著劑層之厚度為0.01~7 μm。
於上述偏光板中,較好的是於將接著劑層之Tg(℃)定義為A、將接著劑層之厚度(μm)定義為B時,滿足數值計算 公式(1):A-12×B>58。
於上述偏光板中,較好的是接著劑層之凝膠分率為50重量百分比以上。
於上述偏光板中,較好的是硬化性成分為具有(甲基)丙烯醯基之化合物。
於上述偏光板中,作為硬化性成分,較好的是使用由通式(1):CH2 =C(R1 )-CONR2 (R3 )(R1 表示氫原子或甲基,R2 表示氫原子或可具有羥基、巰基、胺基或四級銨基之碳原子數為1~4之直鏈或支鏈之烷基,R3 表示氫原子或碳原子數為1~4之直鏈或支鏈之烷基。其中,不包含R2 、R3 同為氫原子之情況。或者,R2 、R3 結合而形成亦可含有氧原子之5員環或6員環)表示之N-取代醯胺系單體。
較好的是,上述N-取代醯胺系單體選自N-羥乙基丙烯醯胺、N-羥甲基丙烯醯胺、N一異丙基丙烯醯胺及N-丙烯醯基嗎啉中之至少1種。尤其好的是,N-取代醯胺系單體含有N-羥乙基丙烯醯胺及N-丙烯醯基嗎啉。於併用N-羥乙基丙烯醯胺及N-丙烯醯基嗎啉時,較好的是相對於該等之總計量,N-羥乙基丙烯醯胺之比例為40重量百分比以上。
又,於N-取代醯胺系單體中,作為硬化性成分,還可併用具有芳香環及羥基之單官能(甲基)丙烯酸酯。
於上述偏光板中,較好的是活性能量線硬化型接著劑為電子射線硬化型接著劑。
於上述偏光板中,較好的是,透明保護膜使用選自纖維素樹脂、聚碳酸酯樹脂、環狀聚烯烴樹脂及(甲基)丙烯酸 樹脂中之至少任一種。
本發明進而係關於一種光學膜,其特徵在於,積層有至少1片上述偏光板。
本發明進而係關於一種圖像顯示裝置,其特徵在於,使用上述偏光板或上述光學膜。
本發明之偏光板中,作為用於黏合偏光片與透明保護膜之接著劑,使用活性能量線硬化型接著劑。活性能量線硬化型接著劑較之水系接著劑,耐久性更高。且,於本發明之偏光板中,作為上述活性能量線硬化型接著劑,使用由其形成之接著劑層之Tg為60℃以上之活性能量線硬化型接著劑,且,將接著劑層之厚度控制為0.01~7 μm。如上所述,於本發明之偏光板中,使用使接著劑層成為60℃以上之高Tg之活性能量線硬化型接著劑,並且將接著劑層之厚度控制為上述範圍,藉此可滿足高濕及高溫之惡劣環境下之耐久性。尤其,於將接著劑層之Tg(℃)定義為A,將接著劑層之厚度(μm)定義為B之情形時,於滿足數值計算公式(1):A-12×B>58時,上述耐久性較佳。
用於上述偏光板之活性能量線硬化型接著劑,較好的是電子射線硬化型接著劑。電子射線硬化型接著劑較之紫外線硬化型接著劑,生產性更佳,又,可藉由於用於黏合偏光片與透明保護膜之接著劑之硬化方法中使用電子射線(即,乾式積層),而無需紫外線硬化法中之加熱步驟,從而可大幅提高生產性。又,可藉由使用電子射線硬化型接 著劑,而較之紫外線硬化型接著劑,使偏光板之耐久性進一步提高。
又,於使用具有(甲基)丙烯醯基之化合物、尤其係使用上述N-取代醯胺系單體作為活性能量線硬化型接著劑之硬化性成分時,該硬化性成分於耐久性方面較佳,作為電子射線硬化型接著劑時尤佳。例如,於使用低含水率之偏光片之情形時,或於使用透濕度低之材料作為透明保護膜之情形時,電子射線硬化型接著劑對該等均顯示出良好之接著性,其結果獲得尺寸穩定性良好之偏光板。
於使用上述硬化性成分之情形時,由於可製作尺寸變化小之偏光板,故亦可容易地應對偏光板之大型化,且自良率、取數之觀點考慮可抑制生產成本。又,由於本發明中所獲得之偏光板尺寸穩定性良好,因此可抑制因背光源之外部熱而導致圖像顯示裝置產生光斑。
本發明之偏光板中,於偏光片之至少一個表面上,經由接著劑層設有透明保護膜,於形成該接著劑層時,使用活性能量線硬化型接著劑。活性能量線硬化型接著劑含有至少1種硬化性成分。
活性能量線硬化型接著劑中所使用之硬化性成分,係以由其形成之接著劑層之Tg為60℃以上之方式選擇。自耐久性方面考慮,上述接著劑層之Tg更好的是70℃以上,進一步好的是75℃以上,更進一步好的是100℃以上,尤其好的是120℃以上。另一方面,當接著劑層之Tg過高時,偏 光板之彎曲性降低,因此,較好的是接著劑層之Tg為300℃以下,進一步好的是240℃以下,更進一步較好的是180℃以下。
作為硬化性成分,可列舉具有(甲基)丙烯醯基之化合物、具有乙烯基之化合物。該等硬化性成分可使用單官能或二官能以上之任一種。可以由硬化性成分形成之接著劑層之Tg滿足60℃以上之方式,選擇該等硬化性成分中之1種或組合使用2種以上。作為該等硬化性成分,較好的是具有(甲基)丙烯醯基之化合物。具有(甲基)丙烯醯基之化合物,較好的是使用N-取代醯胺系單體。該等單體於接著性方面較佳。再者,(甲基)丙烯醯基係指丙烯醯基及/或甲基丙烯醯基。於本發明中,(甲基)之意思與上述同樣相同。
N-取代醯胺系單體由通式(1):CH2 =C(R1 )-CONR2 (R3 )(R1 表示氫原子或甲基,R2 表示氫原子或可具有羥基、巰基、胺基或四級銨基之碳原子數為1~4之直鏈或支鏈之烷基,R3 表示氫原子或碳原子數為1~4之直鏈或支鏈之烷基。其中,不包含R2 、R3 同為氫原子之情況。或者,R2 、R3 結合而形成亦可含有氧原子之5員環或6員環)表示。上述通式(1)中之R2 或R3 中之碳原子數1~4之直鏈或支鏈之烷基可列舉例如甲基、乙基、異丙基、第三丁基等,具有羥基之烷基可列舉羥甲基、羥乙基等,具有胺基之烷基可列舉胺甲基、胺乙基等。又,於R2 、R3 結合而形成亦可含有氧原子之5員環或6員環時,具有含有氮之雜環。作為該雜 環可列舉嗎啉環、哌啶環、吡咯烷環、哌嗪環等。
作為上述N-取代醯胺系單體之具體例,可列舉例如:N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-己基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥乙基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基-N-丙烷(甲基)丙烯醯胺、胺甲基(甲基)丙烯醯胺、胺乙基(甲基)丙烯醯胺、巰甲基(甲基)丙烯醯胺、巰乙基(甲基)丙烯醯胺等。又,具有雜環之含雜環單體可列舉例如:N-丙烯醯基嗎啉、N-丙烯醯基哌啶、N-甲基丙烯醯基哌啶、N-丙烯醯基吡咯烷等。該等N-取代醯胺系單體可單獨使用1種或組合使用2種以上。
較好的是,上述N-取代醯胺系單體為N-羥乙基丙烯醯胺、N-羥甲基丙烯醯胺、N-異丙基丙烯醯胺及N-丙烯醯基嗎啉。N-取代醯胺系單體,對於低含水率之偏光片與使用有透濕度低之材料之透明保護膜,亦表現出良好之接著性,但上述例示之單體表現出尤其好之接著性。其中,較好的是N-羥乙基丙烯醯胺。
上述N-取代醯胺系單體可單獨使用或組合使用2種以上,但於組合使用2種以上之情形時,自耐久性、接著性方面考慮,較好的是N-羥乙基丙烯醯胺及N-丙烯醯基嗎啉之組合。又,為該組合之情況時,N-羥乙基丙烯醯胺相對於N-羥乙基丙烯醯胺及N-丙烯醯基嗎啉之總計量之比例為40重量百分比以上時,有利於獲得良好之接著性。上述比 例更好的是40~90重量百分比,進一步好的是60~90重量百分比。
又,上述硬化性成分,除上述之外,作為具有丙烯醯基之化合物,可列舉例如:各種環氧基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯或各種(甲基)丙烯酸酯系單體等。其中,較好的是使用環氧基(甲基)丙烯酸酯,尤其好的是使用具有芳香環及羥基之單官能(甲基)丙烯酸酯。該等硬化性成分於無法單獨形成Tg為60℃以上之接著劑層時,可與上述N-取代醯胺系單體併用而使用。
具有芳香環及羥基之單官能(甲基)丙烯酸酯,可使用具有芳香環及羥基之各種單官能(甲基)丙烯酸酯。羥基可作為芳香環之取代基而存在,但於本發明中,較好的是作為鍵合芳香環與(甲基)丙烯酸酯之有機基(與烴基、尤其係與伸烷基鍵合之基)而存在。
上述具有芳香環及羥基之單官能(甲基)丙烯酸酯,可列舉例如具有芳香環之單官能環氧化合物與(甲基)丙烯酸之反應物。具有芳香環之單官能環氧化合物可列舉例如:苯基縮水甘油醚、第三丁基苯基縮水甘油醚、苯基聚乙二醇縮水甘油醚等。具有芳香環及羥基之單官能(甲基)丙烯酸酯之具體例,可列舉例如:2-羥基-3-苯氧基丙基(甲基)丙烯酸酯、2-羥基-3-第三丁基苯氧基丙基(甲基)丙烯酸酯、2-羥基-3-苯基聚乙二醇丙基(甲基)丙烯酸酯等。
又,具有(甲基)丙烯醯基之化合物可列舉羧基單體。羧 基單體亦於接著性方面較佳。羧基單體可列舉例如(甲基)丙烯酸、羧乙基(甲基)丙烯酸酯、羧戊基(甲基)丙烯酸酯等。其中,較好的是丙烯酸。
除上述之外,具有(甲基)丙烯醯基之化合物可列舉:(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸月桂酯等碳原子數為1~12之(甲基)丙烯酸烷基酯;(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等(甲基)丙烯酸烷氧基烷基系單體;(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥基月桂酯或(4-羥甲基環己基)-甲基丙烯酸酯等含羥基單體;馬來酸酐、衣康酸酐等含酸酐基單體;丙烯酸之己內酯加成物;苯乙烯磺酸或烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙烷磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙烷磺酸、磺丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等含磺酸基單體;2-羥乙基丙烯醯基磷酸酯等含磷酸基單體等。又,可列舉:(甲基)丙烯醯胺;馬來醯亞胺、N-環己基馬來醯亞胺、N-苯基馬來醯亞胺等;(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸胺基丙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸第三丁基胺基乙酯、3-(3-吡啶基)丙基(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸烷基胺基烷基系單體;N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基琥珀醯亞胺或N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基 六亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基八亞甲基琥珀醯亞胺等琥珀醯亞胺系單體等含氮單體。
如上所述,作為活性能量線硬化型接著劑中之硬化性成分,較好的是單獨使用N-取代醯胺系單體或併用N-取代醯胺系單體與具有芳香環及羥基之單官能(甲基)丙烯酸酯。於併用該等時,較好的是將N-取代醯胺系單體之比例設定為40重量百分比以上,進一步好的是50重量百分比以上,更進一步好的是60重量百分比以上,再進一步好的是70重量百分比以上,尤其好的是80重量百分比以上。
上述硬化性成分可使用二官能以上之硬化性成分。二官能以上之硬化性成分,較好的是二官能以上之(甲基)丙烯酸酯、尤其好的是二官能以上之環氧基(甲基)丙烯酸酯。二官能以上之環氧基(甲基)丙烯酸酯係藉由多官能環氧化合物與(甲基)丙烯酸進行反應而獲得。多官能環氧化合物可例示各種者。多官能環氧化合物可列舉例如芳香族環氧樹脂、脂環式環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂。
芳香族環氧樹脂可列舉例如:雙酚A之二縮水甘油醚、雙酚F之二縮水甘油醚、雙酚S之二縮水甘油醚之類之雙酚型環氧樹脂;苯酚酚醛清漆環氧樹脂、甲酚酚醛清漆環氧樹脂、羥基苯甲醛苯酚酚醛清漆樹脂之類之酚醛清漆型環氧樹脂;四羥苯基甲烷之縮水甘油醚、四羥基二苯甲酮之縮水甘油醚、環氧化聚乙烯苯酚之類之多官能型環氧樹脂等。
脂環式環氧樹脂可列舉:上述芳香族環氧樹脂之氫化 物、環己烷系、環己基甲酯系、二環己基甲醚系、螺環系、三環癸烷系等環氧樹脂。
脂肪族環氧樹脂可列舉脂肪族多元醇或其環氧烷加成物之聚縮水甘油醚。該等示例可列舉藉由於1,4-丁二醇之二縮水甘油醚、1,6-己二醇之二縮水甘油醚、甘油之三縮水甘油醚、三羥甲基丙烷之三縮水甘油醚、聚乙二醇之二縮水甘油醚、丙二醇之二縮水甘油醚、乙二醇及丙二醇、甘油之類之脂肪族多元醇中加成1種或2種以上之環氧烷(環氧乙烷或環氧丙烷)而獲得之聚醚多元醇之聚縮水甘油醚等。
上述環氧樹脂之環氧當量,通常為30~3000克/當量,較好的是50~1500克/當量之範圍。
上述二官能以上之環氧(甲基)丙烯酸酯,較好的是脂肪族環氧樹脂之環氧(甲基)丙烯酸酯,尤其好的是二官能脂肪族環氧樹脂之環氧(甲基)丙烯酸酯。
本發明之活性能量線硬化型接著劑含有硬化性成分,除上述成分以外,亦可根據需要而添加適當之添加劑。活性能量線硬化型接著劑可以電子射線硬化型、紫外線硬化型之方式使用。於以電子射線硬化型使用上述接著劑時,於上述接著劑中並非特別需要含有聚合起始劑,但於以紫外線硬化型使用之情況時,使用光聚合起始劑。相對於每100重量份硬化性成分,光聚合起始劑之使用量通常為0.1~10重量份,較好的是0.5~3重量份。
又,作為添加劑之示例可列舉:提高使用電子射線時之 硬化速度或感度之以羰基化合物為代表之增感劑;以矽烷偶合劑或環氧乙烷為代表之助黏劑;提高與透明保護膜之潤濕性之添加劑;以丙烯醯氧基化合物或烴系(天然、合成樹脂)等為代表之提高機械強度或加工性等之添加劑;紫外線吸收劑、抗老化劑、染料、加工助劑、離子捕捉劑、抗氧化劑、增黏劑、填充劑(金屬化合物填料除外)、可塑劑、勻化劑、抗發泡劑、抗靜電劑等。
偏光片由聚乙烯醇系樹脂形成。偏光片可使用將聚乙烯醇樹脂膜用二色性物質(具有代表性的是碘、二色性染料)染色並進行單軸延伸而成者。構成聚乙烯醇系樹脂膜之聚乙烯醇系樹脂之聚合度,較好的是100~5000,進一步好的是1400~4000。當聚合度過低時,於進行特定之延伸時容易產生延伸斷裂,又,當聚合度過高時,於進行延伸時有異常需要張力,有可能無法進行機械延伸。
構成偏光片之聚乙烯醇系樹脂膜可用任意適當之方法(例如將樹脂溶解於水或有機溶劑中而成之溶液進行流延製膜之流延法、澆鑄法、擠出法)成形。偏光片之厚度可根據使用偏光板之LCD之目的或用途而進行適當設定,通常為5~80 μm左右。
偏光片之製造方法可根據目的、使用材料及條件等採用任意適當之方法。例如,可採用將上述聚乙烯醇系樹脂膜供於通常含有膨潤、染色、交聯、延伸、水洗及乾燥步驟之一系列製造步驟中之方式。於除去乾燥步驟之各步驟中,於藉此含有各步驟中所使用之溶液之液體中浸漬聚乙 烯醇系樹脂膜而進行處理。膨潤、染色、交聯、延伸、水洗及乾燥之各處理之順序、次數及實施之有無,可根據目的、使用材料及條件等而適當設定。例如,可於一個步驟中同時進行幾個處理,亦可同時進行膨潤處理、染色處理及交聯處理。又,可較佳地採用例如於延伸處理前後進行交聯處理。又,例如水洗處理可於全部處理結束後進行,亦可僅於特定處理後進行。
就膨潤步驟而言,具有代表性的是,藉由將上述聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於充滿水之處理浴中而進行。通過進行該處理,可清洗聚乙烯醇系樹脂膜表面之污垢或抗結塊劑,並且可藉由使聚乙烯醇系樹脂膜膨潤而防止染色不均等不均勻性。於膨潤浴中,適當添加甘油或碘化鉀等。膨潤浴之溫度通常為20~60℃左右,浸漬於膨潤浴中之時間通常為0.1~10分鐘左右。
就染色步驟而言,具有代表性的是,可藉由將上述聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有碘等二色性物質之處理浴中而進行。用於染色浴溶液之溶劑,通常使用水,亦可適量添加與水具有相溶性之有機溶劑。二色性物質相對於100重量份溶劑,通常以0.1~1重量份之比例使用。於使用碘作為二色性物質時,染色浴溶液較好的是更含有碘化物等助劑。其原因在於改善染色效率。助劑以相對於100重量份溶劑,較好的是0.02~20重量份,進一步好的是2~10重量份之比例使用。作為碘化物之具體例可列舉:碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化 鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦等。染色浴之溫度通常為20~70℃左右,浸漬於染色浴中之時間通常為1~20分鐘左右。
就交聯步驟而言,具有代表性的是,藉由將上述經染色之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有交聯劑之處理浴中而進行。交聯劑可採用任意適當之交聯劑。作為交聯劑之具體例可列舉硼酸、硼砂等硼化合物、乙二醛、戊二醛等。該等可單獨或加以組合使用。用於交聯浴溶液之溶劑通常使用水,亦可適量添加與水具有相溶性之有機溶劑。交聯劑係以相對於100重量份溶劑為1~10重量份之比例使用。於交聯劑之濃度低於1重量份時,無法獲得充分之光學特性。當交聯劑之濃度超過10重量份時,延伸時膜中產生之應力變大,所獲得之偏光板有可能產生收縮。交聯浴溶液較好的是進一步含有碘化物等助劑。其原因在於,面內容易獲得均勻之特性。助劑之濃度較好的是0.05~15重量百分比,進一步好的是0.5~8重量百分比。碘化物之具體例,與染色步驟之情況相同。交聯浴之溫度通常為20~70℃左右,較好的是40~60℃左右。浸漬於交聯浴中之時間通常為1秒~15秒,較好的是5秒~10分鐘。
延伸步驟亦可如上述所述般於任一階段中進行。具體而言,可於染色處理後進行,亦可於染色處理前進行,可與膨潤處理、染色處理及交聯處理同時進行,亦可於染色處理後進行。聚乙烯醇系樹脂膜之累計延伸倍率,通常設定為5倍以上,較好的是5~7倍,進一步好的是5~6.5倍。當 累計延伸倍率低於5倍時,難以獲得高偏光度之偏光板。當累計延伸倍率超過7倍時,有時聚乙烯醇系樹脂膜容易斷裂。作為延伸之具體方法可採用任意適當之方法。例如,於採用濕式延伸法時,於處理浴中將聚乙烯醇系樹脂膜延伸至特定倍數。作為延伸浴溶液,可較佳地使用於水或有機溶劑(例如乙醇)等溶劑中使用添加有各種金屬鹽、碘、硼或鋅之化合物之溶液。
就水洗步驟而言,具有代表性的是,藉由將實施過上述各種處理之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於處理浴中而進行。可藉由水洗步驟而沖洗掉聚乙烯醇系樹脂膜上之多餘殘存物。水洗浴可為純水,亦可為碘化物(例如碘化鉀、碘化鈉等)之水溶液。碘化物水溶液之濃度,較好的是0.1~10重量百分比。亦可於碘化物水溶液中添加硫酸鋅、氯化鋅等助劑。水洗浴之溫度較好的是10~60℃,進一步好的是30~40℃。浸漬時間為1秒~1分鐘。水洗步驟可僅進行1次,亦可根據需要進行多次。於實施多次之情形時,可適當調整用於各處理之水洗浴中所含有之添加劑之種類或濃度。例如水洗步驟含有使實施過上述各種處理之聚乙烯醇系樹脂膜於碘化鉀水溶液(0.1~10重量百分比,10~60℃)中浸漬1秒~1分鐘左右之步驟,與用純水進行清洗之步驟。又,於水洗步驟中,為提高偏光片之表面改質或偏光片之乾燥效率,亦可適量添加與水具有相溶性之有機溶劑(乙醇等)。
乾燥步驟可採用任意適當之方法(例如自然乾燥、鼓風 乾燥、加熱乾燥)。例如,加熱乾燥時之乾燥溫度通常為20~80℃左右,乾燥時間通常為1~10分鐘左右。以上述方式而可獲得偏光片。
本發明中所使用之偏光片之含水率,較好的是20重量百分比以下,更好的是0~15重量百分比以下,進一步好的是1~15重量百分比以下。當含水率大於20重量百分比時,有可能產生所獲得之偏光板之尺寸變化大,從而於高溫或高溫高濕環境下之尺寸變化大之問題。
本發明之偏光片之含水率,可用任意適當之方法進行調整。可列舉例如藉由調整偏光片之製造步驟中之乾燥步驟的條件而進行控制之方法。
偏光片之含水率可藉由以下方法而測定。即,將偏光片切成100×100 mm之大小,測定該樣品之初期重量。接著,以120℃將該樣品乾燥2小時,測定乾燥後之重量,根據下述式而測定出含水率。含水率(重量百分比)={(初期重量-乾燥後重量)/初期重量}×100。重量之測定係分別進行3次而取其平均值。
作為構成透明保護膜之材料,使用例如透明性、機械強度、熱穩定性、防水性、各向同性等優異之熱可塑性樹脂膜。作為此種熱可塑性樹脂之具體例可列舉:三乙醯基纖維素等纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降冰片烯系樹脂)、聚芳酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂及該等 之混合物。再者,於偏光板之一側,經由接著劑層黏合有透明保護膜,且於另一側,可使用(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂作為透明保護膜。於透明保護膜中可含有1種以上之任意適當之添加劑。作為添加劑可列舉例如:紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、可塑劑、脫模劑、著色防止劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護膜中之上述熱可塑性樹脂之含量,較好的是50~100重量百分比,更好的是50~99重量百分比,進一步好的是60~98重量百分比,尤其好的是70~97重量百分比。當透明保護膜中之上述熱可塑性樹脂之含量為50重量百分比以下時,有可能無法充分地顯現熱可塑性樹脂本來具有之高透明性等。
又,作為透明保護膜,可列舉日本專利特開2001-343529號公報(WO 01//337007)中記載之聚合物膜;例如含有(A)側鏈中具有取代及/或非取代醯亞胺基之熱可塑性樹脂、與(B)側鏈中具有取代及/或非取代苯基及硝基之熱可塑性樹脂之樹脂組成物。作為具體例可列舉含有由異丁烯與N-甲基馬來醯亞胺形成之交替共聚物與丙烯腈·苯乙烯共聚物之樹脂組成物之膜。膜可使用由樹脂組成物之混合擠出品等形成之膜。該等膜由於相位差小,光彈性模數小,因此,可消除由偏光板之畸變導致之光斑等不良情況,又,由於透濕度小,因此加濕耐久性優異。
透明保護膜之厚度可加以適當確定,但自強度或操作性 等作業性、薄層性等方面考慮,通常為1~500 μm左右,尤其好的是1~300 μm左右,更好的是5~200 μm左右。透明保護膜於厚度為5~150 μm時尤佳。
再者,於偏光片之兩側設置透明保護膜時,可於其表背側使用由相同聚合物材料形成之保護膜,亦可使用由不同聚合物材料等形成之保護膜。
本發明之透明保護膜,較好的是使用選自纖維素樹脂、聚碳酸酯樹脂、環狀聚烯烴樹脂及(甲基)丙烯酸樹脂中之至少1者。本發明之電子射線硬化型偏光板用接著劑,對上述各種透明保護膜顯示出較佳之接著性。尤其,本發明之電子射線硬化型偏光板用接著劑,對難以滿足接著性之丙烯酸樹脂亦顯示出良好之接著性。
纖維素樹脂為纖維素與脂肪酸之酯。此種纖維素酯系樹脂之具體例可列舉:纖維素三乙酸酯、纖維素二乙酸酯、纖維素三丙酸酯、纖維素二丙酸酯等。其中,尤其好的是纖維素三乙酸酯。纖維素三乙酸酯之市售製品有很多,於容易獲得或成本方面較有利。作為纖維素三乙酸酯之市售品之示例可列舉:富士膠片公司製造之商品名"UV-50"、"UV-80"、"SH-80"、"TD-80U"、"TD-TAC"、"UZ-TAC"或Konica公司製造之"KC系列"等。一般而言,該等纖維素三乙酸酯之面內相位差(Re)幾乎為零,厚度方向相位差(Rth)具有~60 nm左右。
再者,厚度方向相位差小之纖維素樹脂膜可藉由例如對上述纖維素樹脂進行處理而獲得。例如將塗佈有環戊酮、 甲基乙基酮等溶劑之聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、不鏽鋼等基材膜黏合於普通之纖維素系膜上,進行加熱乾燥(例如以80~150℃加熱乾燥3~10分鐘左右)後,剝離基材膜之方法等;將降冰片烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂等溶解於環戊酮、甲基乙基酮等溶劑中而成之溶液塗佈於普通之纖維素樹脂膜上,且進行加熱乾燥(例如以80~150℃加熱乾燥3~10分鐘左右),其後剝離塗佈膜之方法等。
又,厚度方向相位差小之纖維素樹脂膜可使用脂肪取代度已受到控制之脂肪酸纖維素系樹脂膜。於通常使用之三乙酸纖維素中,乙酸取代度為2.8左右。較好的是將乙酸取代度控制為1.8~2.7,藉此可縮小Rth。藉由於上述脂肪酸取代纖維素系樹脂中添加鄰苯二甲酸二丁酯、對甲苯磺醯苯胺、檸檬酸乙醯三乙酯等可塑劑,而將Rth控制為較小。相對於100重量份脂肪酸纖維素系樹脂,可塑劑之添加量較好的是40重量份以下,更好的是1~20重量份,進一步好的是1~15重量份。
作為環狀聚烯烴樹脂之具體例,較好的是降冰片烯系樹脂。環狀聚烯烴樹脂係以環狀烯烴為聚合單元進行聚合而成之樹脂之總稱,可列舉例如:日本專利特開平1-240517號公報、日本專利特開平3-14882號公報、日本專利特開平3-122137號公報等中記載之樹脂。具體例可列舉:環狀烯烴之開環(共)聚合物、環狀烯烴之加成聚合物、環狀烯烴與乙烯、丙烯等α-烯烴之共聚物(具有代表性的是無規共聚物),及將該等用不飽和羧酸或其衍生物進行改性之 無規聚合物,以及該等之氫化物等。作為環狀烯烴之具體例可列舉降冰片烯系單體。
環狀聚烯烴樹脂市售製品有很多種。具體例可列舉:日本ZEON股份公司製造之"ZEONEX"、"ZEONOR"、JSR股份公司製造之商品名"ARTON"、TICONA公司製造之商品名"TORVUS"、三井化學股份公司製造之商品名"APEL"。
作為(甲基)丙烯酸系樹脂,Tg(玻璃轉移溫度)較好的是115℃以上,更好的是120℃以上,進一步好的是125℃以上,尤其好的是130℃以上。可藉由設Tg為115℃以上,而使偏光板之耐熱性優異。上述(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg上限值並無特別限定,但自成形性之觀點考慮,較好的是170℃以下。可由(甲基)丙烯酸系樹脂形成面內相位差(Re)、厚度方向相位差(Rth)幾乎為零之膜。
作為(甲基)丙烯酸系樹脂,於不損害本發明效果之範圍內,可採用任意適當之(甲基)丙烯酸系樹脂。可列舉例如:聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS樹脂等)、具有脂環族烴基之聚合物(例如甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-降冰片烯基(甲基)丙烯酸酯共聚物等)。較好的是可列舉聚(甲基)丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸Cl-6烷基酯。更好的是以甲基丙烯酸甲酯為主要成分(50~100重量百分比,較好的是70~100重量百分比)之甲 基丙烯酸甲酯系樹脂。
作為(甲基)丙烯酸系樹脂之具體例,可列舉例如:三菱麗陽股份公司製造之ACRYPET VH或ACRYPET VRL20A、日本專利特開2004-70296號公報中記載之分子內具有環構造之(甲基)丙烯酸系樹脂、藉由分子內交聯或分子內環化反應而獲得之高Tg(甲基)丙烯酸樹脂系。
作為(甲基)丙烯酸系樹脂,亦可使用具有內酯環構造之(甲基)丙烯酸系樹脂。此原因在於,藉由高耐熱性、高透明性、且進行雙軸延伸而具有高機械強度。
作為具有內酯環構造之(甲基)丙烯酸系樹脂,可列舉日本專利特開2000-230016號公報、日本專利特開2001-151814號公報、日本專利特開2002-120326號公報、日本專利特開2002-254544號公報、日本專利特開2005-146084號公報等中所記載之、具有內酯環構造之(甲基)丙烯酸系樹脂。
具有內酯環構造之(甲基)丙烯酸系樹脂,較好的是具有下述通式(化1)表示之環狀構造。
式中,R1 、R2 及R3 分別獨立地表示氫原子或碳原子數為1~20之有機殘基。再者,有機殘基亦可含有氧原子。
具有內酯環構造之(甲基)丙烯酸系樹脂之構造中之通式 (化1)表示之內酯環構造之含有比例,較好的是5~90重量百分比,更好的是10~70重量百分比,進一步好的是10~60重量百分比,尤其好的是10~50重量百分比。當具有內酯環構造之(甲基)丙烯酸系樹脂之構造中之通式(化1)表示之內酯環構造的含有比例小於5重量百分比時,耐熱性、耐溶劑性、表面硬度有可能不充分。當具有內酯環構造之(甲基)丙烯酸系樹脂之構造中之通式(化1)表示之內酯環構造的含有比例大於90重量百分比時,有可能於成形加工性方面缺乏。
具有內酯環構造之(甲基)丙烯酸系樹脂之質量平均分子量,較好的是1000~2000000,更好的是5000~1000000,進一步好的是1000~500000,尤其好的是50000~500000。當質量平均分子量偏離上述範圍時,自成形加工性方面考慮欠佳。
具有內酯環構造之(甲基)丙烯酸系樹脂,Tg較好的是115℃以上,更好的是120℃以上,進一步好的是125℃以上,尤其好的是130℃以上。由於Tg為115℃以上,因此,例如於裝入偏光板作為透明保護膜時,成為耐久性優異之透明保護膜。上述具有內酯環構造之(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg上限值並無特別限定,自成形性等觀點考慮,較好的是170℃。
具有內酯環構造之(甲基)丙烯酸系樹脂,藉由射出成型而獲得之成形品之、根據ASTM(American Society for testing and Materials,美國材料測試學會)-D-1003之方法 測定的總透光率越高越較,較好的是85%以上,更好的是88%以上,進一步好的是90%以上。總透光率為透明性之基準,當總透光率低於85%時,透明性有可能降低。
上述透明保護膜通常使用正面相位差低於40 nm、且厚度方向相位差低於80 nm之透明保護膜。正面相位差Re用Re=(nx-ny)×d來表示。厚度方向相位差Rth用Rth=(nx-nz)×d來表示。又,Nz係數用Nz=(nx-nz)/(nx-ny)來表示。[其中,將膜之慢軸方向、快軸方向及厚度方向之折射率分別設定為nx、ny、nz,d(nm)為膜厚。慢軸方向為膜面內之折射率最大之方向]。再者,較好的是透明保護膜儘可能不著色。較好的是使用厚度方向之相位差值為-90 nm~+75 nm之透明保護膜,可藉由使用如此之相位差值(Rth)為-90 nm~+75 nm之透明保護膜,而大致消除因透明保護膜導致之偏光板著色(光學之著色)。厚度方向之相位差值(Rth)進一步好的是-80 nm~+60 nm,尤其好的是-70nm~+45 nm。
另一方面,作為上述透明保護膜,可使用具有正面相位差為40 nm以上及/或厚度方向之相位差為80 nm以上之相位差之相位差板。正面相位差通常控制為40~200 nm之範圍,厚度方向之相位差通常控制為80~300 nm之範圍。於使用相位差板作為透明保護膜時,該相位差板亦作為透明保護膜而發揮作用,因此,可實現薄型化。
作為相位差板,可列舉將高分子材料進行單軸或雙軸延伸處理而成之雙折射性膜、液晶聚合物之配向膜、用膜支 持液晶聚合物之配向層者等。相位差板之厚度亦無特別限定,通常為20~150 μm左右。
高分子材料可列舉例如:聚乙烯醇、聚乙烯縮丁醛、聚甲基乙烯基醚、聚羥乙基丙烯酸酯、羥乙基纖維素、羥丙基纖維素、甲基纖維素、聚碳酸酯、聚芳酯、聚碸、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚醚碸、聚苯硫醚、聚苯醚、聚芳碸、聚醯胺、聚醯亞胺、聚烯烴、聚氯乙烯、纖維素樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降冰片烯系樹脂)或該等之二元系、三元系各種共聚物、接枝共聚物、摻合物等。該等高分子材料通過延伸等成為配向物(延伸膜)。
作為液晶聚合物,可列舉例如賦予液晶配向性之共軛性之直線狀原子團(液晶原)導入至聚合物之主鏈或側鏈而成之主鏈型或側鏈型之各種液晶聚合物等。主鏈型液晶聚合物之具體例可列舉:於賦予彎曲性之間隔部鍵合有液晶原基之構造之、例如向列配向型聚酯系液晶性聚合物、圓盤型聚合物或膽固醇型聚合物等。側鏈型液晶聚合物之具體例,可列舉以聚矽氧烷、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯或聚丙二酸酯為主鏈骨架,作為側鏈係隔著由共軛性原子團所形成之間隔部而具有賦予向列配向性之對位取代環狀化合物單元所形成之液晶原之聚合物等。該等液晶聚合物例如藉由如下方法而進行:將於玻璃板上形成之聚醯亞胺或聚乙烯醇等薄膜表面進行摩擦處理過之膜、及斜向蒸鍍有氧化矽之膜等之配向處理面上展開液晶性聚合物之溶液並進行熱處理。
相位差板可係根據例如以補償因各種波長板或液晶層之雙折射導致之著色或視角等之使用目的而具有適當相位差者,亦可係積層2種以上之相位差板而控制相位差等光學特性者等。
相位差板可根據各種用途而選擇使用滿足nx=ny>nz、nx>ny>nz、nx>ny=nz、nx>nz>ny、nz=nx>ny、nz>nx>ny、nz>nx=ny之關係者。再者,ny=nz不僅包含ny與nz完全相同之情形,而且亦包含ny與nz實質上相同之情形。
例如,於滿足nx>ny>nz之相位差板中,較好的是使用正面相位差滿足40~100 nm,厚度方向相位差滿足100~320 nm,Nz係數滿足1.8~4.5者。例如,於滿足nx>ny=nz之相位差板(正A板)中,較好的是使用正面相位差滿足100~200 nm之相位差板。例如,於滿足nz=nx>ny之相位差板(負A板)中,較好的是使用正面相位差滿足100~200 nm之相位差板。例如,於滿足nx>nz>ny之相位差板中,較好的是使用正面相位差滿足150~300 nm、Nz係數滿足大於0至0.7之相位差板。又,如上所述,可使用例如滿足nx=ny>nz、nz>nx>ny或nz>nx=ny者。
透明保護膜可根據適用之液晶顯示裝置而加以適當選擇。例如於VA(Vertieal Alignment(垂直配向),包含MVA(Multi-domain Vertical Alignment,多域垂直配向)、PVA(Patterned vertical Alignment,圖像垂直調整))之情形時,較好的是偏光板之至少一側(單元側)之透明保護膜具有相位差。作為具體之相位差,較好的是Re=0~240 nm、 Rth=0~500 nm之範圍。若以三維折射率來說明,則較好的是nx>ny=nz、nx>ny>nz、nx>nz>ny、nx=ny>nz(單軸、雙軸、負C板)之情形。於液晶單元之上下使用偏光板時,可於液晶單元之上下均具有相位差或上下任一者之透明保護膜具有相位差。
例如IPS(In-Plane Switching(共平面切換型),包含FFS(Fringe Field Switching,邊緣場開關))之情形時,偏光板一側之透明膜可具有相位差,亦可不具有相位差。例如於不具有相位差之情形時,較好的是於液晶單元之上下均不具有相位差之情形。於具有相位差時,較好的是於液晶單元之上下均具有相位差之情形,及上下任一側具有相位差之情形(例如,於上側Z化、於下側無相位差之情形或於上側為A板、於下側為正C板之情形)。具有相位差之情形下,較好的是Re=-500~500 nm、Rth=-500~500 nm之範圍。若以三維折射率進行說明,則較好的是nx>ny=nz、nx>nz>ny、nz>nx=ny、nz>nx>ny(單軸、Z化、正C板、正A板)。
再者,上述具有相位差之膜可另行黏合於不具有相位差之透明保護膜上而賦予上述功能。
上述偏光片、透明保護膜可於塗佈上述接著劑前實施表面改質處理。作為具體之處理可列舉電暈處理、電漿處理、底層處理、皂化處理、偶合劑處理等。
亦可對上述透明保護膜之未接著有偏光片之表面實施硬塗層、抗反射處理、或以防黏、不擴散或防眩為目的之處 理。
硬塗處理係為了防止偏光板之表面受到損傷等而實施之處理,例如可藉由將丙烯酸系、矽酮系等適當紫外線硬化型樹脂所形成之硬度或滑動特性等優異之硬化皮膜附加於透明保護膜表面之方式等而形成硬塗層。抗反射處理係為了防止偏光板表面反射外部光線而實施之處理,可藉由根據先前之抗反射膜等之形成而實現。又,防黏處理係為了防止與相鄰層(例如背光源側之擴散板)之密接而實施。
又,實施防眩處理之目的在於防止外部光線於偏光板表面反射而干擾偏光板透射光之可見性等,例如,可藉由採用噴砂方式或壓印加工方式之粗表面化方式以及調配透明微粒之方式等適當方式,對透明保護膜表面賦予微細凹凸構造而形成。作為於上述表面微細凹凸構造之形成中所含有之微粒,例如,可使用平均粒徑為0.5~20 μm之含有氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯、氧化錫、氧化銦、氧化鎘、氧化銻等之亦具有導電性的無機系微粒、含有交聯或者未交聯之聚合物等之有機系微粒等透明微粒。當形成表面微細凹凸構造時,微粒之使用量,相對於形成表面微細凹凸構造之透明樹脂100重量份,通常為2~70重量份左右,較好的是5~50重量份。防眩層亦可兼有將偏光板透射光加以擴散而擴大視角等之擴散層(視角擴大功能等)。
再者,上述抗反射層、防黏層、擴散層或防眩層等,可設置於透明保護膜本身上,此外亦可作為光學層而另行設置於與透明保護膜不同之膜上。
本發明之偏光板係藉由使用上述接著劑黏合透明保護膜與偏光片而製造成者。該製造方法包含:將上述接著劑塗佈於偏光片之形成有上述接著劑層之表面及/或透明保護膜之形成有上述接著劑層之表面上之步驟;使偏光片與透明保護膜經由上述偏光板用接著劑黏合於一起之步驟;及對經由上述偏光板用接著劑黏合於一起之偏光片與透明保護膜,照射活性能量線(電子射線、紫外線等)而形成接著劑層之步驟。
接著劑之塗佈方式,可根據接著劑之黏度或目標厚度而加以適當選擇。塗佈方式之示例可列舉:反向塗佈機、凹版塗佈機(定向、反向或平版)、刮棒式反向塗佈機、輥塗機、模塗佈機、刮棒塗佈機、棒式塗佈機等。此外,於塗佈時,可適當地使用浸塗方式等方式。
經由以上述方式塗佈之接著劑,黏合偏光片與透明保護膜。偏光片與透明保護膜之黏合可藉由輥貼合機等而進行。
於黏合偏光片與透明保護膜後,照射活性能量線(電子射線、紫外線等),使接著劑硬化。活性能量線(電子射線、紫外線等)之照射方向可自任意適合之方向進行照射。較好的是自透明保護膜側進行照射。當自偏光片側進行照射時,偏光片有可能會因活性能量線(電子射線、紫外線等)而劣化。
活性能量線硬化型接著劑,較好的是作為電子射線硬化型接著劑使用。電子射線之照射條件,只要係可使上述接 著劑硬化之條件,可採用任意適當之條件。例如,電子射線照射時,加速電壓較好的是5 kV~300 kV,進一步好的是10 kV~250 kV。當加速電壓低於5 kV時,電子射線有可能無法到達接著劑而導致硬化不足,當加速電壓超過300 kV時,通過試料之浸透力過強,電子射線產生反射,有可能對透明保護膜或偏光片帶來損傷。作為照射線量,為5~100 kGy,進一步好的是10~75 kGy。當照射線量低於5 kGy時,接著劑硬化不足,當超過100 kGy時,對透明保護膜或偏光片帶來損傷,產生機械強度降低或變黃,無法獲得特定之光學特性。
於藉由紫外線照射而進行硬化時,相對於硬化性成分100重量份,調配聚合起始劑0.1~5重量份,較好的是1~4重量份,進一步好的是2~3重量份。紫外線之照射條件,只要係可硬化上述接著劑之條件,則可採用任意適當之條件。紫外線之照射量,較好的是100~500 mJ,進一步好的是200~400 mJ。
以上述方式獲得之本發明之偏光板中之接著劑層厚度為0.01~7 μm。較好的是0.01~5 μm,更好的是0.01~2 μm,進一步好的是0.01~1 μm。當上述厚度小於0.01 μm時,有可能無法獲得接著力本身之凝聚力,從而無法獲得接著強度。當接著劑層之厚度超過7 μm時,偏光板無法滿足耐久性。
又,接著劑層之凝膠分率為50重量百分比以上,於滿足耐久性方面較佳。凝膠分率較好的是60重量百分比以上, 進一步好的是70重量百分比以上。再者,凝膠分率係藉由實施例中記載之方法而測定。
電子射線照射通常於惰性氣體中進行照射,但必要時,亦可於大氣中或導入有少量氧之條件下進行。雖取決於透明保護膜之材料,但可藉由導入少量氧而於電子射線最初照射之透明保護膜面上產生氧抑制作用,防止對透明保護膜帶來損傷,可僅對接著劑有效地照射電子射線。
於連續生產線進行上述製造方法時,線速度雖取決於接著劑之硬化時間,但較好的是1~500 m/min,更好的是5~300 m/min,進一步好的是10~100 m/min。當線速度過小時,缺乏生產性,或對透明保護膜帶來之損傷過大,無法製作能承受耐久性試驗之偏光板。當線速度過大時,接著劑之硬化不充分,有時無法獲得目標接著性。
本發明之偏光板於實際使用時可作為與其它光學層積層之光學膜使用。對該光學層並無特別限定,可使用1層或2層以上之例如反射板或半透射板、相位差板(包括1/2或1/4等波長板)、視角補償膜等於液晶顯示裝置等之形成中有時所使用之光學層。尤其好之偏光板係於本發明之偏光板上進而積層反射板或半透射反射板而成之反射型偏光板或半透射型偏光板;於偏光板上進而積層相位差板而成之橢圓偏光板或圓偏光板;於偏光板上進而積層視角補償膜而成之寬視角偏光板;或者於偏光板上進而積層亮度提高膜而成之偏光板。
反射型偏光板係於偏光板上設置有反射層而成者,可用 於形成反射來自目視確認側(顯示側)之入射光而進行顯示之類型之液晶顯示裝置等,且可省略內置背光源等光源,因此具有易於使液晶顯示裝置薄型化等優點。形成反射型偏光板時,可藉由視需要而經由透明保護層等於偏光板之一表面上附設由金屬等形成之反射層之方式等適當方式而進行。
作為反射型偏光板之具體例,可舉例視需要於經消光處理之透明保護膜之一表面上,附設由鋁等反射性金屬形成之箔或蒸鍍膜而形成反射層者等。又,亦可舉例設使上述透明保護膜含有微粒而形成表面微細凹凸構造,並於其上具有微細凹凸構造之反射層者等。上述微細凹凸構造之反射層藉由漫反射而使入射光擴散,由此具有防止指向性或外觀發亮,從而可抑制明暗不均之優點等。又,含有微粒之透明保護膜亦具有當入射光及該入射光之反射光透過其時產生擴散而進一步抑制明暗不均之優點等。反映透明保護膜之表面微細凹凸構造之微細凹凸構造之反射層之形成,例如可藉由用真空蒸鍍方式、離子電鍍方式、濺鍍方式等蒸鍍方式或電鍍方式等適當方式直接於透明保護層之表面上附設金屬之方法等而進行。
亦可代替將反射板直接附設於上述偏光板之透明保護膜上之方法,而作為於以該透明膜為基準之適當膜上設置反射層而形成之反射片等加以使用。再者,由於反射層通常由金屬形成,因此自防止由於氧化而導致反射率下降,進而長期保持初始反射率之觀點或避免另設保護層之觀點等 考慮,較好的是用透明保護膜或偏光板等覆蓋其反射面之狀態之使用形態。
再者,於上述中,半透射型偏光板可藉由作成於反射層反射光線且使光線透過之半鏡面等半透射型反射層而獲得。半透射型偏光板通常設置於液晶單元之背面側,可形成如下類型之液晶顯示裝置等,即,於比較明亮之環境中使用液晶顯示裝置等時,反射來自於目視確認側(顯示側)之入射光而顯示圖像,且於比較暗之環境中,使用內置於半透射型偏光板之背面側之背光源等內置光源而顯示圖像。即,半透射型偏光板可有效地形成如下類型之液晶顯示裝置等,即,於明亮之環境下可節約背光源等光源使用之能量,而於比較暗之環境下亦可使用內置光源。
對偏光板上進而積層相位差板而成之橢圓偏光板或圓偏光板進行說明。於將直線偏光改變為橢圓偏光或圓偏光,或者將橢圓偏光或圓偏光改變為直線偏光,或者改變直線偏光之偏光方向之情形時,使用相位差板等。尤其,作為將直線偏光改變為圓偏光或將圓偏光改變為直線偏光之相位差板,可使用所謂之1/4波長板(亦稱為λ/4板)。1/2波長板(亦稱為λ/2板)通常用於改變直線偏光之偏光方向之情形。
橢圓偏光板可有效地用於補償(防止)因超扭轉向列(STN,Super Twisted Nematic)型液晶顯示裝置之液晶層之雙折射而產生之著色(藍或黃),從而進行無上述著色之白黑顯示之情形等。進而,控制三維折射率時亦可補償(防 止)自斜向觀察液晶顯示裝置之畫面時產生之著色,故較佳。圓偏光板可有效地用於例如對彩色顯示圖像之反射型液晶顯示裝置之圖像之色調進行調整之情形等,又亦具有防止反射之功能。作為上述相位差板之具體例,可舉出對由聚碳酸酯、聚乙烯醇、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯或其它聚烯烴、聚芳酯、聚醯胺等適當聚合物形成之膜進行延伸處理而形成之雙折射性膜、液晶聚合物之配向膜、用膜支撐液晶聚合物之配向層者等。相位差板可為具有與用以補償因例如各種波長板或液晶層之雙折射而導致之著色或視角等使用目地所相應之適當相位差者,亦可為積層有2種以上之相位差板而控制了相位差等光學特性者等。
又,上述橢圓偏光板或反射型橢圓偏光板係以適當組合來積層偏光板或反射型偏光板與相位差板而成者。如此橢圓偏光板等亦可以(反射型)偏光板與相位差板之組合之方式,藉由於液晶顯示裝置之製造過程中依序分別積層(反射型)偏光板及相位差板而形成,如上所述,預先形成為橢圓偏光板等光學膜者,因質量之穩定性或積層操作性等方面優異,故具有可提高液晶顯示裝置等之製造效率之優點。
視角補償膜係於自不垂直於畫面之略傾斜方向觀察液晶顯示裝置之畫面之情形時,亦使圖像看起來比較清晰之、用於擴大視角之膜。作為此種視角補償相位差板,例如由相位差膜、液晶聚合物等之配向膜或於透明基材上支撐有 液晶聚合物等配向層者等形成。通常之相位差板使用沿其面方向實施單軸延伸之具有雙折射之聚合物膜,與此相對,用作視角補償膜之相位差板,使用沿其面方向實施雙軸延伸之具有雙折射之聚合物膜、沿其面方向實施單軸延伸且亦沿其厚度方向實施延伸之厚度方向折射率受到控制之具有雙折射的聚合物或傾斜配向膜般之雙軸延伸膜等。作為傾斜配向膜,可舉出例如於聚合物膜上接著熱收縮膜且於因加熱而產生之其收縮力之作用下,對聚合物膜進行延伸處理或/及收縮處理者、或使液晶聚合物傾斜配向而成者等。作為相位差板之原材料聚合物,可使用與上述相位差板中說明之聚合物相同之聚合物,可使用以防止基於液晶單元導致產生之相位差而形成之可視角變化所帶來之著色等或、擴大良目測的視角等為目的之適當聚合物。
又,自實現良目測之寬視角之觀點等考慮,可較佳地使用以三乙醯纖維素膜支撐由液晶聚合物之配向層、尤其圓盤型液晶聚合物之傾斜配向層形成之光學各向異性層的光學補償相位差板。
將偏光板與亮度提高膜黏合於一起而成之偏光板通常設置於液晶單元之背面側。亮度提高膜係顯示如下特性之膜,即,當藉由液晶顯示裝置等之背光源或來自背面側之反射等而入射有自然光時,反射特定偏光軸之直線偏光或特定方向之圓偏光,而使其它光透射過,因此將亮度提高膜與偏光板加以積層而成之偏光板,使來自背光源等光源之光入射而獲得特定偏光狀態之透射光,且上述特定偏光 狀態以外之光無法透射而被反射。使該亮度提高膜面上反射之光經由設於其後側之反射層等而反轉並再次入射至亮度提高膜上,使其一部分或全部作為特定偏光狀態之光透射過而增加透射過亮度提高膜之光,且供給偏光片難以吸收之偏光而增大可用於液晶顯示圖像顯示等之光量,藉此可提高亮度。即,於不使用亮度提高膜而用背光源等自液晶單元之背面側透射過偏光片而使光入射之情形時,具有與偏光片之偏光軸不一致之偏光方向之光基本上被偏光片所吸收,因而無法透射過偏光片。即,雖然會因所使用之偏光片之特性而不同,但大約50%之光會被偏光片吸收掉,因此用於液晶圖像顯示等中之光量將相應地減少,導致圖像變暗。由於亮度提高膜反覆進行如下操作,即,使具有偏光片可吸收之偏光方向之光不入射至偏光片而是由亮度提高膜暫時反射,進而經由設於其後側之反射層等進行反轉後再次入射至亮度提高膜上,如此亮度提高膜僅使於此兩者間反射並反轉之光之偏光方向成為可通過偏光片之偏光方向的偏光透射過並供給至偏光片,因此可將背光源等之光有效地使用於液晶顯示裝置之圖像顯示中,從而可提高畫面亮度。
亦可於亮度提高膜與上述反射層等之間設置擴散板。由亮度提高膜反射之偏光狀態之光朝向上述反射層等,但所設置之擴散板使通過之光均勻地擴散,同時消除偏光狀態而成為非偏光狀態。即,擴散板使偏光恢復至原來之自然光狀態。反覆進行如下之動作,即,該非偏光狀態即自然 光狀態之光射向反射層等,經過反射層等反射後,再次通過擴散板而再次入射至亮度提高膜上。如此藉由於亮度提高膜與上述反射層等之間設置使偏光恢復至原來自然光狀態之擴散板,而可維持顯示畫面之亮度,同時減少顯示畫面之亮度不均,從而可提供均勻且明亮之畫面。藉由設置該擴散板,而適當增加初次入射光之重複反射次數,配合於擴散板之擴散功能,可提供均勻之明亮之顯示畫面。
作為上述亮度提高膜,例如可使用如介電質之多層膜或折射率各向異性不同之膜的多層積層體般,顯示出使特定偏光軸之直線偏光透射過而反射其它光之特性之膜;如膽固醇型液晶聚合物之配向膜或於膜基材上支撐該配向液晶層之膜般,顯示出將左旋或右旋中之任一種圓偏光反射而使其它光透射過之特性之膜等適宜膜。
因此,使上述特定偏光軸之直線偏光透射過之類型之亮度提高膜中,可藉由使該透射光直接偏光軸一致地入射至偏光板上,而抑制因偏光板導致之吸收損耗,且使光有效地透射過。另一方面,如膽固醇型液晶層般使圓偏光透射過之類型之亮度提高膜中,雖亦可使圓偏光直接入射至偏光片,但自抑制吸收損耗之方面考慮,較好的是經由相位差板使該圓偏光直線偏光化後再入射至偏光板。再者,可藉由使用1/4波長板作為該相位差板,而將圓偏光轉換為直線偏光。
於可見光域等較寬波長範圍內作為1/4波長板而發揮作用之相位差板,例如可藉由以下方式而獲得,即,將相對 於波長550 nm之淺色光而作為1/4波長板發揮作用之相位差層,與顯示其它相位差特性之相位差層例如作為1/2波長板發揮作用之相位差層進行重疊之方式等。因此,配置於偏光板與亮度提高膜之間之相位差板可由1層或2層以上之相位差層形成。
再者,就膽固醇型液晶層而言,亦可組合不同反射波長之材料,形成重疊有2層或3層以上之配置構造,藉此獲得於可見光域等較寬波長範圍內反射圓偏光者,基於此可獲得較寬波長範圍之透射圓偏光。
又,偏光板如上述之偏光分脫模偏光板般,可由積層有偏光板與2層或3層以上之光學層者形成。因此,亦可係組合有上述反射型偏光板或半透射型偏光板與相位差板而成之反射型橢圓偏光板或半透射型橢圓偏光板等。
於偏光板上積層有上述光學層之光學膜,可利用於液晶顯示裝置等之製造過程中依序獨立積層之方式形成,但預先經積層而成為光學膜者於質量穩定性或組裝作業等方面優異,因此具有可提高液晶顯示裝置等之製造步驟之優點。於積層中可使用黏著層等適當之接著機構。於接著上述偏光板或其它光學膜時,該等之光學軸可根據目標相位差特性等而採用適當之配置角度。
亦可於上述偏光板或至少積層有1層偏光板之光學膜上,設置用於與液晶單元等其它構件接著之黏著層。對形成黏著層之黏著劑並無特別限制,可適當選擇使用例如將丙烯酸系聚合物、矽酮系聚合物、聚酯、聚胺酯、聚醯 胺、聚醚、氟系或橡膠系等聚合物作為基礎聚合物之黏著劑。尤其可較佳地使用如丙烯酸系黏著劑般光學透明性優異、顯示出適度之潤濕性與凝聚性以及接著性之黏著特性,且於耐候性或耐熱性等方面優異之黏著劑。
又,除了上述之外,自防止因吸濕導致出現之發泡現象或剝離現象,因熱膨脹差等導致之光學特性下降或液晶單元翹曲,進而以高品質形成耐久性優異之液晶顯示裝置等觀點考慮,較好的是吸濕率低且耐熱性優異之黏著層。
黏著層中可含有例如天然或合成樹脂類、尤其由增黏性樹脂或玻璃纖維、玻璃珠粒、金屬粉及其它無機粉末等形成之填充劑、顏料、著色劑、抗氧化劑等添加於黏著層中之添加劑。又亦可係含有微粒並顯示光擴散性之黏著層等。
於偏光板、光學膜之一表面或兩表面上附設黏著層時可利用適當之方式進行。作為其例,例如可舉出以下方式,即製備於由甲苯或乙酸乙酯等適當溶劑之單獨物或混合物形成之溶劑中溶解或分散基礎聚合物或其組成物而成之約10~40重量百分比左右之黏著劑溶液,然後用流延方式或塗佈方式等適當展開方式直接將其附設於偏光板上或光學膜上之方式;或者基於上述於間隔件上形成黏著層後將其移送並黏貼於偏光板上或光學膜上之方式等。
黏著層亦可作為不同組成或種類等層之重疊層而設置於偏光板或光學膜之一表面或兩表面上。又,當設置於兩表面上時,亦可於偏光板或光學膜之表背面形成不同組成或 種類或厚度等之黏著層。黏著層之厚度可根據使用目的或接著力等而適當確定,一般為1~40 μm,較好的是5~30 μm,尤其好的是10~25 μm。當其厚度小於1 μm時,耐久性變差,又,當其厚度大於40 μm時,容易產生因發泡等導致之浮動或剝離,外觀變得不良。
對於黏著層之露出面,於供於使用前為了防止其污染等,可臨時黏貼間隔件覆蓋。藉此可防止於通常之操作狀態下與黏著層接觸之現象。作為間隔件,於滿足上述厚度條件之基礎上,可視需要而使用例如由矽酮系或長鏈烷基系、氟系或硫化鉬等適當剝離劑對塑料膜、橡膠片、紙、布、無紡布、網狀物、發泡片材或金屬箔、該等之積層體等適當薄片體進行塗佈處理者等先前常用之適當間隔件。
為了提高偏光板與黏著劑層間之密接性,亦可於其層間設置固定層。
上述固定層之形成材料較好的是使用選自聚胺酯、聚酯、分子中含有胺基之聚合物類中之固定劑,尤其好的是分子中含有胺基之聚合物類。分子中含有胺基之聚合物類,由於分子中之胺基顯示出與黏著劑中之羧基等進行反應或離子性相互作用等相互作用,故可確保良好之密接‘性。
作為分子中含有胺基之聚合物類可列舉例如:聚乙烯亞胺、聚芳胺、聚乙烯胺、聚乙烯吡啶、聚乙烯吡咯烷、二甲胺基乙基丙烯酸酯等含胺基單體之聚合物等。
於上述固定層中,為了賦予抗靜電性,亦可添加抗靜電 劑。用於賦予抗靜電性之抗靜電劑可列舉:離子性表面活性劑系;聚苯胺、聚噻吩、聚吡咯、聚喹噁啉等導電性聚合物系;氧化錫、氧化銻、氧化銦等金屬氧化物系等,自光學特性、外觀、抗靜電效果及抗靜電效果之於加熱、加濕時之穩定性之觀點考慮,尤其好的是使用導電性聚合物系。其中,尤其好的是使用聚苯胺、聚噻吩等水溶性導電性聚合物或水分散性導電性聚合物。使用水溶性導電性聚合物或水分散性導電性聚合物作為抗靜電層之形成材料之情形時,於塗佈時可抑制由有機溶劑導致化學膜基材變質。
再者,於本發明中,亦可於形成上述偏光板之偏光片、透明保護膜、光學膜等又黏著層等各層上,利用例如用水楊酸酯系化合物或苯并苯酚系化合物、苯并三唑系化合物或氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯鹽化合物系化合物等藉由以紫外線吸收劑進行處理之方式等方式而具有紫外線吸收能力者等。
本發明之偏光板或光學膜能夠,較好的是用於液晶顯示裝置等各種裝置之形成等。液晶顯示裝置可根據先前之方法形成。即,一般而言,液晶顯示裝置可藉由適當地組裝液晶單元與偏光板或光學膜,以及根據需要而加入之照明系統等構成零件並裝入驅動電路等而形成,於本發明中,除了使用本發明之偏光板或光學膜之外,並無特別限定,可依據先前之方法形成。對於液晶單元而言,亦可使用例如TN(Twisted Nematic,扭轉向列)型或STN型、π型、VA 型、IPS型等任意類型之液晶單元。
可藉由本發明而形成於液晶單元之一側或兩側配置有偏光板或光學膜之液晶顯示裝置,或於照明系統中使用有背光源或反射板之裝置等適當之液晶顯示裝置。此時,本發明之偏光板或光學膜可設置於液晶單元之一側或兩側上。當將偏光板或光學膜設置於兩側時,該等既可係相同之材料,亦可係不同之材料。又,於形成液晶顯示裝置時,可於適當位置上配置1層或2層以上之例如擴散板、防眩層、防反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列薄片、光擴散板、背光源等適當零件。
繼而,對有機電致發光裝置(有機EL顯示裝置)進行說明。一般而言,於有機EL顯示裝置中,於透明基板上依序積層透明電極、有機發光層以及金屬電極而形成發光體(有機電致發光體)。此處,有機發光層係各種有機膜之積層體,已知構成有例如由三苯基胺衍生物等形成之電洞注入層與由蒽等螢光性有機固體形成之發光層之積層體,或者如此發光層與由二萘嵌苯衍生物等形成之電子注入層之積層體,或者該等電洞注入層、發光層及電子注入層之積層體等各種組合。
有機EL顯示裝置係以如下原理進行發光,即,藉由對透明電極與金屬電極施加電壓,而將電洞與電子注入至有機發光層中,藉由該等電洞與電子之再結合而產生之能量激發螢光物質,於受到激發之螢光物質回到基態時放射出光。中間之再結合機制與普通之二極體相同,由此亦可推 測出,電流與發光強度相對於施加電壓而顯示出伴隨整流性之較強之非線性。
於有機EL顯示裝置中,為了取出有機發光層中產生之光,至少一側之電極必須係透明,通常將由氧化銦錫(ITO)等透明導電體制成之透明電極作為陽極使用。另一方面,為了容易進行電子之注入而提高發光效率,十分重要的是,於陰極中使用功函數較小之物質,通常使用Mg-Ag、Al-Li等金屬電極。
於具有如此構成之有機EL顯示裝置中,有機發光層由厚度為10 nm左右之極薄之膜構成。因此,有機發光層亦與透明電極相同,使光基本上完全透射過。其結果,於不發光時自透明基板之表面入射並透射過透明電極與有機發光層後經金屬電極反射之光會再次向透明基板之表面側射出,因此,當自外部進行目測時,有機EL裝置之顯示面如同鏡面。
包含有機電致發光體之有機EL顯示裝置中,該有機電致發光體於藉由施加電壓而發光之有機發光層之表面側具有透明電極,且於有機發光層之背面側具有金屬電極,於透明電極之表面側設有偏光板,同時,於該等透明電極與偏光板之間設有相位差板。
相位差板及偏光板具有使自外部入射並經金屬電極反射之光成為偏光之作用,因此藉由該偏光作用而具有自外部無法目測到金屬電極之鏡面之效果。尤其,若以1/4波長板構成相位差板,且將偏光板與相位差板之偏光方向所成 之角調整為π/4,則可完全遮蔽金屬電極之鏡面。
即,入射至該有機EL顯示裝置之外部光因偏光板而僅透射過直線偏光成分。該直線偏光通常會藉由相位差板而轉換成橢圓偏光,而尤其當相位差板為1/4波長板且偏光板與相位差板之偏光方向所成之角為π/4時,會成為圓偏光。
該圓偏光透射過透明基板、透明電極、有機膜,且經金屬電極上反射後,再次透射過有機膜、透明電極、透明基板,藉由相位差板而再次轉換成直線偏光。由於該直線偏光與偏光板之偏光方向成直交,因此無法透射過偏光板。其結果,可將金屬電極之鏡面完全地遮蔽。
[實施例]
以下記載本發明之實施例,但本發明之實施方式並不限定於該等。
<Tg:玻璃轉移溫度> 使用玻璃轉移溫度示差掃描熱量計(DSC,Differential scanning calorimetry),以10℃/分鐘之升溫速度進行測定。樣品係將5 mg試料放入鋁壓蓋型容器中,卷曲而使用。
<凝膠分率> 使用敷料器,將各例中使用之接著劑塗佈於脫模膜上,於其上黏合其它脫模膜後,於與各例相同之條件下照射電子射線,使接著劑硬化而形成接著劑層。自獲得之接著劑層之兩側剝離脫模膜,自接著劑層取出約200 mg,對其進 行稱量而求出重量(W1)。繼而,將其包於微孔性四氟乙烯膜(膜重量:W2)併用繩綁住,於約50 ml之甲苯中浸漬4天後,萃取可溶成分。將其於恆溫箱中以110℃乾燥1小時後,測定總體之重量(W3)。由該等測定值,且根據下述式而求出黏著劑層之凝膠分率(重量百分比)。
凝膠分率(重量百分比)=((W3-W2)/W1)×100
(偏光片) 將平均聚合度2400、皂化度99 mol%、厚度75 μm之聚乙烯醇膜於30℃之溫水中浸漬60秒,使其膨潤。繼而,一面於0.3重量百分比(重量比:碘/碘化鉀=0.5/8)之30℃之碘溶液中染色1分鐘,一面延伸至3.5倍。其後,一面於65℃之4重量百分比之硼酸酯水溶液中浸漬0.5分鐘,一面使總延伸倍率延伸至6倍。延伸後於70℃之恆溫箱中乾燥30分鐘,獲得厚度為26 μm之偏光片。偏光片之含水率為13.5重量百分比。
(透明保護膜) 使用內酯化聚甲基丙烯酸甲酯膜(LMMA,內酯化率20%,厚度30 μm,Re=0 nm,Rth=0 nm)。
(相位差值) 相位差值之測定係使用以平行偏光鏡旋轉法為原理之相位差計[王子測量機器(股份)製,製品名「KOBRA21-ADH」],根據於波長值為590 nm時進行測定之nx、ny、nz之值與膜厚(d)求出正面相位差Re、厚度方向相位差Rth、Nz。[其中,將膜之慢軸方向、快軸方向及厚度方向 之折射率分別設定為nx、ny、nz,d(nm)為膜之厚度。慢軸方向為膜面內之折射率最大之方向。]。
實施例1
(接著劑:硬化性成分) 作為接著劑,使用N-丙烯醯基嗎啉。
(偏光板之製作) 於上述透明保護膜之一側,使用微凹版塗佈機(凹版輥:#180,轉速140%/線速),以厚度為5 μm之方式塗佈上述接著劑,形成附接著劑之透明保護膜。繼而,於上述偏光片之兩表面使用滾筒機黏合上述附接著劑透明保護膜。自黏合之附接著劑透明保護膜側(兩側)照射電子射線,獲得於偏光片之兩側具有透明保護膜之偏光板。線速度為20 m/min,加速電壓為250 kV,照射線量為20 kGy。Tg為140℃,凝膠分率為72重量百分比。
實施例2~21、比較例1~11
於實施例1中,除硬化性成分之種類、併用時其比例、接著劑層之厚度以表1所示之方式進行改變之外,與實施例1同樣地獲得偏光板。再者,於比較例4~6中,相對於硬化性成分100重量份,添加使用聚合起始劑3重量份。又,凹版輥根據接著劑層之厚度,於0.1 μm、0.3 μm及0.5 μm變化為鏡面,於0.8 μm及1 μm變化為#300,於2 μm變化為#280,於3 μm變化為#250,於4 μm及4.2 μm變化為#220,於5 μm及6 μm變化為#180,於10 μm變化為#120。將各例之接著劑層之Tg、凝膠分率一併表示於表1中。
[評價] 對由實施例及比較例獲得之偏光板進行下述評價。將結果示於表1中
<耐久性> 將獲得之偏光板裁斷成對角15英吋之尺寸,利用丙烯酸系黏著劑於正交偏光鏡之方向黏合於0.5 mm厚之無鹼玻璃之兩表面上,製作樣品。將該樣品投入下述條件下。
條件(1):將-40~85℃之熱衝擊各進行30分鐘×200次 條件(2):將-30~70℃之熱衝擊各進行30分鐘×200次
用下述標準評價上述各條件中之經時之偏光板之狀態。
◎:不產生裂縫。
○:僅於端部產生5 mm以下之短裂縫。
△:於端部以外之場所產生短線狀裂縫。然而,並未因該線而使偏光板分離為2個以上之部分。
×:於端部以外之場所產生裂縫。因該線而使偏光分離為2個以上之部分。
<剝離強度> 將獲得之偏光板裁斷成15 mm×15 mm之尺寸,做成樣品。利用雙面膠帶(日東電工(股份)製,No.500),將樣品黏合於玻璃板上。於樣品(偏光板)上,於透明保護膜與偏光片之間預先設置分界,將該分界卡於變角度剝離試驗機(Asahiseiko公司製造)上,測定剝離強度(N/15 mm)。測定條件設定為:常溫(23℃),剝離角:90度,剝離速度:3000 mm/min。將獲得之測定數據中之50 mm~100 mm間之 數據進行平均化而得之值示於表1。
表1中,ACMO:N-丙烯醯基嗎啉,DA-141:2-羥基-3-苯氧基丙基丙烯酸酯(Nagase chemteX股份公司製造,DA-141),HEAA:N-羥乙基丙烯醯胺,N-MAN:N-羥甲基丙烯醯胺,NIPAM:N-異丙基丙烯醯胺,EB:電子射線,UV:紫外線。

Claims (9)

  1. 一種偏光板,其特徵在於其於偏光片之至少一個表面上經由接著劑層設有透明保護膜,接著劑層由含有作為硬化性成分之含有N-羥乙基丙烯醯胺及N-丙烯醯基嗎啉之N-取代醯胺系單體之活性能量線硬化型接著劑形成,接著劑層之Tg為60℃以上,且,接著劑層之厚度為0.01~7μm。
  2. 如請求項1之偏光板,其中於將接著劑層之Tg(℃)定義為A、將接著劑層之厚度(μm)定義為B之情形時,滿足數值計算公式(1):A-12×B>58。
  3. 如請求項1之偏光板,其中接著劑層之凝膠分率為50重量百分比以上。
  4. 如請求項1之偏光板,其中N-羥乙基丙烯醯胺相對於N-羥乙基丙烯醯胺及N-丙烯醯基嗎啉之總計量之比例為40重量百分比以上。
  5. 如請求項1之偏光板,其中作為硬化性成分,更含有具有芳香環及羥基之單官能(甲基)丙烯酸酯。
  6. 如請求項1之偏光板,其中活性能量線硬化型接著劑為電子射線硬化型接著劑。
  7. 如請求項1之偏光板,其中透明保護膜係選自纖維素樹脂、聚碳酸酯樹脂、環狀聚烯烴樹脂及(甲基)丙烯酸樹脂中之至少任一種。
  8. 一種光學膜,其特徵在於,其積層有至少1片如請求項1 之偏光板。
  9. 一種圖像顯示裝置,其特徵在於使用如請求項1之偏光板。
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