TWI436109B

TWI436109B - A polarizing plate, a method for manufacturing the same, an optical film, and an image display device

Info

Publication number: TWI436109B
Application number: TW97148806A
Authority: TW
Inventors: Masahiro Yaegashi; Tetsurou Ikeda; Yuuki Nakano; Reiko Akari; Mitsuru Suzuki; Daisuke Ogomi
Original assignee: Nitto Denko Corp
Priority date: 2008-01-17
Filing date: 2008-12-15
Publication date: 2014-05-01
Also published as: JP2009193047A; CN101487912A; CN102193133B; JP5637615B2; CN102193133A; TW200951511A

Description

偏光板、其製造方法、光學膜及圖像顯示裝置

本發明係關於一種偏光板及其製造方法。該偏光板可以其單獨或作為積層其之光學膜而形成液晶顯示裝置(LCD)、有機EL顯示裝置、陰極射線管(Cathode Ray Tube，CRT)、電漿顯示面板(Plasma Display Panel，PDP)等圖像顯示裝置。

在鐘錶、行動電話、個人數位助理(Personal Digital Assistant，PDA)、筆記型電腦、個人電腦用顯示器、數位影音光碟(Digital Video Disk，DVD)播放器、電視(Television，TV)等中，液晶顯示裝置正在市場中快速普及。液晶顯示裝置係使液晶之轉換所引起之偏光狀態可視化之裝置，根據其顯示原理，而使用偏光元件。特別是於TV等用途中，要求越來越高之亮度、對比度及越來越寬之視角，就偏光板而言，亦需要越來越高之透過率、偏振度、色再現性等。

作為偏光元件，例如具有使碘吸附於聚乙烯醇並加以延伸之結構之碘系偏光元件具有高透過率、高偏振度，故廣泛用作最普遍之偏光元件。通常偏光板係使用於偏光元件之兩面上利用將聚乙烯醇系材料溶解於水之所謂水系接著劑貼合透明保護膜而成之偏光板(專利文獻1、專利文獻2)。作為透明保護膜，係使用透濕率較高之三乙醯纖維素等。

然而，在如上所述製造偏光板時，於使用聚乙烯醇系接著劑之類之水系接著劑之情形時，在貼合偏光元件與透明保護膜之後，必需乾燥步驟。於提高偏光板之生產率方面，在偏光板之製造步驟中存在乾燥步驟並非較好。

另外，在使用水系接著劑(所謂濕式積層(wet lamination))之情形時，為了提高與接著劑之接著性，若不相對地提高偏光元件之水分率(通常偏光元件之水分率為30%左右)，則無法獲得水系接著劑之接著性良好之偏光板。然而，如此獲得之偏光板通常於高溫或高溫高濕度化下，存在尺寸變化較大等問題。另一方面，為了抑制上述尺寸變化，可降低偏光元件之水分率或者使用透濕度低之透明保護膜。然而，若使用水系接著劑貼合如此之偏光元件與透明保護膜，則乾燥步驟中之能率會下降或偏光特性會下降，或者產生外觀之不良情形，而無法獲得實際上有用之偏光板。

另外，特別是如以TV為代表，近年來，隨著圖像顯示裝置之大畫面化之發展，偏光板之大型化就生產率或成本之方面(良率、單位面積獲得數量提高)而言亦變得非常重要。然而，使用上述水系接著劑之偏光板存在所謂漏光(不均)變得顯著之問題，所謂漏光係指：由於背光源之熱而引起偏光板發生尺寸變化，其變得不均，而在畫面整體之一部分中黑顯示變白。

出於如上所述之原因，而大量提出有使用活性能量線固化型(特別是紫外線固化型)接著劑代替水系接著劑之提議。例如，作為接著劑，提出有於環氧丙烯酸酯、丙烯酸胺基甲酸酯、聚酯丙烯酸酯等丙烯酸寡聚物中將丙烯酸或甲基丙烯酸系單體作為稀釋劑之紫外線固化型接著劑(專利文獻3)。然而，使用活性能量線固化型接著劑貼合聚乙烯醇系偏光元件與透明保護膜之偏光板，在加熱條件下，可見明顯之透過率下降或變紅現象，無法滿足高溫下之耐久性。

專利文獻1：日本專利特開2006-220732號公報

專利文獻2：日本專利特開2001-296427號公報

專利文獻3：日本專利特開昭61-246719號公報

本發明之目的在於提供一種藉由活性能量線固化型接著劑貼合偏光元件與透明保護膜且高溫下之耐久性良好之偏光板及其製造方法。

另外，本發明之目的還在於提供一種積層該偏光板之光學膜，進而提供使用該偏光板、光學膜之液晶顯示裝置等圖像顯示裝置。

本發明人等為了解決上述課題而反覆進行潛心研究，結果發現，藉由以下所示之偏光板及其製造方法可實現上述目的，以至完成本發明。

即，本發明係關於一種偏光板，其特徵在於：其係於偏光元件之至少一面上經由接著劑層而設置有透明保護膜之偏光板；偏光元件係藉由二色性物質進行染色、且含有硫酸離子之經延伸處理之聚乙烯醇系膜，接著劑層係藉由含有至少一種固化性成分之活性能量線固化型接著劑而形成。

於上述偏光板中，較好的是作為偏光元件之聚乙烯醇系膜中之硫酸離子之含量為0.02~0.45重量%。

於上述偏光板中，較好的是活性能量線固化型接著劑之固化性成分為具有(甲基)丙烯醯基之化合物。

於上述偏光板中，較好的是含有由通式(1)：CH₂ =C(R¹ )-CONR² (R³ )表示之N-取代醯胺系單體作為固化性成分(R¹ 表示氫原子或甲基，R² 表示氫原子或者可具有羥基、巰基、胺基或四級銨基之碳數1~4之直鏈或支鏈烷基，R³ 表示氫原子或者碳數1~4之直鏈或支鏈烷基。其中，R² 、R³ 同時為氫原子之情況除外。另外，R² 、R³ 亦可鍵結而形成可含有氧原子之5員環或6員環)。

於上述偏光板中，較好的是活性能量線固化型接著劑為電子射線固化型接著劑。

於上述偏光板中，作為透明保護膜，可較好地使用選自纖維素樹脂、聚碳酸酯樹脂、環狀聚烯烴樹脂及(甲基)丙烯酸樹脂中之任意至少一種。

另外，本發明係關於一種偏光板之製造方法，其特徵在於：其係於偏光元件之至少一面上經由接著劑層而設置有透明保護膜之上述偏光板之製造方法，其包括如下步驟：藉由活性能量線固化型接著劑貼合偏光元件與透明保護膜之步驟，上述偏光元件係包含藉由二色性物質進行染色、且含有硫酸離子之經延伸處理之聚乙烯醇系膜者；其次，藉由活性能量線照射使上述接著劑固化而形成接著劑層之步驟。

另外，本發明係關於一種光學膜，其特徵在於：積層有至少1張上述偏光板。

進而，本發明係關於一種圖像顯示裝置，其特徵在於：使用有上述偏光板或上述光學膜。

於本發明之偏光板中，使用活性能量線固化型接著劑作為在偏光元件與透明保護膜之貼合中使用之接著劑。由於活性能量線固化型接著劑係無溶劑型之接著劑，故可無需像水系接著劑般實施乾燥步驟，而進行偏光元件與透明保護膜之貼合。另外，於活性能量線固化型接著劑中，由於係藉由活性能量線之照射而形成接著劑層，故與水系接著劑相比，可實現高速生產。

作為在上述偏光板中使用之活性能量線固化型接著劑，較好的是電子射線固化型接著劑。電子射線固化型接著劑與紫外線固化型接著劑相比，生產率好，另外，藉由在用以貼合偏光元件與透明保護膜之接著劑之固化方法中使用電子射線，而無需紫外線固化法之類之加熱步驟，可大幅度提高生產性。另外，藉由使用電子射線固化型接著劑，而與紫外線固化型接著劑相比，可提高偏光板之耐久性。

另一方面，如上所述，在製成偏光板時，當使用活性能量線固化型接著劑作為偏光元件與透明保護膜之貼合中使用之接著劑之情形時，在對該接著劑照射活性能量線而使該接著劑固化時，偏光元件及透明保護膜亦受到活性能量線照射。認為偏光板無法滿足在高溫下之耐久性之原因可能是以下情況之結果：若對偏光元件(聚乙烯醇系膜)照射活性能量線，則聚乙烯醇藉由脫水反應而聚烯化，該聚烯化配向膜用作偏光元件。因此，在本發明中，使偏光元件中含有硫酸離子。在本發明中，藉由使偏光元件(聚乙烯醇系膜)中含有硫酸離子，即使在對偏光元件照射活性能量線之情形時，亦可抑制聚乙烯醇之聚烯化，即使在加熱條件下，亦可抑制透過率下降或變紅現象，可滿足高溫下之耐久性。

另外，作為活性能量線固化型接著劑之固化性成分，於接著性方面，較好的是具有(甲基)丙烯醯基之化合物，尤其好的是上述N-取代醯胺系單體，特別適合作為電子射線固化型接著劑。例如，於使用低水分率之偏光元件之情形時，另外，於使用透濕率低之材料作為透明保護膜之情形時，電子射線固化型接著劑對該等顯示出良好之接著性，結果，可獲得尺寸穩定性良好之偏光板。

於使用上述固化性成分之情形時，可製作尺寸變化較小之偏光板，故亦可容易地應對偏光板之大型化，就良率、單位面積獲得數量之觀點而言，可抑制生產成本。另外，本發明中所獲得之偏光板之尺寸穩定性較好，故可抑制背光源之外部熱所引起的圖像顯示裝置之不均之產生。

本發明之偏光板在偏光元件之至少一面上經由接著劑層而設置有透明保護膜。

偏光元件由聚乙烯醇系樹脂形成。偏光元件可使用以二色性物質(代表性的為碘、二色性染料)對聚乙烯醇樹脂膜進行染色並進行單軸延伸而成之偏光元件。適用於本發明之偏光元件之聚乙烯醇系膜之材料可使用聚乙烯醇或其衍生物。作為聚乙烯醇之衍生物，可舉出聚乙烯醇縮甲醛、聚乙烯醇縮醛等，此外，亦可舉出用乙烯、丙烯等烯烴，丙烯酸、甲基丙烯酸、丁烯酸等不飽和羧酸及其烷基酯，丙烯醯胺等加以改性而成之化合物。構成聚乙烯醇系膜之聚乙烯醇系樹脂之聚合度為1000~10000左右，較好的是100~5000，進而較好的是1400~4000。若聚合度過低，則在進行規定之延伸時容易發生延伸斷裂，另外，若聚合度過高，則在延伸時異常地需要張力，可能無法進行機械延伸。一般使用皂化度為80~100mol%者。

亦可於上述聚乙烯醇系膜中含有塑化劑等添加劑。作為塑化劑，可舉出多元醇及其縮合物等，例如可舉出甘油、雙甘油、三酸甘油酯、乙二醇、丙二醇、聚乙二醇等。對塑化劑之使用量無特別限制，較好的是設為聚乙烯醇系膜中之20重量%以下。

構成偏光元件之聚乙烯醇系膜可利用任意之適當方法(例如對將樹脂溶解於水或有機溶劑中而成之溶液進行流延製膜之流延法、澆鑄法、擠壓法)成形。偏光元件之厚度可根據使用偏光板之LCD之目的或用途而適當設定，通常為5~80μm左右。

本發明中使用之偏光元件之聚乙烯醇系膜係藉由二色性物質加以染色、且含有硫酸離子、進而經延伸處理之膜。因而，本發明中使用之偏光元件對聚乙烯醇系膜至少實施藉由二色性物質之染色處理、延伸處理及硫酸離子處理。在偏光元件之製造方法中，例如可採用將上述聚乙烯醇系膜提供到通常包括膨潤、染色、交聯、延伸、水洗及乾燥步驟之一系列製造步驟中之方式，而在本發明之偏光元件之製造方法中，即使於採用上述步驟之情形時，亦可進一步包含硫酸離子處理步驟。在乾燥步驟除外之各處理步驟中，藉由將聚乙烯醇系膜浸漬於含有各步驟中所使用之溶液之液體中而進行處理。膨潤、染色、交聯、延伸、硫酸離子處理、水洗及乾燥之各處理之順序、次數及實施之有無可根據目的、使用材料及條件等適當設定。例如，可在1個步驟中同時進行幾個處理，亦可同時進行膨潤處理、染色處理及交聯處理。另外，可較好地採用例如在延伸處理前後進行交聯處理之方式。另外，例如水洗處理可在全部處理之後進行，亦可只在特定之處理之後進行。

膨潤步驟代表性的是藉由將上述聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於注滿水之處理浴中來進行。藉由該處理，可清洗聚乙烯醇系膜表面之污物或防黏連劑，同時藉由使聚乙烯醇系膜膨潤而防止染色不均等不均勻性。膨潤浴中可適當地添加甘油或碘化鉀等。膨潤浴之溫度通常為20~60℃左右，在膨潤浴中之浸漬時間通常為0.1~10分鐘左右。

染色步驟代表性的是藉由將上述聚乙烯醇系膜浸漬於含有碘等二色性物質之處理浴中來進行。於染色浴之溶液中使用之溶劑通常使用水，但亦可適當添加與水具有相容性之有機溶劑。二色性物質相對於100重量份溶劑，通常以0.1~1重量份之比例使用。使用碘作為二色性物質之情形時，染色浴之溶液較好的是進而含有碘化物等助劑。其係因為可提昇染色效率。助劑相對於100重量份溶劑，較好的是以0.02~20重量份、進而較好的是以2~10重量份之比例使用。作為碘化物之具體例，可舉出碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦等。染色浴之溫度通常為20~70℃左右，在染色浴中之浸漬時間通常為1~20分鐘左右。

交聯步驟代表性的是藉由將上述經染色之聚乙烯醇系膜浸漬於含有交聯劑之處理浴中來進行。作為交聯劑，可採用任意適當之交聯劑。作為交聯劑之具體例，可舉出硼酸、硼砂等硼化合物，乙二醛，戊二醛等。該等可單獨使用，亦可組合使用。在交聯浴之溶液中使用之溶劑通常使用水，但亦可適當添加與水具有相容性之有機溶劑。交聯劑相對於100重量份溶劑，通常以1~10重量份之比例使用。於交聯劑之濃度未滿1重量份之情形時，無法獲得充分之光學特性。於交聯劑之濃度超過10重量份之情形時，延伸時在膜中所產生之應力會變大，可能導致所獲得之偏光板收縮。交聯浴之溶液較好的是進而含有碘化物等助劑。其係因為容易獲得面內均勻之特性。助劑之濃度較好的是0.05~15重量%，進而較好的是0.5~8重量%。碘化物之具體例與染色步驟之情況相同。交聯浴之溫度通常為20~70℃左右，較好的是40~60℃。在交聯浴中之浸漬時間通常為1秒~15分鐘左右，較好的是5秒~10分鐘。

可於如上所述之任一階段進行延伸步驟。具體而言，可於染色處理之後進行，可於染色處理之前進行，可與膨潤處理、染色處理、交聯處理、硫酸離子處理同時進行，亦可於交聯處理、硫酸離子處理之後進行。聚乙烯醇系膜之累積延伸倍率通常為5倍以上。較好的是5~7倍，進而較好的是5~6.5倍。於累積延伸倍率未滿5倍之情形時，難以獲得高偏光度之偏光板。於累積延伸倍率超過7倍之情形時，有時聚乙烯醇系膜變得容易破裂。作為延伸之具體方法，可採用濕式延伸法、乾式延伸法之任意一種，可採用任意適當之方法。例如，於採用濕式延伸法之情形時，在處理浴中將聚乙烯醇系膜延伸至規定之倍率。作為延伸浴之溶液，可較好地使用於水或有機溶劑(例如乙醇)等溶劑中根據各種處理而添加有硫酸離子、碘、硼或鋅之化合物而成之溶液。

硫酸離子處理例如藉由將聚乙烯醇系膜浸漬於含有硫酸金屬鹽之水溶液中而進行。藉由硫酸離子處理，使聚乙烯醇系膜中含有硫酸離子。

作為硫酸金屬鹽，較好的是在處理液中容易分離成硫酸離子與金屬離子、在聚乙烯醇系膜中該硫酸金屬鹽容易以離子之狀態導入之硫酸金屬鹽。例如，作為形成硫酸金屬鹽之金屬之種類，可舉出鈉、鉀等鹼金屬；鎂、鈣等鹼土類金屬；鈷、鎳、鋅、鉻、鋁、銅、錳、鐵等過渡金屬。作為硫酸金屬鹽，就抑制聚乙烯醇系膜因活性能量線照射而發生聚烯化之方面而言，較好的是硫酸鈉、硫酸鎂、硫酸鋅。

在硫酸離子處理中使用硫酸金屬鹽之情形時，含有硫酸金屬鹽之水溶液中之硫酸金屬鹽之濃度根據硫酸金屬鹽之種類不同而不同，為1~20重量%左右，較好的是5~15重量%，更好的是5~10重量%。若硫酸金屬鹽之濃度少於1重量%，則難以在聚乙烯醇系膜中含有足夠之硫酸離子。另一方面，若多於20重量%，則聚乙烯醇系膜之膨潤降低，聚乙烯醇系膜中所含有之硫酸離子之量變少。

在進行硫酸離子處理時，含有硫酸金屬鹽之水溶液之溫度通常為15~70℃左右，較好的是25~67℃。浸漬時間通常為1~120秒左右，較好的是3~90秒之範圍。

此外，作為金屬鹽，除了硫酸金屬鹽以外，例如有鹽酸鹽、硝酸鹽、醋酸鹽、碘化鹽等無機酸鹽或檸檬酸鹽、酒石酸鹽、醋酸鹽等有機酸鹽。該等鹽雖然不抑制聚乙烯醇系膜之聚烯化，只要在不損及本發明之目的之範圍內，可在硫酸金屬鹽中混合使用該等金屬鹽(硫酸金屬鹽以外)。

對硫酸離子處理之階段並無特別限制，可在染色處理之前，亦可在染色處理之後。另外，亦可使染色溶液中共存上述金屬鹽，與染色處理同時進行。另外，亦可與延伸處理同時進行。

水洗步驟代表性的是藉由將已實施上述各種處理之聚乙烯醇系膜浸漬於處理浴中來進行。利用水洗步驟，可洗去聚乙烯醇系膜之不需要之殘存物。水洗浴可為純水，亦可為碘化物(例如碘化鉀、碘化鈉等)之水溶液。碘化物水溶液之濃度較好的是0.1~10重量%。亦可於碘化物水溶液中添加硫酸鋅、氯化鋅等助劑。水洗浴之溫度較好的是10~60℃，進而較好的是30~40℃。浸漬時間為1秒~1分鐘。水洗步驟可只進行1次，亦可根據需要進行多次。於實施數次之情形時，適當地調整各處理中使用之水洗浴中所含有之添加劑之種類或濃度。例如，水洗步驟包括將已實施上述各種處理之聚乙烯醇系膜浸漬於碘化鉀水溶液(0.1~10重量%，10~60℃)1秒~1分鐘左右之步驟；與用純水沖洗之步驟。另外，在水洗步驟中，為了提高偏光元件之表面改性或偏光元件之乾燥效率，亦可適當添加與水具有相容性之有機溶劑(例如乙醇等)。

乾燥步驟可採用任意適當之方法(例如自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥)。例如，加熱乾燥時之乾燥溫度通常為20~80℃左右，乾燥時間通常為1~10分鐘左右。可以如上方式獲得偏光元件。

本發明中使用之偏光元件之聚乙烯醇系膜中之硫酸離子之含量較好的是0.02~0.45重量%，更好的是0.05~0.35重量%，進而較好的是0.1~0.25重量%。此外，可根據硫原子含量算出聚乙烯醇系膜中之硫酸離子之含量。

另外，本發明中使用之偏光元件之水分率較好的是20重量%以下，更好的是0~15重量%，進而較好的是1~15重量%。若水分率大於20重量%，則獲得之偏光板之尺寸變化變大，可能產生高溫下或高溫高濕下之尺寸變化變大之問題。

本發明之偏光元件之水分率可利用任意適當之方法加以調整。例如可舉出利用調整偏光元件之製造步驟中之乾燥步驟之條件來控制之方法。

偏光元件之水分率利用以下方法測定。即，將偏光元件切成100×100mm之大小，測定該樣品之初始重量。接著，於120℃下乾燥該樣品2小時，測定乾燥重量，利用下述式測定水分率。水分率(重量%)={(初始重量-乾燥重量)/初始重量}×100。重量之測定分別進行3次，使用其平均值。

作為構成透明保護膜之材料，較好的是透明性、機械強度、熱穩定性、水分屏蔽性、各向同性等優異之熱塑性樹脂。作為此種熱塑性樹脂之具體例，可舉出三乙醯纖維素等纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降冰片烯系樹脂)、聚芳酯化合物樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂及該等之混合物。此外，於偏光元件之單側利用接著劑層貼合透明保護膜，而於另一側，可使用(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、丙烯基胺基甲酸酯系、環氧系、矽酮系等熱固性樹脂或紫外線固化型樹脂作為透明保護膜。透明保護膜中可含有1種以上之任意適當之添加劑。作為添加劑，例如可舉出紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、塑化劑、脫模劑、著色防止劑、阻燃劑、核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護膜中之上述熱塑性樹脂之含量較好的是50~100重量%，更好的是50~99重量%，進而較好的是60~98重量%，特別好的是70~97重量%。於透明保護膜中之上述熱塑性樹脂之含量在50重量%以下之情形時，可能無法充分地實現熱塑性樹脂本來具有之高透明性等。

另外，作為透明保護膜，可舉出於日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)中記載之聚合物膜，例如含有(A)在側鏈上具有取代與/或未取代醯亞胺基之熱塑性樹脂、以及(B)在側鏈上具有取代與/或未取代苯基以及腈基之熱塑性樹脂之樹脂組合物。作為具體之例，可舉出含有包含異丁烯與N-甲基馬來醯亞胺之交替共聚物、以及丙烯腈-苯乙烯共聚物之樹脂組合物之膜。膜可使用包含樹脂組合物之混合擠壓製品等之膜。該等膜由於相位差小、光彈性係數小，故可消除偏光板之應變所導致之不均等不良現象，另外，由於透濕度小，故於加濕耐久性方面優異。

透明保護膜之厚度可適當確定，但一般就強度或操作性等作業性、薄層性等方面而言，其厚度為1~500μm左右。特別好的是1~300μm，更好的是5~200μm。透明保護膜於5~150μm之情形時特別好。

此外，於偏光元件之兩側設置透明保護膜之情形時，其內外面可使用包含相同聚合物材料之保護膜，亦可使用包含不同聚合物材料等之保護膜。

作為本發明之透明保護膜，較好的是使用選自纖維素樹脂、聚碳酸酯樹脂、環狀聚烯烴樹脂以及(甲基)丙烯酸樹脂中之任意至少一種。活性能量線固化型接著劑對於上述各種透明保護膜顯示出較好的是之接著性。尤其是活性能量線固化型接著劑對於難以滿足接著性之丙烯酸樹脂亦顯示出良好之接著性。另外，在應用活性能量線固化型接著劑時，亦可根據需要設置底塗層。

纖維素樹脂為纖維素與脂肪酸之酯。作為此種纖維素酯系樹脂之具體例，可舉出三乙醯纖維素、二乙醯基纖維素、三丙醯纖維素、二丙醯纖維素等。其中，特別好的是三乙醯纖維素。三乙醯纖維素有很多市售之製品，於獲得容易性或成本之方面亦有利。作為三乙醯纖維素之市售品之例，可舉出富士軟片公司製之商品名「UV-50」、「UV-80」、「SH-80」、「TD-80U」、「TD-TAC」、「UZ-TAC」或柯尼卡(Konica)公司製造之「KC系列」等。該等三乙醯纖維素之面內相位差(Re)通常大致為0，而厚度方向相位差(Rth)具有~60nm左右。

此外，厚度方向相位差較小之纖維素樹脂膜例如可藉由對上述纖維素樹脂進行理而獲得。例如可舉出將塗佈有環戊酮、甲基乙基甲酮等溶劑之聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、不鏽鋼等基材膜貼合於通常之纖維素系膜上，加熱乾燥(例如在80~150℃下，3~10分鐘左右)，然後剝離基材膜之方法；於通常之纖維素樹脂膜上塗佈將降冰片烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂等溶解於環戊酮、甲基乙基甲酮等溶劑中而成之溶液，加熱乾燥(例如在80~150℃下，3~10分鐘左右)，然後剝離塗佈膜之方法等。

另外，作為厚度方向相位差較小之纖維素樹脂膜，可使用已控制脂肪取代度之脂肪酸纖維素系樹脂膜。在通常使用之三乙醯纖維素中，醋酸取代度為2.8左右，較好的是藉由將醋酸取代度控制在1.8~2.7而減小Rth。藉由於上述脂肪酸取代纖維素系樹脂中添加鄰苯二甲酸二丁酯、對甲苯磺醯苯胺、檸檬酸乙醯三乙酯等塑化劑，可將Rth控制成較小值。塑化劑之添加量相對於100重量份脂肪酸纖維素系樹脂，較好的是40重量份以下，更較好的是1~20重量份，進而較好的是1~15重量份。

作為環狀聚烯烴樹脂之具體例，較好的是降冰片烯系樹脂。環狀烯烴系樹脂係將環狀烯烴作為聚合單元聚合而成之樹脂之總稱，例如可舉出在日本專利特開平1-240517號公報、日本專利特開平3-14882號公報、日本專利特開平3-122137號公報等中記載之樹脂。作為具體例，可舉出環狀烯烴之開環(共)聚合物，環狀烯烴之加聚物，環狀烯烴與乙烯、丙烯等α-烯烴之共聚物(代表性的是無規共聚物)，以及用不飽和羧酸或其衍生物使該等改性而成之接枝共聚物，及該等之氫化物等。作為環狀烯烴之具體例，可舉出降冰片烯系單體。

作為環狀聚烯烴樹脂，有各種製品出售。作為具體例，可舉出日本ZEON股份有限公司製造之商品名「ZEONEX」、「ZEONOR」、JSR股份有限公司製造之商品名「ARTON」、TICONA公司製之商品名「TOPAS」、三井化學股份有限公司製造之商品名「APEL」。

作為(甲基)丙烯酸系樹脂，Tg(玻璃轉移溫度)較好的是115℃以上，更較好的是120℃以上，進而較好的是125℃以上，特別好的是130℃以上。藉由使Tg在115℃以上，可使偏光板之耐久性優異。對上述(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg之上限值並無特別限定，就成形性等之觀點而言，較好的是170℃以下。可由(甲基)丙烯酸系樹脂獲得面內相位差(Re)、厚度方向相位差(Rth)大致為0之膜。

作為(甲基)丙烯酸系樹脂，在不損及本發明之效果之範圍內，可採用任意適當之(甲基)丙烯酸系樹脂。例如可舉出聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS樹脂等)、具有脂環族烴基之聚合物(例如甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降冰片酯共聚物等)。較好的是舉出聚(甲基)丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸C1-6烷基酯。更較好的是舉出以甲基丙烯酸甲酯為主要成分(50~100重量%，較好的是70~100重量%)之甲基丙烯酸甲酯系樹脂。

作為(甲基)丙烯酸系樹脂之具體例，例如可舉出三菱麗陽(MITSUBISHI RAYON)股份有限公司製造之Acrypet VH或Acrypet VRL20A，在日本專利特開2004-70296號公報中記載之於分子內具有環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂、藉由分子內交聯或分子內環化反應而獲得之高Tg(甲基)丙烯酸樹脂系。

作為(甲基)丙烯酸系樹脂，亦可使用具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。其係因為，具有高耐熱性、高透明性、藉由進行雙軸延伸而具有之高機械強度。

作為具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂，可舉出在日本專利特開2000-230016號公報、日本專利特閉2001-151814號公報，日本專利特開2002-120326號公報、日本專利特開2002-254544號公報、日本專利特閉2005-146084號公報等中記載之具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。

具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂較好的是具有由下述通式(化1)表示之環結構。

式中，R¹ 、R² 及R³ 分別獨立地表示氫原子或碳數1~20之有機殘基。此外，有機殘基亦可含有氧原子。

具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之結構中之由通式(化1)表示之內酯環結構之含有比例較好的是5~90重量%，更好的是10~70重量%，進而較好的是10~60重量%，特別好的是10~50重量%。若具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之結構中之由通式(化1)表示之內酯環結構之含有比例少於5重量%，則耐熱性、耐溶劑性、表面硬度可能會變得不充分。若具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之結構中之由通式(化1)表示之內酯環結構之含有比例多於90重量%，則可能會變得缺乏成形加工性。

具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之質量平均分子量(有時亦稱為重量平均分子量)較好的是1000~2000000，更好的是5000~1000000，進而較好的是10000~500000，特別較好的是50000~500000。若質量平均分子量偏離上述範圍，則就成型加工性之方面而言並非較好。

具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg較好的是115℃以上，更好的是120℃以上，進而較好的是125℃以上，特別好的是130℃以上。由於Tg為115℃以上，故例如在作為透明保護膜組裝到偏光板中之情形時，耐久性優異。對上述具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg之上限值並無特別限定，就從成形性等觀點而言，較好的是170℃以下。

具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂利用射出成形所獲得之成形品按照ASTM-D-1003之方法所測定之全光線透過率越高越好，較好的是85%以上，更好的是88%以上，進而較好的是90%以上。全光線透過率係透明性之參考值，若全光線透過率未滿85%，則透明性可能會降低。

上述透明保護膜通常使用正面相位差未滿40nm且厚度方向相位差未滿80nm者。正面相位差Re用Re=(nx-ny)×d表示。厚度方向相位差用Rth=(nx-nz)×d表示。另外，Nz係數用Nz=(nx-nz)/(nx-ny)表示。[其中，將膜之滯相軸方向、進向軸方向以及厚度方向之折射率分別設為nx、ny、nz，d(nm)設為膜之厚度。滯相軸方向成為膜面內之折射率達到最大之方向]。此外，透明保護膜最好不著色。較好的是使用厚度方向之相位差值為-90nm~+75nm之保護膜。藉由使用該厚度方向之相位差值(Rth)為-90nm~+75nm之保護膜，可大致消除由透明保護膜引起之偏光板之著色(光學著色)。厚度方向相位差值(Rth)進而較好的是-80nm~+60nm，特別好的是-70nm~+45nm。

另一方面，作為上述透明保護膜，可使用具有正面相位差為40nm以上及/或厚度方向相位差為80nm以上之相位差之相位差板。正面相位差通常控制在40~200nm之範圍，厚度方向相位差通常控制在80~300nm之範圍。於使用相位差板作為透明保護膜之情形時，由於該相位差板亦起到作為透明保護膜之功能，故可實現薄型化。

作為相位差板，可舉出單軸或雙軸延伸處理高分子材料而成之雙折射性膜、液晶聚合物之配向膜、利用膜支持液晶聚合物之配向層而成之相位差板。對相位差板之厚度並無特別限制，通常為20~150μm左右。

作為高分子材料，例如可舉出聚乙烯醇、聚乙烯醇縮丁醛、聚甲基乙烯醚、聚羥乙基丙烯酸酯、羥乙基纖維素、羥丙基纖維素、甲基纖維素、聚碳酸酯、聚芳酯化合物、聚碸、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚醚碸、聚苯硫醚、聚苯醚、聚烯丙基碸、聚醯胺、聚醯亞胺、聚烯烴、聚氯乙烯、纖維素樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降冰片烯系樹脂)或該等之二元系、三元系各種共聚物、接枝共聚物、混合物等。該等高分子材料利用延伸等而成為配向物(延伸膜)。

作為液晶聚合物，例如可舉出在聚合物之主鏈或側鏈上導入有賦予液晶配向性之共軛性之直線狀原子團(mesogen)的主鏈型或側鏈型各種聚合物等。作為主鏈型液晶聚合物之具體例，可舉出：具有以賦予彎曲性之間隔部而鍵結有液晶原基之構造之聚合物，例如向列配向性之聚酯系液晶性聚合物、圓盤型聚合物或膽固醇型聚合物等。作為側鏈型液晶聚合物之具體例，可舉出如下化合物等，即，以聚矽氧烷、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯或聚丙二酸酯為主鏈骨架，經由包含共軛性原子團構成之間隔部來作為作為側鏈而具有包含賦予向列配向性之對位取代環狀化合物單元的直液晶原基部之化合物等。該等液晶聚合物係藉由如下方式而進行：於對形成於玻璃板上之聚醯亞胺或聚乙烯醇等膜之表面進行摩擦處理後者、斜向蒸鍍有氧化矽者等之配向處理面上，鋪展液晶性聚合物之溶液並進行熱處理。

相位差板例如可為各種波長板或以補償由液晶層之雙折射所引起之著色或視角等為目的者等具有滿足使用目的之適當相位差之相位差板，亦可為積層2種以上相位差板來控制相位差等光學特性之相位差板等。

相位差板滿足nx=ny>nz、nx>ny>nz、nx>ny=nz、nx>nz>ny、nz=nx>ny、nz>nx>ny、nz>nx=ny之關係，可根據各種用途選擇使用。此外，ny=nz不僅包括ny與nz完全相同之情況，亦包括ny與nz實際上相同之情況。

例如，在滿足nx>ny>nz之相位差板中，較好的是使用正面相位差滿足40~100nm、厚度方向相位差滿足100~320nm、Nz係數滿足1.8~4.5之相位差板。例如，於滿足nx>ny=nz之相位差板(正型A板)中，較好的是使用正面相位差滿足100~200nm之相位差板。例如，於滿足nz=nx>ny之相位差板(負型A板)中，較好的是使用正面相位差滿足100~200nm之相位差板。例如，於滿足nx>nz>ny之相位差板中，較好的是使用正面相位差滿足150~300nm、Nz係數滿足超過0~0.7之相位差板。另外，如上所述，例如可使用滿足nx=ny>nz、nz>nx>ny或nz>nx=ny之相位差板。

透明保護膜可根據所應用之液晶顯示裝置適當地選擇。例如，於VA(Vertical Alignment(垂直配向)，包括MVA、PVA)之情形時，較好的是偏光板之至少一方(單元側)之透明保護膜具有相位差。作為具體之相位差，較好的是Re=0~240nm、Rth=0~500nm之範圍。若用三維折射率描述，則較好的是nx>ny=nz、nx>ny>nz、nx>nz>ny、nx=ny>nz(單軸，雙軸，Z化，負型C板)之情況。於液晶單元之上下使用偏光板時，可於液晶單元之上下均具有相位差，或者亦可係上下任一透明保護膜具有相位差。

例如IPS(In-Plane Switching(平面控制)，包括FFS)之情形時，可使用偏光板之一方之透明保護膜具有相位差之情形或者無相位差之情形之任一情形。例如，於不具有相位差之情形時，較好的是液晶單元之上下(單元側)均不具有相位差之情形。於具有相位差之情形時，較好的是液晶單元之上下均具有相位差之情形、上下之任一者具有相位差之情形(例如，上側Z化、下側無相位差之情形，或者上側為A板、下側為正型C板之情形)。具有相位差之情形時，較好的是Re=-500~500nm、Rth=-500~500nm之範圍。若用三維折射率描述，則較好的是nx>ny=nz、nx>nz>ny、nz>nx=ny、nz>nx>ny(單軸，Z化，正型C板，正型A板)。

此外，可另外於不具有相位差之膜上貼合上述具有相位差之膜，從而賦予上述功能。

於上述透明保護膜之未接著偏光元件之表面上，可進行硬塗層或抗反射處理、防黏連處理、以擴散或防眩為目的之處理。

實施硬塗層處理之目的係防止偏光板之表面損傷等，例如可以藉由以下等方式形成，即，於透明保護膜之表面上附加由丙烯酸系、矽酮系等適當之紫外線固化型樹脂構成之硬度、滑動特性等良好之固化被膜。實施抗反射處理之目的係防止外光在偏光板表面之反射，可藉由形成基於先前之抗反射膜等來完成。另外，實施防黏連處理之目的係防止與相鄰層(例如背光源側之擴散板)之密著。

另外，實施防眩處理之目的係防止外光在偏光板表面反射而妨礙偏光板透射光之辨識等，例如，可藉由以下方式形成，即，利用噴砂方式或壓紋加工方式之粗表面化方式以及調配透明微粒之方式等適當方式，向透明保護膜表面賦予微細凹凸結構。作為上述表面微細凹凸結構之形成中所含有之微粒，例如，可使用平均粒徑為0.5~20μm之包含氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯、氧化錫、氧化銦、氧化鎘、氧化銻等之有時具有導電性之無機系微粒，包含交聯或者未交聯之聚合物等之有機系微粒等透明微粒。當形成表面微細凹凸結構時，微粒之使用量相對於100重量份形成表面微細凹凸結構之透明樹脂，通常為2~70重量份左右，較好的是5~50重量份。防眩層亦可兼具使偏光板透射光擴散而擴大視角等之擴散層(視角擴大功能等)。

此外，上述抗反射層、防黏連層、擴散層或防眩層等除了可設置成透明保護膜自身以外，亦可作為其他光學層與透明保護膜而分開設置。

本發明之偏光板於偏光元件之至少一面上經由接著劑層而設置有透明保護膜。在上述接著劑層之形成中使用活性能量線固化型接著劑。活性能量線固化型接著劑含有至少一種固化性成分。

作為固化性成分，可舉出具有(甲基)丙烯醯基之化合物、具有乙烯基之化合物。該等固化性成分可使用單官能或二官能以上之任意一種。該等固化性成分可選擇1種或組合使用2種以上。作為該等固化性成分，較好的是具有(甲基)丙烯醯基之化合物。作為具有(甲基)丙烯醯基之化合物，較好的是使用N-取代醯胺系單體。該等單體於接著性方面較好。此外，(甲基)丙烯醯基係指丙烯醯基及/或甲基丙烯醯基。在本發明中，(甲基)之意義與上述相同。

N-取代醯胺系單體由通式(1)：CH₂ =C(R¹ )-CONR² (R³ )(R¹ 表示氫原子或甲基，R² 表示氫原子或可具有羥基、巰基、胺基或者四級銨基之碳數1~4之直鏈或支鏈烷基，R³ 表示氫原子或碳數1~4之直鏈或支鏈烷基。其中，R² 、R³ 同時為氫原子之情況除外。或者，R² 、R³ 為鍵結而形成可含有氧原子之5員環或6員環者)表示。作為上述通式(1)中之R² 或R³ 中之碳數1~4之直鏈或支鏈烷基，例如可舉出甲基、乙基、異丙基、第三丁基等，作為具有羥基之烷基，可舉出羥甲基、羥乙基等，作為具有胺基之烷基，可舉出胺基甲基、胺基乙基等。另外，在R² 、R³ 鍵結而形成可含有氧原子之5員環或6員環之情形時，具有含有氮之雜環。作為該雜環，可舉出嗎啉環、哌啶環、吡咯烷環、哌嗪環等。

作為上述N-取代醯胺系單體之具體例，例如可舉出N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-己基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥乙基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基-N-丙烷(甲基)丙烯醯胺、胺基甲基(甲基)丙烯醯胺、胺基乙基(甲基)丙烯醯胺、巰基甲基(甲基)丙烯醯胺、巰基乙基(甲基)丙烯醯胺等。另外，作為具有雜環之含雜環單體，例如可舉出N-丙烯醯嗎啉、N-丙烯醯哌啶、N-甲基丙烯醯哌啶、N-丙烯醯吡咯烷等。該等N-取代醯胺系單體可使用1種，或者組合使用2種以上。

N-取代醯胺系單體對於低水分率之偏光元件或使用透濕度低之材料之透明保護膜亦顯示出良好之接著性，而上述例示之單體尤其顯示出良好之接著性。其中，作為上述N-取代醯胺系單體，較好的是具有羥基者。作為具有羥基之N-取代醯胺系單體，例如可舉出N-羥乙基丙烯醯胺。

上述N-取代醯胺系單體可單獨使用，或者組合使用2種以上，而在組合2種以上之情形時，就耐久性、接著性之方面而言，較好的是N-羥乙基丙烯醯胺及N-丙烯醯嗎啉之組合。另外，於該組合之情形時，於能夠獲得良好之接著性方面，較好的是N-羥乙基丙烯醯胺相對N-羥乙基丙烯醯胺及N-丙烯醯嗎啉之總量之比例為40重量%以上。

另外，作為上述固化性成分，除了上述以外，作為具有(甲基)丙烯醯基之化合物，例如可舉出各種環氧(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯或各種(甲基)丙烯酸酯系單體等。其中，較好的是使用環氧(甲基)丙烯酸酯、特別是具有芳香環及羥基之單官能之(甲基)丙烯酸酯。

具有芳香環及羥基之單官能之(甲基)丙烯酸酯可使用具有芳香環及羥基之各種單官能(甲基)丙烯酸酯。羥基亦可作為芳香環之取代基存在，但在本發明中，較好的是作為鍵結芳香環與(甲基)丙烯酸酯之有機基(烴基、尤其是鍵結於伸烷基之有機基)存在。

作為上述具有芳香環及羥基之單官能之(甲基)丙烯酸酯，例如可舉出具有芳香環之單官能之環氧化合物與(甲基)丙烯酸之反應物。作為具有芳香環之單官能之環氧化合物，例如可舉出苯基縮水甘油醚、第三丁基苯基縮水甘油醚、苯基聚乙二醇縮水甘油醚等。作為具有芳香環及羥基之單官能之(甲基)丙烯酸酯之具體例，例如可舉出(甲基)丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙基酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-第三丁基苯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-苯基聚乙二醇丙酯等。

另外，作為具有(甲基)丙烯醯基之化合物，可舉出羧基單體。羧基單體於接著性方面亦較好。作為羧基單體，例如可舉出(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧乙酯、(甲基)丙烯酸羧戊酯等。其中較好的是丙烯酸。

此外，作為具有(甲基)丙烯醯基之化合物，可舉出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸月桂基酯等碳數為1~12之(甲基)丙烯酸烷基酯；(甲基)丙烯酸環戊酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯等具有脂環式烴基之(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯系單體；(甲基)丙烯酸-2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸-4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸-6-羥己酯、(甲基)丙烯酸-8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸-10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸-12-羥月桂酯或丙烯酸(4-羥甲基環己基)-甲酯等含羥基單體；順丁烯二酸酐、甲基順丁烯二酸酐等含酸酐基單體；丙烯酸之己內酯加成物；苯乙烯磺酸或烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺丙酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等含磺酸基單體；2-羥乙基丙烯醯磷酸酯等含磷酸基單體等。另外，亦可舉出(甲基)丙烯醯胺、順丁烯二醯亞胺、N-環己基順丁烯二醯亞胺、N-苯基順丁烯二醯亞胺等；(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸胺基丙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸第三丁基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸3-(3-嘧啶基)丙酯等(甲基)丙烯酸烷基胺基烷基酯系單體；N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基丁二醯亞胺或N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基丁二醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基八亞甲基丁二醯亞胺等丁二醯亞胺系單體等含氮單體。

如上所述，作為活性能量線固化型接著劑中之固化性成分，可單獨或組合使用各種固化性成分，但較好的是單獨使用N-取代醯胺系單體，或者併用N-取代醯胺系單體與具有芳香環及羥基之單官能之(甲基)丙烯酸酯。併用該等之情形時，較好的是使N-取代醯胺系單體之比例為40重量%以上，更好的是50重量%以上，進而較好的是60重量%以上，特別好的是70重量%以上，尤其好的是80重量%以上。

作為上述固化性成分，可使用二官能以上之固化性成分。作為二官能以上之固化性成分，較好的是二官能以上之(甲基)丙烯酸酯，特別好的是二官能以上之環氧(甲基)丙烯酸酯。二官能以上之環氧(甲基)丙烯酸酯可藉由多官能之環氧化合物與(甲基)丙烯酸之反應而獲得。多官能之環氧化合物可例示各種環氧化合物。作為多官能之環氧化合物，例如可舉出芳香族環氧樹脂、脂環式環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂。

作為芳香族環氧樹脂，例如可舉出雙酚A之二縮水甘油醚、雙酚F之二縮水甘油醚、雙酚S之二縮水甘油醚之類的雙酚型環氧樹脂；苯酚酚醛清漆環氧樹脂、甲酚酚醛清漆環氧樹脂、羥基苯甲醛苯酚酚醛清漆環氧樹脂之類的酚醛清漆型環氧樹脂；四羥基苯基甲烷之縮水甘油醚、四羥基苯甲酮之縮水甘油醚、環氧化聚乙烯基苯酚之類的多官能型環氧樹脂等。

作為脂環式環氧樹脂，可舉出上述芳香族環氧樹脂之氫化物、環己烷系、環己基甲酯系、環己基甲醚系、螺環系、三環癸烷等環氧樹脂。

作為脂肪族環氧樹脂，可舉出脂肪族多元醇或其環氧烷加成物之聚縮水甘油醚。作為該等之例，可舉出1,4-丁二醇之二縮水甘油醚、1,6-己二醇之二縮水甘油醚、甘油之三縮水甘油醚、三羥甲基丙烷之三縮水甘油醚、聚乙二醇之二縮水甘油醚、丙二醇之二縮水甘油醚、藉由於乙二醇或丙二醇、甘油之類之脂肪族多元醇加成1種或2種以上環氧烷(環氧乙烷或環氧丙烷)而獲得之聚醚多元醇之聚縮水甘油醚等。

上述環氧樹脂之環氧當量通常為30~3000g/當量，較好的是50~1500g/當量之範圍。

上述二官能以上之環氧(甲基)丙烯酸酯較好的是脂肪族環氧樹脂之環氧(甲基)丙烯酸酯，特別較好的是二官能之脂肪族環氧樹脂之環氧(甲基)丙烯酸酯。

本發明之活性能量線固化型接著劑含有固化性成分，但除上述成分以外，亦可根據需要適當地添加添加劑。活性能量線固化型接著劑可以電子射線固化型、紫外線固化型之方式使用。於以電子射線固化型使用上述接著劑之情形時，無需特別使上述接著劑中含有光聚合起始劑，但以紫外線固化型使用之情形時，使用光聚合起始劑。光聚合起始劑之使用量為每100重量份固化性成分，通常為0.1~10重量份左右，較好的是0.5~3重量份。

另外，作為添加劑之例，可舉出以羰基化合物等為代表之提高電子射線引起之固化速度或靈敏度之增感劑、以矽烷偶合劑或環氧乙烷為代表之接著促進劑、提高與透明保護膜之潤濕性之添加劑、以丙烯醯氧基化合物或烴系(天然、合成樹脂)等為代表之提高機械強度或加工性等之添加劑、紫外線吸收劑、抗老化劑、染料、加工助劑、離子捕捉劑、抗氧化劑、增黏劑、填充劑(金屬化合物填充劑除外)、塑化劑、流平劑、發泡抑制劑、抗靜電劑等。

本發明之偏光板藉由使用上述接著劑來貼合上述偏光元件與透明保護膜而加以製造。另外，在利用接著劑貼合偏光元件、透明保護膜之前，亦可對該等進行電暈處理、電漿處理、皂化處理、易接著處理等表面改質處理。

於上述製造方法中之貼合步驟中，具有以下步驟：於偏光元件之形成上述黏著劑層之面及/或透明保護膜之形成上述接著劑層之面上塗佈上述接著劑之後，經由上述偏光板用接著劑貼合偏光元件與透明保護膜之步驟；接著，對經由上述偏光板用接著劑所貼合之偏光元件與透明保護膜，照射活性能量線(電子射線、紫外線等)，形成接著劑層之步驟。

接著劑之塗佈方式可根據接著劑之黏度或目的厚度而適當地選擇。作為塗佈方式之例，例如可舉出反向塗佈機(reverse coater)、凹版塗佈機(gravure coater)(直接(direct)、反向(reverse)或平版(offset))、棒式反向塗佈機(bar reverse coater)、輥塗機(roll coater)、模塗機(die coater)、棒塗機(bar coater)、桿式塗佈機(rod coater)等。此外，亦可適當地使用浸漬(dipping)方式等方式進行塗佈。

經由如上所述塗佈之接著劑，貼合偏光元件與透明保護膜。偏光元件與透明保護膜之貼合可利用輥疊合機(roll laminator)等進行。

在貼合偏光元件與透明保護膜之後，照射活性能量線(電子射線、紫外線等)，使接著劑固化。活性能量線(電子射線、紫外線等)之照射方向可從任意適當之方向照射。較好的是從透明保護膜側照射。若從偏光元件側照射，則偏光元件可能會因活性能量線(電子射線、紫外線等)而發生劣化。

活性能量線固化型接著劑較好的是作為電子射線固化型使用。電子射線之照射條件若為能夠使上述接著劑固化之條件，則可採用任意適當之條件。例如，電子射線照射之加速電壓較好的是5kV~300kV，進而較好的是10kV~250kV。於加速電壓未滿5kV之情形時，電子射線可能未到達接著劑而導致固化不足，若加速電壓超過300kV，則通過樣品之滲透力過強，電子射線彈回，可能會對透明保護膜或偏光元件造成損害。作為照射劑量，較好的是5~100kGy，進而較好的是10~75kGy。於照射劑量未滿5kGy之情形時，接著劑會固化不足，若超過100kGy，則會對透明保護膜或偏光板造成損害，產生機械強度之降低或黃變，而無法獲得規定之光學特性。

於利用紫外線照射固化之情形時，相對於100重量份固化性成分，調配0.1~5重量份、較好的是1~4重量份、進而較好的是2~3重量份聚合起始劑。紫外線之照射條件若為能夠使上述接著劑固化之條件，則可採用任意適當之條件。紫外線之照射量較好的是100~500mJ/cm² ，進而較好的是200~400mJ/cm² 。

如上所述而獲得之本發明之偏光板中之接著劑層之厚度為0.01~7μm。較好的是0.01~5μm，更好的是0.01~2μm，進而較好的是0.01~1μm。於上述厚度未滿0.01μm之情形時，無法獲得接著力自身之凝集力，可能無法獲得接著強度。若接著劑層之厚度超過7μm，則偏光板無法滿足耐久性。

電子射線照射通常在惰性氣體中進行照射，根據需要，亦可在大氣中或少量導入氧之條件下進行。雖然根據透明保護膜之材料不同而不同，但藉由適當地導入氧，而於最初電子射線照射到之透明保護膜面上產生氧阻礙，可防止對透明保護膜之損害，可只對接著劑有效地照射電子射線。

在以連續生產線(line)進行上述製造方法之情形時，生產線速度因接著劑之固化時間不同而不同，但較好的是1~500m/min，更較好的是5~300m/min，進而較好的是10~100m/min。於生產線速度過小之情形時，缺乏生產率，或者對透明保護膜之損害過大，無法製作能夠忍耐耐久性試驗等之偏光板。於生產線速度過大之情形時，接著劑之固化變得不充分，有時無法獲得目的接著性。

本發明之偏光元件在實際使用時可作為與其他光學層積層之光學膜使用。對該光學層並無特別限定，例如可使用1層或2層以上反射板或半透過板、相位差板(包括1/2或1/4等波長板)、視角補償膜等有時用於液晶顯示裝置等之形成中之光學層。特別好之偏光板係於本發明之偏光板上進一步積層反射板或半透過反射板而成之反射型偏光板或半透過型偏光板；於偏光板上進一步積層相位差板而成之橢圓偏光板或圓偏光板；於偏光板上進一步積層視角補償膜而成之寬視角偏光板；或者於偏光板上進一步積層亮度提昇膜而形成之偏光板。

反射型偏光板係於偏光板上設置反射層而成者，可用於形成反射從辨識側(顯示側)入射之入射光來進行顯示的類型之液晶顯示裝置等，並且可省略內置之背光源等光源，從而具有易於使液晶顯示裝置薄型化等優點。反射型偏光板之形成可藉由以下等適當之方式進行，即，根據需要經由透明保護層等於偏光板之單面上附設由金屬等構成之反射層。

作為反射型偏光板之具體例，可舉出根據需要在經消光處理之透明保護膜之單面上，附設包含鋁等反射性金屬之箔或蒸鍍膜而形成反射層之偏光板等。另外，亦可舉出使上述透明保護膜含有微粒而形成表面微細凹凸結構，並在其上具有微細凹凸結構之反射層之反射型偏光板等。上述微細凹凸結構之反射層藉由漫反射使入射光擴散，由此防止定向性或外觀發亮，具有可抑制明暗不均之優點等。另外，含有微粒之透明保護膜亦具有當入射光及其反射光透過其時會被擴散而進一步抑制明暗不均之優點等。反映透明保護膜之表面微細凹凸結構之微細凹凸結構之反射層之形成，例如可藉由用真空蒸鍍方式、離子鍍方式及濺射方式等蒸鍍方式或鍍覆方式等適當之方式將金屬直接附設於透明保護層之表面上直接之方法等進行。

代替將反射板直接附設在上述偏光板之透明保護膜上之方式，亦可作為於以該透明膜為基準之適當之膜上設置反射層所形成的反射片等而使用。此外，由於反射層通常包含金屬，故就防止由氧化造成之反射率下降、進而長期保持初始反射率之方面或避免另外附設保護層之方面等而言，較好的是用透明保護膜或偏光板等覆蓋其反射面之使用形態。

此外，半透過型偏光板可藉由製成在上述中用反射層來反射光且使光透過之半透半反鏡等半透過型之反射層而獲得。半透過型偏光板通常設置於液晶單元之背面側，可形成如下類型之液晶顯示裝置等：在比較明亮之環境中使用液晶顯示裝置等之情形時，反射來自於辨識側(顯示側)之入射光而顯示圖像，在比較暗之環境中，使用內置於半透過型偏光板之背面之背光源等內置光源來顯示圖像。即，半透過型偏光板在如下類型之液晶顯示裝置等之形成中有用：在明亮之環境下可節約使用背光源等光源之能量，在比較暗之環境下亦可使用內置光源之類型之液晶顯示裝置。

就於偏光板上進一步積層相位差板而構成之橢圓偏光板或圓偏光板進行說明。在將直線偏振光改變為橢圓偏振光或圓偏振光，或者將橢圓偏振光或圓偏振光改變為直線偏振光，或者改變直線偏振光之偏光方向之情形時，可使用相位差板等。特別是作為將直線偏振光改變為圓偏振光或將圓偏振光改變為直線偏振光之相位差板，可使用所謂之1/4波長板(亦稱為λ/4板)。1/2波長板(亦稱為λ/2板)通常用於改變直線偏振光之偏光方向之情況。

橢圓偏光板可有效地用於以下等情形，即補償(防止)超扭轉向列(STN)型液晶顯示裝置因液晶層之雙折射而產生之著色(藍或黃)，從而進行無上述著色之白黑顯示之情形。進而，控制三維折射率之偏光板亦可補償(防止)從斜向觀察液晶顯示裝置之畫面時所產生之著色，因而較好。圓偏光元件可有效地用於例如對以彩色顯示圖像之反射型液晶顯示裝置之圖像之色調進行調整之情形等，另外亦具有防止反射之功能。作為上述相位差板之具體例，可舉出對包含聚碳酸酯、聚乙烯醇、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯或其他聚烯烴、聚芳酯化合物、聚醯胺之類的適當之聚合物之膜進行延伸處理而成之雙折射性膜或液晶聚合物之配向膜，用膜支持液晶聚合物之配向層而成之相位差板等。相位差板例如可為各種波長板或以補償由液晶層之雙折射所造成之著色或視角等為目的者等具有滿足使用目的之適當相位差之材料，亦可為積層2種以上之相位差板而控制相位差等光學特性之相位差板等。

另外，上述橢圓偏光板或反射型橢圓偏光板，係藉由以適當之組合來積層偏光板或反射型偏光板與相位差板而成者。該橢圓偏光板等亦可藉由如下方式形成，即，在液晶顯示裝置之製造過程中依次獨立積層(反射型)偏光板及相位差板，以構成(反射型)偏光板及相位差板之組合，但如上所述預先形成為橢圓偏光板等光學膜者，由於在質量之穩定性或積層操作性等方面出色，因此具有可提高液晶顯示裝置等之製造效率之優點。

視角補償膜係用於從不垂直於畫面而稍微傾斜之方向觀察液晶顯示畫面之情形時亦擴大視角而使圖像看起來比較清晰之膜。作為此種視角補償相位差板，例如由在相位差膜、液晶聚合物等之配向膜或透明基材上支持有液晶聚合物等之配向層者等構成。通常之相位差板係使用沿其面方向實施單軸延伸且具有雙折射之聚合物膜，與此相對，用作視角補償膜之相位差板，可使用沿其面方向實施雙軸延伸且具有雙折射之聚合物膜、或者沿其面方向單軸延伸且亦沿其厚度方向延伸且厚度方向之折射率受到控制的具有雙折射之聚合物或傾斜配向膜之類的雙軸延伸膜等。作為傾斜配向膜，例如可舉出在聚合物膜上接著熱收縮膜後在加熱形成之收縮力之作用下，對聚合物膜進行延伸處理或/及收縮處理者；或使液晶聚合物傾斜配向者等。作為相位差板之原材料聚合物，可使用與上述相位差板中說明之聚合物相同之聚合物，可使用以防止辨識角變化所導致之著色等或擴大辨識度良好之視角等為目的之適宜之聚合物，上述辨識角變化基於液晶單元所造成之相位差。

另外，就實現辨識度良好之寬視角之方面等而言，可較好地使用以三乙醯纖維素膜對由液晶聚合物之配向層、特別是圓盤型液晶聚合物之傾斜配向層所構成之光學各向異性層加以支持之光學補償相位差板。

將偏光板與亮度提昇膜貼合在一起而成之偏光板，通常設置於液晶單元之背面側來使用。亮度提昇膜係顯示如下特性之膜，即，當因液晶顯示裝置等之背光源或來自背面側之反射等而有自然光入射時，會反射規定偏光軸之直線偏振光或規定方向之圓偏振光，而使其他光透過，因此將亮度提昇膜與偏光板積層而成之偏光板可使來自背光源等光源之光入射，而獲得規定偏振光狀態之透過光，同時，不使上述規定偏振光狀態以外之光透過而反射。經由設置於其後側之反射層等再次使在該亮度提昇膜面上反射之光反轉，使之再次入射到亮度提昇膜上，使其一部分或全部作為規定偏振光狀態之光而透過，從而增加透過亮度提昇膜之光量，同時向偏光元件提供難以吸收之偏振光，從而增大能夠利用於液晶顯示之圖像顯示等中之光量，藉此可提昇亮度。即，在不使用亮度提昇膜而用背光源等從液晶單元之背面側穿過偏光元件而使光入射之情形時，具有與偏光元件之偏光軸不一致之偏光方向之光基本上被偏光元件所吸收，而無法透過偏光元件。即，雖然會因所使用之偏光元件之特性而不同，但大約50%之光會吸收至偏光元件，因此，可利用於液晶圖像顯示等中之光量將減少，導致圖像變暗。由於亮度提昇膜反覆進行如下操作，即，使具有能夠被偏光元件吸收之偏光方向之光不入射到偏光元件上，而是使此類光在亮度提昇膜上暫時發生反射，進而經由設置於其後側之反射層等使之反轉，使光再次入射到亮度提昇膜上，如此，亮度提昇膜僅使在這兩者間反射並反轉之光中之、光之偏光方向成為能夠藉由偏光元件的偏光方向之偏振光透過，同時將其提供給偏光元件，因此可在液晶顯示裝置之圖像之顯示中有效地使用背光源等之光，從而可使畫面明亮。

亦可於亮度提昇膜與上述反射層等之間設置擴散板。由亮度提昇膜反射之偏光狀態之光朝向上述反射層等，所設置之擴散板可將通過之光均勻地擴散，同時消除偏光狀態而成為非偏光狀態。即，擴散板使偏振光恢復為原來之自然光狀態。反覆進行如下之作業，即，自然光狀態之光射向反射層等，經由反射層等而反射後，再次通過擴散板而再次入射到亮度提昇膜上。如此藉由於亮度提昇膜與上述反射層等之間設置使偏振光恢復為原來之自然光狀態之擴散板，可在維持顯示畫面之亮度之同時，減少顯示畫面之亮度不均，從而可提供均勻並且明亮之畫面。一般認為藉由設置該擴散板，可適當增加初次入射光之重複反射次數，並與擴散板之擴散功能一起發揮作用，而提供均勻明亮之顯示畫面。

作為上述亮度提昇膜，例如可使用：電介體之多層膜或折射率各向異性不同之膜的多層積層體之類之顯示出使規定偏光軸之直線偏振光透過而反射其他光之特性之膜、膽固醇型液晶聚合物之配向膜或在膜基材上支持有該配向液晶層之膜之類的顯示出將左旋或右旋中之任一種圓偏振光反射而使其他光透過之特性之膜等適宜之膜。

因此，上述使規定偏光軸之直線偏振光透過之類型之亮度提昇膜，藉由使該透過光直接沿著與偏光軸一致之方向入射到偏光板上，可在抑制由偏光板造成之吸收損失之同時，使光有效地透過。另一方面，利用膽固醇型液晶層之類之使圓偏振光透過之類型之亮度提昇膜，雖然亦可直接使光入射到偏光元件上，但是，就抑制吸收損失之方面而言，較好的是經由相位差板使該圓偏振光進行直線偏振光化，之後再入射到偏光板上。此外，藉由使用1/4波長板作為該相位差板，可將圓偏振光變換為直線偏振光。

於可見光區域等較寬波長範圍中起到1/4波長板作用之相位差板，例如可利用以下等方式獲得，即，將針對波長550nm之淺色光起到1/4波長板作用之相位差層與顯示其他之相位差特性之相位差層、例如起到1/2波長板作用之相位差層加以重疊。因此，配置於偏光板與亮度提昇膜之間之相位差板可包含1層或2層以上之相位差層。

此外，就膽固醇型液晶層而言，藉由組合反射波長不同者而形成重疊2層或3層以上之配置構造，可獲得在可見光區域等較寬之波長範圍內反射圓偏振光者，基於此可獲得較寬波長範圍之透過圓偏振光。

另外，偏光板如同上述偏振光分離型偏光板，可由積層有偏光板與2層或3層以上之光學層者構成。因此，亦可為組合有上述反射型偏光板或半透過型偏光板與相位差板而成之反射型橢圓偏光板或半透過型橢圓偏光板等。

於偏光板上積層有上述光學層之光學膜，亦可利用於液晶顯示裝置等之製造過程中依次獨立積層之方式來形成，然而預先經積層而成為光學膜之偏光板在質量之穩定性或組裝操作等方面優異，具有可改善液晶顯示裝置等之製造步驟之優點。在積層中可使用黏著層等適當之接著手段。在接著上述偏光板與其他光學膜時，該等之光學軸可根據目的相位差特性等而形成適當之配置角度。

於上述偏光板或至少積層有一層偏光板之光學膜上，亦可設置用以與液晶單元(cell)等其他部件接著之黏著層。對形成黏著層之黏著劑並無特別限定，例如可適當地選擇使用以丙烯酸系聚合物、矽酮系聚合物、聚酯、聚胺酯、聚醯胺、聚醚、氟系或橡膠系等聚合物為基體聚合物之黏著劑。特別好的是使用類似丙烯酸系黏著劑之光學透明性優良且顯示出適度之濡濕性、凝聚性以及接著性之黏著特性並且耐候性或耐熱性等優異之黏著劑。

另外，除了上述之外，就防止因吸濕造成之發泡現象或剝離現象、防止因熱膨脹差等引起之光學特性下降或液晶單元翹曲、進而就高質量且耐久性優異之液晶顯示裝置之形成性等觀點來方面而言，較好的是吸濕率低且耐熱性優異之黏著層。

黏著層中可含有例如天然物或合成物之樹脂類、特別是增黏性樹脂或包含玻璃纖維、玻璃珠、金屬粉、其他無機粉末等之填充劑、顏料、著色劑、抗氧化劑等可添加於黏著層中之添加劑。另外亦可為含有微粒並顯示光擴散性之黏著層等。

在偏光板、光學膜之單面或雙面上附設黏著層時可利用適宜之方式進行。作為其例，例如可舉出以下方式：調製在包含甲苯或乙酸乙酯等適宜溶劑之單獨物或混合物之溶劑中溶解或分散基體聚合物或其組合物而成之約10~40重量%之黏著劑溶液，然後藉由流延方式或塗佈方式等適宜之展開方式將其直接附設於偏光板上或光學膜上之方式；或者基於上述而於隔離件上形成黏著層後將其移送並黏貼在偏光板上或光學膜上之方式等。

黏著層亦可作為不同組成或種類等之各層之重疊層而設置於偏光板或光學膜之單面或雙面上。另外，當設置於雙面上時，偏光板或光學膜之內外亦可製成不同組成、種類或厚度等之黏著層。黏著層之厚度可根據使用目的或接著力等而適當確定，一般為1~40μm，較好的是5~30μm，特別好的是10~25μm。若比1μm薄，則耐久性變差，另外，若比40μm厚，則容易產生由發泡等引起之浮起或剝離，導致外觀不良

對於黏著層之露出面，在供於使用前為了防止其污染等，可臨時黏貼隔離件以進行覆蓋。藉此可防止在通常之操作狀態下與黏著層接觸之現象。作為隔離件，在滿足上述之厚度條件之基礎上，例如可使用：根據需要以矽酮系或長鏈烷基系、氟系或硫化鉬等適宜之剝離劑對塑料膜、橡軟片、紙、布、不織布、網狀物、發泡片材或金屬箔、該等之積層體等適宜之薄片體進行塗佈處理而成者等基於先前之適宜之隔離件。

為了提高偏光板與黏著劑層之間之密著性，亦可在層間設置增黏層。

作為上述增黏層之形成材料，較好的是使用選自聚胺酯、聚酯、分子中含有胺基之聚合物類中之結合劑，特較好的是分子中含有胺基之聚合物類。由於分子中含有胺基之聚合物類顯示出分子中之胺基與黏著劑中之羧基等反應或離子性相互作用等相互作用，故可確保良好之附著力。

作為分子中含有胺基之聚合物類，例如可舉出聚乙烯亞胺、聚烯丙胺、聚乙烯胺、聚乙烯吡啶、聚乙烯吡咯烷酮、丙烯酸二甲胺基乙酯等含胺基單體之聚合物等。

為了賦予抗靜電性，亦可在上述結合層中添加抗靜電劑。作為用以賦予抗靜電性之抗靜電劑，可舉出離子性界面活性劑系、聚苯胺、聚噻吩、聚吡咯、聚喹喔啉等導電性聚合物系，氧化錫、氧化銻、氧化銦等金屬氧化物系等，尤其是就光學特性、外觀、抗靜電效果以及抗靜電效果在加熱、加濕時之穩定性之觀點而言，較好的是使用導電性聚合物系。其中，特別好的是使用聚苯胺、聚噻吩等水溶性導電性聚合物或者水分散性導電性聚合物。於使用水溶性導電性聚合物或水分散性導電性聚合物作為抗靜電層之形成材料之情形時，塗佈時可抑制有機溶劑引起之光學膜基材之變質。

此外，在本發明中，對於形成上述偏光板之偏光元件、透明保護膜、光學膜等以及黏著層等各層，亦可藉由例如以水楊酸酯系化合物或苯并苯酚(benzophenol)系化合物、苯并三唑系化合物或氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯鹽化合物系化合物等紫外線吸收劑進行處理之方式等方式，使之具有紫外線吸收能力等。

本發明之偏光板或光學膜可較好地用於液晶顯示裝置等各種裝置之形成等。液晶顯示裝置可根據先前之方法形成。即，一般而言，液晶顯示裝置可藉由適當地組裝液晶單元與偏光板或光學膜、以及根據需要而加入之照明系統等構成部件並裝入驅動電路等而形成，在本發明中，除了使用本發明之偏光板或光學膜之外，並無特別限定，可依據先前之方法形成。對於液晶單元而言，亦可使用例如TN型或STN型、π型、VA型、IPS型等任意類型之液晶單元。

能夠形成於液晶單元之單側或雙側配置有偏光板或光學膜之液晶顯示裝置、或於照明系統中使用背光源或反射板之裝置等適宜之液晶顯示裝置。此時，本發明之偏光板或光學膜可設置在液晶單元之單側或雙側上。當於兩側設置偏光板或光學膜時，該等既可相同，亦可不同。進而，在形成液晶顯示裝置時，可於適宜之位置上配置1層或2層以上之例如擴散板、防眩層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片材、光擴散板、背光源等適宜之部件。

接著，對有機電致發光裝置(有機EL顯示裝置)進行說明。一般而言，有機EL顯示裝置係於透明基板上依次積層有透明電極、有機發光層以及金屬電極而形成發光體(有機電致發光體)。此處，有機發光層係各種有機膜之積層體，已知有：例如包含三苯基胺衍生物等之電洞注入層與包含蒽等螢光性有機固體之發光層之積層體、或該等發光層與由二萘嵌苯衍生物等構成之電子注入層之積層體、或者該等電洞注入層、發光層及電子注入層之積層體等各種組合。

有機EL顯示裝置係根據如下原理進行發光，即，藉由對透明電極與金屬電極施加電壓，而向有機發光層中注入電洞與電子，由該等電洞與電子之再結合而產生之能量會激發螢光物質，被激發之螢光物質回到基態時就會放射出光。中途之再結合機理與一般之二極體相同，由此亦可推測出，電流與發光強度相對於外加電壓顯示出伴隨整流性之較強之非線性。

於有機EL顯示裝置中，為了取出有機發光層中產生之光，至少一方之電極必須為透明，通常使用由氧化銦錫(ITO)等透明導電體製成之透明電極作為陽極。另一方面，為了容易進行電子之注入而提昇發光效率，重要的是使用在陰極中使用功函數較小之物質，通常使用Mg-Ag、Al-Li等金屬電極。

於具有此種構成之有機EL顯示裝置中，有機發光層由厚度為10nm左右之極薄之膜構成。因此，有機發光層亦與透明電極一樣，基本上使光完全地透過。其結果，不發光時從透明基板之表面入射並透過透明電極與有機發光層而在金屬電極反射之光會再次向透明基板之表面側射出，因此，當從外部進行辨識時，有機EL裝置之顯示面如同鏡面。

於包括如下有機電致發光體之有機EL顯示裝置中，可在透明電極之表面側設置偏光板，同時在該等透明電極與偏光板之間設置相位差板，上述有機電致發光體在藉由施加電壓而發光之有機發光層之表面側具有透明電極，同時在有機發光層之背面側具有金屬電極。

由於相位差板及偏光板具有使從外部入射並在金屬電極反射之光成為偏振光之作用，故具有因該偏振光作用而無法從外部辨識金屬電極之鏡面之效果。特別是若以1/4波長板構成相位差板，並且將偏光板與相位差板之偏光方向之夾角調整為π/4，則可完全地遮蔽金屬電極之鏡面。

即，入射至該有機EL顯示裝置之外部光由於偏光板而只有直線偏振光成分透過。該直線偏振光一般會由相位差板轉換成橢圓偏振光，特別是當相位差板為1/4波長板並且偏光板與相位差板之偏光方向之夾角為π/4時，會成為圓偏振光。

該圓偏振光透過透明基板、透明電極、有機膜，在金屬電極上反射，再次透過有機膜、透明電極、透明基板，於相位差板上再次成為直線偏振光。並且，由於該直線偏振光與偏光板之偏光方向正交，因此無法透過偏光板。其結果可完全地遮蔽金屬電極之鏡面。

[實施例]

以下記載本發明之實施例，但本發明之實施形態並不限定於該等。

實施例1

(偏光元件)

將平均聚合度為2400、皂化度為99.9莫耳%、厚度為75μm之聚乙烯醇膜於30℃之溫水中浸漬60秒，使其膨潤，進而在水中進行單軸延伸(延伸倍率為3.5倍)。接著，於濃度為0.3重量%(重量比：碘/碘化鉀=0.5/8)之30℃之碘溶液中染色60秒。其後，於40℃之第一硼酸水溶液(硼酸濃度為3重量%，碘化鉀濃度為3重量%)中浸漬45秒，接著，於60℃之第二硼酸水溶液(硼酸濃度為4重量%，碘化鉀濃度為5重量%，無水硫酸鈉濃度為2重量%)中浸漬30秒，同時延伸至總延伸倍率達到6倍。其後，於30℃之碘化鉀水溶液(碘化鉀濃度為2重量%)中浸漬10秒。延伸後，在70℃之烤箱中乾燥3分鐘，獲得厚度為26μm之偏光元件。

(透明保護膜)

使用內酯化聚甲基丙烯酸甲酯膜(內酯化率20%，厚度30μm，Re=0nm，Rth=0nm)。

<相位差值>

相位差值之測定係使用以平行尼科爾旋轉法為原理之相位差計[王子計測機器股份有限公司製造，製品名「KOBRA21-ADH」]，對波長590nm之值進行測定，根據所得之nx、ny、nz之值與膜厚度(d)，求得正面相位差Re、厚度方向相位差Rth、Nz。[其中，膜之滯相軸方向、進向軸方向及厚度方向之折射率分別設為nx、ny、nz，d(nm)設為膜之厚度。滯相軸方向設為膜面內之折射率達到最大之方向]。

(接著劑：固化性成分)

使用N-羥乙基丙烯醯胺(HEAA，興人股份有限公司製造)作為接著劑。

(偏光板之製成)

使用微凹版印刷塗佈機(microgravuer coater)(凹版印刷輥(gravuer roll)：＃300，旋轉速度140%/線速)，將上述接著劑以厚度達到2μm之方式塗佈在上述透明保護膜上，形成附有接著劑之透明保護膜。接著，自上述偏光元件之兩面，用滾筒機貼合上述附有接著劑之透明保護膜。自貼合之透明保護膜側(兩側)照射電子射線，獲得於偏光元件之兩側具有透明保護膜之偏光板。線速度設為20m/min，加速電壓設為250kV，照射劑量設為20kGy。

實施例2

於實施例1中，在製備偏光元件時，將2重量%之第二硼酸水溶液中之無水硫酸鈉替換為2重量%之硫酸鋅七水合物，除此以外，與實施例1同樣地操作，製成偏光板。

實施例3

於實施例1中，在製備偏光元件時，將2重量%之第二硼酸水溶液中之無水硫酸鈉替換為2重量%之無水硫酸鎂，除此以外，與實施例1同樣地操作，製成偏光板。

實施例4

於實施例1中，在製備偏光元件時，將第二硼酸水溶液中之無水硫酸鈉之濃度改變為1重量%，除此以外，與實施例1同樣地操作，製成偏光板。

實施例5

於實施例1中，在製備偏光元件時，將第二硼酸水溶液中之無水硫酸鈉之濃度改變為2.6重量%，除此以外，與實施例1同樣地操作，製成偏光板。

實施例6

於實施例1中，在製備偏光元件時，將第二硼酸水溶液中之無水硫酸鈉之濃度改變為0重量%，向碘化鉀水溶液中添加硫酸鋅七水合物，使之達到5重量%，除此以外，與實施例1同樣地操作，製成偏光板。

實施例7

於實施例1中，在製備偏光元件時，將第二硼酸水溶液中之無水硫酸鈉之濃度改變為0重量%，向碘化鉀水溶液中添加硫酸鋅七水合物，使之達到10重量%，除此以外，與實施例1同樣地操作，製成偏光板。

實施例8

於實施例1中，在製備偏光元件時，將2重量%之第二硼酸水溶液中之無水硫酸鈉替換為5重量%之硫酸鋅七水合物，除此以外，與實施例1同樣地操作，製成偏光板。

實施例9

於實施例1中，在製備偏光元件時，將2重量%之第二硼酸水溶液中之無水硫酸鈉替換為1重量%之硫酸鋅七水合物，向第一硼酸水溶液中添加硫酸鋅七水合物，使之達到1重量%，除此以外，與實施例1同樣地操作，製成偏光板。

實施例10

於實施例1中，在製備偏光元件時，將2重量%之第二硼酸水溶液中之無水硫酸鈉替換為2重量%之硫酸鋅七水合物，向第一硼酸水溶液中添加硫酸鋅七水合物，使之達到2重量%，除此以外，與實施例1同樣地操作，製成偏光板。

實施例11

於實施例1中，在製備偏光元件時，將2重量%之第二硼酸水溶液中之無水硫酸鈉替換為5重量%之硫酸鋅七水合物，向第一硼酸水溶液中添加硫酸鋅七水合物，使之達到5重量%，除此以外，與實施例1同樣地操作，製成偏光板。

實施例12

於實施例1中，在製備偏光元件時，將第二硼酸水溶液中之無水硫酸鈉之濃度改變為0重量%，向碘化鉀水溶液中添加硫酸鋅七水合物，使之達到2重量%，除此以外，與實施例1同樣地操作，製成偏光板。

實施例13

於實施例1中，在製備偏光元件時，將第二硼酸水溶液中之無水硫酸鈉之濃度改變為0.5重量%，除此以外，與實施例1同樣地操作，製成偏光板。

實施例14

於實施例1中，在製備偏光元件時，將第二硼酸水溶液中之無水硫酸鈉之濃度改變為5.5重量%，除此以外，與實施例1同樣地操作，製成偏光板。

實施例15

於實施例1中，在製成偏光板時，使用含有N-羥乙基丙烯醯胺(HEAA，興人股份有限公司製造)80重量%及N-丙烯醯嗎啉(ACMO，興人股份有限公司製造)20重量%之混合物作為接著劑，除此以外，與實施例1同樣地操作，製成偏光板。

實施例16

於實施例1中，在製成偏光板時，使用含有N-羥乙基丙烯醯胺(HEAA，興人股份有限公司製造)80重量%及N-羥甲基丙烯醯胺(N-MAM，綜研化學股份有限公司製造)20重量%之混合物作為接著劑，除此以外，與實施例1同樣地操作，製成偏光板。

實施例17

於實施例1中，在製成偏光板時，使用含有N-羥乙基丙烯醯胺(HEAA，興人股份有限公司製造)60重量%及N,N-二甲基胺基丙基丙烯醯胺甲基氯化物(DMAPAA-Q，興人股份有限公司製造)40重量%之混合物作為接著劑，除此以外，與實施例1同樣地操作，製成偏光板。

實施例18

於實施例1中，在製成偏光板時，使用丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯(DA-141,Nagase ChemteX股份有限公司製造)作為接著劑，除此以外，與實施例1同樣地操作，製成偏光板。

實施例19

於實施例1中，在製成偏光板時，使用丙烯酸2-羥乙酯(HEA，日本觸媒股份有限公司製造)作為接著劑，除此以外，與實施例1同樣地進行，製成偏光板。

實施例20

於實施例1中，在製成偏光板時，使用N-丙烯醯嗎啉(ACMO，興人股份有限公司製造)作為接著劑，除此以外，與實施例1同樣地操作，製成偏光板。

實施例21

於實施例1中，在製成偏光板時，使用丙烯酸異冰片酯(IBA，與光純藥工業股份有限公司製造)作為接著劑，除此以外，與實施例1同樣地進行，製成偏光板。

比較例1

於實施例1中，在製備偏光元件時，將第二硼酸水溶液中之無水硫酸鈉之濃度改變為0重量%，除此以外，與實施例1同樣地操作，製成偏光板。

比較例2

於實施例1中，在製備偏光元件時，將2重量%之第二硼酸水溶液中之無水硫酸鈉替換為2重量%之氯化鉀，除此以外，與實施例1同樣地操作，製成偏光板。

比較例3

於實施例1中，在製備偏光元件時，將2重量%之第二硼酸水溶液中之無水硫酸鈉替換為2重量%之氯化鈉，除此以外，與實施例1同樣地操作，製成偏光板。

比較例4

於實施例1中，在製備偏光元件時，將2重量%之第二硼酸水溶液中之無水硫酸鈉替換為2重量%之氯化鈣，除此以外，與實施例1同樣地操作，製成偏光板。

比較例5

於實施例1中，在製備偏光元件時，將2重量%之第二硼酸水溶液中之無水硫酸鈉替換為2重量%之氯化鋅，除此以外，與實施例1同樣地操作，製成偏光板。

比較例6

於實施例1中，在製備偏光元件時，將2重量%之第二硼酸水溶液中之無水硫酸鈉替換為2重量%之碘化鋅，除此以外，與實施例1同樣地操作，製成偏光板。

[評價]

對在實施例及比較例中獲得之偏光元件及偏光板進行下述評價。將結果示於表1。

<偏光元件中之硫酸離子率>

針對偏光元件，使用Rigaku股份有限公司製造之螢光X射線ZSX，利用FP法測定硫原子含量(重量%)。將氧之原子量設為16，將硫之原子量設為32，根據該測定值，算出硫酸離子之含量。

<拉曼(Raman)強度>

針對在100℃之條件下放置500小時之偏光板，測定拉曼光譜(Raman spectrum)中之1500cm^-1 附近之峰值強度。使用拉曼分光測定裝置(雷尼紹製，inViaRefelex Raman Microscope)測定拉曼光譜。激發光使用Ar⁺ 雷射之514nm之直線反抗，累計次數為8次。此外，1100cm^-1 附近之峰值為=C-C=鍵，1500cm^-1 附近之峰值為來源於-C=C-鍵之峰值。在本發明中，根據1500cm^-1 附近之峰值，判斷已形成聚烯結構-(C=C)_n -，從而評價偏光元件之聚烯化。

<高溫耐久性>

利用下述式求得將偏光板在100℃之條件下放置500小時時之其放置前與放置後之單體透過率之變化量。

單體透過率之變化量(%)={(放置後之單體透過率)-(放置前之單體透過率)}/(放置前之單體透過率)

其中，單體透過率係使用分光光度計(村上色彩技術研究所製，DOT-3)，利用JIS Z 8701之2度視野(C光源)進行視感度校正所得之Y值。

<端部剝離>

根據衝壓(裁斷)偏光板時所產生之端部之剝離量，利用以下3級評價接著性。

○：無端部剝離。

△：端部剝離未滿3mm，實質上無問題。

╳：端部剝離為3mm以上，無法使用。

如實施例及比較例所示，於偏光元件含有硫酸離子之情形時，拉曼強度較小，可抑制偏光元件之聚烯化，即使在加熱條件下，亦可抑制偏光板之透過率下降、變紅現象。尤其是於偏光元件中之硫酸離子之含量為0.02~0.45重量%之情形時，可將拉曼強度抑制在5000以下，將單體透過率之變化量抑制在±2%。

Claims

一種偏光板，其特徵在於：其係於偏光元件之至少一面上經由接著劑層而設置有透明保護膜者，偏光元件係藉由二色性物質進行染色、且含有硫酸離子之經延伸處理之聚乙烯醇系膜，其中聚乙烯醇系膜中之硫酸離子之含量為0.02~0.45重量%，接著劑層係藉由含有至少1種固化性成分之活性能量線固化型接著劑而形成。
如請求項1之偏光板，其中活性能量線固化型接著劑中之固化性成分為具有(甲基)丙烯醯基之化合物。
如請求項2之偏光板，其含有由通式(1)：CH₂ =C(R¹ )-CONR² (R³ )表示之N-取代醯胺系單體作為固化性成分(R¹ 表示氫原子或甲基，R² 表示氫原子或可具有羥基、巰基、胺基或四級銨基之碳數1~4之直鏈或支鏈烷基，R³ 表示氫原子或碳數1~4之直鏈或支鏈烷基；其中，R² 、R³ 同時為氫原子之情況除外；或者，R² 、R³ 為鍵結而形成可含有氧原子之5員環或6員環者)。
如請求項1之偏光板，其中活性能量線固化型接著劑為電子射線固化型接著劑。
如請求項1之偏光板，其中透明保護膜為選自纖維素樹脂、聚碳酸酯樹脂、環狀聚烯烴樹脂以及(甲基)丙烯酸樹脂中之任意至少一種。
一種偏光板之製造方法，其特徵在於：其為如請求項1 至5中任一項之偏光板之製造方法，該製造方法包括如下步驟：藉由活性能量線固化型接著劑貼合偏光元件與透明保護膜之步驟，上述偏光元件係包含藉由二色性物質進行染色、且含有硫酸離子之經延伸處理之聚乙烯醇系膜者；其次，藉由活性能量線照射使上述接著劑固化而形成接著劑層之步驟；其中於上述藉由活性能量線照射使上述接著劑固化而形成接著劑層之步驟中，藉由聚乙烯醇系膜中之硫酸離子，於活性能量線照射時抑制聚乙烯醇之聚烯化。
一種光學膜，其特徵在於：積層有至少1張如請求項1之偏光板。
一種圖像顯示裝置，其特徵在於：使用有如請求項1至5中任一項之偏光板或如請求項7之光學膜。