JP7300326B2 - 偏光板および該偏光板の製造方法 - Google Patents
偏光板および該偏光板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7300326B2 JP7300326B2 JP2019117772A JP2019117772A JP7300326B2 JP 7300326 B2 JP7300326 B2 JP 7300326B2 JP 2019117772 A JP2019117772 A JP 2019117772A JP 2019117772 A JP2019117772 A JP 2019117772A JP 7300326 B2 JP7300326 B2 JP 7300326B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pva
- polarizing film
- based resin
- polarizing plate
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
- G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
- G02B5/3041—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks
- G02B5/305—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks including organic materials, e.g. polymeric layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/02—Elements
- C08K3/06—Sulfur
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D179/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen, with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C09D161/00 - C09D177/00
- C09D179/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C09D179/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/60—Additives non-macromolecular
- C09D7/61—Additives non-macromolecular inorganic
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2379/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C08J2361/00 - C08J2377/00
- C08J2379/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08J2379/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2479/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C08J2461/00 - C08J2477/00
- C08J2479/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08J2479/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
Description
1つの実施形態において、上記隣接層が、ポリビニルアルコール系樹脂をさらに含む。
1つの実施形態において、上記隣接層における硫黄の濃度が、0.5重量%以上である。
1つの実施形態において、上記硫黄が、硫酸由来である。
1つの実施形態において、上記偏光膜の厚みが、8μm以下である。
1つの実施形態において、上記記偏光膜中のヨウ素濃度が、3重量%以上である。
本発明の別の局面によれば、上記偏光板の製造方法であって、硫酸を含むポリビニルアルコール系樹脂水溶液を偏光膜の少なくとも一方の面に塗布して、隣接層を形成することを含み、該硫酸を含むポリビニルアルコール系樹脂水溶液のpHが、2.5以下である、製造方法が提供される。
本発明の実施形態による偏光板は、ヨウ素を含むポリビニルアルコール系樹脂フィルムで構成された偏光膜と、該偏光膜の少なくとも一方の面に設けられた硫黄を含む隣接層と、を有する。偏光板は、必要に応じて、保護層をさらに有し得る。本発明の実施形態において、隣接層に含まれる硫黄は、好ましくは硫酸由来であり、隣接層中の硫黄濃度は、好ましくは0.5重量%以上である。このような層を偏光膜に隣接して設けることにより、偏光膜の高温高湿環境下における耐久性を向上することができ、代表的には、後述するΔPを所定の範囲内にすることができる。当該隣接層の効果は、薄型偏光膜において顕著であり得る。薄型偏光膜は、厚い偏光膜に比べてヨウ素濃度が高く、ヨウ素の安定性が不十分であり、加湿耐久性が不十分になりやすいところ、上記隣接層を設けることにより加湿耐久性を顕著に改善することができる。
偏光膜は、上記のとおり、ヨウ素を含むポリビニルアルコール(PVA)系樹脂フィルムで構成される。好ましくは、PVA系樹脂フィルム(実質的には、偏光膜)を構成するPVA系樹脂は、アセトアセチル変性されたPVA系樹脂を含む。このような構成であれば、所望の機械的強度を有する偏光膜が得られ得る。アセトアセチル変性されたPVA系樹脂の配合量は、PVA系樹脂全体を100重量%としたときに、好ましくは5重量%~20重量%であり、より好ましくは8重量%~12重量%である。配合量がこのような範囲であれば、より優れた機械的強度を有する偏光膜が得られ得る。
偏光度(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1/2×100
C=R1-R0
R0=((1.50-1)2/(1.50+1)2)×(T1/100)
R1=((n1-1)2/(n1+1)2)×(T1/100)
ここで、R0は、屈折率が1.50である保護層を用いた場合の透過軸反射率であり、n1は使用する保護層の屈折率であり、T1は偏光膜の透過率である。例えば、表面屈折率が1.53である基材(シクロオレフィン系フィルム、ハードコート層付きフィルムなど)を保護層として用いる場合、補正量Cは約0.2%となる。この場合、測定により得られた透過率に0.2%を加算することで、表面の屈折率が1.53である偏光膜を屈折率が1.50である保護層を用いた場合の透過率に換算することが可能である。なお、上記式に基づく計算によれば、偏光膜の透過率T1を2%変化させたときの補正値Cの変化量は0.03%以下であり、偏光膜の透過率が補正値Cの値に与える影響は限定的である。また、保護層が表面反射以外の吸収を有する場合は、吸収量に応じて適切な補正を行うことができる。
ΔP=P240-P0
(式中、P240は耐久試験後の偏光度であり、P0は耐久試験前の偏光度(上記で説明した偏光度)である)
隣接層は、硫黄を含み、代表的には、層を形成するためのベース樹脂をさらに含む。隣接層において、硫黄は、硫黄含有化合物の形態で含まれていてもよく、硫黄含有化合物に由来するイオンの形態で含まれていてもよく、その両方であってもよい。
第1および第2の保護層は、偏光膜の保護層として使用できる任意の適切なフィルムで形成される。当該フィルムの主成分となる材料の具体例としては、トリアセチルセルロース(TAC)等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、(メタ)アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等が挙げられる。また、(メタ)アクリル系、ウレタン系、(メタ)アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。この他にも、例えば、シロキサン系ポリマー等のガラス質系ポリマーも挙げられる。また、特開2001-343529号公報(WO01/37007)に記載のポリマーフィルムも使用できる。このフィルムの材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとN-メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。当該ポリマーフィルムは、例えば、上記樹脂組成物の押出成形物であり得る。
本発明の実施形態による偏光板の製造方法は、硫酸を含むPVA系樹脂水溶液を偏光膜の少なくとも一方の面に塗布して、隣接層を形成することを含み、当該PVA系樹脂水溶液のpHは、好ましくは2.5以下である。本実施形態の偏光板の製造方法によれば、A項に記載の偏光板が好適に得られ得る。
本発明の1つの実施形態による偏光板の製造方法は、長尺状の熱可塑性樹脂基材の片側にPVA系樹脂層を形成して積層体とすること、該積層体を延伸および染色して、該PVA系樹脂層を偏光膜とすること、および、硫酸を含むPVA系樹脂水溶液を該偏光膜の少なくとも一方の面に塗布して、隣接層を形成すること、を含む。上記PVA系樹脂水溶液を塗布して硫黄を含む隣接層を形成することにより、高温高湿環境下における耐久性に優れた偏光板を実現することができる。好ましくは、積層体に、空中補助延伸処理と、染色処理と、水中延伸処理と、をこの順に施すことによって、PVA系樹脂層を偏光膜にする。該製造方法は、水中延伸処理後の積層体を長手方向に搬送しながら加熱することにより、幅方向に2%以上収縮させる乾燥収縮処理を施すこと、をさらに含むことができる。この場合、硫酸を含むPVA系樹脂水溶液の塗布は、水中延伸処理後であって乾燥収縮処理前、あるいは、乾燥収縮処理後に行われ得る。
熱可塑性樹脂基材とPVA系樹脂層との積層体を作製する方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。好ましくは、熱可塑性樹脂基材の表面に、PVA系樹脂を含む塗布液を塗布し、乾燥することにより、熱可塑性樹脂基材上にPVA系樹脂層を形成する。
特に、高い光学特性を得るためには、乾式延伸(補助延伸)と水中延伸(好ましくは、ホウ酸水中延伸)を組み合わせる、2段延伸の方法が選択される。2段延伸のように、補助延伸を導入することにより、熱可塑性樹脂基材の結晶化を抑制しながら延伸することができ、後の水中延伸(好ましくは、ホウ酸水中延伸)において熱可塑性樹脂基材の過度の結晶化により延伸性が低下するという問題を解決し、積層体をより高倍率に延伸することができる。さらには、熱可塑性樹脂基材上にPVA系樹脂を塗布する場合、熱可塑性樹脂基材のガラス転移温度の影響を抑制するために、通常の金属ドラム上にPVA系樹脂を塗布する場合と比べて塗布温度を低くする必要があり、その結果、PVA系樹脂の結晶化が相対的に低くなり、十分な光学特性が得られない、という問題が生じ得る。これに対して、補助延伸を導入することにより、熱可塑性樹脂基材上にPVA系樹脂を塗布する場合でも、PVA系樹脂の結晶性を高めることが可能となり、高い光学特性を達成することが可能となる。また、同時にPVA系樹脂の配向性を事前に高めることで、後の染色工程や延伸工程で水に浸漬された時に、PVA系樹脂の配向性の低下や溶解などの問題を防止することができ、高い光学特性を達成することが可能になる。
必要に応じて、空中補助延伸処理の後、水中延伸処理や染色処理の前に、不溶化処理を施す。上記不溶化処理は、代表的には、ホウ酸水溶液にPVA系樹脂層を浸漬することにより行う。上記染色処理は、代表的には、PVA系樹脂層をヨウ素で染色することにより行う。必要に応じて、染色処理の後、水中延伸処理の前に、架橋処理を施す。上記架橋処理は、代表的には、ホウ酸水溶液にPVA系樹脂層を浸漬させることにより行う。不溶化処理、染色処理および架橋処理の詳細については、例えば特開2012-73580号公報に記載されている。
水中延伸処理は、積層体を延伸浴に浸漬させて行う。水中延伸処理によれば、上記熱可塑性樹脂基材やPVA系樹脂層のガラス転移温度(代表的には、80℃程度)よりも低い温度で延伸し得、PVA系樹脂層を、その結晶化を抑えながら、高倍率に延伸することができる。その結果、優れた光学特性を有する偏光膜を製造することができる。
好ましくは、水中延伸処理の後、乾燥収縮処理の前に、洗浄処理を施す。上記洗浄処理は、代表的には、ヨウ化カリウム等のヨウ化物を含む水溶液にPVA系樹脂層を浸漬させることにより行う。洗浄液中のヨウ化物濃度は、好ましくは0.5重量%~10重量%、好ましくは0.5重量%~5重量%、より好ましくは1重量%~4重量%である。洗浄液の温度は、通常、10℃~50℃、好ましくは20℃~35℃である。浸漬時間は、通常、1秒~1分、好ましくは10秒~1分である。
上記乾燥収縮処理は、ゾーン全体を加熱して行うゾーン加熱により行っても良いし、搬送ロールを加熱する(いわゆる加熱ロールを用いる)ことにより行う(加熱ロール乾燥方式)こともできる。好ましくは、その両方を用いる。加熱ロールを用いて乾燥させることにより、効率的に積層体の加熱カールを抑制して、外観に優れた偏光膜を製造することができる。具体的には、加熱ロールに積層体を沿わせた状態で乾燥することにより、上記熱可塑性樹脂基材の結晶化を効率的に促進させて結晶化度を増加させることができ、比較的低い乾燥温度であっても、熱可塑性樹脂基材の結晶化度を良好に増加させることができる。その結果、熱可塑性樹脂基材は、その剛性が増加して、乾燥によるPVA系樹脂層(偏光膜)の収縮に耐え得る状態となり、カールが抑制される。また、加熱ロールを用いることにより、積層体を平らな状態に維持しながら乾燥できるので、カールだけでなくシワの発生も抑制することができる。この時、乾燥収縮処理によって積層体を幅方向に収縮させることにより、偏光膜の光学特性を向上させることができる。PVAおよびPVA/ヨウ素錯体の配向性を効果的に高めることができるからである。乾燥収縮処理による積層体の幅方向の収縮率は、好ましくは1%~10%であり、より好ましくは2%~8%であり、特に好ましくは4%~6%である。
上記のようにして得られた熱可塑性樹脂基材と偏光膜との積層体(偏光板)の偏光膜表面に、硫酸を含むPVA系樹脂水溶液を塗布して、隣接層を形成する。その結果、熱可塑性樹脂基材/偏光膜/隣接層の積層体(偏光板)が得られ得る。この場合、代表的には、熱可塑性樹脂基材がそのまま偏光膜の保護層として用いられ得る。別の実施形態においては、熱可塑性樹脂基材と偏光膜との積層体の偏光膜表面に樹脂フィルム(保護層となる)を貼り合わせて保護層/偏光膜/熱可塑性樹脂基材の積層体を作製し、当該積層体から熱可塑性樹脂基材を剥離して保護層/偏光膜の積層体(偏光板)を作製する。得られた偏光板の偏光膜表面に硫酸を含むPVA系樹脂水溶液を塗布する。その結果、保護層/偏光膜/隣接層の積層体(偏光板)が得られ得る。
B-1項では熱可塑性樹脂基材と該熱可塑性樹脂基材に塗布形成されたPVA系樹脂層との積層体を用いる偏光板の製造方法を説明したが、本発明は、単一のPVA系樹脂フィルムを用いる偏光板の製造方法にも適用され得る。このような製造方法は、代表的には、自己支持性を有するPVA系樹脂フィルムを延伸および染色して、該PVA系樹脂フィルムを偏光膜とすること、および、硫酸を含むPVA系樹脂水溶液を該偏光膜の少なくとも一方の面に塗布して、隣接層を形成することを含む。より具体的には、長尺状のPVA系樹脂フィルムを、ロール延伸機により長尺方向に一軸延伸しながら、膨潤、染色、架橋および洗浄処理を施して偏光膜を作製し、洗浄処理後の偏光膜に硫酸を含むPVA系樹脂水溶液を塗布する。硫酸を含むPVA系樹脂水溶液の塗布は、B-1-7項と同様にして行うことができる。
(1)厚み
実施例および比較例の偏光板を切削し、偏光板断面を走査電子顕微鏡(日本電子株式会社製 「JSM7100F」)を用いて観察し、隣接層の厚みを測定した。偏光膜の厚みについては、干渉膜厚計(大塚電子社製、製品名「MCPD-3000」)を用いて測定した。
(2)単体透過率、直交透過率および偏光度
実施例および比較例の偏光板(単体透過率に関しては、保護層/偏光膜の構成を有する積層体)について、紫外可視分光光度計(大塚電子社製 LPF200)を用いて測定した単体透過率Ts、平行透過率Tp、直交透過率Tcをそれぞれ、偏光膜のTs、TpおよびTcとした。これらのTs、TpおよびTcは、JIS Z8701の2度視野(C光源)により測定して視感度補正を行なったY値である。得られたTpおよびTcから、下記式を用いて偏光度を求めた。
偏光度(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1/2×100
次に、偏光板の隣接層側に、粘着剤を介し、アルカリ成分を除去したガラス(無アルカリガラス)を貼り合わせ、温度60℃および相対湿度95%に設定されたオーブンに240時間投入して耐久試験を行い、耐久試験後の偏光度P240を上記と同様にして求めた。
(3)隣接層中の硫黄濃度(S濃度)
フィルム(隣接層)中の硫黄濃度は、走査型蛍光X線分析装置(リガク社製 ZSX PRIMUS IV)を用いて、下記の手順で求められる:まず、厚み(μm)、硫黄濃度(重量%)が既知の試料(例えば、一定量のNa2SO4を添加したPVA系樹脂フィルム)の蛍光X線強度(kcps)を測定し、検量線を作成する。フィルム中の硫黄濃度の検量線は、以下の式で表される:
(硫黄濃度)=A×(蛍光X線強度)/(フィルム厚み)-B
ここで、AおよびBは測定装置ごとに異なる定数である。例えば、測定装置としてZSX PRIMUS IV(測定試料径:30mm)を用いる場合、Aは「0.0005」であり、Bは「0.0005」である。
(4)隣接層中のナトリウム濃度(Na濃度)
フィルム(隣接層)中のナトリウム濃度は、走査型蛍光X線分析装置(リガク社製 ZSX PRIMUS IV)を用いて、下記の手順で求められる:まず、厚み(μm)、ナトリウム濃度(重量%)が既知の試料(例えば、一定量のNaClを添加したPVA系樹脂フィルム)の蛍光X線強度(kcps)を測定し、検量線を作成する。フィルム中のナトリウム濃度の検量線は、以下の式で表される:
(ナトリウム濃度)=A×(蛍光X線強度)/(フィルム厚み)-B
ここで、AおよびBは測定装置ごとに異なる定数である。例えば、測定装置としてZSX PRIMUS IV(測定試料径:30mm)を用いる場合、Aは「0.0054」であり、Bは「0.0027」である。
熱可塑性樹脂基材として、長尺状で、Tg約75℃である、非晶質のイソフタル共重合ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚み:100μm)を用い、樹脂基材の片面に、コロナ処理を施した。
ポリビニルアルコール(重合度4200、ケン化度99.2モル%)およびアセトアセチル変性PVA(日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセファイマー」)を9:1で混合したPVA系樹脂100重量部に、ヨウ化カリウム13重量部を添加したものを水に溶かし、PVA水溶液(塗布液)を調製した。
樹脂基材のコロナ処理面に、上記PVA水溶液を塗布して60℃で乾燥することにより、厚み13μmのPVA系樹脂層を形成し、積層体を作製した。
得られた積層体を、130℃のオーブン内で縦方向(長手方向)に2.4倍に一軸延伸した(空中補助延伸処理)。
次いで、積層体を、液温40℃の不溶化浴(水100重量部に対して、ホウ酸を4重量部配合して得られたホウ酸水溶液)に30秒間浸漬させた(不溶化処理)。
次いで、液温30℃の染色浴(水100重量部に対して、ヨウ素とヨウ化カリウムを1:7の重量比で配合して得られたヨウ素水溶液)に、最終的に得られる偏光板の単体透過率(Ts)が44.0%となるように濃度を調整しながら60秒間浸漬させた(染色処理)。
次いで、液温40℃の架橋浴(水100重量部に対して、ヨウ化カリウムを3重量部配合し、ホウ酸を5重量部配合して得られたホウ酸水溶液)に30秒間浸漬させた(架橋処理)。
その後、積層体を、液温70℃のホウ酸水溶液(ホウ酸濃度4重量%、ヨウ化カリウム濃度5重量%)に浸漬させながら、周速の異なるロール間で縦方向(長手方向)に総延伸倍率が5.5倍となるように一軸延伸を行った(水中延伸処理)。
その後、積層体を液温20℃の洗浄浴(水100重量部に対して、ヨウ化カリウムを4重量部配合して得られた水溶液)に浸漬させた(洗浄処理)。
その後、約90℃に保たれたオーブン中で乾燥しながら、表面温度が約75℃に保たれたSUS製の加熱ロールに接触させた(乾燥収縮処理)。乾燥収縮処理による積層体の幅方向の収縮率は2%であった。
このようにして、樹脂基材上に厚み5.0μmの偏光膜を形成し、偏光膜表面に、保護層(保護フィルム)としてのシクロオレフィン系フィルム(ZEON社製、製品名「G-Film」)をUV硬化型接着剤(厚み1.0μm)により貼り合わせ、その後、樹脂基材を剥離して保護層/偏光膜の構成を有する積層体を得た。得られた積層体の単体透過率(Ts)は、44.0%であり、これは、当該積層体を構成する偏光膜/保護層の表面屈折率が1.53/1.53であるため、実際の測定値に+0.2%補正し、1.53/1.50の状態に換算した値である。
次いで、積層体の偏光膜表面に、硫酸を含むPVA系樹脂水溶液(H2SO4含有PVA水溶液)を塗布した。当該H2SO4含有PVA水溶液は、硫酸を1.4重量%およびポリビニルアルコール(重合度2600、ケン化度99.98モル%)を3.5重量%含み、pHは0.9であった。H2SO4含有PVA水溶液の塗布膜を60℃で5分乾燥し、厚み0.4μmの隣接層を形成し、保護層/偏光膜/隣接層の構成を有する偏光板を得た。
隣接層の厚みが0.9μmになるようにH2SO4含有PVA水溶液を塗布したこと以外は実施例1-1と同様にして偏光板を作製した。得られた偏光板(実質的には、偏光膜)について、ΔPならびに隣接層中のS濃度およびNa濃度を表1に示す。
H2SO4含有PVA水溶液のpHを1.0としたこと(H2SO4含有PVA水溶液中の硫酸濃度は1.01重量%)および隣接層の厚みが0.7μmになるようにH2SO4含有PVA水溶液を塗布したこと以外は実施例1-1と同様にして偏光板を作製した。得られた偏光板(実質的には、偏光膜)について、ΔPならびに隣接層中のS濃度およびNa濃度を表1に示す。
H2SO4含有PVA水溶液のpHを1.2としたこと(H2SO4含有PVA水溶液中の硫酸濃度は0.58重量%)および隣接層の厚みが0.7μmになるようにH2SO4含有PVA水溶液を塗布したこと以外は実施例1-1と同様にして偏光板を作製した。得られた偏光板(実質的には、偏光膜)について、ΔPならびに隣接層中のS濃度およびNa濃度を表1に示す。
H2SO4含有PVA水溶液のpHを1.5としたこと(H2SO4含有PVA水溶液中の硫酸濃度は0.35重量%)および隣接層の厚みが0.7μmになるようにH2SO4含有PVA水溶液を塗布したこと以外は実施例1-1と同様にして偏光板を作製した。得られた偏光板(実質的には、偏光膜)について、ΔPならびに隣接層中のS濃度およびNa濃度を表1に示す。
H2SO4含有PVA水溶液のpHを1.7としたこと(H2SO4含有PVA水溶液中の硫酸濃度は0.19重量%)および隣接層の厚みが0.7μmになるようにH2SO4含有PVA水溶液を塗布したこと以外は実施例1-1と同様にして偏光板を作製した。得られた偏光板(実質的には、偏光膜)について、ΔPならびに隣接層中のS濃度およびNa濃度を表1に示す。
H2SO4含有PVA水溶液のpHを2.0としたこと(H2SO4含有PVA水溶液中の硫酸濃度は0.11重量%)および隣接層の厚みが0.7μmになるようにH2SO4含有PVA水溶液を塗布したこと以外は実施例1-1と同様にして偏光板を作製した。得られた偏光板(実質的には、偏光膜)について、ΔPならびに隣接層中のS濃度およびNa濃度を表1に示す。
H2SO4含有PVA水溶液のpHを2.6としたこと(H2SO4含有PVA水溶液中の硫酸濃度は0.04重量%)および隣接層の厚みが1.2μmになるようにH2SO4含有PVA水溶液を塗布したこと以外は実施例1-1と同様にして偏光板を作製した。得られた偏光板(実質的には、偏光膜)について、ΔPならびに隣接層中のS濃度およびNa濃度を表1に示す。
H2SO4含有PVA水溶液の代わりに、硫酸ナトリウムを0.2重量%およびポリビニルアルコール(重合度2600、ケン化度99.98モル%)を3.5重量%含むNa2SO4含有PVA水溶液(pH=6.3)を用いたことおよび隣接層の厚みが1.2μmになるようにNa2SO4含有PVA水溶液を塗布したこと以外は実施例1-1と同様にして偏光板を作製した。得られた偏光板(実質的には、偏光膜)について、ΔPならびに隣接層中のS濃度およびNa濃度を表1に示す。
H2SO4含有PVA水溶液を塗布しなかったこと(結果として、隣接層を形成しなかったこと)以外は実施例1-1と同様にして、保護層/偏光膜の構成を有する偏光板(Ts:44.0%)を得た。得られた偏光板(実質的には、偏光膜)について、ΔPを表1に示す。なお、得られた偏光板(実質的には、偏光膜)の耐久試験前の偏光度P0は、99.90%であり、これは、上記隣接層を備える実施例および比較例の偏光板のP0と概ね同じ値であった。
12 偏光膜
14 隣接層
16 第1の保護層
18 第2の保護層
Claims (6)
- ヨウ素を含むポリビニルアルコール系樹脂フィルムで構成された偏光膜と、該偏光膜の少なくとも一方の面に設けられた硫黄を含む隣接層(ただし、ポリビニルアルコール系樹脂の架橋剤を含む層およびオキサゾリン基含有重合体を含む層を除く)と、を有し、
該硫黄が硫酸由来であり、
該隣接層における該硫黄の濃度が、1.5重量%以上であり、
該隣接層が、ポリビニルアルコール系樹脂をさらに含み、
該隣接層の厚みが、0.3μm以上である、偏光板。 - 前記隣接層における硫黄の濃度が、3.2重量%以上である、請求項1に記載の偏光板。
- 前記隣接層の厚みが、3μm以下である、請求項1または2に記載の偏光板。
- 前記偏光膜の厚みが、8μm以下である、請求項1から3のいずれかに記載の偏光板。
- 前記偏光膜中のヨウ素濃度が、3重量%以上である、請求項1から4のいずれかに記載の偏光板。
- 請求項1から5のいずれかに記載の偏光板の製造方法であって、
硫酸を含むポリビニルアルコール系樹脂水溶液(ただし、ポリビニルアルコール系樹脂の架橋剤を含むポリビニルアルコール系樹脂水溶液およびオキサゾリン基含有重合体を含むポリビニルアルコール系樹脂水溶液を除く)を偏光膜の少なくとも一方の面に塗布して、隣接層を形成することを含み、
該硫酸を含むポリビニルアルコール系樹脂水溶液のpHが、2.0以下であり、
該隣接層の厚みが、0.3μm以上である、製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019117772A JP7300326B2 (ja) | 2019-06-25 | 2019-06-25 | 偏光板および該偏光板の製造方法 |
PCT/JP2020/023388 WO2020262068A1 (ja) | 2019-06-25 | 2020-06-15 | 偏光板および該偏光板の製造方法 |
KR1020217040299A KR20220023980A (ko) | 2019-06-25 | 2020-06-15 | 편광판 및 해당 편광판의 제조 방법 |
CN202080046260.6A CN114026473A (zh) | 2019-06-25 | 2020-06-15 | 偏光板和该偏光板的制造方法 |
TW109121125A TW202108386A (zh) | 2019-06-25 | 2020-06-22 | 偏光板及該偏光板之製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019117772A JP7300326B2 (ja) | 2019-06-25 | 2019-06-25 | 偏光板および該偏光板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021004944A JP2021004944A (ja) | 2021-01-14 |
JP7300326B2 true JP7300326B2 (ja) | 2023-06-29 |
Family
ID=74061934
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019117772A Active JP7300326B2 (ja) | 2019-06-25 | 2019-06-25 | 偏光板および該偏光板の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7300326B2 (ja) |
KR (1) | KR20220023980A (ja) |
CN (1) | CN114026473A (ja) |
TW (1) | TW202108386A (ja) |
WO (1) | WO2020262068A1 (ja) |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005062458A (ja) | 2003-08-12 | 2005-03-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 偏光板及び液晶表示装置 |
WO2006095815A1 (ja) | 2005-03-10 | 2006-09-14 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | ヨウ素系偏光フィルム、その製造方法及びそれを用いた偏光板 |
JP2008070571A (ja) | 2006-09-14 | 2008-03-27 | Nippon Kayaku Co Ltd | 高耐久性偏光板 |
JP2009042385A (ja) | 2007-08-07 | 2009-02-26 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 偏光板およびその製造方法 |
JP2009193047A (ja) | 2008-01-17 | 2009-08-27 | Nitto Denko Corp | 偏光板、その製造方法、光学フィルムおよび画像表示装置 |
JP2012014148A (ja) | 2010-06-04 | 2012-01-19 | Fujifilm Corp | 偏光板および液晶表示装置 |
JP2016153883A (ja) | 2015-02-13 | 2016-08-25 | 日東電工株式会社 | 偏光フィルム、粘着剤層付偏光フィルム並びに画像表示装置およびその連続製造方法 |
WO2019103002A1 (ja) | 2017-11-24 | 2019-05-31 | 日東電工株式会社 | 偏光子および偏光板 |
WO2019116969A1 (ja) | 2017-12-11 | 2019-06-20 | 住友化学株式会社 | 硬化性組成物、光学積層体及び画像表示装置 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001154020A (ja) * | 1999-11-29 | 2001-06-08 | Nitto Denko Corp | 偏光板及び光学部材 |
JP2001343521A (ja) | 2000-05-31 | 2001-12-14 | Sumitomo Chem Co Ltd | 偏光板及びその製造方法 |
-
2019
- 2019-06-25 JP JP2019117772A patent/JP7300326B2/ja active Active
-
2020
- 2020-06-15 WO PCT/JP2020/023388 patent/WO2020262068A1/ja active Application Filing
- 2020-06-15 CN CN202080046260.6A patent/CN114026473A/zh active Pending
- 2020-06-15 KR KR1020217040299A patent/KR20220023980A/ko active Search and Examination
- 2020-06-22 TW TW109121125A patent/TW202108386A/zh unknown
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005062458A (ja) | 2003-08-12 | 2005-03-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 偏光板及び液晶表示装置 |
WO2006095815A1 (ja) | 2005-03-10 | 2006-09-14 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | ヨウ素系偏光フィルム、その製造方法及びそれを用いた偏光板 |
JP2008070571A (ja) | 2006-09-14 | 2008-03-27 | Nippon Kayaku Co Ltd | 高耐久性偏光板 |
JP2009042385A (ja) | 2007-08-07 | 2009-02-26 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 偏光板およびその製造方法 |
JP2009193047A (ja) | 2008-01-17 | 2009-08-27 | Nitto Denko Corp | 偏光板、その製造方法、光学フィルムおよび画像表示装置 |
JP2012014148A (ja) | 2010-06-04 | 2012-01-19 | Fujifilm Corp | 偏光板および液晶表示装置 |
JP2016153883A (ja) | 2015-02-13 | 2016-08-25 | 日東電工株式会社 | 偏光フィルム、粘着剤層付偏光フィルム並びに画像表示装置およびその連続製造方法 |
WO2019103002A1 (ja) | 2017-11-24 | 2019-05-31 | 日東電工株式会社 | 偏光子および偏光板 |
WO2019116969A1 (ja) | 2017-12-11 | 2019-06-20 | 住友化学株式会社 | 硬化性組成物、光学積層体及び画像表示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2021004944A (ja) | 2021-01-14 |
CN114026473A (zh) | 2022-02-08 |
KR20220023980A (ko) | 2022-03-03 |
TW202108386A (zh) | 2021-03-01 |
WO2020262068A1 (ja) | 2020-12-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2022173190A (ja) | 位相差層付き偏光板 | |
WO2019054268A1 (ja) | 偏光板、偏光板ロール、および偏光膜の製造方法 | |
JP2022111165A (ja) | 偏光膜、偏光板、および該偏光膜の製造方法 | |
JP7312038B2 (ja) | 偏光板の製造方法 | |
JP2023130424A (ja) | 偏光膜 | |
JP2023090724A (ja) | 偏光板 | |
JP7280349B2 (ja) | 偏光膜、偏光板、および該偏光膜の製造方法 | |
JP7165805B2 (ja) | 偏光膜、偏光板、および該偏光膜の製造方法 | |
JP7300326B2 (ja) | 偏光板および該偏光板の製造方法 | |
JP7300325B2 (ja) | 偏光板および該偏光板の製造方法 | |
JP7219017B2 (ja) | 偏光膜の製造方法 | |
JP7267396B2 (ja) | 偏光膜、偏光板、および該偏光膜の製造方法 | |
WO2019054269A1 (ja) | 偏光板、偏光板ロール、および偏光膜の製造方法 | |
JP7165813B2 (ja) | 偏光膜、偏光板および該偏光膜の製造方法 | |
JP7421276B2 (ja) | 偏光膜、偏光板、および該偏光膜の製造方法 | |
WO2020261778A1 (ja) | 偏光膜、偏光板、および該偏光膜の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20211026 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20221018 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20221209 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230221 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230417 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230613 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230619 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7300326 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |