JP7280349B2 - 偏光膜、偏光板、および該偏光膜の製造方法 - Google Patents
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Description
1つの実施形態において、飛行時間型二次イオン質量分析法を用いた断面分析において、(CN-)と(C2H-)とのイオン強度比(CN-/C2H-)が0.15以上の領域が、上記表層部の表面から厚み方向に300nm以上存在する。
1つの実施形態において、上記窒素含有化合物が、ジアゾ系化合物を含む。
1つの実施形態において、上記偏光膜の厚みが、8μm以下である。
本発明の別の局面によれば、上記偏光膜と、該偏光膜の少なくとも一方の側に配置された保護層と、を有する、偏光板が提供される。
本発明の別の局面によれば、上記偏光膜の製造方法であって、長尺状の熱可塑性樹脂基材の片側にポリビニルアルコール系樹脂層を形成して積層体とすること、該積層体を延伸および染色して、該ポリビニルアルコール系樹脂層を偏光膜とすること、および、該偏光膜を、ジアゾ系化合物を含有する処理液と接触させること、を含む、製造方法が提供される。
1つの実施形態において、上記製造方法は、長尺状の熱可塑性樹脂基材の片側にポリビニルアルコール系樹脂層を形成して積層体とすること、該積層体に、空中補助延伸処理と、染色処理と、水中延伸処理と、をこの順に施して、該ポリビニルアルコール系樹脂層を偏光膜とすること、および、該積層体を長手方向に搬送しながら加熱することにより、幅方向に2%以上収縮させる乾燥収縮処理を施すこと、を含み、該水中延伸処理後であって該乾燥収縮処理前または該乾燥収縮処理後に、該偏光膜を、ジアゾ系化合物を含有する処理液と接触させる。
1つの実施形態において、上記乾燥収縮処理が、加熱ロールを用いて行われる。
1つの実施形態において、上記加熱ロールの温度が60℃~120℃である。
1つの実施形態において、上記ポリビニルアルコール系樹脂層が、ポリビニルアルコール系樹脂とヨウ化物または塩化ナトリウムとを含む。
本発明のさらに別の局面によれば、上記偏光膜の製造方法であって、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを延伸および染色して、該ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを偏光膜とすること、および、該偏光膜を、ジアゾ系化合物を含有する処理液と接触させること、を含む、製造方法が提供される。
1つの実施形態において、上記偏光膜を上記処理液と接触させることが、ジアゾ系化合物を0.2重量%以上の濃度で含有する処理液を上記偏光膜の表面に塗布することを含む。
1つの実施形態において、上記偏光膜を上記処理液と接触させることが、ジアゾ系化合物を0.01重量%以上の濃度で含有する処理液中に上記偏光膜を浸漬することを含む。
本発明の実施形態による偏光膜は、ヨウ素を含むポリビニルアルコール(PVA)系樹脂フィルムで構成され、少なくとも一方の表層部に窒素含有化合物を含む。図1Aおよび図1Bはそれぞれ、本発明の1つの実施形態における偏光膜の概略断面図である。図1Aに示される偏光膜10aは、一方の表層部12においてのみ窒素含有化合物を含んでいる。図1Bに示される偏光膜10bは、両方の表層部12、14において窒素含有化合物を含んでいる。偏光膜が少なくとも一方の表層部に窒素含有化合物を含むことにより、高温高湿下における偏光度の低下が抑制され、耐久性が向上し得る。
偏光度(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1/2×100
ΔP=P240-P0
(式中、P240は耐久試験後の偏光度であり、P0は耐久試験前の偏光度(上記で説明した偏光度)である)
図2Aおよび図2Bはそれぞれ、本発明の1つの実施形態による偏光板の概略断面図である。図2Aに示される偏光板100aは、偏光膜10と、偏光膜10の一方の側に配置された第1の保護層20と、を有する。図2Bに示される偏光板100bは、偏光膜10と、偏光膜10の一方の側に配置された第1の保護層20と、偏光膜10の他方の側に配置された第2の保護層30とを有する。偏光膜10は、上記A項で説明した偏光膜である。A項で説明した偏光膜を含むことにより、本実施形態による偏光板は、高温高湿下における偏光度の低下が抑制され、優れた耐久性を発揮し得る。第1の保護層20または第2の保護層30は、偏光膜の製造の際に用いられる熱可塑性樹脂基材であってもよい。また、偏光膜の一方の側のみに保護層が配置される実施形態において、偏光膜が一方の表層部のみに窒素含有化合物を含む場合、窒素含有化合物を含む表層部は、保護層が配置される側であってもよく、その反対側であってもよい。好ましくは、図2Aに示されるように、偏光膜10の保護層20が配置される側と反対側の表層部が、窒素含有化合物を含む表層部12である。
本発明の偏光膜の製造方法は、代表的には、偏光膜の少なくとも一方の表面に、ジアゾ系化合物を含有する処理液を接触させることを含む。偏光膜の表面にジアゾ系化合物を含有する処理液を接触させることにより、ジアゾ系化合物が偏光膜の表面に染込み、これにより、A項に記載されるような高温高湿環境下における耐久性に優れた偏光膜を得ることができる。
本発明の1つの実施形態による偏光膜の製造方法は、長尺状の熱可塑性樹脂基材の片側にポリビニルアルコール系樹脂層を形成して積層体とすること、該積層体を延伸および染色して、該ポリビニルアルコール系樹脂層を偏光膜とすること、および、該偏光膜を、窒素含有化合物(代表的には、ジアゾ系化合物)を含有する処理液と接触させること、を含む。好ましくは、積層体に、空中補助延伸処理と、染色処理と、水中延伸処理と、をこの順に施すことによって、ポリビニルアルコール系樹脂層を偏光膜にする。該製造方法は、水中延伸処理後の積層体を長手方向に搬送しながら加熱することにより、幅方向に2%以上収縮させる乾燥収縮処理を施すこと、をさらに含むことができる。この場合、偏光膜と処理液との接触は、水中延伸処理後であって乾燥収縮処理前、あるいは、乾燥収縮処理後に行われ得る。
熱可塑性樹脂基材とPVA系樹脂層との積層体を作製する方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。好ましくは、熱可塑性樹脂基材の表面に、PVA系樹脂を含む塗布液を塗布し、乾燥することにより、熱可塑性樹脂基材上にPVA系樹脂層を形成する。
特に、高い光学特性を得るためには、乾式延伸(補助延伸)と水中延伸(好ましくは、ホウ酸水中延伸)を組み合わせる、2段延伸の方法が選択される。2段延伸のように、補助延伸を導入することにより、熱可塑性樹脂基材の結晶化を抑制しながら延伸することができ、後の水中延伸(好ましくは、ホウ酸水中延伸)において熱可塑性樹脂基材の過度の結晶化により延伸性が低下するという問題を解決し、積層体をより高倍率に延伸することができる。さらには、熱可塑性樹脂基材上にPVA系樹脂を塗布する場合、熱可塑性樹脂基材のガラス転移温度の影響を抑制するために、通常の金属ドラム上にPVA系樹脂を塗布する場合と比べて塗布温度を低くする必要があり、その結果、PVA系樹脂の結晶化が相対的に低くなり、十分な光学特性が得られない、という問題が生じ得る。これに対して、補助延伸を導入することにより、熱可塑性樹脂上にPVA系樹脂を塗布する場合でも、PVA系樹脂の結晶性を高めることが可能となり、高い光学特性を達成することが可能となる。また、同時にPVA系樹脂の配向性を事前に高めることで、後の染色工程や延伸工程で水に浸漬された時に、PVA系樹脂の配向性の低下や溶解などの問題を防止することができ、高い光学特性を達成することが可能になる。
必要に応じて、空中補助延伸処理の後、水中延伸処理や染色処理の前に、不溶化処理を施す。上記不溶化処理は、代表的には、ホウ酸水溶液にPVA系樹脂層を浸漬することにより行う。上記染色処理は、代表的には、PVA系樹脂層をヨウ素で染色することにより行う。必要に応じて、染色処理の後、水中延伸処理の前に、架橋処理を施す。上記架橋処理は、代表的には、ホウ酸水溶液にPVA系樹脂層を浸漬させることにより行う。不溶化処理、染色処理および架橋処理の詳細については、例えば特開2012-73580号公報に記載されている。
水中延伸処理は、積層体を延伸浴に浸漬させて行う。水中延伸処理によれば、上記熱可塑性樹脂基材やPVA系樹脂層のガラス転移温度(代表的には、80℃程度)よりも低い温度で延伸し得、PVA系樹脂層を、その結晶化を抑えながら、高倍率に延伸することができる。その結果、優れた光学特性を有する偏光膜を製造することができる。
好ましくは、水中延伸処理の後、乾燥収縮処理の前に、洗浄処理を施す。上記洗浄処理は、代表的には、ヨウ化カリウム等のヨウ化物を含む水溶液にPVA系樹脂層を浸漬させることにより行う。洗浄液中のヨウ化物濃度は、好ましくは0.5重量%~10重量%、好ましくは0.5重量%~5重量%、より好ましくは1重量%~4重量%である。洗浄液の温度は、通常、10℃~50℃、好ましくは20℃~35℃である。浸漬時間は、通常、1秒~1分、好ましくは10秒~1分である。
上記乾燥収縮処理は、熱可塑性樹脂基材と偏光膜との積層体を長手方向に搬送しながら加熱することによって行い、これにより、幅方向に2%以上収縮させる。乾燥収縮処理は、ゾーン全体を加熱して行うゾーン加熱により行っても良いし、搬送ロールを加熱する(いわゆる加熱ロールを用いる)ことにより行う(加熱ロール乾燥方式)こともできる。好ましくは、その両方を用いる。加熱ロールを用いて乾燥させることにより、効率的に積層体の加熱カールを抑制して、外観に優れた偏光膜を製造することができる。具体的には、加熱ロールに積層体を沿わせた状態で乾燥することにより、上記熱可塑性樹脂基材の結晶化を効率的に促進させて結晶化度を増加させることができ、比較的低い乾燥温度であっても、熱可塑性樹脂基材の結晶化度を良好に増加させることができる。その結果、熱可塑性樹脂基材は、その剛性が増加して、乾燥によるPVA系樹脂層(偏光膜)の収縮に耐え得る状態となり、カールが抑制される。また、加熱ロールを用いることにより、積層体を平らな状態に維持しながら乾燥できるので、カールだけでなくシワの発生も抑制することができる。この時、乾燥収縮処理によって積層体を幅方向に収縮させることにより、偏光膜の光学特性を向上させることができる。PVAおよびPVA/ヨウ素錯体の配向性を効果的に高めることができるからである。乾燥収縮処理による積層体の幅方向の収縮率は、好ましくは1%~10%であり、より好ましくは2%~8%であり、特に好ましくは4%~6%である。
偏光膜と、窒素含有化合物(代表的には、ジアゾ系化合物)を含有する処理液との接触は、任意の適切なタイミングで行われ得る。1つの実施形態においては、水中延伸処理後であって乾燥収縮処理前の積層体を処理液との接触に供することができる。別の実施形態においては、加熱収縮処理後の積層体をそのまま処理液との接触に供することができる。これらの実施形態においては、熱可塑性樹脂基材が積層体から剥離されることなく、偏光膜の保護層として用いられ得る。さらに別の実施形態においては、加熱収縮処理後の積層体の偏光膜表面に樹脂フィルム(保護層となる)を貼り合わせ、次いで、熱可塑性樹脂基材を剥離することにより、保護層/偏光膜の積層体(偏光板)を作製し、得られた偏光板を、窒素含有化合物(代表的には、ジアゾ系化合物)を含有する処理液との接触に供することができる。
C-1項では熱可塑性樹脂基材と該熱可塑性樹脂基材に塗布形成されたPVA系樹脂層との積層体を用いる偏光膜の製造方法を説明したが、本発明は、単一のPVA系樹脂フィルムを用いる偏光膜の製造方法にも適用され得る。このような製造方法は、代表的には、自己支持性を有するPVA系樹脂フィルムを延伸および染色して、該ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを偏光膜とすること、および、該偏光膜を、ジアゾ系化合物を含有する処理液と接触させること、を含む。より具体的には、長尺状のPVA系樹脂フィルムを、ロール延伸機により長尺方向に一軸延伸しながら、膨潤、染色、架橋および洗浄処理を施し、最後に乾燥処理を施すことを含み、処理液との接触は、例えば、洗浄浴を兼ねる処理液の浴への浸漬、洗浄処理後の処理液の浴への浸漬、または、洗浄処理後の処理液の塗布により行われ得る。処理液との接触は、C-1-7項と同様にして行うことができる。
(1)厚み
干渉膜厚計(大塚電子社製、製品名「MCPD-3000」)を用いて測定した。
(2)単体透過率、直交透過率および偏光度
実施例および比較例の偏光板について、紫外可視分光光度計(大塚電子社製 LPF200)を用いて測定した単体透過率Ts、平行透過率Tp、直交透過率Tcをそれぞれ、偏光膜のTs、TpおよびTcとした。これらのTs、TpおよびTcは、JIS Z8701の2度視野(C光源)により測定して視感度補正を行なったY値である。得られたTpおよびTcから、下記式を用いて偏光度を求めた。
偏光度(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1/2×100
次に、偏光板の偏光膜側に、粘着剤を介し、アルカリ成分を除去したガラス(無アルカリガラス)を貼り合わせ、温度60℃および相対湿度95%に設定されたオーブンに240時間投入して耐久試験を行い、耐久試験後の偏光度P240を上記と同様にして求めた。
(3)ジアゾ系化合物の染込み層厚み
飛行時間型質量分析計(アルバック・ファイ社製、「TRIFT V」)を用いて、偏光膜の断面分析(厚み方向分析)を行った。C2H-由来のシグナル強度に対するCN-由来のシグナル強度が0.15以上となる領域をジアゾ系化合物の染込み層として、その深さを求めた。
熱可塑性樹脂基材として、長尺状で、Tg約75℃である、非晶質のイソフタル共重合ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚み:100μm)を用い、樹脂基材の片面に、コロナ処理を施した。
ポリビニルアルコール(重合度4200、ケン化度99.2モル%)およびアセトアセチル変性PVA(日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセファイマー」)を9:1で混合したPVA系樹脂100重量部に、ヨウ化カリウム13重量部を添加したものを水に溶かし、PVA水溶液(塗布液)を調製した。
樹脂基材のコロナ処理面に、上記PVA水溶液を塗布して60℃で乾燥することにより、厚み13μmのPVA系樹脂層を形成し、積層体を作製した。
得られた積層体を、130℃のオーブン内で縦方向(長手方向)に2.4倍に一軸延伸した(空中補助延伸処理)。
次いで、積層体を、液温40℃の不溶化浴(水100重量部に対して、ホウ酸を4重量部配合して得られたホウ酸水溶液)に30秒間浸漬させた(不溶化処理)。
次いで、液温30℃の染色浴(水100重量部に対して、ヨウ素とヨウ化カリウムを1:7の重量比で配合して得られたヨウ素水溶液)に、処理液との接触前の偏光膜の単体透過率(Ts)が47.0%となるように濃度を調整しながら60秒間浸漬させた(染色処理)。
次いで、液温40℃の架橋浴(水100重量部に対して、ヨウ化カリウムを3重量部配合し、ホウ酸を5重量部配合して得られたホウ酸水溶液)に30秒間浸漬させた(架橋処理)。
その後、積層体を、液温70℃のホウ酸水溶液(ホウ酸濃度4重量%、ヨウ化カリウム濃度5重量%)に浸漬させながら、周速の異なるロール間で縦方向(長手方向)に総延伸倍率が5.5倍となるように一軸延伸を行った(水中延伸処理)。
その後、積層体を液温20℃の洗浄浴(水100重量部に対して、ヨウ化カリウムを4重量部配合して得られた水溶液)に浸漬させた(洗浄処理)。
その後、約90℃に保たれたオーブン中で乾燥しながら、表面温度が約75℃に保たれたSUS製の加熱ロールに接触させた(乾燥収縮処理)。乾燥収縮処理による積層体の幅方向の収縮率は2%であった。
このようにして、樹脂基材上に厚み5.0μm(Ts:47.0%)の偏光膜を形成し、偏光膜表面に、保護層(保護フィルム)としてのシクロオレフィン系フィルム(ZEON社製、製品名「G-Film」)をUV硬化型接着剤(厚み1.0μm)により貼り合わせ、その後、樹脂基材を剥離して保護層/偏光膜の構成を有する偏光板を得た。
次いで、積層体の偏光膜表面に、0.5重量%の濃度となるように4-フェニルアミノベンゼンジアゾニウム硫酸塩を水に溶解して得られた処理液を10g/m2の塗布量で塗布し、50℃で5分乾燥した。
その後、コンベア式UV照射器にて300mJ/cm2露光し、架橋処理を施した。
このようにして、保護層が設けられていない側にジアゾ系化合物の染込み層を有する偏光膜と保護層との積層体(偏光板)を得た。
処理液との接触前の偏光膜の単体透過率(Ts)が45.0%となるように染色浴の濃度を調整したこと以外は実施例1と同様にして偏光板を作製した。
処理液との接触前の偏光膜の単体透過率(Ts)が43.8%となるように染色浴の濃度を調整したこと以外は実施例1と同様にして偏光板を作製した。
処理液との接触前の偏光膜の単体透過率(Ts)が42.7%となるように染色浴の濃度を調整したこと以外は実施例1と同様にして偏光板を作製した。
処理液との接触前の偏光膜の単体透過率(Ts)が43.8%となるように染色浴の濃度を調整したこと、および、処理液における4-フェニルアミノベンゼンジアゾニウム硫酸塩の濃度を1.0重量%にしたこと以外は実施例1と同様にして偏光板を作製した。
厚み55μmのPVA系樹脂フィルム(日本合成社製、製品名「PS7500」)の長尺ロールを、ロール延伸機により総延伸倍率が6.0倍になるようにして長尺方向に一軸延伸しながら、同時に膨潤、染色、架橋および洗浄処理を施して、単体透過率(Ts)が43.4%の偏光膜を作製した。次いで、偏光膜の一方の面に実施例1と同様の処理液を実施例1と同様にして塗布し、乾燥および架橋処理を施した。なお、洗浄処理は、偏光膜を液温20℃の洗浄浴(4重量%のヨウ化カリウム水溶液)に5秒間浸漬することによって行った。
このようにして、一方の面にジアゾ系化合物の染込み層を有する偏光膜(厚み:23μm)を得た。
処理液との接触前の偏光膜の単体透過率(Ts)が43.7%となるように染色浴の濃度を調整したこと以外は実施例1と同様にして、熱可塑性樹脂基材/PVA系樹脂層の積層体を空中補助延伸処理、不溶化処理、染色処理、架橋処理および水中延伸処理に供した。水中延伸処理された積層体を、洗浄浴の代わりに液温20℃の処理液(0.1重量%の4-フェニルアミノベンゼンジアゾニウム硫酸塩および4重量%のヨウ化カリウムを含む水溶液)の浴に5秒間浸漬させ、実施例1と同様に乾燥および架橋処理を行った。
その後、90℃に保たれたオーブン中で乾燥しながら、表面温度が75℃に保たれたSUS製の加熱ロールに約2秒接触させた(乾燥収縮処理)。乾燥収縮処理による積層体の幅方向の収縮率は2%であった。
次いで、偏光膜表面に、保護層(保護フィルム)としてのシクロオレフィン系フィルム(ZEON社製、製品名「G-Film」)をUV硬化型接着剤(厚み1.0μm)により貼り合わせ、その後、樹脂基材を剥離した。このようにして、保護層が設けられている側にジアゾ系化合物の染込み層を有する偏光膜(厚み:5μm)と保護層との積層体(偏光板)を得た。
処理液の塗布、乾燥および架橋処理を行わなかったこと以外は実施例1と同様にして、偏光膜(厚み:5.0μm)と保護層との積層体(偏光板)を得た。
処理液との接触前の偏光膜の単体透過率(Ts)が45.0%となるように染色浴の濃度を調整したこと、および、処理液の塗布、乾燥および架橋処理を行わなかったこと以外は実施例1と同様にして偏光板を作製した。
処理液との接触前の偏光膜の単体透過率(Ts)が43.8%となるように染色浴の濃度を調整したこと、および、処理液の塗布、乾燥および架橋処理を行わなかったこと以外は実施例1と同様にして偏光板を作製した。
処理液との接触前の偏光膜の単体透過率(Ts)が42.8%となるように染色浴の濃度を調整したこと、および、処理液の塗布、乾燥および架橋処理を行わなかったこと以外は実施例1と同様にして偏光板を作製した。
処理液の塗布、乾燥および架橋処理を行わなかったこと以外は実施例6と同様にして、偏光膜(厚み:23μm)を得た。
20 第1の保護層
30 第2の保護層
100 偏光板
Claims (12)
- ヨウ素を含むポリビニルアルコール系樹脂フィルムで構成され、少なくとも一方の表層部に窒素含有化合物を含み、
少なくとも一部の該ヨウ素と少なくとも一部の該ポリビニルアルコール系樹脂とが錯体を形成しており、
該窒素含有化合物が、塩化ベンゼンジアゾニウム、p-アミノアゾベンゼン、4-ジアゾ-4’-メトキシジフェニルアミン硫酸塩、4-ジアゾジフェニルアミンスルファート、4-フェニルアミノベンゼンジアゾニウム硫酸塩、4,4’-ビス(ジアゾ)ジフェニル硫酸塩、および4,4’-ビス(ジアゾ)メトキシジフェニル硫酸塩から選択される、偏光膜。 - 飛行時間型二次イオン質量分析法を用いた断面分析において、(CN-)と(C2H-)とのイオン強度比(CN-/C2H-)が0.15以上の領域が、前記表層部の表面から厚み方向に300nm以上存在する、請求項1に記載の偏光膜。
- 厚みが、8μm以下である、請求項1または2に記載の偏光膜。
- 請求項1から3のいずれかに記載の偏光膜と、該偏光膜の少なくとも一方の側に配置された保護層と、を有する、偏光板。
- 請求項1から3のいずれかに記載の偏光膜の製造方法であって、
長尺状の熱可塑性樹脂基材の片側にポリビニルアルコール系樹脂層を形成して積層体とすること、
該積層体を延伸および染色して、該ポリビニルアルコール系樹脂層を偏光膜とすること、および
該偏光膜を、塩化ベンゼンジアゾニウム、p-アミノアゾベンゼン、4-ジアゾ-4’-メトキシジフェニルアミン硫酸塩、4-ジアゾジフェニルアミンスルファート、4-フェニルアミノベンゼンジアゾニウム硫酸塩、4,4’-ビス(ジアゾ)ジフェニル硫酸塩、および4,4’-ビス(ジアゾ)メトキシジフェニル硫酸塩から選択される窒素含有化合物を含有する処理液と接触させること、
を含む、製造方法。 - 長尺状の熱可塑性樹脂基材の片側にポリビニルアルコール系樹脂層を形成して積層体とすること、
該積層体に、空中補助延伸処理と、染色処理と、水中延伸処理と、をこの順に施して、該ポリビニルアルコール系樹脂層を偏光膜とすること、および
該積層体を長手方向に搬送しながら加熱することにより、幅方向に2%以上収縮させる乾燥収縮処理を施すこと、を含み、
該水中延伸処理後であって該乾燥収縮処理前または該乾燥収縮処理後に、該偏光膜を、塩化ベンゼンジアゾニウム、p-アミノアゾベンゼン、4-ジアゾ-4’-メトキシジフェニルアミン硫酸塩、4-ジアゾジフェニルアミンスルファート、4-フェニルアミノベンゼンジアゾニウム硫酸塩、4,4’-ビス(ジアゾ)ジフェニル硫酸塩、および4,4’-ビス(ジアゾ)メトキシジフェニル硫酸塩から選択される窒素含有化合物を含有する処理液と接触させる、請求項5に記載の製造方法。 - 前記乾燥収縮処理が、加熱ロールを用いて行われる、請求項6に記載の製造方法。
- 前記加熱ロールの温度が60℃~120℃である、請求項7に記載の製造方法。
- 前記ポリビニルアルコール系樹脂層が、ポリビニルアルコール系樹脂とヨウ化物または塩化ナトリウムとを含む、請求項5から8のいずれかに記載の製造方法。
- 請求項1または2に記載の偏光膜の製造方法であって、
ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを延伸および染色して、該ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを偏光膜とすること、および
該偏光膜を、塩化ベンゼンジアゾニウム、p-アミノアゾベンゼン、4-ジアゾ-4’-メトキシジフェニルアミン硫酸塩、4-ジアゾジフェニルアミンスルファート、4-フェニルアミノベンゼンジアゾニウム硫酸塩、4,4’-ビス(ジアゾ)ジフェニル硫酸塩、および4,4’-ビス(ジアゾ)メトキシジフェニル硫酸塩から選択される窒素含有化合物を含有する処理液と接触させること、
を含む、製造方法。 - 前記偏光膜を前記処理液と接触させることが、前記窒素含有化合物を0.2重量%以上の濃度で含有する処理液を前記偏光膜の表面に塗布することを含む、請求項5から10のいずれかに記載の製造方法。
- 前記偏光膜を前記処理液と接触させることが、前記窒素含有化合物を0.01重量%以上の濃度で含有する処理液中に前記偏光膜を浸漬することを含む、請求項5から10のいずれかに記載の製造方法。
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