TWI386692B - A polarizing plate, a method for manufacturing the same, an optical film, and an image display device - Google Patents

A polarizing plate, a method for manufacturing the same, an optical film, and an image display device Download PDF

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TWI386692B
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Kanto Kobayashi
Youichirou Sugino
Narifumi Ueda
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Nitto Denko Corp
Nippon Catalytic Chem Ind
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Description

偏光板、其製造方法、光學膜及圖像顯示裝置
本發明係關於一種偏光板及其製造方法。該偏光板可單獨或積層而成光學膜來形成液晶顯示裝置(LCD，liquid-crystal display)、有機EL(organic electroluminescence，有機電致發光)顯示裝置、CRT(cathode-ray tube，陰極射線管)、PDP(Plasma Display Panel，電漿顯示面板)等圖像顯示裝置。
液晶顯示裝置係使因液晶之切換而產生之偏光狀態可視化者，根據該顯示原理，使用藉由接著劑層將透明保護膜黏合於偏光元件之兩面所形成之偏光板。作為偏光元件，例如使碘吸附於聚乙烯醇並加以延伸而成之結構的碘系偏光元件具有高透射率、高偏光度，因此作為最普遍之偏光元件而得到廣泛使用。作為透明保護膜，使用透濕度較高之三乙醯纖維素等。
使用上述偏光板之液晶顯示裝置等圖像顯示裝置被用於各種環境下。因此，期望上述偏光板具有於高溫環境下之耐熱性、於高濕環境下之耐濕性等耐久性。近年來，特別是於行動電話等移動電話用途等中期望滿足耐久性。
又，於TV(Television，電視)中，圖像之顯示品質得到極大提昇，對畫面之均勻性(不均)的要求非常嚴格。例如，即便於如產生結露之加濕條件下，亦要求偏光板具有特性、形狀不發生變化之耐水性。然而，若使用三乙醯纖維素膜作為透明保護膜，則因透濕度較高，以及光彈性係數較高，而易產生不均。另一方面，若使用透濕度較低之聚對苯二甲酸乙二酯膜或降冰片烯系膜作為偏光板之透明保護膜，則偏光元件中所含有之水無法脫去而變成乾蒸之狀態，反而造成光學特性之劣化。
另一方面，藉由接著劑將用於偏光板之透明保護膜接著於偏光元件上，但於製作偏光板之過程中，於黏合偏光元件與透明保護膜時，存在產生裂點(裂點缺陷)之問題。裂點係於偏光元件與透明保護膜之界面上所產生的局部之凹凸缺陷。對於上述裂點，提出有以下方法：使用在特定條件下用砑光輥對含水量經調整之聚乙烯醇系膜之表面進行處理所形成者作為偏光元件，並將其與透明保護膜積層(專利文獻1)。又，於使用含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂作為聚乙烯醇系接著劑時，特別容易產生裂點。
專利文獻1：日本專利特開平10-166519號公報
本發明之目的在於提供一種可滿足耐久性、顯示之均勻性(不均)的偏光板及其製造方法。
又，本發明之目的在於提供一種將上述偏光板加以積層而成之光學膜，進而提供一種使用該偏光板、光學膜之液晶顯示裝置等圖像顯示裝置。
本發明者等人為解決上述課題而反覆努力研究，結果發現以下所示之偏光板，從而完成本發明。
即，本發明係關於一種偏光板，其特徵在於：於聚乙烯醇系偏光元件之兩面經由接著劑層而設置有透明保護膜，一面之透明保護膜係含有具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂而形成，且該面之透明保護膜係具有面內相位差為40nm以上及/或厚度方向相位差為80nm以上之相位差的相位差板，另一面之透明保護膜之面內相位差未滿40nm，且厚度方向相位差未滿80nm。
於上述偏光板中，較好的是另一面之透明保護膜係含有具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂而形成。
於上述偏光板中，於上述接著劑層中，至少相位差板側之接著劑層為含有聚乙烯醇系樹脂、交聯劑及平均粒徑為1～100nm之金屬化合物膠體而形成的樹脂溶液，且該接著劑層由相對於100重量份之聚乙烯醇系樹脂，而以200重量份以下之比例調配金屬化合物膠體的偏光板用接著劑而形成。
上述金屬化合物膠體較好的是選自氧化鋁膠體、二氧化矽膠體、氧化鋯膠體、氧化鈦膠體及氧化錫膠體中之至少一種。又，金屬化合物膠體較好的是具有正電荷，特別好的是氧化鋁膠體。
又，本發明係關於一種偏光板之製造方法，其係製造於偏光元件之兩面經由接著劑層而設置有透明保護膜之上述偏光板的方法，該製造方法具有以下步驟：於偏光元件之形成上述接著劑層之面及/或透明保護膜之形成上述接著劑層之面上塗佈偏光板用接著劑的步驟，以及黏合偏光元件與透明保護膜的步驟。
又，本發明係關於一種光學膜，其特徵在於：積層有至少一片上述偏光板。
又，本發明關於一種圖像顯示裝置，其特徵在於：使用上述偏光板或上述光學膜。
於本發明中，使用含有具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂所形成者作為偏光板之透明保護膜。具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂雖透濕度較低，但不會伴有光學特性之劣化，可滿足於高溫環境下之耐熱性、於高濕環境下之耐濕性等耐久性及顯示之均勻性(不均)。
又，於本發明之偏光板之至少一面上透明保護膜兼作相位差板，故可謀求作為光學膜之薄型化。
又，於本發明中，於用以接合偏光元件與透明保護膜之接著劑層之形成過程中，使用含有平均粒徑為1~100nm之金屬化合物膠體之聚乙烯醇系接著劑時，藉由上述金屬化合物膠體之作用，可抑制裂點之產生。藉此，可提昇製作偏光板時之良率，從而使偏光板之生產性提昇，其結果，液晶面板之生產性得以提昇。
上述金屬化合物膠體較好的是具有正電荷。與具有負電荷之金屬化合物膠體相比，具有正電荷之金屬化合物膠體抑制裂點產生之效果較大。該等之中，作為具有正電荷之金屬化合物膠體，較好的是氧化鋁膠體。
作為形成上述接著劑層之偏光板用接著劑，可使用聚乙烯醇系樹脂，但於本發明中特別好的是使用含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂作為聚乙烯醇系樹脂。使用含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂之接著劑可形成耐水性優異的接著劑層。另一方面，於使用含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂之偏光板用接著劑中，觀察到發生較多裂點，但於本發明之偏光板用接著劑中，藉由調配上述金屬化合物膠體，可抑制使用含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂之偏光板用接著劑中裂點的產生。藉此，可使接著劑層具有耐水性，且可抑制裂點之產生。
以下，就本發明之偏光板加以說明。本發明之偏光板係於聚乙烯醇系偏光元件之兩面經由接著劑層而設置有透明保護膜。
以下，一邊參照圖式一邊說明本發明。圖1為於偏光元件1之兩面經由接著劑層3而設置有透明保護膜2a、2b之偏光板P。透明保護膜2a係含有具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂而形成，且具有面內相位差為40nm以上及/或厚度方向相位差為80nm以上之相位差的相位差板。透明保護膜2b之面內相位差未滿40nm，且厚度方向相位差未滿80nm。透明保護膜2b之材料並無特別限制，較好的是含有具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂所形成者。較好的是，至少透明保護膜2a之側之接著劑層3為含有聚乙烯醇系樹脂、交聯劑及平均粒徑為1~100nm之金屬化合物膠體所形成的樹脂溶液，且該接著劑層3由相對於100重量份之聚乙烯醇系樹脂，而以200重量份以下之比例調配金屬化合物膠體的偏光板用接著劑而形成。
偏光元件並無特別限制，可使用各種偏光元件。作為偏光元件，例如可列舉：使碘或二色性染料等二色性材料吸附於聚乙烯醇系膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜並加以單軸延伸而成者，聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系配向膜等。該等之中，較好的是由聚乙烯醇系膜與碘等二色性物質所構成之偏光元件。該等偏光元件之厚度並無特別限制，通常為5~80μm左右。
以碘對聚乙烯醇系膜進行染色並加以單軸延伸而成之偏光元件，例如可藉由以下方式而製作，即，將聚乙烯醇浸漬於碘之水溶液中進行染色，並加以延伸至原長度之3~7倍。視需要亦可浸漬於硼酸或碘化鉀等之水溶液。進而，視需要亦可於染色之前將聚乙烯醇系膜浸漬於水中進行水洗。藉由對聚乙烯醇系膜進行水洗可清洗聚乙烯醇系膜表面之污垢或抗結塊劑，除此以外，亦有藉由使聚乙烯醇系膜膨潤而防止染色不均等不均勻之效果。延伸可於以碘進行染色之後進行，亦可一邊染色一邊延伸，又可延伸之後以碘進行染色。亦可於硼酸或碘化鉀等之水溶液中或水浴中進行延伸。
透明保護膜係於偏光元件之一面上使用含有具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂所形成的相位差板。
作為具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂，可列舉於日本專利特開2000-230016號公報、日本專利特開2001-151814號公報、日本專利特開2002-120326號公報、日本專利特開2002-254544號公報、日本專利特開2005-146084號公報、日本專利特開2006-171464號公報等中所記載者。
具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂較好的是具有以下述通式(1)所表示之環結構。
式中，R1 、R2 及R3 分別獨立表示氫原子或碳原子數為1~20之有機殘基。再者，有機殘基可含有氧原子。
具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之結構中的以通式(1)所表示之內酯環結構之含有比例，較好的是5~90重量%，更好的是10~70重量%，尤其好的是10~60重量%，特別好的是10~50重量%。若具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之結構中的以通式(1)所表示之內酯環結構之含有比例少於5重量%，則有耐熱性、耐溶劑性、表面硬度不充分之虞。若具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之結構中的以通式(1)所表示之內酯環結構之含有比例多於90重量%，則有缺乏成形加工性之虞。再者，具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂中的內酯環結構之比例，例如於日本專利特開2006-171464號公報等中所記載，可藉由氣相層析法(Gas Chromatography)及動態熱重法(Dynamic Thermogravimetry)之測定而求得。
具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂亦可具有以通式(1)所表示之內酯環結構以外的結構。作為以通式(1)所表示之內酯環結構以外的結構，並無特別限定，較好的是如作為具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之製造方法而於下文中所說明的、將選自(甲基)丙烯酸酯、含羥基之單體、不飽和羧酸及以下述通式(2)所表示之單體中之至少一種進行聚合所形成的聚合物結構單元(重複結構單元)。
式中，R4 表示氫原子或甲基，X表示氫原子、碳數為1~20之烷基、芳基、-OAc基、-CN基或-CO-R5 基，Ac基表示乙醯基，R5 表示氫原子或碳數為1~20之有機殘基。
至於具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂結構中的以通式(1)所表示之內酯環結構以外之結構的含有比例，於將(甲基)丙烯酸酯進行聚合而形成之聚合物結構單元(重複結構單元)時，較好的是10~95重量%，更好的是10~90重量%，尤其好的是40~90重量%，特別好的是50~90重量%；於將含羥基之單體進行聚合而形成之聚合物結構單元(重複結構單元)時，較好的是0~30重量%，更好的是0~20重量%，尤其好的是0~15重量%，特別好的是0~10重量%。於將不飽和羧酸進行聚合而形成之聚合物結構單元(重複結構單元)時，較好的是0~30重量%，更好的是0~20重量%，尤其好的是0~15重量%，特別好的是0~10重量%。於將以通式(2)所表示之單體進行聚合而形成之聚合物結構單元(重複結構單元)時，較好的是0~30重量%，更好的是0~20重量%，尤其好的是0~15重量%，特別好的是0~10重量%。
關於具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之製造方法，並無特別限定，較好的是藉由以下方式而獲得，即，藉由聚合步驟獲得分子鏈中具有羥基與酯基之丙烯酸系聚合物(a)後，藉由對所獲得之丙烯酸系聚合物(a)實施加熱處理來進行將內酯環結構導入至聚合物中之內酯環化縮合步驟。
於聚合步驟中，進行含有以下述通式(3)所表示之單體的單體成分之聚合反應，藉此獲得分子鏈中具有羥基與酯基之丙烯酸系聚合物(a)。
式中，R6 及R7 分別獨立表示氫原子或碳數為1~20之有機殘基。作為以通式(3)所表示之單體，例如可列舉：2-(羥甲基)丙烯酸甲酯、2-(羥甲基)丙烯酸乙酯、2-(羥甲基)丙烯酸異丙酯、2-(羥甲基)丙烯酸正丁酯、2-(羥甲基)丙烯酸第三丁酯等。該等之中，較好的是2-(羥甲基)丙烯酸甲酯、2-(羥甲基)丙烯酸乙酯，就耐熱性提昇效果較高之方面而言，特別好的是2-(羥甲基)丙烯酸甲酯。以通式(3)所表示之單體可僅使用一種，亦可併用兩種以上。
於供於聚合步驟之單體成分中，可含有以通式(3)所表示之單體以外的單體。作為此種單體，可較好地列舉上述之例如(甲基)丙烯酸酯、含羥基之單體、不飽和羧酸、以通式(2)所表示之單體。以通式(3)所表示之單體以外的單體可僅使用一種，亦可併用兩種以上。
作為(甲基)丙烯酸酯，若為以通式(1)所表示之單體以外的(甲基)丙烯酸酯，則並無特別限定，例如可列舉：丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸異丁酯、丙烯酸第三丁酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸苄酯等丙烯酸酯，甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸第三丁酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸苄酯等甲基丙烯酸酯等，該等可僅使用一種，亦可併用兩種以上。該等之中，就耐熱性、透明性優異之方面而言，特別好的是甲基丙烯酸甲酯。
作為含羥基之單體，若為以通式(2)所表示之單體以外的含羥基之單體，則並無特別限定，例如可列舉：α-羥甲基苯乙烯、α-羥乙基苯乙烯、2-(羥乙基)丙烯酸甲酯等2-(羥烷基)丙烯酸酯，2-(羥乙基)丙烯酸等2-(羥烷基)丙烯酸等，該等可僅使用一種，亦可併用兩種以上。
作為不飽和羧酸，例如可列舉：丙烯酸、甲基丙烯酸、丁烯酸、α-取代丙烯酸、α-取代甲基丙烯酸等，該等可僅使用一種，亦可併用兩種以上。該等之中，就使本發明之效果充分發揮之方面而言，較好的是丙烯酸、甲基丙烯酸。
作為以通式(2)所表示之單體，例如可列舉：苯乙烯、乙烯基甲苯、α-甲基苯乙烯、丙烯腈、甲基乙烯基酮、乙烯、丙烯、乙酸乙烯酯等，該等可僅使用一種，亦可併用兩種以上。該等之中，就使本發明之效果充分發揮之方面而言，較好的是苯乙烯、α-甲基苯乙烯。
進行環化縮合反應時，除丙烯酸系聚合物(a)以外，可使其他熱塑性樹脂共存。又，進行環化縮合反應時，視需要可使用環化縮合反應之觸媒。
具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之質量平均分子量(有時亦稱為重量平均分子量)，較好的是1000~2000000，更好的是5000~1000000，尤其好的是10000~500000，特別好的是50000~500000。若質量平均分子量脫離上述範圍，則就成型加工性之方面而言不佳。質量平均分子量係使用凝膠滲透層析儀(gel permeation chromatograph)(GPC系統，東曹(Tosoh)製造)，並藉由聚苯乙烯換算而求得。溶劑係使用四氫呋喃。
具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg(玻璃轉移溫度)，較好的是115℃以上，更好的是125℃以上，尤其好的是130℃以上，特別好的是135℃以上，最好的是140℃以上。由於Tg為115℃以上，因此例如其耐久性優異。上述具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg的上限值並無特別限定，就成形性等觀點而言，較好的是170℃以下。
本發明之具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂以根據ASTM-D-1003之方法所測定的全光線透射率越高越好，較好的是85%以上，更好的是88%以上，尤其好的是90%以上。全光線透射率為透明性之標準，若全光線透射率未滿85%，則有透明性下降之虞。
再者，本發明之透明保護膜除具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂以外，可含有其他熱塑性樹脂。其他熱塑性樹脂較好的是熱力學上相容，且可提昇透明性或機械強度者。
本發明之透明保護膜中的除具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂以外的熱塑性樹脂之含有比例為40重量%以下。若透明保護膜中的具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之含有比例多於40重量%，則有無法充分發揮本發明之效果之虞。再者，於具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂中含有其他熱塑性樹脂時，前者：後者之比例較好的是60~99：1~40重量%，更好的是70~97：3~30重量%，尤其好的是80~95：5~20重量%。
作為上述其他熱塑性樹脂，例如可列舉：聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物、聚(4-甲基-1-戊烯)等烯烴系聚合物，聚氯乙烯樹脂等含鹵素系聚合物，聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物，聚苯乙烯、苯乙烯-甲基丙烯酸甲酯共聚物、苯乙烯-丙烯腈共聚物、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物等苯乙烯系聚合物，聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯，尼龍6、尼龍66、尼龍610等聚醯胺，聚縮醛，聚碳酸酯，聚苯醚，聚苯硫醚，聚醚醚酮，聚碸，聚醚碸，聚氧苯甲酯，聚醯胺醯亞胺，調配有聚丁二烯系橡膠、丙烯酸系橡膠之ABS樹脂或ASA樹脂等橡膠質聚合物等。
含有具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂而形成之相位差板(透明保護膜)，具有面內相位差為40nm以上及/或厚度方向相位差為80nm以上之相位差。面內相位差通常控制在40~300nm之範圍內，厚度方向相位差通常控制在80~320nm之範圍內。面內相位差Re以Re=(nx-ny)×d表示。厚度方向相位差Rth以Rth=(nx-nz)×d表示。又，Nz係數以Nz=(nx-nz)/(nx-ny)表示。[其中，將膜之慢軸方向、快軸方向及厚度方向之折射率分別設為nx、ny、nz，且將膜之厚度設為d(nm)。將膜面內折射率達到最大之方向設為慢軸方向。]
相位差板例如可為各種波長板或具有滿足以補償液晶層因雙折射而引起之著色或視角等為目的者等使用目的之適當相位差者，亦可為積層兩種以上之相位差板而控制相位差等光學特性者等。
可根據各種用途而選擇使用滿足nx=ny>nz、nx>ny>nz、nx>ny=nz、nx>nz>ny、nz=nx>ny、nz>nx>ny、nz>nx=ny之關係的相位差板。
例如滿足nx>ny>nz之相位差板中，較好的是使用滿足面內相位差為40~100nm、厚度方向相位差為100~320nm、Nz係數為1.8~4.5者。例如滿足nx>ny=nz之相位差板(正A板)中，較好的是使用滿足面內相位差為100~200nm者。例如滿足nz=nx>ny之相位差板(負A板)中，較好的是使用滿足面內相位差為100~200nm者。例如滿足nx>nz>ny之相位差板中，較好的是使用滿足面內相位差為150~300nm、Nz係數為0以上~0.7者。另外，如上所述，例如可使用滿足nx=ny>nz、nz>nx>ny或nz>nx=ny者。
本發明之含有具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂的透明保護膜，通常藉由將具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂溶融擠壓並使其膜化而獲得。為了提昇膜強度且賦予相位差，所獲得之膜可進行延伸。
含有具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之透明保護膜，於未延伸之狀態下不產生相位差，但若進行延伸，則會產生相位差，因此可調配上述其他熱塑性樹脂中發揮相位差降低劑之功能者，以使其不產生相位差。作為相位差降低劑，可列舉苯乙烯-丙烯腈共聚物等。相位差值可藉由延伸倍率、相位差降低劑之調配量來進行控制。
例如，含有具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之透明保護膜(不含其他熱塑性樹脂)，若係厚度為20~150μm左右之雙軸延伸膜(縱向延伸：較好的是1.5~2.5倍左右，橫向延伸：1.5~3倍左右)，則可滿足面內相位差為40nm以上及/或厚度方向相位差為80nm以上之相位差。
於本發明之偏光板中，作為用作上述相位差板之透明保護膜以外的透明保護膜，使用面內相位差未滿40nm，且厚度方向相位差未滿80nm者。可使用上述面內相位差為20nm以下，進而為5nm以下之較小者。又，可使用厚度方向相位差亦為40nm以下，進而為10nm以下之較小者。
作為形成上述相位差板以外之透明保護膜的透明聚合物或膜材料，可使用適當的透明材料，較好的是上述含有具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂者。上述含有具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之透明保護膜的相位差值，可藉由延伸倍率(包括未延伸)、延伸溫度、相位差降低劑之調配量來控制。
作為形成上述透明保護膜之具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂以外的透明材料，可較好地使用透明性或機械強度、熱穩定性或水分阻隔性等優異者。作為形成上述透明保護膜之材料，例如可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物、二乙醯纖維素或三乙醯纖維素等纖維素系聚合物、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物、聚苯乙烯或丙烯腈-苯乙烯共聚物(AS樹脂)等苯乙烯系聚合物、聚碳酸酯系聚合物等。又，亦可列舉：聚乙烯、聚丙烯、具有環系或降冰片烯結構之聚烯烴、乙烯-丙烯共聚物之類的聚烯烴系聚合物，氯乙烯系聚合物，尼龍或芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物，醯亞胺系聚合物，碸系聚合物，聚醚碸系聚合物，聚醚醚酮系聚合物，聚苯硫醚系聚合物，乙烯醇系聚合物，偏二氯乙烯系聚合物，乙烯縮丁醛系聚合物，芳酯系聚合物，聚甲醛系聚合物，環氧系聚合物，或者上述聚合物之混合物等，來作為形成上述透明保護膜之聚合物之例。透明保護膜亦可形成為丙烯酸系、胺基甲酸酯系、丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化型、紫外線硬化型樹脂之硬化層。
又，可列舉日本專利特開2001-343529號公報(WO 01/37007)中所記載之聚合物膜，例如含有(A)側鏈上具有經取代及/或未經取代之醯亞胺基之熱塑性樹脂、以及(B)側鏈上具有經取代及/或未經取代之苯基及腈基之熱塑性樹脂的樹脂組合物。作為具體例，可列舉含有由異丁烯與N-甲基順丁烯二醯亞胺所構成之交替共聚物、與丙烯腈-苯乙烯共聚物之樹脂組合物的膜。膜可使用由樹脂組合物之混合擠壓品等所構成之膜。由於該等膜之相位差較小、且光彈性係數較小，因此可消除因偏光板之變形所引起之不均等不良情況，又，由於透濕度較小，故加濕耐久性優異。
透明保護膜於任一情形(相位差板、通常之透明保護膜之任一情形)時，其厚度均可適當決定，通常就強度或操作性等作業性、薄層性等方面而言為1~500μm左右。特別好的是1~300μm，更好的是5~200μm。就薄型化之方面而言，透明保護膜之厚度較好的是5~100μm。再者透明保護膜越薄型化越容易產生裂點。
再者，於本發明所使用之透明保護膜中可含有一種以上任意適當的添加劑。作為其他添加劑，例如可列舉：受阻酚系、磷系、硫系等抗氧化劑，耐光穩定劑、耐候穩定劑、熱穩定劑等穩定劑，玻璃纖維、碳纖維等強化材料，水楊酸苯酯、(2,2'-羥基-5-甲基苯基)苯并三唑、2-羥基二苯甲酮等紫外線吸收劑，近紅外線吸收劑，磷酸三(二溴丙基)酯、磷酸三烯丙酯、氧化銻等阻燃劑，陰離子系、陽離子系、非離子系界面活性劑等抗靜電劑，無機顏料、有機顏料、染料等著色劑，有機填料或無機填料，樹脂改質劑，有機填充劑或無機填充劑，塑化劑，潤滑劑等。
本發明之透明保護膜中之添加劑的含有比例，較好的是0~5重量%，更好的是0~2重量%，尤其好的是0~0.5重量%。
上述透明保護膜之未接著偏光元件之面可為實施硬塗處理或抗反射處理、以防黏或擴散或防眩為目的之處理者。
硬塗處理係以防止偏光板表面受傷等為目的而實施者，例如可藉由以下方式形成，即，將丙烯酸系、聚矽氧系等適當的紫外線硬化型樹脂之硬度或滑動特性等優異之硬化皮膜附加於透明保護膜的表面等。抗反射處理係以防止外光在偏光板表面反射為目的而實施者，可藉由形成以先前為基準之抗反射膜等而達成。又，防黏處理係以防止與鄰接層之密著為目的而實施者。
又，防眩處理係以防止外光在偏光板表面反射而阻礙偏光板透射光之視覺辨識等為目的而實施者，例如可藉由以下方式形成，即，以藉由噴砂方式或壓印加工方式之粗面化方式或調配透明微粒子之方式等適當方式，對透明保護膜之表面賦予微細凹凸結構。作為上述表面微細凹凸結構之形成中所含有之微粒子，例如可使用平均粒徑為0.5~50μm之由二氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯、氧化錫、氧化銦、氧化鎘、氧化銻等所構成之亦具有導電性的無機系微粒子，由經交聯或未經交聯之聚合物等所構成之有機系微粒子等透明微粒子。於形成表面微細凹凸結構時，相對於100重量份之形成表面微細凹凸結構之透明樹脂，微粒子之使用量通常為2~50重量份左右，較好的是5~25重量份。防眩層亦可兼作用以擴散偏光板透射光來擴大視角等之擴散層(視角擴大功能等)。
再者，上述抗反射層、防黏層、擴散層或防眩層等除可設置成透明保護膜本身以外，亦可設置成與透明保護膜不同者而作為另外光學層。
上述偏光元件與透明保護膜之黏合中所使用之接著劑層若光學上透明，則並無特別限制，可使用水系、溶劑系、熱熔系、自由基硬化型之各種形態者，較好的是水系接著劑或自由基硬化型接著劑。
作為形成接著劑層之水系接著劑並無特別限定，例如可例示：乙烯聚合物系、明膠系、乙烯系乳膠系、聚胺基甲酸酯系、異氰酸酯系、聚酯系、環氧系等。由此種水系接著劑所形成之接著劑層可形成為水溶液之塗佈乾燥層等，該水溶液之製備時，視需要亦可調配交聯劑或其他添加劑、酸等觸媒。作為上述水系接著劑，較好的是使用含有乙烯聚合物之接著劑等，作為乙烯聚合物，較好的是聚乙烯醇系樹脂。又，於聚乙烯醇系樹脂中可含有硼酸或硼砂、戊二醛或三聚氰胺、草酸等水溶性交聯劑。特別是於使用聚乙烯醇系聚合物膜作為偏光元件時，就接著性之方面而言，較好的是使用含有聚乙烯醇系樹脂之接著劑。進而，就提昇耐久性之方面而言，更好的是含有具有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂的接著劑。
至於聚乙烯醇系樹脂，可列舉：將聚乙酸乙烯酯皂化所獲得之聚乙烯醇；其衍生物；進而，與乙酸乙烯酯具有共聚合性之單體與乙酸乙烯酯所形成之共聚物的皂化物；將聚乙烯醇縮醛化、胺基甲酸酯化、醚化、接枝化、磷酸酯化等而形成之改性聚乙烯醇。作為上述單體，可列舉：順丁烯二酸(酐)，反丁烯二酸，丁烯酸，衣康酸，(甲基)丙烯酸等不飽和羧酸及其酯類；乙烯、丙烯等α-烯烴，(甲基)烯丙基磺酸(鈉)、(順丁烯二酸單烷酯)磺酸鈉、順丁烯二酸烷酯二磺酸鈉，N-羥甲基丙烯醯胺、丙烯醯胺烷基磺酸之鹼鹽，N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基吡咯烷酮衍生物等。該等聚乙烯醇系樹脂可單獨使用一種，或者併用二種以上。
上述聚乙烯醇系樹脂並無特別限定，就接著性之方面而言，平均聚合度為100~5000左右，較好的是1000~4000，平均皂化度為85~100莫耳%左右，較好的是90~100莫耳%。
含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂，可藉由公知之方法將聚乙烯醇系樹脂與雙乙烯酮(diketene)進行反應而獲得。例如可列舉：事先使聚乙烯醇系樹脂分散於乙酸等溶劑中，再於其中添加雙乙烯酮之方法；事先將聚乙烯醇系樹脂溶解於二甲基甲醯胺或二噁烷等溶劑中，再於其中添加雙乙烯酮之方法等。又，可列舉使雙乙烯酮氣體或液狀雙乙烯酮與聚乙烯醇直接接觸之方法。
含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂之乙醯乙醯基改性度若為0.1莫耳%以上，則並無特別限制。若未滿0.1莫耳%，則接著劑層之耐水性不充分而不適合。乙醯乙醯基改性度較好的是0.1~40莫耳%左右，更好的是1~20莫耳%，特別好的是2~7莫耳%。若乙醯乙醯基改性度超過40莫耳%，則耐水性之提昇效果較小。乙醯乙醯基改性度係藉由NMR(nuclear magnetic resonance，核磁共振)所測定之值。
作為交聯劑，可無特別限制地使用在聚乙烯醇系接著劑中所使用者。可使用具有至少兩種官能基之化合物，上述官能基與上述聚乙烯醇系樹脂具有反應性。例如，乙二胺、三乙二胺、己二胺等具有伸烷基與兩個胺基之烷二胺類，甲苯二異氰酸酯、氫化甲苯二異氰酸酯、三羥甲基丙烷甲苯二異氰酸酯加合物、三苯基甲烷三異氰酸酯、亞甲基雙(4-苯基甲烷三異氰酸酯)、異佛爾酮二異氰酸酯及該等之酮肟嵌段物或酚嵌段物等異氰酸酯類，乙二醇二縮水甘油醚、聚乙二醇二縮水甘油醚、丙三醇二或三縮水甘油醚、1,6-己二醇二縮水甘油醚、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚、二縮水甘油基苯胺、二縮水甘油基胺等環氧類，甲醛、乙醛、丙醛、丁醛等單醛類，乙二醛、丙二醛、丁二醛、戊二醛、順丁烯二醛、鄰苯二甲醛等二醛類，羥甲基脲、羥甲基三聚氰胺、烷基化羥甲基脲、烷基化羥甲基三聚氰胺、乙胍嗪、苯胍嗪與甲醛之縮合物等胺基-甲醛樹脂，進而鈉、鉀、鎂、鈣、鋁、鐵、鎳等二價金屬或三價金屬之鹽及其氧化物等。該等之中，較好的是胺基-甲醛樹脂或二醛類。作為胺基-甲醛樹脂，較好的是具有羥甲基之化合物，作為二醛類，較好的是乙二醛。其中，特別好的是作為具有羥甲基之化合物的羥甲基三聚氰胺。又，作為交聯劑，可使用矽烷偶合劑、鈦偶合劑等偶合劑。
上述交聯劑之調配量可根據聚乙烯醇系樹脂之種類等而適當設計，相對於100重量份之聚乙烯醇系樹脂，交聯劑之調配量通常為4~60重量份左右，較好的是10~55重量份左右，更好的是20~50重量份。於上述範圍內可獲得良好之接著性
為了提昇耐久性，而使用含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂。此時，相對於100重量份之聚乙烯醇系樹脂，亦與上述相同，較好的是於4~60重量份左右，較好的是10~55重量份左右，更好的是20~50重量份之範圍內使用交聯劑。若交聯劑之調配量過多，則交聯劑之反應於短時間內進行，從而有接著劑凝膠化之傾向。其結果，作為接著劑之可使用時間(適用期(pot life))極大縮短，而在工業上難以使用。就上述觀點而言，交聯劑之調配量係使用上述調配量，但由於本發明之樹脂溶液含有金屬化合物膠體，因此如上所述即便於交聯劑之調配量較多時，亦可穩定性良好地使用。
作為本發明之偏光板用接著劑，可較好地使用含有聚乙烯醇系樹脂、交聯劑及平均粒徑為1~100nm之金屬化合物膠體而形成的樹脂溶液。該樹脂溶液通常係製成水溶液而使用。樹脂溶液濃度並無特別限制，若考慮到塗佈性或放置穩定性等，則為0.1~15重量%，較好的是0.5~10重量%。
金屬化合物膠體係微粒子分散於分散媒中而形成者，且係因微粒子之同種電荷之相互排斥而產生靜電穩定化，並持續地具有穩定性者。金屬化合物膠體(微粒子)之平均粒徑為1~100nm。上述膠體之平均粒徑若為上述範圍，則可使金屬化合物大致均勻地分散於接著劑層中，從而可確保接著性，且可抑制裂點。上述平均粒徑之範圍與可見光線之波長區域相比相當小，於所形成之接著劑層中，即便透射光因金屬化合物而發生散射，亦不會對偏光特性造成不良影響。金屬化合物膠體之平均粒徑為1~100nm，更好的是1~50nm。
作為金屬化合物膠體，可使用各種膠體。例如可列舉：氧化鋁、二氧化矽、氧化鋯、氧化鈦、氧化錫、矽酸鋁、碳酸鈣、矽酸鎂等金屬氧化物之膠體，碳酸鋅、碳酸鋇、磷酸鈣等金屬鹽之膠體，矽藻土、滑石、黏土、高嶺土等礦物之膠體。
金屬化合物膠體係分散於分散媒中而以膠體溶液之狀態存在。分散媒主要為水。除水以外，亦可使用醇類等其他分散媒。膠體溶液中之金屬化合物膠體之固形分濃度並無特別限制，普遍的是通常為1~50重量%左右，進而為1~30重量%。又，金屬化合物膠體可使用含有硝酸、鹽酸、乙酸等酸作為穩定劑者。
金屬化合物膠體呈靜電穩定化，分為具有正電荷者與具有負電荷者，金屬化合物膠體為非導電性材料。正電荷與負電荷藉由製備接著劑後之溶液中的膠體表面電荷之電荷狀態來區分。金屬化合物膠體之電荷，例如可藉由利用動電位測定機測定動電位來確認。金屬化合物膠體之表面電荷通常因pH值而變化。因此，本案之膠體溶液狀態之電荷受到經調整的接著劑溶液之pH值影響。接著劑溶液之pH值通常設定在2~6，較好的是2.5~5，更好的是3~5，尤其好的是3.5~4.5之範圍內。於本發明中，與具有負電荷之金屬化合物膠體相比，具有正電荷之金屬化合物膠體抑制裂點產生之效果較大。作為具有正電荷之金屬化合物膠體，可列舉：氧化鋁膠體、氧化鋯膠體、氧化鈦膠體、氧化錫膠體等。該等之中，特別好的是氧化鋁膠體。
相對於100重量份之聚乙烯醇系樹脂，而以200重量份以下之比例(固形分之換算值)調配金屬化合物膠體。又，藉由使金屬化合物膠體之調配比例為上述範圍，可一邊確保偏光元件與透明保護膜之接著性，一邊抑制裂點之產生。金屬化合物膠體之調配比例較好的是10~200重量份，更好的是20~175重量份，尤其好的是30~150重量份。相對於100重量份之聚乙烯醇系樹脂，金屬化合物膠體之調配比例若超過200重量份，則接著劑中之聚乙烯醇系樹脂之比例變小，就接著性之方面而言不佳。再者，金屬化合物膠體之調配比例並無特別限制，為了有效地抑制裂點，較好的是使調配為上述範圍之下限值。
作為偏光板用接著劑的樹脂溶液之黏度並無特別限制，可使用1~50mPa．s之範圍者。偏光板之製作過程中所產生之裂點，存在隨著樹脂溶液之黏度下降，而裂點之產生變多之傾向，若利用本發明之偏光板用接著劑，即便於如1~20mPa．s之範圍的低黏度範圍內，亦可抑制裂點之產生，故可抑制裂點之產生而不受限於樹脂溶液之黏度。與通常之聚乙烯醇樹脂相比，含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂無法使聚合度提高，故以如上述之低黏度而使用，但於本發明中，於使用含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂時，亦可抑制因樹脂溶液之低黏度而發生的裂點之產生。
作為偏光板用接著劑的樹脂溶液之製備方法並無特別限制。通常於混合聚乙烯醇系樹脂及交聯劑並適當調整濃度者中調配金屬化合物膠體，藉此製備樹脂溶液。又，於使用含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂作為聚乙烯醇系樹脂，或者如交聯劑之調配量較多時，考慮到溶液之穩定性，而於混合聚乙烯醇系樹脂與金屬化合物膠體後，可一邊考慮所獲得之樹脂溶液之使用時期等，一邊混合交聯劑。再者，作為偏光板用接著劑的樹脂溶液之濃度亦可於製備樹脂溶液後作適當調整。
作為自由基硬化型接著劑，可例示：電子束硬化型、紫外線硬化型等活性能量線硬化型，熱硬化型等各種類型，較好的是可於短時間內硬化之活性能量線硬化型。特別好的是電子束硬化型。可使用電子束硬化型接著劑。藉由在用於黏合偏光元件與透明保護膜之接著劑的硬化方法中使用電子束(即乾式層壓(dry lamination))，而如紫外線硬化法般，無需加熱步驟，從而可極大地提高生產性。
作為硬化性成分，可列舉具有(甲基)丙烯醯基之化合物、具有乙烯基之化合物。該等硬化性成分可使用單官能或二官能以上之任一者。又，該等硬化性成分可單獨使用一種，或者組合使用兩種以上。作為該等硬化性成分，例如較好的是具有(甲基)丙烯醯基之化合物，例如可列舉：各種(甲基)丙烯酸環氧酯、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯或各種(甲基)丙烯酸酯系單體等。
又，於使用具有(甲基)丙烯醯基之化合物，特別是具有芳香環及羥基之單官能的(甲基)丙烯酸酯、含氮之(甲基)丙烯酸酯、含羧基之(甲基)丙烯酸酯，來作為硬化性成分時，該硬化性成分適合用作電子束硬化型接著劑，藉由使用該接著劑，可獲得對偏光元件及透明保護膜具有良好接著性之偏光板。例如，於使用低水分率之偏光元件時，又，於使用透濕度較低之材料作為透明保護膜時，本發明之接著劑對該等均表現良好的接著性，其結果，可獲得尺寸穩定性良好的偏光板。
於使用上述硬化性成分時，由於可製作尺寸變化較小之偏光板，因此亦可容易應對偏光板之大型化，就良率、取得數量之觀點而言，可抑制生產成本。又，由於本發明中所獲得之偏光板的尺寸穩定性較好，因此可抑制因背光源之外部熱所引起的圖像顯示裝置之不均的產生。
具有芳香環及羥基之單官能的(甲基)丙烯酸酯，可使用具有芳香環及羥基之各種單官能的(甲基)丙烯酸酯。羥基亦可作為芳香環之取代基而存在，於本發明中，較好的是作為鍵結芳香環與(甲基)丙烯酸酯之有機基(烴基，特別是與伸烷基鍵結者)而存在。
作為上述具有芳香環及羥基之單官能的(甲基)丙烯酸酯，例如可列舉具有芳香環之單官能的環氧化合物與(甲基)丙烯酸之反應物。作為具有芳香環之單官能的環氧化合物，例如可列舉：苯基縮水甘油醚、第三丁基苯基縮水甘油醚、苯基聚乙二醇縮水甘油醚等。作為具有芳香環及羥基之單官能的(甲基)丙烯酸酯之具體例，例如可列舉：(甲基)丙烯酸-2-羥基-3-苯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基-3-第三丁基苯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基-3-苯基聚乙二醇丙酯等。
作為含氮之單體，例如可列舉：N-丙烯醯基嗎啉、N-丙烯醯基哌啶、N-甲基丙烯醯基哌啶、N-丙烯醯基吡咯啶等具有嗎啉環、哌啶環、吡咯啶環、哌嗪環等雜環之含雜環丙烯酸系單體。又，作為含氮之單體，例如可列舉：順丁烯二醯亞胺、N-環己基順丁烯二醯亞胺、N-苯基順丁烯二醯亞胺，(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-己基(甲基)丙烯醯胺、N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺或N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基丙烷(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基丙烯醯胺、N-羥乙基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基-N-丙烷(甲基)丙烯醯胺等(N-取代)醯胺系單體，(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸胺基丙酯、(甲基)丙烯酸N，N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸第三丁基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸-3-(3-吡啶基)丙酯等(甲基)丙烯酸烷基胺基烷酯系單體，N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基琥珀醯亞胺或N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基八亞甲基琥珀醯亞胺等琥珀醯亞胺系單體等。含氮之單體，例如較好的是含雜環之丙烯酸系單體，特別好的是N-丙烯醯基嗎啉。
作為含羧基之單體，例如可列舉：(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯等。該等之中，較好的是丙烯酸。
除上述以外，作為具有(甲基)丙烯醯基之化合物，可列舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸月桂酯等碳數為1～12之(甲基)丙烯酸烷酯，(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等(甲基)丙烯酸烷氧基烷酯系單體，(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥月桂酯或丙烯酸(4-羥甲基環己基)甲酯等含羥基之單體，順丁烯二酸酐、衣康酸酐等含酸酐基之單體，丙烯酸之己內酯加成物，苯乙烯磺酸或烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺丙酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等含磺酸基之單體，2-羥乙基丙烯醯基磷酸酯等含磷酸基之單體等。
作為上述硬化性成分，可較好地使用具有芳香環及羥基之單官能的(甲基)丙烯酸酯、含氮之單體、含羧基之單體。就可獲得具有與偏光元件及透明保護膜之接著性較好的接著劑層之偏光板之方面而言，較好的是含有50重量%以上之該等成分作為硬化性成分。進而，就塗佈性、加工性等方面而言亦較好。上述硬化性成分之比例較好的是60重量%以上，更好的是70重量%以上，尤其好的是80重量%以上。
作為上述硬化性成分，可使用二官能以上之硬化性成分。作為二官能以上之硬化性成分，較好的是二官能以上之(甲基)丙烯酸酯、特別是二官能以上之(甲基)丙烯酸環氧酯。二官能以上之(甲基)丙烯酸環氧酯可藉由多官能之環氧化合物與(甲基)丙烯酸之反應而獲得。至於多官能之環氧化合物，可例示各種多官能之環氧化合物。作為多官能之環氧化合物，例如可列舉：芳香族環氧樹脂、脂環式環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂。
作為芳香族環氧樹脂，例如可列舉：雙酚A之二縮水甘油醚、雙酚F之二縮水甘油醚、雙酚S之二縮水甘油醚之類的雙酚型環氧樹脂，苯酚酚醛清漆環氧樹脂、甲酚酚醛清漆環氧樹脂、羥基苯甲醛苯酚酚醛清漆環氧樹脂之類的酚醛清漆型環氧樹脂，四羥基苯基甲烷之縮水甘油醚、四羥基二苯甲酮之縮水甘油醚、環氧化聚乙烯苯酚之類的多官能型環氧樹脂等。
作為脂環式環氧樹脂，可列舉：上述芳香族環氧樹脂之氫化物、環己烷系、環己基甲酯系、環己基甲醚系、螺系、三環癸烷系等環氧樹脂。
作為脂肪族環氧樹脂，可列舉脂肪族多元醇或其氧化烯加成物之聚縮水甘油醚。作為該等之例，可列舉：1,4-丁二醇之二縮水甘油醚，1,6-己二醇之二縮水甘油醚，丙三醇之三縮水甘油醚，三羥甲基丙烷之三縮水甘油醚，聚乙二醇之二縮水甘油醚，丙二醇之二縮水甘油醚，藉由在如乙二醇或丙二醇、丙三醇之脂肪族多元醇中加成一種或兩種以上氧化烯(氧化乙烯或氧化丙烯)而獲得的聚醚多元醇之聚縮水甘油醚等。
上述環氧樹脂之環氧當量通常為30~3000g/當量，較好的是50~1500g/當量之範圍。
至於上述二官能以上之(甲基)丙烯酸環氧酯，較好的是脂肪族環氧樹脂之(甲基)丙烯酸環氧酯，特別好的是二官能之脂肪族環氧樹脂之(甲基)丙烯酸環氧酯。
上述硬化性成分之中，具有(甲基)丙烯醯基之化合物，特別是具有芳香環及羥基之單官能的(甲基)丙烯酸酯、含氮之(甲基)丙烯酸酯、含羧基之(甲基)丙烯酸酯，適合用作電子束硬化型接著劑，藉由使用該接著劑，可獲得對偏光元件及透明保護膜具有良好接著性之偏光板。例如，於使用低水分率之偏光元件時，又，於使用透濕度較低之材料作為透明保護膜時，本發明之接著劑對該等均表現良好的接著性，其結果，可獲得尺寸穩定性良好的偏光板。
硬化型接著劑含有硬化性成分，但除上述成分以外，根據硬化之類型可添加自由基起始劑。於使用電子束硬化型之上述接著劑時，無須特別使上述接著劑含有自由基起始劑，於使用紫外線硬化型、熱硬化型接著劑時，可使用自由基起始劑。相對於100重量份之硬化性成分，自由基起始劑之使用量通常為0.1~10重量份左右，較好的是0.5~3重量份。
又，上述接著劑可含有金屬化合物填料。藉由金屬化合物填料，可控制接著劑層之流動性，並使膜厚穩定化，從而可獲得具有良好外觀、面內均勻且無接著性不均之偏光板。
至於金屬化合物填料，可使用各種金屬化合物填料。作為金屬化合物，例如可列舉：氧化鋁、二氧化矽、氧化鋯、氧化鈦、矽酸鋁、碳酸鈣、矽酸鎂等金屬氧化物，碳酸鋅、碳酸鋇、磷酸鈣等金屬鹽，矽藻土、滑石、黏土、高嶺土等礦物。又，該等金屬化合物填料可使用經表面改質者。
金屬化合物填料之平均粒徑通常為1~1000nm左右，較好的是10~200nm，更好的是10~100nm。金屬化合物填料之平均粒徑若為上述範圍，則可使金屬化合物大致均勻地分散於接著劑層中，從而可確保接著性，且可獲得外觀良好、面內均勻之接著性。
相對於100重量份之硬化性成分，金屬化合物填料之調配量較好的是以200重量份以下之比例進行調配。又，藉由使金屬化合物填料之調配比例為上述範圍，可一邊確保偏光元件與透明保護膜之接著性，一邊獲得外觀良好、面內均勻之接著性。金屬化合物填料之調配比例較好的是1~100重量份，更好的是2~50重量份，尤其好的是5~30重量份。相對於100重量份之硬化性成分，金屬化合物填料之調配比例若超過100重量份，則接著劑中之硬化性成分之比例變小，就接著性之方面而言不佳。再者，金屬化合物填料之調配比例並無特別限制，為了一邊確保接著性，一邊獲得外觀良好、面內均勻之接著性，較好的是使調配比例為上述範圍之下限值。
再者，於偏光板用接著劑中亦可調配各種賦黏劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱穩定劑、塑化劑、均化劑、發泡抑制劑、抗靜電劑、耐水解穩定劑等穩定劑等。又，本案中之金屬化合物膠體、金屬化合物填料雖為非導電性材料，但亦可含有導電性物質之微粒子。另外，作為添加劑之例，可列舉：以羰基化合物等為代表之藉由電子束提昇硬化速度或靈敏度之敏化劑，矽烷偶合劑、鈦偶合劑等偶合劑，以氧化乙烯為代表之助黏劑，提昇與透明保護膜之濡濕性之添加劑，丙烯醯氧基化合物或烴系(天然、合成樹脂)等。
上述偏光板可藉由於偏光元件之兩面經由接著劑層黏合透明保護膜而獲得，亦可於接著劑層與透明保護膜或偏光元件之間設置底塗層或易接著處理層等。作為易接著處理，可列舉：電漿處理、電暈處理等乾式處理，鹼處理(皂化處理)等化學處理，形成易接著劑層之塗佈處理等。該等之中，較好的是形成易接著劑層之塗佈處理或鹼處理。於易接著劑層之形成中可使用多元醇樹脂、聚羧酸樹脂、聚酯樹脂等各種易接著材料。再者，易接著劑層之厚度通常為0.001~10μm左右，較好的是0.001~5μm左右，特別好的是0.001~1μm左右。
於藉由水系接著劑等形成上述接著劑層時，該接著劑層之厚度為10~300nm左右。就獲得均勻之面內厚度與充分之接著力的方面而言，接著劑層之厚度更好的是10~200nm，尤其好的是20~150nm。又，如上所述，較好的是將接著劑層之厚度設計成大於偏光板用接著劑中所含有之金屬化合物膠體之平均粒徑。
作為調整接著劑層之厚度的方法，並無特別限制，例如可列舉調整接著劑溶液之固形分濃度或接著劑之塗佈裝置的方法。作為此種接著劑層厚度之測定方法，並無特別限制，可較好地使用藉由SEM(Scanning Electron Microscopy，掃描電子顯微法)或TEM(Transmission Electron Microscopy，透射電子顯微法)之剖面觀察測定。接著劑之塗佈操作並無特別限制，可採用輥法、噴霧法、浸漬法等各種方法。
塗佈水系接著劑後，利用輥貼合機等將偏光元件與透明保護膜黏合。上述接著劑之塗佈可於透明保護膜、偏光元件之任一者上進行，亦可於兩者之上進行。黏合後，實施乾燥步驟，而形成包含塗佈乾燥層之接著劑層。乾燥溫度為5~150℃左右，較好的是30~120℃，乾燥時間為120秒以上，較好的是300秒以上。
另一方面，於藉由硬化型接著劑(電子束硬化型接著劑)形成上述接著劑層時，上述接著層之厚度較好的是0.1~20μm，更好的是0.2~10μm，尤其好的是0.3~8μm。於厚度較薄時，無法獲得接著劑本身之凝聚力，從而有無法獲得接著強度之虞。若接著劑層之厚度超過20μm，則會出現成本上升以及接著劑本身之硬化收縮之影響，而有對偏光板之光學特性造成不良影響之虞。
黏合偏光元件與透明保護膜後，照射電子束等使接著劑硬化。電子束之照射方向可自任意適當之方向進行照射。較好的是自透明保護膜側進行照射。若自偏光元件側進行照射，則有偏光元件因電子束而劣化之虞。
電子束之照射條件若為可使上述接著劑硬化之條件，則可採用任意適當之條件。例如，電子束照射之加速電壓較好的是5kV~300kV，更好的是10kV~250kV。於加速電壓未滿5kV時，電子束無法到達接著劑而有硬化不足之虞，若加速電壓超過300kV，則穿過試料之滲透力過強而導致電子束飛濺，從而有對透明保護膜或偏光元件造成損害之虞。作為照射線量，較好的是5～100kGy，更好的是10～75kGy。於照射線量未滿5kGy時，接著劑會硬化不足，若超過100kGy，則會對透明保護膜或偏光元件造成損害，並產生機械強度下降或黃變，從而無法獲得特定之光學特性。
電子束照射通常於惰性氣體中進行照射，若為必須，則亦可於大氣中或導入少量氧氣之條件下進行，雖取決於透明保護膜之材料，但因導入適量之氧氣，而於電子束最初所照射到之透明保護膜面上產生氧氣阻礙，從而可防止對透明保護膜造成損害，並可使電子束有效地僅照射至接著劑上。
在連續式生產線上進行上述製造方法時，線速取決於接著劑之硬化時間，較好的是1～500m/min，更好的是5～300m/min，尤其好的是10～100m/min。於線速過小時，缺乏生產性或者對透明保護膜造成的損害過大，從而無法製作可承受耐久性試驗等之偏光板。於線速過大時，接著劑之硬化不充分，而有無法獲得目標接著性之情形。
本發明之偏光板在實際使用時可製成與其他光學層積層之光學膜而使用。光學層並無特別限定，例如可使用一層或兩層以上之反射板或半透過板、相位差板(包括1/2或1/4等之波長板)、視角補償膜等液晶顯示裝置等形成中所使用之光學層。特別好的是：於本發明之偏光板上進而積層反射板或半透過反射板而形成之反射型偏光板或半透過型偏光板，於偏光板上進而積層相位差板所而成之橢圓偏光板或圓偏光板，於偏光板上進而積層視角補償膜而形成之寬視角偏光板，或者於偏光板上進而積層增亮膜而形成之偏光板。
反射型偏光板係於偏光板上設置反射層而成者，係用以形成使來自視覺辨識側(顯示側)之入射光反射來進行顯示之類型的液晶顯示裝置等者，並具有可省略背光源等光源之內置而易於謀求液晶顯示裝置之薄型化等優點。反射型偏光板之形成可藉由以下方式等適當方式來進行，即，視需要經由透明保護層等在偏光板之一面上附設由金屬等所形成之反射層。
作為反射型偏光板之具體例，可列舉：視需要在經消光處理之透明保護膜之一面上，附設由鋁等反射性金屬形成之箔或蒸鍍膜而形成反射層者等。又，亦可列舉：使上述透明保護膜含有微粒子而形成表面微細凹凸結構，並於其上具有微細凹凸結構之反射層者等。上述微細凹凸結構之反射層具有以下等優點：藉由漫反射使入射光擴散而防止定向性或刺目之外觀，並可抑制明暗不均。又，含微粒子之保護膜亦具有以下等優點：入射光及其反射光透過含微粒子之保護膜時被擴散而可進一步抑制明暗不均。反映透明保護膜之表面微細凹凸結構的微細凹凸結構之反射層之形成，可藉由以下方法等來進行：以例如真空蒸鍍方式、離子電鍍方式、濺鍍方式等蒸鍍方式或電鍍方式等適當方式，將金屬直接附設於透明保護層之表面。
反射板亦可用作反射片等來代替於上述偏光板之透明保護膜上直接賦予反射板之方式，該反射片係於以該透明膜為基準之適當的膜上設置反射層而形成者。再者，反射層通常由金屬形成，因此其反射面被透明保護膜或偏光板等覆蓋之狀態的使用形態，就防止反射率因氧化而下降、進而初始反射率之長期持續之方面或者避免另外附設保護層之方面等而言較好。
再者，半透過型偏光板可藉由用上述反射層製成反射且透過光之半鏡面等半透過型反射層而獲得。半透過型偏光板通常設置於液晶單元之背面側，可形成如下類型之液晶顯示裝置等，即，於相對明亮之環境中使用液晶顯示裝置等時，使來自視覺辨識側(顯示側)之入射光反射來顯示圖像，於相對較暗之環境中，使用內置於半透過型偏光板之背面的背光源等內置光源來顯示圖像。即，半透過型偏光板對形成如下類型之液晶顯示裝置等有用，該液晶顯示裝置等於明亮環境下可節約使用背光源等光源之能量，於相對較暗之環境下亦可使用內置光源。
就於偏光板上進而積層相位差板而形成之橢圓偏光板或圓偏光板加以說明。於將直線偏光轉變為橢圓偏光或圓偏光、或將橢圓偏光或圓偏光轉變為直線偏光、或者改變直線偏光之偏光方向時，使用相位差板等。特別是作為將直線偏光轉變為圓偏光或將圓偏光轉變為直線偏光之相位差板，使用所謂的1/4波長板(亦稱為λ/4板)。1/2波長板(亦稱為λ/2板)通常用於改變直線偏光之偏光方向之情形。
橢圓偏光板可有效用於以下情形等，即，補償(防止)超扭轉向列(STN，Super Twisted Nematic)型液晶顯示裝置之液晶層因雙折射而產生之著色(藍或黃)，而進行無上述著色之黑白顯示。進而，控制三維折射率者亦可補償(防止)自傾斜方向觀察液晶顯示裝置之畫面時所產生的著色，故較好。圓偏光板可有效用於例如調整圖像成彩色顯示之反射型液晶顯示裝置之圖像的色調之情形等，又，亦具有抗反射之功能。作為上述相位差板之具體例，可列舉：將由如聚碳酸酯、聚乙烯醇、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯或其他聚烯烴、聚芳酯、聚醯胺之適當的聚合物所形成之膜進行延伸處理而形成的雙折射性膜，或液晶聚合物之配向膜，以膜支持液晶聚合物之配向層者等。相位差板例如可為各種波長板或具有滿足以補償液晶層因雙折射而引起之著色或視角等為目的者等使用目的之適當相位差者，亦可為積層兩種以上之相位差板來控制相位差等光學特性者等。
又，上述橢圓偏光板或反射型橢圓偏光板係將偏光板或反射型偏光板與相位差板適當組合並積層而成者。上述橢圓偏光板等亦可藉由以下方式形成，即，於液晶顯示裝置之製造過程中，以(反射型)偏光板與相位差板之組合之方式依序分別將該等積層，如上所述事先製成橢圓偏光板等之光學膜者，具有品質穩定性或積層作業性等優異而可提昇液晶顯示裝置等之製造效率的優點。
視角補償膜係用以擴大視角之膜，即，使視角達到如下：自稍傾斜而非垂直於畫面之方向觀察液晶顯示裝置之畫面時，亦可相對清晰地看到圖像。作為此種視角補償相位差板，例如包括相位差板、液晶聚合物等之配向膜或於透明基材上支持液晶聚合物等之配向層者等。通常之相位差板使用於其面方向上沿單軸延伸且具有雙折射之聚合物膜，相對於此，於用作視角補償膜之相位差板中，使用於面方向上沿雙軸延伸且具有雙折射之聚合物膜，或者於面方向上沿單軸延伸於厚度方向上亦延伸、且控制了厚度方向之折射率的具有雙折射之聚合物或傾斜配向膜之類的雙向延伸膜等。作為傾斜配向膜，例如可列舉：將熱收縮膜接著於聚合物膜並於藉由加熱而產生之收縮力作用下對聚合物膜實施延伸處理或/及收縮處理者，或者使液晶聚合物傾斜配向者等。相位差板之素材原料聚合物可使用與先前之相位差板中所說明之聚合物相同者，亦可使用以防止液晶單元之基於相位差的視覺辨識角之變化所引起之著色等、或擴大良好的視覺辨識之視角等為目的之合適者。
又，就達成良好的視覺辨識之寬視角之方面等而言，可較好地使用以三乙醯纖維素膜支持由液晶聚合物之配向層、特別是圓盤型液晶聚合物之傾斜配向層所構成之光學異向性層的光學補償相位差板。
黏合有偏光板與增亮膜之偏光板通常設置於液晶單元之背面側而使用。若藉由來自液晶顯示裝置等之背光源或背面側之反射等而射入自然光，則增亮膜表現出反射特定偏光軸之直線偏光或特定方向之圓偏光，且透過其他光之特性，積層有增亮膜與偏光板之偏光板使來自背光源等光源之光入射而獲得特定偏光狀態之透射光，並且上述特定偏光狀態以外之光無法透過而被反射。使該增亮膜面所反射之光進而經由設置於其後側之反射層等而反轉，從而使其再次入射至增亮膜，使其一部分或全部透過而形成特定偏光狀態之光從而謀求透過增亮膜之光的增量，並且供給偏光元件難以吸收之偏光來謀求可用於液晶顯示圖像顯示等之光量的增大，藉此可使亮度提昇。即，於不使用增亮膜，藉由背光源等自液晶單元之背面側通過偏光元件使光入射時，具有與偏光元件之偏光軸不一致之偏光方向的光幾乎全被偏光元件吸收，而未透過偏光元件。即，根據所使用之偏光元件之特性而不同，大約50%之光被偏光元件吸收，因此可用於液晶圖像顯示等中光量減少，從而導致圖像變暗。增亮膜重複進行如下步驟，即，不使具有如被偏光元件吸收之偏光方向之光入射至偏光元件，而使其暫時被增亮膜反射，進而經由設置於其後側之反射層等使其反轉而再次入射至增亮膜，增亮膜僅使於此兩者間反射、反轉之光的偏光方向成為可通過偏光元件之偏光方向的偏光透過，而供給至偏光元件，因此可將背光源等光有效地用於液晶顯示裝置之圖像之顯示中，從而可使畫面明亮。
亦可於增亮膜與上述反射層等之間設置擴散板。由增亮膜反射之偏光狀態之光朝向上述反射層等，但所設置之擴散板使通過之光均勻地擴散，同時消除偏光狀態，而成為非偏光狀態。即，擴散板使偏光恢復至原來的自然光狀態。重複進行如下步驟：該非偏光狀態即自然光狀態之光朝向反射層等，經由反射層等而反射，並再次通過擴散板而再次入射至增亮膜。如此於增亮膜與上述反射層等之間設置使偏光恢復至原來的自然光狀態之擴散板，藉此可維持顯示畫面之明亮度，同時可減少顯示畫面之明亮度的不均，從而可提供均勻且明亮之畫面。一般認為：藉由設置上述擴散板，初次入射光之反射的重複次數適當地增加，並與擴散板之擴散功能互相結合，從而可提供均勻之明亮的顯示畫面。
作為上述增亮膜，例如可使用以下合適者：如介電體之多層薄膜或折射率異向性不同之薄膜的多層積層體之表現透過特定偏光軸之直線偏光並反射其他光之特性者，如膽固醇型液晶聚合物之配向膜或於膜基材上支持該配向液晶層者之表現反射左旋或右旋之任一者的圓偏光並透過其他光之特性者等。
因此，上述使特定偏光軸之直線偏光透過之類型的增亮膜，藉由使偏光軸一致而將其透射光直接入射至偏光板，而可抑制因偏光板所引起之吸收損失並可有效地使光透過。另一方面，如膽固醇型液晶層之透過圓偏光之類型的增亮膜，亦可使光直接入射至偏光元件，就抑制吸收損失之方面而言，較好的是使該圓偏光經由相位差板而直線偏光化後再入射至偏光板。再者，藉由使用1/4波長板作為該相位差板，可使圓偏光變換為直線偏光。
於可見光區域等較寬之波長範圍中發揮1/4波長板之功能的相位差板，例如可藉由以下方式等而獲得：將對波長550nm之淡色光發揮1/4波長板之功能的相位差板，與表現其他相位差特性之相位差層、例如發揮1/2波長板之功能的相位差層加以重疊。因此，配置於偏光板與增亮膜之間的相位差板可由一層或兩層以上之相位差層所構成。
再者，關於膽固醇型液晶層，亦可藉由將反射波長不同者組合而形成重疊了兩層或三層以上之配置結構，而獲得於可見光區域等較寬波長範圍內反射圓偏光者，並可藉此而獲得較寬波長範圍之透過圓偏光。
又，偏光板如上述偏光分離型偏光板，可由將偏光板與兩層或三層以上之光學層加以積層者所構成。因此，其亦可為將上述反射型偏光板或半透過型偏光板與相位差板加以組合而成之反射型橢圓偏光板或半透過型橢圓偏光板等。
於偏光板上積層上述光學層而成之光學膜，亦可藉由在液晶顯示裝置等之製造過程中依序分別加以積層之方式而形成，但事先積層而形成光學膜者，具有品質之穩定性或組裝作業等優異而可提昇液晶顯示裝置等之製造步驟的優點。積層可使用黏著層等適當之接著方法。於上述偏光板或其他光學膜之接著時，該等之光學軸可根據目標相位差特性等而達到適當之配置角度。
於上述偏光板或積層有至少一層偏光板之光學膜上，亦可設置用於與液晶單元等其他構件接著之黏著層。形成黏著層之黏著劑並無特別限制，例如可適當選擇使用以丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺基甲酸酯、聚醯胺、聚醚、氟系或橡膠系等之聚合物為基礎聚合物者。特別是可較好地使用如丙烯酸系黏著劑般光學透明性優異，表現適度濡濕性、凝聚性與接著性之黏著特性，且耐候性或耐熱性等優異者。
又，除上述以外，就防止因吸濕所引起之發泡現象或剝離現象，防止因熱膨張差等所引起之光學特性下降或液晶單元翹曲，進而高品質且耐久性優異之液晶顯示裝置之形成性等方面而言，較好的是吸濕率較低且耐熱性優異之黏著層。
黏著層可含有例如天然物或合成物之樹脂類、特別是增黏樹脂，或由玻璃纖維、玻璃珠、金屬粉、其他無機粉末等所構成之填充劑，或顏料，著色劑，抗氧化劑等添加於黏著層的添加劑。又，其亦可為含有微粒子而表現光擴散性之黏著層等。
向偏光板或光學膜之一面或兩面附設黏著層可藉由適當之方式進行。作為其例，例如可列舉：製備使基礎聚合物或其組合物溶解或分散於由甲苯或乙酸乙酯等適當溶劑之單獨物或混合物所構成之溶劑而形成的10~40重量%左右之黏著劑溶液，並藉由流延方式或塗佈方式等適當的展開方式將其直接附設於偏光板上或光學膜上之方式，或者以上述為基準於分隔件上形成黏著層後將其轉移至偏光板上或光學膜上之方式等。
黏著層亦可設置於偏光板或光學膜之一面或兩面來形成不同組成或種類等者之重疊層。又，於設置於兩面時，亦可於偏光板或光學膜之表面背面形成不同組成、種類或厚度等之黏著層。黏著層之厚度可根據使用目的或接著力等而適當決定，通常為1~40μm，較好的是5~30μm，特別好的是10~25μm。若薄於1μm，則耐久性變差，又，若厚於40μm，則易於產生因發泡等所引起之隆起或剝離，從而導致外觀不良。
於將黏著層供於實際使用之前的期間內，為了防止污染等而於黏著層之露出面上暫時黏著分隔件來加以覆蓋。藉此，可於通常之操作狀態下防止與黏著層接觸。作為分隔件，除去上述厚度條件，例如可使用：視需要藉由聚矽氧系或長鏈烷烴系、氟系或硫化鉬等適當的剝離劑，對塑膠膜、橡膠片、紙、布、不織布、網狀物、發泡片或金屬箔、該等之層壓體等適當的薄片體，實施塗佈處理而形成者等以先前為基準之合適者。
為了使偏光板與黏著劑層間之密著性提昇，亦可於該層間設置增黏層。
作為上述增黏層之形成材料，較好的是使用選自聚胺基甲酸酯、聚酯、分子中含有胺基之聚合物類之增黏劑，特別好的是分子中含有胺基之聚合物類。分子中含有胺基之聚合物類由於分子中之胺基表現出與黏著劑中之羧基等反應或離子性相互作用等相互作用，因此可確保良好的密著性。
作為分子中含有胺基之聚合物類，例如可列舉：聚乙烯亞胺、聚烯丙胺、聚乙烯胺、聚乙烯吡啶、聚乙烯吡咯啶、丙烯酸二甲基胺基乙酯等含胺基單體之聚合物等。
為了對上述增黏層賦予抗靜電性，亦可添加抗靜電劑。作為用以賦予抗靜電性之抗靜電劑，可列舉：離子性界面活性劑系、聚苯胺、聚噻吩、聚吡咯、聚喹噁啉等導電性聚合物系，氧化錫、氧化銻、氧化銦等金屬氧化物系等，特別就光學特性、外觀、抗靜電效果及抗靜電效果在加熱、加濕時之穩定性的觀點而言，可較好地使用導電性聚合物系。其中，可特別好地使用聚苯胺、聚噻吩等水溶性導電性聚合物，或者水分散性導電性聚合物。於使用水溶性導電性聚合物或水分散性導電性聚合物作為抗靜電層之形成材料時，可在塗佈時抑制因有機溶劑而對光學膜基材造成的變質。
再者，於本發明中，形成上述偏光板之偏光元件、透明保護膜或光學膜等、以及黏著層等各層，可藉由利用例如水楊酸酯系化合物或苯并苯酚系化合物、苯并三唑系化合物或氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯合物鹽系化合物等紫外線吸收劑進行處理之方式等方式，而具有紫外線吸收能力。
本發明之偏光板或光學膜可較好地用於液晶顯示裝置等各種裝置之形成等。液晶顯示裝置之形成可以先前為基準來進行。即，液晶顯示裝置通常藉由將液晶單元與偏光板或光學膜，以及視需要之照明系統等構成零件進行適當地組裝再組成驅動電路等而形成，於本發明中除使用本發明之偏光板或光學膜以外並無特別限定，可以先前為基準來進行。關於液晶單元，亦可使用例如TN(TWisted Nematic，扭轉向列)型或STN(Super Twisted Nematic，超扭轉向列)型、π型、VA(vertically aligned，垂直排列)型、IPS(In-Plane Switching，橫向電場切換)型等任一類型。
可形成在液晶單元之一側或兩側配置有偏光板或光學膜之液晶顯示裝置、或者於照明系統中使用背光源或反射板者等適當之液晶顯示裝置。此時，可將本發明之偏光板或光學膜設置於液晶單元之一側或兩側。於將偏光板或光學膜設置於兩側時，該等可相同亦可不同。進而，於形成液晶顯示裝置時，可在適當位置配置一層或兩層以上之例如擴散板、防眩層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列板、透鏡陣列板、光擴散板、背光源等適當之零件。
於將偏光板P作為本發明之偏光板(或使用該偏光板之光學膜)配置於液晶單元C時，上述偏光板P係使用相位差板作為偏光元件之一面之透明保護膜2a，並於另一面使用通常之透明保護膜2b而成者，較好的是以使該偏光板P之透明保護膜2a(相位差板)側成為液晶單元側之方式進行配置。於將上述偏光板P配置於液晶單元C之兩側時，較好的是以使兩側偏光板之透明保護膜2a(相位差板)側均成為液晶單元側之方式進行配置。將如此配置之情形示於圖2。
再者，關於配置於液晶單元之兩側的偏光板，作為成為液晶單元側之透明保護膜之組合，較好的是表1所示之組合。於表1中記載有於配置為液晶單元之上板(視覺辨識側)與下板之偏光板中，用於液晶單元側之透明保護膜之相位差的組合1~4。於上述組合中，就視角特性之方面而言，較好的是使用上述透明保護膜。再者，組合3中之下板的透明保護膜可使用通常之透明保護膜。亦可更換組合1~4之上板與下板之偏光板。
繼而，就有機電致發光裝置(有機EL顯示裝置)加以說明。通常有機EL顯示裝置係於透明基板上依序積層透明電極、有機發光層以及金屬電極而形成發光體(有機電致發光體)。此處，有機發光層為各種有機薄膜之積層體，己知有具有以下各種組合之構成：例如由三苯基胺衍生物等所構成之電洞佈植層與由蒽等螢光性有機固體所構成之發光層的積層體，或者此種發光層與由苝衍生物等所構成之電子佈植層的積層體，又，或者該等電洞佈植層、發光層及電子佈植層的積層體等。
有機EL顯示裝置按以下原理進行發光，即，藉由對透明電極與金屬電極施加電壓，而使電洞與電子佈植於有機發光層，藉由該等電洞與電子之再結合而產生之能量激發螢光物質，受激發之螢光物質恢復至基底狀態時放出光。稱為中途之再結合的機制，與通常之二極體相同，由此亦可預測，電流與發光強度相對於施加電壓表現出伴有整流性之較強的非線形性。
於有機EL顯示裝置中，為了導出有機發光層之發光，至少一方電極必須為透明，通常使用由氧化銦錫(ITO)等透明導電體所形成之透明電極作為陽極。另一方面，為了使電子佈植容易而提昇發光效率，重要的是使用功函數較小之物質作為陰極，通常使用Mg-Ag、Al-Li等金屬電極。
於此種構成之有機EL顯示裝置中，有機發光層由厚度極薄為10nm左右之膜形式成。因此，有機發光層亦與透明電極相同，幾乎使光完全透過。其結果，由於不發光時自透明基板之表面入射、透過透明電極與有機發光層並由金屬電極反射之光，再次向透明基板之表面側射出，因此自外部進行視覺辨識時，可見到有機EL顯示裝置之顯示面成鏡面狀。
在包含有機電致發光體的有機EL顯示裝置中，可於透明電極之表面側設置偏光板，並且可於該等透明電極與偏光板之間設置相位差板，上述有機電致發光體係於藉由施加電壓而發光之有機發光層之表面側具備透明電極，並且於有機發光層之背面側具備金屬電極而形成者。
由於相位差板及偏光板具有使自外部入射並由金屬電極反射之光發生偏光的作用，因此具有因該偏光作用而自外部無法視覺辨識金屬電極之鏡面的效果。特別是若由1/4波長板構成相位差板，且將偏光板與相位差板之偏光方向所成之角調整為π/4，則可完全遮蔽金屬電極之鏡面。
即，入射至該有機EL顯示裝置之外部光，藉由偏光板僅透過直線偏光成分。該直線偏光藉由相位差板而通常成為橢圓偏光，特別是於相位差板為1/4波長板且偏光板與相位差板之偏光方向所成之角為π/4時，成為圓偏光。
該圓偏光透過透明基板、透明電極、有機薄膜，由金屬電極反射，並再次透過有機薄膜、透明電極、透明基板，於相位差板上再次成為直線偏光。而且，由於該直線偏光與偏光板之偏光方向正交，因此無法透過偏光板。其結果，可完全遮蔽金屬電極之鏡面。
實施例
以下，就具體表示本發明之構成與效果的實施例等加以說明。再者，各例中，份及%只要無特別註明均為重量基準。
(相位差之測定)
利用以平行偏光旋轉法為原理之自動雙折射測定裝置(王子計測機器股份有限公司製造，自動雙折射計KOBRA21ADH)，測定透明保護膜於波長為590nm下之折射率nx、ny、nz，並計算出面內相位差Re、厚度方向相位差Rth。
(接著劑水溶液之黏度)
利用流變計(RSI-HS，HAAKE公司製造)，測定所製備之接著劑水溶液(常溫：23℃)。
(膠體之平均粒徑)
利用粒度分布計(日機裝公司製造，NANOTRACUPA150)，並藉由動態光散射法(光相關法)測定氧化鋁膠體水溶液。
(偏光元件之製作)
將平均聚合度為2400、皂化度為99.9莫耳%，厚度為75μm之聚乙烯醇膜浸漬於28℃之溫水中60秒鐘而使其膨潤。繼而，一邊於3.2重量%(重量比：碘/碘化鉀=1/10)之30℃的碘溶液中染色1分鐘，一邊進行延伸至3.3倍。繼而，一邊浸漬於60℃之3重量%之硼酸、2重量%之碘化鉀水溶液中10秒鐘，一邊進行延伸至3.6倍。其後，一邊浸漬於60℃之4重量%之硼酸、3重量%之碘化鉀水溶液中0.5分鐘，一邊進行延伸至總延伸倍率為6倍。進而，浸漬於5重量%之碘化鉀水溶液中10秒鐘再進行碘離子含浸處理。其後，於40℃之烘箱中乾燥3分鐘，而獲得厚度為30μm之偏光元件。
(透明保護膜)
使用以下所示者。
透明保護膜1：使用將上述通式(1)中，R1 為氫原子、R2 及R3 為甲基之具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂[共聚合單體之重量比：甲基丙烯酸甲酯/2-(羥甲基)丙烯酸甲酯=7/3，內酯環化率約為100%]擠壓成形，並延伸成縱向為1.8倍、橫向為2.2倍之透明保護膜(厚度為40μm、Re=54nm、Rth=135nm、透濕度為100g/m2 .24hr)。
透明保護膜2：使用將90重量份之上述通式(1)中，R1 為氫原子、R2 及R3 為甲基之具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂[共聚合單體之重量比：甲基丙烯酸甲酯/2-(羥甲基)丙烯酸甲酯=8/2，內酯環化率約為100%]、與10重量份之丙烯腈-苯乙烯(AS)樹脂{Toyo AS AS20，Toyo Styrene(股)製造}的混合物擠壓成形，並延伸成縱向為2.0倍、橫向為2.4倍之透明保護膜(厚度為40μm、Re=0nm、Rth=0nm、透濕度為100g/m2 .24hr)。
透明保護膜3：使用厚度為40μm之三乙醯纖維素膜(富士軟片(Fuji Film)(股)製造，Re=1nm、Rth=50nm、透濕度為780g/m2 .24hr)。
再者，於上述透明保護膜1及透明保護膜2之黏合偏光元件側，實施作為易接著處理的電暈處理，進而利用棒式塗佈機塗佈矽烷偶合劑(東麗道康寧(Toray Dowcorning)(股)製造，APZ6601)，並用80℃之乾燥機乾燥2分鐘後，調整成乾燥後之厚度為50nm。又，於透明保護膜3上實施作為易接著處理的皂化處理。
(接著劑之製備)
於30℃之溫度條件下，將相對於100重量份之含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂(平均聚合度：1200、皂化度：98.5莫耳%、乙醯乙醯基化度：5莫耳%)，而為50重量份之羥甲基三聚氰胺溶解於純水中，製備固形分濃度調整為3.7%之水溶液。相對於100重量份之上述水溶液，添加18重量份之氧化鋁膠體水溶液(平均粒徑為15nm、固形分濃度為10%、正電荷)，而製備接著劑水溶液。接著劑水溶液之黏度為9.6mPa‧s。接著劑水溶液之pH值為4-4.5之範圍。將其設為接著劑1。又，製備在上述接著劑1中並未添加氧化鋁膠體水溶液之接著劑水溶液。接著劑水溶液之黏度為7.0mPa‧s。接著劑水溶液之pH值為4-4.5之範圍。將其設為接著劑2。
實施例1 (偏光板之製作)
準備於上述透明保護膜1之一面上，以使乾燥後接著劑層之厚度達到80nm之方式塗佈上述接著劑1而成者。並準備於上述透明保護膜2之一面上，以使乾燥後接著劑層之厚度達到80nm之方式塗佈上述接著劑1而成者。又，接著劑之塗佈係自其製備經30分鐘後於23℃之溫度條件下進行。繼而，於23℃之溫度條件下，利用輥機將附有上述接著劑之透明保護膜1及2黏合於偏光元件之兩面後，於55℃下乾燥6分鐘而製作偏光板。
實施例2、比較例1~2
於實施例1中，於偏光板之製作過程中，如表2所示改變透明保護膜之種類、接著劑之種類，除此以外以與實施例1相同之方式製作偏光板。
(評價)
對所獲得之偏光板進行下述評價。將結果示於表3。
(經時變化：捲曲)
按以下基準對製作偏光板(300mm×200mm)時之偏光板的捲曲以及製作後經過50小時後之偏光板之捲曲進行評價。捲曲係將偏光板靜置於平面上時平面與離平面最遠處之間的距離。再者，於實施例及比較例中，剛製作偏光板後之捲曲均為0mm。
○：製作偏光板時與經過50小時後捲曲無變化。
△：製作偏光板時與經過50小時後捲曲之變化未滿±20mm。
×：製作偏光板時與經過50小時後捲曲之變化為±20mm以上。
(經時變化：光學特性)
以吸收軸相對於長邊成45°之方式切割偏光板(100mm×100mm)，使用積分球式透射率測定機(村上色彩研究所(股)製造：DOT-3C)，測定製作偏光板時與製作後經過50小時後之光學特性(單體透射率(%)、偏光度(%))，並按以下基準進行評價。於實施例及比較例中，剛製作偏光板後之光學特性，單體透射率均為43.0%、偏光度均為99.99%。
○：製作偏光板時與經過50小時後光學特性無變化。
△：製作偏光板時與經過50小時後光學特性之變化未滿±5%。
×：製作偏光板時與經過50小時後光學特性之變化為±5%以上。
(光學耐久性)
對偏光板(100mm×100mm)分別進行加熱試驗(80℃、240小時)、加濕試驗(60℃、90%RH、240小時)、熱循環試驗(將於-35℃與75℃之溫度下各保持1小時的溫度條件之變化循環200次)後，使用積分球式透射率測定機(村上色彩研究所(股)製造：DOT-3C)，測定光學特性(單體透射率(%)、偏光度(%))，並按以下基準進行評價。於實施例及比較例中，剛製作偏光板後之光學特性，單體透射率均為43.0%、偏光度均為99.99%。
○：製作偏光板時與經過50小時後光學特性無變化。
△：製作偏光板時與經過50小時後光學特性之變化未滿±5%。
×：製作偏光板時與經過50小時後光學特性之變化為±5%以上。
(顯示不均)
以上板為0°、下板為90°之方式將37英吋大小的偏光板貼付於玻璃上，自下板側用背光源進行照射，並按下述基準對偏光板之顯示不均進行評價。使用設置於偏光板之背光源之相反側(距離上板為50cm之位置)的測定機(二維色分布測定裝置，Konica Minolta公司製造，商品名：CA-1500)進行顯示不均之評價。又，分別進行加熱試驗(80℃、240小時)、加濕試驗(60℃、90% RH、240小時)、熱循環試驗(將於-35℃與75℃之溫度下各保持1小時的溫度條件之變化循環200次)後，亦以相同之方式評價顯示不均。
○：無顯示不均。
△：可觀察到一部分顯示不均。
×：整個面上均可觀察到顯示不均。
(密著性)
於偏光板之端部，於偏光元件與透明保護膜間插入裁刀之刀尖。於該插入部，抓住偏光元件與透明保護膜，並分別向相反方向拉伸。此時，將偏光元件及/或透明保護膜斷裂而無法剝離之情形，判定密著性為良好：「○」。另一方面，將偏光元件與透明保護膜之間有一部分或全部剝離之情形，判定為缺乏密著性：「×」。
(剝離量)
將偏光板切割成於偏光元件之吸收軸方向上為50mm、於與吸收軸正交之方向上為25mm而製備樣品。將該樣品浸漬於60℃之溫水中，測定隨時間經過樣品端部之剝離量(mm)。利用游標卡尺進行剝離量(mm)之測定。將經過5小時後之剝離量(mm)示於表3。
(外觀評價：裂點缺陷)
將偏光板切割成1000mm×1000mm而製備樣品。將樣品之偏光板置於螢光燈下。於樣品之偏光板之光源側，以各吸收軸成正交之方式設置其他偏光板，於該狀態下，對漏光之部位(裂點缺陷)的個數進行計數。
1．．．偏光元件
2a．．．透明保護膜(相位差板)
2b．．．透明保護膜
3．．．接著劑層
P．．．偏光板
C．．．液晶單元
圖1係本發明之偏光板之一例的剖面圖。
圖2係將本發明之偏光板用於液晶單元之一例的剖面圖。
1．．．偏光元件
2a．．．透明保護膜(相位差板)
2b．．．透明保護膜
3．．．接著劑層
P．．．偏光板

Claims (10)

  1. 一種偏光板，其特徵在於：於聚乙烯醇系偏光元件之兩面經由接著劑層而設置有透明保護膜，一面之透明保護膜係含有具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂而形成，且該面之透明保護膜係具有面內相位差為40nm以上及/或厚度方向相位差為80nm以上之相位差的相位差板，另一面之透明保護膜之面內相位差未滿40nm，且厚度方向相位差未滿80nm。
  2. 如請求項1之偏光板，其中另一面之透明保護膜係含有具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂而形成。
  3. 如請求項1之偏光板，其中上述接著劑層中，至少相位差板側之接著劑層為含有聚乙烯醇系樹脂、交聯劑及平均粒徑為1~100nm之金屬化合物膠體而成的樹脂溶液，且該接著劑層由相對於100重量份之聚乙烯醇系樹脂，而以200重量份以下之比例調配金屬化合物膠體的偏光板用接著劑而形成。
  4. 如請求項3之偏光板，其中金屬化合物膠體係選自氧化鋁膠體、二氧化矽膠體、氧化鋯膠體、氧化鈦膠體及氧化錫膠體中之至少一種。
  5. 如請求項3之偏光板，其中金屬化合物膠體具有正電荷。
  6. 如請求項5之偏光板，其中金屬化合物膠體為氧化鋁膠體。
  7. 一種偏光板之製造方法，其特徵在於：其係製造於偏光元件之兩面經由接著劑層而設置有透明保護膜之如請求項1至6中任一項之偏光板的方法，且該製造方法具有以下步驟：於偏光元件之形成上述接著劑層之面及/或透明保護膜之形成上述接著劑層之面上塗佈偏光板用接著劑的步驟，以及黏合偏光元件與透明保護膜的步驟。
  8. 一種光學膜，其特徵在於：積層有至少一片如請求項1至6中任一項之偏光板。
  9. 一種圖像顯示裝置，其特徵在於：使用如請求項1至6中任一項之偏光板。
  10. 一種圖像顯示裝置，其特徵在於：使用如請求項8之光學膜。
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