525195 A7 _____B7___ 五、發明說明（1 ) 技術領域 本發明係有關一種在透明塑膠膜基材上依序積層硬化物 層及透明導電性薄膜所成之透明導電性膜或透明導電性片 、以及使用此等之觸控面板，特別是有關使用於以筆輸入 用觸控面板時筆擦動耐久性優異的透明導電性膜或透明導 電性片、及使用此等之觸控面板。 先前技術 在透明塑膠基材上積層有透明且電阻小的薄膜之透明導 電性膜，利用該導電性之用途例如廣泛使用於液晶顯示器 或電子感應（EL )顯示器等平板顯示器、或觸控面板之透明 電極等之電氣、電子領域用途。 近年來，由於攜帶資料終端機或附有觸控面板之筆記型 電腦普及化，故要求耐筆擦動性優異的觸控面板。 在觸控面板上以筆輸入時，固定電極側之透明導電性薄 膜與可動電極（膜電極）側之透明導電性薄膜接觸，此時必 須爲不會因筆荷重致使透明導電性薄膜破裂、剝離等之破 壞情形，具有優異的耐筆擦動性透明導電性膜。 然而，習知透明導電性膜會有下述課題。 提案有在厚度爲120// ηι以下之透明塑膠膜基材上形成 透明導電型薄膜、且以黏合劑與其他透明無光貼合的透明 導電性膜（日本特開平2 - 66809號公報）。然而，使用下述 擦動耐久試驗所記載的聚縮醛製筆、且以5 . 0N荷重予以 1 0萬次直線擦動試驗後，在透明導電性薄膜上產生剝離、 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) _裝--------訂---------. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 525195 A7 B7 五、發明說明（2 ) 對以筆輸入而言耐久性不充分。因此’由於該剝離部分之 白化情形，使用於附有觸控面板之顯示器用時會有顯示品 質降低的問題。 而且，在透明塑膠膜基材上設有藉由有機矽化合物之力α 水分解所產生的層、且積層有結晶質之透明導電性薄膜的 透明導電性膜，例如有特開昭60-131711號公報、特開昭 6 1 - 79647號公報、特開昭6 1 - 1 83809號公報、特開平 2 - 1 94943號公報、特開平 2 - 276630號公報、特開平 8 - 64034號公報等。 然而，此等透明導電性膜由於爲結晶性透明導電性薄膜 故極脆，使用下述擦動耐久試驗所記載的聚縮醛製筆、以 5 . 0Ν荷重予以1 0萬次直線擦動試驗後，在透明導電性薄 膜上會產生破裂情形。而且，由於必須使透明導電性薄膜 濺射後在約15(TC下熱處理，故有加工成本增高的缺點。 此外，於特開平2 - 5308號公報、特開2000 - 62074號公 報中，提案在硬化被膜層上形成有透明導電性薄膜之導電 性塑膠積層物。然而，該積層物使用於液晶顯示器之透明 電極時極爲充分，惟使用於觸控面板時之擦動耐久性不充 分。此係使透明導電性薄膜在製膜中自硬化皮膜層氣化、 產生殘留揮發成分，致使透明導電性薄膜之膜質降低。 發明槪述 本發明之目的係有鑑於上述習知問題，提供一種使用於 觸控面板時以筆輸入耐久性優異、特別是使用下述擦動耐 -4- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ϋ I ϋ ϋ ϋ -^-r«»J· n n n n ϋ · 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 J · 525195 A7 ___B7 _ 五、發明說明（3 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 久試驗所記載的聚縮醛製筆、即使以5 . ON荷重擦動試驗 1 0萬次後透明導電性薄膜仍不會受到破壞之透明導電性膜 或透明導電性片板、以及使用此等之觸控面板。可解決上 述課題之本發明透明導電性膜、透明導電性片及觸控面板 如下所述。 換言之，本發明之透明導電性膜，其係在透明塑膠薄膜 基材上依序積層以硬化型樹脂爲主要構成分之硬化物層及 透明導電性薄膜，其特徵爲所形成的該透明導電性薄膜之 面上每100// m2中具有3〜200個直徑0.05〜3.0#m、高 度0.005〜2.00//m之突起物。 本發明另一目的之透明導電性膜，其中硬化性樹脂係爲 紫外線硬化型樹脂，在該紫外線硬化型樹脂中非相溶的樹 脂係爲重量平均分子量爲5, 000〜50, 000之聚酯樹脂，聚 酯樹脂對100重量份紫外線硬化型樹脂而言含有0. 10〜20 重量份。 本發明另一目的之透明導電性膜，其中透明導電性薄膜 係由銦-錫複合氧化物或錫-銻複合氧化物所成。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本發明另一目的之透明導電性膜，其中在透明導電性膜 之透明導電性薄膜面的反面上積層硬性塗覆層。 本發明另一目的之透明導電性膜，其中硬性塗覆層具有 防眩效果。 本發明另一目的之透明導電性膜，其中在硬性塗覆層上 施予低反射處理。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 525195 A7 B7 五、發明說明（4 ) 本發明另一目的之透明導電性片，其特徵爲上述透明導 電性膜之透明導電性薄膜面經由黏合劑而在其反面上貼合 透明樹脂片。 本發明另一目的之一種觸控面板，其係使一對具有透明 導電性薄膜之面板經由與透明導電性薄膜對向之感應器配 置所成的觸控面板中，其特徵爲至少一面板由上述之透明 導電性膜或透明導電性片所形成。 圖式簡單說明 第1圖係表示實施例1之觸控面板的輸出形狀說明圖。 第2圖係表示實施例2之觸控面板的輸出形狀說明圖。 第3圖係表示實施例3之觸控面板的輸出形狀說明圖。 第4圖係表示實施例4之觸控面板的輸出形狀說明圖。 第5圖係表示實施例5之觸控面板的輸出形狀說明圖。 第6圖係表示實施例6之觸控面板的輸出形狀說明圖。 第7圖係表示實施例7之觸控面板的輸出形狀說明圖。 第8圖係表示實施例8之觸控面板的輸出形狀說明圖。 第9圖係表示比較例1之觸控面板的輸出形狀說明圖。 第1 0圖係表示比較例2之觸控面板的輸出形狀說明圖。 第1 1圖係表示比較例3之觸控面板的輸出形狀說明圖。 第1 2圖係表示比較例4之觸控面板的輸出形狀說明圖。 第1 3圖係爲使用本發明透明導電性膜所得的觸控面板之 截面圖。 第1 4圖係爲使用本發明透明導電性膜所得不使用玻璃基 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） Γ-----------裝--------訂--------- (請先閱讀背面之注咅？事項再填寫本頁) 525195 A7 B7 五、發明說明（5 ) 板之觸控面板的截面圖。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 第1 5圖係爲實施例4之透明導電性膜的透明導電性薄膜 面之掃描型電子顯微鏡照片。 第1 6圖係表示實施例9之觸控面板的輸出形狀說明圖。 第17圖係表示實施例1〇之觸控面板的輸出形狀說明圖。 第1 8圖係表示實施例1 1之觸控面板的輸出形狀說明圖。 第19圖係表示實施例12之觸控面板的輸出形狀說明圖。 第20圖係表示實施例13之觸控面板的輸出形狀說明圖。 第2 1圖係表示實施例1 4之觸控面板的輸出形狀說明圖。 第22圖係表示實施例15之觸控面板的輸出形狀說明圖。 第23圖係表示實施例16之觸控面板的輸出形狀說明圖。 第24圖係表示實施例17之觸控面板的出形狀說明圖。 第25圖係表示實施例18之觸控面板的輸出形狀說明圖。 第26圖係表示實施例14之透明導電性薄膜的硬度測定時 所使用的硬度與壓子押入深度關係圖。 較佳的實施形熊說明 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本發明所使用的透明塑膠膜基材，係爲使有機高分子熔 融押出或溶液押出，視其所需朝長度方向及/或寬度方向 予以拉伸、冷卻、熱固定之薄膜，有機高分子例如有聚乙 烯、聚丙烯、聚對酞酸乙二酯、聚伸乙基-2，6 -萘甲酸酯 、聚對酞酸丙二酯、耐龍6、耐龍4、耐龍66、耐龍12、 聚醯亞胺、聚醯胺醯亞胺、聚醚楓、聚醚醚酮、聚碳酸酯 、聚烯丙酯、纖維素丙酸酯、聚氯化乙烯酯、聚氯化次乙 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 525195 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（6 ) 烯酯、聚乙烯醇、聚醚醯亞胺、聚伸苯基硫醚、聚氧化伸 苯基、聚苯乙烯、間規聚苯乙烯、原菠烯系聚合物等。 於此等之有機高分子中，以使用聚對酞酸乙二酯、聚對 酞酸丙二酯、聚伸乙基-2，6 -萘甲酸酯、間規聚苯乙烯、 原菠烯系聚合物、聚碳酸酯、聚烯丙酯等更佳。而且，此 等之有機高分子係可使其他有機聚合物之單體少量共聚合 、亦可使其他有機高分子混合。 本發明所使用的透明塑膠膜基材之厚度以10〜300 // m 較佳、更佳者爲70〜260#m。若塑膠膜之厚度爲10//ΙΏ以 下時機械強度不足、特別是使用於觸控面板時對以筆輸入 而言變形過大、耐久性不充分。另外，若厚度大於300 // m 時，使用於觸控面板時由於膜變形、筆荷重變大，故不爲 企求。 本發明所使用的透明塑膠膜基材，在不損及本發明之目 的範圍內，亦可使上述膜施予電暈放電處理、輝光處理、 火焰處理、紫外線照射處理、臭氧處理等之表面活性化處 理。 另外，本發明所使用的硬化型樹脂只要是因加熱、紫外 線照射、電子線照射等之外加能量硬化的樹脂即可，沒有 特別的限制，就生產性而言以紫外線硬化型樹脂較佳。該 紫外線硬化型樹脂例如有多元醇之丙烯酸或丙烯酸酯的多 官能性丙烯酸酯樹脂、多元醇及丙烯酸或甲基丙烯酸的羥 基烷酯等所合成的多官能性胺基甲酸丙烯酸酯樹脂等。視 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -L----------裝---- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂--------- 525195 A7 B7 五、發明說明（7 ) 其所需可在此等多官能性樹脂中加入單官能性單體如乙烯 基吡咯烷酮、甲基丙烯酸甲酯、苯乙烯等共聚合。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 紫外線硬化型樹脂通常可添加光聚合起始劑使用，光聚 合起始劑可使用吸收紫外線、產生游離基之習知化合物， 沒有特別的限制，該光聚合起始劑例如有各種苯偶姻類、 苯酮類、二苯甲酮類等。光聚合起始劑之添加量對100重 量份紫外線硬化型樹脂而言通常爲1 . 0〜5 . 0重量份。 另外，本發明所使用的硬化物層係除主要構成分之硬化 型樹脂外、以在硬化型樹脂中倂用非相溶的樹脂較佳。藉 由在無光之硬化型樹脂中倂用少量的非相溶樹脂，可使硬 化型樹脂中引起相分離之非相溶樹脂以粒子狀分散。藉由 該非相溶樹脂之分散粒子，可在硬化物表面形成凹凸。 硬化型樹脂爲上述紫外線硬化型樹脂時，非相溶樹脂例 如有聚酯樹脂、聚烯烴樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚醯胺樹脂 等。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 上述聚酯樹脂以重量平均分子量爲5, 0〇〇〜5〇, 〇Q〇之高 分子量較佳、更佳者爲8, 000〜30,000。若聚醋樹脂之重 量平均分子量小於5,000時，聚酯樹脂不易以適當大小的 粒子分散於硬化物層，故不爲企求。另外，若聚酯樹脂之 重里平均分子重大於5 0，0 0 0時’於調整塗覆液時對溶劑 而言溶解性降低，故不爲企求。 上述高分子量之聚酯樹脂係爲藉由使二元醇與二元竣酸 聚合所得的非結晶性飽和聚酯樹脂，可與上述紫外線硬化 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 525195 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（8 ) 型樹脂溶解於相同的溶劑者。 上述二元醇例如有乙二醇、丙二醇、1，夂丁二醇、1 4_ 丁二醇、1，6 -己二醇、二乙二醇、新戊醇、丨，4 -環己院二 甲醇、氫化雙酚A等。 而且，上述二元羧酸例如有異酞酸、對酞酸、己二酸、 酞酸酐、四氫酞酸酐、六氫酞酸酐等。 在不會對溶劑而言溶解性不充分的範圍內，可使三經基 丙烷或季戊四醇之三元以上之醇、及偏苯三酸酐或均苯三 酸酐之三元以上羧酸共聚合。 本發明之硬化物層的主要構成分之紫外線硬化型樹脂與 分子量聚酯樹脂之配合比例，對1 0 0重量份紫外線硬化型 樹脂而言聚酯以0.10〜20重量份較佳、更佳者爲05〇〜 5.0重量份。若上述聚酯樹脂之配合量對1〇〇重量份紫外 線硬化型樹脂而言小於0 · 1 0重量份時，在硬化物層表面 所形成的突起物數目少，故不爲企求。若上述聚酯樹脂之 配合量對1 0 0重量份紫外線硬化型樹脂而言大於2 0重量 份時，硬化物層之霧濁値上升且透明性惡化，故不爲企求 。反之，積極利用因高分子量之聚酯樹脂的分散粒子使透 明性惡化，且霧濁値高的膜使用作爲防眩膜。 上述紫外線硬化型樹脂、光聚合起始劑及高分子量聚酯 樹脂各可溶解於相同的溶劑以調製塗覆液。所使用的溶劑 沒有特別的限制，例如單獨使用或混合使用乙醇、異丙醇 等醇系溶劑、醋酸乙酯、醋酸丁酯等之酯系溶劑、二丁醚 -10* 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ^--------^--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 525195 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（9 ) 、乙二醇單乙醚等醚系溶劑、甲苯、二甲苯、溶劑油等芳 香族烴系溶劑等。塗覆液中樹脂成分之濃度可視塗覆法而 定的黏度予以適當地選擇。例如塗覆液中紫外線硬化型樹 脂、光聚合起始劑及高分子量之聚酯樹脂的合計量所佔比 例爲20〜80重量％。而且，該塗覆液中可視其所需添加習 知的添加劑，例如聚矽氧烷系水平劑等。 於本發明中將所調製的塗覆液塗覆於透明塑膠膜基材上 。塗覆法沒有特別的限制，可使用塗覆法、照相凹版塗覆 法、可逆塗覆法等習知的方法。經塗覆的塗覆液可以下述 之乾燥工程蒸發除去溶劑。以該工程、在塗覆液中均勻溶 解的高分子量之聚酯樹脂係在紫外線硬化型樹脂中以微粒 子析出。塗膜於乾燥後，塑膠膜上另照射紫外線、使紫外 線硬化型樹脂交聯•硬化形成硬化物層。以該硬化工程使 高分子之聚酯樹脂的微粒子固定於硬性塗覆層中、且在硬 化物層表面上形成突起物。 另外，硬化物層之厚度以〇 · 1 〇〜1 5較佳。更佳者爲 0.50〜10//m、最佳者爲1·〇〜8.0/zm。若硬化物層之厚度 小於0 · 1 0 μ m時，不易充分形成下述之突起物。而若大於 1 5 // m時’就生產性而言不爲企求。 本發明所使用的透明導電性薄膜只要是組合透明性及導 電性即可，沒有特別的限制，例如有氧化銦、氧化錫、氧 化鋅、銦-錫複合氧化物、錫-銻複合氧化物、鋅-鋁複合 氧化物、銦-鋅複合氧化物、銀及銀合金、銅及銅合金、 >11- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 ----訂---- # 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制衣 525195 A7 _B7_____ 五、發明說明（10) 金等之單層或2層以上積層構造者。於此等之中，就環境 安定性或電路加工性而言以銦-錫複合氧化物或錫-銻複合 氧化物爲宜。 透明導電性薄膜之膜厚以4〜800nm較佳、更佳者爲5〜 5 0 0nm。若透明導電性薄膜之膜厚小於4nm時，不易形成 連續的薄膜、不易具有良好的導電性。而若大於800ηηι時 ，透明性容易降低。 本發明之透明導電性薄膜的成膜方法，可使用真空蒸熔 法、濺射法、CVD法、離子分布法、噴霧法等之習知方法 .，視所需之膜厚使用上述方法。 例如爲濺射法時，係使用氧化物目標物的一般濺射法、 或使用金屬目標物之反應性濺射法。此時，反應性氣體中 可導入氧氣、氮氣、水蒸氣等、且添加臭氧、倂用電漿照 射、離子助劑等方法。而且，在不損及本發明目的之範圍 內，亦可在基板上施加直流、交流、高周波等偏壓。 此外，在透明塑膠膜上經由硬化物層使透明導電性薄膜 成膜時之溫度係以1 50 °C以下較佳。成膜時之溫度大於 1 50 °C時，塑膠膜之傳送速度必須變得很慢，故於工業上 不適用。 另外，進行濺射時之真空度以在0.01〜13. OPa進行較 佳。若真空度高於0 . 01 Pa時，由於在高真空下無法安定 地放電，故無法安定地進行濺射。反之，低於13. OP a之 真空度時，由於亦無法安定地放電故無法安定地進行濺射 -12- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --------^--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 525195 A7 B7 _ 五、發明說明（11 ) 。而且，於蒸熔法、CVD法等其他方法中亦相同。 爲提高透明導電性薄膜與硬化物層之附著力時，使硬化 物層表面處理時極爲有效。具體的手法例如有爲增加羰基 、羧基、羥基之照射輝光或電暈放電之放電處理法，爲增 加胺基、羥基、羰基等之極性基、以酸或鹼處理的化學藥 品處理法等。 本發明之透明導電性膜由於利用上述相分離形成具有表 面凹凸之硬化物層上積層透明導電層，故在透明導電層上 亦具有硬化物層之表面凹凸。具體而言，在透明導電性薄 膜之表面上以3〜200個/100#m2之頻率形成直徑0.05〜 3.0//m、高度0.01〜2.0//m之突起物。 上述突起物之直徑必須爲0 . 05〜3 . 0 // m、較佳者爲 0.06〜2.0//m、更佳者爲0.10〜l.〇//m。另外，突起物之 高度必須爲〇·〇〇5〜2.00//m、較佳者爲0.050〜1.00/zm 、更佳者爲0.1 00〜0.800 /zm。此外，透明導電性膜形成 面上每100// m2之突起物數目必須爲3〜200個、較佳者爲 10〜100個、更佳者爲20〜80個。 具有上述突起物數目之本發明透明導電性膜使用於觸控 面板時，由於與固定電極之透明導電性薄膜的平滑性優異 ，故使用聚縮醒製筆（前端形狀：0 . 8mmR )、以5 . 0N荷重 、進行1 0萬次直線擦動試驗後仍沒有透明導電性薄膜惡 化的情形。 突起物直徑小於0.05# m、突起物高度小於0.005 // m、 -13- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ------------裝--------訂--- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 525195 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（！2) 或突起物數目小於3個/1 00 // ιώ2時，無法得到良好的平滑 性、使用聚縮醛製筆（前端形狀：0.8mmR)、以5.0N荷重 、進行1 0萬次直線擦動試驗後，由於透明導電性薄膜惡 化，故不爲企求。另外，直徑大於3//m、突起物高度大於 2 // m、或突起物數目大於200個/100 // m2時，平滑性之提 高效果飽和、霧濁値增加，故不爲企求。 如上述所形成的硬化物層上使透明導電性薄膜藉由濺射 等真空工程成膜時，硬化物層中及/或塑膠膜中含有揮發 成分時會對真空工程有不良的影響。 例如以濺射法形成銦-錫複合氧化物膜時，經濺射的銦 原子與自硬化物層揮發的氣體在氣相中衝突，銦原子之能 量降低、結果在硬化物層上所形成的透明導電性薄膜之硬 度降低且膜質不佳。 另外，自硬化物層揮發的氣體成分係爲薄膜中之雜質， 結果形成膜質不佳、硬度低的透明導電性薄膜。將積層有 該膜質不佳的透明導電性薄膜之透明導電性膜使用於觸控 面板時，以5 . 0N荷重進行1 0萬次直線擦動試驗後透明導 電性薄膜磨損、惡化，故不爲企求。 例如在硬化物層中存在有揮發成分時，上述硬化物層之 塗覆中所使用的液體溶劑或紫外線硬化反應中所殘留的光 聚合起始劑及其副生成物等。 爲減少此等揮發成分時，藉由紫外線照射進行交聯反應 後施予加熱處理較佳。此時之溫度以100〜200°C較佳。若 -14- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 ·11111 舞 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 525195 A7 _ B7 _ 五、發明說明（13) 小於100°C時減少揮發成分之效果不充分，而若大於200 °C時不易保持膜之平面性，故不爲企求。 而且，在進行濺射等之真空室中真空暴露，以減少揮發 成分極爲有效。此時藉由提高接觸的輥溫度、且倂用紅外 線加熱器使膜加熱，可減少揮發成分。 於此等成膜工程中，於成膜前以使積層有硬化物層之塑 膠膜保持於真空中較佳。藉由該真空暴露，可更爲減少揮 發成分量。 以經由上述除去揮發成分之工程製得的揮發成分量爲 30ppm以下之透明導電性膜，由於透明導電性薄膜之膜質 優異，使用於觸控面板時，使用聚縮醛製筆（前端·形狀： 〇.8mmR)、以5. 0N荷重進行10萬次之直線擦動試驗後， 沒有透明導電性薄膜惡化的情形。 另外，本發明藉由提高透明導電性薄膜之硬度，於使用 於觸控面板時之筆擦動耐久性試驗中，藉由與玻璃基板之 摩擦可防止透明導電性薄膜磨損惡化的情形。 構成透明導電性薄膜之金屬氧化物，自電子線繞射像可 分類爲非晶性與結晶性。結晶性金屬氧化物可藉由使非晶 性金屬氧化物熱處理而得。硬度爲非晶性金屬氧化物者一 般較非晶性金屬氧化物爲高，惟爲進行構成導電性薄膜之 金屬氧化物的結晶化時，導電性薄膜容易變脆、藉由聚縮 醛筆之直線擦動試驗後膜會產生破裂情形。 爲提高非晶性透明導電性薄膜之硬度時，使透明導電性 -15- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 裝--------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 525195 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（14) 薄膜成膜時使用下述2種方法極爲有效。 Π )提高膜基板之溫度 (2 )除去成膜氣氛中之水分等雜質。 爲提高透明導電性薄膜之硬度時，提高基板之膜溫度係 爲一重要因素。此係在透明導電性薄膜成膜時，堆積蒸熔 粒子時基板（膜）表面上可以移動，故可在能量較爲安定的 狀態下移動、製得塡充密度非常高的透明導電性薄膜。使 金屬氧化物之蒸熔粒子以高密度塡充、於膜基材上成膜， 故硬度非常高。 例如使用藉由濺射法捲取式裝置、使透明導電性薄膜在 膜_h成膜時，接觸膜背面（透明導電性薄膜形成面的反面） 的輥溫度提高，可使基板之膜溫度提高。 在基板之透明塑膠膜上使透明導電性薄膜成膜時之溫度 以40〜150 °C較佳。成膜時之溫度大於150 °C時，塑膠膜 表面柔軟、於真空室行走中膜表面容易產生傷痕。而若小 於40 °C時，不易製得硬度高的導電性薄膜。 爲控制輥溫度時，可在輥內設置水路、在該水路中流動 溫度經調整的熱媒。該熱媒沒有特別的限制，以水或油、 乙二醇、丙二醇等之單體及此等之混合物爲宜。 而且’爲製得硬度高的透明導電性薄膜時，儘可能除去 成膜氣氛中之水等雜質爲其重要因素。 例如以濺射法成膜時，進行濺射前使真空室內之壓力排 氣至O.OOlPa以下後，將Ar等惰性氣體與氧氣等反應性 -1 6 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 裝--------訂— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 525195 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（15) 氣體導入真空室中，在0.01〜10P a之壓力範圍內產生放 電情形、進行濺射者較佳。此外，於蒸熔法、CVD法等其 他的方法時亦相同。 如上述藉由儘可能除去成膜氣氛中之水等雜質，製得膜 質優異且高硬度的透明導電性薄膜。因此，將該透明導電 性薄膜使用於觸控面板時，使用聚縮醛製筆（前端形狀： 0.8mmR)、以5.0N荷重進行10萬次之直線擦動試驗後， 沒有透明導電性薄膜惡化的情形。 另外，爲製得硬度更高的透明導電性薄膜時，亦可以於 成膜後以加熱、紫外線照射等方法施加能量。於此等能量 施加方法中以在氧氣氣氛下之加熱處理爲宜。 加熱處理溫度以150〜200°C較佳。若小於150°C之溫度 時，膜質之改善效果不充分。而若大於200 °C之溫度時， 不易維持膜之平面性、且透明導電性薄膜之結晶化度非常 高、而成易脆的透明導電性薄膜。 此外’加熱處理時間以0 · 2〜60分鐘爲宜。若小於〇 . 2 分鐘時，例如即使在2 2 0 °C之高溫下加熱處理、其膜質改 善效果仍不充分，故不爲企求。另外，大於60分鐘之加 熱處理時間在工業上不適用。 而且，進行加熱處理之氣氛係以預先排氣至〇 . 2Pa以下 後在充滿氧氣之空間中進行較佳。此時之壓力以大氣壓以 下較佳。 另外，爲提高作爲觸控面板時最外層（以筆輸入面）之耐 -17- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 裝--------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 525195 A7 ___B7__ 五、發明說明（16) 擦傷性時，在與形成透明塑膠膜之透明導電性薄膜表面之 反面（作爲觸控面板時之最外層筆輸入面）上設置硬性塗覆 層較佳。上述硬性塗覆層之硬度以鉛筆硬度2H以上較佳 。若小於2H之硬度時，透明導電性膜之硬性塗覆層就耐 擦傷性而言不足夠。 上述硬性塗覆層之厚度以0 . 5〜1 0 // m較佳。若厚度小 於0 . 5 // m時耐擦傷性容易變得不充分，而若大於1 0 // m 時就生產性而言不爲企求。 上述硬性塗覆層所使用的硬化型樹脂組成物以具有丙烯 酸酯系官能基者較佳，例如聚酯樹脂、聚醚樹脂、丙烯酸 樹脂、環氧樹脂、胺基甲酸酯樹脂、烷氧化物樹脂、旋轉 縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、聚硫醇聚烯樹脂、多元醇等之 多官能化合物之（甲基）丙烯酸酯等寡聚物或預聚物等。而 且，反應性稀釋劑係爲（甲基）丙烯酸乙酯、（甲基）丙烯酸 乙基己酯、苯乙烯、甲基苯乙烯、N -乙烯基吡咯烷酮等多 官能性單聚物以及多官能單聚物，例如可使用含有較多量 三羥甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、己烷二醇（甲基）丙烯酸 酯、三丙二醇二（甲基）丙烯酸酯、二乙二醇二（甲基）丙烯 酸酯、季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇六（甲基） 丙烯酸酯、1，6 -己烷二醇二（甲基）丙烯酸酯、新戊醇二（ 甲基）丙烯酸酯等者。 本發明以混合寡聚物之丙烯酸胺基甲酸酯、單聚物之二 季戊四醇六（甲基）丙烯酸酯等較佳。 -18- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格（210 X 297公釐） " (請先閱讀背面之注咅？事項再填寫本頁) 裝 ----^ --------- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 525195 A7 ___B7 五、發明說明（17 ) 特別是以聚酯丙烯酸酯與聚胺基甲酸酯丙烯酸酯之混合 物爲宜。聚酯丙烯酸酯之塗膜非常硬、適合作爲硬性塗覆 層。然而，聚酯丙烯酸酯之單獨塗膜，其耐衝擊性低、易 脆，因此，爲賦予塗膜具有耐衝擊性及柔軟性時，以倂用 聚胺基甲酸酯丙烯酸酯較#佳。 換言之，藉由在聚酯丙烯酸酯中倂用聚胺基甲酸酯丙烯 酸酯，塗膜可維持作爲硬性塗覆層之硬度、且可具備耐衝 擊性及柔軟性之機能。 對1 00重量份聚酯丙烯酸酯而言聚胺基甲酸酯丙烯酸酯 之配合比例以3 0重量份以下較佳。若該配合比例大於3 0 重量份時，塗膜有過於柔軟、耐衝擊性不佳的傾向。 上述硬化型樹脂組成物之硬化方法可使用一般的硬化方 法，即藉由電子線或紫外線照射之硬化方法。例如爲電子 線照射時，使用卡克卡羅夫頓 W a 1 t ο η )(譯音）型、手圖型、共振變壓型、絕緣芯變壓器 型、直線型、動態型、高周波型等各種電子線加速器所放 出的具有50〜lOOOkeV、較佳者爲1〇〇〜300keV之能量的 電子線等。而且，爲紫外線硬化時，可利用自超高壓水銀 燈、高壓水銀燈、碳燈、氙燈金屬鹵化物等等之光線所發 出的紫外線等。 另外，爲電離放射線硬化時，以於上述硬化型樹脂組成 物中混合作爲光聚合起始劑之苯乙酮、二苯甲酮、米西苯 醯基苯甲酸酯、α -澱粉酯、四甲基胺荒醯單硫化物、噻 -19- i紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規¥ (210 X 297公f ) ""~— ^--------^--- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) # 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 525195 A7 — ____B7 五、發明說明（18) 噸酮、或作爲光增感劑之正丁胺、三乙胺、三正丁基亞膦 等較佳。本發明尤以混合作爲寡聚物之胺基甲酸酯、作爲 單聚物之二季戊四醇六（甲基）丙烯酸酯等更佳。 爲賦予硬性塗覆層具有防眩性時，於硬化型樹脂中使 CaC03或Si02等無機粒子分散、在硬性塗覆層表面上形成 凹凸形狀極爲有效。例如爲形成凹凸形狀時，使含有硬化 型樹脂組成物塗覆後、積層表面具有凸形之賦形膜、且在 該賦形膜上照射紫外線使硬化型樹脂硬化後，僅剝離賦形 膜而製得。 上述賦形膜可使用在具有剝離型之聚對酞酸乙二酯（以 下簡稱爲PET)等基材膜上設置所企求的凸狀者，或在PET 等基材膜上形成纖細凸層者等。該凸層之形成例如可藉由 使用由無機粒子與黏合劑樹脂所成的樹脂組成物塗覆於基 材膜上而製得。上述黏合劑樹脂例如可使用以聚異氰酸酯 交聯的丙烯酸聚醇，無機粒子可使用0&(：03或3丨02等。另 外，其他於製造PET時可使用混練有S i 02等無機粒子之無 光型PET。 使該賦型膜積層於紫外線硬化型樹脂之塗膜後，照射紫 外線以使塗膜硬化後，賦型膜爲以PET爲基材之膜時，在 該膜上吸收紫外線之短波長側、會有紫外線硬化型樹脂之 硬化不足的缺點。而且，紫外線硬化型樹脂之塗膜上積層 的賦形膜的透過率必須爲20%以上者。 另外’爲另外提高使用於觸控面板時可視光之透過率時 -20- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） AW· ^--------^--------- (請先閱讀背面之注咅？事項再填寫本頁) 525195 A7 B7__ 五、發明說明（19) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ，亦可在硬性塗覆層上施予低反射處理。該低反射處理以 積層單層或2層以上具有與硬性塗覆層不同折射率之材料 較佳。爲單層構造時，以使用比硬性塗覆層具有較小折射 率之材料較佳。另外，爲2層以上之多層構造時，鄰接於 硬性塗覆層之層使用比硬性塗覆層具有較大折射率之材料 、在該層上則選擇具有較該物之折射率小的材料。該構成 低反射處理之材料只要是可滿足上述折射率關係即可，爲 有機材料或無機材料皆可，沒有特別的限制。例如以使用 CaF2 、 MgF2 、 NaAlF4 、 Si02 、 ThF4 、 Zr02 、 Nd203 、 Sn〇2 、 ΤΊ02、Ce02、ZnS、ln203、等誘電體較佳。 該低反射處理可以真空蒸熔法、濺射法、CVD法、離子 分布法等之乾式塗覆工程、或照相凹版方式、可逆方式、 塑模方式等濕式塗覆工程。 此外，預先積層該低反射處理層，可在硬性塗覆層上施 予前處理之電暈放電處理、電漿處理、濺射鈾刻處理、電 子線照射處理、紫外線照射處理、起始劑處理、易黏合處 理等習知表面處理。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 使用本發明之透明導電性膜、在沒有形成透明導電性薄 膜面上經由黏合劑積層透明樹脂片，製得使用於觸控面板 之固定電極的透明導電性積層片。換言之，藉由使固定電 極由玻璃改成樹脂製，可製作輕量且不易破裂的觸控面板 〇 上述黏合劑係爲具有透明性者即可，沒有特別的限制， -21 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） " 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制衣 525195 A7 ______ B7 五、發明說明（2〇) 例如有丙烯酸系黏合劑、聚矽氧烷系黏合劑、橡膠系黏合 劑等。該黏合劑之厚度沒有特別的限制，通常以設定於1 〜1 00 // m較佳。黏合劑之厚度小於1 // m時不易製得實用 上沒有問題的黏合性，而若大於1 0 0 // ni時就生產性而言 不爲企求。 經由該黏合劑貼合的透明樹脂片係爲賦予與玻璃同等機 械強度所使用者，厚度以0. 05〜5 . 0mm較佳。上述透明樹 脂片之厚度小於〇 . 〇5inm時，機械強度比玻璃不足。另外 ，若厚度大於5 . 0mm時，過厚而不適於使用於觸控面板。 而且，該透明樹脂片之材質可使用與上述透明塑膠膜相同 者。 第1 3圖係表示使用本發明透明導電性膜（1 0 )之觸控面 板例。此係使一對具有在透明塑膠膜（1 1 )上積層硬化物層 (1 2 )與透明導電性薄膜（1 3 )所成的透明導電性膜（1 0 )的面 板，經由與透明導電性薄膜對向的珠子等感應器（20 )配置 而成的觸控面板中，在一面板上使用本發明之透明導電性 膜（1 0)者。另外，在與上述透明塑膠膜（1 1 )之硬化物層 (1 2 )反面上積層硬性塗覆層（1 4 )。該觸控面板藉由以筆輸 入文字時，因筆之押壓使對向的透明導電性薄膜接觸、形 成電氣ON的狀態、在觸控面板上可檢測出筆之位置。藉 由連續且正確地檢測該筆之位置，可自筆之軌跡來確認文 字。此時，筆接觸側之可動電極使用本發明之透明導電性 膜時，由於以筆輸入耐久性優異，即使經過長時間仍可爲 -22- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ^--------^--------- (請先閱讀背面之注咅？事項再填寫本頁) 525195 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（21 ) 安定的觸控面板。 而且，使用本發明之透明導電性膜（1 〇 )及透明導電性片 (40 )所得不使用玻璃板的塑膠製觸控面板之截面圖如第1 4 圖所示。該塑膠製觸控面板，由於不使用第13圖所示之 玻璃板，故極爲輕量、且不會因衝擊而破裂。此處透明導 電性片（40 )之透明樹脂片（42 )與透明塑膠膜（1 1 )以黏合劑 黏合。 實施例 於下述中藉由實施例更詳細地說明本發明，惟本發明不 受此等實施例所限制。而且，透明導電性膜之性能及觸控 面板之以筆輸入耐久性試驗係藉由下述方法測定。 <光線透過率及霧濁値> 以JIS-K7105爲基準、且使用日本電色工業（股）製_心 1001DP，測定光線透過率及霧濁値。 <表面電阻率> 以]I S - K7 1 9 4爲基準、以4端子法測定。測定機可使用 三菱油化（股）製Lotest AMCP-T400。 <表面突起物數目> 使用掃描型電子顯微鏡（日立製作所製、S- 800 )、進行 觀察膜之透明導電性薄膜形成面的表面，進行照相1 0個 100 // m2膜表面之突起物數目，以該平均値作爲突起物數 目。 <突起物之直徑及高度> -23- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ^--------^--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 525195 A7 ―一 ___B7 五、發明說明（22 ) 測定膜之透明導電性薄膜形成面中突起物之直徑及高度 ’進行使用掃描探針顯微鏡（s e i k ο I n s t r u in e n t s公司製 、SPA 3 00 )。測定進行50個突起物，求取此等之平均値。 掃描器係使用100微米掃描器，藉由下述之條件進行原子 間力顯微鏡觀察。 懸臂：SI-DF3(矽製彈簧定數：約2N/m者） 掃描型式：DFM型 掃描速度：0.5〜2.0Hz 畫素數：5 1 2 X 256 測定環境：大氣中（溫度20°C X濕度65%RH) <動摩擦係數> 以：TIS-P8147爲基準、以拉伸速度 200m/分、荷重 43.1N(4.4kgf)，測定積層銦-錫複合氧化物（ITO)膜的玻 璃（日本曹達（股）製：450 Ω / □品）之ITO面與本發明透明 導電性膜之透明導電性薄膜的動摩擦係數。 <揮發成分量> 將3g透明導電性膜切成3cmX0.5cm，且藉由固體精製 •及•捕集裝置（日本分析工業製、JHS-100)、在He中、 l〇〇°C下加熱脫離15分鐘。使脫離成分以在吸附材（石英 綿）上以液態氮冷卻的吸附劑冷卻捕集，藉由急速加熱導 入GCNMS裝置（修雷頓巴卡頓（譯音）公司製、HP6890及 HP597 3 )，且使透明導電性膜中之揮發成分量定量。 <附著力測定> -24- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 裳--------訂---------· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 525195 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（23) 使40 // m厚之離子聚合物使用聚酯系黏合劑、積層厚度 7 5 // m之聚對酞酸乙二酯膜，製作附著力測定用積層物。 使該附著力測定用積層物之離子聚合物面與透明導電性膜 之透明導電性薄膜面對向，在130t下成加熱片。使該積 層物以1 80度剝離法使附著力測定用積層物與透明導電性 膜剝離，且以該剝離力作爲附著力。此時之剝離速度爲 10〇0mm / 分。 <以筆輸入耐久性試驗> 對觸控面板進行聚縮醛製筆（前端形狀：0.8mmR)、且以 5 · 0N荷重予以1 0萬次直線擦動試驗。此時擦動距離爲 30mm、擦動速度爲60mm/秒。於該擦動耐久試驗後，首先 藉由目視觀察擦動部分是否有白化情形。此外，以筆荷重 0.5N施於上述擦動部分書寫20ηιηιφ之記號〇，且評估觸 控面板是否可正確評估。另外，以比荷重0.5N押壓擦動 部分時，測定ON電阻（可動電極（膜電極）與固定電極接觸 時之電阻値）。 <重量平均分子量> 使0.03g聚酯樹脂溶解於l〇ml四氫呋喃中，以GPC-LALLS裝置低角度光散射光度計LS- 8000 (東雷股份有限 公司製、四氫呋喃溶劑、參考値：聚苯乙烯）測定。 <透明導電性膜之透明導電性薄膜面的硬度> 將透明導電性膜試料切成7mm X7mni小片，且使與透明 導電性薄膜反面以2液混合環氧系黏合劑固定於鋁製試料 -25- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ^--------^--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 525195 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（24) 固定器。使該物使用Nano Indenter XP(東陽科技公司製） 、使透明導電性膜之透明導電性薄膜面藉由下述荷重加振 之連續剛性測定法以測定硬度。壓力係使用曲率半徑40nm 之AccuTip型培柯間距鑽石片。 ⑴表面檢測 使壓子以20nm/秒朝向透明導電性膜所成之透明導電 性膜面下降，其剛性爲自由振動（大氣中）時之1 . 5倍 時爲表面。 ⑵荷重負荷過程 使荷重速率爲（dF/dt)/F = 0.05(F:荷重），使荷重以 4 5Hz加振變調。而且，使壓子押入至200nm爲止。 ⑶除荷過程 在一定荷重下保持1 5秒後，在荷重負荷過程中最終 到達速度之70%速度以使最大荷重之80%份除荷。 ⑷吸附平衡檢測 以最大荷重之20%測定2秒的50點位置，且算出吸 附平衡速度。使用該値修正荷重-變位曲線。 上述測定終了後，自荷重負荷過程之測定値以〇 1 i v e r f Ph a ι·ι•的方法計算壓子之實效接觸深度，於預先求取中使 用壓子形狀補正式以算出實效接觸射影截面積。使各測定 點之荷重以面積相除作爲硬度（Gp a )。 使該測定値以40 // m間隔測定1 〇點試料之中央部，取 此寺之平均値’自硬度與押入丨朵度圖求出最大硬度，至小 -26- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 裝--------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 525195 A7 B7___ 五、發明說明（25) 數第3位四捨五入，以其作爲透明導電性膜所成的透明導 電性膜面之硬度（Gpa)。 第26圖係爲實施例1 4之透明導電性膜面之硬度與壓子 押入深度的關係圖。此時之膜硬度爲0 . 5 1 GPa。 <透明導電性膜之結晶或非晶判斷> 將透明導電性膜浸漬於1，1 , 1，3，3 , 3 -六氟異丙醇中2曰 ，且使塑膠膜及硬化性高分子硬化層溶解，製得透明導電 性薄膜之單獨膜。然後，使溶液中之透明導電性薄膜載負 於微柵上，風乾一日後使溶液乾燥。乾燥後試料之電子線 繞射像以透過型電子顯微鏡（日本電子公司製、JEM-2010) 測定。電子線之條件係加速電壓爲 200kV、波長爲 0 · 0025ηΐΏ。自該電子線繞射像可判斷透明導電性薄膜爲結 晶性或非晶性。 透明導電性膜之形熊等的影響（實施例1〜8、比較例]〜4 ) 實施例1〜3及比較例1、2 在100重量份含光聚合起始劑之丙烯酸系樹脂（大曰精 化工業公司製、西卡比母（譯音）EXF-01J )中，配合表1所 示之添加量的共聚合聚酯樹脂（東洋紡績公司製、拜龍（譯 音）200、重量平均分子量1 8,000 )，且加入固成分濃度爲 50重量％作爲溶劑之甲苯/ MEK(8/2 :重量比）之混合溶劑， 予以攪拌均勻地溶解以調製塗覆液。在一面具有易黏合層 的二軸配向聚對酞酸乙二酯膜（東洋紡績公司製、A 4 1 4 0、 厚度188/zm)之易黏合處理面上’使用邁耶棒、以塗膜厚 -27- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公f ) ^--------^--------- (請先閱讀背面之注咅？事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 525195 A7 B7___ 五、發明說明（26 ) 度爲5 // m塗覆所調製的塗覆液。在8〇t下進行乾燥1分 鐘後’使用紫外線照射裝置（艾古拉非克斯（譯音）公司製 、UB042 - 5AM-W型）照射紫外線（光量：300mj/cm2)，且使 塗膜硬化。 然後’在該硬化物層面上使銦-錫複合氧化物所成的透 明導電性薄膜成膜。此時，使用含有1 〇重量％作爲目標物 之氧化錫的氧化銦（三井金屬礦業公司製、密度7.lg/cm2) ’施加2. OW/cm2之DC電力。而且，Ar氣體以130 seem、 〇2氣體以lOsccm之流量流動，在0.40Pa之氣氛下以磁控 管濺射法成膜。不爲一般的DC，爲防止電弧放電時使用日 本衣亞魯艾（譯音）製RPG-100以50kHz周期施加+20V之5 // s寬脈動。而且，以· 1 〇°C之冷卻輥使膜冷卻，且進行濺 射。此外，使氣氛之氧氣分壓長期以濺射工程監控器（伯 東公司製、SPM200 )觀察，且使銦-錫複合氧化物薄膜中之 氧化度一定下供應給氧氣流量計及DC電源。如上所述， 堆積由厚度27nm之銦-錫複合氧化物所成的透明導電性薄 膜。 另外，使用該透明導電性膜作爲一方之面板，另一方之 面板使用在玻璃基板上以電漿CVD法由厚度20nm之銦-錫 複合氧化物膜（氧化錫含量：1 0重量％ )所成的透明導電性 薄膜。使該2張面板對向於透明導電性薄膜、經由直徑30 μ m之環氧珠子配置、製作觸控面板。 實施例4 -28- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --------1 —裝--------訂--------* (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 525195 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（27) 該實施例2之透明塑膠膜基材/硬化物層面上使錫-銻複 合氧化物所成的透明導電性薄膜成膜。此時，使用含有5 重量％作爲目標物之氧化錫的氧化銻（三井金屬礦業公司製 、密度5.7g/cm2)，施加1.5W/cm2之DC電力。而且，Ar 氣體以130 seem、02氣體以20 sc cm之流量流動，在0.4Pa 之氣氛下以DC磁控管濺射法成膜。不爲一般的DC，爲防 止電弧放電時使用日本衣亞魯艾（譯音）製RPG-100以 100kHz周期施加+ 20V之5 // s寬脈動。而且，以-l〇t之 冷卻輥使膜冷卻，進行濺射。此外，使氣氛之氧氣分壓長 期以濺射工程監控器（伯東公司製、SPM200 )觀察，且使銦 -錫複合氧化物薄膜中之氧化度一定下供應給氧氣流量計 及DC電源。如上所述，堆積由厚度30nm之錫·銻複合氧 化物所成的透明導電性薄膜。 另外，所得的透明導電性膜之性能試驗結果如表1所示 。而且，與實施例2相同地製作觸控面板。 實施例5 與實施例2同樣地製作由透明塑膠膜基材/硬化物層所 成積層物之硬化物層的反面上藉由照相凹版可逆法、以乾 燥後膜厚爲5 v m塗覆作爲硬性塗覆層之由聚酯丙烯酸酯 與聚胺基甲酸酯丙烯酸酯之混合物所成的紫外線硬化型樹 脂（大日精化工業公司製、EXG)作爲硬性塗覆層樹脂，且 使溶劑乾燥。然後，在160W之紫外線照射裝置下以10m/ 分之速度通過，使紫外線硬化型樹脂硬化，形成硬性塗覆 -29- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 裝--------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制取 525195 A7 B7__ 五、發明說明（28) 層。 在該由防眩性塗覆層/透明二軸配相膜基材/硬化物層所 成的積層物之硬化物層面上，與實施例4相同地使錫-銻 複合氧化物薄膜成膜。另外，使用該透明導電性膜，與實 施例2相同地製作觸控面板。 實施例6 與實施例2同樣地製作由透明塑膠膜基材/硬化物層所 成的積層物。在該積層物之硬化物層相反面上藉由照相凹 版可逆法、以乾燥後膜厚爲5 // m塗覆作爲硬性塗覆層之 由聚酯丙烯酸酯與聚胺基甲酸酯丙烯酸酯之混合物所成的 紫外線硬化型樹脂（大日精化工業公司製、EXG)作爲硬性 塗覆層樹脂，且使溶劑乾燥。然後，使在表面上形成有微 細凸狀之聚對酞酸乙二酯膜的無光賦形膜（東雷（譯音）（股） 製、X )鄰接於紫外線硬化型樹脂予以積層。該無光賦形膜 之表面形狀係平均表面粗度爲〇 . 40 μ m、山之平均間隔爲 160/zm、最大表面粗度爲25//m。使該積層的膜在160W之 紫外線照射裝置下以l〇m/分之速度通過’使紫外線硬化型 樹脂硬化，形成硬性塗覆層。然後’使無光賦形膜剝離， 形成表面濕有凹狀加工、具有防眩效果之硬性塗覆層。 在該由防眩性硬性塗覆層/透明塑膠膜基材/硬化物層所 成的積層物之硬化物層面上，與實施例4相同地使錫-銻 複合氧化物薄膜成膜成爲透明導電性膜。另外，使用該透 明導電性膜作爲一方的面板，與實施例2相同地製作觸控 -30- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ^--------^--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 525195 A7 B7 五、發明說明（29) 面板。 實施例7 與實施例6同樣地製作由防眩性硬性塗覆層/透明塑膠 膜基材/硬化物層/透明導電性薄膜層所成的積層物。然後 ，且在該防眩性硬性塗覆層面上順序積層Ti02膜（折射率 :2.30、膜厚 15nm)、Si02 膜（折射率：1 .46、膜厚 29nm) 、Ti02薄膜（折射率：2 · 30、膜厚109nm)、Si02膜（折射率 :1 .46、膜厚87nm)以形成防止反射處理層。形成Ti02膜 時，使用鈦爲目標物、以直流磁控管濺射法、真空度爲 0.2 7Pa、且使作爲氣體之Ar氣體以5 00sccm、02氣體以 80 seem之流量流動。另外，在基板背面上設置0°C之冷卻 輥，以使透明塑膠膜冷卻。此時對目標物供應7 . 8W / cm2之 電力，且動態速度爲23nm· m /分。 形成S i 02薄膜時，此用矽作爲目標物，以直流磁控管濺 射法、真空度爲0.27Pa、且使作爲氣體之Ar氣體以 500sccm、02氣體以80sccm之流量流動。另外，在基板背 面上設置0°C之冷卻輥，以使透明塑膠膜冷卻。此時對目 標物供應7.8W/cm2之電力，且動態速度爲23ηιη·ιιι/分。 此外，使用該透明電性膜作爲一方面板，與實施例2相同 地製作觸控面板。 實施例8 與實施例4相同地所製作透明導電性膜經由丙烯酸系黏 合劑，貼附於厚度1.0mm之聚碳酸酯製片上，製作透明導 -3 1 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) --------^ --------I AWI . 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 525195 A7 B7 五、發明說明（3〇) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 電性積層片。使用該透明導電性積層片作爲固定電極、使 用實施例6之透明導電性膜作爲可動電極，與實施例2相 同地製作觸控面板。 比較例3 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 取代聚酯樹脂製造含有二氧化矽微粒子之硬化物層。在 100重量份含有光聚合起始劑之丙烯酸系樹脂（大日精化工 業（股）製、西卡比母（譯音）EXF-01】）中，配合0.5重量份 平均粒徑爲1 . 5 μ m之球狀單分散二氧化矽微粒子（日本觸 媒（股）製、西河史塔KE-P150)，且添加80重量份作爲溶 劑之甲苯，予以攪拌調製二氧化矽微粒子均一分散的塗料 。在一面具有易黏合層的二軸配向聚對酞酸乙二酯膜（東 洋紡績公司製、A4 340、厚度188// m)之易黏合處理面上， 使用邁耶棒、以塗膜厚度爲5 # m塗覆所調製的塗覆液， 在80°C下進行乾燥1分鐘後，使用紫外線照射裝置（艾古 拉非克斯（譯音）公司製、UB042 - 5AM-W型）照射紫外線（光 量：300in：f/Cn]2)，且使塗膜硬化。在所得的透明塑膠膜基 材之硬化物層上，與實施例4相同地使錫-銻複合氧化物 薄膜成膜。另外，使用該透明導電性膜，與實施例2相同 地製作觸控面板。 比較例4 與實施例1相同地在一面具有易黏合層之二軸拉伸聚對 酞酸乙二酯膜（東洋紡績（股）製、A4 140、厚度：188 // m) 之易黏合處理面上塗覆有機矽化合物之丁醇、異丙醇混合 -32- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 525195 A7 B7 五、發明說明（31 ) 醇系溶液（濃度：1重量％)後，在100°C下乾燥1分鐘。然 後，在有機矽化合物上使用氧化錫含有率5重量％之銦-錫 合金目標物、在基板溫度12CTC下成膜。而且，真空度爲 0 . 27pa、作爲氣體之Ar氣體爲I30sccm、02氣體爲 40 s c cm之流量流動，且對目標物施加1 . 5W/cm2之電力。 於成膜後，另在1 50°C下進行加熱處理1 0分鐘，製作結晶 性銦-錫複合氧化物薄膜。此外，使用該透明導電性膜， 與實施例2相同地製作觸控面板。 上述實施例及比較例的測定結果如表1及第1圖〜1 2所 示。而且，實施例4之透明導電性膜之透明導電性薄膜面 藉由掃描型顯微鏡之表面形態像如第1 5圖所示。 由表1結果可知，實施例1〜8所記載的透明導電性薄 膜上具有特定數目、特定形態（直徑及高度）之突起物的本 發明透明導電性膜，霧濁値低、透明性佳。另外，使用該 透明導電性膜之觸控面板，由於藉由表面突起物而具有優 異平滑性，故以聚縮醛製筆（前端形狀：0.8mmR)、5.0N荷 重、進行1 0萬次擦動試驗後，擦動部分（第1圖〜8之號 碼1 )沒有白化情形、ON電阻亦無異常情形。而且，輸入 記號〇時可正確辨識。 對此而言透明導電性薄膜之突起物的直徑、高度、及數 目皆在本發明下限外之比較例1的透明導電性膜，雖爲透 明性優異者，惟因突起物而使平滑性不充分，故使用於觸 控面板時、以聚縮醛製筆（前端形狀：0.8mmR)、5.0N荷重 -33- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 . 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 525195 A7 B7 五、發明說明（32) 、進行1 0萬次擦動試驗後’擦動部分（第9圖之號碼1 )有 白化情形、且ON電阻亦上升。而且’輸入記號〇時擦動 部分無法正確辨識。 另外，透明導電性薄膜之突起物直徑、高度、及數目皆 在上述本發明之上限外之比較例2的透明導電性膜，霧濁 値高、透明性不佳。 硬化物層中添加有二氧化矽粒子之比較例3的透明導電 性膜，霧濁値高且突起物非常大、平滑性不充分。因此， 使用於觸控面板時以聚縮醛製筆（前端形狀：〇 . 8mmR)、 5 . ON荷重、進行1 〇萬次擦動試驗後，擦動部分（第1 1圖 之號碼1 )有白化情形、ON電阻亦上升。而且，輸入記號 〇時擦動部分無法正確辨識。 使用結晶性銦-錫複合氧化物膜，在透明導電性薄膜面 上不具突起之比較例4的透明導電性膜作爲觸控面板時， 以聚縮醛製筆（前端形狀：〇.8mmR)、5.0N荷重、進行10 萬次擦動試驗後，沒有白化情形、惟ON電阻上升。而且 ，輸入記號〇時無法正確辨識。此係由於在透明導電性膜 面不具突起物，故平滑性不佳、會因擦動試驗破裂。 — — — — — — — I -11--111 ^-------— (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 525195 A7B7 五、發明說明（33) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 rr ΓΓ 题 4^ nr ΓΓ Μ 鸢 LO Μ 〇〇 ΐι| ϊ -ο .談 ON SI §r 諸 室 ντ ΓΓ Μ 鸢 to Yr ΓΓ ^ ^· »—k )皿1 §f 室 οο 諸 to )i| | Η—1 〇 Ο Ο Η—1 ο h—4 o o 1—1 ο Η—* ο Η—» ο Η—k ο ο H-k o 曝部時 豸 i|I m a rr » w 1 1 OJ ο ο o o ο ο S Ό ο ο o 菌織 1 ο 1 1 1 1 1 1 1 1 1 1 薄丨丨 1 ο ο g ο g o g o g ο g οο υη ο ο to ο g o 爸 G两 織 溜 m ϋ ί¥ 4i 満 ίν 潞 (¾ 豸 1 Η—^ Ο ο S ο ο S ο o s o o s o ο s ο ΙΝΟ ο ο ο ο 1~~» ο s ο o o o 5砘 1 tso g g g g g οο ο to g 1~k /^-V, 盡 i η 〇HD 3to N-^ 0〇 0〇 0〇 〇〇 LO νο ►—* νο 〇〇 OJ OO oo o ΟΟ -ο ΟΟ Ον ΟΟ ΟΟ to ΟΟ \〇 οο ΟΟ 二 oo OO LO ^ ΊΜ ^ ^ m Ui s m II F# 癤 〇 g NJ ►—ι οο oo 1—^ to t—* to ο 1—^ t—-» NJ o g _ m s a w 4^ ο Ο ^τ\ Ο Η—» υη ο o ►—» cyn o Η—> s ο 4^ δ; ο o -P^ □ 1 w韻 〇〇 Ο 〇〇 ο 0〇 〇 oo o:' oo ο οο ο Η—1 \〇 ο KJ\ o oo LO \ irnh 法\ s 燬* 瓣 浦 nirt 浦 浦 浦 浦 浦 逋 π^' 逋 浦 浦 ^ m Π} M 冷骐 « Μ y a H? tSJ ο Ν3 〇〇 to 〇〇 to 0〇 to oo to OO to οο to ο ο to ο o to o ^ SI ^ g固s W o ο V >-- Ο to 〇〇 to οο to 〇〇 to OO to οο INJ) 1~k L/1 ο to ο o ts^ o -§鹗 5 _ _ -35- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) .¾^ · I丨丨丨-I丨訂· —丨f丨— — I - · 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 525195 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（34) 透明導電性膜之揮發成分的影響 實施例9 在100重量份含光聚合起始劑之丙烯酸系樹脂（大日精 化工業公司製、西卡比母（譯音）EXF-01J )中，配合3重量 份共聚合聚酯樹脂（東洋紡績公司製、拜龍（譯音）200、重 量平均分子量1 8,000 )，取加入固成分濃度爲50重量％作 爲溶劑之甲苯/ MEK ( 8 / 2 :重量比）之混合溶劑，予以攪拌 均勻地溶解以調製塗覆液。在二軸配向聚對酞酸乙二酯膜 (東洋紡績公司製、A4340、厚度188// m)上，使用邁耶棒 、以塗膜厚度爲5// m塗覆所調製的塗覆液。在80°C下進 行乾燥1分鐘後，使用紫外線照射裝置（艾古拉非克斯（譯 音）公司製、UB042 - 5AM-W型）照射紫外線（光量： 3〇0mJ / cm2)，且使塗膜硬化。然後，在180°C下加熱處理 1分鐘，進行減低揮發成分。 而且，爲使該積層有硬化物層之塑膠膜真空暴露時，在 真空室中進行捲回處理。此時之壓力爲0. 〇〇2Pa，暴露時 間爲1 0分鐘。另外，中心$昆之溫度爲4 0 °C。 然後，在該硬化物層面上使銦-錫複合氧化物的透明導 電性薄膜成膜。此時，使用含有5重量％作爲目標物之氧 化錫的氧化銦（三井金屬礦業公司製、密度7 . 1 g / cm2 )，施 加2W/cm2之DC電力。而且，氣體以130 seem、02氣體 以lOsccm之流量流動，在0.4Pa之氣氛下以DC磁控管濺 射法成膜。不爲一般的DC，爲防止電弧放電時使用日本衣 -36- 本&張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） " " I I I I I ·1111111 ^ · I I I I I I I - (請先閱讀背面之注咅？事項再填寫本頁) 525195 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（35) 亞魯艾（譯音）製RPG-100以50kHz周期施加5 // s寬之脈 動。而且，中心輥之溫度爲40°C下進行濺射。 此外，使氣氛之氧氣分壓長期以濺射工程監控器（伯東 公司製、SPM200 )觀察，且使銦-錫複合氧化物薄膜中之氧 化度一定下供應給氧氣流量計及DC電源。如上所述，堆 積由厚度22nm之銦-錫複合氧化物所成的透明導電性薄膜 。另外，使用該透明導電性膜，與實施例1相同地製作觸 控面板。 實施例10 於實施例9中在由透明塑膠膜基材/硬化物層所成的積 層物之硬化物層相反面上藉由照相凹版可逆法、以乾燥後 膜厚爲塗覆作爲硬性塗覆層之由聚酯丙烯酸酯與聚 胺基甲酸酯丙烯酸酯之混合物所成的紫外線硬化型樹脂（ 大曰精化工業公司製、EXG)作爲硬性塗覆層樹脂，且使溶 劑乾燥。然後，在160W之紫外線照射裝置下以l〇m/分之 速度通過，使紫外線硬化型樹脂硬化，形成硬性塗覆層。 然後，在180 °C下加熱處理1分鐘，進行減低揮發成分。 在該由硬性塗覆層/透明塑膠膜基材/硬化物層所成積層 物之硬化物層面上，與實施例2相同地使銦-錫複合氧化 物薄膜成膜。另外，使用該透明導電性膜，與實施例1相 同地製作觸控面板。 實施例1 1 與實施例9同樣地製作由透明塑膠膜基材/硬化物層所 -37- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） — — — — — — — — — I — — I I I I I — (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 525195 A7 B7 五、發明說明（36) 成的積層物。在該積層物之硬化物層相反面上藉由照相凹 版可逆法、以乾燥後膜厚爲5 // m塗覆作爲硬性塗覆層之 由聚酯丙烯酸酯與聚胺基甲酸酯丙烯酸酯之混合物所成的 紫外線硬化型樹脂（大日精化工業公司製、EXG)作爲硬性 塗覆層樹脂，且使溶劑乾燥。然後，使在表面上形成有微 細凸狀之聚對酞酸乙二酯膜的無光賦形膜（東雷（譯音）（股） 製、X)鄰接於紫外線硬化型樹脂予以積層。該無光賦形膜 之表面形狀係平均表面粗度爲0 · 4 Ο μ m、山之平均間隔爲 160/zm、最大表面粗度爲25#m。 使該積層的膜在160W之紫外線照射裝置下以l〇m/分之 速度通過，使紫外線硬化型樹脂硬化，形成硬性塗覆層。 然後，使無光賦形膜剝離，形成表面濕有凹狀加工、具有 防眩效果之硬性塗覆層。然後，在1 80°C下加熱處理1分 鐘，進行減低揮發成分。 在該由防眩性塗覆層/透明二軸配相膜基材/硬化物層所 成的積層物之硬化物層面上，與實施例9相同地使銦-錫 複合氧化物薄膜成膜成爲透明導電性膜。另外，使用該透 明導電性膜作爲一方的面板，與實施例1相同地製作觸控 面板。 實施例1 2 與實施例11同樣地製作由防眩性硬性塗覆層/透明二軸 配相PET膜基材/硬化物層/透明導電性薄膜所成的積層物 ，且在該防眩性硬性塗覆層面上順序積層T ^ 02薄膜（折射 -38- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -----------·-裝 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ----訂 --------Awl . 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 525195 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（37) 率：2 . 30、膜厚15nm)、Si02薄膜（折射率：1 . 46、膜厚 2 9nm)、Ti02 薄膜（折射率：2.30、膜厚 109nm)、Si02 薄膜 (折射率：1.46、膜厚8 7nm)以形成防止反射處理層。形成 Ti〇2薄膜時，使用鈦爲目標物、以直流磁控管濺射法、真 空度爲0.27Pa、且使作爲氣體之Ar氣體以500sccm、〇2 氣體以8 0 s c c m之流量流動。另外，在基板背面上設置〇 °c 之冷卻輥，以使透明塑膠膜冷卻。此時對目標物供應 7.8W/cm2之電力，且動態速度爲23nm· m /分。 形成S i 02薄膜時，此用矽作爲目標物，以直流磁控管濺 射法、真空度爲0.27Pa、且使作爲氣體之Ar氣體以 5〇0sccm、02氣體以80sccm之流量流動。另外，在基板背 面上設置0 °C之冷卻輥，以使透明塑膠膜冷卻。此時對目 標物供應7 . 8W/cm2之電力，且動態速度爲23nm · m/分。 此外’使用該透明電性膜作爲一方面板，與實施例1相同 地製作觸控面板。 實施例13 使與實施例9相同製作的透明導電性膜經由丙烯酸系黏 合劑貼附於厚度1 · 0mm之聚碳酸酯製片，以製作透明導電 性積層片。使用該透明導電性積層片作爲固定電極，使用 實施例6之透明導電性膜作爲可動電極，與實施例1相同 地製作觸控面板。
實施例9A 除藉由在180 °C下加熱處理1分鐘、及真空暴露處理1〇 -39- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -----------裝--------訂--------- (請先閱讀背面之注咅？事項再填寫本頁) 525195 A7 B7 五、發明說明（38) 分鐘進行減低揮發成分工程外，與實施例9相同地製作透 明導電性膜。另外，使用該透明導電性膜，與實施例1相 N地製作觸控面板。 上述實施例9〜1 3及實施例9A之測定結果如表2所示 ’實施例9〜1 3之輸出形狀如第1 6圖〜20所示。 由表2結果可知，實施例9〜1 3所記載的透明導電性膜 可得揮發成分少、具有良好膜質的透明導電性薄膜。使用 該透明導電性膜之觸控面板，以聚縮醛製筆（前端形狀： 0.8mmR)、5.0N荷重、進行10萬次擦動試驗後，沒有白化 情形、亦沒有ON電阻異常的情形。而且，輸入記號〇時 可正確辨識。 對此而言，實施例9A由於揮發成分多，故膜質稍微降 低、使用於觸控面板時以聚縮醛製筆（前端形狀：〇.8mmR) 、5 · ON荷重、進行1 〇萬次擦動試驗後，擦動部有稍許白 化情形、ON電阻上升的情形。而且，輸入記號〇時擦動部 分之辨識精度稍微降低。 I ^------II ^« — — — — — 1 — (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制衣 -40- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 525195
7 7 A B 五、發明說明（39) 表2 揮發成 分量 (ppm) 光線透 過率 (%) 霧濁値 (%) 表面電 阻率 (Ω/Π) 附著力 (N/15_) 以筆輸入耐久性試驗 擦動部 分白化 初期ON電 阻αΩ) 試驗後ON 電阻（kQ ) 實施例9 0.5 88.1 1.2 250 1.5 4K j\\\ 2.0 2.0 實施例10 0.5 88.3 1.2 250 1.5 4rrt 拱 2.0 2.0 實施例11 0,5 87.5 5.9 250 1.5 Μ j\\\ 2.0 2.8 實施例12 0.4 89.9 5.9 250 1.5 to 2.0 2.8 實施例13 0.5 87.3 1.5 250 1.5 2.0 2.8 實施例9A 32 87.8 1.2 250 1.5 稍有 2.0 750 -裝--- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) (注）上述各實施粒之透明導電性薄膜面之突起物係直徑 0,80//m、局度 0.030//m、個數 60 個 /100//m2 诱明導電性薄膜面之硬度的影1 實施例14 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在100重量份含光聚合起始劑之丙烯酸系樹脂（大日精 化工業公司製、西卡比母（譯音）EXF-01 J)中，配合3重量 份共聚合聚酯樹脂（東洋紡績公司製、拜龍（譯音）200、重 量平均分子量1 8,000 )，取加入固成分濃度爲50重量％作 爲溶劑之甲苯/MEK( 8/2 ··重量比）之混合溶劑，予以攪拌 均勻地溶解以調製塗覆液。 在具有易黏合層之透明二軸配向PET膜（東洋紡績公司 -41 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 525195 A7 B7 五、發明說明（4〇) 製、A43 40、厚度188// m)之兩面上，使用邁耶棒、以塗膜 厚度爲5//ΙΏ塗覆所調製的塗覆液。在80°C下進行乾燥1 分鐘後’使用紫外線照射裝置（艾古拉非克斯（譯音）公司 製、UB0 42 - 5AM-W型）照射紫外線（光量：300mJ/cm2)，且 使塗膜硬化。然後，在180°C下加熱處理1分鐘，進行減 低揮發成分。 而且，爲使該積層有硬化物之透明二軸配向PET膜真空 暴露時，在真空室中進行捲回處理。此時之壓力爲 0.002Pa，暴露時間爲10分鐘。另外，中心輥之溫度爲40 V。 然後，在該硬化物層面上使銦-錫複合氧化物之透明導 電性膜薄成膜。此時，濺射前之壓力爲0.0007Pa，且使用 含有5重量％作爲目標物之氧化錫的氧化銦（三井金屬礦業 公司製、密度7 · lg/cm2)，施加2W/cm2之DC電力。而且 ，Ar氣體以130sccm、〇2氣體以lOsccm之流量流動，在 0.4Pa之氣氛下以DC磁控管濺射法成膜。不爲一般的DC ，爲防止電弧放電時使用日本衣亞魯艾（譯音）製RPG-100 以5 0kHz週期施加5// s寬之脈動。而且，中心輥之溫度 爲50°C下進行濺射。 此外，使氣氛之氧氣分壓長期以濺射工程監控器（伯東 公司製、SPM200 )觀察，且使銦-錫複合氧化物薄膜中之氧 化度一定下供應給氧氣流量計及DC電源。如上所述，堆 積由厚度22nm之銦-錫複合氧化物之透明導電性薄膜。而 -42- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --------^-------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 525195 A7 B7 五、發明說明（41 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 且，使用該透明導電性膜作爲一方的面板，另一面板則使 用在玻璃基板上以電漿CVD法厚度爲20nm之銦-錫複合氧 化物薄膜（氧化錫含量·· 10重量％)之透明導電性薄膜（日本 曹達公司製、S500 )。使該2張面板對向於透明導電性薄 膜，經由直徑30 // m之環氧珠子配置製作觸控面板。 實施例1 5 於實施例1 4中在由透明二軸配相PET膜基材/硬化物層 所成的積層物之硬化物層相反面上藉由照相凹版可逆法、 以乾燥厚膜厚爲5 // m塗覆作爲硬性塗覆層之由聚酯丙烯 酸酯與聚胺基甲酸酯丙烯酸酯之混合物所成的紫外線硬化 型樹脂（大日精化工業公司製、EXG)作爲硬性塗覆層樹脂 ，且使溶劑乾燥。然後，使該積層的膜在1 60W之紫外線 照射裝置下以l〇m/分之速度通過，使紫外線硬化型樹脂硬 化，形成硬性塗覆層。然後，在180°C下加熱處理1分鐘 ，進行減低揮發成分。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在該由硬性塗覆層/透明二軸配相膜基材/硬化物層所成 的積層物之硬化物層面上，與實施例1 4相同地使銦·錫複 合氧化物薄膜成膜。另外，使用該透明導電性膜，與實施 例1 4相同地製作觸控面板。 實施例16 與實施例1 4相同地，製作由透明二軸配相PET膜基材/ 硬化物層所成的積層物。在與該積層物之硬化物層相反面 上藉由照相凹版可逆法、以乾燥厚膜厚爲5 μ m塗覆由聚 -43- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格(210 X 297公釐） 525195 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（42) 酯丙烯酸酯與聚胺基甲酸酯丙烯酸酯之混合物所成的紫外 線硬化型樹脂（大日精化工業公司製、EXG)作爲硬性塗覆 層樹脂，且使溶劑乾燥。然後，使在表面上形成有微細凸 狀之PET膜之無光賦形膜（東雷（譯音）公司製、X )、以無 光面鄰接紫外線硬化型樹脂積層。該無光賦形膜之表面形 狀係平均表面粗度爲0.40// m、山之平均間隔爲160/z m、 最大表面粗度爲25//m。 使該積層的膜在160W之紫外線照射裝置下以l〇m/分支 速度通過，使紫外線硬化型樹脂硬化。然後，使無光賦形 膜剝離，形成表面施加凹狀加工、具有防眩效果之硬性塗 覆層。然後，在180 °C下加熱處理1分鐘，進行減低揮發 成分。 在該由防眩性塗覆層/透明二軸配相膜基材/硬化物層所 成的積層物之硬化物層面上，與實施例1 4相同地使銦-錫 複合氧化物薄膜成膜成爲透明導電性膜。另外，使用該透 明導電性膜作爲一方面板，與實施例1 4相同地製作觸控 面板。 實施例1 7 與實施例1 6同樣地製作由防眩性硬性塗覆層/透明二軸 配相PET膜基材/硬化物層/透明導電性薄膜所成的積層物 ，且在該防眩性硬性塗覆層面上順序積層T i 0 2薄膜（折身寸 率：2.30、膜厚15nn〇、Si02薄膜（折射率：1.46、膜厚 29nm)、Ti02 薄膜（折射率：2.30、膜厚 109nm)、Si02 薄膜 -44 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐）
Aw— --------^-------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 525195 κι _Β7_ 五、發明說明（43) (折射率：1 . 46、膜厚87nm)以形成防止反射處理層。 形成T i 02薄膜時，使用鈦爲目標物、以直流磁控管濺射 法、真空度爲 0 . 27Pa、且使作爲氣體之 Ar氣體以 500sccm、02氣體以80sccm之流量流動。另外，在基板背 面上設置0°C之冷卻輥，以使透明塑膠膜冷卻。此時對目 標物供應7.8W/cm2之電力，且動態速度爲23nm· m /分。 形成S i 02薄膜時，此用矽作爲目標物，以直流磁控管濺 射法、真空度爲0.27Pa、且使作爲氣體之Ar氣體以 500sccm、02氣體以80sccm之流量流動。另外，在基板背 面上設置0°C之冷卻輥，以使透明塑膠膜冷卻。此時對目 標物供應7.8W/cm2之電力，且動態速度爲23nm· m/分。 此外，使用該透明電性膜作爲一方面板，與實施例1 4相 同地製作觸控面板。 實施例18 使與實施例1 4相同製作的透明導電性膜經由丙烯酸系 黏合劑貼附於厚度1 . Omm之聚碳酸酯製片，以製作透明導 電性積層片。使用該透明導電性積層片作爲固定電極，使 用實施例1 5之透明導電性膜作爲可動電極，與實施例1 4 相同地製作觸控面板。
實施例14A 除在180°C下進行加熱處理1分鐘、及省略10分鐘真空 暴露的揮發成分減低工程外，與實施例1 4相同地製作透 明導電性膜。另外，使用該透明導電性膜，與實施例14 -45- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 訂： 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 525195 A7 _______B7__ 五、發明說明（44 ) 相同地製作觸控面板。
實施例14B 除濺射後在2 1 0°C下進行熱處理2分鐘外，與實施例1 4 相同地作成觸控面板。 上述實施例14〜18及實施例14A及實施例14B之測定 結果如表3所示，實施例1 4〜1 8之自觸控面板輸出形式 如第21圖〜25所示。 由表3結果可知，實施例1 4〜1 8所記載的透明導電性 膜及透明導電性片可得高硬度的透明導電性薄膜。使用該 透明導電性膜之觸控面板，以聚縮醛製筆（前端形狀： 0.8mmR)、5.0N荷重、進行10萬次擦動試驗後，沒有白化 情形、亦沒有ON電阻異常的情形。而且，輸入記號〇爲 可正確辨識。 對此而言，1 4 A所記載的透明導電性膜由於透明導電性 薄膜之硬度不充分，故使用於觸控面板時以聚縮醛製筆（ 前端形狀：0.8mmR)、5.0N荷重、進行10萬次擦動試驗後 ，擦動部有稍許白化情形、ON電阻上升的情形。而且，輸 入記號〇時擦動部分之辨識精度稍微降低。 另外，實施例1 4B所記載的透明導電性膜，由於透明導 電性薄膜之硬度非常高，故成易脆的膜。因此，以聚縮醛 製筆（前端形狀：0 , 8mmR)、5 . 0N荷重、進行1〇萬次擦動 試驗後，擦動部分有白化情形、ON電阻亦有上升的情形。 而且，輸入記號〇時爲辨識精度不佳。此係藉由擦動試驗 、在透明導電性薄膜上產生破裂之故。 -46- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） I —1 --------^-------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 525195 A7B7 五、發明說明（45 ) 表3 薄膜硬度 (Gpa) 光線透 過率(％) 霧濁値 (%) 表面電阻 率(ΩΟ 附著力 (N/15mm) 筆擦動耐久性 擦動部 分白化 初期ON 電阻 (kQ) 試驗後 ON電阻 (kQ) 實施例14 0.51 88.3 0.8 250 1.5 4nt Μ 2.0 2.0 實施例15 0.51 88.5 5.9 250 1.5 4rrr. 無 2.0 2.0 實施例16 0.51 87.3 5.9 250 1.5 無 2.0 2.0 實施例17 0.51 89.8 1.5 250 1.5 /frrp 無 2.0 2.0 實施例18 0.51 88.1 1.7 250 1.5 Μ j \ \\ 2.0 2.0 實施例14A 0.34 88.5 1.2 250 1.5 稍有 2.0 >1000 實施例14B 0.89 89.2 0.8 380 0.5 Μ y\\\ 2.0 2.1 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) (注）上述各實施粒之透明導電性薄膜面之突起物係直徑 0.80//Π1、高度 0.030/zm、個數 60 個 /100//m2 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本發明之透明導電性薄膜係在透明塑膠膜基材上依序積 層以硬化型樹脂爲主要構成分之硬化物層及透明導電性薄 膜、且在透明導電性薄膜形成面上具有特定數目（3〜200 個/100// m2)、特定形態（直徑〇·〇5〜3.0// m及局度0.005 〜2 . 0 0 // m )之突起物，故具有優異的平滑性及透明性。 此外，由於該膜中之揮發成分量爲30ppm以下、可使具 良好膜質之透明導電性薄膜成膜。因此’使用上述透明導 -47- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 525195 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（46) 電性膜之以筆輸入用觸控面板，即使予以筆押壓相對的透 明導電性薄膜接觸，仍不會產生剝離、破裂等情形。 另外，由於透明導電性膜爲使上述透明導電性膜在上述 透明導電性膜所成之透明導電性薄膜面的硬度爲〇 . 4〜 〇 · 8GPa，使用上述透明導電性膜之以筆輸入用觸控面板， 即使予以筆押壓相對的透明導電性薄膜接觸，仍不會產生 剝離、破裂等情形。 本發明之筆輸入用觸控面板即使予以筆押壓向相對的透 明導電性薄膜接觸，仍不會產生剝離、破裂等情形等，具 有優異的以筆輸入耐久性，且具有優異位置檢測精度或顯 不品質。因此，適合作爲以筆輸入觸控面板。 主要元件之對照表 10 透 明 導 電 型 膜 11 透 明 塑 膠 膜 基 材 12 硬 化 物 層 13 透 明 導 電 性 薄 膜 14 硬 性 塗 覆 層 40 透 明 導 電 性片 41 黏 合 劑 42 透 明 樹 脂 片 -48- _本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ----------I --------^-------- (請先朋讀背面之注意事項再填寫本頁)