TW200910345A

TW200910345A - Method for fabricating media which record information by pit pattern

Info

Publication number: TW200910345A
Application number: TW097121978A
Authority: TW
Inventors: Yoshihisa Usami; Tetsuya Watanabe
Original assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2007-08-16
Filing date: 2008-06-12
Publication date: 2009-03-01
Also published as: JP2009048687A; KR20100055419A; US8323762B2; JP4777313B2; EP2184738A4; CN101785057B; EP2184738A1; CN101785057A; US20110222391A1; WO2009022442A1

Description

200910345 九、發明說明：【發明所屬之技術領域】本發明關於一種以訊坑圖案記錄資訊之媒體的製造方法0 【先前技術】

先前，關於光碟等以可進行光學讀取之方式記錄著資訊的媒體的製造方法’眾所周知有日本專利特開平3_4犯44 號公報中揭示的製造方法。該技術令，首先，在作為無機物的玻璃基板上，利用含有金屬醇化物、水、鹽酸、醇等的塗佈溶液形成預定的層，將樹脂製的模具壓在該，以60 C〜120 C進行一次般燒。此後，使玻璃基板脫模，以25(Tc〜4〇〇。(：進行二次烺燒，除^溶劑、添加劑等有機成分，藉此使具有預期的凹凸（訊坑_)的非晶f的金屬氧化物層形成在玻璃基板上經由以上製程，貧訊作為微細的凹凸而被記錄在玻璃基板上的金屬氧化物層上。把J二ίΐ之先前的製造方法中，因於形成在玻璃基凸’故在長時間保存之後，形成著凹凸的2會生剝落。因此，為了能夠長時間保存，較好的疋直接在無機物構成的基板上形成微細的凹凸。而且，先前的製造方法巾，要㈣塗佈溶液的塗佈、次锻燒以及有機成分的除去該些製程，因此因此，為了提供一種可在無機物構成的基板上直接且 200910345 =形成凹凸(訊坑圖案）的方法 ===，記錄之資訊的媒_== =Γ研究’在此過程中_ 了本發明。媒體，提供一種以訊坑圖案記錄資訊之媒體的衣每方法。該方法的特徵在於，包括 =物構成的基板上形成可進行熱模式之形狀變化二材料層；向上述記錄材料層照射彙聚的光，從而形^個 2部推以及’將形成著上述多個孔部：應幕的=:從而在上述基板上形成與上述多= 的右ΐί办所謂「孔部」’除了表示例如並未貫穿至基板側狀孔部以外’亦表示貫穿記錄材料層而使基板露

L 料層inn上述縣’ f先，在基板上形成記錄材枓層之後，向該記錄材料層照射彙聚的光，從而形成柯然^ ’將以上述方式形成著孔部的記錄材料層作為罩^進 =刻’從而直接在基板上形成與孔部對應的訊坑。根上迷構成，僅經過記錄材料層的形成、光的照射、^ 些製程後，便可在基板的表面上簡單地形成凹凸形狀x 層上可含有機色素。藉此’可在記錄材料本發明的另-形態中，上述記錄材料層的形成製可包括以下製程：在上述基板上形成罩幕層’以及在該罩彔材料層;上述多個訊坑的形成製程中層作絲絲均#魏部社述記錄材料上护成盘卜、^上述罩幕層進純刻，從而在上述罩幕層上形成一上述夕個孔部對應的多個通孔，以及， ^述多個通孔的上鮮幕層作為罩幕，對上絲板進= 從而形成與上述多個通孔對應的多個訊坑。

200910345 上述兩個形態中，較好的是含有自形成著上述多個訊㈣基板上除去記騎騎或者轉制製程，但此製程並非必需的製程。亦可在該基板上進—步設置保護層。或，，可在該基板上形成反射層，亦可在該反射層上設置保護層:藉此，可提供例如CD (c〇mpact disc，光碟）、dvd (dig如1 versatile disc，數位影音光碟）、BD (此考此〇，藍光光碟）等以可進行光學讀取之方式記錄著資訊的媒體。此處，所謂「保護層」，是不僅指CD上的保護層，而且亦包括DVD或BD上的覆蓋層（coveriayer)在内的廣義上的保護層。而且，所謂「在（基板、〜層）上」，並不僅才曰直接與（該基板或層）接觸，亦包括「中間經由其他層而在該基板或層上」的情況。根據本發明’將經光照射後之記錄材料層作為罩幕，對基板進行蝕刻之後，便可容易地在無機物構成的基板上直接形成凹凸。關於上述之本發明的各侧面及效果以及其他效果以及進一步的特徵，可參照隨附圖式，根據後述之對本發明的例示性且非限制性的實施形態所作的詳細說明而進一步明 200910345 確。【實施方式】繼而，參照適當圖式對本發明的實施形態進行詳細說明。 ^如圖1 (a)以及圖1 (b)所示，光碟1是由本發明的第-實施形態巾的製造方法所製造的資訊記錄媒體的一例，光碟1是包括無機物製的基板u、設在基板u上的保護層12而構成。而且，在該基板u的保護層12側的表面18上形成著多個訊坑16作為資訊。此處’基板11的材料較好的是含Si、A1的材料，例如較好的疋Si或Si〇2、Al2〇3等。另外，保護層12的材料可單獨或組合使用sic>2等無機氧化物、等無機氮化物等無機系物質，或UV硬化樹脂等有機系物質。其中，自光碟1的使用壽命方面考慮，較好的是保護層12亦由無機系材料形成。繼而，參照圖2〜圖5’說明本發明的第一實施形態的光碟1的製造方法。本發明的弟一實施形態的光碟1的製造方法中，如圖 2 (c)所示，將藉由照射彙聚的光而適當地形成著孔部的記錄材料層21以及阻障層22，用作侧用的掩模。以下，在説明製造方法的細節之前，首先對用作蝕刻用罩幕的記錄材料層21以及阻障層22、以及該些各層2卜22上所形成的孔部15的細節進行說明。記錄材料層21是所謂的熱模式型記錄材料層，即，可 200910345 經由照射強光而使光轉為熱，藉由該熱而使變化，從而形成孔部的層。此類記錄材料先前多錄磁，等的記錄層中’例如可使用花青系、哨用= iSqrUaryHUm)' ；部化月糸（memcyanine)等記錄材料。氣％素型記錄材料層21較好的是含有色素作為記錄物質的色因此，記錄材料層21中所含的記錄物質，可等有機化合物。而且，記錄㈣層21 ^

使用無機材料或者無機材料與有機材料。其中’若使用有機材料，則 D 膜，易於獲得轉移溫度低的材料谷易地成材料。另外，有機材料中：的的是採用有機子設計來控翻色素。用光吸收量可由分此處，記錄材料層21的較好 l 素。，、半花青色素、;：二：素欠(:= Γ)卜等)、EiR狀色素(酞菁色素、萘酞菁色 :屬;合:⑷、亞稀丙基(•心 ϋ rmann)色素、飾生物、三物生物、「二；\生物、肉桂酸衍生物、喹酞酮 (quinophthalone )系色素等。吧1 其中’較好的是藉由雷射光僅可色素型記錄材料層21。其理由為，有機物的記=錄； 200910345 藉由溶解於溶劑中並進行旋塗或喷優異。上述色素型記錄材料層產性波長區域進行吸收的色素。尤其是=的，有可於記錄光係數（extinction eGeffldent) k 的[2 收 1 的消等於H)，侧是辦於5，Z較好的是小於最好的是小於等於i。1理由A . 好的疋小於等於3， ==錄材料層？的光的入射側到達相反側：形= 等於二0 00:1。=，消光係數1"的下限值’較好的是大於等於〇._卜更好的是大於等於GG(n，進 =於G，卜其理由為，若消光餘k過低，縣吸收量降二，A相應地需要較大的雷射功率，導致加工速度下另外，_記騎制21，必須如上觸，可在記錄 ^圍内吸收光’自上述觀點出發，可根據雷射光源的波長來選擇適合的色素或改變結構。例如，當雷射光源的振盪波長為78〇 nm左右時，較 :的是自五次甲基花青（P— cyanine)色素、七 -人甲基氧嗔色素、五次甲基氧嘆色素、崎色素、蔡献菁色素等中選擇。又，當雷射光源的振盪波長為 660 nm左右時，較好的，自二:欠甲基花青色素、五:欠甲基氧喏色素、偶氮色素、偶氮盃屬錯合物色素、吼洛亞曱基（pyrr〇methene)錯合物色素等中選擇。進而，當雷射光源的振盪波長為405 nm左右時，較

(, 200910345 好的是自單次甲基花青色素、單次甲基氧奸素 Ϊ部、料色素、偶氮色素、偶氮金屬錯合物色素卜啉色素、亞知丙基色素、錯合物色素、香唾衍生物、三嗪衍生物、苯幷三錄生物、美二、竹生物、啥酜酮系色素等中選擇。以下’舉例說明在雷射光源的缝波長為彻肺左右、660 nm左右、以及4〇5 nm左右時，分別較好地用於記錄材料層21 (記錄層化合物）的化合物^處，以下化學式1、2所示的化合物（！]〜z _1())表示雷射振盪波長為780 nm左右時的化合物。又，化學式3、4、所不的化合物（Π_1〜Π_8)表示雷射絲的振盪波長為_ nm左右時的化合物。進而，化學式5、6所示的化合物（冚 _1〜]Π-14)表示雷射光源的振盪波長為4〇5 右時的化合物。而且，本發明並不限於僅將上述化合物用作記層化合物。 ” <雷射光源的振盪波長為780 nm左右時的記錄層化人物例> σ [化1] 11 200910345

C (Μ)

<雷射光源的振盪波長為780 nm左右時的記錄層化合物例> [化2] 12 200910345

<雷射光源的振盡波長為660 nm左右時的記錄層化合物例> [化3] 13 200910345 (H-1)

<雷射光源的振盪波長為660 nm左右時的記錄層化合 ί 物例〉 [化4] 14 200910345

<雷射光源的振蘯波長為405 nm左右時的記錄層化合物例〉 [化5] 1. 15 200910345

<雷射光源的振盪波長為405 nm左右時的記錄層化合物例> [化6] 16 200910345

<111-8}

QBu

綱-11)

(111-14) (111-13)

^：礙。另外’亦可較好地使用日本專利特開平4_7 報、日本專利特開平8-127174號公報、〇鞔公 1M3758號公報、日本專利特開平⑴3342〇 2寺開平本專利特開平11-334205號公報、曰本專利Af、曰 =4206號公報、日本專利特開平迎〇7號公報開平 t專利特開2000_43423號公報、日本專‘日卩⑽軸Μ 2_指818 ^ —色素型記錄材料層21可藉由如下方式形成，即，字色=黏合劑等—併溶解在適當的溶射製備成塗佈、之…J將該塗佈液塗佈在基板上而形成塗膜後將其乾 17 200910345 燥。此時，塗佈㈣塗佈面的溫度較的範圍内。更好的是下限值大於等於15。。，^ 4二大於等於抑，尤其好較纽科23t>*且較好的，小於等於坑，進一步好的是小於等於卿限J 其好的疋小於等於2η：。如上所述，若被塗佈面的溫度上述範_，射防止產生塗佈獨缝佈故障，

使塗膜的厚度均勻。 J

另外，上述上限值以及下限值可分別任意組合。此處，記錄材料層21可為單層亦可為多層，當具有多層構造時，可藉由實施多次塗佈製程而形成。 ^夕塗佈液中色素的濃度範圍，通常為〇〇1重量百分比 (wt%)〜15 wt%的範圍，較好的是oj wt%〜1〇糾％的範圍’更好的是0.5 wt%〜5 wt%的範圍，最好的是〇 5 wt% 〜3 wt%的範圍。塗佈液的 >谷劑可列舉·乙酸丁醋、乳酸乙g旨、乙酸溶纖劑（cellosolve acetate)等酯；曱基乙基酮、環己酮、曱基異丁基酮等酮；二氯曱烷、1,2-二氣乙烷、氣仿等氣化烴；二曱基曱醯胺等醯胺；曱基環己烷等烴；四氫呋n南、乙鍵、一°惡烧等縫，乙醇、正丙醉、異丙醇、正丁醇二丙酮醇等醇；2,2,3,3-四氟丙醇等氟系溶劑；乙二醇單曱醚、乙二醇單乙醚、丙二醇單曱醚等二醇醚類等。上述溶劑’可根據所使用的色素的溶解性而單獨使用、或者組合使用兩種或兩種以上。塗佈液中，亦可根據目的而進一步添加抗氧化劑、XJV ( ultraviolet，紫外線） 18 200910345 吸收劑、塑化劑、潤滑劑等各種添加劑。關於塗佈方法，可列舉喷塗法塗法、刮塗(M—法、刮:輥到刀塗佈（dGetGrblade)法、絲網印:^。二11)法、 ^疋採料塗法，理由在於其生產性優異且較容易控^ 21 法而形成的方面考慮，記錄材料層 2^ (^錄層化合物）較好的是姆於有機於0.3 wt%且小於等於3〇 wt% 解大於專且小於等於Μ。尤其好的是更==一。於等於20 wt%的比例溶解於四氣丙醇中。❿且，合物較好的是’熱分解溫度大於等於 ^錄層化 c，更好的是大料於·t且小於Zc4·^於等於⑽ 圍内進== 液的溫度較好的是在坑〜贼範二：範圍：〜4°C範圍内’其中，尤其好的是 1.. 當塗佈液中含有黏合劑時，黏合劑之例纖^衍生物、聚_糖U論an)、 ·= ，分子物質;聚乙缚、聚丙烯、橡咖共聚物㈣系樹脂烯酸甲酉曰等丙烯酸糸樹脂，聚乙烯醇、氯化聚乙烯、二氣樹脂、丁_脂、橡膠街生物、苯紛·甲駿樹== 脂的初期縮合物等合成有機高分子。當並用勘合劑== 19 200910345 錄材料層21的分來士 0.01倍量〜5G倍量、（重T使用量’通常在色素的倍量:i倍量（重量比）的範圍内範圍内，較好的是在0.1 21中可含有多種料層21的耐紐，記錄材料層劑二淬蜮劑。作為單態氧淬滅本專利特咖_8387 59_81194號公報、日號公報、日本專利特開昭6〇_ t專利特開昭60-19586 昭00-35054號公報、日 7號公報、日本專利特開日本專利特開昭6〇_36191 ^寺開昭60-36190號公報、 60-44554號公報、日本二公報、曰本專利特開昭專利特開昭60.44389號公昭6(M4555號公報、日本號公報、日本專利特_6日^^特開昭60-44390 昭60-47069號公報、日太皇^ 892號公報、日本專利特開曰本專利制平4韻92^制昭㈣9995號公報、號公報、以及日本專利特公^ ' 3本專利特公平1-_0 德國專利細"賴料 ^⑽號公料各公報， 10月號第1141頁等所摇'^及日本化學會雜誌、1992年淬滅劑等抗褪色劑的使用；:齊上。上1單態氧 Wt%〜50 wt%的範圍内，較“色素里’通常在0.1 範圍内，更好的是在3 wt〇的是在0.5 Wt%〜45 Wt〇/。的〇〜40 wt%的範圍内，尤其好的 20 200910345 是在5 wt%〜25 wt%的範圍内。、以對於記錄材料層21為色素型記錄層時的溶劑塗佈法進行了說明’但記錄材料層U亦可根據記錄物質的物 ' CVD (chemical vap〇r deposition » 化學氣相沈積）等成膜法而形成。而且，色素的吸收波峰的波長，未必限定於可見光的波段内，亦可在紫外波段或紅外波段内。以雷射對孔部15進行記錄的波長Aw與較好的是滿足h<Aw的關係。其理由為，若滿 ’則色素的光魏量適記錄效率高，可形戚整齊的凹凸形狀。可拔!!且’用於形成孔部15的雷射光的波長Aw，只要是射功率的波長即可，例如，當記錄材料層21 色素時’波長^較好的是193nm、21〇nm 266nm、 5 nm彻nm、⑽nm、说聰、奶励㈣⑽、_

L nm、780nm、83〇nm$1〇〇〇nm 以下的值。射、ft ’雷射細麵，可使職體雷射、固體雷較好的射等任~種雷射。其中，為了簡化光學系統，亦可為固體雷射或半導體雷射。雷射光可為連續光射光:_ ’但較好的是採用發光間隔可自由改變的雷制半導體雷射。當無法直接對雷進行調變。QnGf調變時’較好的是湘外部調變元件而且’為了提高加工速度’較好的是雷射功率高。但 21 200910345 對記錄材制f的料雜速度（雷射光轉速）。因此，考慮到掃描速又度述=^區動器的 =是100 W ’更好的是_ 车限另卜，雷射光較好的是振盪 (coherency)高、且能夠囊聚成與同調性 =射3策略（咖e w適當形成孔部值Si::用的記錄速度或照射的雷射光的波高 =材料層21的厚度’與㈣中所使用_刻氣種類後述的則t16的職姆鱗可。、行4厚ί，Γ適當地在1 nm〜looo〇nm的範圍内進二ί於t 較好的是大於等於10 nm，更好的是的Γ果其旱ί過薄，則難以獲得作麵 Γ 厚度的上限較好的是小於等於麵rnn ’更好的是小於等於· nm。其理由為若厚声 =速=較大的雷射功率，而且難以形成深孔’心另外，記錄材料層21的厚度t與孔部15的直徑d，較好的是滿足以下_。亦即，記錄材料層21的^度t 的上限值’較好的是滿足t<舰的值，更好的是滿足 22 200910345 5d的值’進一步好的是滿足t<3d的值。層21的厚度t的下限值，較好的是 =彔材料好的是滿足t的值，的值，更 ^ α , , ^好的疋滿足t>d/5的值。以與孔部15的直徑d的關係來設定記錄 =層21的厚度t的上限值及下限值的原因，與上述理由相同。

記錄材料層21可藉由如下方式而形成，即，將作為纪錄材料的物解或者分散於騎的 ^該㈣_旋塗、浸塗、擠壓塗佈（extH^ 專塗佈法塗佈於基板n的表面18，從㈣成記騎料層 21 〇阻障層22的目的在於，防止記錄材料層21受到衝擊等而受損，可任意設置。阻障層22並無特別限制，但較好的是、ZnS、GaO #氧化物、硫化物之可進行真空成膜的材料。而且，亦可藉由旋塗等來塗佈有機物而使用。阻障層22的厚度在〇.1 nm〜2〇〇nm的範圍内較好的是在1 ηηι〜l〇0nm的範圍内，更好的是在3胞〜兕nm 的範圍内。 “孔部15是藉由如下方式而形成，即，將彙聚的光照射於記錄材料層21錢轉層22上，使該照射部分變形（亦包括因消失而產生之變形），從而形成孔部15。具體而言，該孔部15形成在與基板U上作為資訊而形成的訊坑口 16 (參照圖3 (c))對應的位置上。再者’形成孔部15的原理如下所述。 23 200910345

向§己錄材料層21 (記錄層化合物）照射雷射光，該雷射光具有材料可進行光吸收的波長（被材料吸收的波長），則雷射光被記錄材料層21吸收，該被吸收的光轉為熱，從而使光照射部分的溫度上升。藉此，記錄材料層21產生軟化、液化、氣化、昇華、分解等化學或者/以及物理變化。繼而產生上述變化的材料發生移動或者/以及消失後，形成孔部15。而且，阻障層22為非常薄的層，故會隨著記 ^材料層21 _動或者/以及消失而誠者/以及消另外’孔部15的形成方法，例如可採用僅寫一次（讀6 once)光碟、或單寫多讀型（write〇nce，代光碟

等=使用的眾所周知的訊坑的形成方法。具體而言，例如可採用以下眾關知崎機功率校正（細^備G 技術（例如’日本專利第3096239號公報），在該技術中，對隨訊坑尺相變化的雷射的反射綠度進行檢測，校正雷射的輸出以使該反射光強度敎，藉此形成均勻的訊坑。 #而且較好的疋，上述記錄材料層(記錄層化合物）的氣化、㈣或者分解的變化财大、急遽。具體而言， 1=層:合物在氣化、昇華或者分解時用熱重-差熱刪丄目,：二，r〇grav一y_differential 此面1 _) 所測出的重1減少率’較好的是A於等於5%，更好的是大於等於1G%，進-步好岐Λ 層化合物在氣化、昇華或者分解時 := (獅丁幻戶斤測出的重量減少的斜率（每升溫^ = 24 200910345 好的是大於等於㈣rc，更好的是大於等於 .C ’進—步好的是大於等於〇.4%/t。、 2〇o〇r “的轉移/皿度的值較好的是小於等於 _，進，的是小於等較大。而/、理由為，右轉移溫度過高，則雷射功率必須 H ^ 限值較好的是大於等於 ==大於等於腦。C，進一步好的是大於等於⑼ 動理由：’若轉移溫度過低’則與周圍所形成的溫度梯声較小，故而無法形成清晰的孔邊緣形狀。又以下，說明孔部15的形狀或排列之一例。 2 4(a)所示，孔部15採用的是，形成為點狀且 =相應於資訊而適當地排列（例如，排列成圖示中的格狀）的孔。而且，如圖4 (b)所示，孔部15亦可採用 i. =的槽狀且該細長槽崎連接的孔。如上所述，藉由變點的配置或者長度’可_眾·知的綠進行編碼（encode)。此處，本實施形態中的孔部ls形成為：在基板n的，面18上較薄地殘留記騎料層21之狀態的有底 ^ ’但本發明並不㈣此。例如，骑亦可由形成在記錄材枓層21以及阻障層22上的通孔的内周面、與基板“ 的記錄材料層21侧的表面18的一部分而形成。、土繼而，對光碟1的製造方法進行詳細說明。如圖2 (a)所示，首先，準備由先前眾所周知的方法 25 200910345 製成的圓盤狀的基板11。然後，如圖2 (b)所示，在基板^的表面18上贫形成記錄材料層21及阻障層22 〇又序繼而，形成孔部15，形成孔部15的裝置，可採用| 先^眾所周知的光碟驅動器相同的構成。作為此類光碟二動器的構成，例如在日本專利特開2〇〇3_2〇3348號公報^ 有所揭示。使用此類光碟驅動器，在該光碟驅動器上安形成著記錄材料層21以及阻障層22的基板u。然後，^ 據記錄材料層21的材質，以可使記錄材料層21產生的適當輪出，對記錄材料層21照射雷射光。進而，以該照射圖案與圖4 (a)或圖（b)所例示的點或者槽的圖案相一致的方式，向雷射光源輸入脈衝信號或者連續信號。另外’，如圖5 (b)所示，較好的是，以預定週期τ發出的雷射光的占空比（duty ratio)(發光時間r/週期τ)低於實際形成的孔部15的占空比（雷射光的掃描方向上孔部15 的長度d/間距ρ;參照圖5(a))。此處，圖5(a)中顯示為圓形的雷射光，在發光時間r之内以預定速度移動，藉此有助於形成橢圓形的孔部15。而且，雷射光的占空比，例如只要在孔部15的間距p設為1〇〇時孔部15的長度d 為50的情況下，能夠以低於5〇%的占空比照射雷射光即可。。而且，此時，雷射光的占空比的上限值較好的是小於 50%，更好的是小於40%，邊一步好的是小於35%。而且，下限值較好的是大於等於1%，更好的是大於等於5%，進步好的是大於等於10%。如上所述，藉由設定占空比， 26 200910345 可準確地形成規定間距的孔部15。而且’藉由使用與光碟驅動器相同的聚焦（focusing) 技術，例如像散法（astigmatism)等，即便基板n上有起伏或翹曲，亦容易將光彙聚在基板u的表面18上。此處，為了獲得最小加工形狀，以極短時間照射雷射光而形成的凹形的直徑（最小訊坑長）的上限值較好的是小，等於10 ，更好的是小於等於5 “爪，進一步好，疋小於等於2 /zm。而且，最小訊坑長的下限值較好的是大於等於10 nm，更好的是大於等於5〇 nm，進一步好的，大於，於100nm。亦即，較好的是縮小雷射光的光點，徑以使刻、訊坑長在上述範圍内。通過將最小訊坑長設在上述範圍内，能夠形成高密度記錄用罩幕。而且’當孔部15大於最小加工形狀（以下，稱作「雷光，」）犄，可藉由將雷射光點連結而形成孔部Μ。此熱模式型記騎料層21照射雷㈣，在受到昭射射僅溫度達到轉移溫度的部分產生變化。亦即，雷心附近的光強度最強，越靠外側逐漸減弱，因此，了在5己錄材料層21上形成直徑小於雷射Μ 微細孔“ i 料的光點直控的子模式（photon mode)型材料，目u 优用尤產生反應，故經由1 :欠雷射⑽.射絲㈣部分全部較大，其形狀精度低於熱射致t二形材點) 是’如本發明所述，使用熱模=枓。因此’較好的 27 200910345 、如上所述，如圖2 (c)所示，自基板11的表面18側，由磁碟驅動器的光H統3G彙聚雷射光進行照·與由光記錄磁碟記錄資訊時相同，—面使基板u旋轉，一面使光學系統3G在半徑方向上移動，藉此，可在基板11的整個表面18上形成孔部15。製造孔部15時的加工條件如下所述。

光學系統30的數值孔徑NA，較好的是下限大於等於〇.4，更好的是大於等於〇·5，進一步好的是大於等於〇 6。而且，數值隸ΝΑ的上限值，較好的是小於等於2，更好的疋小於等於1，進—步好的是小於等於Μ。其理由為’若數值孔徑NA過小，則無法進行精密加工；若數值孔從NA過大，則記錄時的角度範圍減小。光學系統3〇的波長，例如可為405±30 nm、532+3〇 Γ女了 rnm、780±30nm。其理由為，該些波長可獲得 :而‘好。而且’波長越短’則能夠進行越精細的加工，

光學=統3G的如的下限值A =大於等於lmW，更好的是大於等於⑽，：一= ^大於等於2G mW。光學系統％的 = 荨於1000 mW，較好的县丨〜& 的上限值小於於等於禮。其理的由祕，更好的是小費較县砗Π·而—蛉山為右輸出過低，則加工時會花 ==輸出過高，則構成光學系統3。的構件的進行相對移動時使光學系統3G相對於記錄材料層21 28 200910345 的線速度的下限值大於等於01 m/s，較好的是大於等於1 m/s’更好的是大於等於5m/s，進一步好的是大於等於'加 m/s。線速度的上限值小於等於5〇〇 m/s，較好的是小於於200 m/s ’更好的是小於等於100 m/s ’進一步好的j 由為，若線速度過快，則難以提: 工精度，而右線速度過慢，則加工時會花費較法加工為良好的形狀。、町间’無作為包括光學系統30的具體光學加工機的用例如··帕路斯（PULSTEC)工業股份有 NE0500。的如上所述，藉由採用先前眾所周知的光碟驅動器如圖3 (a)所示，在記錄材料層21以及阻障層u 面上適當地形成與資訊相應的孔部15。此後將形成^ 部15+的記錄材料層21 α及阻障層22作為罩幕广進刻，藉此如圖3 (b)所示，在基板u的表面孔部I5相應的訊坑10。然後，如圖 H與定的剝離料來除去記騎料層21以及 ^ ’曰似預使成為凹凸形狀的基板丨〗的表面18露出。㈢22，徒而此處的蝕刻，可採用濕式蝕刻或乾方法，較好的是採用乾式韻刻，尤其=夕種钱刻的直進性（非等向性）高且可實、疋知用钱刻風體以及阻障層22的除去方法，可採用乾H記錄材料㈣多種方法。式方法或濕式方法等 29 200910345 另外，蝕刻方法或除去方法的具體例，例如，當基板 η的材料為玻璃，記錄材料層21的材料為色素，阻障層 22的材料為無機材料層時，可採用使用sf6 (六氟化硫)曰作為钱刻氣體的RIE ’且可採用使用乙醇作“離液^濕式除去方法。在如上所述在基板11上形成訊坑16之後，藉由先如眾所周知的方法在基板U的表面18侧形成保護層 12 (參照圖1 (b)) ’從而製成光碟1。藉此，本實施形態可獲得如下效果。將經光照射的記錄材料層21以及阻障層作為罩幕’對基板11 it行餘刻，便可容易地在無機物構基 U上直接形成凹凸。而且’在藉由通常之使用光阻劑的^ 刻來製造細1的方法巾，需要以下製程，即，於罩幕而形成與資崎應的多個孔；⑵在基板上形^ 阻劑；（3)將罩幕放置在光阻劑上；⑷使用單幕使光阻劑曝光；⑸除去光阻_曝光部分；（6)㈣；去殘留的光_。減，本發日㈣製造方法中，只要向芙，11上的記錄材料層21以及阻障層22照射光便可同時ς 成且放置罩幕’因此，可將光_所需的製程⑴及⑶ 縮減為⑽製程。μ ’本發明的製造方法中 =料層21以及阻障層22照射光便可形成多個 2因此，可省去光阻劑所需的製程⑸。藉此，本發明造方！1，與絲触刻方法相比，可在無機物構i的基板上非常簡單地形成微細的凹凸。 30 200910345 而且社上述湖娥__方法巾，存在題：若基減生_則無法與罩幕雜。對此 =

製造方法中，在職在基板u上的記騎制21等^ 由聚焦技術等而形衫魏部15，藉此，可準確密接放置在基板11的表面18上，因此，騎因基板2 龜曲而無法鮮幕密接，且可簡單地形成凹凸形狀。生而且，在上述使用光阻劑的蝕刻方法中，在罩幕上护，多個微細的孔時非常繁瑣，而本發明的製造方法中，可精由先前眾所周知㈣焦技術等而在作為罩幕的記錄材料層21等上簡單且迅速地形成多個微細的孔。而且，在形成記錄材料層21時，可藉由塗佈等而大量地一併實施，因此可迅速且低價地製造光碟工。 —另外，本發明並不限於上述實施形態，亦可在以下例示的多種形態下使用。上述實施形態中，光碟1是由基板11與保護層12構成’但本發明並不限於此，可適當地改變層構成。而， k通用性的觀點出發，較好的是可由一般的光碟驅動器進行讀取的層構成。而且，構成光碟的各層的材質為無機物時壽命較長，故而較好。但是，由有機物構成時，只要為不會侵蝕所記錄的訊坑形狀（訊坑16)的材質，亦可具有較長的使用奇命。另外，當由會侵钱訊坑形狀的有機物構成時，只要適用於不與形成著訊坑16的表面18相鄰的層，則可具有較長的使用壽命。亦即’若基板11的訊坑形狀（訊坑16)不被破壞’即可藉由光學顯微鏡、電子顯微鏡、廣 31 200910345 子力顯微鏡（atomic force microscope，AFM)等微細形狀檢測裝置再生資訊，因此，只要是不破壞訊坑形狀的層構成’即可具有較長的使用壽命。上述層構成可採用以下類型：基板上設置著反射層以及保護層的CD (compact disc)類型；基板上設置著反射層、接著層以及覆蓋層的DVD (digital versatile disc)類型；基板上設置著反射層、覆蓋層的BD (blu-raydisc;註 t 冊商標）類型等。此處，從資訊記錄媒體的長壽命化的觀 ^ 點出發，反射層較好的是採用金、銀、鉑等貴金屬。而且，接著層較好的是採用例如大日本油墨化學工業股份有限公司出售的SD-347等紫外線硬化型接著劑。而且，保護層以及覆蓋層，較好的是採用與上述實施形態中的保護層12 相同的材料。上述實施开>態中，設有保護層12，但本發明並不限於此，亦可不設置保護層。 ' 上述實施形態中，具有除去蝕刻之後殘留的記錄材料 ( 層21以及阻障I 22的製程，但本發明並不限於此，當姓刻製程中形成了訊坑16且記錄材料層21以及阻障層U 被削除時，亦可省去除去製程。而且，根據情況，亦可保留蝕刻後殘留的記錄材料層21以及阻障層22。上述實施形態中’並未指定資訊的記錄方式（記錄材料層21形成孔部的製程中適用的記錄方式），可使用數位 (degkal)記錄、類比（anal〇g )記錄中的任一種。但較好的是採用能夠高密度記錄的數位記錄。尤其是，從通用性 32 200910345 方面、以及可直接利用目前可獲得的記錄裝置的方面出發，較好的是採用 CD、DVD、BD、HDDVD(high-deflniti〇n digital versatile disc’高清數位光碟）等中廣泛普及的記方式。上述實施形態中，在形成孔部15時採用的是雷射光，但/、要可彙聚成所需大小的光，亦可不使用雷射光等單色光。上述實施形態中，在記錄材料層21上形成了阻障層 22，但本發明並不限於此，亦可不設置阻障層22。甚至當如本實施形態所示，將記錄材料層21用作蝕刻罩幕時，: 好的是不設置阻障層22。上述實施形態中，是自形成著記錄材料層21等的基板 11的表面18側照射雷射光，但本發明並不限於此，當基板是由雷射光可透過的材質構成時，如圖6所示，亦;^ 基板11的背面側（記錄材料層21等的相反側）照射雷射上述實施形態中，是在形成訊坑16的基板n的表面 18上直接形成記錄材料層21等來作為蝕刻罩幕，但本發明並不限於此。例如，當記錄材料層Μ等會容易地被用以對基板11進行蝕刻的蝕刻氣體削除之情形時，如圖7 (a) 所示’亦可將可對記騎制2丨钱乎沒有影響的餘刻氣體進行侧的轉層n，設在基板u的表面18與記錄材料層21之間（第二實施形態）。、根據第二實施形態，首先，與上述第—實施形態相同， 33 200910345 利用雷射光在記錄材料層21以及阻障層22上形成孔 (參照圖7 (a))。繼而，如圖7 (b)所示，利用蝕= 氣體對罩幕層n進躲刻，從而在罩幕層口上 ^ 部15對應的通孔17a。此處，作為第—勤】氣體，因選不會削去記錄材料層21以及阻障層22之類型的氣體，而，記錄材料層21以及阻障層22成為罩幕，而罩被蝕刻。早参層17 進行H t圖7㈦所示，藉由第二㈣氣體對基板11 刻’從而，在基板^喊面18上形成與孔部μ 對應的訊坑16。此時，在第二韻刻氣體的作用下，層2!以及阻障層22祕刻後立即消失，而罩幕層〜7 成為罩幕，基板11得以良好地钱刻。而且，之後幕如g ⑷所示’藉由預定的剝離液等來除去轉層丨回使形成為凹凸形狀的基板u的表面18露出。的材圖7所示形態的具體例，例如，當基板11 =’阻障層22的材料為無機層時，罩幕層17可採 1工業股份有限公㈣造的含Si的Bi 第 —韻刻氣體可採用巩，第二韻刻氣體可採用^劑弟實施例對確認了本發明效果的—實施例進行說明。成A遮^例令，製作與上述實施形態相同的基板。基板形 =碟狀，於該基板上形成厚度約⑽nm的色，錄材料層）以及轉層來作為㈣罩幕，e。。 34 200910345 細節如下所述矽 0.5 mm 101.6 mm (4 英叫·） 15 mm •色素層（記錄材料層）

•基板材質厚度外徑内徑將以下化學式所示的色素材料2 g溶解於TFP (tetrafluorethylene，四氣丙醇）溶劑100 ml中，進行旋塗。旋塗時，以塗佈開始的轉速500 rpm、塗佈結束的轉速1000 rpm，將塗佈液分配（dispense)塗至基板的内周部，再逐漸將轉速提高至2200 rpm。而且，色素材料的折射率η為1.986，消光係數k為0.0418。 [化7]

藉由直流磁控滅鑛（direct current magnetron 35 200910345 sputter ) ’ 形成 2n〇- 薄膜。

Ga2〇3(ZnO為95祕他仙為 5 wt%) 厚度約5 nm 1 kW 2秒輸出膜形成時間環境對於上诚其虹立’ ⑴、'仙·重50 seem) NE0500 (波長^ 4〇5二11^斯工業股份有限公司製造的記錄微細孔部。孔部形成為如二I)):阻的表面的間距為0.5 #m。（a)所不的形態，排列孔部的形成條件如下所示 2 mW 5 m/s 雷射輸出線速度 5 MHz的矩形波記錄信號繼而’將形成著孔部的記錄材料層等作為罩幕，進行 RIE ’從而在基板的表面形成訊坑。RIE的條件如下所述。餘刻氣體 SF6 + CHF3 (1 : 1) 訊土几深度 50 nm 剝離記錄材料層等的剝離液乙醇由此可確認，光碟的基板上良好地形成著作為資訊的微細訊坑。雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍内，當可作些許之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍 36 200910345 範圍所界定者為準。 _ = (a)是表示由本發明的-實施形態中的sm方法放’圖1 (b)是光碟的主要部一法的^^3=的第Γ實施形態中的光碟的製造方圖2(b )疋表不未加工狀態下的基板的剖面圖， :的剖二 =板亡:成記錄材料層以及阻障層的製形成孔部的製Ξ的示在記錄材㈣以及阻障層上本3是表示本發明的第一實施形態中的光碟的製造方面表示整個面上形成著孔部的基板的剖 r，製程=記幕層以及阻障層，態下的基板的剖面圖。#料㈦娜麵絲儀圖，吣方法的剖自基板的背面侧照射雷射光而形成孔部的法：實施形態中的光碟的製造方成著罩幕層的Α^表不在記錄材料層與基板表面之間形卓幕層的基板的剖面圖，圖7⑻是表示將記錄柯料 37 200910345 層以及阻障層作為罩幕而對罩幕層進行#刻的製程的剖面圖，圖7 (c)是表示主要將罩幕層作為罩幕而對基板進行蝕刻的製程的剖面圖，圖7 (d)是表示除去罩幕層的狀態下的基板的剖面圖。【主要元件符號說明】 I :光碟 II :基板 12 :保護層 15 :孔部 16 :訊坑 17 :罩幕層 17a :通孔 18 :表面 21 :記錄材料層 22 :阻障層 30 :光學系統 d:孔部長度 P :間距 r:發光時間 T :週期 38

Claims

200910345 十、申請專利範圍：徵在案記錄資訊之媒體的製造方法，其特的記構成的基板上形成可進行熱模式之形狀變化部；2述記錄材料層照射彙㈣光，從㈣成多個孔將形成著上㈣魏料記騎 ::，在上述基板上形成與上述多二:幕的多進: ί媒體的製造方法，其特徵在於上述記錄材料層含有二色圖案記錄資訊 .如申叫專利範圍第1項所述之以訊坑之媒體的製造方法，其特徵在於：上述記錄材料層的形成製程中包括以下製程：在上述基板上形成罩幕層；以及在上述罩幕層上形成上述記錄材料層，上述多個訊坑的形成製程中包括以下製程：將形成著上述多個孔部的上述記錄材料層作為罩幕，對上述罩幕層進行蝕刻，從而在上述罩幕層上形成與上述多個孔部對應的多個通孔；以及 / 將形成著上述多個通孔的上述罩幕層作為罩幕，對上述基板進行蝕刻，從而形成與上述多個通孔對應 39 200910345 的多個訊坑。 4. 如申請專利範圍第1項所述之以訊坑圖案記錄資訊之媒體的製造方法，其特徵在於更包括以下製程：自形成著上述多個訊坑的上述基板上除去上述記錄材料層。 5. 如申請專利範圍第3項所述之以訊坑圖案記錄資訊之媒體的製造方法，其特徵在於更包括以下製程：自形成著上述多個訊坑的上述基板上除去上述罩幕層。 6. 如申請專利範圍第1項至第5項中任一項所述之以訊坑圖案記錄資訊之媒體的製造方法，其特徵在於更包括以下製程：在形成著上述多個訊坑的上述基板上設置保護層。 7. 如申請專利範圍第1項至第5項中任一項所述之方以訊坑圖案記錄資訊之媒體的製造方法，其特徵在於更包括以下製程：在上述基板上設置反射層。 8·如申請專利範圍第7項所述之以訊坑圖案記錄資訊之媒體的製造方法，其特徵在於更包括以下製程：在上述反射層上設置保護層。 9·如申請專利範圍第i項至第5項中任—項所述之以訊坑圖案記錄資訊之媒體的製造方法，其特徵在於：上述多個訊坑的形成製程中，藉由乾式工述基板進行蝕刻。 200910345 10. 如申請專利範圍第丨項多第5項中任一項所述之以訊坑圖案記錄資訊之媒體的製造方法，其特徵在於：上述多個訊坑的形成製程中，藉由非等向性蝕刻工藝對上述基板進行蝕刻。 11. 如申請專利範圍第丨項多第5項中任一項所述之以訊坑圖案記錄資訊之媒體的製造方法，其特徵在於：上述多個訊坑的形成製程中，藉由反應式離子蝕刻對上述基板進行蝕刻。 12. -種資訊記錄媒體’上述資訊記錄媒體藉由如申讀專利範圍第1項至第5射任—項所述之方法.而製造。