KR20100055419A - 피트 패턴으로 정보가 기록된 매체를 제조하는 방법 - Google Patents

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요시히사 우사미
테츠야 와타나베
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후지필름 가부시키가이샤
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Abstract

무기물로 이루어지는 기판에 직접, 또한 용이하게 요철(피트 패턴)을 형성할 수 있는 방법을 제공한다. 피트 패턴으로 정보가 기록된 매체를 제조하는 방법은 무기물로 이루어지는 기판(11) 상에 히트 모드의 형상 변화가 가능한 기록 재료층(21)을 형성하는 공정과, 상기 기록 재료층(21)에 집광한 광을 조사함으로써 복수의 구멍부(15)를 형성하는 공정과, 상기 복수의 구멍부가 형성된 기록 재료층(21)을 마스크로 하여 에칭을 행함으로써 상기 기판(11)에 상기 복수의 구멍부(15)에 대응한 복수의 피트(16)를 형성하는 공정을 갖는다.

Description

피트 패턴으로 정보가 기록된 매체를 제조하는 방법{METHOD FOR PRODUCING MEDIUM ON WHICH INFORMATION IS RECORDED BY PIT PATTERN}
본 발명은 피트 패턴으로 정보가 기록된 매체를 제조하는 방법에 관한 것이다.
종래, 광디스크 등의 광학적으로 판독 가능하게 정보가 기록된 매체의 제조 방법으로서 일본 특허 공개 평3-40244호 공보에 개시되는 바와 같은 제조 방법이 알려져 있다. 이 기술에서는 우선 무기물인 유리 기판 상에 금속 알코올레이트, 물, 염산, 알코올 등으로 이루어지는 도포 용액에 의해 소정의 층을 형성하고, 이 층에 수지제의 몰드를 압착하여 60~120℃에서 1차 소성을 행한다.
그 후, 유리 기판을 이형하여 250~400℃에서 2차 소성을 행하고, 용제, 첨가제 등의 유기 성분을 제거함으로써 소망의 요철(피트 패턴)을 갖는 비정질의 금속산화물층을 유리 기판 상에 형성한다. 이상의 공정에 의해 유리 기판 상의 금속산화물층에 정보가 미세한 요철로서 기록된다.
그러나, 상기한 종래의 제조 방법에서는 유리 기판 상에 형성한 층에 요철을 형성하기 때문에 장기간의 보존에 의해 요철이 형성된 층이 박리될 가능성이 있었다. 그 때문에, 장기간의 보존을 실현하려면 무기물로 이루어지는 기판에 직접 미세한 요철을 형성하는 것이 요망되고 있었다. 또한, 종래의 제조 방법에서는 도포 용액의 도포, 몰드의 압착, 1차 소성, 2차 소성 및 유기 성분의 제거라는 공정을 거치기 때문에 제조가 번잡해져 있었다.
그래서, 무기물로 이루어지는 기판에 직접, 또한 간단하게 요철(피트 패턴)을 형성할 수 있는 방법, 그로 인해 기록한 정보의 장기간 보존이 가능한 매체를 제조할 수 있는 방법을 제공하기 위한 노력의 과정에서 본 발명이 창안되기에 이르렀다.
본 발명의 제 1 실시 형태에 있어서, 피트 패턴으로 정보가 기록된 매체를 제조하는 방법을 제공한다. 이 방법은 무기물로 이루어지는 기판 상에 히트 모드(heat mode)의 형상 변화가 가능한 기록 재료층을 형성하는 공정과, 상기 기록 재료층에 집광한 광을 조사함으로써 복수의 구멍부를 형성하는 공정과, 상기 복수의 구멍부가 형성된 기록 재료층을 마스크로 하여 에칭을 행함으로써 상기 기판에 상기 복수의 구멍부에 대응한 복수의 피트(pit)를 형성하는 공정을 갖는 것을 특징으로 한다.
여기에서, 「구멍부」란 예를 들면 기판측으로는 관통하지 않는 바닥이 있는 통 형상의 구멍부를 의미하는 것 외에 기록 재료층을 관통하여 기판을 노출시키는 구멍부도 의미한다.
본 발명의 상기 실시 형태에 의하면, 우선 기판 상에 기록 재료층을 형성한 후, 이 기록 재료층에 집광한 광을 조사함으로써 구멍부를 형성한다. 그리고, 이렇게 구멍부를 형성한 기록 재료층을 마스크로 하여 에칭을 행함으로써 기판에 구멍부에 대응한 피트를 직접 형성한다. 이렇게 구성함으로써 기록 재료층의 형성, 광의 조사, 에칭이라는 공정을 거치는 것만으로 기판의 표면에 간단히 요철 형상을 형성할 수 있다.
상기 기록 재료층은 유기 색소를 함유하고 있어도 된다. 이것에 의하면, 기록 재료층에 양호하게 구멍부를 형성할 수 있다.
본 발명의 다른 실시 형태로서, 상기 기록 재료층을 형성하는 공정은 상기 기판 상에 마스크층을 형성하는 공정과, 그 마스크층 상에 상기 기록 재료층을 형성하는 공정을 갖고, 상기 복수의 피트를 형성하는 공정은 상기 복수의 구멍부가 형성된 상기 기록 재료층을 마스크로 하여 상기 마스크층을 에칭함으로써 상기 마스크층에 상기 복수의 구멍부에 대응한 복수의 관통 구멍을 형성하는 공정과, 상기 복수의 관통 구멍이 형성된 상기 마스크층을 마스크로 하여 상기 기판을 에칭함으로써 상기 복수의 관통 구멍에 대응한 복수의 피트를 형성하는 공정을 갖는 것으로 해도 된다.
상기 제 2 실시 형태에 있어서, 상기 복수의 피트가 형성된 기판으로부터 기록 재료층 또는 마스크층을 제거하는 공정을 포함하는 것이 바람직하지만, 반드시 그래야만 하는 것은 아니다. 또한, 그 기판 상에 보호층을 더 형성해도 된다. 또는, 그 기판 상에 반사층을 형성해도 되고, 그 반사층 상에 보호층을 형성할 수도 있다. 이로 인해, 예를 들면 CD(Compact Disc), DVD(Digital Versatile Disc), BD(Blu-ray Disc) 등 광학적으로 판독 가능하게 정보가 기록된 매체를 제공할 수 있다. 여기에서, 「보호층」이란 CD에 있어서의 보호층뿐만 아니라 DVD나 BD에 있어서의 커버층을 포함하는 광의의 보호층을 의미한다. 또한, 「(기판, ~층) 상에 」란 그(상기 기판이나 층) 위에 직접 접촉되어 있는 경우뿐만 아니라 「다른 층을 개재시키고 그 위에」라는 경우도 함의하는 것으로 한다.
본 발명에 의하면, 기록 재료층에 광을 조사한 것을 마스크로 하여 기판을 에칭하는 것만으로 용이하게 무기물로 이루어지는 기판에 직접 요철을 형성할 수 있다.
상기한 본 발명의 제측면 및 효과, 그리고 다른 효과 및 다른 특징은 첨부한 도면을 참조하여 후술하는 본 발명의 예시적이고 또한 비제한적인 실시 형태의 상세한 설명에 의해 한층 더 명확해질 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 의한 제조 방법으로 제조된 광디스크를 나타내는 사시도(a)와, 광디스크의 주요부 확대 단면도(b)이다.
도 2는 본 발명의 제 1 실시 형태에 의한 광디스크의 제조 방법을 나타내는 도면이고, 미가공 상태의 기판을 나타내는 단면도(a)와, 기판 상에 기록 재료층 및 배리어층을 형성하는 공정을 나타내는 단면도(b)와, 기록 재료층 및 배리어층에 구멍부를 형성하는 공정을 나타내는 단면도(c)이다.
도 3은 본 발명의 제 1 실시 형태에 의한 광디스크의 제조 방법을 나타내는 도면이고, 구멍부가 전체 면에 형성된 기판을 나타내는 단면도(a)와, 기록 재료층 및 배리어층을 마스크로 하여 에칭을 행하는 공정을 나타내는 단면도(b)와, 기록 재료층 및 배리어층을 제거한 상태의 기판을 나타내는 단면도(c)이다.
도 4의 (a)는 기판의 표면을 평면적으로 본 일례의 도면이고, (b)는 다른 예의 도면이다.
도 5의 (a)는 구멍부의 길이와 피치의 관계를 설명하는 도면이고, (b)는 레이저광의 발광 시간과 주기의 관계를 설명하는 도면이다.
도 6은 기판의 이면측으로부터 레이저광을 조사하여 구멍부를 형성하는 방법을 나타내는 단면도이다.
도 7은 본 발명의 제 2 실시 형태에 의한 광디스크의 제조 방법을 나타내는 도면이고, 기록 재료층과 기판의 표면 사이에 마스크층이 형성된 기판을 나타내는 단면도(a)와, 기록 재료층 및 배리어층을 마스크로 하여 마스크층을 에칭하는 공정을 나타내는 단면도(b)와, 주로 마스크층을 마스크로 하여 기판을 에칭하는 공정을 나타내는 단면도(c)와, 마스크층을 제거한 상태의 기판을 나타내는 단면도(d)이다.
이어서, 본 발명의 실시 형태에 대해 적절히 도면을 참조하면서 상세하게 설명한다.
도 1(a) 및 (b)에 나타내는 바와 같이, 본 발명의 제 1 실시 형태에 의한 제조 방법에 의해 제조되는 정보 기록 매체의 일례로서의 광디스크(1)는 무기물제의 기판(11)과, 기판(11) 상에 형성되는 보호층(12)을 구비하여 구성되어 있다. 그리고, 이 기판(11)의 보호층(12)측의 표면(18)에는 복수의 피트(16)가 정보로서 형성되어 있다.
여기에서, 기판(11)의 재료로서는 Si, Al을 갖는 재료가 바람직하고, 예를 들면 Si나 SiO2, Al2O3 등이 바람직하다. 또한, 보호층(12)의 재료로서는 SiO2 등의 무기 산화물, Si3N4 등의 무기 질소화물과 같은 무기계의 것이나, UV 경화 수지 등과 같은 유기계의 것을 단독으로 또는 조합하여 사용할 수 있다. 단, 광디스크(1)의 장수명화의 관점으로부터 보호층(12)도 무기계의 재료로 형성하는 것이 바람직하다.
이어서, 본 발명의 제 1 실시 형태에 의한 광디스크(1)의 제조 방법에 대해 도 2~5를 참조하여 설명한다.
본 발명의 제 1 실시 형태에 의한 광디스크(1)의 제조 방법에서는, 도 2(c)에 나타내는 바와 같이, 집광한 광의 조사에 의해 구멍부(15)가 적절히 형성되는 기록 재료층(21) 및 배리어층(22)을 에칭용의 마스크로서 이용한다. 이하에 있어서는 제조 방법의 상세를 설명하기 전에 우선 에칭용의 마스크로서 이용하는 기록 재료층(21) 및 배리어층(22)과, 이들 각 층(21, 22)에 형성되는 구멍부(15)의 상세에 대해 설명한다.
기록 재료층(21)은 강한 광의 조사에 의해 광이 열로 변환되고 이 열에 의해 재료가 형상 변화되어 구멍부를 형성하는 것이 가능한 층이며, 이른바 히트 모드형의 기록 재료의 층이다. 이러한 기록 재료는 종래 광기록 디스크 등의 기록층에 다용되고 있고, 예를 들면 시아닌계, 프탈로시아닌계, 퀴논계, 스쿠아릴리움계, 아줄레니움계, 티올 착염계, 메로시아닌계 등의 기록 재료를 이용할 수 있다.
기록 재료층(21)은 색소를 기록 물질로서 함유하는 색소형으로 하는 것이 바람직하다.
따라서, 기록 재료층(21)에 함유되는 기록 물질로서는 색소 등의 유기 화합물을 들 수 있다. 또한, 기록 재료층(21)의 재료로서는 유기 재료에 한정되지 않고, 무기 재료 또는 무기 재료와 유기 재료의 복합 재료를 사용할 수 있다. 단, 유기 재료이면 성막을 스핀코트에 의해 용이하게 할 수 있고, 전이 온도가 낮은 재료를 얻기 쉽기 때문에 유기 재료를 채용하는 것이 바람직하다. 또한, 유기 재료 중에서도 광흡수량이 분자 설계에 의해 제어 가능한 색소를 채용하는 것이 바람직하다.
여기에서, 기록 재료층(21)의 바람직한 예로서는 메틴 색소(시아닌 색소, 헤미시아닌 색소, 스티릴 색소, 옥소놀 색소, 메로시아닌 색소 등), 대환상 색소(프탈로시아닌 색소, 나프탈로시아닌 색소, 포르피린 색소 등), 아조 색소(아조 금속 킬레이트 색소를 포함함), 아릴리덴 색소, 착체 색소, 쿠마린 색소, 아졸 유도체, 트리아진 유도체, 1-아미노부타디엔 유도체, 신남산 유도체, 퀴노프탈론계 색소 등 을 들 수 있다.
그 중에서도, 레이저광에 의해 1회만의 정보 기록이 가능한 색소형의 기록 재료층(21)인 것이 바람직하다. 유기물의 기록 재료는 용제에 녹여 스핀코트나 스프레이 도포에 의해 막을 형성할 수 있으므로 생산성이 우수하기 때문이다. 이러한 색소형의 기록 재료층(21)은 기록 파장 영역의 광을 흡수하는 색소를 함유하고 있는 것이 바람직하다. 특히, 광의 흡수량을 나타내는 소쇠 계수(k)의 값은 그 상한이 10 이하인 것이 바람직하고, 5 이하인 것이 보다 바람직하며, 3 이하인 것이 더욱 바람직하고, 1 이하인 것이 가장 바람직하다. 그 이유는 소쇠 계수(k)가 지나치게 높으면 기록 재료층(21)의 광의 입사측으로부터 반대측까지 광이 도달하지 않아 불균일한 구멍이 형성되기 때문이다. 또한, 소쇠 계수(k)의 하한값은 0.0001 이상인 것이 바람직하고, 0.001 이상인 것이 보다 바람직하며, 0.1 이상인 것이 더욱 바람직하다. 그 이유는 소쇠 계수(k)이 지나치게 낮으면 광흡수량이 적어지기 때문에 그만큼 큰 레이저 파워가 필요해지고, 가공 속도의 저하를 초래하기 때문이다.
또한, 기록 재료층(21)은 상기한 바와 같이 기록 파장에 있어서 광흡수가 있는 것이 필요하고, 이러한 관점으로부터 레이저광원의 파장에 따라 적절히 색소를 선택하거나, 구조를 개변하거나 할 수 있다.
예를 들면, 레이저광원의 발진 파장이 780㎚ 부근이었던 경우 펜타메틴시아닌 색소, 헵타메틴옥소놀 색소, 펜타메틴옥소놀 색소, 프탈로시아닌 색소, 나프탈로시아닌 색소 등으로부터 선택하는 것이 유리하다.
또한, 레이저광원의 발진 파장이 660㎚ 부근이었던 경우에는 트리메틴시아닌색소, 펜타메틴옥소놀 색소, 아조 색소, 아조 금속 착체 색소, 피로메텐 착체 색소 등으로부터 선택하는 것이 유리하다.
또한, 레이저광원의 발진 파장이 405㎚ 부근이었던 경우에는 모노메틴시아닌 색소, 모노메틴옥소놀 색소, 제로메틴메로시아닌 색소, 프탈로시아닌 색소, 아조 색소, 아조 금속 착체 색소, 포르피린 색소, 아릴리덴 색소, 착체 색소, 쿠마린 색소, 아졸 유도체, 트리아진 유도체, 벤조트리아졸 유도체, 1-아미노부타디엔 유도체, 퀴노프탈론계 색소 등으로부터 선택하는 것이 유리하다.
이하, 레이저광원의 발진 파장이 780㎚ 부근이었던 경우, 660㎚ 부근이었던 경우, 405㎚ 부근이었던 경우에 대해 기록 재료층(21)(기록층 화합물)으로서 각각 바람직한 화합물의 예를 든다. 여기에서, 이하의 화학식 1, 2로 나타내는 화합물(Ⅰ-1~Ⅰ-10)은 레이저광원의 발진 파장이 780㎚ 부근이었던 경우의 화합물이다. 또한 화학식 3, 4로 나타내는 화합물(Ⅱ-1~Ⅱ-8)은 660㎚ 부근이었던 경우의 화합물이다. 또한, 화학식 5, 6으로 나타내는 화합물(Ⅲ-1~Ⅲ-14)은 405㎚ 부근이었던 경우의 화합물이다. 또한, 본 발명은 이것들을 기록층 화합물에 이용한 경우로 한정되는 것은 아니다.
＜레이저광원의 발진 파장이 780㎚ 부근이었던 경우의 기록층 화합물 예＞
Figure pct00001
＜레이저광원의 발진 파장이 780㎚ 부근이었던 경우의 기록층 화합물 예＞
Figure pct00002
＜레이저광원의 발진 파장이 660㎚ 부근이었던 경우의 기록층 화합물 예＞
Figure pct00003
＜레이저광원의 발진 파장이 660㎚ 부근이었던 경우의 기록층 화합물 예＞
Figure pct00004
＜레이저광원의 발진 파장이 405㎚ 부근이었던 경우의 기록층 화합물 예＞
Figure pct00005
＜레이저광원의 발진 파장이 405㎚ 부근이었던 경우의 기록층 화합물 예＞
Figure pct00006
또한, 일본 특허 공개 평4-74690호 공보, 일본 특허 공개 평8-127174호 공보, 일본 특허 공개 평11-53758호 공보, 일본 특허 공개 평11-334204호 공보, 일본 특허 공개 평11-334205호 공보, 일본 특허 공개 평11-334206호 공보, 일본 특허 공개 평11-334207호 공보, 일본 특허 공개 2000-43423호 공보, 일본 특허 공개 2000-108513호 공보, 및 일본 특허 공개 2000-158818호 공보 등에 기재되어 있는 색소도 바람직하게 이용된다.
이러한 색소형의 기록 재료층(21)은 색소를 결합제 등과 함께 적당한 용제에 용해하여 도포액을 조제하고, 이어서 이 도포액을 기판 상에 도포하여 도포막을 형성한 후 건조함으로써 형성할 수 있다. 그때, 도포액을 도포하는 면의 온도는 10~40℃의 범위인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 하한값이 15℃ 이상이고, 20℃ 이상인 것이 더욱 바람직하며, 23℃ 이상인 것이 특히 바람직하다. 또한, 상한값으로서는 35℃ 이하인 것이 보다 바람직하고, 30℃ 이하인 것이 더욱 바람직하며, 27℃ 이하인 것이 특히 바람직하다. 이렇게 피도포면 온도가 상기 범위에 있으면 도포 얼룩이나 도포 고장의 발생을 방지하여 도포막의 두께를 균일하게 할 수 있다.
또한, 상기 상한값 및 하한값은 각각을 임의로 조합시킬 수 있다.
여기에서, 기록 재료층(21)은 단층이어도 중층이어도 되고, 중층 구조의 경우 도포 공정을 복수 회 행함으로써 형성된다.
도포액 중의 색소의 농도는 일반적으로 0.01~15질량%의 범위이고, 바람직하게는 0.1~10질량%의 범위, 보다 바람직하게는 0.5~5질량%의 범위, 가장 바람직하게는 0.5~3질량%의 범위이다.
도포액의 용제로서는 아세트산 부틸, 락트산 에틸, 셀로솔브 아세테이트 등의 에스테르; 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤; 디클로로메탄, 1,2-디클로로에탄, 클로로포름 등의 염소화탄화수소; 디메틸포름아미드 등의 아미드; 메틸시클로헥산 등의 탄화수소; 테트라히드로푸란, 에틸에테르, 디옥산 등의 에테르; 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, n-부탄올디아세톤알코올 등의 알코올; 2,2,3,3-테트라플루오로프로판올 등의 불소계 용제; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 글리콜에테르류; 등을 들 수 있다.
상기 용제는 사용하는 색소의 용해성을 고려하여 단독으로, 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 도포액 중에는 산화 방지제, UV 흡수제, 가소제, 윤활제 등 각종 첨가제를 목적에 따라 더 첨가해도 된다.
도포 방법으로서는 스프레이법, 스핀코트법, 딥법, 롤코트법, 블레이드코트법, 닥터롤법, 닥터블레이드법, 스크린인쇄법 등을 들 수 있다. 또한, 생산성이 우수하고 막두께의 컨트롤이 용이하다는 점에서 스핀코트법을 채용하는 것이 바람직하다.
기록 재료층(21)(기록층 화합물)은 스핀코트법에 의한 형성에 유리하다는 점으로부터 유기 용매에 대해 0.3wt% 이상 30wt% 이하로 용해되는 것이 바람직하고, 1wt% 이상 20wt% 이하로 용해되는 것이 보다 바람직하다. 특히, 테트라플루오로프로판올에 1wt% 이상 20wt% 이하로 용해되는 것이 바람직하다. 또한, 기록층 화합물은 열분해 온도가 150℃ 이상 500℃ 이하인 것이 바람직하고, 200℃ 이상 400℃ 이하인 것이 보다 바람직하다.
도포시 도포액의 온도는 23~50℃의 범위인 것이 바람직하고, 24~40℃의 범위인 것이 보다 바람직하며, 그 중에서도 25~30℃의 범위인 것이 특히 바람직하다.
도포액이 결합제를 함유할 경우 결합제의 예로서는 젤라틴, 셀룰로오스 유도체, 덱스트란, 로진, 고무 등의 천연 유기 고분자 물질; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리이소부틸렌 등의 탄화수소계 수지, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리염화비닐·폴리아세트산 비닐 공중합체 등의 비닐계 수지, 폴리아크릴산 메틸, 폴리메타크릴산 메틸 등의 아크릴 수지, 폴리비닐알코올, 염소화폴리에틸렌, 에폭시 수지, 부티랄 수지, 고무 유도체, 페놀·포름알데히드 수지 등의 열경화성 수지의 초기 축합물 등의 합성 유기 고분자;를 들 수 있다. 기록 재료층(21)의 재료로서 결합제를 병용할 경우에 결합제의 사용량은 일반적으로 색소에 대해 0.01배량~50배량(질량비)의 범위에 있고, 바람직하게는 0.1배량~5배량(질량비)의 범위에 있다.
또한, 기록 재료층(21)에는 기록 재료층(21)의 내광성을 향상시키기 위해 다양한 퇴색 방지제를 함유시킬 수 있다.
퇴색 방지제로서는 일반적으로 1중항 산소 켄쳐(quencher)가 이용된다. 1중항 산소 켄쳐로서는 이미 공지의 특허 명세서 등의 간행물에 기재된 것을 이용할 수 있다.
그 구체예로서는 일본 특허 공개 소58-175693호 공보, 일본 특허 공개 소59-81194호 공보, 일본 특허 공개 소60-18387호 공보, 일본 특허 공개 소60-19586호 공보, 일본 특허 공개 소60-19587호 공보, 일본 특허 공개 소60-35054호 공보, 일본 특허 공개 소60-36190호 공보, 일본 특허 공개 소60-36191호 공보, 일본 특허 공개 소60-44554호 공보, 일본 특허 공개 소60-44555호 공보, 일본 특허 공개 소60-44389호 공보, 일본 특허 공개 소60-44390호 공보, 일본 특허 공개 소60-54892호 공보, 일본 특허 공개 소60-47069호 공보, 일본 특허 공개 소63-209995호 공보, 일본 특허 공개 평4-25492호 공보, 일본 특허 공고 평1-38680호 공보, 및 일본 특허 공고 평6-26028호 공보 등의 각 공보, 독일 특허 350399호 명세서, 그리고 일본 화학회지1992년 10월호 제 1141페이지 등에 기재된 것을 들 수 있다. 상기 1중항 산소 켄쳐 등의 퇴색 방지제의 사용량은 색소의 양에 대해 통상 0.1~50질량%의 범위이고, 바람직하게는 0.5~45질량%의 범위, 더욱 바람직하게는 3~40질량%의 범위, 특히 바람직하게는 5~25질량%의 범위이다.
이상, 기록 재료층(21)이 색소형 기록층인 경우의 용제 도포법에 대해 기술했지만, 기록 재료층(21)은 기록 물질의 물성에 맞춰 증착, 스퍼터링, CVD 등의 성막법에 의해 형성할 수도 있다.
또한, 색소의 흡수 피크 파장은 반드시 가시광의 파장역 내인 것에 한정되지 않고, 자외역이나 적외역에 있는 것이어도 상관없다.
레이저에 의해 구멍부(15)를 기록하는 파장(λw)은 색소 흡수 파장(λa)과의 관계에 있어서 λa＜λw의 관계인 것이 바람직하다. 이러한 관계에 있으면 색소의 광흡수량이 적절하여 기록 효율이 높아지고, 깨끗한 요철 형상을 형성할 수 있기 때문이다.
또한, 구멍부(15)를 형성하기 위한 레이저광의 파장(λw)은 큰 레이저 파워가 얻어지는 파장이면 되고, 예를 들면 기록 재료층(21)에 색소를 이용할 경우에는 193㎚, 210㎚, 266㎚, 365㎚, 405㎚, 488㎚, 532㎚, 633㎚, 650㎚, 680㎚, 780㎚, 830㎚ 등, 1000㎚ 이하가 바람직하다.
또한, 레이저광의 종류로서는 가스 레이저, 고체 레이저, 반도체 레이저 등 어떠한 레이저여도 된다. 단, 광학계를 간단히 하기 위해 고체 레이저나 반도체 레이저를 채용하는 것이 바람직하다. 레이저광은 연속광이어도 되고 펄스광이어도 되지만, 자유롭게 발광 간격을 변경 가능한 레이저광을 채용하는 것이 바람직하다. 예를 들면, 반도체 레이저를 채용하는 것이 바람직하다. 레이저를 직접 온오프 변조할 수 없는 경우에는 외부 변조 소자에 의해 변조하는 것이 바람직하다.
또한, 레이저 파워는 가공 속도를 높이기 위해서는 높은 편이 바람직하다. 단, 레이저 파워를 높임에 따라 스캔 속도(레이저광으로 기록 재료층(21)을 주사하는 속도; 예를 들면 후술하는 광디스크 드라이브의 회전 속도)를 높이지 않으면 안 된다. 그 때문에, 레이저 파워의 상한값은 스캔 속도의 상한값을 고려하여 100W가 바람직하고, 10W가 보다 바람직하며, 5W가 더욱 바람직하고, 1W가 가장 바람직하다. 또한, 레이저 파워의 하한값은 0.1mW가 바람직하고, 0.5mW가 보다 바람직하며, 1mW가 더욱 바람직하다.
또한, 레이저광은 발진 파장폭이 좁고, 간섭성(coherency)이 높으며, 파장만한 스폿 사이즈로 집광할 수 있는 광인 것이 바람직하다. 또한, 기록 스트레티지(구멍부(15)를 적정하게 형성하기 위한 광펄스 조사 조건)는 광디스크에서 사용되고 있는 스트레티지를 채용하는 것이 바람직하다. 즉, 광디스크에서 사용되고 있는 기록 속도나 조사하는 레이저광의 파고값(波高値), 펄스폭 등의 조건을 채용하는 것이 바람직하다.
기록 재료층(21)의 두께는 에칭에 이용하는 에칭 가스의 종류나, 후술하는 피트(16)의 깊이에 대응시키는 것이 좋다.
이 두께는 예를 들면 1~10000㎚의 범위에서 적절히 설정할 수 있고, 두께의 하한은 바람직하게는 10㎚ 이상이며, 보다 바람직하게는 30㎚ 이상이다. 그 이유는 두께가 지나치게 얇으면 에칭 마스크로서의 효과를 얻기 어려워지기 때문이다. 또한, 두께의 상한은 바람직하게는 1000㎚ 이하이고, 보다 바람직하게는 500㎚ 이하이다. 그 이유는 두께가 지나치게 두꺼우면 큰 레이저 파워가 필요해짐과 아울러 깊은 구멍을 형성하는 것이 어려워지기 때문이고, 또한 가공 속도가 저하되기 때문이다.
또한, 기록 재료층(21)의 두께(t)와 구멍부(15)의 직경(d)은 이하의 관계인 것이 바람직하다. 즉, 기록 재료층(21)의 두께(t)의 상한값은 t＜10d를 만족시키는 값으로 하는 것이 바람직하고, t＜5d를 만족시키는 값으로 하는 것이 보다 바람직하며, t＜3d를 만족시키는 값으로 하는 것이 더욱 바람직하다. 또한, 기록 재료층(21)의 두께(t)의 하한값은 t＞d/100를 만족시키는 값으로 하는 것이 바람직하고, t＞d/10를 만족시키는 값으로 하는 것이 보다 바람직하며, t＞d/5를 만족시키는 값으로 하는 것이 더욱 바람직하다. 또한, 이렇게 구멍부(15)의 직경(d)과의 관계로 기록 재료층(21)의 두께(t)의 상한값 및 하한값을 설정하는 이유는 상기한 이유와 마찬가지이다.
기록 재료층(21)을 형성할 때에는 기록 재료가 되는 물질을 적당한 용제에 용해 또는 분산시켜 도포액을 조제한 후, 이 도포액을 스핀코트, 딥코트, 익스트루젼코트 등의 도포법에 의해 기판(11)의 표면(18)에 도포함으로써 형성할 수 있다.
배리어층(22)은 기록 재료층(21)을 충격 등으로부터 손상되는 것을 막기 위해 형성되고, 임의적으로 형성된다. 배리어층(22)은 특별히 한정되지 않지만, SiO2, ZnS, GaO 등의 산화물, 황화물 등의 진공 성막할 수 있는 재료가 바람직하다. 또한, 유기물을 스핀코트 등으로 도포하여 이용할 수도 있다.
배리어층(22)의 두께는 0.1~200㎚의 범위이고, 바람직하게는 1~100㎚의 범위, 보다 바람직하게는 3~30㎚의 범위이다.
구멍부(15)는 기록 재료층(21) 및 배리어층(22)에 집광한 광을 조사함으로써 상기 조사 부분을 변형(소실에 의한 변형을 포함함)시켜 형성된 것이다. 구체적으로, 이 구멍부(15)는 기판(11)에 정보로서 형성되는 피트(16)(도 3(c) 참조)에 대응한 위치에 형성된다.
또한, 구멍부(15)가 형성되는 원리는 이하와 같이 되어 있다.
기록 재료층(21)(기록층 화합물)에 재료의 광흡수가 있는 파장(재료에서 흡수되는 파장)의 레이저광을 조사하면 기록 재료층(21)에 의해 레이저광이 흡수되고, 이 흡수된 광이 열로 변환되어 광의 조사 부분의 온도가 상승한다. 이로 인해, 기록 재료층(21)이 연화, 액화, 기화, 승화, 분해 등의 화학 또는/및 물리 변화를 일으킨다. 그리고, 이러한 변화를 일으킨 재료가 이동 또는/및 소실됨으로써 구멍부(15)가 형성된다. 또한, 배리어층(22)은 매우 얇은 층이기 때문에 기록 재료층(21)의 이동 또는/및 소실에 따라 함께 이동 또는/및 소실된다.
또한, 구멍부(15)의 형성 방법으로서는 예를 들면 라이트원스(write-once) 광디스크나 추기형 광디스크 등으로 공지가 되어 있는 피트의 형성 방법을 적용시킬 수 있다. 구체적으로는, 예를 들면 피트 사이즈에 따라 변화되는 레이저의 반사광의 강도를 검출하고, 이 반사광의 강도가 일정해지도록 레이저의 출력을 보정함으로써 균일한 피트를 형성한다는 공지의 러닝 OPC 기술(예를 들면, 일본 특허 제3096239호 공보)을 적용시킬 수 있다.
또한, 상기한 바와 같은 기록 재료층(21)(기록층 화합물)의 기화, 승화 또는 분해는 그 변화의 비율이 크고, 급준(急峻)한 것이 바람직하다. 구체적으로는, 기록층 화합물의 기화, 승화 또는 분해시의 시차열 천칭(TG-DTA)에 의한 중량 감소율이 5% 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10% 이상, 더욱 바람직하게는 20% 이상이다. 또한, 기록층 화합물의 기화, 승화 또는 분해시의 시차열 천칭(TG-DTA)에 의한 중량 감소의 구배(온도 상승 1℃당 중량 감소율)가 0.1%/℃ 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.2%/℃ 이상, 더욱 바람직하게는 0.4%/℃ 이상이다.
또한 연화, 액화, 기화, 승화, 분해 등의 화학 또는/및 물리 변화의 전이 온도는 그 상한값이 2000℃ 이하인 것이 바람직하고, 1000℃ 이하인 것이 보다 바람직하며, 500℃ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 그 이유는 전이 온도가 지나치게 높으면 큰 레이저 파워가 필요해지기 때문이다. 또한, 전이 온도의 하한값은 50℃ 이상인 것이 바람직하고, 100℃ 이상인 것이 보다 바람직하며, 150℃ 이상인 것이 더욱 바람직하다. 그 이유는 전이 온도가 지나치게 낮으면 주위와의 온도 구배가 적기 때문에 명료한 구멍 에지 형상을 형성할 수 없어지기 때문이다.
이하에 구멍부(15)의 형상이나 배열의 일례를 나타낸다.
도 4(a)에 나타내는 바와 같이, 구멍부(15)는 도트 형상으로 형성되고, 이 도트가 정보에 따라 적절히 배열(예를 들면, 도시와 같은 격자 형상으로 배열)된 것을 채용할 수 있다. 또한, 도 4(b)에 나타내는 바와 같이, 구멍부(15)는 가늘고 긴 홈 형상으로 형성되고, 이것이 단속적으로 연결된 것이어도 된다. 이렇게 도트의 배치 또는 길이를 변경함으로써 공지의 방법에 의해 정보가 인코딩된다.
여기에서, 본 실시 형태에 의한 구멍부(15)는 기판(11)의 표면(18) 상에 얇게 기록 재료층(21)을 남긴 상태의 바닥이 있는 원통 형상으로 형성되어 있지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 구멍부가 기록 재료층(21) 및 배리어층(22)에 형성되는 관통 구멍의 내주면과 기판(11)의 기록 재료층(21)측의 표면(18)의 일부에 의해 형성되어 있어도 된다.
이어서, 광디스크(1)의 제조 방법의 상세에 대해 설명한다.
도 2(a)에 나타내는 바와 같이, 우선 종래 공지의 방법에 의해 원반 형상으로 제조된 기판(11)을 준비한다.
그리고, 도 2(b)에 나타내는 바와 같이, 기판(11)의 표면(18) 상에 기록 재료층(21)과 배리어층(22)을 이 순서대로 형성한다.
이어서, 구멍부(15)를 형성하지만, 구멍부(15)를 형성하는 장치는 종래부터 주지의 광디스크 드라이브와 동일한 구성을 이용할 수 있다. 이러한 광디스크 드라이브의 구성으로서는 예를 들면 일본 특허 공개 2003-203348호 공보에 기재되어 있다. 이러한 광디스크 드라이브를 이용하고, 이 광디스크 드라이브에 기록 재료층(21) 및 배리어층(22)이 형성된 기판(11)을 장착한다. 그리고, 기록 재료층(21)의 재질에 따라 이것을 변형시키기에 적당한 출력으로 레이저광을 기록 재료층(21)에 조사한다. 또한, 이 조사 패턴이 도 4(a)나 (b)에 예시한 도트 또는 홈의 패턴에 맞도록 레이저광원에 펄스 신호 또는 연속 신호를 입력하면 된다. 또한, 도 5(b)에 나타내는 바와 같이, 소정의 주기(T)로 발광되는 레이저광의 듀티비[발광 시간(τ)/주기(T)]는 실제로 형성하는 구멍부(15)의 듀티비[레이저광의 주사 방향에 있어서의 구멍부(15)의 길이(d)/피치(P); 도 5(a) 참조]보다 낮게 하는 것이 바람직하다. 여기에서, 도 5(a)에 원 형상으로 나타내는 레이저광은 발광 시간(τ) 사이에 있어서 소정의 속도로 이동함으로써 타원 형상의 구멍부(15)의 형성에 기여하고 있다. 또한, 레이저광의 듀티비로서는 예를 들면 구멍부(15)의 피치(P)를 100으로 했을 때의 구멍부(15)의 길이(d)가 50인 경우에는 50%보다 낮은 듀티비로 레이저광을 조사하면 된다. 또한, 이 경우 레이저광의 듀티비의 상한값은 50% 미만이 바람직하고, 40% 미만이 보다 바람직하며, 35% 미만이 더욱 바람직하다. 또한, 하한값은 1% 이상이 바람직하고, 5% 이상이 보다 바람직하며, 10% 이상이 더욱 바람직하다. 이상과 같이, 듀티비를 설정함으로써 규정의 피치 구멍부(15)를 정확하게 형성할 수 있다.
또한, 광디스크 드라이브와 마찬가지의 포커싱 기술, 예를 들면 비점수차법 등을 이용함으로써 기판(11)에 기복이나 휘어짐이 있다고 해도 기판(11)의 표면(18)에 용이하게 집광하는 것이 가능하다.
여기에서, 최소 가공 형상을 얻기 위해 미소 시간의 레이저광의 조사에 의해 형성되는 오목 형상의 직경(최소 피트 길이)의 상한값은 10㎛ 이하가 바람직하고, 5㎛ 이하가 보다 바람직하며, 2㎛ 이하가 더욱 바람직하다. 또한, 최소 피트 길이의 하한값은 10㎚ 이상이 바람직하고, 50㎚ 이상이 보다 바람직하며, 100㎚ 이상이 더욱 바람직하다. 즉, 최소 피트 길이가 상기한 범위 내가 되도록 레이저광의 스폿 지름을 작게 좁히는 것이 바람직하다. 상기한 바와 같은 범위 내로 최소 피트 길이를 설정함으로써 고밀도 기록용의 마스크를 형성할 수 있다.
또한, 구멍부(15)가 최소 가공 형상(이하, 「레이저 스폿」이라고 함)보다 큰 경우에는 레이저 스폿을 연결시킴으로써 구멍부(15)를 형성하면 된다. 여기에서, 히트 모드형의 기록 재료층(21)에 레이저광을 조사하면 조사된 부분 중 온도가 전이 온도가 된 부분만이 변화된다. 즉, 레이저광은 중심 부근에서 광 강도가 가장 강하고, 외측을 향함에 따라 서서히 약해지고 있기 때문에 레이저광의 스폿 지름보다 작은 지름의 미세한 구멍(레이저 스폿)을 기록 재료층(21)에 형성하는 것이 가능하게 되어 있다. 그리고, 이러한 미세한 구멍을 연속시켜 구멍부(15)를 형성할 경우에는 구멍부(15)의 형상 정밀도를 높일 수 있다. 또한, 포톤 모드형의 재료이면 레이저광이 조사된 부분 전체에서 반응이 일어나기 때문에 1회의 레이저광에 의해 형성되는 구멍(레이저 스폿)이 크고, 그 형상 정밀도는 히트 모드형의 재료에 비해 나빠진다. 따라서, 본 발명과 같이 히트 모드형의 재료를 사용하는 것이 바람직하다.
이렇게 하여, 도 2(c)에 나타내는 바와 같이, 기판(11)의 표면(18)측으로부터 디스크 드라이브의 광학계(30)에 의해 레이저광을 집광하여 조사한다. 광기록 디스크에 정보를 기록하는 경우와 마찬가지로 기판(11)을 회전시키면서 광학계(30)를 반경 방향으로 이동시킴으로써 기판(11)의 표면(18) 전체에 구멍부(15)를 형성할 수 있다.
구멍부(15)를 제조할 때의 가공 조건은 이하와 같다.
광학계(30)의 개구수(NA)는 하한이 0.4 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5 이상, 더욱 바람직하게는 0.6 이상이다. 또한, 개구수(NA)의 상한은 2 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1 이하, 더욱 바람직하게는 0.9 이하이다. 개구수(NA)가 지나치게 작으면 세밀한 가공을 할 수 없고, 지나치게 크면 기록시의 각도에 대한 마진이 줄기 때문이다.
광학계(30)의 파장은 예를 들면 405±30㎚, 532±30㎚, 650±30㎚, 780±30㎚이다. 이것들은 큰 출력을 얻기 쉬운 파장이기 때문이다. 또한, 파장은 짧을수록 세밀한 가공을 할 수 있으므로 바람직하다.
광학계(30)의 출력은 하한이 0.1mW 이상이고, 바람직하게는 1mW 이상, 보다 바람직하게는 5mW 이상, 더욱 바람직하게는 20mW 이상이다. 광학계(30)의 출력의 상한은 1000mW 이하이고, 바람직하게는 500mW 이하, 보다 바람직하게는 200mW 이하이다. 출력이 지나치게 낮으면 가공에 시간이 걸리고, 지나치게 높으면 광학계(30)를 구성하는 부재의 내구성이 낮아지기 때문이다.
광학계(30)를 기록 재료층(21)에 대해 상대적으로 이동시키는 선속(線速)은 하한이 0.1m/s 이상이고, 바람직하게는 1m/s 이상, 보다 바람직하게는 5m/s 이상, 더욱 바람직하게는 20m/s 이상이다. 선속의 상한은 500m/s 이하이고, 바람직하게는 200m/s 이하, 보다 바람직하게는 100m/s 이하, 더욱 바람직하게는 50m/s 이하이다. 선속이 지나치게 높으면 가공 정밀도를 높게 하는 것이 어렵고, 지나치게 늦으면 가공에 시간이 걸리고, 양호한 형상으로 가공할 수 없기 때문이다.
광학계(30)를 포함하는 구체적인 광학 가공기의 일례로서는 예를 들면 펄스텍 코교 가부시키가이샤제 NE0500을 이용할 수 있다.
이상과 같이, 종래 공지의 광디스크 드라이브를 이용함으로써, 도 3(a)에 나타내는 바와 같이, 기록 재료층(21) 및 배리어층(22)의 전체 면에 정보에 따른 구멍부(15)가 적절히 형성된다. 그 후에는 구멍부(15)가 형성된 기록 재료층(21) 및 배리어층(22)을 마스크로 하여 에칭을 행함으로써, 도 3(b)에 나타내는 바와 같이, 기판(11)의 표면(18)에 구멍부(15)에 대응한 피트(16)를 형성한다. 그리고, 도 3(c)에 나타내는 바와 같이, 소정의 박리액 등에 의해 기록 재료층(21) 및 배리어층(22)을 제거함으로써 요철 형상으로 형성된 기판(11)의 표면(18)이 노출되게 된다.
여기에서, 에칭으로서는 웨트 에칭이나 드라이 에칭 등 다양한 에칭 방법을 채용할 수 있지만, 드라이 에칭을 채용하는 것이 바람직하고, 특히 에칭 가스의 직진성(이방성)이 높고 세밀한 패터닝이 가능한 RIE(Reactive Ion Etching)를 채용하는 것이 바람직하다. 또한, 기록 재료층(21) 및 배리어층(22)의 제거 방법으로서는 건식 방법이나 습식 방법 등 다양한 방법을 채용할 수 있다.
또한, 에칭 방법이나 제거 방법의 구체예로서는 예를 들면 기판(11)의 재료가 유리이고, 기록 재료층(21)의 재료가 색소이며, 배리어층(22)의 재료가 무기 재료층인 경우에는 에칭 가스로서 SF6을 이용한 RIE를 채용함과 아울러 박리액으로서 에탄올을 이용한 습식의 제거 방법을 채용할 수 있다.
그리고, 상술한 바와 같이 기판(11)에 피트(16)를 형성한 후에는 종래 공지 의 방법에 의해 기판(11)의 표면(18)측에 보호층(12)(도 1(b) 참조)을 형성함으로써 광디스크(1)가 제조된다.
이상에 의하면, 본 실시예에 있어서 이하와 같은 효과를 얻을 수 있다.
기록 재료층(21) 및 배리어층(22)에 광을 조사한 것을 마스크로 하여 기판(11)을 에칭하는 것만으로 용이하게 무기물로 이루어지는 기판(11)에 직접 요철을 형성할 수 있다. 또한, 통상의 포토레지스트를 이용한 에칭을 광디스크(1)의 제조 방법에 적용시켰을 경우 (1) 마스크에 대해 정보에 대응하는 복수의 구멍을 형성하는 공정, (2) 기판에 포토레지스트를 형성하는 공정, (3) 포토레지스트에 마스크를 세팅하는 공정, (4) 마스크를 이용하여 포토레지스트를 노광하는 공정, (5) 포토레지스트의 노광 부분을 제거하는 공정, (6) 에칭 공정, (7) 포토레지스트의 나머지를 제거하는 공정이 필요해진다. 이에 대해, 본 발명에 의한 제조 방법에서는 기판(11) 상의 기록 재료층(21) 및 배리어층(22)에 광을 조사하는 것만으로 마스크의 형성 및 세팅을 동시에 행할 수 있으므로 포토레지스트에서 필요했던 (1)과 (3)의 공정을 하나의 공정으로 생략할 수 있다. 또한, 본 발명에 의한 제조 방법에서는 기록 재료층(21) 및 배리어층(22)에 광을 조사하는 것만으로 복수의 구멍(구멍부)을 형성할 수 있으므로 포토레지스트에서 필요했던 (5)의 공정이 불필요해진다. 이상으로부터, 본 발명에 의한 제조 방법은 종래의 에칭 방법에 비해 무기물로 이루어지는 기판에 매우 간단하게 미세한 요철을 형성할 수 있다.
또한, 상기한 포토레지스트를 이용한 에칭 방법에서는 기판이 휘어져 있으면 마스크를 밀착시킬 수 없다는 문제가 있다. 이에 대해, 본 발명에 의한 제조 방법에서는 기판(11) 상에 형성한 기록 재료층(21) 등에 포커싱 기술 등에 의해 복수의 구멍부(15)를 형성함으로써 기판(11)의 표면(18) 상에 밀착되어 마스크가 정확하게 세팅되게 되므로 기판이 휘어짐으로써 마스크를 밀착시킬 수 없다는 문제는 발생하지 않고, 간단하게 요철 형상을 형성할 수 있다.
또한, 상기한 포토레지스트를 이용한 에칭 방법에서는 마스크에 미세한 구멍을 복수 형성하는 것이 매우 번잡하지만, 본 발명에 의한 제조 방법에서는 종래 공지의 포커싱 기술 등에 의해 마스크로서의 기록 재료층(21) 등에 복수의 미세한 구멍을 간단히 빠르게 형성할 수 있다.
또한, 기록 재료층(21)의 형성은 도포 등에 의해 대량으로 일제히 행할 수 있으므로, 빠르고 저렴하게 광디스크(1)의 제조를 행할 수 있다.
또한, 본 발명은 상기 실시 형태에 한정되는 일 없이 이하에 예시하는 바와 같이 다양한 형태로 이용할 수 있다.
상기 실시 형태에서는 광디스크(1)를 기판(11)과 보호층(12)으로 구성했지만, 본 발명은 이에 한정되지 않고 적절히 층 구성을 변경해도 된다. 단, 범용성의 관점으로부터 일반적인 광디스크 드라이브에서 판독 가능해지는 층 구성으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 광디스크를 구성하는 각 층의 재질은 무기물인 편이 장수명화를 도모할 수 있기 때문에 바람직하다. 단, 유기물이어도 기록한 피트 형상(피트(16))을 침식하지 않는 재질이면 장수명화를 실현시킬 수 있다. 또한, 피트 형상을 침식하는 유기물이어도 피트(16)가 형성되는 표면(18)에 인접하지 않는 층에 적용되는 것이면 장수명화를 실현시킬 수 있다. 즉, 기판(11)의 피트 형상(피트(16))이 붕괴되지 않으면 광학 현미경, 전자 현미경, AFM(Atomic Force Microscope:원자간력 현미경) 등의 미세 형상 검출 수단에 의해 정보를 재생하는 것이 가능하기 때문에 피트 형상이 붕괴되지 않는 층 구성으로 하면 장수명화를 실현시킬 수 있다.
상기한 층 구성으로서는 기판 상에 반사층 및 보호층을 형성한 CD(Compact Disc) 타입이나, 기판 상에 반사층, 접착층 및 커버층을 형성한 DVD(Digital Versatile Disc) 타입, 기판 상에 반사층, 커버층을 형성한 BD(Blu-ray Disc;등록상표) 타입 등을 채용해도 된다. 여기에서, 반사층으로서는 정보 기록 매체의 장수명화의 관점으로부터 금, 은, 백금 등의 귀금속을 채용하는 것이 바람직하다. 또한, 접착층으로서는 예를 들면 다이닛폰 잉크 카가쿠 코교 가부시키가이샤로부터 판매되고 있는 SD-347과 같은 자외선 경화형 접착제를 채용하는 것이 바람직하다. 또한, 보호층 및 커버층은 상기 실시 형태에 의한 보호층(12)과 마찬가지의 재료를 채용하는 것이 바람직하다.
상기 실시 형태에서는 보호층(12)을 형성했지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않고 보호층을 형성하지 않아도 된다.
상기 실시 형태에서는 에칭 후에 남는 기록 재료층(21) 및 배리어층(22)을 제거하는 공정을 추가하고 있지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않고 에칭 공정에 있어서 피트(16)가 형성됨과 아울러 기록 재료층(21) 및 배리어층(22)이 깎여 소멸되어버리는 경우에는 제거하는 공정은 형성하지 않아도 된다. 또한, 경우에 따라서는 에칭 후에 남는 기록 재료층(21) 및 배리어층(22)을 그대로 남겨두어도 된다.
상기 실시 형태에서는 정보의 기록 방식(기록 재료층(21)으로의 구멍부 형성 공정에 있어서 적용되는 기록 방식)을 특정하고 있지 않지만, 디지털 기록, 아날로그 기록 중 어느 것이든 된다. 단, 고밀도 기록을 실현 가능한 디지털 기록을 채용하는 것이 바람직하다. 특히, 범용성의 관점 및 현시점에서 입수 가능한 기록 장치를 그대로 이용할 수 있다는 점으로부터 CD, DVD, BD, HD DVD(High-Definition Digital Versatile Disc) 등으로 널리 보급되고 있는 기록 방식을 채용하는 것이 바람직하다.
상기 실시 형태에 있어서는 구멍부(15)를 형성하는데 레이저광을 이용했지만, 필요한 크기로 집광할 수 있으면 레이저광과 같은 단색광이 아니어도 상관없다.
상기 실시 형태에서는 기록 재료층(21) 상에 배리어층(22)을 형성했지만, 본 발명은 이에 한정되지 않고 배리어층(22)은 없어도 된다. 오히려, 본 실시 형태와 같이 기록 재료층(21)을 에칭 마스크로서 이용하는 경우에는 배리어층(22)은 없는 편이 바람직하다.
상기 실시 형태에서는 기록 재료층(21) 등이 형성되는 기판(11)의 표면(18)측으로부터 레이저광을 조사했지만, 본 발명은 이에 한정되지 않고 기판이 레이저광을 투과하는 재질로 이루어지는 경우에는, 도 6에 나타내는 바와 같이, 기판(11)의 이면측(기록 재료층(21) 등과는 반대측)으로부터 레이저광을 조사해도 된다.
상기 실시 형태에서는 피트(16)를 형성하는 기판(11)의 표면(18) 상에 직접 기록 재료층(21) 등을 에칭 마스크로서 형성했지만, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 기판(11)을 에칭하기 위한 에칭 가스에 의해 기록 재료층(21) 등이 용이하게 깎아질 경우에는, 도 7(a)에 나타내는 바와 같이, 기록 재료층(21) 등에 영향을 거의 주지 않는 에칭 가스에 의해 에칭 가능한 마스크층(17)을 기판(11)의 표면(18)과 기록 재료층(21) 사이에 형성해도 된다(제 2 실시 형태).
제 2 실시 형태에 의하면, 우선 상기 제 1 실시 형태와 마찬가지로, 레이저광에 의해 기록 재료층(21) 및 배리어층(22)에 구멍부(15)를 형성한다(도 7(a) 참조). 이어서, 도 7(b)에 나타내는 바와 같이, 제 1 에칭 가스에 의해 마스크층(17)을 에칭함으로써 마스크층(17)에 구멍부(15)에 대응한 관통 구멍(17a)를 형성한다. 여기에서, 제 1 에칭 가스로서 기록 재료층(21) 및 배리어층(22)을 깎지 않는 종류의 가스가 선택되어 있으므로 기록 재료층(21) 및 배리어층(22)이 마스크가 되어 마스크층(17)이 에칭된다.
그 후, 도 7(c)에 나타내는 바와 같이, 제 2 에칭 가스에 의해 기판(11)을 에칭함으로써 기판(11)의 표면(18)에 구멍부(15)에 대응한 피트(16)가 형성된다. 이때, 제 2 에칭 가스에 의해 기록 재료층(21) 및 배리어층(22)은 에칭되어 바로 소멸되지만, 마스크층(17)이 마스크가 되어 기판(11)이 양호하게 에칭된다. 그리고, 그 후에는 도 7(d)에 나타내는 바와 같이, 소정의 박리액 등에 의해 마스크층(17)을 제거함으로써 요철 형상으로 형성된 기판(11)의 표면(18)이 노출되게 된다.
여기에서, 도 7에 나타내는 실시 형태의 구체예로서는 예를 들면 기판(11)의 재료가 사파이어이고, 기록 재료층(21)의 재료가 색소이며, 배리어층(22)의 재료가 무기층인 경우에는 마스크층(17)으로서 도쿄 오우카 코교 가부시키가이샤제의 Si 함유 Bi-Layer 포토레지스트를 채용하고, 제 1 에칭 가스로서 SF6을 채용하며, 제 2 에칭 가스로서 Cl2를 채용하면 된다.
(실시예)
이어서, 본 발명의 효과를 확인한 일실시예에 대해 설명한다.
실시예로서는 상술한 실시 형태와 마찬가지의 기판을 작성했다. 기판은 디스크 형상으로 형성하고, 그 위에 약 100㎚두께의 색소층(기록 재료층) 및 배리어층을 에칭 마스크로서 형성하고, RIE를 행했다.
상세한 것은 이하와 같다.
·기판
재질 실리콘
두께 0.5㎜
외경 101.6㎜(4인치)
내경 15㎜
·색소층(기록 재료층)
하기 화학식의 색소 재료 2g을 TFP(테트라플루오로프로판올) 용제 100㎖에 용해하고, 스핀코트했다. 스핀코트시에는 도포 개시 회전수 500rpm, 도포 종료 회전수 1000rpm으로 하여 도포액을 기판의 내주부에 디스펜스하고, 서서히 2200rpm까지 회전을 높였다. 또한, 색소 재료의 굴절율(n)은 1.986이고, 소쇠 계수(k)는 0.0418이다.
Figure pct00007
·배리어층
DC 마그네트론 스퍼터에 의해 ZnO-Ga2O3(ZnO 95중량%, Ga2O3 5중량%)의 박막을 형성했다.
두께 약 5㎚
출력 1kW
막 형성 시간 2초
분위기 Ar(유량 50sccm)
상기 기판에 대해 배리어층측의 면으로부터 펄스텍 코교 가부시키가이샤제 NE0500(파장 405㎚, NA 0.85)으로 미세한 구멍부를 기록했다. 구멍부는 도 2(a)와 같은 배치로 형성하고, 배열의 피치는 0.5㎛로 했다.
구멍부의 형성 조건은 하기와 같다.
레이저 출력 2mW
선속 5m/s
기록 신호 5㎒의 구형파(square wave)
그리고, 구멍부가 형성된 기록 재료층 등을 마스크로 하여 RIE를 행함으로써 기판의 표면에 피트를 형성했다. RIE의 조건은 이하와 같다.
에칭 가스 SF6+CHF3(1:1)
피트의 깊이 50㎚
기록 재료층 등을 박리하는 박리액 에탄올
이상으로부터, 광디스크의 기판에 정보로서의 미세한 피트가 양호하게 형성된 것이 확인되었다.

Claims (13)

  1. 피트 패턴으로 정보가 기록된 매체를 제조하는 방법으로서:
    무기물로 이루어지는 기판 상에 히트 모드의 형상 변화가 가능한 기록 재료층을 형성하는 공정;
    상기 기록 재료층에 집광한 광을 조사함으로써 복수의 구멍부를 형성하는 공정; 및
    상기 복수의 구멍부가 형성된 기록 재료층을 마스크로 하여 에칭을 행함으로써 상기 기판에 상기 복수의 구멍부에 대응한 복수의 피트를 형성하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 기록 재료층은 유기 색소를 함유하는 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 기록 재료층을 형성하는 공정은
    상기 기판 상에 마스크층을 형성하는 공정과,
    그 마스크층 상에 상기 기록 재료층을 형성하는 공정을 갖고;
    상기 복수의 피트를 형성하는 공정은
    상기 복수의 구멍부가 형성된 상기 기록 재료층을 마스크로 하여 상기 마스크층을 에칭함으로써 상기 마스크층에 상기 복수의 구멍부에 대응한 복수의 관통 구멍을 형성하는 공정과,
    상기 복수의 관통 구멍이 형성된 상기 마스크층을 마스크로 하여 상기 기판을 에칭함으로써 상기 복수의 관통 구멍에 대응한 복수의 피트를 형성하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 복수의 피트가 형성된 상기 기판으로부터 상기 기록 재료층을 제거하는 공정을 더 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제 3 항에 있어서,
    상기 복수의 피트가 형성된 상기 기판으로부터 상기 마스크층을 제거하는 공정을 더 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 피트가 형성된 상기 기판 상에 보호층을 형성하는 공정을 더 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판 상에 반사층을 형성하는 공정을 더 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 반사층 상에 보호층을 형성하는 공정을 더 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
  9. 제 8 항에 기재된 방법에 의해 제조된 광학적으로 판독 가능하게 정보가 기록된 것을 특징으로 하는 매체.
  10. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 피트를 형성하는 공정은 드라이에칭 프로세스에 의해 상기 기판을 에칭하는 것을 특징으로 하는 방법.
  11. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 피트를 형성하는 공정은 이방성 에칭 프로세스에 의해 상기 기판을 에칭하는 것을 특징으로 하는 방법.
  12. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 피트를 형성하는 공정은 리액티브 이온 에칭에 의해 상기 기판을 에칭하는 것을 특징으로 하는 방법.
  13. 제 6 항에 기재된 방법에 의해 제조된 것을 특징으로 하는 정보 기록 매체.
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010272466A (ja) * 2009-05-25 2010-12-02 Fujifilm Corp 透明導電体及びその製造方法
JP5658920B2 (ja) * 2009-06-23 2015-01-28 富士フイルム株式会社 化学増幅型レジスト組成物、並びに、これを用いたモールドの作成方法、及び、レジスト膜
US20130256286A1 (en) * 2009-12-07 2013-10-03 Ipg Microsystems Llc Laser processing using an astigmatic elongated beam spot and using ultrashort pulses and/or longer wavelengths
WO2014192522A1 (ja) * 2013-05-27 2014-12-04 富士フイルム株式会社 記録材料および光情報記録媒体
CN113087716A (zh) * 2021-03-16 2021-07-09 Tcl华星光电技术有限公司 酞菁-卟啉稠合化合物、光刻胶组合物与显示面板

Family Cites Families (52)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE350399C (de) 1919-09-19 1922-03-20 Qu Bernd Ziemert Projektionsschirm
JPS58175693A (ja) 1982-04-08 1983-10-14 Ricoh Co Ltd 高密度光情報記録媒体
JPS5955795A (ja) 1982-09-27 1984-03-30 Tdk Corp 光記録媒体
JPS5981194A (ja) 1982-11-01 1984-05-10 Tdk Corp 光記録媒体
JPS6018387A (ja) 1983-07-11 1985-01-30 Tdk Corp 光記録媒体
JPS6019587A (ja) 1983-07-13 1985-01-31 Tdk Corp 光記録媒体
JPS6019586A (ja) 1983-07-13 1985-01-31 Tdk Corp 光記録媒体
JPS6035054A (ja) 1983-08-05 1985-02-22 Tdk Corp 光記録媒体
JPS6036190A (ja) 1983-08-09 1985-02-25 Tdk Corp 光記録媒体
JPS6036191A (ja) 1983-08-09 1985-02-25 Tdk Corp 光記録媒体
JPS6044554A (ja) 1983-08-20 1985-03-09 Tdk Corp 光記録媒体
JPS6044555A (ja) 1983-08-20 1985-03-09 Tdk Corp 光記録媒体
JPS6044390A (ja) 1983-08-23 1985-03-09 Tdk Corp 光記録媒体
JPS6044389A (ja) 1983-08-23 1985-03-09 Tdk Corp 光記録媒体
JPS6047069A (ja) 1983-08-24 1985-03-14 Tdk Corp 光記録媒体
JPS6054892A (ja) 1983-09-05 1985-03-29 Tdk Corp 光記録媒体
JPH0626028B2 (ja) 1984-02-06 1994-04-06 株式会社リコー 光情報記録媒体
JPS63209995A (ja) 1987-02-27 1988-08-31 Fuji Photo Film Co Ltd 光学的情報記録媒体
JPH01307938A (ja) * 1988-06-07 1989-12-12 Toppan Printing Co Ltd 校正用光ディスクの製造方法及び校正用光ディスク
JPH0762916B2 (ja) 1989-07-06 1995-07-05 日本電気株式会社 読み出し専用光ディスク
FR2654864B1 (fr) * 1989-11-21 1995-08-04 Digipress Sa Procede pour la fabrication d'un disque a lecture optique et disques obtenus par ce procede.
JP3009909B2 (ja) 1990-05-21 2000-02-14 ティーディーケイ株式会社 光記録媒体
JPH0474690A (ja) 1990-07-17 1992-03-10 Ricoh Co Ltd 光情報記録媒体
JP2982328B2 (ja) * 1991-01-23 1999-11-22 ソニー株式会社 高密度光ディスクの作製方法
JPH07146551A (ja) * 1991-10-31 1995-06-06 Sony Corp フォトレジスト組成物及びフォトレジストの露光方法
JPH05198022A (ja) * 1992-01-22 1993-08-06 Brother Ind Ltd 光記録媒体
JP3451752B2 (ja) 1994-10-31 2003-09-29 ソニー株式会社 光記録媒体
JP3096239B2 (ja) 1996-04-01 2000-10-10 太陽誘電株式会社 光ディスクのランニングｏｐｃ方法及び光ディスク記録再生装置
JPH09274744A (ja) * 1996-04-02 1997-10-21 Nippon Columbia Co Ltd 金属原盤製造方法
JPH1097738A (ja) * 1996-09-20 1998-04-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光情報記録媒体の製造方法および製造装置
JPH10154351A (ja) * 1996-09-27 1998-06-09 Sony Corp 光学記録媒体とその製造方法
JPH1153758A (ja) 1997-07-30 1999-02-26 Mitsubishi Chem Corp 記録再生方法
US6022604A (en) * 1998-01-16 2000-02-08 Odme Optical disk mastering system
JPH11250509A (ja) * 1998-03-03 1999-09-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光ディスク原盤の製造方法およびその装置
JP3485492B2 (ja) * 1998-04-03 2004-01-13 松下電器産業株式会社 光ディスク原盤作製方法とその装置
JP3633279B2 (ja) 1998-05-27 2005-03-30 三菱化学株式会社 光学記録媒体
JPH11334204A (ja) 1998-05-27 1999-12-07 Mitsubishi Chemical Corp 光学記録媒体
JP3646563B2 (ja) 1998-05-27 2005-05-11 三菱化学株式会社 光学記録媒体
JPH11334206A (ja) 1998-05-27 1999-12-07 Mitsubishi Chemical Corp 光学記録媒体
JP3438587B2 (ja) 1998-05-27 2003-08-18 三菱化学株式会社 光学記録媒体
JP2000108513A (ja) 1998-10-05 2000-04-18 Mitsui Chemicals Inc 光記録媒体
JP2000158818A (ja) 1998-12-01 2000-06-13 Mitsui Chemicals Inc 光記録媒体
JP4329208B2 (ja) * 2000-03-02 2009-09-09 ソニー株式会社 記録媒体の製造方法、記録媒体製造用原盤の製造方法、記録媒体の製造装置、および記録媒体製造用原盤の製造装置
JP2003022583A (ja) * 2001-07-05 2003-01-24 Ricoh Co Ltd 光ディスク原盤の製造方法及び光ディスク原盤
JP4245290B2 (ja) * 2001-11-16 2009-03-25 独立行政法人産業技術総合研究所 微細パターン描画材料及びそれを用いた微細加工方法
JP2004110936A (ja) * 2002-09-18 2004-04-08 Columbia Music Entertainment Inc 光ディスクスタンパの製造方法
JP4364546B2 (ja) * 2003-04-16 2009-11-18 シャープ株式会社 レジストパターン形成方法およびレジストパターン形成装置
JP2005011489A (ja) * 2003-05-28 2005-01-13 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光情報記録媒体の原盤製造方法
EP1482494A3 (en) * 2003-05-28 2007-08-29 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method for producing master for optical information recording media
JP2006260634A (ja) * 2005-03-15 2006-09-28 Ricoh Co Ltd 光情報記録媒体及び光学情報処理装置
JP2007122775A (ja) * 2005-10-25 2007-05-17 Sony Corp 記録媒体基板作製用原盤の製造方法、記録媒体基板作製用スタンパの製造方法および記録媒体基板の製造方法
JP2007164950A (ja) * 2005-12-16 2007-06-28 Ricoh Co Ltd 光情報記録媒体およびそれを用いた光情報記録再生装置

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