PL207872B1 - Drukowalne homogeniczne, nie-ziarniste medium trawiące do trawienia powierzchni szkieł, jego zastosowania oraz sposób trawienia nieorganicznych, szkło-podobnych powierzchni krystalicznych - Google Patents
Drukowalne homogeniczne, nie-ziarniste medium trawiące do trawienia powierzchni szkieł, jego zastosowania oraz sposób trawienia nieorganicznych, szkło-podobnych powierzchni krystalicznychInfo
- Publication number
- PL207872B1 PL207872B1 PL358687A PL35868701A PL207872B1 PL 207872 B1 PL207872 B1 PL 207872B1 PL 358687 A PL358687 A PL 358687A PL 35868701 A PL35868701 A PL 35868701A PL 207872 B1 PL207872 B1 PL 207872B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- etching
- etching medium
- weight
- silicon oxide
- acid
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K13/00—Etching, surface-brightening or pickling compositions
- C09K13/04—Etching, surface-brightening or pickling compositions containing an inorganic acid
- C09K13/08—Etching, surface-brightening or pickling compositions containing an inorganic acid containing a fluorine compound
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Weting (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
Description
Opis wynalazku
Przedmiotem wynalazku jest nowe, drukowalne, homogeniczne, nie ziarniste medium trawiące skuteczne w temperaturach od 15 do 50°C i/lub, jeżeli stosowne, aktywowane przez dostarczenie energii, do trawienia powierzchni nieorganicznych szkieł opartych na tlenku krzemu (mających formę układów opartych na tlenku krzemu) i szkieł opartych na azotku krzemu (mających formę układów opartych na azotku krzemu), zawierające:
a) co najmniej jeden składnik trawiący odpowiedni do trawienia powierzchni szkieł opartych na tlenku krzemu oraz szkieł opartych na azotku krzemu, taki jak fluorki, bifluorki i tetrafluoroborany, przy czym składnik(i) trawiący(e) jest(są) obecny(e) w stężeniu od 2 do 20% wagowych całkowitej masy medium trawiącego oraz
b) rozpuszczalnik w stężeniu od 10 do 90% wagowych całkowitej masy medium trawiącego.
Przedmiotem wynalazku są również zastosowania takich mediów trawiących oraz sposób trawienia nieorganicznych, szkło-podobnych powierzchni krystalicznych z ich wykorzystaniem.
Termin „powierzchnie nieorganiczne” oznacza tlenkowe i azotkowe związki krzemu, szczególnie powierzchnie oparte na tlenku krzemu i azotku krzemu.
Definicja szkła
Termin „szkło” oznacza per se jednorodny materiał na przykład szkło kwarcowe, szkło okienne lub borokrzemianowe, również cienkie warstwy z tych materiałów produkowane na innych podłożach (na przykład ceramice, arkuszach metalu lub płytkach krzemowych) różnorodnymi metodami znanymi w tej dziedzinie (CVD, PVD, spin-on, utlenianie termiczne, inter alia).
Termin „szkła” oznacza materiały zawierające tlenek i azotek krzemu, które występują w amorficznym stanie stałym bez wykrystalizowanych składników szkła i posiadają wysoki stopień nieuporządkowania w mikrostrukturze, który wynika z braku uporządkowania dalekiego zasięgu.
Poza czystym szkłem SiO2 (szkło kwarcowe) definicja obejmuje wszystkie szkła (na przykład szkła domieszkowane, takie jak szkła borokrzemianowe, fosfokrzemianowe i borofosfokrzemianowe, kolorowe, mleczne i krystaliczne, szkła optyczne), które zawierają SiO2 oraz inne składniki, szczególnie takie jak na przykład wapń, sód, glin, ołów, lit, magnez, bar, potas, bor, beryl, fosfor, gal, arsen, antymon, lantan, cynk, tor, miedź, chrom, mangan, żelazo, kobalt, nikiel, molibden, wanad, tytan, złoto, platyna, pallad, srebro, cer, cez, niob, tantal, cyrkon, neodym i prazeodym, które występują w szkł ach lub istnieją jako skł adniki domieszkowe w formie tlenków, wę glanów, azotanów, fosforanów, siarczanów i/lub halogenków. Szkła domieszkowane to na przykład szkła borokrzemianowe, fosfokrzemianowe i borofosfokrzemianowe, szkła kolorowe, mleczne i krystaliczne oraz szkła optyczne.
Azotek krzemu może podobnie zawierać różne składniki jak bor, glin, gal, ind, fosfor, arsen lub antymon.
Definicja układów opartych na tlenku krzemu i azotku krzemu
Termin „układy oparte na tlenku krzemu” oznacza wszystkie układy krystaliczne, które nie są objęte definicją podaną wyżej dla szkieł amorficznych SiO2 i są oparte na dwutlenku krzemu; mogą to być, szczególnie sole i estry kwasu ortokrzemowego i produkty jego kondensacji - ogólnie termin odnosi się do krzemianów i kwarcu oraz szkła ceramicznego.
Termin ten obejmuje również inne układy oparte na tlenku krzemu i azotku krzemu, szczególnie sole i estry kwasu ortokrzemowego i produkty jego kondensacji. Poza czystym SiO2 (kwarc, trydymit i krystobalit), definicja obejmuje wszystkie układy oparte na SiO2, które są zbudowane z SiO2 lub nieciągłych i/lub ciągłych [SiO4] tetraedrów, takich jak na przykład: nesokrzemiany, sorokrzemiany, cyklokrzemiany, inokrzemiany, filokrzemiany i tektokrzemiany oraz innych składników szczególnie elementów/składników takich jak na przykład: wapń, sód, glin, lit, magnez, bar, potas, beryl, skand, mangan, żelazo, tytan, cyrkon, cynk, cer, itr, tlen, grupy hydroksylowe i halogenki.
Termin „układy oparte na azotku krzemu” oznacza wszystkie układy krystaliczne i częściowo krystaliczne (zazwyczaj dotyczy struktur mikrokrystalicznych), które nie są objęte definicją podaną wyżej dla szkieł/warstw amorficznych azotku krzemu. Układy te obejmują Si3N4 w modyfikacji a-Si3N4 i e-Si3N4 i wszystkie krystaliczne i częściowo krystaliczne warstwy SiNx i SiNx:H. Krystaliczny azotek krzemu może być domieszkowany innymi składnikami takimi jak: bor, glin, gal, ind, fosfor, arsen i antymon.
PL 207 872 B1
1. Trawienie struktur na szkle
Zastosowanie odczynników trawiących, to jest związków agresywnych chemicznie, powoduje rozpuszczanie materiału poddanego atakowi odczynnika trawiącego. Nie dotyczy to tylko pierwszej warstwy atakowanej powierzchni ale również - patrząc od strony atakowanej powierzchni - głębszych warstw, które są atakowane i usuwane.
2. Trawienie struktur w szkłach opartych na tlenku krzemu i azotku krzemu oraz innych układach opartych na tlenku krzemu i azotku krzemu
Zgodnie z obecnym stanem wiedzy, wymagane struktury mogą być trawione selektywnie w szkłach opartych na tlenku krzemu i azotku krzemu oraz innych układach opartych na tlenku krzemu i azotku krzemu lub ich powierzchniach lub warstwach o różnej grubości, bezpoś rednio metodami trawiącymi wspieranymi laserowo lub, po maskowaniu, za pomocą mokrych metod chemicznych [1,2] lub suchych metod trawiących [3].
W metodach trawiących wspieranych laserowo, wi ązka lasera wyszukuje cał kowicie wytrawione wzorcowe punkty na szkle. Metody te wymagają oprócz dużego stopnia precyzji również znacznego wyregulowania i są bardzo czasochłonne.
Mokre - chemiczne i suche metody trawienia składają się z materiało- i czasochłonnych oraz drogich etapów
A. maskowanie obszarów, które będą trawione na przykład przez:
- fotolitografię: produkcja negatywu lub pozytywu trawionej struktury (w zależności od odporności), pokrywanie powierzchni podłoża (na przykład pokrywania wirowe odpowiednią warstwą fotoochronną), suszenie warstw fotoochronnych, ekspozycja pokrytych powierzchni podłoża, wywoływanie, płukanie, jeśli właściwe, suszenie
B. trawienie powierzchni przez:
- metody zanurzeniowe (na przykład mokre trawienie w mokrych zespołach chemicznych (wetchemical banks)): zanurzenie podłoża w kąpieli trawiącej, proces trawienia, powtarzane przemywanie kaskadowe w H2O, suszenie,
- metody wirowe lub spray: roztwór trawiący stosowany jest do wirują cego podłoż a, operacja trawienia może zachodzić bez/z nakładu energii (na przykład przez napromieniowanie IR lub UV), a następnie przez przemywanie i suszenie,
- metody trawienia na sucho, takie jak, na przykład trawienie plazmowe w kosztownej aparaturze próżniowej lub trawienie z gazami reaktywnymi w reaktorach przepływowych.
[1] D. J. Monk, D.S. Soane, R.T Howe, Thin Solid Films 232 (1993), 1,
[2] J. Buhler, F.-P. Steiner, H. Baltes, J. Micromech. Microeng. 7 (1997), R1,
[3] M. Kohler „Atzverfahren fur die Mikrotechnik” [Etching Methods for Microtechnology], Wiley VCH 1998.
3. Trawienie całej powierzchni szkieł opartych na tlenku krzemu i azotku krzemu oraz innych układów opartych na tlenku krzemu i azotku krzemu
Do trawienia szkieł opartych na tlenku krzemu i azotku krzemu i innych układów, opartych na tlenku krzemu i azotku krzemu oraz ich warstw o różnej grubości do pewnej głębokości na całym obszarze, używa się przede wszystkim mokrych metod trawiących.
Szkła oparte na tlenku krzemu i azotku krzemu i inne układy oparte na tlenku krzemu i azotku krzemu oraz ich warstwy o różnej grubości są zanurzane w łaźni trawiącej, która zazwyczaj zawiera toksyczny i bardzo korozyjny kwas fluorowodorowy lub inny kwas mineralny jako czynnik trawiący.
Opisane wady metod trawiących to czasochłonność, materiałochłonność, kosztowność etapów procesu, które są w niektórych przypadkach kompleksowe z punktu widzenia bezpieczeństwa i technologii lub są przeprowadzane partiami.
Celem wynalazku jest zatem dostarczenie medium trawiącego, które mogłoby służyć do prostych technologicznie metod trawienia o wysokim potencjale wydajności dla powierzchni nieorganicznych, szczególnie szkła i innych układów opartych na tlenku krzemu lub azotku krzemu oraz ich warstw o różnej grubości.
Ta prosta metoda trawiąca ma być znacznie mniej kosztowna od konwencjonalnych mokrych i suchych metod trawią cych w fazie ciekł ej lub gazowej.
Istotą wynalazku jest drukowalne, homogeniczne, nie-ziarniste medium trawiące, skuteczne w temperaturach od 15 do 50°C i/lub, jeż eli stosowne, aktywowane przez dostarczenie energii, do
PL 207 872 B1 trawienia powierzchni szkieł opartych na tlenku krzemu oraz szkieł opartych na azotku krzemu, zawierające:
a) co najmniej jeden składnik trawiący odpowiedni do trawienia powierzchni szkieł opartych na tlenku krzemu oraz szkieł opartych na azotku krzemu taki jak fluorki, bifluorki i tetrafluoroborany, przy czym składnik(i) trawiący(e) jest(są) obecny(e) w stężeniu od 2 do 20% wagowych całkowitej masy medium trawiącego oraz
b) rozpuszczalnik w stężeniu od 10 do 90% wagowych całkowitej masy medium trawiącego, charakteryzujące się tym, że ma postać pasty trawiącej wykazującej właściwości płynów o przepływie nie-Newtonowskim i zawiera:
c) zagęstnik w postaci polimerów na bazie jednostek funkcyjnych winylowych i/lub celulozy/pochodnych celulozy, wybranych z grupy obejmującej celulozę etylową, hydroksypropylową, hydroksyetylową i sole eteru kwasu glikolowego celulozy, a w szczególności celulozę etylowohydroksymetylokarboksysodową, w stężeniu od 0,5 do 25% wagowych całkowitej masy medium trawiącego oraz
d) opcjonalnie kwas organiczny i/lub kwas nieorganiczny w stężeniu od 0 do 80% wagowych całkowitej masy medium trawiącego i
e) opcjonalnie dodatki, takie jak środki przeciwpienne, tiksotropowe, modyfikatory przepływu, środki odpowietrzające i aktywatory adhezji, w stężeniu od 0 do 5% wagowych całkowitej masy medium trawiącego.
Korzystne jest, aby trawione szkła zawierały pierwiastki wybrane z grupy obejmującej wapń, sód, glin, ołów, lit, magnez, bar, potas, bor, beryl, fosfor, gal, arsen, antymon, lantan, skand, cynk, tor, miedź, chrom, mangan, żelazo, kobalt, nikiel, molibden, wanad, tytan, złoto, platynę, pallad, srebro, cer, cez, niob, tantal, cyrkon, itr, neodym i prazeodym.
Istotą wynalazku jest także zastosowanie medium trawiącego według wynalazku do trawienia nieorganicznych powierzchni, na przykład powierzchni szkieł opartych na tlenku krzemu i azotku krzemu i innych układów opartych na tlenku krzemu i azotku krzemu oraz ich warstw o różnej grubości.
Istotą wynalazku jest również zastosowanie takich homogenicznych, nie-ziarnistych mediów trawiących, wykazujących właściwości płynów o przepływie nie-Newtonowskim w mniej kosztownych, mniej złożonych technologicznie (w porównaniu do znanych mokrych i suchych metod trawiących w fazie ciekłej i gazowej) metodach drukowania/trawienia szkieł i innych układów opartych na dwutlenku krzemu i azotku krzemu, które są odpowiednie do osiągania wysokiej wydajności i mogą być przeprowadzane w sposób ciągły.
Produkcja, kształtowanie i obróbka wykończeniowa, taka jak na przykład szlifowanie, polerowanie, docieranie i obróbka cieplna układów opartych na SiO2 nie jest - tak jak w przypadku szkieł - istotna przy zastosowaniu nadających się do druku, homogenicznych, nie-ziarnistych, past trawiących według wynalazku, które wykazują właściwości płynów o przepływie nie-Newtonowskim.
Przedmiotem wynalazku jest zarówno trawienie powierzchni pokrytych SiO2 lub azotkiem krzemu jako jednorodnych, pełnych, nieporowatych i porowatych ciał stałych (na przykład ziaren szklanych i proszków oraz powierzchni, wydrąże ń , luster lub szkieł spiekanych), otrzymanych na przykład z roztopów szklanych, jak również trawienie nieporowatych i porowatych warstw szklanych o różnej grubości, które zostały wyprodukowane na innych podłożach (na przykład na ceramice, arkuszach metalowych lub płytkach silikonowych) różnymi metodami znanymi w tej dziedzinie (na przykład CVD, PVD, spin-on prekursorów zawierających Si, utlenianie termiczne i tym podobne).
Pasty trawiące są stosowane w pojedynczych etapach procesu do trawionego podłoża. Powierzchnia trawiona może być powierzchnią lub częścią powierzchni na homogenicznym, stałym, porowatym lub nieporowatym elemencie wykonanym ze szkła na bazie tlenku krzemu lub azotku krzemu lub z innych układów opartych na tlenku krzemu lub azotku tlenu (na przykład powierzchnia arkusza szkła z tlenku krzemu) i/lub powierzchnia lub część powierzchni porowatej lub nieporowatej warstwy szkła, lub innego układu opartego na tlenku krzemu lub azotku krzemu na materiale nośnym.
W metodzie, która jest w wysokim stopniu zautomatyzowana i wykazuje wysoką wydajność, i która jest odpowiednia do przenoszenia pasty trawiącej na powierzchnię podłoża trawionego stosuje się technologię drukowania, a w szczególności sitodruk, sitodruk jedwabny, tampodruk (pad-printing), drukowanie stemplowe i atramentowe, które są znane znawcom przedmiotu. Zastosowania ręczne są także możliwe.
W zależ noś ci od projektu ekranu, sita jedwabnego, kliszy lub stempla, lub naboju, moż liwe jest stosowanie; nadających się do druku, homogenicznych, nie-ziarnistych past trawiących, wykazujących
PL 207 872 B1 właściwości płynów o przepływie nie-Newtonowskim, według wynalazku; na całym obszarze lub selektywnie, w zależności od maskowania trawionej struktury, tylko do punktów, w których pożądane jest trawienie. Nie wszystkie etapy maskowania i litografii, jakie opisano w punkcie A) są konieczne. Operacja trawienia może zachodzić z lub bez nakładu energii, na przykład dostarczanej przez napromieniowanie cieplne (za pomocą emiterów podczerwieni). Po zakończeniu trawienia, nadające się do druku, homogeniczne, nie-ziarniste pasty trawiące, które wykazują właściwości płynów o przepływie nie-Newtonowskim są zmywane z trawionej powierzchni za pomocą odpowiedniego rozpuszczalnika lub są wypalane.
Poprzez dobór poniższych parametrów można regulować głębokość trawienia szkieł opartych na tlenku krzemu i azotku krzemu lub innych układów opartych na tlenku krzemu i azotku krzemu oraz ich warstw o różnej grubości, a w przypadku trawienia selektywnego można regulować także ostrość krawędzi trawionych struktur:
- stężenie i skł ad czynników trawią cych,
- stężenie i skł ad zastosowanych rozpuszczalników,
- stężenie i skł ad układów zagę szczają cych,
- stężenie i skł ad dodanych kwasów,
- stężenie i skł ad innych dodatków, takich jak ś rodki przeciwpienne, tiksotropowe, modyfikatory przepływu, środki odpowietrzające i aktywatory adhezji,
- lepkość nadających się do druku, homogenicznych, nie-ziarnistych past trawiących, wykazujących właściwości płynów o przepływie nie-Newtonowskim, według wynalazku,
- czas trwania trawienia z lub bez dostarczenia energii w powierzchniach nieorganicznych, drukowanych odpowiednią pastą drukującą, oraz ich warstw oraz
- wkł ad energii do ukł adu drukowanego pastą trawią c ą .
Czas trwania trawienia może wynosić od kilku sekund do kilku minut w zależności od zastosowania, pożądanej głębokości trawienia i/lub ostrości krawędzi trawionych struktur. Ogólnie ustala się korzystny czas trawienia na od 1 do 15 minut.
Nadające się do druku, homogeniczne, nie-ziarniste pasty trawiące, wykazujące właściwości płynów o przepływie nie-Newtonowskim, według wynalazku, w porównaniu z ciekłymi, nierozpuszczalnymi lub gazowymi czynnikami trawiącymi, takimi jak nieorganiczne kwasy mineralne z grupy składającej się z kwasu fluorowodorowego, fluorków, gazowego HF i SF6, są znacznie prostsze i bezpieczniejsze w użyciu, a także są znacznie bardziej ekonomiczne pod względem ilości czynnika trawiącego.
Działanie trawiące, nadających się do druku, homogenicznych, nie-ziarnistych past trawiących, wykazujących właściwości płynów o przepływie nie-Newtonowskim, według wynalazku, na powierzchnie szkieł opartych na tlenku krzemu i azotku krzemu i innych układów opartych na tlenku krzemu i azotku krzemu, jest oparte na stosowaniu roztworów zawierających składniki trawiące odpowiedni do trawienia powierzchni szkieł opartych na tlenku krzemu oraz szkieł opartych na azotku krzemu, takie jak składniki fluorowe z lub bez dodawania kwasu, będących w szczególności roztworami fluorków, bifluorków, tetrafluoroboranów, takich jak na przykład fluorku amonowego, metalu alkalicznego i antymonu, bifluroku amonowego, metalu alkalicznego i wapnia oraz alkilowanego tetrafluoroboranu amonowego i potasowego oraz ich mieszanin. Te składniki trawiące są skuteczne w pastach trawiących nawet w temperaturach w zakresie od 15 do 50°C, korzystnie w temperaturze pokojowej i/lub są aktywowane przez dostarczenie energii, na przykład, przez napromieniowanie termiczne emiterami podczerwienie (do około 300°C), UV lub promieniowaniem laserowym.
Stosunek składników trawiących jest na poziomie stężenia od 2 do 20% wagowych, korzystnie w zakresie od 5 do 15% wagowych medium trawią cego.
Rozpuszczalnik może stanowić składnik pasty trawiącej. Stosunek może być w zakresie od 10 do 90% wagowych, korzystnie w zakresie od 15 do 85% wagowych, masy całkowitej medium trawiącego.
Odpowiednimi rozpuszczalnikami mogą być rozpuszczalniki nieorganiczne i/lub organiczne lub ich mieszaniny. Odpowiednimi rozpuszczalnikami, które mogą być stosowane w czystej formie lub w odpowiedniej mieszaninie, w zależ ności od zastosowania są :
- woda
- proste lub wielowodorotlenowe alkohole takie jak na przykł ad glikol dietylenu, glikol dipropylenu, 1,2-propanodiol, 1,4-butanodiol, 1,3-butanodiol, glicerol, 1,5-pentanodiol, 2-etylo-1-heksanol lub ich mieszaniny,
- ketony, takie jak na przykład: acetofenon, metylo-2-heksanon, 2-octanon, 4-hydroksy-4-metylo-2-pentanon lub 1-metylo-2-pirolidon,
PL 207 872 B1
- etery, takie jak: eter monobutylowy glikolu etylenu, eter monometylowy glikolu trietylenu, eter monobutylowy glikolu dietylenu lub eter monometylowy glikolu dipropylenu,
- estry kwasów karboksylowych takie jak octan [2,2-butoksy(etoksy)]etylu estry kwasu wę glowego, takie jak węglan propylenu
- nieorganiczne kwasy mineralne takie jak kwas solny, fosforowy, siarkowy lub azotowy, lub kwasy organiczne z rodnikiem alkilowym o długości łańcucha n = 1-10, lub ich mieszaniny. Rodnik alkilowy może być prostołańcuchowy lub rozgałęziony.
Korzystnie, odpowiednie są kwasy karboksylowe organiczne, hydroksykarboksylowe i dikarboksylowe, takie jak kwas mrówkowy, octowy, mlekowy, szczawiowy lub podobne.
Szczególnie korzystnymi rozpuszczalnikami są woda, alkohole jednowartościowe lub wielowartościowe, takie jak glicerol, 1,2-propanodiol, 1,4-butanodiol, 1,3-butanodiol, 1,5-pentanodiol, 2-etylo-1-heksenol, glikol etylenu, glikol dietylenu i glikol dipropylenu, oraz ich etery, takie jak eter monobutylowy glikolu etylenu, eter monometylowy glikolu trietylenu, eter monobutylowy glikolu dietylenu i eter monometylowy glikolu dipropylenu oraz estry takie jak octan [2,2-butoksy(etoksy)]etylu, estry kwasów karboksylowych, takie jak węglan propylenu, ketony, takie jak acetofenon, metylo-2-heksanon, 2-octanon, 4-hydroksy-4-metylo-2-pentanon i 1-metylo-2-pirolidon, jako takie lub jako mieszaniny.
Te rozpuszczalniki lub ich mieszaniny są, inter alia, również odpowiednie do usuwania medium trawiącego po zakończeniu trawienia i, jeśli właściwe, oczyszczania powierzchni trawionej.
Lepkość nadających się do druku, homogenicznych, nie-ziarnistych past trawiących, wykazujących właściwości płynów o przepływie nie-Newtonowskim, według wynalazku jest uzyskiwana dzięki wiążącym zagęstnikom (zagęszczaczom), które pęcznieją w fazie ciekłej i mogą się różnić w zależności od zastosowania. Nadające się do druku, homogeniczne, nie-ziarniste pasty trawiące, wykazujące właściwości płynów o przepływie nie-Newtonowskim, według wynalazku obejmują wszystkie pasty trawiące, których lepkość jest zależna od szybkości ścinania, szczególnie pasty trawiące rozrzedzane ścinaniem. Sieciowanie wytworzone działaniem zagęstnika zanika pod wpływem ścinania. Odnowienie sieciowania może zachodzić bez opóźnienia (pasty trawiące, o przepływie nie-Newtonowskim wykazują właściwości płynów plastycznych lub pseudoplastycznych) lub z opóźnieniem (pasty trawiące wykazujące właściwości płynów tiksotropowych).
Nadające się do druku, homogeniczne, nie-ziarniste pasty trawiące, wykazujące właściwości płynów o przepływie nie-Newtonowskim z dodatkiem zagęstnika są całkowicie homogeniczne. Niektóre zagęstniki, szczególnie takie jak na przykład, żywice silikonowe lub akrylowe nie są stosowane.
Wykorzystywane zagęstniki są oparte na polimerach następujących jednostek monomerów:
- jednostki glukozowe wią zane β -glukozydowo, tj. celuloza i/lub pochodne celulozy, takie jak etery celulozy, szczególnie etylo- (na przykład Aqualon® EG), hydroksypropylo- (na przykład Klucel®) oraz hydroksyetyloceluloza (na przykład Natrosol®) i sole eterów kwasu glikolowego celulozy, szczególnie karboksymetylohydroksyetyloceluloza sodu (na przykład Na-CMHEC),
- jednostki funkcyjne winylu, takie jak:
- alkohole poliwinylowe w róż nym stopniu hydrolizowane, korzystnie Mowiol® 47-88 (częściowo hydrolizowany, taki jak. octan winylu i jednostki alkoholu winylowego) lub Mowiol® 56-98 (całkowicie zhydrolizowany),
- poliwinylopirolidony (PVP) korzystnie PVP K-90 lub PVP K-120.
Zagęstniki mogą być stosowane samodzielnie lub w kombinacji z innymi zagęstnikami.
Stosunek zagęstników, który jest konieczny do uzyskania właściwego zakresu lepkości oraz głównie do wytworzenia pasty trawiącej jest na poziomie od 0,5 do 25% wagowych, korzystnie od 3 do 20% wagowych, masy całkowitej medium trawiącego.
Jak opisano, pasty trawiące według wynalazku z dodatkiem zagęstnika są również całkowicie homogeniczne. Nie zawierają niektórych zagęstników, takich jak na przykład żywice silikonowe lub akrylowe.
Do nadających się do druku, homogenicznych, nie-ziarnistych past trawiących, wykazujących właściwości płynów o przepływie nie-Newtonowskim, mogą być korzystnie dodawane organiczne i nieorganiczne kwasy, których wartość pKa wynosi od 0 do 5. Nieorganiczne kwasy mineralne, takie jak na przykład kwas solny, fosforowy, siarkowy lub azotowy, jak również kwasy organiczne z rodnikiem alkilowym o długości łańcucha n = 1-10 poprawiają działanie trawiące nadających się do druku, homogenicznych, nie-ziarnistych past trawiących, które wykazują właściwości płynów o przepływie nieNewtonowskim. Rodnik alkilowy kwasów organicznych może być prostołańcuchowy lub rozgałęziony. Korzystnie odpowiednie są kwasy karboksylowe organiczne, hydroksykarboksylowe i dikarboksylowe,
PL 207 872 B1 takie jak kwas mrówkowy, octowy, mlekowy, szczawiowy lub podobne. Stosunek kwasu/kwasów może być korzystnie na poziomie od 0 do 80% wagowych masy całkowitej medium trawiącego.
Dodatki do past mające właściwości korzystne dla konkretnych zastosowań to:
- ś rodki przeciwpienne, takie jak na przykład TEGO® Foamex N,
- ś rodki tiksotropowe, takie jak na przykł ad BYK® 410, Borchigel® Thixo2,
- modyfikatory przepływu takie jak na przykład TEGO® Glide ZG 400,
- ś rodki odpowietrzające, takie jak na przykład TEGO® Airex 985 oraz
- aktywatory adhezji, takie jak na przykład Bayowet® FT 929.
Mogą one mieć dobry skutek na działanie trawiące past. Stosunek dodatków jest korzystnie na poziomie od 0 do 5% wagowych masy całkowitej medium trawiącego.
Pasty trawiące według wynalazku znajdują zastosowanie na przykład w:
- przemyśle ogniw słonecznych (elementy fotoelektryczne, takie jak ogniwa słoneczne i fotodiody),
- przemyś le pół przewodnikowym,
- przemyś le szklarskim,
- elektronice wysokiej wydajności (high-performance electronics).
Nowe, nadające się do druku, homogeniczne, nie-ziarniste pasty trawiące, wykazujące właściwości płynów o przepływie nie-Newtonowskim, według wynalazku, mogą być zastosowane w szczególności we wszystkich przypadkach, gdzie wymagane jest pełne i/lub strukturalne trawienie powierzchni szkieł opartych na tlenku krzemu i azotku krzemu i innych układów opartych na tlenku krzemu i azotku krzemu oraz ich warstw.
W ten sposób, zarówno cał e powierzchnie, jak i selektywnie samodzielne struktury mogą być trawione do żądanej głębokości w jednolitych, stałych, nieporowatych i porowatych szkłach i innych jednolitych, stałych, nieporowatych i porowatych układach opartych na tlenku krzemu i azotku krzemu. Tym samym operacje trawienia mogą obejmować wszystkie zakresy od matowienia mikrostrukturalnego (przezroczyste szkła z lekkim efektem rozpraszania) przez efekt oszronionego matowienia, do trawienia głębokich struktur (na przykład znaków, ornamentów/wzorów). Pasty trawiące według wynalazku znajdują korzystnie zastosowanie w:
- wytwarzaniu okienek wziernikowych do zaworów i sprzętu pomiarowego wszystkich typów,
- wytwarzaniu szklanych nośników do zastosowań zewnętrznych (na przykład ogniw słonecznych i kolektorów termicznych).
Ponadto mogą one być także stosowane przy:
- wytwarzaniu trawionych powierzchni szklanych w sektorze medycznym i sanitarnym i do zastosowań dekoracyjnych włączając zastosowania artystyczne i architektoniczne,
- wytwarzaniu trawionych pojemników szklanych na artykuły kosmetyczne, żywność i napoje,
- specyficznym częściowym trawieniu szkieł i innych układów opartych na tlenku krzemu do znakowania i etykietowania, na przykład znakowania/etykietowania pojemników i powierzchni szklanych,
- specyficznym częściowym trawieniu szkieł i innych układów opartych na tlenku krzemu w badaniach mineralogicznych, geologicznych i mikrostrukturalnych.
Szczególnie korzystnymi technikami do zastosowania past trawiących według wynalazku są metody sitodruku, jedwabnego sitodruku, tampodruku, drukowania stemplowego i atramentowego. Ogólnie, poza powyższymi metodami drukowania, możliwe są również zastosowania ręczne (na przykład pędzel).
Poza zastosowaniami przemysłowymi, pasty trawiące są również odpowiednie dla potrzeb hobbystycznych.
Nadające się do druku, homogeniczne, nie-ziarniste pasty trawiące, które wykazują właściwości płynów o przepływie nie-Newtonowskim, według wynalazku, mogą być stosowane we wszystkich przypadkach, gdzie wymagane jest trawienie warstw ze szkieł i innych układów opartych na tlenku krzemu i azotku krzemu o różnej grubości na całej powierzchni i/lub strukturalnie. Obszarami korzystnych możliwych zastosowań są na przykład:
- wszystkie etapy trawienia warstw szkieł opartych na tlenku krzemu i azotku krzemu oraz innych układów opartych na tlenku krzemu i azotku krzemu w produkcji elementów fotowoltanicznych, takich jak ogniwa słoneczne, fotodiody, a w szczególności korzystnie:
a) usuwanie tlenku krzemu/domieszkowanego tlenku krzemu (na przykład szkła fosforowego po domieszkowaniu typu n ogniwa słonecznego) i warstw azotku krzemu,
PL 207 872 B1
b) selektywne otwieranie warstw pasywacyjnych tlenku krzemu i azotku krzemu w wytwarzaniu dwustopniowych selektywnych emiterów (po otwarciu, ponownym domieszkowaniu w celu utworzenia warstw n++) i/lub lokalnych p+ powierzchni (ang. back surface fields - BSF), a ponadto także
c) trawienie krawędzi pokrytych tlenkiem krzemu i/lub azotkiem krzemu panelów ogniw słonecznych oraz
- peł nego i/lub strukturalnego trawienia warstw szkł a i innych systemów na bazie tlenku krzemu, jak również azotku krzemu o zmiennej grubości w procesie wytwarzania elementów elektroniki wysokiej-wydajności lub w procesie wytwarzania elementów półprzewodnikowych i ich obwodów lub do selektywnego otwierania warstw pasywacyjnych z tlenku krzemu i azotku krzemu do wytwarzania dwustopniowych selektywnych emiterów i/lub lokalnych pól powierzchni tylnych p+ lub do trawienia krawędzi szyb ogniw słonecznych pokrytych tlenkiem krzemu i azotkiem krzemu.
Szczególnie, odpowiednimi technikami do zastosowania past trawiących według wynalazku są metody sitodruku, jedwabnego sitodruku, tampodruku, drukowania stemplowego i atramentowego. Ogólnie, poza powyższymi metodami drukowania, możliwe są również zastosowania ręczne.
Poza zastosowaniami przemysłowymi, pasty trawiące są również odpowiednie dla potrzeb hobbystycznych.
Istotą wynalazku jest także zastosowanie medium trawiącego według wynalazku do badań mikrostrukturalnych.
Istotą wynalazku jest wreszcie sposób trawienia nieorganicznych, szkło-podobnych powierzchni krystalicznych, który charakteryzuje się tym, że medium trawiące według wynalazku nakłada się na cały obszar lub specyficznie zgodnie z maskowaniem struktury trawionej tylko w punktach, w których wymagane jest trawienie i, po zakończeniu trawienia, zmywa się rozpuszczalnikiem lub mieszaniną rozpuszczalników, a korzystnie spłukuje wodą.
Przykłady
Dla lepszego przedstawienie i zilustrowania poniżej podano przykłady, które znajdują się w zakresie ochrony wynalazku, przy czym wynalazek nie należy ograniczać zakresu ochrony wynalazku wyłącznie do poniższych przykładów.
P r z y k ł a d 1 g eteru monobutylowego glikolu etylenu, g 35% roztworu NH4HF2, g kwasu mrówkowego (98-100%), g PVP K-120.
Eter monobutylowy glikolu etylenu i kwas mrówkowy wprowadza się do zlewki PE. Następnie dodaje się wodny 35% roztwór NH4HF2. Następnie mieszając (co najmniej 400 obr/min) dodaje się PVP K-120. Podczas dodawania i jeszcze przez około 30 minut gwałtowne mieszanie musi być kontynuowane. Przelanie do pojemnika ma miejsce po krótkim czasie odstania. Czas odstania jest konieczny, aby rozpuściły się utworzone w paście trawiącej bąbelki/pęcherzyki powietrza.
Mieszanina tworzy pastę trawiącą, za pomocą której mogą być trawione szkła oparte na tlenku krzemu i azotku krzemu i układy oparte na tlenku krzemu i azotku krzemu oraz ich warstwy, przy czym trawienie zachodzi specyficznie w dół do wymaganej głębokości na całym obszarze lub w strukturach z i/lub bez wkł adu energii.
Stopień trawienia, określony spektrofotometrycznie, na termicznie generowanej warstwie tlenku krzemu to 120 nm/min w przypadku trawienia na całym obszarze.
Stopień trawienia, określony spektrofotometrycznie, na warstwie azotku krzemu generowanej przez PE-CVD (wskaźnik refrakcji n = 1,98) to 70 nm/min w przypadku trawienia na całym obszarze.
Uzyskana pasta trawiąca ma długi okres trwałości, jest łatwa w użyciu i nadaje się do drukowania. Można ją usuwać z materiałów drukowanych lub z nośników (ekran, nóż, sito jedwabne, stempel, klisza, nabój, itd.) na przykład za pomocą wody lub wypalania w piecu.
P r z y k ł a d 2 g eteru monometylowego glikolu trietylenu, g 35% roztworu NH4HF2, g wody demineralizowanej, g PVP K-120.
Na początek wprowadza się eter monometylowy glikolu trietylenu i dodaje się wszystkie płynne składniki mieszając jak w przykładzie 1. Na koniec, mieszając (co najmniej 400 obr/min), stopniowo dodaje się PVP K-120. Podczas dodawania i jeszcze przez około 30 minut kontynuuje się gwałtowne
PL 207 872 B1 mieszanie. Przelanie do pojemnika ma miejsce po krótkim czasie odstania. Czas ten jest konieczny, aby rozpuściły się bąbelki utworzone w paście trawiącej.
Mieszanina tworzy pastę trawiącą, za pomocą której mogą być trawione szkła oparte na tlenku krzemu i azotku krzemu i inne układy oparte na SiO2 i azotku krzemu oraz ich warstwy, trawienie zachodzi specyficznie w dół do wymaganej głębokości na całym obszarze lub w strukturach z i/lub bez dostarczenia energii.
Stopień trawienia, określony spektrofotometrycznie, na termicznie generowanej warstwie tlenku krzemu wynosi 106 nm/min w przypadku trawienia na całym obszarze.
Uzyskana pasta trawiąca ma długi okres trwałości, jest łatwa w użyciu i nadaje się do drukowania. Można ją usuwać z materiałów drukowanych lub z nośników (ekran, nóż, sito jedwabne, stempel, klisza, nabój, itd.) na przykład za pomocą wody lub wypalania w piecu.
P r z y k ł a d 3 g stałego NH4HF2,
142 g kwasu mlekowego, g etylocelulozy, g eteru monobutylowego glikolu etylenu.
Do eteru monobutylowego glikolu etylenu stopniowo dodaje się mieszając na łaźni wodnej etylocelulozę w temperaturze 40°C. Stały NH4HF2 rozpuszcza się w kwasie mlekowym, mieszając, a następnie dodaje się go do podstawowej pasty etylocelulozowej. Całość miesza się przy 600 obr/min przez 2 godziny.
Mieszanina tworzy pastę trawiącą, za pomocą której mogą być trawione szkła oparte na tlenku krzemu i azotku krzemu i inne układy oparte na tlenku krzemu i azotku krzemu oraz ich warstwy, trawienie zachodzi specyficznie w dół do wymaganej głębokości na całym obszarze lub w strukturach z i/lub bez dostarczenia energii.
Stopień trawienia, określony spektrofotometrycznie, na termicznie generowanej warstwie tlenku krzemu wynosi 23 nm/min w przypadku trawienia całego obszaru.
Uzyskana pasta trawiąca ma długi okres trwałości, jest łatwa w użyciu i nadaje się do drukowania. Można ją usuwać z materiałów drukowanych lub z nośników (ekran, nóż, sito jedwabne, stempel, klisza, nabój, itd.), na przykład za pomocą wody lub wypalania w piecu.
P r z y k ł a d 4 g eteru monobutylowego glikolu etylenu, g eteru monometylowego glikolu trietylenu, g węglanu propylenu, g kwasu mrówkowego, g 35% roztworu NH4HF2, g PVP K-120.
Mieszaninę rozpuszczalników i kwasu mrówkowego wprowadza się do zlewki PE. Następnie dodaje się 35% wodny roztwór NH4HF2. Dodaje się PVP K-120 mieszając (co najmniej 400 obr/min). Podczas dodawania i jeszcze przez około 30 minut kontynuuje się gwałtowne mieszanie. Pastę przelewa się do pojemnika po krótkim czasie odstania. Czas odstania jest konieczny, aby utworzone w paście trawiącej bąbelki rozpuściły się.
Mieszanina tworzy pastę trawiącą, za pomocą której mogą być trawione szkła oparte na tlenku krzemu i azotku krzemu i inne układy oparte na tlenku krzemu i azotku krzemu oraz ich warstwy, trawienie zachodzi specyficznie w dół do wymaganej głębokości na całym obszarze lub w strukturach z i/lub bez dostarczenia energii.
Stopień trawienia, określony spektrofotometrycznie, na termicznie generowanej warstwie tlenku krzemu wynosi 67 nm/min w przypadku selektywnego trawienia struktur o szerokości około 80 pm. Stopień trawienia, określony spektrofotometrycznie, na warstwie azotku krzemu generowanej przez PE-CVD to 35 nm/min w przypadku selektywnego trawienia struktur o szerokości około 100 pm w temperaturze trawienia 40°C.
Uzyskana pasta trawiąca ma długi okres trwałości, jest łatwa w użyciu i nadaje się do drukowania. Można ją usuwać z materiałów drukowanych lub z nośników (ekran, nóż, sito jedwabne, stempel, klisza, nabój, itd.), na przykład za pomocą wody lub wypalania w piecu.
Claims (19)
1. Drukowalne, homogeniczne, nie-ziarniste medium trawiące, skuteczne w temperaturach od 15 do 50°C i/lub, jeżeli stosowne, aktywowane przez dostarczenie energii, do trawienia powierzchni szkieł opartych na tlenku krzemu oraz szkieł opartych na azotku krzemu, zawierające
a) co najmniej jeden składnik trawiący odpowiedni do trawienia powierzchni szkieł opartych na tlenku krzemu oraz szkieł opartych na azotku krzemu taki jak fluorki, bifluorki i tetrafluoroborany, przy czym składnik(i) trawiący(e) jest(są) obecny(e) w stężeniu od 2 do 20% wagowych całkowitej masy medium trawiącego oraz
b) rozpuszczalnik w stężeniu od 10 do 90% wagowych całkowitej masy medium trawiącego, znamienne tym, że ma postać pasty trawiącej wykazującej właściwości płynów o przepływie nie-Newtonowskim i zawiera:
c) zagęstnik w postaci polimerów na bazie jednostek funkcyjnych winylowych i/lub celulozy/pochodnych celulozy, wybranych z grupy obejmującej celulozę etylową, hydroksypropylową, hydroksyetylową i sole eteru kwasu glikolowego celulozy, a w szczególności celulozę etylowohydroksymetylokarboksysodową, w stężeniu od 0,5 do 25% wagowych całkowitej masy medium trawiącego oraz
d) opcjonalnie kwas organiczny i/lub kwas nieorganiczny w stężeniu od 0 do 80% wagowych całkowitej masy medium trawiącego i
e) opcjonalnie dodatki, takie jak środki przeciwpienne, tiksotropowe, modyfikatory przepływu, środki odpowietrzające i aktywatory adhezji, w stężeniu od 0 do 5% wagowych całkowitej masy medium trawiącego.
2. Medium trawiące według zastrz. 1, znamienne tym, że trawione szkła zawierają pierwiastki wybrane z grupy obejmującej wapń, sód, glin, ołów, lit, magnez, bar, potas, bor, beryl, fosfor, gal, arsen, antymon, lantan, skand, cynk, tor, miedź, chrom, mangan, żelazo, kobalt, nikiel, molibden, wanad, tytan, złoto, platynę, pallad, srebro, cer, cez, niob, tantal, cyrkon, itr, neodym i prazeodym.
3. Medium trawiące według zastrz. 1, znamienne tym, że zawiera co najmniej jeden kwas nieorganiczny i/lub organiczny, przy czym składnik lub składniki trawiące są zawarte w stężeniu od 2 do 20% wagowych masy całkowitej medium trawiącego.
4. Medium trawiące według zastrz. 3, znamienne tym, że składnik lub składniki trawiące są zawarte w stężeniu od 5 do 15% wagowych masy całkowitej medium trawiącego.
5. Medium trawiące według zastrz. 1 albo 3, znamienne tym, że zawiera, jako składnik trawiący, co najmniej jeden związek fluorowy wybrany z grupy obejmującej fluorek amonowy, metalu alkalicznego i antymonu, bifluorek amonowy, metalu alkalicznego i wapnia oraz alkilowany tetrafluoroboran amonowy i potasowy oraz, opcjonalnie, co najmniej jeden nieorganiczny kwas mineralny, wybrany z grupy obejmują cej kwas solny, kwas fosforowy, kwas siarkowy oraz kwas azotowy i/lub, opcjonalnie, co najmniej jeden kwas organiczny, który może zawierać prostołańcuchowy lub rozgałęziony rodnik alkilowy, mający od 1 do 10 atomów węgla, wybrany z grupy obejmującej kwasy alkilokarboksylowe, hydroksykarboksylowe i dikarboksylowe.
6. Medium trawiące według zastrz. 1, znamienne tym, że zawiera kwas organiczny, wybrany z grupy obejmującej kwas mrówkowy, kwas octowy, kwas mlekowy i kwas szczawiowy.
7. Medium trawiące według zastrz. 1 albo 2, albo 3, albo 4, albo 5, znamienne tym, że zawartość kwasów organicznych i/lub nieorganicznych wynosi od 0 do 80% wagowych masy całkowitej medium trawiącego, a każdy z dodawanych kwasów ma wartość pKa pomiędzy 0 a 5.
8. Medium trawiące według zastrz. 1, znamienne tym, że zawiera, jako rozpuszczalnik, wodę, alkohole jednowartościowe lub wielowartościowe, takie jak glicerol, 1,2-propanodiol, 1,4-butanodiol, 1,3-butanodiol, 1,5-pentanodiol, 2-etylo-1-heksenol, glikol etylenu, glikol dietylenu i glikol dipropylenu oraz ich etery, takie jak eter monobutylowy glikolu etylenu, eter monometylowy glikolu trietylenu, eter monobutylowy glikolu dietylenu i eter monometylowy glikolu dipropylenu, oraz estry, takie jak octan [2,2-butoksy(etoksy)]etylu, estry kwasów karboksylowych, takie jak węglan propylenu, ketony, takie jak acetofenon, metylo-2-heksanon, 2-octanon, 4-hydroksy-4-metylo-2-pentanon i 1-metylo-2-pirolidon, jako takie lub jako mieszaniny w stężeniu od 10 do 90% wagowych, a korzystnie w stężeniu od 15 do 85% wagowych masy całkowitej medium trawiącego.
9. Medium trawiące według zastrz. 1, znamienne tym, że jako zagęstnik zawiera polimery na bazie jednostek funkcyjnych winylowych i, jeżeli stosowne, celulozę/pochodne celulozy w stężeniu od 0,5 do 25% wagowych, a korzystnie od 3 do 20% wagowych masy całkowitej medium trawiącego.
PL 207 872 B1
10. Medium trawiące według zastrz. 1, znamienne tym, że zawiera od 0 do 5% wagowych masy całkowitej medium trawiącego, dodatków wybranych z grupy obejmującej środki przeciwpienne, tiksotropowe, modyfikatory przepływu, środki odpowietrzające oraz aktywatory adhezji.
11. Zastosowanie medium trawiącego zdefiniowanego w dowolnym zastrz. 1-9 w metodzie trawienia, w której jest ono nakładane na powierzchnię trawioną i usuwane po czasie ekspozycji trwającym od 1 do 15 minut.
12. Zastosowanie medium trawiącego zdefiniowanego w dowolnym zastrz. 1-9 do sitodruku, sitodruku jedwabnego, tampondruku, drukowania stemplowego, drukowania atramentowego oraz w metodach drukowania ręcznego.
13. Zastosowanie medium trawiącego zdefiniowanego w dowolnym zastrz. 1-9 w układach fotowoltaicznych, technologii półprzewodników, elektronice wysokiej wydajności oraz do produkcji fotodiod i do wytwarzania okienek wziernikowych do zaworów lub sprzętu pomiarowego, nośników szklanych dla ogniw słonecznych lub kolektorów termicznych.
14. Zastosowanie medium trawiącego zdefiniowanego w dowolnym zastrz. 1-9 do trawienia szkieł jednolitych, stałych, nieporowatych lub porowatych szkieł opartych na układach tlenku lub azotku krzemu i zmiennej grubości warstw takich układów.
15. Zastosowanie medium trawiącego zdefiniowanego w dowolnym zastrz. 1-9 do usuwania warstw tlenku krzemu/domieszkowanego tlenku krzemu i azotku krzemu, dla selektywnego otwierania warstw pasywacyjnych tlenku krzemu i azotku krzemu w wytwarzaniu dwustopniowych selektywnych emiterów i/lub lokalnych pól powierzchni tylnych p+.
16. Zastosowanie medium trawiącego zdefiniowanego w dowolnym zastrz. 1-9 do pełnego i/lub strukturalnego trawienia warstw szkła i innych systemów na bazie tlenku krzemu, jak również azotku krzemu o zmiennej grubości w procesie wytwarzania elementów elektroniki wysokiej wydajności lub w procesie wytwarzania elementów półprzewodnikowych i ich obwodów lub do selektywnego otwierania warstw pasywacyjnych z tlenku krzemu i azotku krzemu do wytwarzania dwustopniowych selektywnych emiterów i/lub lokalnych pól powierzchni tylnych p+ lub do trawienia krawędzi szyb ogniw słonecznych pokrytych tlenkiem krzemu i azotkiem krzemu.
17. Zastosowanie medium trawiącego zdefiniowanego w dowolnym zastrz. 1-9 do badań mikrostrukturalnych.
18. Sposób trawienia nieorganicznych, szkło-podobnych powierzchni krystalicznych, znamienny tym, że medium trawiące zdefiniowane w dowolnym zastrz. 1-9 nakłada się na cały obszar lub specyficznie zgodnie z maskowaniem struktury trawionej tylko w punktach, w których wymagane jest trawienie i, po zakończeniu trawienia, zmywa się rozpuszczalnikiem lub mieszaniną rozpuszczalników.
19. Sposób według zastrz. 18, znamienny tym, że czynnik trawiący spłukuje się wodą po zakończeniu trawienia.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE10020817 | 2000-04-28 | ||
| DE10101926A DE10101926A1 (de) | 2000-04-28 | 2001-01-16 | Ätzpasten für anorganische Oberflächen |
| PCT/EP2001/003317 WO2001083391A1 (de) | 2000-04-28 | 2001-03-23 | Ätzpasten für anorganische oberflächen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL358687A1 PL358687A1 (pl) | 2004-08-09 |
| PL207872B1 true PL207872B1 (pl) | 2011-02-28 |
Family
ID=26005499
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL358687A PL207872B1 (pl) | 2000-04-28 | 2001-03-23 | Drukowalne homogeniczne, nie-ziarniste medium trawiące do trawienia powierzchni szkieł, jego zastosowania oraz sposób trawienia nieorganicznych, szkło-podobnych powierzchni krystalicznych |
Country Status (14)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20030160026A1 (pl) |
| EP (1) | EP1276701B1 (pl) |
| JP (1) | JP2003531807A (pl) |
| KR (1) | KR100812891B1 (pl) |
| CN (1) | CN100343189C (pl) |
| AU (2) | AU2001242510B2 (pl) |
| CA (1) | CA2407530C (pl) |
| HK (1) | HK1053295A1 (pl) |
| IL (1) | IL152497A0 (pl) |
| MX (1) | MXPA02010634A (pl) |
| PL (1) | PL207872B1 (pl) |
| RU (1) | RU2274615C2 (pl) |
| TW (1) | TWI243801B (pl) |
| WO (1) | WO2001083391A1 (pl) |
Families Citing this family (78)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10150040A1 (de) | 2001-10-10 | 2003-04-17 | Merck Patent Gmbh | Kombinierte Ätz- und Dotiermedien |
| CN100401532C (zh) | 2001-11-26 | 2008-07-09 | 壳牌阳光有限公司 | 太阳能电池及其制造方法 |
| EP1378947A1 (en) * | 2002-07-01 | 2004-01-07 | Interuniversitair Microelektronica Centrum Vzw | Semiconductor etching paste and the use thereof for localised etching of semiconductor substrates |
| DE10239656A1 (de) * | 2002-08-26 | 2004-03-11 | Merck Patent Gmbh | Ätzpasten für Titanoxid-Oberflächen |
| DE10241300A1 (de) * | 2002-09-04 | 2004-03-18 | Merck Patent Gmbh | Ätzpasten für Siliziumoberflächen und -schichten |
| TWI282814B (en) * | 2002-09-13 | 2007-06-21 | Daikin Ind Ltd | Etchant and etching method |
| KR20040042243A (ko) * | 2002-11-13 | 2004-05-20 | 박진국 | 유리표면의 반투명 처리용 부식액조성물과 이를 이용한저반사처리방법 |
| US7339110B1 (en) | 2003-04-10 | 2008-03-04 | Sunpower Corporation | Solar cell and method of manufacture |
| US7388147B2 (en) * | 2003-04-10 | 2008-06-17 | Sunpower Corporation | Metal contact structure for solar cell and method of manufacture |
| JP4549655B2 (ja) * | 2003-11-18 | 2010-09-22 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 機能性塗料 |
| KR100619449B1 (ko) * | 2004-07-10 | 2006-09-13 | 테크노세미켐 주식회사 | 박막트랜지스터 형성용 모든 전극을 위한 통합 식각액조성물 |
| MXGT04000020A (es) * | 2004-12-10 | 2005-06-07 | Luis Rendon Granados Juan | Proceso quimico para satinado - mateado total o parcial de vidrio por inmersion en solucion acida para produccion simultanea y continua de una o varias piezas y/o laminas de vidrio de dimensiones estandares y variables. |
| US20060151434A1 (en) * | 2005-01-07 | 2006-07-13 | The Boc Group, Inc. | Selective surface texturing through the use of random application of thixotropic etching agents |
| DE102005007743A1 (de) * | 2005-01-11 | 2006-07-20 | Merck Patent Gmbh | Druckfähiges Medium zur Ätzung von Siliziumdioxid- und Siliziumnitridschichten |
| DE102005031469A1 (de) * | 2005-07-04 | 2007-01-11 | Merck Patent Gmbh | Medium zur Ätzung von oxidischen, transparenten, leitfähigen Schichten |
| DE102005032807A1 (de) * | 2005-07-12 | 2007-01-18 | Merck Patent Gmbh | Kombinierte Ätz- und Dotiermedien für Siliziumdioxidschichten und darunter liegendes Silizium |
| DE102005033724A1 (de) * | 2005-07-15 | 2007-01-18 | Merck Patent Gmbh | Druckfähige Ätzmedien für Siliziumdioxid-und Siliziumnitridschichten |
| DE102005035255A1 (de) | 2005-07-25 | 2007-02-01 | Merck Patent Gmbh | Ätzmedien für oxidische, transparente, leitfähige Schichten |
| DE102005037335B4 (de) * | 2005-08-04 | 2008-12-11 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Rückstandsfrei abnehmbares Beizmittel |
| KR101188425B1 (ko) * | 2005-08-24 | 2012-10-05 | 엘지디스플레이 주식회사 | 식각 테이프 및 이를 이용한 액정 표시 장치용 어레이기판의 제조 방법 |
| JP4657068B2 (ja) * | 2005-09-22 | 2011-03-23 | シャープ株式会社 | 裏面接合型太陽電池の製造方法 |
| DE102006047579A1 (de) * | 2006-10-05 | 2008-04-17 | Institut Für Solarenergieforschung Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Solarzellen mit durch eine Ätzlösung lokal strukturierten Oberflächen |
| DE102006051735A1 (de) | 2006-10-30 | 2008-05-08 | Merck Patent Gmbh | Druckfähiges Medium zur Ätzung von oxidischen, transparenten, leitfähigen Schichten |
| DE102006051952A1 (de) * | 2006-11-01 | 2008-05-08 | Merck Patent Gmbh | Partikelhaltige Ätzpasten für Siliziumoberflächen und -schichten |
| KR20090107494A (ko) * | 2006-12-05 | 2009-10-13 | 나노 테라 인코포레이티드 | 표면을 패턴화하는 방법 |
| US8608972B2 (en) * | 2006-12-05 | 2013-12-17 | Nano Terra Inc. | Method for patterning a surface |
| JP2008186927A (ja) * | 2007-01-29 | 2008-08-14 | Sharp Corp | 裏面接合型太陽電池とその製造方法 |
| JP5226255B2 (ja) * | 2007-07-13 | 2013-07-03 | シャープ株式会社 | 太陽電池の製造方法 |
| WO2009040794A1 (en) * | 2007-09-24 | 2009-04-02 | Dip Tech. Ltd. | Etching compositions, methods and printing components |
| JP4947654B2 (ja) * | 2007-09-28 | 2012-06-06 | シャープ株式会社 | 誘電体膜のパターニング方法 |
| US20090092745A1 (en) * | 2007-10-05 | 2009-04-09 | Luca Pavani | Dopant material for manufacturing solar cells |
| US7888168B2 (en) * | 2007-11-19 | 2011-02-15 | Applied Materials, Inc. | Solar cell contact formation process using a patterned etchant material |
| US20090139568A1 (en) * | 2007-11-19 | 2009-06-04 | Applied Materials, Inc. | Crystalline Solar Cell Metallization Methods |
| KR20100093024A (ko) * | 2007-12-20 | 2010-08-24 | 테오스 가부시키가이샤 | 증점（增粘） 에칭 도포액 및 이것을 사용한 태양전지용 태양광 발전 소자 기판의 선택 에칭 방법 |
| AU2009208384A1 (en) * | 2008-02-01 | 2009-08-06 | Newsouth Innovations Pty Limited | Method for patterned etching of selected material |
| WO2009118083A2 (en) | 2008-03-26 | 2009-10-01 | Merck Patent Gmbh | Composition for manufacturing sio2 resist layers and method of its use |
| WO2010022849A2 (de) * | 2008-09-01 | 2010-03-04 | Merck Patent Gmbh | Randentschichtung von dünnschicht-solar-modulen mittels ätzen |
| GB0820126D0 (en) * | 2008-11-04 | 2008-12-10 | Conductive Inkjet Technology Ltd | Inkjet ink |
| KR101000556B1 (ko) | 2008-12-23 | 2010-12-14 | 주식회사 효성 | 태양전지 및 그 제조방법 |
| WO2010139390A1 (en) * | 2009-06-04 | 2010-12-09 | Merck Patent Gmbh | Two component etching |
| WO2011050889A2 (de) * | 2009-10-30 | 2011-05-05 | Merck Patent Gmbh | Verfahren zur herstellung von solarzellen mit selektivem emitter |
| CN102088042A (zh) * | 2009-12-02 | 2011-06-08 | 上海交大泰阳绿色能源有限公司 | 一种高效率晶体硅太阳能电池用浆料的制备方法和浆料 |
| US8524524B2 (en) | 2010-04-22 | 2013-09-03 | General Electric Company | Methods for forming back contact electrodes for cadmium telluride photovoltaic cells |
| WO2011157335A1 (en) | 2010-06-14 | 2011-12-22 | Merck Patent Gmbh | Cross-linking and multi-phase etch pastes for high resolution feature patterning |
| KR101729065B1 (ko) * | 2010-08-06 | 2017-04-21 | 스미토모 베이클리트 컴퍼니 리미티드 | 입체특이적 폴리시클릭 2,3-디올 단량체로부터 유래된 반복단위를 갖는 폴리카보네이트를 포함하는 희생 중합체 조성물 |
| US8393707B2 (en) | 2010-08-24 | 2013-03-12 | Sunpower Corporation | Apparatuses and methods for removal of ink buildup |
| US20130247957A1 (en) | 2010-12-06 | 2013-09-26 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Solar cell and solar-cell module |
| WO2012077568A1 (ja) | 2010-12-06 | 2012-06-14 | 信越化学工業株式会社 | 太陽電池及び太陽電池モジュール |
| KR20120067198A (ko) * | 2010-12-15 | 2012-06-25 | 제일모직주식회사 | 에칭 페이스트, 그 제조방법 및 이를 이용한 패턴 형성방법 |
| WO2012083082A1 (en) | 2010-12-15 | 2012-06-21 | Sun Chemical Corporation | Printable etchant compositions for etching silver nanoware-based transparent, conductive film |
| JP2011124603A (ja) * | 2011-02-09 | 2011-06-23 | Sharp Corp | 裏面接合型太陽電池の製造方法 |
| CN102775071A (zh) * | 2011-05-09 | 2012-11-14 | 代芳 | 一种表面粗化的玻璃纤维制造技术 |
| CN103688600A (zh) * | 2011-07-18 | 2014-03-26 | 默克专利股份有限公司 | 抗静电和抗反射涂层及相应的堆叠层的结构化 |
| CN102955596B (zh) * | 2011-08-20 | 2016-04-06 | 宸鸿科技(厦门)有限公司 | 保护层处理方法及其装置 |
| KR102078293B1 (ko) | 2012-05-10 | 2020-02-17 | 코닝 인코포레이티드 | 유리 에칭 매질 및 방법 |
| CN102800380A (zh) * | 2012-08-21 | 2012-11-28 | 海南汉能光伏有限公司 | 浆料及其制备方法、太阳能电池边缘膜层的去除方法 |
| JP6131959B2 (ja) * | 2012-10-16 | 2017-05-24 | 日立化成株式会社 | エッチング材 |
| JP5888202B2 (ja) * | 2012-10-16 | 2016-03-16 | 日立化成株式会社 | 液状組成物 |
| JP6462579B2 (ja) * | 2012-11-02 | 2019-01-30 | コーニング インコーポレイテッド | 不透明材料、着色材料および半透明材料をテクスチャー処理する方法 |
| KR20140086669A (ko) * | 2012-12-28 | 2014-07-08 | 동우 화인켐 주식회사 | 금속 산화물막의 식각액 조성물 |
| KR101536001B1 (ko) * | 2014-04-30 | 2015-07-13 | 주식회사 지앤티 | 반투명 또는 불투명 유리 제조방법 |
| CN104150782A (zh) * | 2014-07-18 | 2014-11-19 | 张家港市德力特新材料有限公司 | 一种显示屏用玻璃的制备方法 |
| TWI546371B (zh) * | 2014-11-10 | 2016-08-21 | 盟智科技股份有限公司 | 研磨組成物 |
| JP2016086187A (ja) * | 2016-02-01 | 2016-05-19 | 日立化成株式会社 | ＳｉＮ膜の除去方法 |
| CN106242307A (zh) | 2016-08-11 | 2016-12-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 用于强化制品的边缘的方法、玻璃及显示装置 |
| CN106587649B (zh) * | 2016-12-31 | 2019-03-22 | 深圳迈辽技术转移中心有限公司 | Tft玻璃基板薄化工艺预处理剂 |
| CN106630658B (zh) * | 2016-12-31 | 2018-11-20 | 江苏来德福汽车部件有限公司 | 液晶显示屏玻璃基板薄化工艺预处理组合物 |
| US10632783B1 (en) | 2017-04-25 | 2020-04-28 | Ysidro C. Chacon | Method for adhering embellishments to a glass substrate |
| US11186771B2 (en) * | 2017-06-05 | 2021-11-30 | Versum Materials Us, Llc | Etching solution for selectively removing silicon nitride during manufacture of a semiconductor device |
| US10870799B2 (en) * | 2017-08-25 | 2020-12-22 | Versum Materials Us, Llc | Etching solution for selectively removing tantalum nitride over titanium nitride during manufacture of a semiconductor device |
| US11136673B2 (en) | 2019-02-08 | 2021-10-05 | The Boeing Company | Method of surface micro-texturing with a subtractive agent |
| US11142830B2 (en) | 2019-02-08 | 2021-10-12 | The Boeing Company | Method of surface micro-texturing with a subtractive agent |
| CN114620939B (zh) * | 2020-12-09 | 2023-03-14 | Oppo广东移动通信有限公司 | 壳体组件及其制备方法和电子设备 |
| CN116040949B (zh) * | 2021-10-28 | 2024-06-18 | 比亚迪股份有限公司 | 一种玻璃刻蚀液、具有螺母图案的玻璃及其生产方法 |
| CN116040952B (zh) * | 2021-10-28 | 2024-06-18 | 比亚迪股份有限公司 | 玻璃刻蚀液、具有晶耀图案的玻璃及其生产方法 |
| CN115124249B (zh) * | 2022-01-20 | 2024-01-23 | 佛山犀马精细化工有限公司 | 一种玻璃基材萤石状抗指纹印及闪光效果蚀刻成型工艺 |
| WO2024127794A1 (ja) * | 2022-12-13 | 2024-06-20 | 株式会社ダイセル | 表面処理剤、及びエッチングされたシリコン基板の製造方法 |
| CN115881969B (zh) * | 2023-02-07 | 2023-05-16 | 四川大学 | 一种硼氮掺杂多孔碳基负极活性材料及其制备方法与应用 |
Family Cites Families (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US283423A (en) * | 1883-08-21 | Bekgke | ||
| US1470772A (en) * | 1922-08-21 | 1923-10-16 | Henry L Greenbaum | Paste for etching glass |
| US2067925A (en) * | 1934-03-07 | 1937-01-19 | Clayton-Kennedy Nance | Composition for etching and etching transfers |
| US2903345A (en) * | 1957-11-15 | 1959-09-08 | American Cyanamid Co | Etching of barium glass |
| US3810784A (en) * | 1969-10-09 | 1974-05-14 | Owens Corning Fiberglass Corp | Reversible shear thinning gel coated glass fiber strand |
| DE2557079C2 (de) * | 1975-12-18 | 1984-05-24 | Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart | Verfahren zum Herstellen einer Maskierungsschicht |
| US4097309A (en) * | 1977-01-31 | 1978-06-27 | The Boeing Company | Thermally isolated solar cell construction |
| DE2929589A1 (de) * | 1979-07-04 | 1981-01-22 | Bbc Brown Boveri & Cie | Verfahren zur herstellung eines optisch transparenten und elektrisch leitfaehigen filmmusters |
| DD153360A1 (de) * | 1980-10-01 | 1982-01-06 | Heinz Schicht | Mattierungspaste fuer glas |
| US4376673A (en) * | 1981-02-19 | 1983-03-15 | Pennwalt Corporation | Method for etching dental porcelain |
| JPS5888143A (ja) * | 1981-11-20 | 1983-05-26 | Nissha Printing Co Ltd | 凹凸表面を有する着色ガラス製品の製造方法 |
| JPS5888142A (ja) * | 1981-11-20 | 1983-05-26 | Nissha Printing Co Ltd | 高温用ガラス腐触剤並びにそれを用いたガラスの腐触方法 |
| US4578407A (en) * | 1982-03-31 | 1986-03-25 | Gaf Corporation | Thixotropic rust removal coating and process |
| US4781792A (en) * | 1985-05-07 | 1988-11-01 | Hogan James V | Method for permanently marking glass |
| DE3601834A1 (de) * | 1986-01-20 | 1987-07-23 | Schering Ag | Verfahren zur haftfesten metallisierung von keramischen materialien |
| US4761244A (en) * | 1987-01-27 | 1988-08-02 | Olin Corporation | Etching solutions containing ammonium fluoride and an alkyl polyaccharide surfactant |
| DE3725346A1 (de) * | 1987-07-30 | 1989-02-09 | Nukem Gmbh | Verfahren zur wiederverwendung von silizium-basismaterial einer metall-isolator-halbleiter-(mis)-inversionsschicht-solarzelle |
| US4921626A (en) * | 1989-08-23 | 1990-05-01 | Automark Corporation | Glass etching composition and method of making |
| JP2890988B2 (ja) * | 1992-08-17 | 1999-05-17 | 日立化成工業株式会社 | 剥離用組成物及び剥離方法 |
| US6084175A (en) * | 1993-05-20 | 2000-07-04 | Amoco/Enron Solar | Front contact trenches for polycrystalline photovoltaic devices and semi-conductor devices with buried contacts |
| US6552414B1 (en) * | 1996-12-24 | 2003-04-22 | Imec Vzw | Semiconductor device with selectively diffused regions |
| CA2248568A1 (en) * | 1997-01-09 | 1998-07-16 | Scott J. Beleck | Acid deoxidizing/etching composition and process suitable for vertical aluminum surfaces |
| US5965465A (en) * | 1997-09-18 | 1999-10-12 | International Business Machines Corporation | Etching of silicon nitride |
| US6670281B2 (en) * | 1998-12-30 | 2003-12-30 | Honeywell International Inc. | HF etching and oxide scale removal |
| US6337029B1 (en) * | 1999-01-21 | 2002-01-08 | Xim Products | Method and composition for etching glass ceramic and porcelain surfaces |
| DE19910816A1 (de) * | 1999-03-11 | 2000-10-05 | Merck Patent Gmbh | Dotierpasten zur Erzeugung von p,p+ und n,n+ Bereichen in Halbleitern |
| AU4314600A (en) * | 1999-04-27 | 2000-11-10 | Hiroshi Miwa | Glass etching composition and method for frosting using the same |
-
2001
- 2001-03-23 IL IL15249701A patent/IL152497A0/xx unknown
- 2001-03-23 CN CNB018087086A patent/CN100343189C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2001-03-23 EP EP01915409A patent/EP1276701B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-23 KR KR1020027014508A patent/KR100812891B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2001-03-23 MX MXPA02010634A patent/MXPA02010634A/es active IP Right Grant
- 2001-03-23 AU AU2001242510A patent/AU2001242510B2/en not_active Ceased
- 2001-03-23 CA CA2407530A patent/CA2407530C/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-03-23 WO PCT/EP2001/003317 patent/WO2001083391A1/de active Application Filing
- 2001-03-23 US US10/258,747 patent/US20030160026A1/en not_active Abandoned
- 2001-03-23 PL PL358687A patent/PL207872B1/pl unknown
- 2001-03-23 AU AU4251001A patent/AU4251001A/xx active Pending
- 2001-03-23 RU RU2002130248/03A patent/RU2274615C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2001-03-23 JP JP2001580827A patent/JP2003531807A/ja active Pending
- 2001-04-20 TW TW090109529A patent/TWI243801B/zh not_active IP Right Cessation
-
2003
- 2003-08-01 HK HK03105546A patent/HK1053295A1/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1426381A (zh) | 2003-06-25 |
| WO2001083391A1 (de) | 2001-11-08 |
| AU2001242510B2 (en) | 2006-02-23 |
| KR20030004377A (ko) | 2003-01-14 |
| PL358687A1 (pl) | 2004-08-09 |
| CA2407530C (en) | 2010-05-11 |
| AU4251001A (en) | 2001-11-12 |
| EP1276701B1 (de) | 2012-12-05 |
| RU2002130248A (ru) | 2004-03-20 |
| MXPA02010634A (es) | 2003-03-10 |
| US20030160026A1 (en) | 2003-08-28 |
| EP1276701A1 (de) | 2003-01-22 |
| RU2274615C2 (ru) | 2006-04-20 |
| KR100812891B1 (ko) | 2008-03-11 |
| IL152497A0 (en) | 2003-05-29 |
| CN100343189C (zh) | 2007-10-17 |
| TWI243801B (en) | 2005-11-21 |
| JP2003531807A (ja) | 2003-10-28 |
| HK1053295A1 (en) | 2003-10-17 |
| CA2407530A1 (en) | 2002-10-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| PL207872B1 (pl) | Drukowalne homogeniczne, nie-ziarniste medium trawiące do trawienia powierzchni szkieł, jego zastosowania oraz sposób trawienia nieorganicznych, szkło-podobnych powierzchni krystalicznych | |
| US7837890B2 (en) | Printable medium for the etching of silicon dioxide and silicon nitride layers | |
| TWI439434B (zh) | 用於二氧化矽及氮化矽層之可印刷蝕刻介質 | |
| JP5734259B2 (ja) | 無機表面用エッチングペースト | |
| AU780184B2 (en) | Method for raw etching silicon solar cells | |
| JP5535851B2 (ja) | エッチングおよびドーピング複合物質 | |
| TWI391474B (zh) | 用於蝕刻氧化透明導電層之介質 | |
| US8088297B2 (en) | Combined etching and doping media for silicon dioxide layers and underlying silicon | |
| US20050247674A1 (en) | Etching pastes for silicon surfaces and layers | |
| JP2005536614A (ja) | 酸化チタン表面のためのエッチングペースト | |
| CN106098840A (zh) | 一种湿法黑硅制备方法 | |
| TW202330431A (zh) | 用於製造紋理化玻璃製品之蝕刻劑 | |
| CN111719186A (zh) | 一种微纳复合绒面结构的多晶黑硅制备方法 | |
| JP2001163638A (ja) | 表面修飾石英ガラス及びその製造方法並びにその用途 |