KR960032577A - 기판처리장치 및 기판처리방법 - Google Patents

기판처리장치 및 기판처리방법 Download PDF

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Abstract

기판처리장치는, 웨이퍼(W)가 반송되는 Y축 방향으로 늘어지는 공통의 통로와, 이 공통 통로의 양측에 다단계로 적층된 복수의 처리 유니트와, 이들의 처리 유니트에 웨이퍼(W)를 반입/반출하기 위하여, 공통의 통로내를 Y축 방향으로 이동함과 동시에, Z축 주위에 θ회전하는 주 헨드라와, 이 주 헨드라내에서 Z축 방향으로 이동하도록 설치된 아암부와, 각각이 웨이퍼(W)를 유지하도록 상기 아암부에 다단으로 배설되어, 각각이 상기 아암부로부터 XY면내에서 전진 또는 후퇴하는 복수의 유지 아암과, 아암부에 설치되어 복수의 유지아암에 있어서의 웨이퍼(W)의 유지상태를 검지하는 광학 센서와, 이 광학 센서로부터의 검지결과를 토대로, 주 헨드라의 동작, 아암부의 동작, 및 복수의 유지아암의 동작을 각각 제어하는 제어기를 구비하며, 제어기에 의해, 주 헨드라 및 아암부 중 적어도 한쪽을 동작시키면서, 각 유지아암을 전진 또는 후퇴시키고, 유지아암이 처리유니트에 도착하기 전에 유지아암에 의한 웨이퍼(W)의 유지상태를 광학 센서로 검지해 둔다.

Description

기판처리장치 및 기판처리방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명의 제1실시형태에 관한 레지스트 처리장치를 도시하는 블록평면도.

Claims (18)

  1. 단수 또는 복수의 기판이 반송되는 Y축 방향으로 늘어지는 공통의 통로와, 이 공통 통로의 양측에 다단계로 적층된 복수의 처리 유니트와, 이들의 처리 유니트에 기판을 반입/반출하기 위하여, 상기 공통의 통로내를 Y축 방향으로 이동함과 동시에, Z축 주위에 θ회전하는 주 헨드라와, 이 주 헨드라내에서 Z축 방향으로 이동하도록 설치된 아암부와, 각각이 기판을 유지하도록 상기 아암부에 다단으로 배설되어, 각각이 상기 아암부로부터 XY면내에 전진 또는 후퇴하는 복수의 유지 아암과 이 검지수단의 검지결과를 토대로, 상기 주 헨드라의 동작, 상기 아암부의 동작, 및 상기 복수의 유지아암의 동작을 각각 제어하는 제어수단을 구비하며, 상기 제어수단은, 주 헨드라 및 아암부 중, 적어도 한쪽을 동작시키면서, 각 유지아암을 전진 또는 후퇴시키고, 유지아암이 처리유니트에 도착하기 전에 유지아암에 의한 기판의 유지상태를 검지수단으로 검지해 두는 것을 특징으로 하는 기판에 대해 복수의 처리를 하는 기판처리장치.
  2. 제1항에 있어서, 제어수단은, 주 헨드라 및 아암부 중, 적어도 한쪽의 동작중, 또한, 유지아암의 처리유니트와 물리적인 간섭을 일으키는 간섭영역에 들어가기 까지의 동안에, 각 유지아암을 진퇴시키는 것을 특징으로 하는 장치.
  3. 제1항에 있어서, 검지수단은, Z축 방향의 광축을 가지는 광학 센서를 구비하고 있으며, 기판을 유지한 유지아암을 전진시키면, 그 유지기판이 상기 광축을 가로질러 검출광이 차단되며, 그 결과, 그 유지기판이 검출되는 것을 특징으로 하는 장치.
  4. 제3항에 있어서, 유지아암은, 각각 독립하여 전진 또는 후퇴할 수 있도록 아암부에 설치되며, 유지아암의 지지부에는 검출광을 통하게 하기 위한 절결개구부가 형성되며, 상기 제어기는, 하나의 유지아암의 전진기간과 다른 하나의 유지아암의 후퇴 기간이 오버랩되도록 양 유지아암을 각각 동작시키고, 이 동작중에 상기 절결개구부를 통과한 검출광을 검출하는 것을 특징으로 하는 장치.
  5. 제1항에 있어서, 각 처리 유니트는, 상기 공통의 통로쪽을 향하도록 형성된 개구와, 기판이 재치되는 재치대를 구비하며, 상기 유지아암을 X축 방향으로 전진시킴으로써 상기 개구를 통하여 처리 유니트내로 기판을 장입하고, 이어서 상기 아암부를 Z축 방향으로 하강시킴으로써, 상기 재치대 위에 기판을 이동적재하고, 또한, 상기 아암부를 Z축 방향으로 상승시킴으로써, 상기 재치대 위로부터 기판을 들어 올리고, 이어서 상기 유지아암을 X축 방향으로 후퇴시킴으로써 상기 개구를 통하여 처리 유니트내로부터 기판을 끄집어 내는 것을 특징으로 하는 장치.
  6. 제1항에 있어서, 더욱 주 헨드라에 기판을 수신하기 위한 서브헨드라를 가지는 것을 특징으로 하는 장치.
  7. 제1항에 있어서, 더욱 주 헨드라는, 상기 아암부를 Z축 방향으로 이동시키는 승강기구를 구비하고 있으며, 이 승강기구는, 상기 아암부에 연결된 슬라이더와, 이 슬리이더어를 Z축 방향으로 안내하는 가이드레일과, 상기 슬라이더가 장착된 벨트와, 이 벨트가 감겨진 구동 풀리 및 종동풀리와, 상기 가이드레일과 평행으로 설치된 중공의 로드레스 실린더와, 이 로드레드 실린더의 하단에 가압가스를 공급하여 로드레스 실린더에 상승력을 가하는 상승력 부여수단을 가지는 것을 특징으로 하는 장치.
  8. 제1항에 있어서, 검지수단은, 유지아암의 상방에 설치된 발광부와, 유지아암의 하방에 설치된 수광부를 구비하는 것을 특징으로 하는 장치.
  9. 제1항에 있어서, 피처리기판의 주연부를 유지하는 유지부를 구비한 제1아암 및 제2아암을 가지는 반송장치는 더욱, 피처리기판의 하면에만 당접시켜 이 피처리기판을 유지하는 유지부를 구비한 제3아암을 가지는 것을 특징으로 하는 장치.
  10. 제1항에 있어서, 최상단에 위치하는 유지아암은, 기판과 직접 접촉하는 부분이 마찰계수가 큰 재료로 만들어져 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  11. 제1항에 있어서, 제어수단은, 주 헨드라 및 아암부의 이동거리를 구하는 연산수단을 구비하고 있으며, 이 연산수단에 의해 구한 주 헨드라 및 아암부의 이동거리에 따라, 주 헨드라 및 아암부를 이동시킬 때의 가속도를 증감시키는 것을 특징으로 하는 장치.
  12. 제1항에 있어서, 제어수단은, 유지아암으로부터 처리유니트내의 재치대 위에 기판을 이동적재할 때에는, 아암부의 하강속도를 느리게 하는 것을 특징으로 하는 장치.
  13. (a) 카세트 스테이션으로부터 프로세스부내의 기판을 반입하는 공정과, (b) 기판을, 유지아암에 의해 유지하고, 프로세스부내의 공통통로를 따라 Y축 방향으로 이동시킴과 동시에, Z축 방향으로도 이동시키고, 더욱에 Z축 주위에도 θ회전시키는 제1이동공정과, (c) 기판을, 처리유니트내로 반입하는 제2이동공정과, (d) 처리완료 기판을, 처리유니트내로부터 반출하는 제3이동공정과, (e) 프로세스부내로부터 카세트 스테이션으로 기판을 반출하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 가판처리방법.
  14. 제13항에 있어서, 공정(b)에 있어서는, 1처리유니트에서의 처리종류에 따라, 유지아암에 의한 기판의 유지 상태를 바꿈과 동시에, 상기 1처리유니트로부터 다른 1처리유니트까지 기판을 반송할 때의 반송속도를 바꾸는 것을 특징으로 하는 방법.
  15. 제13항에 있어서, 공정(c)에 있어서는, 유지아암을 X축 방향으로 전진시킴으로써 개구를 통하여 처리유니트내로 기판을 장입하고, 이어서 아암부를 Z축 방향으로 하강시킴으로써 처리유니트의 재치대 위로 기판을 이동적재하고, 또한 아암부를 Z축 방향으로 상승시킴으로써 상기 재치대 위에서 기판을 들어올리고, 이어서 상기 유지아암을 X축 방향으로 후퇴시킴으로써 상기 개구를 통하여 처리유니트내로부터 기판을 끄집어 내는 것을 특징으로 하는 방법.
  16. 제13항에 있어서, 공정(b)에 있어서는, 기판의 이동거리에 따라, 기판을 이동시킬때의 가속도를 증감시키는 것을 특징으로 하는 방법.
  17. 제13항에 있어서, 공정(c)에 있어서는, 유지아암으로부터 처리유니트내의 재치대 위에 기판을 이동적재할 때에는, 아암부의 하강속도를 느리게 하는 것을 특징으로 하는 방법.
  18. 제13항에 있어서, 공정(c)의 제2이동공정과 공정(d)의 제3이동공정을 동시에 진행시키는 것을 특징으로 하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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