JPH11129184A - 基板処理装置および基板搬入搬出装置 - Google Patents

基板処理装置および基板搬入搬出装置

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JPH11129184A
JPH11129184A JP10047593A JP4759398A JPH11129184A JP H11129184 A JPH11129184 A JP H11129184A JP 10047593 A JP10047593 A JP 10047593A JP 4759398 A JP4759398 A JP 4759398A JP H11129184 A JPH11129184 A JP H11129184A
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JP10047593A
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English (en)
Inventor
Joichi Nishimura
讓一 西村
Masami Otani
正美 大谷
Yasuhiko Hashimoto
康彦 橋本
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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    • B25HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
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    • B25J18/00Arms
    • B25J18/02Arms extensible
    • B25J18/025Arms extensible telescopic
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B25HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
    • B25JMANIPULATORS; CHAMBERS PROVIDED WITH MANIPULATION DEVICES
    • B25J18/00Arms
    • B25J18/02Arms extensible
    • B25J18/04Arms extensible rotatable
    • HELECTRICITY
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高さ寸法が高い基板処理装置であっても、各
処理部に基板を搬出入することが可能であるとともに装
置の輸送時に基板搬送手段の再組立・調整の必要が生じ
ないこと。 【解決手段】 搬送ロボットTR1は、いわゆるテレス
コピック型の多段入れ子構造の伸縮昇降機構を形成して
いる。駆動機構D1の駆動により、支持部材48が上昇
し、同時に、昇降部材42dが上昇する。昇降部材42
dが上昇するとプーリ47cも同時に上昇する。プーリ
47cが上昇するとベルトL1に引き上げられるように
して昇降部材42cが上昇する。以下同様の作用によっ
て昇降部材42aの上側に設置されている搬送アーム3
1a,31bが上昇する。そして、多段入れ子構造の数
を多くすれば、搬送ロボットTR1の収納時の高さが高
くならず、装置の輸送時にも搬送ロボットTR1の再組
立・調整が不必要となる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体基板や液
晶用ガラス基板などの薄板状基板(以下、単に「基板」
と称する)に対して熱処理、薬液処理などの一連の処理
を行う基板処理装置およびこれに適用される基板搬入搬
出装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、基板に対して所定の熱処理、
薬液処理などの一連の処理を行う基板処理装置において
は、加熱処理を行う加熱処理部、冷却処理を行う冷却処
理部および薬液処理を行う薬液処理部間で搬送ロボット
により基板の搬送を行い、所定の順序で一連の基板処理
を行っている。そして、このような基板処理装置は、温
度、湿度およびパーティクルが管理されたクリーンルー
ム中に通常設置されている。
【0003】ところで、近年においては、基板の大口径
化がますます進み、直径が300mm以上の基板も取り
扱われるようになりつつある。基板のサイズが大きくな
ると、その基板を処理する各処理部も大きくなり、それ
につれて基板処理装置全体が大型化する。
【0004】一方、クリーンルームの管理の都合上、基
板処理装置が大型化するのは好ましくない。これは、ク
リーンルームを維持するのに温湿調ユニットやフィルタ
などの特別な設備を必要とし、特に最近は化学増幅型レ
ジストに対応するための化学吸着フィルタなどが必要と
なる場合もあるため、基板処理装置が平面的に占有する
面積(以下、「フットプリント」と称する)が大きくな
ると環境維持費のコストアップに結びつくからである。
【0005】そこで、基板処理装置のフットプリントの
増大を抑制するために、上記の薬液処理部、加熱処理
部、冷却処理部などの各処理部を多段に積層した基板処
理装置が提案され、使用されつつある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】各処理部を多段に積層
した基板処理装置では、フットプリントの増大は抑制で
きるものの、その高さは積層の程度に応じて高くなる。
そして、基板処理装置の高さが高くなるにつれて、各処
理部に基板の搬送を行う搬送ロボットの高さも高くな
る。
【0007】このような基板処理装置を製造し半導体製
造工場などに輸送する際には、輸送手段における荷物高
さ制限(例えば、航空機による輸送の場合は2200m
mが上限)の関係上、装置を上下方向で分割した状態で
輸送せざるを得ない。このときには、上記搬送ロボット
も上下方向で分割するか、または搬送ロボットを取り外
した状態で輸送する必要があるが、いずれにしても輸送
先の工場内において搬送ロボットの再組立・調整を行う
必要があるため、輸送工数・納入工数の増大が避けられ
ない。
【0008】このような問題を解決するため、搬送ロボ
ットの上下移動機構をパンタグラフ構造などの伸縮機構
で構成し、当該搬送ロボットの収縮時の高さを上記荷物
高さ制限以内とすることが考えられる。このようにすれ
ば、分割後の基板処理装置のうちの一方に搬送ロボット
を付設したまま輸送することができるため、再組立・調
整の必要はなくなる。
【0009】しかしながら、パンタグラフ構造は複数の
パンタグラフリンクで構成されており、当該パンタグラ
フ構造が最も収縮した状態であっても、複数のパンタグ
ラフリンクからなる厚さに相当する高さより下の高さ位
置には搬送ロボットが移動できなくなり、下段に配置さ
れた処理部にアクセスできなくなることもある。このよ
うなことを防ぐためには、パンタグラフリンクの長さを
長くして、少ない数のパンタグラフリンクで上下移動機
構を実現すれば良いが、そうすると、収縮時に要するス
ペースを考慮して搬送ロボットを配置する領域を確保す
る必要があり、基板処理装置のフットプリントが増大す
るという問題がある。
【0010】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
であり、高さ寸法が高い基板処理装置であっても、各処
理部に基板を搬出入することが可能であるとともに装置
のフットプリントを抑制することができ、さらに装置の
輸送時にも基板搬送手段の再組立・調整の必要のない基
板処理装置を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1に記載の発明は、高さ方向に伸縮自在の基
板搬送手段が、高さ方向に積層された複数の処理部に対
して基板を搬送して所定の処理を行う基板処理装置であ
って、前記基板搬送手段は、(a)基板を保持して前記複
数の処理部との間で基板の受け渡しを行う搬送アーム
と、(b)収納部材と当該収納部材に収納される被収納部
材とを含み、前記収納部材と前記被収納部材との相対昇
降動作により前記搬送アームを昇降させる伸縮昇降機構
とを備えている。
【0012】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の基板処理装置において、前記基板搬送手段は、(c)収
納カバー部材と当該収納カバー部材に収納される被収納
カバー部材とを含み、前記伸縮昇降機構の昇降動作に連
動して収納カバー部材と被収納カバー部材との収納状態
が変動して伸縮するとともに、前記伸縮昇降機構の周囲
を覆う状態に設けられたカバーをさらに備えている。
【0013】請求項3に記載の発明は、請求項1又は2
に記載の基板処理装置において、前記基板搬送手段は、
さらに、(d)前記搬送アームを鉛直軸周りに回転させる
回転駆動機構を備えている。
【0014】請求項4に記載の発明は、請求項3に記載
の基板処理装置において、前記回転駆動機構は、前記伸
縮昇降機構の上部に設けられていることを特徴としてい
る。
【0015】請求項5に記載の発明は、少なくとも鉛直
方向に移動可能な基板搬送手段が、所定の位置と、基板
の処理を行う処理部が配置されるユニット配置部に対す
る受渡位置との間で基板を搬送する基板搬入搬出装置で
あって、前記基板搬送手段は、(a)基板を保持する搬送
アームと、(b)収納部材と当該収納部材に収納される被
収納部材とを含み、前記収納部材と前記被収納部材との
相対昇降動作により前記搬送アームを昇降させる伸縮昇
降機構とを備えている。
【0016】請求項6に記載の発明は、請求項3に記載
の基板搬入搬出装置において、前記基板搬送手段は、
(c)収納カバー部材と当該収納カバー部材に収納される
被収納カバー部材とを含み、前記伸縮昇降機構の昇降動
作に連動して収納カバー部材と被収納カバー部材との収
納状態が変動して伸縮するとともに、前記伸縮昇降機構
の周囲を覆う状態に設けられたカバーをさらに備えてい
る。
【0017】請求項7に記載の発明は、請求項5又は6
に記載の基板搬入搬出装置において、前記基板搬送手段
は、さらに、(d)前記搬送アームを鉛直軸周りに回転さ
せる回転駆動機構を備えている。
【0018】請求項8に記載の発明は、請求項7に記載
の基板搬入搬出装置において、前記回転駆動機構は、前
記伸縮昇降機構の上部に設けられていることを特徴とし
ている。
【0019】
【発明の実施の形態】
<1.基板処理装置の全体構成>まず、本発明に係る基
板処理装置の全体構成について説明する。図1は、実施
形態の装置を説明する図である。図1(a)は、装置の
平面図であり、図1(b)は、装置の正面図である。な
お、図1には、その方向関係を明確にするためXYZ直
交座標系を付している。ここでは、床面に平行な水平面
をXY面とし、鉛直方向をZ方向としている。
【0020】図1に示すように、本実施の形態において
は、基板処理装置は、基板の搬出入を行うインデクサI
Dと、基板に処理を行う複数の処理ユニットおよび各処
理ユニットに基板を搬送する基板搬送手段が配置される
ユニット配置部MPと、図示しない露光装置とユニット
配置部MPとの間で基板の搬入/搬出を行うために設け
られているインターフェイスIFとから構成されてい
る。
【0021】ユニット配置部MPは、最下部に、薬剤を
貯留するタンクや配管等を収納するケミカルキャビネッ
ト11を備え、この上側であってその4隅には、基板に
処理液による処理を施す液処理ユニットとして、基板を
回転させつつレジスト塗布処理を行う塗布処理ユニット
SC1、SC2(スピンコータ)と、露光後の基板の現
像処理を行う現像処理ユニットSD1、SD2(スピン
デベロッパ)とが配置されている。さらに、これらの液
処理ユニットの上側には、基板に熱処理を行う多段熱処
理ユニット20が装置の前部及び後部に配置されてい
る。なお、装置の前側(Y方向の負の向き側)であって
両塗布処理ユニットSC1、SC2の間には、基板処理
ユニットとして、基板に純水等の洗浄液を供給して基板
を回転洗浄する洗浄処理ユニットSS(スピンスクラ
バ)が配置されている。
【0022】塗布処理ユニットSC1、SC2や現像処
理ユニットSD1、SD2に挟まれた装置中央部には、
周囲の全処理ユニットにアクセスしてこれらとの間で基
板の受け渡しを行うための基板搬送手段として、搬送ロ
ボットTR1が配置されている。この搬送ロボットTR
1は、鉛直方向に移動可能であるとともに中心の鉛直軸
回りに回転可能となっている。この搬送ロボットTR1
についてはさらに後述する。
【0023】なお、ユニット配置部MPの最上部には、
クリーンエアのダウンフローを形成するフィルタファン
ユニットFFUが設置されている。多段熱処理ユニット
20の直下にも、液処理ユニット側にクリーンエアのダ
ウンフローを形成するフィルタファンユニットFFUが
設置されている。
【0024】次に、図2は、図1の処理ユニットの配置
構成を説明する図である。塗布処理ユニットSC1の上
方には、多段熱処理ユニット20として、6段構成の熱
処理ユニットが配置されている。これらのうち、最下段
より数えて1段目の位置には基板の冷却処理を行うクー
ルプレート部CP1が設けられており、2段目,3段目
についても同様にクールプレート部CP2,CP3が設
けられている。そして、4段目には、基板に対して密着
強化処理を行う密着強化部AHが設けられ、5段目と6
段目の位置には、基板の加熱処理を行うホットプレート
部HP1,HP2が設けられている。
【0025】塗布処理ユニットSC2の上方にも、多段
熱処理ユニット20として、6段構成の熱処理ユニット
が配置されている。これらのうち、最下段より1段目か
ら3段目の位置にはクールプレート部CP4〜CP6が
設けられており、4段目から6段目の位置にはホットプ
レート部HP3〜HP5が設けられている。
【0026】現像処理ユニットSD1の上方にも、多段
熱処理ユニット20として、4段構成の熱処理ユニット
が配置されている。このうち、最下段より1段目,2段
目の位置にはクールプレート部CP7,CP8が設けら
れており、3段目,4段目の位置にはホットプレート部
HP6,HP7が設けられている。なお、最上段側の2
段は、本実施形態の装置の場合、空状態となっている
が、用途及び目的に応じてホットプレート部やクールプ
レート部、又はその他の熱処理ユニットを組み込むこと
ができる。
【0027】現像処理ユニットSD2の上方にも、多段
熱処理ユニット20として、2段構成の熱処理ユニット
が配置されている。このうち、最下段より1段目の位置
には、クールプレート部CP4が設けられており、2段
目の位置には、基板に対して露光後のベーキング処理を
行う露光後ベークプレート部PEBが設けられている。
この場合も、露光後ベークプレート部PEBより上段側
は空状態となっているが、用途及び目的に応じてホット
プレート部やクールプレート部、又はその他の熱処理ユ
ニットを組み込むことができる。
【0028】そして、上記の液処理ユニットや熱処理ユ
ニット間をユニット配置部MPの中央部に設けられた搬
送ロボットTR1が順次に搬送することによって基板に
対して所定の処理を施すことができる。
【0029】なお、インターフェイスIFは、ユニット
配置部MPにおいてレジストの塗布が終了した基板を露
光装置側に渡したり露光後の基板を露光装置側から受け
取るべく、かかる基板を一時的にストックする機能を有
し、図示を省略しているが、搬送ロボットTR1との間
で基板を受け渡すロボットと、基板を載置するバッファ
カセットとを備えている。
【0030】<2.搬送ロボットの構成1>次に、搬送
ロボットTR1について説明する。図3は、搬送ロボッ
トTR1の外観斜視図である。この搬送ロボットTR1
は、基板Wを保持する一対の搬送アーム31a,31b
を水平方向に移動させる水平移動機構と、伸縮しつつ鉛
直方向に移動させる伸縮昇降機構と、鉛直軸周りに回転
させる回転駆動機構とを備えている。そして、これらの
機構によって搬送アーム31a,31bは3次元的に移
動することが可能である。
【0031】本発明にかかる基板処理装置の搬送ロボッ
トTR1の伸縮昇降機構は、後述するいわゆるテレスコ
ピック型の伸縮機構であり、カバー41dをカバー41
cに収納可能であり、カバー41cをカバー41bに収
納可能であり、カバー41bをカバー41aに収納可能
である。そして、搬送アーム31a,31bを降下させ
る際には、カバーを順次に収納していくことができ、逆
に、搬送アーム31a,31bを上昇させる際には収納
した状態のカバーが順次に引き出されるように実現され
ている。これらのカバー41a〜41dは内部に設けら
れている伸縮昇降機構が、動作する際に発生する粉塵を
搬送ロボットTR1の外部に出さないために設けられて
おり、これにより基板へのパーティクルの付着を抑制す
ることができる。
【0032】また、この搬送ロボットTR1は基台44
上に設置されており、基台44の中心を軸として回転す
ることができるように回転駆動機構が構成されている。
なお、基台44に固定された状態で、固定カバー43が
取り付けられている。
【0033】図4,図5は、搬送ロボットTR1の動作
を説明するための側面断面図であり、図4は、伸縮昇降
機構が伸長した状態を示しており、図5は、伸縮昇降機
構が収縮した状態を示している。図に示すように、この
搬送ロボットTR1の内部は、上記のようにテレスコピ
ック型の多段入れ子構造となっている。そして、収縮時
において、昇降部材42aは昇降部材42bに収納さ
れ、昇降部材42bは昇降部材42cに収納され、昇降
部材42cは昇降部材42dに収納され、昇降部材42
dは固定部材42eに収納されるように構成されてい
る。
【0034】例えば、昇降部材42aと昇降部材42b
との関係をみると、昇降部材42aは昇降部材42bに
収納されるため、昇降部材42bが収納部材となり、昇
降部材42aが被収納部材となっている。また、昇降部
材42bと昇降部材42cとの関係をみると、昇降部材
42bは昇降部材42cに収納されるため、昇降部材4
2cが収納部材となり、昇降部材42bが被収納部材と
なっている。
【0035】そして、昇降部材42b,42c,42d
には、それぞれプーリ47a,47b,47cが取り付
けられている。これらプーリ47a,47b,47cに
は、ベルトL3,L2,L1が掛架されている。そし
て、ベルトL1の一端は固定部材42eの上部に固定さ
れており、他端は昇降部材42cの下部に固定されてい
る。同様に、ベルトL2は昇降部材42dの上部と昇降
部材42bの下部に固定されており、ベルトL3は昇降
部材42cの上部と昇降部材42aの下部に固定されて
いる。
【0036】そして、回転台45上に設置されたモータ
等の駆動機構D1を駆動することにより、支持部材48
が昇降し、この支持部材48に固着された昇降部材42
dが昇降する。ここで、伸縮昇降機構を伸長することに
より搬送アーム31a,31bを上昇させる場合につい
て説明する。まず、駆動機構D1の駆動により、支持部
材48が上昇し、同時に、昇降部材42dが上昇する。
昇降部材42dが上昇するとそれに取り付けられていた
プーリ47cも同時に上昇する。上記のようにベルトL
1の一端が固定部材42eに固定されているとともにベ
ルトL1の長さは一定であるため、プーリ47cが上昇
するとベルトL1に引き上げられるようにして昇降部材
42cが上昇する。昇降部材42cが上昇するとそれに
取り付けられていたプーリ47bが上昇し、ベルトL2
に引き上げられるようにして昇降部材42bが上昇す
る。昇降部材42bが上昇するとそれに取り付けられて
いたプーリ47aが上昇し、ベルトL3に引き上げられ
るようにして昇降部材42aが上昇する。このようにし
て、昇降部材42aの上側に設置されている搬送アーム
31a,31bを上昇させることができる。
【0037】また、伸縮昇降機構を収縮することにより
搬送アーム31a,31bを下降させる場合について
は、上記と逆に、駆動機構D1の駆動により、支持部材
48を下降させるようにすれば、各昇降部材が順次に連
動して下降し、収納部材となる昇降部材は、その内側に
被収納部材となる昇降部材を収納する。
【0038】なお、カバー41a〜41dは、それぞれ
昇降部材42a〜42dに取り付けられており、これら
カバー41a〜41dの昇降動作は、昇降部材42a〜
42dの動作に連動している。また、カバー41aは、
伸縮昇降機構の上面も覆うように形成されているが、そ
の他のカバー41b,41c,41dは、伸縮昇降機構
の側面のみを覆うように形成されており、昇降部材42
a〜42dとはプーリやベルト等の可動部の動作を妨げ
ないような状態で接続されている。
【0039】また、モータ等の駆動機構D1を駆動する
ことにより、支持部材48を昇降させる機構は、例えば
ラックとピニオンを用いてモータの回転動作を昇降動作
に変換するようにしても良いし、その他の方法を用いて
も良い。
【0040】そして、駆動機構D2は、回転台45を基
台44の軸Gを中心に回転させるための駆動機構であ
り、モータ等によって構成されている。従って、回転台
45が軸Gを中心に回転することによって、搬送アーム
31a,31bが軸Gを中心として回転することが可能
となっている。
【0041】このように搬送ロボットTR1は、テレス
コピック型の多段入れ子構造の伸縮昇降機構を有してい
るため、各処理ユニットに基板の搬送を行うための高さ
が高くなったとしても、多段入れ子構造の数を多くすれ
ば、搬送ロボットTR1の収納時の高さや収納時におけ
る幅方向のスペースを抑制することができ、ひいては基
板処理装置のフットプリントの増大を抑えることができ
る。また、高さ寸法が高い基板処理装置であっても、各
処理部に基板を搬出入することが可能であり、装置の輸
送時にも搬送ロボットTR1の再組立・調整が不必要と
なる。
【0042】次に、搬送ロボットTR1の搬送アーム3
1a,31bについて説明する。図6は、搬送アーム3
1a,31bの構造を示す図である。
【0043】ステージ35上には、ほぼ同一構造の2個
の搬送アーム31a,31bが取り付けられている。各
搬送アーム31a,31bは屈伸動作を行い、各搬送ア
ーム31a,31bの先端側に連結された第1アームセ
グメント34a,34bは、それぞれステージ35に対
する姿勢を維持しつつ水平方向に直進する。なお、第1
アームセグメント34a,34bは第2アームセグメン
ト33a,33bに連結されており、第2アームセグメ
ント33a,33bは第3アームセグメント32a,3
2bに連結されている。各アームセグメントは、搬送ア
ーム31a,31bの動作において互いに干渉しないよ
うに構成されている。そして、各搬送アーム31a,3
1bを互い違いに屈伸させれば、正面にある処理ユニッ
ト中の処理済み基板Wを取り出して、未処理の基板Wを
この処理ユニット中に搬入することができる。
【0044】これら各搬送アーム31a,31bのそれ
ぞれは、図7に示すような構成となっている。図7は、
搬送アーム31bの内部構造を示す側方断面図である。
なお、搬送アーム31aについても同様の構成であるこ
とは言うまでもない。搬送アーム31bは、基板Wを載
置する先端側の第1アームセグメント34bと、この第
1アームセグメント34bを水平面内で回動自在に支持
する第2アームセグメント33bと、この第2アームセ
グメント33bを水平面内で回動自在に支持する第3ア
ームセグメント32bと、この第3アームセグメント3
2bを水平面内で回動させる回転駆動装置59と、この
回転駆動装置59によって第3アームセグメント32b
を回動させたときに第2アームセグメント33b及び第
1アームセグメント34bに動力を伝達してこれらの姿
勢および移動方向を制御する屈伸機構である動力伝達手
段46とが設けられている。
【0045】第1アームセグメント34bの基端部に
は、第1回動軸51が下方に垂設固定されている。ま
た、第2アームセグメント33bの先端部には、第1回
動軸51を回動自在に軸受けする第1軸受け孔52が穿
設されている。また、第2アームセグメント33bの基
端部には、第2回動軸53が下方に垂設固定されてい
る。第3アームセグメント32bは、第2アームセグメ
ント33bと同じ長さ寸法に設定されており、その先端
部には、第2回動軸53を回動自在に軸受けする第2軸
受け孔54が穿設されている。また、第3アームセグメ
ント32bの基端部には、回転駆動装置59の回転力が
伝達される第3回動軸55が、下方に向けて垂設固定さ
れている。
【0046】動力伝達手段46は、第1回動軸51の下
端に固定された第1プーリ61と、第2軸受け孔54の
上面側において第2回動軸53に固定された第2プーリ
62と、第1プーリ61と第2プーリ62との間に掛架
された第1ベルト63と、第2回転軸53の下端に固定
された第3プーリ64と、第3アームセグメント32b
に固定されて第3回動軸55を遊嵌する第4プーリ65
と、第3プーリ64と第4プーリ65との間に掛架され
た第2ベルト66とを備えている。
【0047】ここで、第1プーリ61の径と第2プーリ
62の径とは2対1に設定され、また、第3プーリ64
の径と第4プーリ65の径とは1対2に設定されてい
る。また、第1回動軸51から第2回動軸53までの距
離と、第2回動軸53から第3回動軸55までの距離
は、同一の長さRに設定されている。
【0048】図8は、搬送アーム31bの動作を概念的
に説明する図である。図7,図8により動作について説
明すると、回転駆動装置59が第3回動軸55を介して
第3アームセグメント32bを角度αだけ反時計回りに
回動させると、第3アームセグメント32bの先端部に
軸受された第2回動軸53は、第2ベルト66及び第3
プーリ64を通じて第3回動軸55の2倍の角度β=2
αだけ時計回りに回動する。これによって、第2アーム
セグメント33bの先端部に軸受けされた第1回動軸5
1は、水平方向に直進する。この際、第1回動軸51
は、第2プーリ62及び第1ベルト63を通じて回動角
を制御されている。ここで、第2アームセグメント33
bを基準とすると、第1回動軸51は、第2回動軸53
の1/2倍の角度γ=αだけ反時計回りに回動すること
になるが、第2アームセグメント33b自体が回動して
おり、結果的に、第1アームセグメント34bは、回転
駆動装置59に対する姿勢を維持しながら直進する。
【0049】このように、この搬送ロボットTR1は、
基板Wを保持する一対の搬送アーム31a,31bを水
平方向に移動させる水平移動機構と、伸縮しつつ鉛直方
向に移動させる伸縮昇降機構と、鉛直軸周りに回転させ
る回転駆動機構とを備えており、これらの機構によって
搬送アーム31a,31bは3次元的に移動することが
でき、基板Wを任意の処理ユニットに搬送することが可
能である。
【0050】<3.搬送ロボットの構成2>図4および
図5に示した搬送ロボットTR1の側面断面図では、回
転駆動機構が最下段に設置され、回転駆動機構によって
回転する回転台45上に伸縮昇降機構が設けられ、さら
に伸縮昇降機構の上部に水平移動機構が設けられてい
る。すなわち、搬送ロボットTR1の下部から上部にか
けて回転駆動機構,伸縮昇降機構,水平移動機構の順序
で設置されている。
【0051】しかし、この実施の形態の搬送ロボットT
R1の構成は、上記のようなものに限定するものではな
く、図9に示すような構成としても良い。図9は、搬送
ロボットTR1の側面断面図であり、図4とは異なる構
成を示している。
【0052】図9に示す搬送ロボットTR1では、伸縮
昇降を行うための駆動機構D1および固定部材42e
は、基台44上に固定された状態で設置されている。そ
して、伸縮昇降機構の上部に固定台36が設置されてい
る。さらに固定台36の上側には固定台36に対して回
動可能なステージ35が設けられている。ステージ35
の内部には、固定台36の内側に形成されたガイド部分
に沿ってステージ35を回動させる駆動機構D2が設け
られている。従って、駆動機構D2の駆動によって、ス
テージ35から上側部分が鉛直方向の回転軸Gを中心に
回転する。そして、ステージ35が回転することによっ
て搬送アーム31a,31bも回転軸Gを中心に回転す
る。
【0053】なお、図9には、搬送アーム31a,31
bを駆動する回転駆動装置59を示しているが、この回
転駆動装置59はそれぞれの搬送アーム31a,31b
について1個ずつ設けられる。また、回転駆動機構以外
の機構部(伸縮昇降機構,水平移動機構)は、上述した
内容と同様であるため、その説明を省略する。
【0054】このように、図9に示す搬送ロボットTR
1は、図6に示したステージ35の内部にステージ35
を回動させる駆動機構D2が設けられ、伸縮昇降機構の
上部に回転駆動機構が設けられた構成である。従って、
回転駆動機構が動作しても伸縮昇降機構は回転動作を行
わない。
【0055】ここで、図4,図5に示した構成のように
搬送ロボットTR1の下部から上部にかけて回転駆動機
構,伸縮昇降機構,水平移動機構の順序で設置されてい
ると、伸縮昇降機構が最大に伸長した状態で回転駆動機
構が動作する場合は、搬送ロボットTR1のほぼ全体が
回転するため、搬送ロボットTR1の鉛直軸に対する振
れが問題となる可能性がある。
【0056】しかし、搬送ロボットTR1を図9に示す
ように回転駆動機構を伸縮昇降機構の上部に設けて実現
すると、伸縮昇降機構が最大に伸長した状態で回転駆動
機構が動作する場合であっても伸縮昇降機構は回転しな
いため、回転に伴う振れが生じる可能性が非常に小さく
なる。また、ステージ35の安定した回転を実現するこ
とができるので、回転角の精度や回転速度をさらに向上
させることができる。また、駆動機構D2として必要な
動力が小さいので、回転駆動機構の消費する電力も小さ
くなるという効果も生じる。
【0057】また、図9のような構成の搬送ロボットT
R1とすると、搬送アーム31a,31bを軸G周りに
回転させる際に、固定台36から下側部分については回
転しないので、搬送ロボットTR1のほぼ全体が回転す
る場合と比べてユニット配置部MP内の気流の乱れを抑
えることができる。
【0058】また、一般に、回転動作を伴う回転駆動部
から外部にケーブルを引き出す場合には、回転動作を考
慮した複雑なケーブル配置となるが、図9のような搬送
ロボットTR1の構成とすることにより、そのような複
雑なケーブル配置を伸縮昇降機構の昇降部材42a〜4
2dの内側に納めることができるため、搬送ロボットT
R1の外部に導き出されるケーブルについては回転動作
等を考慮する必要がなく、そのケーブル配置を簡単にす
ることができる。
【0059】さらに、駆動機構D2等が故障した場合に
は、固定台36より上側部分を搬送ロボットTR1から
取り外して修理することが可能となり、メンテナンス性
能も向上する。
【0060】このように搬送ロボットTR1を構成する
にあたって回転駆動機構を伸縮昇降機構の上部に設ける
ことにより、上記のような特有の効果を生ずるので、さ
らに好ましい実施形態となる。
【0061】<4.搬送ロボットの動作>図10および
図11は搬送ロボットTR1の昇降動作を説明する図で
あり、図10は当該搬送ロボットTR1が液処理ユニッ
トにアクセスするとき、また図11は多段熱処理ユニッ
ト20にアクセスする様子を示す。
【0062】まず、図10に示すように、搬送ロボット
TR1が液処理ユニットにアクセスするときは、テレス
コピック型の伸縮昇降機構40が縮んだ状態となり、搬
送アーム31a,31bが液処理ユニットと所定の高さ
位置P1で基板の受け渡しを行うことができるように高
さ調整される。そして、搬送アーム31aまたは搬送ア
ーム31bを液処理ユニットに差し入れて基板の受け渡
しを行う。
【0063】一方、図11に示すように、搬送ロボット
TR1が多段熱処理ユニット20にアクセスするとき
は、テレスコピック型の伸縮昇降機構40が伸長した状
態となる。そして、多段熱処理ユニット20の最上段に
設けられた熱処理ユニットにアクセスする場合は、搬送
アーム31a,31bが熱処理ユニットと所定の高さ位
置P2で基板の受け渡しを行うことができるように高さ
調整される。
【0064】液処理ユニットまたは熱処理ユニットのい
ずれにアクセスする場合であっても、搬送ロボットTR
1の回転駆動機構によって搬送アーム31a,31bを
鉛直軸回りに回転させて対象となる処理ユニットに対向
させ、水平移動機構によって搬送アーム31a,31b
を前後に移動させて基板の受け渡しを行う。なお、回転
駆動機構は、図4,図5のように搬送ロボットのほぼ全
体を回転させるものであっても良いし、また、図9のよ
うに搬送アーム31a,31bが設けられたステージを
含むそれより上側部分を回転させるものであっても良
い。
【0065】以上説明したような基板処理装置は、処理
ユニットを多段に配置し高さが高いため、これを輸送す
る際には装置を上下方向で2分割(例えば、フィルタフ
ァンユニットFFUと多段熱処理ユニット20との間で
分割)し、それぞれの部分を別個に輸送する。そして、
このときにテレスコピック型の伸縮昇降機構40を最も
収縮した状態にしておけば、搬送ロボットTR1の高さ
は最小となる。従って、その高さが輸送手段における荷
物の高さ制限以下であれば、搬送ロボットTR1を分割
後の装置の下側部分に設置した状態のまま輸送すること
ができ、再組立・調整の必要はなくなる。
【0066】また、パンタグラフ構造を採用した場合の
ように、鉛直方向のストロークを大きくしようとする際
のパンタグラフリンクの厚さや、収縮時のフットプリン
トが問題となることはない。
【0067】従って、この実施の形態の搬送ロボットを
適用した基板処理装置では、高さ寸法が高い基板処理装
置であっても、各処理部に基板を搬出入することが可能
であるとともに装置のフットプリントを抑制することが
でき、さらに装置の輸送時にも搬送ロボットの再組立・
調整の必要のない基板処理装置を実現することができ
る。
【0068】<5.変形例>上記のように伸縮昇降機構
を有する構造の搬送ロボットは、ユニット配置部MP内
の搬送ロボットに限らず、その他の基板の搬送を行うロ
ボットに適用することができる。
【0069】図12および図13は、図1のインデクサ
IDにおいてカセットから基板を取り出してユニット配
置部MPとの所定の受渡位置に基板を搬送したり、ユニ
ット配置部MPで所定の処理が終了した基板を上記受渡
位置で受け取ってカセットへの収容を行う移載ロボット
TR2の概要を示す斜視図である。図12,図13に示
すように、移載ロボットTR2の搬送アーム75は、雄
ねじ77,ガイドレール76等からなるY軸方向の駆動
機構であるY駆動機構によって±Y方向に移動すること
が可能となっている。
【0070】また、基台74に設けられたZ軸方向の駆
動機構である伸縮昇降機構により、±Z方向に昇降可能
になっている。この伸縮昇降機構は、ユニット配置部M
P内の搬送ロボットTR1と同様の構造となっている。
すなわち、いわゆるテレスコピック型の伸縮機構であ
り、カバー71aがカバー71bを収納し、カバー71
bがカバー71cを収納し、カバー71cがカバー71
dを収納するように構成されている。そして、搬送アー
ム75を降下させる際には、カバーを順次に収納してい
き、逆に、搬送アーム75を上昇させる際には収納した
状態のカバーが順次に引き出されるような構成となって
いる。そして、図12に示す移載ロボットTR2では、
伸縮昇降機構も含むそれより上部が回転駆動機構により
鉛直方向の回転軸を中心として回転することが可能なよ
うに実現されており、図13に示す移載ロボットTR2
では、搬送アーム75が設けられたステージ78を含む
それより上部がステージ78内部に設けられた駆動機構
により鉛直方向の回転軸Gを中心として回転することが
可能なように実現されている。なお、この伸縮昇降機構
や回転駆動機構の詳細は、図4,図5,図9で説明した
ものと同様であるため、その説明を省略する。このよう
に、インデクサIDの移載ロボットTR2においてもテ
レスコピック型の多段入れ子構造として伸縮昇降機構を
実現することができる。
【0071】さらに、搬送アーム75は、屈伸動作を行
うことによって水平方向に基板を搬送することが可能と
なっている。この搬送アーム75の動作についても、図
7,図8で説明したものと同様である。
【0072】このような移載ロボットTR2を搭載した
インデクサIDと、上述の搬送ロボットTR1を搭載し
たユニット配置部MPとにおける基板の受け渡し動作に
ついて説明する。図14は、ユニット配置部MP内にお
ける基板Wの搬送、インデクサID内における基板の搬
送、ユニット配置部MP及びインデクサID間における
基板の受け渡しを説明する図である。
【0073】インデクサIDに設けた移載ロボットTR
2は、ユニット配置部MP側の搬送ロボットTR1との
間で基板の受け渡しを行う。この移載ロボットTR2
は、ユニット配置部MP側の搬送ロボットTR1によっ
て受け渡しポジションP3まで搬送されてきた基板Wを
受け取ってカセットCA中に収納するとともに、カセッ
トCA中の基板WをカセットCA外に取り出し、受け渡
しポジションP3まで移動させて搬送ロボットTR1に
渡す。すなわち、移載ロボットTR2は、全体として、
インデクサIDに設けた通路上をY方向に往復移動可能
となっている。そして、図示の位置では、基板を保持す
る移載アームをZ軸及びX軸方向に沿って移動させて正
面の搬送ロボットTR1との間で基板Wの受け渡しを行
う。一方、移載ロボットTR2が図示の位置から±Y方
向に移動するとともに回転し、いずれかのカセットCA
の正面に対向する状態となると、搬送アームが±Z方向
及び−X方向に移動してカセットCAとの間で基板Wの
受け渡しを行う。
【0074】また、ユニット配置部MPの中央に設けた
搬送ロボットTR1は、受け渡しポジションP3で移載
ロボットTR2から受け取った基板Wを周囲の処理ユニ
ットに渡す。
【0075】なお、インデクサIDやインターフェイス
IFに関しては、受け渡しポジションP3,P4におい
て基板の交換が行われる。すなわち、搬送ロボットTR
1は、ユニット配置部MPにおいて所定の処理を終了し
た基板Wを受け渡しポジションP4まで移動させてここ
でインターフェイスIFとの間の基板交換を行う。ま
た、搬送ロボットTR1は、全ての処理を終了した基板
Wを受け渡しポジションP3まで移動させてここでイン
デクサIDとの間の基板交換を行う。
【0076】また、インターフェイスIFは既述のよう
に露光装置とユニット配置部MPとの間で基板の搬入/
搬出を行うために設けられているため、露光装置から基
板を受け取ってユニット配置部MPの受け渡しポジショ
ンP4に搬送したり、受け渡しポジションP4から基板
を受け取って露光装置に搬送したりするための基板の搬
送ロボットがインターフェイスIF内にも設けられる。
このインターフェイスIF内の搬送ロボットも図12又
は図13に示すようなインデクサIDの移載ロボットT
R2と同様の構成を適用することができる。
【0077】つまり、インデクサIDやインターフェイ
スIFのようにユニット配置部MPに対して基板を搬入
したり、搬出したりする基板搬入搬出装置においても、
この実施の形態で示した伸縮昇降機構を有する搬送ロボ
ットを適用することができ、この場合は、さらに、図1
2又は図13に示すように、雄ねじ77,ガイドレール
76等からなるY軸方向の駆動機構を備えることが好ま
しい。
【0078】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1に記載の
発明によれば、複数の処理部が高さ方向に積層された基
板処理装置において、基板を順次に搬送する基板搬送手
段が、基板を保持して複数の処理部との間で基板の受け
渡しを行う搬送アームと、収納部材と当該収納部材に収
納される被収納部材とを含み、収納部材と被収納部材と
の相対昇降動作により搬送アームを昇降させる伸縮昇降
機構とを備えるため、高さ寸法が高い基板処理装置であ
っても、各処理部に基板を搬出入することが可能である
とともに、収納部材に被収納部材を収納することにより
高さ寸法を抑えることができるので、装置の輸送時にも
基板搬送手段の再組立・調整が不必要である。また、伸
縮昇降機構による収縮時の基板搬送手段の占めるスペー
スを抑制することができ基板処理装置の占めるフットプ
リントを低減することができる。
【0079】請求項2に記載の発明によれば、基板搬送
手段は、収納カバー部材と当該収納カバー部材に収納さ
れる被収納カバー部材とを含み、伸縮昇降機構の昇降動
作に連動して収納カバー部材と被収納カバー部材との収
納状態が変動して伸縮するとともに、伸縮昇降機構の周
囲を覆う状態に設けられたカバーを備えるため、内部に
設けられている伸縮昇降機構が、動作する際に発生する
粉塵を基板搬送手段の外部に出さず、基板へのパーティ
クルの付着を抑制することができる。
【0080】請求項3に記載の発明によれば、基板搬送
手段は、さらに、搬送アームを鉛直軸周りに回転させる
回転駆動機構を備えるため、搬送アームは周方向にも移
動することができ、複数の処理部に対して基板を有効に
搬送することができる。
【0081】請求項4に記載の発明によれば、回転駆動
機構は、伸縮昇降機構の上部に設けられているため、伸
縮昇降機構は回転しないので、回転に伴う振れが生じる
可能性が非常に小さくなるとともに、回転駆動機構の消
費する電力も小さくなり、さらに、基板搬送手段の付近
の気流の乱れを抑えることができる。また、ケーブル配
置やメンテナンスも容易となる。
【0082】請求項5に記載の発明によれば、所定の位
置と基板の処理を行う処理部が配置されるユニット配置
部に対する受渡位置との間で基板を搬送する基板搬送手
段が、基板を保持する搬送アームと、収納部材と当該収
納部材に収納される被収納部材とを含み、収納部材と被
収納部材との相対昇降動作により搬送アームを昇降させ
る伸縮昇降機構とを備えるため、基板搬入搬出装置にお
いても収納部材に被収納部材を収納することにより高さ
寸法を抑えることができるので、装置の輸送時にも基板
搬送手段の再組立・調整が不必要である。また、伸縮昇
降機構による収縮時の基板搬送手段の占めるスペースを
抑制することができ、基板搬入搬出装置の占めるフット
プリントを低減することができる。
【0083】請求項6に記載の発明によれば、基板搬送
手段は、収納カバー部材と当該収納カバー部材に収納さ
れる被収納カバー部材とを含み、伸縮昇降機構の昇降動
作に連動して収納カバー部材と被収納カバー部材との収
納状態が変動して伸縮するとともに、伸縮昇降機構の周
囲を覆う状態に設けられたカバーを備えるため、内部に
設けられている伸縮昇降機構が、動作する際に発生する
粉塵を基板搬送手段の外部に出さず、基板に発生するパ
ーティクルを低減することができる。
【0084】請求項7に記載の発明によれば、基板搬送
手段は、さらに、搬送アームを鉛直軸周りに回転させる
回転駆動機構を備えるため、搬送アームは周方向にも移
動することができ、ユニット配置部に対する受渡位置と
の間で基板を有効に搬送することができる。
【0085】請求項8に記載の発明によれば、回転駆動
機構は、伸縮昇降機構の上部に設けられているため、伸
縮昇降機構は回転しないので、回転に伴う振れが生じる
可能性が非常に小さくなるとともに、回転駆動機構の消
費する電力も小さくなり、さらに、基板搬送手段の付近
の気流の乱れを抑えることができる。また、ケーブル配
置やメンテナンスも容易となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施の形態である基板処理装置を説
明する平面図及び正面図である。
【図2】図1の装置を構成する処理ユニットの配置を説
明する図である。
【図3】図1の装置のユニット配置部における搬送ロボ
ットを示す外観斜視図である。
【図4】図1の装置のユニット配置部における搬送ロボ
ットの内部構造を示す側面断面図である。
【図5】図1の装置のユニット配置部における搬送ロボ
ットの内部構造を示す側面断面図である。
【図6】図1の装置のユニット配置部における搬送ロボ
ットの搬送アームを示す斜視図である。
【図7】図6の搬送アームの伸縮機構を説明する図であ
る。
【図8】図7の搬送アームの動作を説明する図である。
【図9】図4,図5とは異なる構成の搬送ロボットの内
部構造を示す側面断面図である。
【図10】図3の搬送ロボットが液処理ユニットにアク
セスするときの昇降動作を説明する図である。
【図11】図3の搬送ロボットが多段熱処理ユニットに
アクセスするときの昇降動作を説明する図である。
【図12】インデクサやインターフェイス等の基板搬入
搬出装置における搬送ロボットを示す外観斜視図であ
る。
【図13】インデクサやインターフェイス等の基板搬入
搬出装置における搬送ロボットを示す外観斜視図であ
る。
【図14】インデクサとユニット配置部との間の基板の
受け渡し等を説明する図である。
【符号の説明】
31a,31b,75 搬送アーム 41a〜41d,71a〜71d カバー 44,74 基台 42a〜42d 昇降部材 42e 固定部材 45 回転台 47a〜47c プーリ 76 ガイドレール 77 雄ねじ L1,L2,L3 ベルト D1,D2 駆動機構 TR1 搬送ロボット TR2 移載ロボット ID インデクサ MP ユニット配置部 IF インターフェイス W 基板

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 高さ方向に伸縮自在の基板搬送手段が、
    高さ方向に積層された複数の処理部に対して基板を搬送
    して所定の処理を行う基板処理装置であって、 前記基板搬送手段は、 (a) 基板を保持して前記複数の処理部との間で基板の受
    け渡しを行う搬送アームと、 (b) 収納部材と当該収納部材に収納される被収納部材と
    を含み、前記収納部材と前記被収納部材との相対昇降動
    作により前記搬送アームを昇降させる伸縮昇降機構と、
    を備えることを特徴とする基板処理装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の基板処理装置におい
    て、 前記基板搬送手段は、 (c) 収納カバー部材と当該収納カバー部材に収納される
    被収納カバー部材とを含み、前記伸縮昇降機構の昇降動
    作に連動して収納カバー部材と被収納カバー部材との収
    納状態が変動して伸縮するとともに、前記伸縮昇降機構
    の周囲を覆う状態に設けられたカバー、をさらに備える
    ことを特徴とする基板処理装置。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2に記載の基板処理装置に
    おいて、 前記基板搬送手段は、さらに、 (d) 前記搬送アームを鉛直軸周りに回転させる回転駆動
    機構、を備えることを特徴とする基板処理装置。
  4. 【請求項4】 請求項3に記載の基板処理装置におい
    て、 前記回転駆動機構は、前記伸縮昇降機構の上部に設けら
    れていることを特徴とする基板処理装置。
  5. 【請求項5】 少なくとも鉛直方向に移動可能な基板搬
    送手段が、所定の位置と、基板の処理を行う処理部が配
    置されるユニット配置部に対する受渡位置との間で基板
    を搬送する基板搬入搬出装置であって、 前記基板搬送手段は、 (a) 基板を保持する搬送アームと、 (b) 収納部材と当該収納部材に収納される被収納部材と
    を含み、前記収納部材と前記被収納部材との相対昇降動
    作により前記搬送アームを昇降させる伸縮昇降機構と、
    を備えることを特徴とする基板搬入搬出装置。
  6. 【請求項6】 請求項5に記載の基板搬入搬出装置にお
    いて、 前記基板搬送手段は、 (c) 収納カバー部材と当該収納カバー部材に収納される
    被収納カバー部材とを含み、前記伸縮昇降機構の昇降動
    作に連動して収納カバー部材と被収納カバー部材との収
    納状態が変動して伸縮するとともに、前記伸縮昇降機構
    の周囲を覆う状態に設けられたカバー、をさらに備える
    ことを特徴とする基板搬入搬出装置。
  7. 【請求項7】 請求項5又は6に記載の基板搬入搬出装
    置において、 前記基板搬送手段は、さらに、 (d) 前記搬送アームを鉛直軸周りに回転させる回転駆動
    機構、を備えることを特徴とする基板搬入搬出装置。
  8. 【請求項8】 請求項7に記載の基板搬入搬出装置にお
    いて、 前記回転駆動機構は、前記伸縮昇降機構の上部に設けら
    れていることを特徴とする基板搬入搬出装置。
JP10047593A 1997-09-01 1998-02-27 基板処理装置および基板搬入搬出装置 Pending JPH11129184A (ja)

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