JP3566475B2 - 処理装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば半導体ウエハ等の被処理基板の表面にレジストや現像液等の処理液を供給する処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
例えば半導体デバイスの製造プロセスにおけるフォトリソグラフィー工程においては、半導体ウエハ(以下、「ウエハ」という)の表面にレジスト膜を形成するレジスト塗布処理と、レジスト塗布後のウエハに対して露光処理を行った後に当該ウエハに対して現像処理を行う現像処理とが行われるが、従来からこれらレジスト塗布処理と現像処理とは、対応する各種処理ユニットが1つのシステム内に装備された複合処理システム内で、所定のシーケンスに従って行われている。ところで、このような複合システムにおいては、スループットの向上を図るため、例えばレジスト塗布処理を行う処理ユニットを2つ設ける場合がある。
【0003】
このようなシステムでは、例えば図9に示すように、レジスト塗布処理を行う同一構成の2つの処理ユニット101、102とを隣接して配置し、これらの処理ユニット101、102の境界線上に回転可能なウエハ搬送装置を配置し、ウエハ搬送装置には処理ユニット101、102に対して進退自在でウエハを保持するアーム104を設け、これにより各処理ユニット101、102に対してそれぞれウエハWを搬入・搬出するように構成する。各処理ユニット101、102のほぼ中央には、ウエハWを保持しつつ回転するウエハチャック105を配置し、各処理ユニット101、102の両側には、それぞれレジスト液をウエハWに塗布するレジスト塗布部106とリンス液をウエハWの外縁部に吐出するサイドリンス部107を配置する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このように各処理ユニット101、102内を構成すると、レジスト塗布部106とサイドリンス部107とは通常異なるサイズであるため、ウエハ搬送装置のアーム104からみた各処理ユニット101、102に対するアクセス角度θが異なり、このためアーム104の各処理ユニットに対するストロークが異なるものとなり、機械的機構及び制御面において構成が複雑になるという問題がある。
【0005】
本発明は、かかる課題を解決するためになされたもので、搬送装置からみた各処理ユニットに対するアクセス角度を等しくでき、機械的機構及び制御面において構成の簡略化を図ることができる処理装置を提供することを目的とする。
【0006】
本発明の別の目的は、不具合が発生してもその方向性を一方向に揃えることができる処理装置を提供することにある。
【0007】
本発明のさらに別の目的は、サイドリンス部に関する構成を2つの処理ユニット間で共通化でき、これにより構成の簡略化を図ることができる処理装置を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
請求項1記載の発明では、隣接して配置された2つの処理ユニットを有する処理装置であって、前記各処理ユニット内に配置され、被処理基板を保持しつつ回転する2つの回転保持部と、前記各回転保持部により保持・回転された被処理基板の表面に所定の処理液を供給する2つの処理液供給部と、前記各回転保持部により保持・回転された被処理基板に対してサイドリンスを施す2つのサイドリンス部とを具備し、前記2つの回転保持部、前記2つの処理液供給部及び前記2つのサイドリンス部がそれぞれ前記2つの処理ユニット間で相互に対称となるように各処理ユニット内に配置され、前記各回転保持部が被処理基板をそれぞれ同じ回転方向に回転するよう構成されたことを特徴とする。
【0010】
請求項2記載の発明では、請求項1記載の処理装置において、前記各サイドリンス部が被処理基板の外縁部にリンス液を吐出するリンスノズルをそれぞれ有し、これらリンスノズルが相互に逆方向にリンス液を吐出するように配置されていることを特徴とする。
【0011】
請求項3記載の発明では、請求項1又は2記載の処理装置において、2つの前記処理ユニットが上下に2組配置されていることを特徴とする。
【0012】
請求項4記載の発明では、請求項1〜3いずれか1項記載の処理装置において、前記各サイドリンス部がそれぞれ隣接する処理ユニットの近傍に配置されていることを特徴とする。
【0013】
請求項5記載の発明では、隣接して配置された2つの処理ユニットを有する処理装置であって、前記各処理ユニット内に配置され、被処理基板を保持しつつ回転する2つの回転保持部と、前記各回転保持部により保持・回転された被処理基板の表面に所定の処理液を供給する2つの処理液供給部と、前記2つの処理ユニットを跨いで配置され、各処理ユニットの前記各回転保持部により保持・回転された被処理基板に対してサイドリンスを施す1つのサイドリンス部とを具備し、前記2つの回転保持部及び前記2つの処理液供給部がそれぞれ前記2つの処理ユニット間で相互に対称となるように各処理ユニット内に配置されていることを特徴とする。
【0015】
本発明の処理装置では、隣接する2つの各処理ユニットの境界線上に1つの搬送装置を配置し、この搬送装置により隣接する2つの各処理ユニットに対してそれぞれ被処理基板を搬入・搬出するように構成したとき、2つの回転保持部、2つの処理液供給部及び2つのサイドリンス部がそれぞれ2つの処理ユニット間で相互に対称となるように各処理ユニット内に配置されているので、搬送装置からみた各処理ユニットに対するアクセス角度が等しくなる。従って、搬送装置の各処理ユニットに対する搬送ストロークが等しくなり、機械的機構及び制御面において構成の簡略化を図ることができる。
【0016】
また、上記構成の2つの処理ユニットを上下に2組配置し、搬送装置を上下動可能とすれば、搬送装置からみた4つの処理ユニットに対するアクセス角度が等しくなる。従って、搬送装置の4つの処理ユニットに対する搬送ストロークが等しくなり、機械的機構及び制御面において構成の簡略化を図ることができる。
【0017】
また、本発明の処理装置では、回転保持部が被処理基板をそれぞれ同じ回転方向に回転するように構成したので、不具合が発生してもその方向がいずれの処理ユニットにおいても一方向となり、不具合箇所を揃えることができる。
【0018】
また、リンスノズルを相互に逆方向にリンス液を吐出するように配置することによって、不具合が発生してもその方向がいずれの処理ユニットにおいても一方向となり、不具合箇所を揃えることができる。
【0019】
また、各サイドリンス部をそれぞれ隣接する処理ユニットの近傍に配置することによって、サイドリンス部に関する供給系等の機構の共通化が容易となり、構成の簡略化を図ることができる。
【0020】
また、本発明の処理装置では、2つの処理ユニットで1つのサイドリンス部を共通化しているので、構成の簡略化を図ることができる。
【0022】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を図に基づいて説明すれば、図1〜図3は、各々本発明の実施形態が採用された半導体ウエハ(以下、「ウエハ」という)の塗布現像処理システム1の全体構成の図であって、図1は平面、図2は正面、図3は背面を夫々示している。
【0023】
この塗布現像処理システム1は、被処理基板としてウエハWをウエハカセットCRで複数枚、例えば25枚単位で外部からシステムに搬入したり、あるいはシステムから搬出したり、ウエハカセットCRに対してウエハWを搬入・搬出したりするためのカセットステーション10と、塗布現像工程の中で1枚ずつウエハWに所定の処理を施す枚葉式の各種処理ユニットを所定位置に多段配置してなる処理ステーション11と、この処理ステーション11に隣接して設けられる露光装置(図示せず)との間でウエハWを受け渡しするためのインターフェース部12とを一体に接続した構成を有している。
【0024】
前記カセットステーション10では、図1に示すように、カセット載置台20上の位置決め突起20aの位置に、複数個例えば4個までのウエハカセットCRが、夫々のウエハ出入口を処理ステーション11側に向けてX方向(図1中の上下方向)一列に載置され、このカセット配列方向(X方向)およびウエハカセッ卜CR内に収納されたウエハのウエハ配列方向(Z方向;垂直方向)に移動可能なウエハ搬送体21が各ウエハカセットCRに選択的にアクセスするようになっている。
【0025】
さらにこのウエハ搬送体21は、θ方向に回転自在に構成されており、後述するように処理ステーション11側の第3の処理ユニット群G3 の多段ユニット部に属するアライメントユニット(ALIM)およびイクステンションユニット
(EXT)にもアクセスできるようになっている。
【0026】
前記処理ステーション11には、図1に示すように、ウエハ搬送装置を備えた垂直搬送型の主ウエハ搬送機構22が設けられ、その周りに全ての処理ユニットが1組または複数の組に亙って多段に配置されている。
【0027】
主ウエハ搬送機構22は、図3に示すように、筒状支持体49の内側に、ウエハ搬送装置46を上下方向(Z方向)に昇降自在に装備している。筒状支持体49はモータ(図示せず)の回転軸に接続されており、このモータの回転駆動力によって、前記回転軸を中心としてウエハ搬送装置46と一体に回転し、それによりこのウエハ搬送装置46は、θ方向に回転自在となっている。なお筒状支持体49は前記モータによって回転される別の回転軸(図示せず)に接続するように構成してもよい。
【0028】
ウエハ搬送装置46は、搬送基台47の前後方向に移動自在な複数本の保持部材48を備え、これらの保持部材48によって各処理ユニット間でのウエハWの受け渡しを実現している。
【0029】
また、この例では、5つの処理ユニット群G1 、G2 、G3 、G4 、G5 が配置可能な構成であり、第1および第2の処理ユニット群G1 、G2 の多段ユニットは、システム正面(図1において手前)側に配置され、第3の処理ユニット群G3 の多段ユニットはカセットステーション10に隣接して配置され、第4の処理ユニット群G4 の多段ユニットはインターフェース部12に隣接して配置され、第5の処理ユニット群G5 の多段ユニットは背面側に配置されることが可能である。
【0030】
図2に示すように、第1の処理ユニット群G1 では、カップCP内でウエハWをスピンチャックに載せて所定の処理を行う2台のスピンナ型処理ユニット、例えばレジスト塗布ユニット(COT)および現像ユニット(DEV)が下から順に2段に重ねられている。第2の処理ユニット群G2 でも、2台のスピンナ型処理ユニット、例えばレジスト塗布ユニット(COT)および現像ユニット(DEV)が下から順に2段に重ねられている。すなわち、第1の処理ユニット群G1 のレジスト塗布ユニット(COT)と第2の処理ユニット群G2 のレジスト塗布ユニット(COT)とが隣接して配置され、第1の処理ユニット群G1 の現像ユニット(DEV)と第2の処理ユニット群G2 の現像ユニット(DEV)とが隣接して配置されている。上記のレジスト塗布ユニット(COT)は、レジスト液の排液が機構的にもメンテナンスの上でも面倒であることから、このように下段に配置するのが好ましい。しかし、必要に応じて適宜上段に配置することももちろん可能である。
【0031】
図3に示すように、第3の処理ユニット群G3 では、ウエハWを載置台SPに載せて所定の処理を行うオーブン型の処理ユニット、例えば冷却処理を行うクーリングユニット(COL)、レジストの定着性を高めるためのいわゆる疏水化処理を行うアドヒージョンユニット(AD)、位置合わせを行うアライメントユニット(ALIM)、イクステンションユニット(EXT)、露光処理前の加熱処理を行うプリベーキングユニット(PREBAKE)および露光処理後の加熱処理を行うポストベーキングユニット(POBAKE)が、下から順に例えば8段に重ねられている。第4の処理ユニット群G4 でも、オーブン型の処理ユニット、例えばクーリングユニット(COL)、イクステンション・クーリングユニット(EXTCOL)、イクステンションユニット(EXT)、クーリングユニッ卜(COL)、プリベーキングユニット(PREBAKE)およびポストベーキングユニット(POBAKE)が下から順に、例えば8段に重ねられている。
【0032】
このように処理温度の低いクーリングユニット(COL)、イクステンション・クーリングユニット(EXTCOL)を下段に配置し、処理温度の高いベーキングユニット(PREBAKE)、ポストベーキングユニット(POBAKE)およびアドヒージョンユニット(AD)を上段に配置することで、ユニット間の熱的な相互干渉を少なくすることができる。もちろん、ランダムな多段配置としてもよい。
【0033】
前記インターフェース部12は、奥行方向(X方向)については、前記処理ステーション11と同じ寸法を有するが、幅方向についてはより小さなサイズに設定されている。そしてこのインターフェース部12の正面部には、可搬性のピックアップカセットCRと、定置型のバッファカセットBRが2段に配置され、他方背面部には周辺露光装置23が配設され、さらにまた中央部にはウエハ搬送体24が設けられている。このウエハ搬送体24は、X方向、Z方向に移動して両カセットCR、BRおよび周辺露光装置23にアクセスするようになつている。前記ウエハ搬送体24は、θ方向にも回転自在となるように構成されており、前記処理ステーション11側の第4の処理ユニット群G4 の多段ユニットに属するイクステンションユニット(EXT)や、さらには隣接する露光装置側のウエハ受渡し台(図示せず)にもアクセスできるようになっている。
【0034】
また前記塗布現像処理システム1では、既述の如く主ウエハ搬送機構22の背面側にも破線で示した第5の処理ユニット群G5 の多段ユニットが配置できるようになっているが、この第5の処理ユニット群G5 の多段ユニットは、案内レール25に沿って主ウエハ搬送機構22からみて、側方へシフトできるように構成されている。従って、この第5の処理ユニット群G5 の多段ユニットを図示の如く設けた場合でも、前記案内レール25に沿ってスライドすることにより、空間部が確保されるので、主ウエハ搬送機構22に対して背後からメンテナンス作業が容易に行えるようになっている。なお第5の処理ユニット群G5 の多段ユニッ卜は、そのように案内レール25に沿った直線状のスライドシフトに限らず、図1中の一点鎖線の往復回動矢印で示したように、システム外方へと回動シフトさせるように構成しても、主ウエハ搬送機構22に対するメンテナンス作業のスペース確保が容易である。
【0035】
次に、図4は隣接して配置された第1の処理ユニット群G1 のレジスト塗布ユニット(COT)と第2の処理ユニット群G2 のレジスト塗布ユニット(COT)の断面図、図5はその平面図である。
【0036】
第1の処理ユニット群G1 及び第2の処理ユニット群G2 の各レジスト塗布ユニット(COT)の中央部には環状のカップCΡが配設され、カップCΡの内側にはスピンチャック52が配置されている。スピンチャック52は真空吸着によって半導体ウエハWを固定保持した状態で駆動モータ54によって回転駆動される。駆動モータ54は、ユニット底板50に設けられた開口50aに昇降移動可能に配置され、たとえばアルミニウムからなるキャップ状のフランジ部材58を介してたとえばエアシリンダからなる昇降駆動手段60および昇降ガイド手段62と結合されている。駆動モータ54の側面にはたとえばSUSからなる筒状の冷却ジャケット64が取り付けられ、フランジ部材58はこの冷却ジャケット64の上半部を覆うように取り付けられている。
【0037】
レジスト塗布時、フランジ部材58の下端58aは開口50aの外周付近でユニット底板50に密着し、これによってユニット内部が密閉されるようになっている。スピンチャック52と主ウエハ搬送機構22の保持部材48との間で半導体ウエハWの受け渡しが行われる時は、昇降駆動手段60が駆動モータ54ないしスピンチャック52を上方へ持ち上げることでフランジ部材58の下端がユニット底板50から浮く。
【0038】
半導体ウエハWの表面にレジスト液を供給するためのレジストノズル86は、図示を省略したレジスト供給管を介してレジスト供給部に接続されている。レジストノズル86は、カップCPの外に配設されたレジストノズル待機部90でレジストノズルスキャンアーム92の先端部に着脱可能に取り付けられ、スピンチャック52の上方に設定された所定のレジスト液吐出位置まで移送されるようになっている。レジストノズルスキャンアーム92は、ユニット底板50の上に一方向(Y方向)に敷設されたガイドレール94上で水平移動可能な垂直支持部材96の上端部に取り付けられており、図示しないY方向駆動機構によって垂直支持部材96と一体にY方向に移動するようになっている。
【0039】
また、レジストノズルスキャンアーム92は、レジストノズル待機部90でレジストノズル86を選択的に取り付けるためにY方向と直角なΧ方向にも移動可能であり、図示しないΧ方向駆動機構によってΧ方向にも移動するようになっている。
【0040】
さらに、レジストノズル待機部90でレジストノズル86の吐出口が溶媒雰囲気室の口(図示せず)に挿入され、中で溶媒の雰囲気に晒されることで、ノズル先端のレジスト液が固化または劣化しないようになっている。また、複数本のレジストノズル86,86,…が設けられ、レジスト液の種類に応じてそれらのノズルが使い分けられるようになっている。
【0041】
さらに、レジストノズルスキャンアーム92の先端部には、ウエハ表面へのレジスト液の供給に先立ってウエハ表面にレジスト液の溶剤例えばシンナを供給するシンナノズル101が取り付けられている。このシンナノズル101は図示しないシンナ供給管を介してシンナ供給部に接続されている。シンナノズル101とレジストノズル86はレジストノズルスキャンアーム92のY移動方向に沿う直線上に各々の吐出口が位置するように取り付けられている。
【0042】
さらに、ガイドレール94上には、レジストノズルスキャンアーム92を支持する垂直支持部材86だけでなく、リンスノズルスキャンアーム120を支持しY方向に移動可能な垂直支持部材122も設けられている。このリンスノズルスキャンアーム120の先端部にはサイドリンス用のリンスノズル124が取り付けられている。このリンスノズル124はリンス液供給管125を介してリンス液供給部(図示せず)に接続されている。
【0043】
リンスノズルスキャンアーム120およびリンスノズル124はY方向駆動機構(図示せず)によってカップCPの側方に設定されたノズル待機位置(点線の位置)とスピンチャック52に設置されている半導体ウエハWの外縁部の真上に設定されたリンス液吐出位置(実線の位置)との間で並進または直線移動するようになっている。
【0044】
また、リンスノズル124のノズル待機位置の下方にはリンスノズル124から垂れ落ちるリンス液を回収するためのドレインカップ126が配置されている。 第1の処理ユニット群G1 のレジスト塗布ユニット(COT)と第2の処理ユニット群G2 のレジスト塗布ユニット(COT)とは以上のように同一構成であるが、各部が2つのユニット間で相互に対称となるように各ユニット内に配置されている。すなわちカップCPは各ユニットのほぼ中央部に配置され、リンスノズルスキャンアーム120、垂直支持部材122、リンスノズル124及びドレインカップ126等からなる各ユニットのサイドリンス部は隣接する2つのユニットの境界線の近傍に配置され、各ユニットのレジスト塗布部はそれぞれカップCPを挟んでサイドリンス部と対向するように配置されている。
【0045】
また図6に示すように、第1の処理ユニット群G1 のレジスト塗布ユニット
(COT)におけるウエハWは所定の回転方向例えば右回りに回転駆動され、第2の処理ユニット群G2 のレジスト塗布ユニット(COT)におけるウエハWは第1の処理ユニット群G1 のレジスト塗布ユニット(COT)におけるウエハWと同じ回転方向すなわち右回りに回転駆動される。さらに第1の処理ユニット群G1 及び第2の処理ユニット群G2 のレジスト塗布ユニット(COT)における各リンスノズル124は、それぞれウエハWの回転方向に向けてリンス液を吐出するように配置されている。この結果、第1の処理ユニット群G1 のレジスト塗布ユニット(COT)におけるリンスノズル124と第2の処理ユニット群G2 のレジスト塗布ユニット(COT)におけるリンスノズル124とは、相互に逆方向にリンス液を吐出するように配置されている。
【0046】
すなわち、第1の処理ユニット群G1 のレジスト塗布ユニット(COT)と第2の処理ユニット群G2 のレジスト塗布ユニット(COT)とは、各部が2つのユニット間で相互に対称となるように各ユニット内に配置されているが、ウエハWの回転方向が同じでリンスノズル124の先端が逆向きになっている。
【0047】
このように対称の構成とすることで、図5に示すように、主ウエハ搬送機構22の保持部材48からみた各ユニットに対するアクセス角度αが等しくなり、保持部材48の各ユニットに対する搬送ストロークSが等しくなる。この結果、ウエハ搬送装置46から各ユニットに対するアクセス制御等の条件が等しくなり、機械的機構及び制御面において構成の簡単化を図ることができる。また、ウエハWの回転方向が同じでリンスノズル124の先端が逆向きになるように構成することで、各ユニットにおけるウエハWがそれぞれ同一方向からリンス液を吐出されることになる。この結果、リンス工程で不具合が発生してもその方向がいずれのユニットにおいても同じ方向となり、不具合箇所を一方向に揃えることができるようになる。つまり、単に隣接するユニットを対称となるように構成しただけでは各ユニットにおけるウエハWが相互に逆方向に回転するため、リンス工程で不具合が発生してもその方向性がユニット間で逆方向となる。そこで、本実施形態では、ユニット間でスピンチャック52の回転方向が同じでリンスノズル124の先端が逆向きになるように構成することで、かかる不具合の方向性を一方向としている。しかし、単に隣接するユニットを対称となるように構成することも勿論可能である。
【0048】
なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、その技術思想の範囲内で様々に変形して実施することが可能である。
【0049】
例えば、上記実施形態では隣接する第1の処理ユニット群G1 のレジスト塗布ユニット(COT)と第2の処理ユニット群G2 のレジスト塗布ユニット(COT)とを2つのユニット間で相互に対称となるように各部を各ユニット内に配置したが、図7に示すようにこのような隣接するユニットを上下に2組配置するように構成してもよい。
【0050】
また、上記実施形態では各ユニットごとにサイドリンス部を設けていたが、サイドリンス部を共通化して1つにしてもよい。図8にその構成例を示す。すなわち、ガイドレール94が隣接するユニット間を貫通し、リンスノズルスキャンアーム120を支持する垂直支持部材122が隣接ユニット間を移動可能となるように構成する。そして、この1つのサイドリンス部が各ユニットに対してサイドリンスを行う。図8の如く構成することで、サイドリンス部の構成をより簡単化することができる。
【0051】
また、本発明はレジスト塗布ユニットに限らず、例えば現像ユニットにも適用可能である。
【0052】
さらに、被処理基板は上記の半導体ウエハに限るものでなく、LCD基板、ガラス基板、CD基板、フォトマスク、プリント基板、セラミック基板等でも可能である。
【0053】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば、搬送装置からみた各処理ユニットに対するアクセス角度を等しくでき、機械的機構及び制御面において構成の簡略化を図ることができる。また、不具合が発生してもその方向性を一方向に揃えることができる。さらに、サイドリンス部に関する構成を2つの処理ユニット間で共通化でき、これにより構成の簡略化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態が採用された半導体ウエハの塗布現像処理システムの全体構成の平面図である。
【図2】図1に示した塗布現像処理システムの正面図である。
【図3】図1に示した塗布現像処理システムの背面図である。
【図4】隣接して配置された第1の処理ユニット群のレジスト塗布ユニットと第2の処理ユニット群のレジスト塗布ユニットの断面図である。
【図5】図4に示した2つのユニットの平面図である。
【図6】図4に示した2つのユニットにおけるリンスノズルの方向性を概念的に示した図である。
【図7】本発明の他の実施形態を示す図である。
【図8】本発明のさらに別の実施形態を示す図である。
【図9】従来技術を説明するための平面図である。
【符号の説明】
22 主ウエハ搬送機構
46 ウエハ搬送装置
52 スピンチャック
54 駆動モータ
120 リンスノズルスキャンアーム
122 垂直支持部材
124 リンスノズル
125 リンス液供給管
W ウエハ
G1 第1の処理ユニット群
G2 第2の処理ユニット群
COT レジスト塗布ユニット
Claims (5)
- 隣接して配置された2つの処理ユニットを有する処理装置であって、
前記各処理ユニット内に配置され、被処理基板を保持しつつ回転する2つの回転保持部と、
前記各回転保持部により保持・回転された被処理基板の表面に所定の処理液を供給する2つの処理液供給部と、
前記各回転保持部により保持・回転された被処理基板に対してサイドリンスを施す2つのサイドリンス部とを具備し、
前記2つの回転保持部、前記2つの処理液供給部及び前記2つのサイドリンス部がそれぞれ前記2つの処理ユニット間で相互に対称となるように各処理ユニット内に配置され、前記各回転保持部が被処理基板をそれぞれ同じ回転方向に回転するよう構成されたことを特徴とする処理装置。 - 請求項1記載の処理装置において、
前記各サイドリンス部が被処理基板の外縁部にリンス液を吐出するリンスノズルをそれぞれ有し、これらリンスノズルが相互に逆方向にリンス液を吐出するように配置されていることを特徴とする処理装置。 - 請求項1又は2記載の処理装置において、
2つの前記処理ユニットが上下に2組配置されていることを特徴とする処理装置。 - 請求項1〜3いずれか1項記載の処理装置において、
前記各サイドリンス部がそれぞれ隣接する処理ユニットの近傍に配置されていることを特徴とする処理装置。 - 隣接して配置された2つの処理ユニットを有する処理装置であって、
前記各処理ユニット内に配置され、被処理基板を保持しつつ回転する2つの回転保持部と、
前記各回転保持部により保持・回転された被処理基板の表面に所定の処理液を供給する2つの処理液供給部と、
前記2つの処理ユニットを跨いで配置され、各処理ユニットの前記各回転保持部により保持・回転された被処理基板に対してサイドリンスを施す1つのサイドリンス部とを具備し、
前記2つの回転保持部及び前記2つの処理液供給部がそれぞれ前記2つの処理ユニット間で相互に対称となるように各処理ユニット内に配置されていることを特徴とする処理装置。
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