KR20110071965A - 기판접착력이 향상된 고차광성 블랙매트릭스 조성물 - Google Patents
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Abstract
Description
실시예 1 | 실시예 2 | 실시예 3 | 비교예 1 | 비교예 2 | 비교예 3 | 비교예 4 | |
바인더 수지 중 카도계/아크릴계의 중량 % | 27/73 |
60/40 |
40/60 |
87/13 |
13/87 |
80/20 |
20/80 |
공정특성 | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | X | ◎ | △ |
기판접착력 (4h/1cycle) |
◎ | ◎ | ◎ | △ | ◎ | ○ | ◎ |
기판접착력 (8h/2cycle) |
◎ | ○ | ◎ | X | ◎ | X | ◎ |
기판접착력 (12h/3cycle) |
◎ | ○ | ◎ | X | ◎ | X | ◎ |
Claims (22)
- 알칼리 가용성 바인더 수지, 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 다관능성 모노머, 광중합 개시제, 밀착촉진제, 용매, 및 흑색 안료를 포함하는 착색제를 포함하는 블랙매트릭스 감광성 수지 조성물에 있어서,상기 알칼리 가용성 바인더 수지는 전체 바인더 수지 중 카도계 바인더를 25 내지 70 중량%, 아크릴계 바인더를 30 내지75 중량%의 함량으로 혼합 사용함을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제1항에 있어서,상기 감광성 수지 조성물은a) 알칼리 가용성 바인더 수지 1 내지 10 중량부;b) 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 다관능성 모노머 1 내지 10 중량부;c) 광중합 개시제 0.1 내지 10 중량부;d) 밀착촉진제 0.01 내지 1 중량부;e) 용매 70 내지 90 중량부; 및f) 흑색 안료를 포함하는 착색제 35 내지 85 중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제1항에 있어서,상기 아크릴계 바인더는 막의 기계적 강도를 부여하는 모노머로서 불포화 카르복시산 에스테르류, 방향족 비닐류, 불포화 에테르류, 불포화 이미드류, 및 무수 말레산류로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상과 알칼리 용해성을 부여하는 모노머로서 (메타)아크릴산, 크로톤산, 이타콘산, 말레인산, 푸마르산, 모노메틸 말레인산, 5-노보넨-2-카복실산, 모노-2-((메타)아크릴로일옥시)에틸 프탈레이트, 모노-2-((메타)아크릴로일옥시)에틸 숙시네이트, 및 ω-카르복시 폴리카프로락톤 모노(메타)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제1항에 있어서,상기 카도계 바인더는 산가 10 내지 200 KOH mg/g, 중량평균분자량 1,000 내지 30,000인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제1항에 있어서,상기 아크릴계 바인더는 산가 10 내지 200 KOH mg/g, 중량평균분자량 1,000 내지 50,000인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제1항에 있어서,상기 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 다관능성 모노머는 분자 중에 적어도 1개 이상의 부가중합 가능한 불포화기를 갖는 비등점이 100℃ 이상인 화합물 또는 카프로락톤을 도입한 다관능성 모노머를 단독 또는 혼합하여 사용하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제7항에 있어서,상기 분자 중에 적어도 1개 이상의 부가중합 가능한 불포화기를 갖는 비등점이 100℃ 이상인 화합물은 폴리에틸렌글리콜 모노(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 모노(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 트리메틸올 에탄 트리아크릴레이트, 트리메틸올 프로판 트리아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 (메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트, 및 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제7항에 있어서,상기 카프로락톤을 도입한 다관능성 모노머는 디펜타에리트리톨에 도입한 KAYARAD DPCA-20,30,60,120, 테트라히드로퓨릴 아크릴레이트에 도입한 KAYARAD TC-110S, 네오펜틸글리콜 히드록시피발레이트에 도입한 KAYARAD HX-220, KAYARAD HK-620, 공영사 제품으로 에폭시 에스터 200PA, 에폭시 에스터 3002M, 에폭시 에스터 3002A, 에폭시 에스터 3000M, 및 우레탄 아크릴레이트 계열로서 UA306H, UA306T, UA306I, UA510H, UF8001, U-324A, U15HA, U-4HA로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제1항에 있어서,상기 광중합 개시제는 아세토페논계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 트리아진계 화합물, 및 옥심계 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제1항에 있어서,상기 광중합 개시제는 광가교증감제 0.01 내지 10 중량부 또는 경화촉진제 0.01 내지 10 중량부를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제11항에 있어서,상기 광가교증감제는 벤조페논계 화합물, 플로레논계 화합물, 티옥산톤계 화합물, 크산톤계 화합물, 안트라퀴논계 화합물, 아크리딘계 화합물, 디카보닐 화합물, 포스핀 옥사이드계 화합물, 벤조에이트계 화합물, 아미노 시너지스트, 쿠마린계 화합물, 칼콘 화합물, 2-벤조일메틸렌, 및 3-메틸-b-나프토티아졸린으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제11항에 있어서,상기 경화촉진제는 2-머캅토벤조이미다졸, 2-머캅토벤조티아졸, 2-머캅토벤조옥사졸, 2,5-디머캅토-1,3,4-티아디아졸, 2-머캅토-4,6-디메틸아미노피리딘, 펜타에리스리톨-테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨-트리스(3-머캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨-테트라키스(2-머캅토아세테이트), 펜타에리스리톨-트리스(2-머캅토아세테이트), 트리메틸올프로판-트리스(2-머캅토아세테이트), 및 트리메틸올프로판-트리스(3-머캅토프로피오네이트)로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제1항에 있어서,상기 밀착촉진제는 메타 아크릴로일 실란 커플링제 및 알킬 트리메톡시 실란으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성 물.
- 제1항에 있어서,상기 용매는 메틸-3-메톡시 프로피오네이트(144℃), 에틸렌글리콜 메틸에테르(125℃), 에틸렌글리콜 에틸에테르(135℃), 에틸렌글리콜 디에틸에테르(121℃), 디부틸에테르(140℃), 에틸피루베이트(144℃) 프로필렌글리콜 메틸에테르(121℃), 프로필렌글리콜 메틸에테르 아세테이트(146℃), n-부틸아세테이트(125℃), 이소부틸아세테이트(116℃), 아밀아세테이트(149℃), 이소아밀아세테이트(143℃), 부틸프로피오네이트(146℃), 이소아밀프로피오네이트(156℃), 에틸부티레이트(120℃), 프로필 부티레이트(143℃), 메틸-3-메톡시이소부티레이트(148℃), 메틸글리콜레이트(150℃), 메틸 락테이트(145℃), 에틸 락테이트(154℃), 메틸-2-히드록시이소부틸레이트(137℃), 에틸에톡시아세테이트(156℃), 2-메톡시에틸아세테이트(145℃), 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트(145℃), 2-에톡시에틸아세테이트(156℃), 디부틸에테르(140℃), 시클로펜타논(131℃), 시클로헥사논(155℃), 2-헥사논(127℃), 3-헥사논(123℃), 5-메틸-2-헥사논(145℃), 2-헵타논(150℃), 3-헵타논(148℃), 4-헵타논(145℃), 2-메틸-3-헵타논(159℃), 1-메톡시-2-프로판올(118℃), 에틸-2-히드록시-프로피오네이트(154℃), 에틸-3-메톡시프로피오네이트(158℃), 2-메톡시 에틸에테르(162℃), 3-메톡시부틸아세테이트(170℃), 2-에톡시에틸 에테르(185℃), 2-부톡시에탄올(171℃), 3-에톡시-프로판올(161℃), 디에틸렌글리콜도데실에테르(169 ℃), 디프로필렌글리콜메틸에테르(188℃), 2,6-디메틸-4-헵타논(169℃), 2-옥타논(173℃), 3-옥타논(168℃), 3-노나논(188℃), 5-노나논(187℃), 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논(166℃), 2-메틸시클로헥사논(163℃), 3-메틸시클로헥사논(170℃), 4-메틸시클로헥사논(170℃), 2,6-디메틸시클로헥사논(175℃), 2,2,6-트리메틸시클로헥사논(179℃), 시클로햅타논(179℃), 헥실아세테이트(169℃), 아밀부티레이트(185℃), 이소프로필 락테이트(167℃), 부틸락테이트(186℃), 에틸-3-히드록시부티레이트(170℃), 에틸-3-에톡시프로피오네이트(170℃), 에틸-3-히드록시 부티레이트(180℃), 프로필-2-히드록시-프로피오네이트(169℃), 프로필렌글리콜디아세테이트(186℃), 프로필렌글리콜부틸에테르(170℃), 프로필렌글리콜 메틸에테르 프로피오네이트(160℃), 디에틸렌글리콜 디메틸 에테르(162℃), 디에틸렌글리콜 디메틸 에테르 아세테이트(165℃), 디프로필렌글리콜메틸에테르(188℃), 디프로필렌글리콜디메틸에테르(171℃), 에틸렌글리콜부틸에테르(171℃), 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르(176℃), 디에틸렌글리콜메틸이소프로필에테르(179℃), 디에틸렌글리콜디에틸에테르(189℃), 부틸부티레이트(165℃), 에틸-3-에톡시프로피오네이트(170℃), 디에틸렌글리콜모노메틸에테르(194℃), 4-에틸시클로헥사논(193℃), 2-부톡시에틸아세테이트(192℃), 디에틸렌글리콜모노에틸에테르(202℃), 부티롤락톤(204℃), 헥실부틸레이트(205℃), 디에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트(209℃), 디에틸렌글리콜부틸 메틸 에테르(212℃), 트리프로필글리콜디메틸 에테르(215℃), 트리에틸렌글리콜디메틸에테르(216℃), 디에틸렌글리콜에틸에테르아세테이트(217℃), 디에틸렌글리콜부틸에테르아세테이트(245℃), 3-에폭시-1,2-프로판디올 (222℃), 에틸-4-아세틸 부티레이트(222℃), 디에틸렌글리콜 모노부틸에테르(231℃), 트리프로필글리콜메틸 에테르(242℃), 디에틸렌글리콜(245℃), 2-(2-부톡시에톡시)에틸아세테이트(245℃), 카테콜(245℃), 트리에틸렌글리콜 메틸에테르(249℃), 디에틸렌글리콜디부틸에테르(256℃), 트리에틸렌글리콜 에틸에테르(256℃), 디에틸렌글리콜모노헥틸에테르(260℃), 트리에틸렌글리콜 부틸 메틸 에테르(261℃), 트리에틸렌글리콜브틸에테르(271℃), 트리프로필글리콜(273℃), 및 테트라에틸렌글리콜디메틸에테르(276℃)로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제1항에 있어서,상기 흑색 안료를 포함하는 착색제는 카본 블랙과 착색안료를 혼합하여 밀링한 착색분산액인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제16항에 있어서,상기 카본 블랙은 전체 착색제 중 10 내지 30중량% 포함되는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제16항에 있어서,상기 카본 블랙은 동해카본(주)의 시스토 5HIISAF-HS, 시스토 KH, 시스토 3HHAF-HS, 시스토 NH, 시스토 3M, 시스토 300HAF-LS, 시스토 116HMMAF-HS, 시스토 116MAF, 시스토 FMFEF-HS, 시스토 SOFEF, 시스토 VGPF, 시스토 SVHSRF-HS, 및 시스토 SSRF; 미쯔비시화학(주)의 다이어그램 블랙 Ⅱ, 다이어그램 블랙 N339, 다이어그램 블랙 SH, 다이어그램 블랙 H, 다이어그램 LH, 다이어그램 HA, 다이어그램 SF, 다이어그램 N550M, 다이어그램 M, 다이어그램 E, 다이어그램 G, 다이어그램 R, 다이어그램 N760M, 다이어그램 LR, #2700, #2600, #2400, #2350, #2300, #2200, #1000, #980, #900, MCF88, #52, #50, #47, #45, #45L, #25, #CF9, #95, #3030, #3050, MA7, MA77, MA8, MA11, OIL7B, OIL9B, OIL11B, OIL30B, 및 OIL31B; 대구사(주)의 PRINTEX-U, PRINTEX-V, PRINTEX-140U, PRINTEX-140V, PRINTEX-95, PRINTEX-85, PRINTEX-75, PRINTEX-55, PRINTEX-45, PRINTEX-300, PRINTEX-35, PRINTEX-25, PRINTEX-200, PRINTEX-40, PRINTEX-30, PRINTEX-3, PRINTEX-A, SPECIAL BLACK-550, SPECIAL BLACK-350, SPECIAL BLACK-250, SPECIAL BLACK-100, 및 LAMP BLACK-101; 콜롬비아 카본(주)의RAVEN-1100ULTRA, RAVEN-1080ULTRA, RAVEN-1060ULTRA, RAVEN-1040, RAVEN-1035, RAVEN-1020, RAVEN-1000, RAVEN-890H, RAVEN-890, RAVEN-880ULTRA, RAVEN-860ULTRA, RAVEN-850, RAVEN-820, RAVEN-790ULTRA, RAVEN-780ULTRA, RAVEN-760ULTRA, RAVEN-520, RAVEN-500, RAVEN-460, RAVEN-450, RAVEN-430ULTRA, RAVEN-420, RAVEN-410, RAVEN-2500ULTRA, RAVEN-2000, RAVEN-1500, RAVEN-1255, RAVEN-1250, RAVEN-1200, RAVEN-1190ULTRA, 및 RAVEN-1170으로 이루 어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제16항에 있어서,상기 카본 블랙과 혼합 가능한 착색안료는 카민 6B(C.I.12490), 프탈로시아닌 그린(C.I.74260), 프탈로시아닌 블루(C.I.74160), 미쓰비시 카본 블랙 MA100, 페릴렌 블랙(BASF K0084. K0086), 시아닌 블랙, 리놀옐로우(C.I. 21090), 리놀 옐로우GRO(C.I.21090), 벤지딘 옐로우4T-564D, 미쓰비시 카본 블랙 MA-40, 빅토리아 퓨어 블루(C.I.42595), C.I. PIGMENT RED97, 122, 149, 168, 177, 180, 192, 215, C.I. PIGMENT GREEN 7, 36, C.I. PIGMENT 15:1, 15:4, 15:6, 22, 60, 64, C.I. PIGMENT 83, 139 C.I. PIGMENT VIOLET 23으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제1항에 있어서,상기 감광성 수지 조성물은 계면활성제, 분산제, 산화방지제, 자외선흡수제, 열중합방지제, 및 레벨링제 중에서 선택되는 1종 이상의 첨가제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 제1항의 감광성 수지 조성물을 포함하는 액정 디스플레이용 블랙매트릭스.
- 제1항의 감광성 수지 조성물을 슬릿코터를 이용하여 글래스에 도포한 후, 도포된 상기 조성물을 노광하고 현상하여 제조되는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이용 블랙매트릭스.
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JP2010199054A JP5545856B2 (ja) | 2009-12-22 | 2010-09-06 | 基板接着力が向上した高遮光性ブラックマトリックス組成物 |
CN201010527815.7A CN102103327B (zh) | 2009-12-22 | 2010-10-22 | 具有高光屏蔽性和改良粘合性的黑矩阵组合物 |
US12/965,715 US20110151379A1 (en) | 2009-12-22 | 2010-12-10 | Black matrix composition with high light-shielding and improved adhesion properties |
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---|---|---|---|
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---|---|
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---|---|---|---|
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Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20140020536A (ko) * | 2012-08-09 | 2014-02-19 | 삼성디스플레이 주식회사 | 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 블랙 매트릭스의 제조 방법 |
KR20140082477A (ko) * | 2012-12-24 | 2014-07-02 | 엘지디스플레이 주식회사 | 표시장치 및 그 제조방법 |
KR20150028096A (ko) * | 2013-09-05 | 2015-03-13 | 동우 화인켐 주식회사 | 흑색 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙매트릭스 및 이를 구비한 화상 표시 장치 |
KR20150028098A (ko) * | 2013-09-05 | 2015-03-13 | 동우 화인켐 주식회사 | 흑색 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙매트릭스 및 이를 구비한 화상 표시 장치 |
JP2015525371A (ja) * | 2012-05-30 | 2015-09-03 | エルジー・ケム・リミテッド | 感光性樹脂組成物および前記感光性樹脂組成物から製造されたベゼルパターンを含むタッチパネルまたはディスプレイ装置 |
KR20150129086A (ko) * | 2012-05-31 | 2015-11-19 | 주식회사 엘지화학 | 감광성 수지 조성물, 상기 감광성 수지 조성물로 제조된 감광재, 이를 포함하는 컬러필터 및 이를 포함하는 디스플레이 장치 |
KR20160035273A (ko) | 2014-09-23 | 2016-03-31 | 동우 화인켐 주식회사 | 흑색 감광성 수지 조성물, 및 이로써 제조된 액정 표시장치용 블랙 매트릭스 및 칼럼 스페이서 |
US9341946B2 (en) | 2012-05-25 | 2016-05-17 | Lg Chem, Ltd. | Photosensitive resin composition, pattern formed using same and display panel comprising same |
US9746767B2 (en) | 2015-01-07 | 2017-08-29 | Samsung Display Co., Ltd. | Photoresist composition and method of manufacturing black matrix using the same |
KR20170124207A (ko) * | 2016-05-02 | 2017-11-10 | 에이엠씨주식회사 | 감광성 접착필름 및 그 제조 방법 |
KR20180121872A (ko) * | 2016-03-29 | 2018-11-09 | 가부시키가이샤 아데카 | 흑색 감광성 수지 조성물 |
KR20190066894A (ko) * | 2017-12-06 | 2019-06-14 | 주식회사 엘지화학 | 포토폴리머 조성물 |
WO2019194402A1 (ko) * | 2018-04-06 | 2019-10-10 | 주식회사 엘지화학 | 카도계 바인더 수지, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물, 블랙 매트릭스, 컬러필터 및 디스플레이 장치 |
KR20200012601A (ko) * | 2018-07-27 | 2020-02-05 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 감광성 수지 조성물 |
WO2021125821A1 (ko) * | 2019-12-17 | 2021-06-24 | 주식회사 엘지화학 | 화합물, 바인더 수지, 네가티브형 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하여 형성된 블랙뱅크를 포함하는 디스플레이 장치 |
Families Citing this family (66)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101472174B1 (ko) * | 2011-01-18 | 2014-12-12 | 주식회사 엘지화학 | 감광성 수지 조성물 및 이를 포함하는 감광재 |
JP5935462B2 (ja) * | 2011-05-10 | 2016-06-15 | 日立化成株式会社 | 感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、プリント配線板の製造方法 |
KR101384457B1 (ko) * | 2011-08-04 | 2014-04-14 | 주식회사 엘지화학 | 실란계 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 |
KR101349622B1 (ko) * | 2011-08-26 | 2014-01-10 | 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 | 광중합성 불포화 수지, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 이로부터 형성되는 차광성 스페이서와 액정 디스플레이 장치 |
JP5994782B2 (ja) * | 2011-08-30 | 2016-09-21 | 旭硝子株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物、隔壁、ブラックマトリックスおよび光学素子 |
WO2013051805A2 (en) * | 2011-10-02 | 2013-04-11 | Kolon Industries, Inc | Photosensitive resin composition |
KR101688464B1 (ko) * | 2011-10-02 | 2016-12-22 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 감광성 수지 조성물 |
JP6024375B2 (ja) * | 2011-11-21 | 2016-11-16 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 樹脂組成物、ならびにそれを用いた保護膜およびタッチパネル用絶縁膜 |
JP2013134263A (ja) * | 2011-12-22 | 2013-07-08 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | ブラックカラムスペーサ用感光性樹脂組成物、ブラックカラムスペーサ、表示装置、及びブラックカラムスペーサの形成方法 |
KR101623618B1 (ko) * | 2012-05-25 | 2016-05-24 | 주식회사 엘지화학 | 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 형성된 패턴 및 이를 포함하는 디스플레이 패널 |
JP6183048B2 (ja) * | 2012-08-27 | 2017-08-23 | 旭硝子株式会社 | 光学フィルタおよび固体撮像装置 |
KR20140031737A (ko) * | 2012-09-05 | 2014-03-13 | 삼성디스플레이 주식회사 | 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 블랙 매트릭스의 형성 방법 |
JP6093563B2 (ja) * | 2012-12-11 | 2017-03-08 | 株式会社カネカ | 黒色感光性樹脂組成物及びその利用 |
KR20140076320A (ko) | 2012-12-12 | 2014-06-20 | 제일모직주식회사 | 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 블랙 스페이서 |
CN103885291A (zh) | 2012-12-21 | 2014-06-25 | 第一毛织株式会社 | 光敏树脂组合物及使用其的光阻挡层 |
TWI483071B (zh) * | 2013-03-01 | 2015-05-01 | Chi Mei Corp | 彩色濾光片用感光性樹脂組成物及其應用 |
KR101621594B1 (ko) | 2013-06-18 | 2016-05-16 | 주식회사 엘지화학 | 활성 에너지선 경화형 접착제층을 포함하는 편광판 |
JP6318484B2 (ja) * | 2013-07-09 | 2018-05-09 | 日立化成株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 |
US9249378B2 (en) | 2013-08-02 | 2016-02-02 | Eastman Chemical Company | Aqueous cleaning compositions having enhanced properties |
US9388114B2 (en) | 2013-08-02 | 2016-07-12 | Eastman Chemical Company | Compositions including an alkyl 3-hydroxybutyrate |
US9255059B2 (en) | 2013-08-02 | 2016-02-09 | Eastman Chemical Company | Method for producing an alkyl 3-hydroxybutyrate |
US9163202B2 (en) | 2013-08-02 | 2015-10-20 | Eastman Chemical Company | Aqueous cleaning compositions including an alkyl 3-hydroxybutyrate |
CN104345563B (zh) | 2013-08-09 | 2018-09-21 | 第一毛织株式会社 | 光敏树脂组合物和使用其的光阻挡层 |
KR101709698B1 (ko) * | 2013-09-02 | 2017-02-23 | 제일모직 주식회사 | 흑색 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층 |
KR102131169B1 (ko) | 2013-09-30 | 2020-07-07 | 동우 화인켐 주식회사 | 흑색 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙매트릭스 및 이를 구비한 화상 표시 장치 |
KR102131170B1 (ko) | 2013-09-30 | 2020-07-07 | 동우 화인켐 주식회사 | 흑색 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙매트릭스 및 이를 구비한 화상 표시 장치 |
KR101686567B1 (ko) | 2013-10-23 | 2016-12-14 | 제일모직 주식회사 | 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층 |
KR102142648B1 (ko) * | 2013-12-16 | 2020-08-10 | 삼성디스플레이 주식회사 | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 유기막 형성방법 및 유기막을 포함하는 표시장치 |
TWI495956B (zh) * | 2014-01-28 | 2015-08-11 | Daxin Materials Corp | 感光性樹脂組合物、電子元件及其製造方法 |
TWI636331B (zh) * | 2014-02-18 | 2018-09-21 | 日商Agc股份有限公司 | Negative photosensitive resin composition, resin cured film, partition wall, and optical element |
WO2015153706A1 (en) | 2014-04-04 | 2015-10-08 | Corning Incorporated | Treatment of glass surfaces for improved adhesion |
JP6390143B2 (ja) * | 2014-04-08 | 2018-09-19 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 黒色組成物、黒色塗膜、および積層体 |
US9618841B2 (en) | 2014-06-09 | 2017-04-11 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Cu2Zn0.14Sn0.25Te2.34 nanocrystalline solution, its preparation method, photosensitive resin solution, method for forming black matrix, and color filter substrate |
CN104031459B (zh) * | 2014-06-09 | 2016-05-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种Cu2Zn0.14Sn0.25Te2.34纳米晶溶液及制备方法、光敏树脂溶液、黑矩阵的制备方法、彩膜基板 |
TWI524140B (zh) * | 2014-06-23 | 2016-03-01 | 奇美實業股份有限公司 | 黑色矩陣用之感光性樹脂組成物及其應用 |
KR102202975B1 (ko) * | 2014-07-09 | 2021-01-14 | 동우 화인켐 주식회사 | 후막 패턴 구조 및 그의 형성 방법 |
CN106574999B (zh) * | 2014-08-12 | 2019-03-22 | Dnp精细化工股份有限公司 | 彩色滤光片用着色树脂组合物、彩色滤光片及显示设备 |
KR101886902B1 (ko) | 2014-08-26 | 2018-08-08 | 동우 화인켐 주식회사 | 흑색 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙매트릭스 및 이를 구비한 화상 표시 장치 |
KR20160025689A (ko) * | 2014-08-27 | 2016-03-09 | 삼성디스플레이 주식회사 | 색필터 조성물 및 이를 포함하는 액정 표시 장치 |
KR101953936B1 (ko) | 2014-08-28 | 2019-03-04 | 동우 화인켐 주식회사 | 흑색 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙매트릭스 및 이를 구비한 화상 표시 장치 |
JP6424052B2 (ja) * | 2014-09-25 | 2018-11-14 | 東京応化工業株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
JP6410540B2 (ja) * | 2014-09-25 | 2018-10-24 | 東京応化工業株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
KR101767082B1 (ko) | 2014-11-17 | 2017-08-10 | 삼성에스디아이 주식회사 | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터 |
KR101963931B1 (ko) | 2014-12-02 | 2019-04-01 | 동우 화인켐 주식회사 | 흑색 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙매트릭스 및 이를 구비한 화상 표시 장치 |
JP6470615B2 (ja) * | 2015-03-31 | 2019-02-13 | 東京応化工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、パターンの形成方法、カラーフィルタ及び表示装置 |
JP2016193984A (ja) * | 2015-03-31 | 2016-11-17 | 株式会社Adeka | 樹脂及び該樹脂を用いた組成物 |
JP5916939B2 (ja) * | 2015-12-24 | 2016-05-11 | 東京応化工業株式会社 | ブラックカラムスペーサの形成方法 |
KR20170084681A (ko) * | 2016-01-11 | 2017-07-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | 감광성 수지 조성물, 이로부터 제조된 막 및 상기 막을 포함하는 유기 발광 표시 장치 |
TWI726971B (zh) | 2016-01-12 | 2021-05-11 | 日商昭和電工材料股份有限公司 | 感光性樹脂組成物、使用該感光性樹脂組成物之乾膜、印刷線路板、及印刷線路板的製造方法 |
CN106547168B (zh) * | 2016-10-28 | 2020-09-01 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种黑色矩阵材料组合物及应用 |
US11921424B2 (en) | 2017-03-30 | 2024-03-05 | Hitachi Chemical Company, Ltd. (FIPAS) | Photosensitive resin composition, dry film using same, printed wiring board, and printed wiring board manufacturing method |
KR102403787B1 (ko) * | 2017-03-31 | 2022-05-30 | 동우 화인켐 주식회사 | 청색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상 표시 장치 |
KR102400347B1 (ko) * | 2017-09-26 | 2022-05-20 | 후지필름 가부시키가이샤 | 경화성 조성물, 경화막, 고체 촬상 장치, 및 경화막의 제조 방법 |
KR102420415B1 (ko) | 2017-10-17 | 2022-07-15 | 덕산네오룩스 주식회사 | 부착력 또는 접착성이 향상된 감광성 수지 조성물 및 그것들을 사용한 광 차단 층 |
CN108153063B (zh) * | 2018-01-05 | 2020-07-28 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 液晶显示器及其制作方法 |
CN108559437B (zh) * | 2018-02-28 | 2020-12-08 | 广州市白云化工实业有限公司 | 反应型聚氨酯热熔胶及其制备方法 |
JP6699691B2 (ja) * | 2018-08-06 | 2020-05-27 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 黒色組成物、黒色塗膜、および積層体 |
JP7339289B2 (ja) | 2019-02-06 | 2023-09-05 | 株式会社Adeka | 重合体、重合性組成物及び硬化物 |
CN112114496B (zh) * | 2019-06-20 | 2022-03-25 | 常州强力电子新材料股份有限公司 | 感光性树脂、其制备方法、感光性树脂组合物及着色间隔物 |
TWI779259B (zh) * | 2020-01-20 | 2022-10-01 | 新應材股份有限公司 | 樹脂組成物以及濾光元件 |
WO2021255907A1 (ja) | 2020-06-18 | 2021-12-23 | 昭和電工マテリアルズ株式会社 | 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、プリント配線板、及びプリント配線板の製造方法 |
CN112162463B (zh) * | 2020-08-28 | 2021-09-28 | 上海玟昕科技有限公司 | 一种负性高弹性感光树脂组合物 |
TWI744014B (zh) * | 2020-09-29 | 2021-10-21 | 新應材股份有限公司 | 黑色樹脂組成物、硬化膜以及黑色濾光片 |
KR20230124999A (ko) | 2021-12-22 | 2023-08-28 | 가부시끼가이샤 레조낙 | 감광성 수지 조성물, 감광성 엘리먼트, 프린트 배선판,및 프린트 배선판의 제조 방법 |
WO2023139694A1 (ja) | 2022-01-19 | 2023-07-27 | 株式会社レゾナック | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、プリント配線板、及びプリント配線板の製造方法 |
WO2024042106A1 (en) * | 2022-08-26 | 2024-02-29 | Merck Patent Gmbh | Composition |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3564836B2 (ja) * | 1995-11-22 | 2004-09-15 | Jsr株式会社 | カラーフィルタ用感放射線性組成物およびカラーフィルタ |
JP4400025B2 (ja) * | 2002-07-10 | 2010-01-20 | 住友化学株式会社 | ポリカルボン酸樹脂の製造方法 |
JP4290483B2 (ja) * | 2003-06-05 | 2009-07-08 | 新日鐵化学株式会社 | ブラックレジスト用感光性樹脂組成物並びにこれを用いて形成された遮光膜 |
JP4830310B2 (ja) * | 2004-02-23 | 2011-12-07 | 三菱化学株式会社 | オキシムエステル系化合物、光重合性組成物及びこれを用いたカラーフィルター |
KR101086476B1 (ko) * | 2004-04-14 | 2011-11-25 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시패널 및 그 제조방법 |
ATE381540T1 (de) * | 2004-08-18 | 2008-01-15 | Ciba Sc Holding Ag | Oximesther-fotoinitiatoren |
JP4627227B2 (ja) * | 2005-06-22 | 2011-02-09 | 東京応化工業株式会社 | 感光性組成物およびブラックマトリクス |
JP4642593B2 (ja) * | 2005-08-11 | 2011-03-02 | 東京応化工業株式会社 | 機能性パターン形成用感光性樹脂組成物および機能性パターン形成方法 |
KR100655045B1 (ko) | 2005-12-30 | 2006-12-06 | 제일모직주식회사 | 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 블랙 매트릭스 |
JP5073342B2 (ja) * | 2006-03-31 | 2012-11-14 | 新日鐵化学株式会社 | 感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルター |
KR20080067816A (ko) * | 2007-01-17 | 2008-07-22 | 제일모직주식회사 | 블랙매트릭스용 감광성 수지 조성물 및 그로부터 제조되는블랙매트릭스 |
KR100961818B1 (ko) * | 2007-02-21 | 2010-06-08 | 주식회사 엘지화학 | 블랙 매트릭스용 감광성 수지 조성물, 이에 의해 형성되는블랙 매트릭스 및 이를 포함하는 액정표시소자 |
JP5270113B2 (ja) * | 2007-06-06 | 2013-08-21 | 新日鉄住金化学株式会社 | ブラックレジスト用感光性樹脂組成物及びこれを用いた遮光膜並びにカラーフィルター |
WO2009048231A2 (en) * | 2007-10-11 | 2009-04-16 | Lg Chem. Ltd. | Fluorene-based polymer containing urethane groups, preparation method thereof and negative-type photosensitive resin composition comprising the same |
JP2009122224A (ja) * | 2007-11-13 | 2009-06-04 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 着色感光性樹脂組成物 |
KR101337023B1 (ko) * | 2007-12-28 | 2013-12-05 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 감광성 수지 조성물 |
-
2009
- 2009-12-22 KR KR1020090128708A patent/KR101068622B1/ko active IP Right Grant
-
2010
- 2010-09-06 JP JP2010199054A patent/JP5545856B2/ja active Active
- 2010-10-22 CN CN201010527815.7A patent/CN102103327B/zh active Active
- 2010-12-10 US US12/965,715 patent/US20110151379A1/en not_active Abandoned
Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9341946B2 (en) | 2012-05-25 | 2016-05-17 | Lg Chem, Ltd. | Photosensitive resin composition, pattern formed using same and display panel comprising same |
JP2015525371A (ja) * | 2012-05-30 | 2015-09-03 | エルジー・ケム・リミテッド | 感光性樹脂組成物および前記感光性樹脂組成物から製造されたベゼルパターンを含むタッチパネルまたはディスプレイ装置 |
KR20150129086A (ko) * | 2012-05-31 | 2015-11-19 | 주식회사 엘지화학 | 감광성 수지 조성물, 상기 감광성 수지 조성물로 제조된 감광재, 이를 포함하는 컬러필터 및 이를 포함하는 디스플레이 장치 |
KR20140020536A (ko) * | 2012-08-09 | 2014-02-19 | 삼성디스플레이 주식회사 | 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 블랙 매트릭스의 제조 방법 |
KR20140082477A (ko) * | 2012-12-24 | 2014-07-02 | 엘지디스플레이 주식회사 | 표시장치 및 그 제조방법 |
KR20150028096A (ko) * | 2013-09-05 | 2015-03-13 | 동우 화인켐 주식회사 | 흑색 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙매트릭스 및 이를 구비한 화상 표시 장치 |
KR20150028098A (ko) * | 2013-09-05 | 2015-03-13 | 동우 화인켐 주식회사 | 흑색 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙매트릭스 및 이를 구비한 화상 표시 장치 |
KR20160035273A (ko) | 2014-09-23 | 2016-03-31 | 동우 화인켐 주식회사 | 흑색 감광성 수지 조성물, 및 이로써 제조된 액정 표시장치용 블랙 매트릭스 및 칼럼 스페이서 |
US9746767B2 (en) | 2015-01-07 | 2017-08-29 | Samsung Display Co., Ltd. | Photoresist composition and method of manufacturing black matrix using the same |
KR20180121872A (ko) * | 2016-03-29 | 2018-11-09 | 가부시키가이샤 아데카 | 흑색 감광성 수지 조성물 |
KR20170124207A (ko) * | 2016-05-02 | 2017-11-10 | 에이엠씨주식회사 | 감광성 접착필름 및 그 제조 방법 |
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