KR20090046729A - 근적외선 흡수 점착체용 분산액, 근적외선 흡수 점착체, 플라즈마 디스플레이 패널용 근적외선 흡수 필터 및 플라즈마 디스플레이 패널 - Google Patents

근적외선 흡수 점착체용 분산액, 근적외선 흡수 점착체, 플라즈마 디스플레이 패널용 근적외선 흡수 필터 및 플라즈마 디스플레이 패널 Download PDF

Info

Publication number
KR20090046729A
KR20090046729A KR1020080109348A KR20080109348A KR20090046729A KR 20090046729 A KR20090046729 A KR 20090046729A KR 1020080109348 A KR1020080109348 A KR 1020080109348A KR 20080109348 A KR20080109348 A KR 20080109348A KR 20090046729 A KR20090046729 A KR 20090046729A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
adhesive
infrared
tungsten oxide
fine particles
infrared absorption
Prior art date
Application number
KR1020080109348A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101536774B1 (ko
Inventor
요스케 오타
아츠시 토후쿠
Original Assignee
스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 filed Critical 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤
Publication of KR20090046729A publication Critical patent/KR20090046729A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101536774B1 publication Critical patent/KR101536774B1/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J133/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J133/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C09J133/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C09J133/08—Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters
    • G02B5/24—Liquid filters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20—Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C08L33/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
    • C08L33/08—Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

PDP용 근적외선 흡수 필터의 광학 특성을 향상시킴과 동시에, 제조 비용을 억제할 수 있는 근적외선 흡수 점착체용 분산액에 관한 것으로, 좀 더 상세하게는 용매 중에 텅스텐 산화물 미립자 및 복합 텅스텐 산화물 미립자로부터 선택되는 1종 이상을 포함하고, 아크릴계 고분자 분산제를 첨가한 근적외선 흡수 점착체용 분산액에 있어서, 텅스텐 산화물 미립자, 복합 텅스텐 산화물 미립자의 평균 분산 입경이 800nm이하인 것을 특징으로 하는 근적외선 흡수 점착체용 분산액을 제공한다.
근적외선, 흡수 필터, 텅스텐 산화물, 아크릴계 고분자 분산제

Description

근적외선 흡수 점착체용 분산액, 근적외선 흡수 점착체, 플라즈마 디스플레이 패널용 근적외선 흡수 필터 및 플라즈마 디스플레이 패널 {Dispersant for near infrared ray absorbing adhesive body, near infrared ray absorbing adhesive body, near infrared ray absorbing filter for plasma display panel and plasma display panel}
본 발명은 근적외선 차단성을 갖는 플라즈마 디스플레이 패널용 근적외선 흡수 필터에 사용하는 근적외선 흡수 점착체용 분산액, 근적외선 흡수 점착체, 및 이를 사용한 플라즈마 디스플레이 패널용 근적외선 흡수 필터, 및 상기 플라즈마 디스플레이 패널용 근적외선 흡수 필터를 사용한 플라즈마 디스플레이 패널(이하, PDP라고 칭함)에 관한 것이다.
최근, 디스플레이의 대형화·박형화에 따라 PDP가 주목받고 있다. PDP는 패널 내부에 봉입된 희가스, 특히 크세논(xenon)을 주체로 한 가스 중에서 방전을 발생시키고, 패널 내부의 셀에 설치된 단광체를 발광시킨다. 이 때, 크세논 가스 분위기 중에서의 플라즈마 방전시에 발생하는 근적외선이나 전자파의 일부는 PDP 전면에 폭사된다. 상기 폭사로 인해, 특히 파장역 800nm∼1100nm의 근적외선에 대해 서는 무선전화기나 가전기구의 리모컨의 오동작, 전송계 광통신으로의 악영향, 또는 전자파에 의한 인체에의 악영향 등이 문제가 되고 있다. 이 때문에, 상기 문제를 방지할 목적으로 PDP 전면에 근적외선 차단효과나 전자파 차단효과를 갖는 적층체가 설치되어 있다.
상기 근적외선 차단효과를 갖는 적층체 중에는 근적외선 흡수재료가 첨가된다. 근적외선 흡수재료는 PDP 휘도에 악영향을 미치지 않도록 가시광선 영역(파장역, 약 380nm∼780nm)의 빛을 충분히 투과하고, 파장역 800nm∼1100nm의 근적외선을 차단하는 것이 요망된다. 종래, 근적외선 흡수재료에는 유기염료나 금속착체가 이용되고, 상기 근적외선 흡수재료를 여러 종류 함유시킨 필터, 또는 각종 근적외선 흡수재료를 복수층으로 함유시킨 다층 필터를 이용하는 것이 제안되어 있다.
이들 제안에 있어서, 유기화합물이나 금속착체를 다층 필터에 함유시키는 경우, 유기화합물이나 금속착체를 각각 용매에 균일하게 분산시킨 것을 PDP 표면의 기재에 코팅하는 방법이 일반적으로 사용되고 있다. 유기화합물이나 금속착체 등의 근적외선 흡수제로서는 디이모늄계 화합물, 알루미늄계 화합물, 푸탈로시아닌계 화합물, 유기금속착체, 시아닌계 화합물, 아조 화합물, 폴리메틴계 화합물, 퀴논계 화합물, 디페닐메탄계 화합물, 트리페닐메탄계 화합물 등을 들 수 있다. 그러나, 이들 유기화합물이나 금속착체 등의 근적외선 흡수제는 열이나 빛에 대하여 내구성이 낮고, 이들 유기화합물이나 금속착체를 근적외선 흡수제로서 사용한 경우, 근적외선 흡수성능을 장기간 유지하는 것이 곤란하였다.
또한, 상기 근적외선 흡수제의 내구성이 열악하기 때문에 근적외선 차단기능 을 갖는 층을 외환경의 영향을 받기 쉬운 PDP용 근적외선 흡수 필터의 시인면측 표면 근방에 설치하는 것이 곤란하다. 이 때문에, 종래 기술에서는 기재에 접하는 시인면측 또는 PDP 부착 측에 독립한 층을 설치하고, 여기에 근저외선 차단기능을 갖는 층을 설치하는 것으로 내구성능을 확보하고 있다. 그러나, 상기 구조상의 제약이 PDP용 근적외선 흡수필터에 있어서의 적층수의 증가를 초래하여 생산성의 저하나 비용 상승을 초래하고 있다.
상기 상황 중에서, 예를 들어 특허문헌 1에는 내후성이 뛰어난 무기 근적외선 흡수제로서 텅스텐 산화물 미립자 및/또는 복합 텅스텐 산화물 미립자를 기재내 및/또는 기재표면상에 설치한 수지 또는 금속산화물의 피막중에 분산된 PDP용 근적외선 흡수필터를 제안하고 있다.
특허 문헌 2에는, 산화 텅스텐계 화합물을 근적외선 흡수제로서 이용하여 기재 필름의 한쪽 면에, 경화 수지와 근적외선 흡수제를 포함한 하드 코트층, 또한 경화 수지를 포함하는 저굴절률층이 차례로 적층되고, 또한 적어도 파장 850∼1000nm의 전영역에 있어서의 투과율이 30% 이하로 한 반사 방지 필름을 구성하고, 근적외선 흡수 성능과 반사 방지 성능을 가지며 더욱 내찰상성(耐擦傷性)도 뛰어나고, 층 구성이 간단하여 저렴하여 특히 PDP용으로서 매우 적합한 웨트 프로세스(wet process)법으로 얻어지는 반사 방지 필름이 제안되고 있다.
또한, 상기 전자파 차단기능을 갖는 적층체를 얻기 위해서는 기재 표면에 전자파를 차폐하는 도전층을 두는 방법이 취해지고 있다. 예를 들면, 기재 표면에 금속/금속 산화물의 도전성 박막을 다층으로 적층하는 방법이나, 동 등의 금속박의 박막층을 형성하고, 상기 박막층을 메쉬상으로 에칭 가공하는 방법 등을 들 수 있다. 상기 메쉬상 금속층 또는 금속 함유층을 이용한 경우, 메쉬가 설치된 기재 표면은 조면(粗面)이 되기 때문에, 그 틈새를 메우는 투명 수지층을 설치하여, 광학 필터의 투명성을 향상시키는 경우도 있다. 예를 들어, 특허 문헌 3에는, 투명기재 위에 접착제층이 적층되어 있으며, 이 접착제층에 기하학 도형의 도전층이 매설된 전자파 쉴드(shield)성 접착 필름을 플라스틱판과 맞붙어서 전자파 차폐 구성체로 하고, 상기 전자파 쉴드(shield)성 접착 필름 또는 상기 전자파 차폐 구성체를 CRT, PDP, 액정, EL 등의 디스플레이 앞면에 사용한 디스플레이가 개시되어 있다.
또한, 디스플레이의 대형화와 함께, PDP에 있어서도 경량화·박형화가 더욱 더 요구됨과 동시에, 패널의 내충격성의 향상이 중요한 과제가 되고 있다. 이 때문에, 예를 들어 특허 문헌 4에서는, 상기 근적외선 차폐층이나 전자파 차폐층 등에 더하여 시야면 측으로부터의 충격에 대해 완화하도록 하는 충격 완화층을 설치하는 것이 제안되어 있다.
(특허 문헌 1) 일본 특허공개 제2006－154516호 공보
(특허 문헌 2) 일본 특허공개 제2006－201463호 공보
(특허 문헌 3) 일본 특허공개 제2000－323891호 공보
(특허 문헌 4) 일본 특허공개 제2005－023133호 공보
상술한 요구 특성을 만족시키기 위하여, PDP용 근적외선 흡수 필터는 근적외선 차폐층이나 전자파 차폐층, 외력 흡수층 등을 별도로 제작하고, 접착제 등으로 각층을 붙여서 복합화한 기능성 다층 필름이 주류가 되고 있다. 그러나, 본 발명자들의 검토에 의하면, 기능성 다층 필름은 다층화에 따르는 폐해 때문에, 필터의 투명성이 저하되어 화면의 휘도에 영향을 미치는 문제나, 또 생산성이 악화되어 제조비용이 상승되는 등의 문제가 생기고 있다.
본 발명은 상기 문제점에 착안하여 이루어진 것이며, 그 과제로 하는 바는 PDP용 근적외선 흡수 필터의 광학 특성을 향상시킴과 동시에, 제조비용을 억제하는데 있다.
본 발명자들은 상술한 과제를 해결하기 위하여 연구를 실시하고, PDP용 근적외선 흡수 필터에 있어서의 접착층 안에, 내후성이 뛰어난 무기 근적외선 흡수제를 함유시키는 획기적인 발견을 하였다.
여기서, 본 발명자들은 상기 획기적인 발견을 실현하기 위해 연구를 실시한 결과, 용매 중에 텅스텐 산화물 미립자, 복합 텅스텐 산화물 미립자로부터 선택되는 1종류 이상의 산화물 미립자와 아크릴계 고분자 분산제를 함유시킨 분산액을 이용함으로써, 카르복실기를 갖는 아크릴산 에스테르계 점착 수지에 상기 미립자를 균일하게 분산시킬 수 있음을 발견하였다. 그리고, 상기 발견으로부터, 상기 텅스 텐 산화물 미립자, 복합 텅스텐 산화물 미립자로부터 선택되는 1종류 이상의 미립자가 균일하게 분산한 점착체를 얻을 수 있었다. 상기 점착체를 이용하면, PDP용 근적외선 흡수 필터의 내후성이 개선됨과 동시에, 적층수를 줄일 수 있어 광학 특성의 향상과 제조비용의 억제를 동시에 달성할 수 있다는 것을 발견하였고 본 발명에 이르렀다.
즉, 상술한 과제를 해결하는 제1의 발명은,
용매 중에 텅스텐 산화물 미립자, 복합 텅스텐 산화물 미립자로부터 선택되는 1종 이상의 산화물 미립자와 아크릴계 고분자 분산제를 포함하는 근적외선 흡수 점착체용 분산액에 있어서,
상기 산화물 미립자의 평균 분산 입경이 800nm이하인 것을 특징으로 하는 근적외선 흡수 점착체용 분산액을 제공한다.
제2의 발명은,
상기 용매가 케톤류, 에스테르류, 탄화수소류, 에테르류로부터 선택되는 1 종류 이상인 것을 특징으로 하는 제1발명에 기재된 근적외선 흡수 점착체용 분산액을 제공한다.
제3의 발명은,
상기 텅스텐 산화물 미립자가 일반식 WyOz(단, W는 텅스텐, O는 산소, 2.2≤z/y≤2.999)로 표기되는 텅스텐 산화물의 미립자인 것을 특징으로 하는 제1의 발명에 기재된 근적외선 흡수 점착체용 분산액을 제공한다.
제4의 발명은,
상기 복합 텅스텐 산화물 미립자가 일반식 MxWyOz(단, M원소는, H, He, 알칼리 금속, 알칼리토류 금속, 희토류 원소, Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, B, F, P, S, Se, Br, Te, Ti, Nb, V, Mo, Ta, Re, Be, Hf, Os, Bi, I 중에서부터 선택되는 1 종류 이상의 원소, W는 텅스텐, O는 산소, 0.001≤x/y≤1.1, 2.2≤z/y≤3.0)로 표기되는 복합 텅스텐 산화물의 미립자인 것을 특징으로 하는 제1의 발명에 기재된 근적외선 흡수 점착체용 분산액을 제공한다.
제5의 발명은,
상기 텅스텐 산화물 미립자가 일반식 WyOz(단, W는 텅스텐, O는 산소, 2.45≤z/y≤2.999)로 표기되는 조성비의 마그네리상을 포함하는 것을 특징으로 하는 제1 내지 제4발명 중 어느 하나의 발명에 기재된 근적외선 흡수 점착체용 분산액을 제공한다.
제6의 발명은,
제1 내지 제5의 발명 중 어느 한 발명에 기재된 분산액이 점착 수지중에 분산되어 있는 것을 특징으로 하는 근적외선 흡수 점착체를 제공한다.
제7의 발명은,
상기 점착 수지가 아크릴산 에스테르계 골격을 갖고, 관능기로서 카르복실기를 갖는 것을 특징으로 하는 제6발명에 기재된 근적외선 흡수 점착체를 제공한다.
제8의 발명은,
기재와 기재 표면에 기능성 다층막이 설치된 적층체와의 사이, 또는, 기재 표면에 기능성 다층막을 설치한 적층체끼리에 있어서의 각 적층체의 사이에, 제6 또는 제7의 발명에 기재된 근적외선 흡수 점착체로 이루어지는 접착층, 외력 흡수층으로부터 선택되는 1종 이상의 층을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 근적외선 흡수 필터를 제공한다.
제9의 발명은,
제8의 발명에 기재된 접착층, 외력 흡수층으로부터 선택되는 1종 이상의 층내에 전자파 차폐 기능을 가지는 메쉬상 금속층을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 근적외선 흡수 필터를 제공한다.
제10의 발명은,
제8, 제9의 발명 중 어느 하나의 발명에 기재된 플라즈마 디스플레이 패널용 근적외선 흡수 필터가 설치되고 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공한다.
본 발명에 관한 근적외선 흡수 점착체용 분산액이 점착 수지 중에 분산된 근적외 흡수 점착체를 PDP용 근적외선 흡수 필터의 접착층에 이용한 PDP 패널은 광학적 특성 및 내후성이 뛰어날 뿐만 아니라 제조비용을 저감할 수 있었다.
이하, 본 발명의 실시형태에 대하여 상세하게 설명한다.
본 발명에 관한 근적외선 흡수 점착체용 분산액은 용매 중에 텅스텐 산화물 미립자, 복합 텅스텐 산화물 미립자로부터 선택되는 1종 이상의 산화물 미립자와 아크릴계 고분자 분산제가 함유되어 있다. 상기 근적외선 흡수 점착체용 분산액은 아크릴산 에스테르계 골격을 갖고 관능기로서 카르복실기를 갖는 점착 수지를 사용한 점착체안으로 균일하게 분산할 수 있다. 그리고, 상기 근적외선 흡수 점착체용 분산액을 균일하게 분산한 점착체는 PDP용 근적외선 흡수 필터, PDP 패널에 적합하게 이용할 수 있다.
본 발명에 있어서, 용어 "점착체(adhesive body)"와 관련하여, 본 발명에 따른 분산액과 점착 수지를 혼합하여 얻은 혼합물 및 상기 혼합물이 열처리된 후의 점착체 모두가 포함됨을 유의한다.
1. 근적외선 흡수 점착체용 분산액
본 발명의 근적외선 흡수 점착체용 분산액은 4∼89중량부의 용매 중에, 10∼80중량부의 텅스텐 산화물 미립자, 복합 텅스텐 산화물 미립자로부터 선택되는 1종 이상의 산화물 미립자와, 또한 1∼40중량부의 아크릴계 고분자 분산제를 포함하는 근적외선 흡수 점착체용 분산액이다. 그리고, 상기 텅스텐 산화물 미립자, 복합 텅스텐 산화물 미립자의 평균 분산 입경이 800nm이하이다.
a) 용매
상기 분산액에 사용하는 용매는 상술한 텅스텐 산화물 미립자, 복합 텅스텐 산화물 미립자의 미분쇄를 저해하지 않는 것이 바람직하다. 또한, 본 발명에 관한 분산액을 균일하게 분산시키는 점착 수지는 뛰어난 점착 특성을 발현하는 것이 요구된다. 그래서, 상기 점착 수지층을 포함하는 적층체를 형성한 후, 경화제에 의해 점착 수지의 골격내에 있는 카르복실기나 수산기 등을 가수분해하고, 점착 수지끼 리를 가교시키는 가교 반응을 실시한다. 따라서, 상기 분산액에 이용하는 용매에는 상기 가교 반응을 저해하는 카르복실기나 수산기를 함유하지 않는 것이 바람직하다. 상기 관점으로부터 용매류로서, 케톤류, 에스테르류, 탄화수소류, 에테르류로부터 선택되는 1종류 이상을 들 수 있으며, 구체적인 예로서 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸 케톤 등의 케톤류; 아세트산에틸, 아세트산프로필, 아세트산이소프로필, 아세트산부틸, 아세트산이소부틸, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 등의 에스테르류; 톨루엔, 자일렌 등의 탄화수소류; 에틸에테르, 이소프로필에테르 등의 에테르류를 들 수 있다. 그 중에서도, 케톤류, 에스테르류는 위험성이나 독성이 낮고, 취급이 용이한 용매이므로 보다 바람직하다.
b) 무기 근적외선 흡수 재료
근적외선 흡수 점착체용 분산액에 포함되는 근적외선 흡수 재료에는 유기 화합물이나 금속 착체와 비교하여 내후성이 뛰어난 무기 근적외선 흡수 재료가 바람직하다.
무기 근적외선 흡수 재료로서는, 근적외선 흡수 성분으로서 유효하게 기능하는 텅스텐 산화물 미립자, 복합 텅스텐 산화물 미립자로부터 선택되는 1종 이상이 바람직하다. 구체적으로는, 일반식 WyOz(단, W는 텅스텐, O는 산소, 2.2≤z/y≤2.999)로 표기되는 텅스텐 산화물의 미립자가 바람직하다. 보다 바람직하게는, 일반식 MxWyOz(단, M원소는, H, He, 알칼리 금속, 알칼리토류 금속, 희토류 원소, Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, B, F, P, S, Se, Br, Te, Ti, Nb, V, Mo, Ta, Re, Be, Hf, Os, Bi, I 중에서 선택되는 1종류 이상의 원소, W는 텅스텐, O는 산소, 0.001≤x/y≤1.1, 2.2≤z/y≤3.0)로 표기되는 복합 텅스텐 산화물의 미립자가 바람직하다.
상기 일반식 WyOz(2.2≤z/y≤2.999)로 나타내는 텅스텐 산화물 미립자로서 예를 들면, W18O49, W20O58, W4O11 등을 들 수가 있다. z/y의 값이 2.2이상이면, 상기 열선 흡수 재료중에 목적외인 WO2의 결정상이 나타나는 것을 완전하게 회피할 수 있음과 동시에, 재료의 화학적 안정성을 얻을 수 있다. 한편, z/y의 값이 2.999 이하면, 충분한 양의 자유전자가 생성되어 효율 좋은 근적외선 흡수 재료가 된다. 그리고, z/y의 범위가 2.45≤z/y≤2.999인 것 같은 WyOz 화합물은, 이른바 마그네리상으로 불리는 화합물로 내구성이 뛰어나다.
상기 일반식 MxWyOz로 표기되는 복합 텅스텐 산화물 미립자는 육방정, 정방정, 입방정의 결정 구조를 가지는 경우에 내구성이 우수하기 때문에, 상기 육방정, 정방정, 입방정으로부터 선택되는 1개 이상의 결정 구조를 포함하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 육방정의 결정 구조를 갖는 복합 텅스텐 산화물 미립자의 경우, 바람직한 M원소로서 Cs, Rb, K, Ti, In, Ba, Li, Ca, Sr, Fe, Sn의 각 원소로부터 선택되는 1종류 이상의 원소를 포함하는 복합 텅스텐 산화물 미립자를 들 수 있다.
이 때 첨가되는 M원소의 첨가량 x는, x/y에 있어서 0.001 이상, 1.1 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.33 부근이 좋다. 이는 육방정의 결정 구조로부터 이론적으로 산출되는 x/y의 값이 0.33이며, 이 전후의 첨가량에서 바람직한 광학 특성을 얻을 수 있기 때문이다. 한편, 산소의 존재량 Z는 z/y로 2.2 이상 3.0 이하가 바람직하다. 전형적인 예로서는 Cs0.33WO3, Rb0.33WO3, K0.33WO3, Ba0.33WO3 등을 들 수 있지만, x, y, z가 상기의 범위에 들어가는 것이면 유용한 근적외선 흡수 특성을 얻을 수 있다.
이상 설명한 텅스텐 산화물 미립자, 복합 텅스텐 미립자는 각각 단독으로 사용할 수도 있으나, 혼합하여 사용하는 것도 바람직하다.
상기 텅스텐 산화물 미립자, 복합 텅스텐 산화물 미립자로부터 선택된 적어도 1종류 이상의 산화물 미립자를 근적외선 흡수 점착체용 분산액에 사용하는 경우, 평균 분산 입경은 800nm이하인 것을 필요로 하고, 바람직하게는 200nm이하, 보다 바람직하게는 100nm이하가 좋다. 상기 산화물 미립자의 평균 분산 입경이 800 nm이하면, 기하학 산란 또는 미산란에 의해, 파장 380nm∼780nm의 가시광선 영역의 빛을 산란해 버리는 일이 없으며, 상기 근적외선 흡수 점착체용 분산액을 사용하여 제작한 PDP용 근적외선 흡수 필터 외관을 젖빛 유리 같이 되지 않고, 선명한 화면 표시를 얻을 수 있어 바람직하다. 평균 분산 입경이 200nm이하가 되면, 상기 기하학 산란 또는 미산란이 저감되고, 레일리 산란 영역이 된다. 상기 레일리 산란 영역에 있어서, 산란광은 평균 분산 입경의 6승에 반비례하여 저감되기 때문에, 상기 가시광선의 산란이 저감하여 선명한 화면 표시가 가능해진다. 또한, 평균 분산 입경이 100nm이하가 되면 산란광은 매우 적어지기 때문에 바람직하다.
c) 분산제
분산제에는 미셀 또는 역미셀을 형성시키는 것으로 미립자를 분산안정화시키는 계면활성제나, 미립자 표면에 흡착시킨 분산제의 입체 장해에 의해 분산 안정화시키는 고분자 분산제 등이 있지만, 가교 반응시에 용매를 제거한 점착체내에서 분산성을 보관 유지할 수 있는 고분자 분산제가 바람직하다.
근적외선 흡수 점착체용 분산액에 첨가하는 고분자 분산제로서는, 아크릴계 고분자 분산제를 이용하는 것이 바람직하다. 상기 아크릴계 고분자 분산제로서는 예를 들면, 에틸아크릴레이트와 부틸아크릴레이트의 공중합체를 주골격으로 가지며, 또한 필러에 흡착하기 위한 관능기를 갖는 것을 들 수 있다. 상기 관능기를 갖는 것으로, 산가 0∼23mgKPH/g, 아민가 30∼50mgKPH/g의 특징을 갖는 아크릴계 고분자 분산제가 바람직하다. 일반적인 아크릴계 고분자 분산제는 아민가가 상기 수치량인 것이 많고, 산가를 가진 것은 적다. 상기 아크릴계 고분자 분산제는 아크릴산 에스테르계 골격을 갖고 관능기로서 카르복실기를 갖는 점착 수지와 상용성이 양호하여 점착체로 하였을 때 광학 특성에 악영향을 미치지 않는다.
d) 근적외선 흡수 점착체용 분산액의 제조
본 발명에 관한 근적외선 흡수 점착체용 분산액의 제조에는, 상기 분산제를 첨가한 상기 용매에, 텅스텐 산화물, 복합 텅스텐 산화물로부터 선택된 적어도 1종류 이상의 산화물 미립자를 평균 분산 입경 800nm이하로서 분산시킨다. 분산 방법으로서는 습식법이 유효하다. 평균 분산 입경이 800nm이하인 산화물 미립자를 얻기 위해서는 전단 응력에 의한 분산 분쇄가 유효하고, 용매, 무기 근적외선 흡수 재 료, 분산제를 분산 분쇄용 장치내에 넣고, 전단 응력에 의해 분쇄, 분산시키는 것이 바람직하다. 대표적인 분산 분쇄용 장치예로서는, 볼밀, 샌드밀, 매체 교반밀, 초음파 조사 등을 들 수 있다.
2. 근적외선 흡수 점착체
본 발명에 관한 근적외선 흡수 점착체는 아크릴산 에스테르계 골격을 갖고, 관능기로서 카르복실기를 갖는 점착 수지중에, 상기 근적외선 흡수 점착체용 분산액을 사용하여, 상기 텅스텐 산화물 미립자, 복합 텅스텐 산화물 미립자로부터 선택된 적어도 1 종류 이상의 근적외선 흡수 미립자를 균일 분산시키고 있다.
무엇보다도, 상기 점착 수지는 아크릴산 에스테르계 골격을 갖는 것이 바람직하지만, 아크릴산 에스테르계 점착 수지 이외에 우레탄계 점착 수지, 실리콘계 점착 수지, 및 그 혼합물 등으로도 사용 가능하다. 그러나, PDP 패널내에 있어서, 유리 기판과 폴리에스테르(이하 PET라고 칭함) 기판 등의 다른 재질끼리를 상기 근적외선 흡수 점착체를 사용하여 접착시킬 때, 점착 특성의 관점으로부터는 아크릴산 에스테르계 골격을 가진 점착 수지가 보다 바람직하다.
또한, 상기 점착 수지가 관능기로서 카르복실기를 가지고 있으면, 텅스텐 산화물 미립자, 복합 텅스텐 산화물 미립자의 상용성이 양호하여 응집이나 백탁화가 일어나지 않기 때문에 바람직하다.
3. PDP용 근적외선 흡수 필터 및 PDP 패널
PDP용 근적외선 흡수 필터는 기재와 상기 기재에 설치된 기능성 다층막으로 구성된 적층체이다.
상기 적층체에 있어서의 기재와 기능성 다층막과의 경계면, 및 기능성 다층막과 기능성 다층막과의 경계면으로부터 선택되는 1개 이상의 경계면에, 본 발명에 관한 근적외선 흡수 점착체를 접착층 또는 외력 흡수층으로서 사용한다. 그러면, 지금까지 별도로 설치했던 접착층이나 외력 흡수층과 근적외선 흡수층을 1개의 층으로 하여 상기 기능을 동시에 발휘할 수 있게 된다.
또한, 본 발명에 관한 근적외선 흡수 점착체를 접착층이나 외력 흡수층을 겸한 1개의 층으로 해버리는 것도 가능하다.
또한, 본 발명에 관한 근적외선 흡수 점착체를 사용한 접착층, 외력 흡수층, 접착·외력 흡수층의 내부에, 전자파 차폐 기능을 갖는 메쉬상의 금속층이 매립되어 있으면, 상기 근적외선 흡수 기능과 함께 전자파 차폐 기능을 겸비하게 할 수 있다.
상기 구성에 의하면, 접착 기능, 근적외선 흡수 기능, 전자파 차단기능의 3종류의 기능을 1개의 층에서 달성할 수 있기 때문에 바람직하다.
상기 메쉬상의 금속층은 전자파 차폐능을 갖는 것이라면 그 종류 등은 특히 한정되는 것은 아니다. 대표예로서는, Cu, Fe, Ni, Cr, Al, Au, Ag, W, Ti 또는, 이러한 합금의 금속박을 메쉬상으로 가공한 것, 카본 블랙, Cu, Ni 등의 도전성 미립자를 바인더 수지에 분산시킨 잉크를 메쉬상으로 패턴 인쇄한 것 등을 사용할 수 있다.
또한, 상기 메쉬상의 금속층을 전자파 차폐능을 갖는 금속 함유층으로 바꿀 수도 있다.
상기와 같은 플라즈마 디스플레이 패널용 근적외선 흡수 필터를 설치한 플라즈마 디스플레이 패널은 층상 구조의 간소화에 의한 뛰어난 광학 특성을 발휘함과 동시에, 제조비용을 저감할 수 있어 공업적으로 유용하다.
실시예
이하, 실시예를 들어 본 발명을 구체적으로 설명하지만 본 발명은 이들 실시예로 한정되는 것은 아니다.
또한, 각 실시예에 있어서, 빛의 투과율 측정은 분광 광도계 U－4000((주) 히타치 세이사쿠쇼 제조)를 사용하고, JIS　A　5759에 준하는 방법으로 파장 300 nm∼2600nm의 범위에 있어서 5nm간격으로 측정하였다.
막의 헤이즈값은, JIS　A　7105에 근거하여 측정하였다.
평균 입경은 동적 광산란법을 사용한 측정 장치(오오츠카 덴시 가부시키가이샤 제조　ELS－800)에 의해 측정하고, 얻어진 값을 평균하여 측정치로 하였다.
근적외선 차폐 기능을 갖는 점착체의 막두께는, 파장 380nm∼780nm의 가시광선 영역에 있어서의 투과율의 최대치가 60∼70%정도가 되도록 조제하였다.
실시예 1
Cs0.33WO3 분말(스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 제조) 10.0 중량부와 아세트산부틸(칸토케미칼 (주) 제조) 82.0 중량부와 아크릴계 고분자 분산제(아민가 36 mgKPH/g, 고형분50%) 8.0 중량부를 혼합하고, 페인트 쉐이커에서 분쇄 분산처리를 실시하여 평균 입경 80nm의 근적외선 흡수 점착체용 분산액(A액)을 얻었다.
이 A액 24.7중량부와 아크릴산 에스테르 점착 수지(불휘발 성분 23.0중량부, 아세트산에틸, 메틸에틸케톤, 톨루엔 혼합액 77.0 중량부, 점도 2.3 Pa·s(25℃), 주관능기에 카르복실기를 갖는다.) 75.3중량부와 경화제를 혼합하여 근적외선 흡수 점착체(점착체 B)를 제작하였다.
점착체 B는 육안 평가에서 백탁 없이 투명성이 뛰어나고, Cs0.33WO3가 균일 분산되어 있었다. 이 점착체 B를 PET 수지 필름(테이진 듀퐁 필름(주) 제, HPE　50㎛두께) 위에 어플리케이터를 사용하여 도포, 성막하였다. 얻어진 점착체의 막두께는 파장 300nm∼780nm의 가시광선 영역에 있어서의 투과율의 최대치가 70∼80%정도가 되도록 조제하였다. 이 점착체를 80℃에서 2분간의 열처리한 후, 상기 점착체 B층을 사용하여 PET 수지 필름을 유리 기판상에 붙였다.
이 점착체 B층의 광학 특성을 측정한 바, 가시광 투과율은 73.5%, 헤이즈 1.5%이며, 가시광선을 충분히 투과하여 높은 투명성을 유지하고 있다는 것을 알 수 있었다. 한편, 파장 1200 nm∼1800nm 범위의 근적외선 투과율은 10%이하로 되어 있고, 뛰어난 근적외선 흡수 기능을 갖는 것을 알 수 있었다.
또한, 비교를 위하여 A액 24.7중량부와 아크릴산 에스테르 점착 수지(불휘발 성분 24.1중량부, 톨루엔, 아세트산에틸, 메틸에틸케톤 혼합액 77.0중량부, 점도 2.3Pa·s(25℃), 주된 관능기에 수산기를 갖는다.) 75.3중량부와 경화제를 혼합하고, 근적외선 흡수 점착체(점착체 B*)를 제작하였다. 그러자 점착체 B*는 백탁되어 버림이 판명되었다.
실시예 2
아크릴계 고분자 분산제로서 아민가 45mgKPH/g의 것을 사용한 것 이외는, 실시예 1과 동일한 조작을 실시하여 근적외선 흡수 점착체용 분산액(C액)을 얻었다.
이 C액을 사용하여 실시예 1과 동일한 조작을 실시하여, 근적외선 흡수 점착체(점착체 D)를 제작하였다.
점착체 D는 육안 평가에서 백탁 없이 투명성이 뛰어고, Cs0.33WO3가 균일 분산되어 있었다. 이 점착체 D를 사용하여 실시예 1과 동일한 조작을 실시하여 점착체 D층을 제작한 바, 백탁 없이 투명성이 높은 것을 얻을 수 있었다.
또한, 비교를 위하여 C액 24.7중량부와 아크릴산 에스테르 점착 수지(불휘발 성분 24.1중량부, 톨루엔, 아세트산에틸, 메틸에틸케톤 혼합액 77.0중량부, 점도 2.3Pa·s(25℃), 주된 관능기에 수산기를 갖는다.) 75.3중량부와 경화제를 혼합하여, 근적외선 흡수 점착체(점착체 D*)를 제작하였다. 그러자 점착체 D*는 백탁되어 버림이 판명되었다.
실시예 3
Cs0.33WO3분말(스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 제조) 20중량부와 아세트산이소부틸(칸토 케미칼(주) 제) 82.0중량부와 아크릴계 고분자 분산제(아민가 45 mgKPH/g, 고형분 50%) 16.0중량부를 혼합하고, 페인트 쉐이커에서 분쇄 분산 처리를 실시하여 평균 입경 80nm의 근적외선 흡수 점착체용 분산액(E액)을 얻었다.
이 E액 24.7중량부와 아크릴산 에스테르 점착 수지(불휘발 성분 23.0중량부, 아세트산에틸, 메틸에틸케톤, 톨루엔 혼합액 77.0중량부, 점도 2.3 Pa·s(25℃), 주된 관능기에 카르복실기를 갖는다.) 75.3중량부와 경화제를 혼합하여, 근적외선 흡수 점착체(점착체 F)를 제작하였다.
점착체 F는 백탁 없이 투명성이 뛰어나고, 육안으로 Cs0.33WO3가 균일하게 분산되어 있었다.
이 점착체 F를 PET 수지 필름(테이진 듀퐁 필름(주) 제, HPE　50㎛두께) 위에 어플리케이터를 사용하여 도포, 성막하였다. 상기 성막의 막두께는 파장 300nm∼780nm의 가시광 영역에 있어서의 투과율의 최대치가 70∼80%정도가 되도록 조제하였다. 이 성막을 80℃에서 2분간의 열처리 한 후, 상기 점착체 F층을 사용하여 PET 수지 필름을 유리 기판상에 붙였다.
이 점착체 F층의 광학 특성을 도 1에 나타낸다. 도 1은 세로축에 광의 투과율을, 가로축에 빛의 파장을 도시한 그래프이다. 도 1로부터 분명하듯이, 점착체 F층은 가시광을 충분히 투과하여 높은 투명성을 유지하고 있다. 또한, 가시광 투과율은 73.5%, 헤이즈 1.5%였다. 한편, 파장 1200nm∼1800nm 범위의 근적외선 투과율은 10%이하가 되고 있으며, 뛰어난 근적외선 흡수 기능을 갖는다는 것도 판명되었다.
또한, 비교를 위하여 E액 24.7중량부와 아크릴산 에스테르 점착 수지(불휘발 성분 24.1중량부, 톨루엔, 아세트산에틸, 메틸에틸케톤 혼합액 77.0중량부, 점도 2.3Pa·s(25℃), 주된 관능기에 수산기를 갖는다.) 75.3중량부와 경화제를 혼합하 고, 근적외선 흡수 점착체(점착체 F*)를 제작하였다. 그러자 점착체 F*는 백탁되어 버림이 판명되었다.
실시예 4
아크릴계 고분자 분산제로서 아민가 50 mgKPH/g의 것을 사용한 이외는, 실시예 3과 동일한 조작을 실시하여 근적외선 흡수 점착체용 분산액(G액)을 얻었다.
이 G액을 사용하여 실시예 3과 동일한 조작을 실시하여, 근적외선 흡수 점착체(점착체 H)를 제작하였다.
점착체 H는 육안 평가에서 백탁 없이 투명성이 뛰어나고, Cs0.33WO3가 균일하게 분산되어 있었다. 이 점착체 H를 사용하여 실시예 1과 동일한 조작을 실시하여, 점착체 H층을 제작한 바, 백탁도 없고 투명성이 높은 것을 얻을 수 있었다.
또한, 비교를 위하여 G액 24.7중량부와 아크릴산 에스테르 점착 수지(불휘발 성분 24.1중량부, 톨루엔, 아세트산에틸, 메틸에틸케톤 혼합액 77.0중량부, 점도 2.3Pa·s(25℃), 주된 관능기에 수산기를 갖는다.) 75.3중량부와 경화제를 혼합하여, 근적외선 흡수 점착체(점착체 H*)를 제작하였다. 그러자 점착체 H*는 백탁되어 버림이 판명되었다.
실시예 5
아크릴계 고분자 분산제로서 산화 20mgKPH/g, 아민가 45mgKPH/g의 것을 사용한 것 이외는, 실시예 3과 동일한 조작을 실시하여 근적외선 흡수 점착체용 분산액(I액)을 얻었다.
이 I액을 사용하여 실시예 3과 동일한 조작을 실시하여 근적외선 흡수 점착체(점착체 J)를 제작하였다.
점착체 J는 육안 평가에서 백탁도 없이 투명성이 뛰어나고, Cs0.33WO3가 균일 하게 분산되어 있었다. 이 점착체 J를 사용하여 실시예 1과 동일한 조작을 실시하하여 점착체 J층을 제작한 바, 백탁도 없고 투명성이 높은 점착체를 얻을 수 있었다.
또한, 비교를 위하여, I액 24.7 중량부와 아크릴산 에스테르 점착 수지(불휘발 성분 24.1중량부, 톨루엔, 아세트산에틸, 메틸에틸케톤 혼합액 77.0중량부, 점도 2.3Pa·s(25℃), 주된 관능기에 수산기를 갖는다.) 75.3중량부와 경화제를 혼합하여, 근적외선 흡수 점착체(점착체 J*)를 제작하였다. 그러자 점착체 J*는 백탁되어 버림이 판명되었다.
실시예 6
아크릴계 고분자 분산제로서 아민가 42mgKPH/g의 것을 사용한 것 이외는, 실시예 3과 동일한 조작을 실시하여 근적외선 흡수 점착체용 분산액(K액)을 얻었다.
이 K액을 사용하여 실시예 3과 동일한 조작을 실시하여 근적외선 흡수 점체(점착체 L)를 제작하였다.
점착체 L은 육안 평가에서 백탁도 없이 투명성이 뛰어나고, Cs0.33WO3가 균일하게 분산되어 있었다. 이 점착체 L을 사용하여 실시예 1과 동일한 조작을 실시하여 점착체 L층을 제작한 바, 백탁도 없이 투명성이 높은 점착체를 얻을 수 있었다.
또한, 비교를 위하여, K액 24.7 중량부와 아크릴산 에스테르 점착 수지(불휘발 성분 24.1중량부, 톨루엔, 아세트산에틸, 메틸에틸케톤 혼합액 77.0중량부, 점도 2.3Pa·s(25℃), 주된 관능기에 수산기를 갖는다.) 75.3중량부와 경화제를 혼합하여 근적외선 흡수 점착체(점착체 L*)를 제작하였다. 그러자 점착체 L*는 백탁되어 버림이 판명되었다.
실시예 7
아크릴계 고분자 분산제로서 안료에 친화성이 있는 아크릴계 공중합체이고 아민가 30mgKPH/g의 것을 사용한 것외에는, 실시예 3과 동일한 조작을 실시하여 근적외선 흡수 점착체용 분산액(M액)을 얻었다.
이 M액을 사용하여 실시예 3과 동일한 조작을 실시하여 근적외선 흡수 점착체(점착체 N)를 제작하였다.
점착체 N은 육안 평가에서 백탁도 없게 투명성이 뛰어나고, Cs0.33WO3가 균일하게 분산되어 있었다. 이 점착체 N을 사용하여 실시예 1과 동일한 조작을 실시하여 점착체 N층을 제작한 바, 백탁도 없이 투명성이 높은 점착체를 얻을 수 있었다.
또한, 비교를 위하여 M액 24.7 중량부와 아크릴산 에스테르 점착 수지(불휘발 성분 24.1 중량부, 톨루엔, 아세트산에틸, 메틸에틸케톤 혼합액 77.0중량부, 점도 2.3Pa·s(25℃), 주된 관능기에 수산기를 갖는다.) 75.3중량부와 경화제를 혼합하여, 근적외선 흡수 점착체(점착체 N*)를 제작하였다. 그러자 점착체 N*는, 백탁되어 버림이 판명되었다.
실시예 8
용제로서 아세트산이소부틸(칸토 케미칼(주) 제) 51.2중량부와 아세트산 부틸(칸토 케미컬(주) 제) 12.8중량부의 혼합액을 사용하여 아크릴계 고분자 분산제로서 아민가 45mgKPH/g의 것을 사용한 것 이외는, 실시예 3과 동일한 조작을 실시하여 근적외선 흡수 점착체용 분산액(O액)을 얻었다.
이 O액을 사용하여 실시예 3과 동일한 조작을 실시하고, 근적외선 흡수 점착체(점착체 P)를 제작하였다.
점착체 P는 육안 평가에서 백탁도 없이 투명성이 뛰어나고, Cs0.33WO3가 균일하게 분산되어 있었다. 이 점착체 P를 사용하여 실시예 1과 동일한 조작을 실시하여, 점착체 P층의 광학 특성을 측정한 바, 가시광선 투과율은 74.1%, 헤이즈 1.3%이며, 가시광을 충분히 투과하여 높은 투명성을 유지하고 있다는 것을 알 수 있었다. 한편, 파장 1200nm∼1800nm 범위의 근적외선 투과율은 10%이하가 되고, 뛰어난 근적외선 흡수 기능을 가지는 것을 알 수 있었다.
또한, 비교를 위하여 O액 24.7중량부와 아크릴산 에스테르 점착 수지(불휘발 성분 24.1 중량부, 톨루엔, 아세트산에틸, 메틸에틸케톤 혼합액 77.0중량부, 점도 2.3Pa·s(25℃), 주된 관능기에 수산기를 갖는다.) 75.3중량부와 경화제를 혼합하여 근적외선 흡수 점착체(점착체 P*)를 제작하였다. 그러자 점착체 P*는 백탁되어 버림이 판명되었다.
실시예 9
Cs0.33WO3 분말(스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 제조) 18.5 중량부와 메틸이소부틸케톤(칸토 케미칼(주) 제) 63.0중량부와 아크릴계 고분자 분산제(아민가 42mgKPH/g, 고형분 40%) 18.5중량부를 혼합하고, 페인트 쉐이커로 분쇄 분산처리를 실시하여 평균 입경 60nm의 근적외선 흡수 점착체용 분산액(Q액)을 얻었다.
이 Q액 24.7중량부와 아크릴산 에스테르 점착 수지(불휘발 성분 25.3중량부, 아세트산에틸, 메틸에틸케톤 혼합액 74.7중량부, 점도 5.9Pa·s(25℃), 주된 관능기에 카르복실기를 갖는다.) 75.3중량부와 경화제를 혼합하여, 근적외선 흡수 점착체(점착체 R)를 제작하였다.
점착체 R은 육안 평가에서 백탁도 없이 투명성이 뛰어나고, Cs0.33WO3가 균일 분산되어 있었다. 이 점착체 R을 PET 수지 필름(테이진 듀퐁 필름(주) 제, HPE　50㎛두께) 위에 어플리케이터를 사용하여 도포, 성막하였다. 상기 성막의 막두께는 파장 300nm∼780nm의 가시광 영역에 있어서의 투과율의 최대치가 70∼80%정도가 되도록 조제하였다. 이 성막을 90℃으로 3분간의 열처리 한 후, 상기 점착체 R층을 사용하여 PET 수지 필름을 유리 기판상에 붙였다.
이 점착체 R층의 광학 특성을 측정했는데, 가시광선 투과율은 74.7%, 헤이즈 1.3%이며, 가시광을 충분히 투과하여 높은 투명성을 유지하고 있는 것을 알 수 있었다. 한편, 파장 1200nm∼1800nm의 범위의 근적외선 투과율은 10%이하가 되고, 뛰어난 근적외선 흡수 기능을 가지는 것을 알 수 있었다.
또한, 비교를 위하여 Q액 24.7중량부와 아크릴산 에스테르 점착 수지(불휘발 성분 24.1 중량부, 톨루엔, 아세트산에틸, 메틸에틸케톤 혼합액 77.0중량부, 점도 2.3Pa·s(25℃), 주된 관능기에 수산기를 갖는다.) 75.3중량부와 경화제를 혼합하여, 근적외선 흡수 점착체(점착체 R*)를 제작하였다. 그러자 점착체 R*는 백탁되어 버림이 판명되었다.
비교예 1
Cs0.33WO3 분말(스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 제) 10.0중량부와 아세트산 이소부틸(칸토케미칼(주) 제) 85.6중량부와 산기를 포함한 공중합체계 고분자 분산제(산가 129mgKPH/g, 고형분 79%) 4.4중량부를 혼합하고, 페인트 쉐이커로 분쇄 분산처리를 실시하여 평균 입경 80nm의 근적외선 흡수 점착체용 분산액(S액)을 얻었다.
이 S액 24.7중량부와 아크릴산 에스테르 점착 수지(불휘발 성분 23.0중량부, 아세트산에틸, 메틸에틸케톤, 톨루엔 혼합액 77.0중량부, 점도 2.3Pa·s(25℃)) 75.3중량부와 경화제를 혼합하여 근적외선 흡수 점착체(점착체 T)를 제작하였다.
점착체 T는 육안 평가에서 백탁하여 투명성에 떨어지고, Cs0.33WO3의 응집을 볼 수 있었다.
또한, 비교를 위하여 S액 24.7중량부와 아크릴산 에스테르 점착 수지(불휘발 성분 24.1중량부, 톨루엔, 아세트산에틸, 메틸에틸케톤 혼합액 77.0중량부, 점도 2.3Pa·s(25℃), 주된 관능기에 수산기를 갖는다.) 75.3중량부와 경화제를 혼합하여 근적외선 흡수 점착체(점착체 T*)를 제작하였다. 그러자 점착체 T*도 백탁되어 버림이 판명되었다.
비교예 2
산기를 포함한 공중합체계 고분자 분산제를 산기를 포함한 블록 공중합체계 고분자 분산제(산가 95mgKPH/g, 아민가 95mgKPH/g, 고형분 90%)로 대체한 것 이외는, 비교예 1과 동일한 조작을 실시하여 근적외선 흡수 점착체용 분산액(U액)을 얻었다.
이 U액을 사용하여 실시예 3과 동일한 조작을 실시하여 근적외선 흡수 점착체(점착체 V)를 제작하였다.
점착체 V는 육안 평가에서 백탁되고 투명성이 떨어지며, Cs0.33WO3의 응집을 볼 수 있었다.
또한, 비교를 위하여 U액 24.7중량부와 아크릴산 에스테르 점착 수지(불휘발 성분 24.1중량부, 톨루엔, 아세트산에틸, 메틸에틸케톤 혼합액 77.0중량부, 점도 2.3Pa·s(25℃), 주된 관능기에 수산기를 갖는다.) 75.3중량부와 경화제를 혼합하여 근적외선 흡수 점착체(점착체 V*)를 제작하였다. 그러자 점착체 V*도 백탁되어 버림이 판명되었다.
비교예 3
산기를 포함한 공중합체계 고분자 분산제를, 안료에 친화성이 있는 공중합체계 고분자 분산제(산가 30mgKPH/g, 아민가 20mgKPH/g, 고형분 90%)로 대체한 것 이외는, 비교예 1과 동일한 조작을 실시하여 근적외선 흡수 점착체용 분산액(W액)을 얻었다.
이 W액을 사용하여 실시예 3과 동일한 조작을 실시하여 근적외선 흡수 점착체(점착체 X)를 제작하였다.
점착체 X는 육안 평가에서 백탁되고 투명성이 떨어지며, Cs0.33WO3의 응집을 볼 수 있었다.
또한, 비교를 위하여 W액 24.7중량부와 아크릴산 에스테르 점착 수지(불휘발 성분 24.1중량부, 톨루엔, 아세트산에틸, 메틸에틸케톤 혼합액 77.0중량부, 점도 2.3 Pa·s(25℃), 주된 관능기에 수산기를 갖는다.) 75.3중량부와 경화제를 혼합하여 근적외선 흡수 점착체(점착체 X*)를 제작하였다. 그러자 점착체 X*도 백탁되어 버림이 판명되었다.
비교예 4
산기를 포함한 공중합체계 고분자 분산제를, 인산 에스테르계 계면활성제로 대체한 것 이외는, 비교예 1과 동일한 조작을 실시하여 근적외선 흡수 점착체용 분산액(Y액)을 얻었다.
이 Y액을 사용하여 실시예 3과 동일한 조작을 실시하여, 근적외선 흡수 점착체(점착체 Z)를 제작하였다.
점착체 Z는 육안 평가에서 백탁하고 투명성이 떨어지며, Cs0.33WO3의 응집을 볼 수 있었다.
또한, 비교를 위하여 Y액 24.7 중량부와 아크릴산 에스테르 점착 수지(불휘 발 성분 24.1 중량부, 톨루엔, 아세트산에틸, 메틸에틸케톤 혼합액 77.0중량부, 점도 2.3Pa·s(25℃), 주된 관능기에 수산기를 갖는다.) 75.3중량부와 경화제를 혼합하여 근적외선 흡수 점착체(점착체 Z*)를 제작하였다. 그러자 점착체 Z*도 백탁되어 버림이 판명되었다.
비교예 5
아세트산 이소부틸을 프로필렌글리콜에틸에테르아세테이트(PE－Ac)((주) 쿠라레제)로 대체하고, 산기를 포함한 공중합체계 고분자 분산제를, 알칼리성 관능기를 포함한 공중합체계 분산제(아민가 45mgKPH/g, 고형분 90%)로 대체한 것 이외는, 비교예 1과 동일한 조작을 실시하여 근적외선 흡수 점착체용 분산액(α액)을 얻었다.
이 α액을 사용하여 실시예 3과 동일한 조작을 실시하여, 근적외선 흡수 점착체(점착체 β)를 제작하였다.
점착체 β는 육안 평가에서 백탁되어 투명성이 떨어지며, Cs0.33WO3의 응집을 볼 수 있었다.
또한, 비교를 위하여 α액 24.7중량부와 아크릴산 에스테르 점착 수지(불휘발 성분 24.1중량부, 톨루엔, 아세트산에틸, 메틸 에틸 케톤 혼합액 77.0중량부, 점도 2.3Pa·s(25℃), 주된 관능기에 수산기를 갖는다.) 75.3중량부와 경화제를 혼합하여 근적외선 흡수 점착체(점착체 β*)를 제작하였다. 그러자 점착체 β*도 백탁되어 버림이 판명되었다.
비교예 6
아세트산이소부틸을 프로필렌 글리콜 에틸 에테르 아세테이트(PE－Ac)((주) 쿠라레제)로 대체하고, 산기를 포함한 공중합 체계 고분자 분산제를, 안료에 친화성이 있는 블록 공중합 체계 분산제(아민가 57 mgKPH/g, 고형분 90%)로 대체한 것 이외는, 비교예 1과 동일한 조작을 실시하여 근적외선 흡수 점착체용 분산액(γ액)을 얻었다.
이 γ액을 사용하여 실시예 3과 동일한 조작을 실시하여, 근적외선 흡수 점착체(점착체 δ)를 제작하였다.
점착체 δ는 육안 평가에서 백탁되고 투명성이 떨어지며, Cs0.33WO3의 응집을 볼 수 있었다.
또한, 비교를 위하여 γ액 24.7중량부와 아크릴산 에스테르 점착 수지(불휘발 성분 24.1중량부, 톨루엔, 아세트산에틸, 메틸 에틸 케톤 혼합액 77.0중량부, 점도 2.3 Pa·s(25℃), 주된 관능기에 수산기를 갖는다.) 75.3중량부와 경화제를 혼합하여 근적외선 흡수 점착체(점착체 δ*)를 제작하였다. 그러면 점착체 δ*도 백탁되어 버림이 판명되었다.
비교예 7
아세트산 이소부틸을 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트(PGM－Ac)((주) 쿠라레 제조)로 대체하고, 산기를 포함한 공중합체계 고분자 분산제를, 알칼리성 관능기를 포함한 공중합체계 분산제(아민가 45 mgKPH/g, 고형분 90%)로 대체한 것 이외는, 비교예 1과 동일한 조작을 실시하여 근적외선 흡수 점착체용 분산액(ε액)을 얻었다.
이 ε액을 사용하여 실시예 3과 동일한 조작을 실시하여, 근적외선 흡수 점착체(점착체 ζ)를 제작하였다.
점착체 ζ는 육안 평가에서 백탁되어 투명성이 떨어지고, Cs0.33WO3의 응집을 볼 수 있었다.
또한, 비교를 위하여 ε액 24.7중량부와 아크릴산 에스테르 점착 수지(불휘발 성분 24.1중량부, 톨루엔, 아세트산에틸, 메틸 에틸 케톤 혼합액 77.0중량부, 점도 2.3Pa·s(25℃), 주된 관능기에 수산기를 갖는다.) 75.3중량부와 경화제를 혼합하여, 근적외선 흡수 점착체(점착체 ζ*)를 제작하였다. 그러자 점착체 ζ*도 백탁되어 버림이 판명되었다.
비교예 8
아세트산 이소부틸을 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트(PGM－Ac)((주) 쿠라레 제조)로 대체하고, 산기를 포함한 공중합체계 고분자 분산제를 안료에 친화성이 있는 블록 공중합체계 분산제(아민가 57mgKPH/g, 고형분 90%)로 대체한 것 이외는, 비교예 1과 동일한 조작을 실시하여 근적외선 흡수 점착체용 분산액(η액)을 얻었다.
이 η액을 사용하여 실시예 3과 동일한 조작을 실시하여 근적외선 흡수 점착체(점착체 θ)를 제작하였다.
점착체 θ는 육안 평가에서 백탁되어 투명성이 떨어지고, Cs0.33WO3의 응집을 볼 수 있었다.
또한, 비교를 위하여 η액 24.7중량부와 아크릴산 에스테르 점착 수지(불휘발 성분 24.1중량부, 톨루엔, 아세트산에틸, 메틸 에틸 케톤 혼합액 77.0중량부, 점도 2.3Pa·s(25℃), 주된 관능기에 수산기를 갖는다.) 75.3중량부와 경화제를 혼합하여, 근적외선 흡수 점착체(점착체 θ*)를 제작하였다. 그러자 점착체 θ*도 백탁되어 버림이 판명되었다.
하기 표 1에 실시예 1∼9 및 비교예 1∼8에 관한 근적외선 흡수 점착체의 조성 개요와 외관 관찰 결과의 일람표를 나타내었다.
Figure 112008076705658-PAT00001
정리
실시예 1∼6에 있어서, Cs0.33WO3, 아크릴계 고분자 분산제, 아세트산 부틸 또는 아세트산 이소부틸로서 제조한 분산액(A, C, E, G, I, K)을, 주된 관능기로서 카르복실기를 갖는 점착 수지에 혼합하여 점착체를 얻고 있다. 얻어진 점착체는 점착 수지중에서의 Cs0.33WO3의 분산성이 좋고, 응집도 백탁화도 일어나지 않아 높은 가시광 투과율을 발휘하는 한편, 근적외선 영역의 빛은 충분히 흡수하고 있었다. 또한, 점착체(B, D, F, H, J, L)는 충분한 점착력을 가지고 있으므로 상기 점착체를 PDP용 근적외선 흡수 필터의 접착층에 사용한 PDP 패널은 광학적 특성 및 내후성이 뛰어나고 제조 비용을 저감을 할 수 있음이 확인되었다.
한편, 분산액(A, C, E, G, I, K)을, 주된 관능기로서 수산기를 갖는 점착 수지에 혼합해 점착체를 얻었을 경우(B*, D*, F*, H*, J*, L*)는 백탁이 일어나는 것도 판명되었다.
실시예 1∼6과 동일하게, 분산제로서 안료에 친화성이 있는 아크릴계 공중합체를 사용하였을 경우의 분산액 M(실시예 7)도, 용제로서 아세트산부틸과 아세트산이소부틸을 혼합 사용하였을 경우의 분산액 O(실시예 8)도, 메틸이소부틸케톤을 사용하였을 경우의 분산액 Q(실시예 9)도, 주된 관능기로서 카르복실기를 갖는 점착 수지에 혼합하는 것으로, PDP용 근적외선 흡수 필터의 접착층에 최적인 점착체(N, P, R)를 얻을 수 있었다.
또한, 분산액(M, O, Q)을 주된 관능기로서 수산기를 가지는 점착 수지에 혼합해 점착체를 얻었을 경우(N*, P*, R*), 백탁이 일어나는 것도 판명되었다.
이에 대하여, 비교예 1∼4에 관한 분산액(S, U, W, Y)은 실시예 3∼7과 동일한 용매를 사용하고 있지만, 아크릴계 고분자계 이외의 분산제를 사용하고 있기 때문에 점착 수지로서 카르복실기를 갖는 것을 사용하였을 경우(T, V, X, Z)도, 수산기를 갖는 것을 사용하였을 경우(T*, V*, X*, Z*)도 Cs0.33WO3의 응집, 백탁화가 생겨 광학 특성상의 문제가 있었다.
또한, 비교예 5∼8에 관한 분산액(α,γ,ε,η)에서는 용매를 프로필렌 글리콜에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트로 각각 대체하고, 분산제를 알칼리성 관능기를 함유하는 공중합체, 안료에 친화성이 있는 블록 공중합체로 각각 대체하였다. 그러나, 상기 비교예 5∼8에 관한 분산액을 점착 수지로서 카르복실기를 갖는 것과 혼합하였을 경우(β,δ,ζ,θ)도 수산기를 갖는 것을 사용하였을 경우(β*,δ*,ζ*,θ*)도, Cs0.33WO3의 응집, 백탁화가 생겨서 광학 특성상의 문제가 있었다.
도 1은 실시예 3에 관한 점착체층의 광학 특성을 나타내는 그래프이다.

Claims (10)

  1. 용매중에 텅스텐 산화물 미립자 및 복합 텅스텐 산화물 미립자로부터 선택되는 1종 이상의 산화물 미립자와 아크릴계 고분자 분산제를 포함하는 근적외선 흡수 점착체용 분산액에 있어서,
    상기 산화물 미립자의 평균 분산 입경이 800nm 이하인 것을 특징으로 하는 근적외선 흡수 점착체용 분산액.
  2. 제1항에 있어서, 상기 용매가 케톤류, 에스테르류, 탄화수소류 및 에테르류로부터 선택되는 1종류 이상인 것을 특징으로 하는 근적외선 흡수 점착체용 분산액.
  3. 제1항에 있어서, 상기 텅스텐 산화물 미립자가 일반식 WyOz(단, W는 텅스텐, O는 산소, 2.2≤z/y≤2.999)로 표기되는 텅스텐 산화물의 미립자인 것을 특징으로 하는 근적외선 흡수 점착체용 분산액.
  4. 제1항에 있어서, 상기 복합 텅스텐 산화물 미립자가 일반식 MxWyOz(단, M원소는, H, He, 알칼리 금속, 알칼리토류 금속, 희토류 원소, Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, B, F, P, S, Se, Br, Te, Ti, Nb, V, Mo, Ta, Re, Be, Hf, Os, Bi 또는 I 중에서 선택되는 1종류 이상의 원소, W는 텅스텐, O는 산소, 0.001≤x/y≤1.1, 2.2≤z/y≤3.0)로 표기되는 복합 텅스텐 산화물의 미립자인 것을 특징으로 하는 근적외선 흡수 점착체용 분산액.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 텅스텐 산화물 미립자가 일반식 WyOz(단, W는 텅스텐, O는 산소, 2.45≤z/y≤2.999)로 표기되는 조성비의 마그네리상을 포함하는 것을 특징으로 하는 근적외선 흡수 점착체용 분산액.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 따른 분산액이 점착 수지중에 분산되어 있는 것을 특징으로 하는 근적외선 흡수 점착체.
  7. 제6항에 있어서, 상기 점착 수지가 아크릴산 에스테르계 골격을 갖고, 관응기로서 카르복실기를 갖는 것을 특징으로 하는 근적외선 흡수 점착체.
  8. 기재와 기재 표면에 기능성 다층막이 설치된 적층체와의 사이, 또는 기재 표면에 기능성 다층막을 설치한 적층체끼리에 있어서의 각 적층체의 사이에, 제6항 또는 제7항에 따른 근적외선 흡수 점착체로 이루어지는 접착층, 외력 흡수층으로부터 선택되는 1종 이상의 층을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 근적외선 흡수 필터.
  9. 제8항에 따른 접착층, 외력 흡수층으로부터 선택되는 1종 이상의 층내에 전자파 차폐 기능을 갖는 메쉬상 금속층을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 근적외선 흡수 필터.
  10. 제8항 또는 제9항에 따른 플라즈마 디스플레이 패널용 근적외선 흡수 필터가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
KR1020080109348A 2007-11-06 2008-11-05 근적외선 흡수 점착체용 분산액, 근적외선 흡수 점착체, 플라즈마 디스플레이 패널용 근적외선 흡수 필터 및 플라즈마 디스플레이 패널 KR101536774B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007289087A JP5176492B2 (ja) 2007-11-06 2007-11-06 近赤外線吸収粘着体、プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターおよびプラズマディスプレイパネル
JPJP-P-2007-289087 2007-11-06

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20090046729A true KR20090046729A (ko) 2009-05-11
KR101536774B1 KR101536774B1 (ko) 2015-07-14

Family

ID=40587831

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020080109348A KR101536774B1 (ko) 2007-11-06 2008-11-05 근적외선 흡수 점착체용 분산액, 근적외선 흡수 점착체, 플라즈마 디스플레이 패널용 근적외선 흡수 필터 및 플라즈마 디스플레이 패널

Country Status (4)

Country Link
US (1) US8174190B2 (ko)
JP (1) JP5176492B2 (ko)
KR (1) KR101536774B1 (ko)
CN (1) CN101441291B (ko)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150093186A (ko) * 2012-11-30 2015-08-17 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 근적외선 흡수 필터 및 촬상소자
KR20150138347A (ko) * 2013-04-03 2015-12-09 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 열선 차폐막, 열선 차폐 적층 투명기재, 열선 차폐 수지 시트재, 자동차 및 건조물
KR20170109005A (ko) * 2015-01-27 2017-09-27 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 근적외선 흡수 미립자 분산액 및 이의 제조 방법
KR20180022858A (ko) * 2015-10-30 2018-03-06 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 점착제층, 근적외선 차폐 필름, 적층 구조체, 적층체 및 점착제 조성물
KR20210060604A (ko) * 2018-09-27 2021-05-26 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 적외선 흡수 재료 미립자 분산액과 그의 제조 방법

Families Citing this family (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7683098B2 (en) * 1996-09-03 2010-03-23 Ppg Industries Ohio, Inc. Manufacturing methods for nanomaterial dispersions and products thereof
JP2009265638A (ja) * 2008-03-31 2009-11-12 Panasonic Electric Works Co Ltd 近赤外吸収粘着フィルム、近赤外吸収粘着層付き反射防止フィルム、近赤外吸収粘着層付き電磁波シールドフィルム、プラズマディスプレイ用フィルター
JP5898397B2 (ja) * 2009-07-24 2016-04-06 住友金属鉱山株式会社 近赤外線遮蔽ポリエステル樹脂組成物、近赤外線遮蔽ポリエステル樹脂積層体、および、成形体とその製造方法
JP5601163B2 (ja) * 2009-11-18 2014-10-08 日油株式会社 近赤外線吸収性粘着剤およびその用途
KR20140009383A (ko) * 2011-03-24 2014-01-22 아사히 가라스 가부시키가이샤 액상 조성물 및 그 제조 방법, 그리고 유리 물품
KR102009963B1 (ko) * 2011-09-17 2019-08-12 니폰 가야꾸 가부시끼가이샤 열선 차폐성 점착제 조성물, 열선 차폐성 투명 점착 시트 및 그의 제조 방법
JP5896685B2 (ja) * 2011-10-21 2016-03-30 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 熱遮蔽用積層体及びその製造に用いられる積層フィルム
JP5899874B2 (ja) * 2011-11-30 2016-04-06 住友金属鉱山株式会社 赤外線遮蔽材料微粒子分散液とその製造方法および熱線遮蔽膜と熱線遮蔽合わせ透明基材
CN104245618B (zh) * 2011-12-02 2017-08-25 住友金属矿山株式会社 热线遮蔽膜、热线遮蔽夹层透明基体材料、以及安装该热线遮蔽夹层透明基体材料作为窗口材料的汽车、以及使用该热线遮蔽夹层透明基体材料作为窗口材料的建造物
JP6111781B2 (ja) * 2012-03-30 2017-04-12 Dic株式会社 粘着剤組成物および粘着テープ
JP6155600B2 (ja) * 2012-11-08 2017-07-05 住友金属鉱山株式会社 透明樹脂積層体とその製造方法、ならびに熱線遮蔽機能を有するプライマー層形成用のプライマー液
JP6273851B2 (ja) * 2013-01-21 2018-02-07 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 感圧性接着剤および光学部材
KR101525026B1 (ko) * 2013-04-30 2015-07-24 주식회사 씨엔에프케이 산화텅스텐계 나노졸 및 이의 제조방법
JP6160830B2 (ja) * 2013-12-20 2017-07-12 住友金属鉱山株式会社 偽造防止インクの印刷膜および偽造防止印刷物
WO2016035633A1 (ja) * 2014-09-01 2016-03-10 富士フイルム株式会社 赤外光遮蔽組成物、赤外光カットフィルタ、固体撮像素子
TW201609923A (zh) * 2014-09-10 2016-03-16 台虹科技股份有限公司 紅外線吸收膜、紅外線吸收膜的製作方法及包含該紅外線吸收膜的相機模組
EP3252117B1 (en) * 2015-01-27 2019-08-28 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Near-infrared ray absorbing microparticle dispersion solution and production method thereof
US10442948B2 (en) 2015-01-27 2019-10-15 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Near-infrared absorbing fine particle dispersion liquid and method for producing the same
KR20170107956A (ko) * 2015-01-27 2017-09-26 하리마 카세이 가부시키가이샤 점착제 조성물 및 점착 시트
JP2018054641A (ja) * 2015-02-20 2018-04-05 コニカミノルタ株式会社 遮熱フィルム
WO2016158604A1 (ja) * 2015-03-31 2016-10-06 コニカミノルタ株式会社 近赤外線遮蔽フィルム、その製造方法及び粘着剤組成物
JP6555341B2 (ja) * 2015-04-28 2019-08-07 住友金属鉱山株式会社 導電性基板
TWI586860B (zh) * 2015-05-26 2017-06-11 台虹科技股份有限公司 紅外線光熱轉換纖維及紅外線光熱轉換纖維的製作方法
CN106662686B (zh) 2015-07-28 2020-06-23 Jsr株式会社 光学滤波器、环境光传感器及电子设备
MX2018007488A (es) * 2015-12-18 2019-01-31 Sumitomo Metal Mining Co Particulas ultrafinas de oxido de tungsteno compuesto y liquido de dispersion de las mismas.
JP6690607B2 (ja) * 2016-08-03 2020-04-28 信越化学工業株式会社 合成石英ガラスリッド及び光学素子用パッケージ
TWI787282B (zh) * 2017-06-19 2022-12-21 日商住友金屬礦山股份有限公司 近紅外線硬化型油墨組成物及其製造方法、近紅外線硬化膜暨光造形法
KR102615612B1 (ko) * 2017-07-24 2023-12-20 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 적외선 흡수 미립자 함유 마스터배치 분쇄물, 적외선 흡수 미립자 함유 마스터배치 분쇄물 함유 분산액, 적외선 흡수 재료 함유 잉크, 그것들을 사용한 위조 방지 잉크, 위조 방지용 인쇄막, 및 적외선 흡수 미립자 함유 마스터배치 분쇄물의 제조 방법
KR102659152B1 (ko) * 2017-07-24 2024-04-22 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 적외선 흡수 미립자 분산분, 적외선 흡수 미립자 분산분 함유 분산액, 적외선 흡수 미립자 분산분 함유 잉크 및 위조 방지 잉크, 그리고 위조 방지용 인쇄물
US20190127599A1 (en) * 2017-11-01 2019-05-02 Industrial Technology Research Institute Dispersion of ir absorption particles, inkjet ink, and method of 3d printing
EP3757632A4 (en) * 2018-02-08 2022-01-19 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. MICROPARTICLE DISPERSION FOR NEAR INFRARED RAY ABSORPTION MATERIAL, NEAR INFRARED RAY ABSORBER, NEAR INFRARED RAY ABSORPTION LAMINATE, COMBINED STRUCTURE FOR NEAR INFRARED RAY ABSORPTION
KR102628602B1 (ko) * 2020-08-21 2024-01-26 (주)이녹스첨단소재 디스플레이용 접착필름

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3386743B2 (ja) 1999-05-10 2003-03-17 日立化成工業株式会社 Ｐｄｐ用電磁波シールド性接着フィルムの製造法及びｐｄｐ用電磁波遮蔽構成体とプラズマディスプレイの製造法
JP3621322B2 (ja) * 2000-01-25 2005-02-16 株式会社巴川製紙所 赤外線吸収性粘着剤組成物及びそれを用いた赤外線吸収シート
JP4576737B2 (ja) * 2000-06-09 2010-11-10 Ｊｓｒ株式会社 感放射線性樹脂組成物
JP2005023133A (ja) 2003-06-30 2005-01-27 Nitto Denko Corp 粘着剤組成物、粘着剤層、プラズマディスプレイパネル用フィルタ、及びプラズマディスプレイパネル表示装置
CN100395283C (zh) * 2003-07-04 2008-06-18 日东电工株式会社 导电纤维素基薄膜
JP2005042101A (ja) * 2003-07-04 2005-02-17 Nitto Denko Corp 導電性セルロース系フィルム、その製造方法、反射防止フィルム、光学素子および画像表示装置
JP4626284B2 (ja) * 2003-12-05 2011-02-02 住友金属鉱山株式会社 日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子の製造方法、および日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子
WO2006057416A1 (ja) * 2004-11-25 2006-06-01 Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. 光学フィルター
JP4586970B2 (ja) * 2004-11-30 2010-11-24 住友金属鉱山株式会社 プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター、及びこれを用いたプラズマディスプレイパネル
JP5242883B2 (ja) * 2005-01-20 2013-07-24 リンテック株式会社 反射防止フィルム
WO2008038794A1 (fr) * 2006-09-29 2008-04-03 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Composition adhésive sensible à la pression pour filtre optique, filtre optique et dispositif d'affichage
JP5328364B2 (ja) * 2006-11-17 2013-10-30 リンテック株式会社 ディスプレイ用感圧接着剤組成物
JP2009031720A (ja) * 2007-06-28 2009-02-12 Dainippon Printing Co Ltd ディスプレイ用複合フィルタ
US8202927B2 (en) * 2007-08-09 2012-06-19 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Near-infrared absorbing composition and near-infrared absorbing filter

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150093186A (ko) * 2012-11-30 2015-08-17 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 근적외선 흡수 필터 및 촬상소자
KR20150138347A (ko) * 2013-04-03 2015-12-09 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 열선 차폐막, 열선 차폐 적층 투명기재, 열선 차폐 수지 시트재, 자동차 및 건조물
KR20170109005A (ko) * 2015-01-27 2017-09-27 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 근적외선 흡수 미립자 분산액 및 이의 제조 방법
KR20180022858A (ko) * 2015-10-30 2018-03-06 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 점착제층, 근적외선 차폐 필름, 적층 구조체, 적층체 및 점착제 조성물
KR20210060604A (ko) * 2018-09-27 2021-05-26 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 적외선 흡수 재료 미립자 분산액과 그의 제조 방법

Also Published As

Publication number Publication date
CN101441291A (zh) 2009-05-27
KR101536774B1 (ko) 2015-07-14
JP5176492B2 (ja) 2013-04-03
US20090116100A1 (en) 2009-05-07
JP2009114326A (ja) 2009-05-28
US8174190B2 (en) 2012-05-08
CN101441291B (zh) 2014-04-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20090046729A (ko) 근적외선 흡수 점착체용 분산액, 근적외선 흡수 점착체, 플라즈마 디스플레이 패널용 근적외선 흡수 필터 및 플라즈마 디스플레이 패널
JP4586970B2 (ja) プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター、及びこれを用いたプラズマディスプレイパネル
KR100540543B1 (ko) 적층체 및 그것을 이용한 표시장치
JP5412841B2 (ja) 赤外線遮蔽膜形成用分散液と赤外線遮蔽膜形成用塗布液、赤外線遮蔽膜と赤外線遮蔽光学部材、および、プラズマディスプレイパネル用多層フィルターとプラズマディスプレイパネル
JP5454111B2 (ja) 近赤外線カットフィルタおよび撮像装置・表示装置
JP4666226B2 (ja) プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター及びその製造方法、並びにプラズマディスプレイパネル
CN104487397B (zh) 热线遮蔽用夹层结构体
EP2143762A1 (en) Composition for producing vinyl chloride film for shielding heat ray, method for production of the composition, and vinyl chloride film for shielding heat ray
JP2009258581A (ja) プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターとその製造方法およびプラズマディスプレイパネル
JP2011065000A (ja) プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターとその製造方法およびプラズマディスプレイパネル
JP2011065146A (ja) 赤外線遮蔽粘着膜形成用分散液と赤外線遮蔽粘着膜形成用塗布液、赤外線遮蔽粘着膜と赤外線遮蔽光学部材、および、プラズマディスプレイパネル用多層フィルターとプラズマディスプレイパネル
JP2011133532A (ja) 光学部材および光学フィルタ
JP4735417B2 (ja) プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター及びその製造方法、並びにプラズマディスプレイパネル
JP3753482B2 (ja) 透明積層体およびそれを用いたディスプレイ用フィルター
JP5109841B2 (ja) 赤外線遮蔽膜形成用分散液と赤外線遮蔽膜形成用塗布液、赤外線遮蔽膜と赤外線遮蔽光学部材、および、プラズマディスプレイパネル用多層フィルターとプラズマディスプレイパネル
TW201934338A (zh) 日照遮蔽用夾層構造體及其製造方法
JP6607396B2 (ja) 近赤外線吸収性粘着剤組成物とその製造方法、および、近赤外線吸収性粘着フィルム
JP2018124363A (ja) 赤外線遮蔽材料微粒子分散液及びこれを含んだ赤外線遮蔽接着液、並びにこれらを用いて作製した赤外線遮蔽層付き基材、赤外線遮蔽接着層付き基材、及び赤外線遮蔽光学部材
JP6171733B2 (ja) 熱線遮蔽分散体形成用塗布液および熱線遮蔽体
JP6142945B2 (ja) 中間層を構成する熱線遮蔽膜、および、中間層を構成する熱線遮蔽膜の製造に用いる熱線遮蔽微粒子分散液および熱線遮蔽微粒子分散粉
JP4004161B2 (ja) 透明積層体及びそれを用いたディスプレイ用フィルター
JP5939188B2 (ja) 熱線遮蔽用合わせ構造体
JP2016164277A (ja) 熱線遮蔽膜、熱線遮蔽シートまたはフィルム、熱線遮蔽微粒子分散液、および熱線遮蔽微粒子分散粉
JP4954438B2 (ja) 日射遮蔽用合わせ構造体
JP5187295B2 (ja) 日射遮蔽用合わせ構造体

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180618

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190618

Year of fee payment: 5