KR102123249B1 - 패키지 구조체 및 그 제조 방법 - Google Patents

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헝신 쉬
난춘 린
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    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56—Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • H01L21/568—Temporary substrate used as encapsulation process aid
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    • H01L2224/02371—Disposition of the redistribution layers connecting the bonding area on a surface of the semiconductor or solid-state body with another surface of the semiconductor or solid-state body
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    • H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321—Disposition
    • H01L2224/32135—Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/32145—Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
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    • H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001—Core members of the connector
    • H01L2224/45099—Material
    • H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45117—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
    • H01L2224/45124—Aluminium (Al) as principal constituent
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    • H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001—Core members of the connector
    • H01L2224/45099—Material
    • H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45144—Gold (Au) as principal constituent
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    • H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805—Shape
    • H01L2224/4809—Loop shape
    • H01L2224/48091—Arched
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    • H01L2224/48135—Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/48145—Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
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    • H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481—Disposition
    • H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
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    • H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
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    • H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/4905—Shape
    • H01L2224/49051—Connectors having different shapes
    • H01L2224/49052—Different loop heights
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    • H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732—Location after the connecting process
    • H01L2224/73201—Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73203—Bump and layer connectors
    • H01L2224/73204—Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector
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    • H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732—Location after the connecting process
    • H01L2224/73201—Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73215—Layer and wire connectors
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    • H01L2224/732—Location after the connecting process
    • H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265—Layer and wire connectors
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    • H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732—Location after the connecting process
    • H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73267—Layer and HDI connectors
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    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/8319—Arrangement of the layer connectors prior to mounting
    • H01L2224/83191—Arrangement of the layer connectors prior to mounting wherein the layer connectors are disposed only on the semiconductor or solid-state body
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    • H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06506—Wire or wire-like electrical connections between devices
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    • H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
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Abstract

재배선 구조, 다이, 적어도 하나의 접속 모듈, 제 1 절연 밀봉재, 칩 스택, 및 제 2 절연 밀봉재를 포함하는 패키지 구조체. 상기 다이는 재배선 구조 상에 배치되고, 그것에 전기적으로 접속된다. 상기 접속 모듈은 재배선 구조 상에 배치된다. 상기 접속 모듈은 보호층 및 상기 보호층에 내장된 복수의 도전성 바를 포함한다. 상기 제 1 절연 밀봉재는 다이 및 접속 모듈을 밀봉한다. 상기 칩 스택은 제 1 절연 밀봉재 및 다이 상에 배치된다. 상기 칩 스택은 상기 접속 모듈에 전기적으로 접속된다. 상기 제 2 절연 밀봉재는 칩 스택을 밀봉한다.

Description

패키지 구조체 및 그 제조 방법{PACKAGE STRUCTURE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}
(관련 출원의 상호참조)
본 출원은 2017년 11월 27일자로 제출된 미국 가출원 일련번호 제62/591,166호의 우선권 이익을 주장한다. 상기 언급된 특허출원의 전체 내용은 본원에 참조로서 포함되며 명세서의 일부를 구성한다.
본 발명은 일반적으로 패키지 구조체 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 특히 접속 모듈을 갖는 패키지 구조체 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
최근, 반도체 패키지 기술의 개발은 보다 작은 체적, 가벼운 중량, 높은 집적도, 및 저렴한 제조 비용으로 제품을 제공하는데 초점을 맞추어 왔다. 다기능 반도체 패키지에 대해서는 칩을 스태킹하는 방법이 사용되어 데이터를 저장하거나 처리할 수 있는 대용량의 패키지가 제공된다. 향상된 소망의 기능을 갖는 다기능 전자 부품에 대한 수요의 급격한 증가는 이 분야의 연구자들에게 도전이 되고 있다.
본 발명은 보다 저렴한 제조 비용으로 패키지 구조체의 높이를 효과적으로 감소시키는 패키지 구조체 및 그 제조 방법을 제공한다.
본 발명은 재배선 구조, 다이, 적어도 하나의 접속 모듈, 제 1 절연 밀봉재, 칩 스택, 및 제 2 절연 밀봉재를 포함하는 패키지 구조체를 제공한다. 다이는 재배선 구조 상에 배치되고, 재배선 구조에 전기적으로 접속된다. 접속 모듈은 재배선 구조 상에 배치된다. 상기 접속 모듈은 보호층 및 상기 보호층에 내장된 복수의 도전성 바를 포함한다. 제 1 절연 밀봉재는 다이 및 접속 모듈을 밀봉한다. 칩 스택은 제 1 절연 밀봉재 및 다이 상에 배치된다. 상기 칩 스택은 상기 접속 모듈에 전기적으로 접속된다. 제 2 절연 밀봉재는 칩 스택을 밀봉한다.
본 발명은 패키지 구조체의 제조 방법을 제공한다. 상기 방법은 적어도 이하의 단계를 포함한다. 캐리어가 제공된다. 복수의 다이 및 복수의 접속 모듈은 상기 캐리어 상에 배치된다. 접속 모듈은 각각 보호층 및 상기 보호층에 내장된 복수의 도전성 바를 포함한다. 다이 및 접속 모듈을 밀봉하기 위해 상기 캐리어 상에 제 1 절연 밀봉재가 형성된다. 상기 다이, 접속 모듈, 및 제 1 절연 밀봉재 위에 재배선 구조가 형성된다. 상기 다이, 접속 모듈, 및 제 1 절연 밀봉재로부터 캐리어가 제거된다. 칩 스택은 재배선 구조와 반대방향의 다이 및 제 1 절연 밀봉재 상에 배치된다. 칩 스택은 접속 모듈에 전기적으로 접속된다. 제 2 절연 밀봉재는 칩 스택을 밀봉한다.
상기에 기초하여, 용이하게 이용 가능한 사전제작식 접속 모듈은 패키지 구조체 내에서 수직 접속 특징으로서 제공할 수 있다. 접속 모듈의 얇은 두께로 인해, 패키지 구조체의 크기가 효과적으로 감소될 수 있다. 또한, 접속 모듈의 적용은 종래의 패키지 구조체에 있어서의 추가적인 캐리어 또는 보다 두꺼운 구리 필라의 제거를 야기하여 제조 비용을 감소시킬 수 있다.
상술한 내용을 보다 잘 이해할 수 있도록, 도면과 함께 몇몇 실시형태가 다음과 같이 상세하게 설명된다.
첨부된 도면은 본 발명의 더한 이해를 제공하기 위해 포함되며, 본 명세서에 통합되어 그 일부를 구성한다. 도면은 본 발명의 실시형태를 도시하고, 설명과 함께 본 명세서에 제시된 원리를 설명하는 역할을 한다. 동일하거나 유사한 도면 부호는 도면 전체에 걸쳐 동일하거나 유사한 요소를 지칭한다.
도 1a~도 1j는 본 발명의 일부 실시형태에 따른 패키지 구조체의 제조 방법을 도시하는 개략적인 단면도이다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시형태에 대해 상세히 설명할 것이며, 그 예는 첨부 도면에 도시되어 있다. 가능하다면, 도면 및 설명에서 동일하거나 유사한 부분을 나타내기 위해 동일한 참조번호를 사용한다.
도 1a~도 1j는 본 발명의 일부 실시형태에 따른 패키지 구조체(10)의 제조 방법을 도시하는 개략적인 단면도이다. 도 1a를 참조하면, 디본딩층(de-bonding layer, 102)이 형성된 캐리어(100)가 제공된다. 상기 캐리어(100)는 유리 기판 또는 유리 지지 기판일 수 있다. 그러나, 본 발명에는 제한이 없는 것으로 해석한다. 재료가 그 위에 형성된 패키지 구조체를 구조적으로 지지하면서 후속 공정을 견딜 수 있는 한, 다른 적합한 기판 재료가 적용될 수 있다. 디본딩층(102)은 광열변환(LTHC) 재료, 에폭시 수지, 무기 재료, 유기 중합체 재료, 또는 다른 적합한 접착재를 포함할 수 있다. 그러나, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 다른 적합한 디본딩층이 일부 대안적인 실시형태에 있어서 사용될 수 있다.
도 1b를 참조하면, 디본딩층(102) 및 캐리어(100) 상에 복수의 다이(200) 및 복수의 접속 모듈(300)이 배치된다. 다이(200)는 디지털 다이, 아날로그 다이, 또는 혼합 신호 다이를 포함할 수 있다. 예를 들면, 다이(200)는 주문형 집적 회로(ASIC) 다이, 로직 다이, 또는 다른 적합한 다이일 수 있다. 각 다이(200)는 반도체 기판(202), 복수의 도전성 패드(204), 패시베이션층(206) 및 복수의 도전성 커넥터(208)를 포함한다. 일부 실시형태에 있어서, 반도체 기판(202)은 액티브 컴포넌트(예를 들면, 트랜지스터 등) 및 그 위에 형성된 패시브 컴포넌트(예를 들면, 레지스터, 커패시터, 인덕터 등)를 선택적으로 포함하는 실리콘 기판일 수 있다. 도전성 패드(204)는 상기 반도체 기판(202) 위에 분포된다. 도전성 패드(204)는 알루미늄 패드, 구리 패드, 또는 다른 적합한 금속 패드를 포함할 수 있다. 패시베이션층(206)은 각 접속 패드(204)를 부분적으로 덮기 위해 상기 반도체 기판(202) 위에 형성된다. 즉, 패시베이션층(206)은 각 접속 패드(204)의 적어도 일부를 드러내는 복수의 접촉 개구를 갖는다. 패시베이션층(206)은 산화규소층, 질화규소층, 산질화규소층, 또는 중합체 재료 또는 다른 적합한 유전체 재료로 형성된 유전체층일 수 있다. 도전성 커넥터(208)는 도전성 패드(204) 상에 배치된다. 도전성 커넥터(208)는, 예를 들면 도전성 패드(204)와의 전기적 접속을 제공하기 위해 패시베이션층(206)의 접촉 개구 내로 연장될 수 있다. 일부 실시형태에 있어서, 도전성 커넥터(208)는 도전성 패드(204) 상에 도금될 수 있다. 도금 공정은, 예를 들면 전기 도금, 무전해 도금, 침지 도금 등이다. 도전성 커넥터(208)는 도전성 포스트, 도전성 필라, 또는 도전성 범프의 형태를 취할 수 있다. 도전성 커넥터(208)의 재료는 구리, 알루미늄, 주석, 금, 은, 이들의 합금 또는 다른 적합한 도전성 재료를 포함한다.
일부 실시형태에 있어서, 각 다이(200)는 액티브 표면(200a) 및 상기 액티브 표면(200a)과 반대방향의 후면(200b)을 갖는다. 도 1b에 도시된 바와 같이, 다이(200)는 페이스 업 방식으로 배치된다. 즉, 다이(200)의 후면(200b)이 캐리어(100)쪽을 향하면서 다이(200)의 액티브 표면(200a)이 캐리어(100)로부터 먼 쪽을 향한다. 일부 실시형태에 있어서, 다이(200)는 접착제층(400)을 통해 캐리어(100)에 부착될 수 있다. 예를 들면, 접착제층(400)이 디본딩층(102)과 다이(200)의 반도체 기판(202) 사이에 개재되도록, 접착제층(400)은 다이의 후면(200b) 상에 배치될 수 있다. 상기 접착제층(400)은 상기 다이(200)와 디본딩층(102) 사이의 접착을 일시적으로 향상시켜 다이 시프트(die shift)를 방지할 수 있다. 일부 실시형태에 있어서, 상기 접착제층(400)은 건조 필름일 수 있고, 라미네이션 공정에 의해 상기 디본딩층(102)에 접착될 수 있다. 대안적으로, 접착제층(400)(액체 타입)의 용액은 코팅 공정에 의해 디본딩층(102) 상에 코팅될 수 있다. 이어서, 상기 용액을 건조 또는 경화시켜 상기 접착제층(400)의 솔리드층을 형성한다. 상기 접착제층(400)은 B 스테이지 재료로 제조될 수 있다. 예를 들면, 상기 접착제층(400)은 다이 부착 필름(DAF)을 구성하는 수지를 포함할 수 있다. 그러나, 본 발명은 이에 한정되지 않는다. 다른 대안적인 실시형태에 있어서, 접착 특성을 갖는 다른 재료가 상기 접착제층(400)의 재료로서 적용될 수 있다. 일부 실시형태에 있어서, 접착제층(400)은 선택적이다. 상기 접착제층(400)이 이용되지 않을 때에, 상기 다이(200)는 디본딩층(102) 상에 직접 부착될 수 있다.
도 1b에 도시된 바와 같이, 접속 모듈(300)은 적어도 하나의 다이(200)의 주변을 따라 배치된다. 접속 모듈(300)의 각각은 복수의 도전성 바(302), 복수의 배리어층(304), 복수의 도전성 캡(306), 및 보호층(308)을 포함한다. 도전성 바(302)는 원통 기둥의 형상일 수 있다. 그러나, 본 발명은 이에 한정되지 않는다. 일부 대안적인 실시형태에 있어서, 도전성 바(302)는 다각 기둥 또는 다른 적절한 형상의 형태를 취할 수 있다. 도전성 바(302)의 재료는 구리, 알루미늄, 니켈, 주석, 금, 은, 이들의 합금 등을 포함한다. 도전성 캡(306)은 도전성 바(302) 상에 대응하여 배치된다. 도전성 캡(306)은 도전성 바(302) 상에 배치되어 다른 후속적으로 형성된 부재들과 접속 모듈(300)의 전기적 접속 및 와이어 접착력(bondability)을 더욱 향상시킨다. 일부 실시형태에 있어서, 도전성 캡(306)의 재료는 도전성 바(302)의 재료와 상이하다. 예를 들면, 도전성 캡(306)은 우수한 전기 도전성 및 양호한 와이어 접착력을 갖는 금 또는 다른 금속 재료를 포함할 수 있다. 일부 실시형태에 있어서, 배리어층(304)은 니켈, 솔더, 은, 또는 다른 적합한 도전성 재료를 포함할 수 있다. 각 배리어층(304)은 도전성 캡(306)과 도전성 바(302) 사이의 원자의 확산을 방지하기 위해 도전성 캡(306)과 도전성 바(302) 사이에 개재된다. 예를 들면, 도전성 바(302), 배리어층(304), 및 도전성 캡(306)이 각각 구리, 니켈, 및 금으로 제조되는 경우, 니켈로 형성된 배리어층(304)은 도전성 바(302)의 구리 원자가 도전성 캡(306) 내로 확산되는 것을 방지할 수 있다. 구리에 의한 도전성 캡(306)의 오염은 도전성 캡(306)을 용이하게 산화시켜 열악한 와이어 접착력을 야기할 수 있다. 그러나, 배리어층(304)의 보조로, 상술한 부작용은 충분히 방지될 수 있다. 일부 실시형태에 있어서, 도전성 바(302)가 후속적으로 형성된 부재와 충분한 와이어 접착력을 이미 갖고 있다면, 도전성 캡(306) 및 배리어층(304)은 생략될 수 있다.
도 1b에 도시된 바와 같이, 도전성 바(302), 배리어층(304), 및 도전성 캡 (306)은 보호층(308)에 내장된다. 그러나, 보호층(308)은 도전성 바(302)의 각각의 적어도 일부 및 도전성 캡(306)의 각각의 적어도 일부를 노출시킨다. 예를 들면, 보호층(308)은 도전성 바(302), 배리어층(304), 및 도전성 캡(306)을 측방향으로 밀봉할 수 있다. 한편, 도전성 바(302)의 표면(302a)은 보호층(308)에 의해 노출될 수 있다. 일부 실시형태에 있어서, 도전성 바(302)의 표면(302a)은 보호층(308)의 제 1 표면(308a)과 실질적으로 동일 평면 상에 있다. 또한, 마찬가지로, 도전성 캡(306)의 표면(306b)은 보호층(308)에 의해 노출될 수 있다. 즉, 도전성 캡(306)의 표면(306b)은 보호층(308)의 제 2 표면(308b)(제 1 표면(308a)과 반대방향의 보호층(308)의 표면)과 실질적으로 동일 평면 상에 있다. 도 1b에 나타낸 구성은 단지 예시적인 예일 뿐이며, 본 발명은 이에 한정되지 않는다는 것에 주목해야 한다. 일부 대안적인 실시형태에 있어서, 보호층(308)은 도전성 바(302)가 드러나지 않도록 도전성 바(302)의 표면(302a)을 덮을 수 있다. 즉, 보호층(308)의 제 1 표면(308a)은 도전성 바(302)의 상면(302a)의 높이보다 높은 높이에 위치될 수 있다. 일부 실시형태에 있어서, 보호층(308)의 재료는 폴리머, 에폭시, 성형 화합물, 또는 다른 적합한 유전체 재료를 포함한다.
일부 실시형태에 있어서, 접속 모듈(300)은 캐리어(100) 상에 배치되기 전에 사전제작된다. 일부 실시형태에 있어서, 접속 모듈(300)은 픽 앤드 플레이스(pick-and-placed) 공정에 의해 캐리어(100) 상에 배치될 수 있다. 예를 들면, 접속 모듈(300)은 다이 본더, 칩 소터, 또는 SMT(Surface Mount Technology) 기계에 의해 캐리어(100) 및 디본딩층(102) 상에 픽 앤드 플레이스된다. 도 1b에 도시된 바와 같이, 접속 모듈(300)은 도전성 캡(306)이 캐리어(100)를 향하도록 배치된다. 즉, 접속 모듈(300)은 도전성 캡(306)을 도전성 바(302)보다 캐리어(100)에 더 가깝게 제공하도록 배치한다. 각 접속 모듈(300) 내의 다수의 도전성 바(302)는 설계 요건에 따라 변경될 수 있다. 상면도(도시되지 않음)로부터, 도전성 바(302)는 도전성 바 사이의 효과적인 전기 절연을 유지하면서 도전성 바(302) 사이의 거리가 최소로 되도록 보호층(308) 내에 분포된다. 일부 실시형태에 있어서, 접속 모듈(300)은 사각 형상, 직사각형 형상, 링 형상, 또는 상면도로부터의 다른 기하학적 형상을 나타낼 수 있다.
도 1c를 참조하면, 절연재(512)는 다이(200) 및 접속 모듈(300)을 덮기 위해 캐리어(100) 및 디본딩층(102) 상에 형성된다. 즉, 상기 절연재(512)는 다이(200) 및 접속 모듈(300)을 밀봉한다. 일부 실시형태에 있어서, 상기 절연재(512)의 재료는 상기 접속 모듈(300)의 보호층(308)의 재료와 상이할 수 있다. 예를 들면, 상기 절연재(512)는 성형 공정 또는 에폭시, 실리콘, 또는 다른 적합한 수지 등의 절연 재에 의해 형성된 성형 화합물을 포함할 수 있다. 일부 실시형태에 있어서, 절연재(512)는 다이(200) 및 접속 모듈(300)이 드러나지 않도록 오버 몰딩(over-molding) 공정에 의해 형성된다. 예를 들면, 도 1c에 도시된 바와 같이, 절연재(512)의 상면(512a)은 보호층(308)의 제 1 표면(308a), 도전성 바(302)의 표면(302a), 및 도전성 커넥터(208)의 상면(208a)의 높이보다 높은 높이에 위치된다.
도 1d를 참조하면, 절연재(512)의 두께가 감소되어 제 1 절연 밀봉재(510)가 형성된다. 예를 들면, 다이(200)의 도전성 커넥터(208) 및 접속 모듈(300)의 도전성 바(302)가 모두 노출될 때까지 절연재(512)의 일부가 제거된다. 일부 실시형태에 있어서, 절연재(512)는 평탄화 공정에 의해 제거될 수 있다. 평탄화 공정은, 예를 들면 화학적 기계 연마(CMP), 기계적 연삭, 에칭, 또는 다른 적합한 공정을 포함한다. 일부 실시형태에 있어서, 평탄화 공정은 연속적으로 형성된 패키지 구조체(10)의 전체 두께를 감소시키기 위해 접속 모듈(300), 절연재(512), 및 다이(200)를 더 연삭할 수 있다. 평탄화 공정 후, 제 1 절연 밀봉재(510)가 다이(200) 및 접속 모듈(300)을 측방향으로 밀봉하기 위해 캐리어(100) 및 디본딩층(102) 상에 형성된다. 일부 실시형태에 있어서, 보호층(308)의 제 1 표면(308a), 제 1 절연 밀봉재(510)의 제 1 표면(510a), 도전성 바(302)의 표면(302a), 및 도전성 커넥터(208)의 상부 표면(208a)은 서로 실질적으로 동일 평면 상에 있다. 상술한 바와 같이, 제 1 절연 밀봉재(510) 및 접속 모듈(300)의 보호층(308)은 상이한 재료로 제조되기 때문에, 상기 제 1 절연 밀봉재(510) 및 보호층(308)은 2개의 별개의 층으로서 간주된다. 즉, 제 1 절연 밀봉재(510)와 보호층(308) 사이에 명확한 인터페이스가 보일 수 있다.
도 1e를 참조하면, 재배선 구조(600)가 다이(200), 접속 모듈(300) 및 제 1 절연 밀봉재(510) 상에 형성된다. 상기 재배선 구조(600)는 적어도 하나의 유전체층(602), 복수의 도전성 패턴(604), 및 복수의 도전성 비아(606)를 포함할 수 있다. 유전체층(602)은 스핀 온 코팅, 화학 기상 증착(CVD), 플라즈마 강화 화학 기상 증착(PECVD) 등과 같은 적합한 제작 기술에 의해 형성될 수 있다. 유전체층(602)은 산화규소, 질화규소, 탄화규소, 산질화규소, 폴리이미드, 벤조시클로부텐(BCB) 등과 같은 비유기 또는 유기 유전체 재료로 제조될 수 있다. 한편, 도전성 패턴(604) 및 도전성 비아(606)는 스퍼터링, 증착, 무전해 도금, 또는 전기 도금에 의해 형성될 수 있다. 도전성 패턴(604) 및 도전성 비아(606)는 유전체층(602)에 내장된다. 유전체층(602)과 도전성 패턴(604)은 교대로 적층될 수 있다. 도전성 비아(606)는 유전체층(602)을 관통하여 도전성 패턴(604)을 서로 전기적으로 접속시킨다. 도전성 패턴(604) 및 도전성 비아(606)는 구리, 알루미늄, 니켈, 금, 은, 주석, 이들의 조합, 구리/니켈/금의 복합 구조, 또는 다른 적합한 도전성 재료로 제조될 수 있다.
도 1e에 도시된 바와 같이, 재배선 구조(600)는 4개의 유전체층(602)을 포함한다. 그러나, 유전체층(602)의 수는 제한되지 않고, 회로 설계에 기초해서 조정될 수 있다. 하부 유전체층(602)은 접속 모듈(300)의 도전성 바(302) 및 다이(200)의 도전성 커넥터(208)를 부분적으로 노출시키는 복수의 접촉 개구(602a)를 가질 수 있다. 상기 접촉 개구(602a)에 배치된 도전성 비아(606)는 접속 모듈(300)의 도전성 바(302) 및 다이(200)의 도전성 커넥터(208)와 직접 접촉할 수 있다. 즉, 다이(200)의 도전성 커넥터(208)는 재배선 구조(600)와 직접 접촉하여 다이(200)와 재배선 구조(600) 사이에 전기적 접속을 제공한다. 또한, 마찬가지로, 접속 모듈(300)의 도전성 바(302)는 재배선 구조(600)와 직접 접촉하여 접속 모듈(300)과 재배선 구조(600) 사이에 전기적 접속을 제공한다. 중간 유전체층(602)은 도전성 비아(606)를 통해 하부 도전성 패턴(604)이 다른 도전성 패턴(604)(예를 들면, 중간 도전성 패턴(604))에 전기적으로 접속되도록 하부 도전성 패턴(604)의 일부를 노출시킨다. 상부 유전체층(602)은 중간 도전성 패턴(604)의 일부를 노출시키는 복수의 접촉 개구(602b)를 갖는다. 상부 도전성 비아(606)는 상부 도전성 패턴(604)과 중간 도전성 패턴(604)을 전기적으로 접속하기 위해 접촉 개구(602b) 내로 연장될 수 있다. 한편, 상부 도전성 패턴(604)은 후속 공정에 있어서의 전기적 접속을 위해 상부 유전체층(602) 상에 배치된다. 일부 실시형태에 있어서, 상부 도전성 패턴(604)은 언더 범프 금속화(UBM) 패턴으로서 지칭될 수 있다.
일부 형태에 있어서, 재배선 구조(600)는 전기적 신호를 다이(200)로/로부터 리라우팅하는데 사용될 수 있고, 다이(200)보다 더 넓은 영역에 확장될 수 있다. 따라서, 일부 실시형태에 있어서 재배선 구조(600)는 "팬아웃 재배선 구조"로서 지칭될 수 있다.
도 1f를 참조하면, 다이(200), 접속 모듈(300), 접착제층(400), 및 제 1 절연 밀봉재(510)로부터 디본딩층(102) 및 캐리어(100)가 제거된다. 상술한 바와 같이, 디본딩층(102)은 LTHC층일 수 있다. UV 레이저광에 노출되면, 디본딩층(102) 및 캐리어(100)가 박리되어 접속 모듈(300)의 보호층(308), 접착제층(400), 및 제 1 절연 밀봉재(510) 및 도전성 캡(306)으로부터 분리된다. 캐리어(100) 및 디본딩층(102)을 제거하면, 보호층(308)의 제 2 표면(308b), 도전성 캡(306)의 표면(306b), 및 제 1 절연 밀봉재(510)의 제 2 표면(510b)(제 1 표면(510a)과 반대방향의 제 1 절연 밀봉재(510)의 표면)이 노출된다. 도 1f에 도시된 바와 같이, 도전성 캡(306)의 표면(306b), 보호층(308)의 제 2 표면(308b), 및 제 1 절연 밀봉재(510)의 제 2 표면(510b)은 서로 실질적으로 동일 평면 상에 있다.
도 1g를 참조하면, 도 1f에 도시된 구조가 다이(200), 접속 모듈(300), 및 제 1 절연 밀봉재(510)가 재배선 구조(600) 상에/위에 배치된 것을 나타내도록, 거꾸로 뒤집혀 있다. 이어서, 칩 스택(710)은 재배선 구조(600)와 반대방향의 제 1 절연 밀봉재(510) 및 다이(200) 상에 배치된다. 예를 들면, 칩 스택(710)은 제 1 절연 밀봉재(510)의 제 2 표면(510b) 및 접착제층(400) 상에 위치될 수 있다. 즉, 접착제층(400)은 다이(200)의 후면(200b)과 칩 스택 (710) 사이에 개재된다. 일부 실시형태에 있어서, 칩 스택(710)은 서로 적층된 복수의 칩으로 구성될 수 있다. 칩은 NAND 플래시 등의 비휘발성 메모리를 갖는 메모리 칩을 포함할 수 있다. 그러나, 본 발명은 이에 한정되지 않는다. 일부 대안적인 실시형태에 있어서, 칩 스택(710)의 칩은 논리 기능, 연산 기능 등과 같은 다른 기능을 행할 수 있는 칩일 수 있다. 칩 부착층은 이들 2개의 칩 사이의 접착력을 향상시키기 위해 칩 스택(710)에 있어서의 2개의 인접한 칩 사이에서 보여질 수 있다.
칩 스택(700)은 복수의 도전성 와이어(720)를 통해 접속 모듈(300)의 도전성 캡(306)에 전기적으로 접속될 수 있다. 예를 들면, 칩 스택(710)이 접착제층(400) 및 제 1 절연 밀봉재(510)에 배치된 후에, 와이어 본딩 공정에 의해 다수의 도전성 와이어(720)가 형성될 수 있다. 상기 도전성 와이어(720)의 일 단부는 칩 스택(710)의 적어도 하나의 칩에 접속된다. 한편, 도전성 와이어(720)의 또 다른 단부는 도전성 캡(306)의 표면(306b)에 접속된다. 도전성 와이어(720)의 재료는 금, 알루미늄, 또는 다른 적합한 도전성 재료를 포함할 수 있다. 일부 실시형태에 있어서, 도전성 와이어(720)의 재료는 도전성 캡(306)의 재료와 동일하다.
도 1h를 참조하면, 제 1 절연 밀봉재(510) 및 접속 모듈(300) 상에 제 2 절연 밀봉재(520)가 형성되어 칩 스택(710) 및 도전성 와이어(720)를 밀봉한다. 제 2 절연 밀봉재(520)의 재료는 제 1 절연 밀봉재(510)의 재료와 같거나 다를 수 있다. 예를 들면, 제 2 절연 밀봉재(520)의 재료는 에폭시, 성형 화합물, 또는 기타 적합한 절연 재료를 포함할 수 있다. 일부 실시형태에 있어서, 제 2 절연 밀봉재(520)의 재료는 낮은 수분 흡수율을 가질 수 있다. 제 2 절연 밀봉재(520)는 압축 성형, 트랜스퍼 성형, 또는 다른 밀봉 공정에 의해 형성될 수 있다. 제 2 절연 밀봉재(520)는 칩 스택(710) 및 도전성 와이어(720)에 대한 물리적 지지, 기계적 보호, 및 전기적 및 환경적 분리를 제공한다. 즉, 칩 스택(710) 및 도전성 와이어(720)는 제 2 절연 밀봉재(520)에 내장되어 있다.
도 1i를 참조하면, 다수의 도전성 단자(800)가 다이(200) 및 접속 모듈(300)과 반대방향의 재배선 구조(600) 상에 형성된다. 일부 실시형태에 있어서, 도전성 단자(800)는 재배선 구조(600)의 UBM 패턴(도 1i에 나타낸 하부 도전성 패턴(604)) 상에 배치된다. 도전성 단자(800)는 볼 배치 공정 및/또는 리플로우 공정에 의해 형성될 수 있다. 도전성 단자(800)는 솔더 볼 등의 도전성 범프일 수 있다. 그러나, 본 발명은 이에 한정되지 않는다. 일부 대안적인 실시형태에 있어서, 도전성 단자(800)는 설계 요건에 기초하여 다른 가능한 형태 및 형상을 취할 수 있다. 예를 들면, 도전성 단자(800)는 도전성 필라 또는 도전성 포스트의 형태를 취할 수 있다.
도 1j를 참조하면, 도전성 단자(800)를 형성한 후, 복수의 패키지 구조체(10)를 얻기 위해 싱귤레이션 공정이 행해진다. 상기 싱귤레이션 공정은, 예를 들면 회전 블레이드 또는 레이저 빔에 의한 컷팅을 포함한다.
상기에 기초하여, 용이하게 이용 가능한 사전제작식 접속 모듈은 패키지 구조체 내의 수직 접속 특징으로서 제공할 수 있다. 접속 모듈의 얇은 두께로 인해, 패키지 구조체의 크기가 효과적으로 감소될 수 있다. 또한, 접속 모듈의 적용은 종래의 패키지 구조체에서 추가적인 캐리어 또는 더 두꺼운 구리 필라의 제거로 이어져서 제조 비용을 감소시킬 수 있다.
본 발명의 범주 또는 사상을 벗어나지 않고, 본 명세서에 개시된 실시형태 및 개념에 대해 다양한 수정 및 변경이 이루어질 수 있음이 당업자에게 명백해질 것이다. 상술의 관점에서, 본 개시는 본 발명의 수정 및 변경을 포함하며, 이들은 이하의 청구범위 및 그 균등의 범위 내에 포함되는 것으로 의도된다.

Claims (20)

  1. 재배선 구조;
    상기 재배선 구조 상에 배치되고, 상기 재배선 구조에 전기적으로 접속된 다이;
    상기 재배선 구조 상에 배치된 적어도 하나의 접속 모듈로서, 보호층 및 상기 보호층에 내장된 복수의 도전성 바를 포함하는 접속 모듈;
    상기 다이 및 상기 접속 모듈을 밀봉하는 제 1 절연 밀봉재;
    상기 제 1 절연 밀봉재 및 상기 다이 상에 배치되고, 상기 접속 모듈에 전기적으로 접속되는 칩 스택; 및
    상기 칩 스택을 밀봉하는 제 2 절연 밀봉재를 포함하고,
    상기 접속 모듈은 복수의 배리어층과 복수의 도전성 캡을 더 포함하고, 상기 복수의 배리어층 각각은 상기 복수의 도전성 캡의 하나와 상기 복수의 도전성 바의 하나 사이에서 배치되고, 상기 복수의 도전성 캡의 하나와 상기 복수의 도전성 바의 하나와 직접 접촉하고, 상기 보호층은 각 도전성 캡의 적어도 일부를 노출시키고,
    상기 도전성 캡의 표면, 상기 보호층의 표면, 및 상기 제 1 절연 밀봉재의 표면은 동일 평면 상에 있고,
    상기 도전성 바의 재료는 구리를 포함하고,
    상기 도전성 캡의 재료는 구리를 포함하지 않는 패키지 구조체.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 다이 및 상기 접속 모듈과 반대방향의 상기 재배선 구조 상에 배치된 복수의 도전성 단자를 더 포함하는 패키지 구조체.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 다이는 액티브 표면 및 상기 액티브 표면과 반대방향의 후면을 갖고, 상기 다이는 상기 액티브 표면 상에 위치된 복수의 도전성 커넥터를 포함하고, 상기 도전성 커넥터는 상기 재배선 구조와 직접 접촉하는 패키지 구조체.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 다이의 후면과 상기 칩 스택 사이에 개재된 접착제층을 더 포함하는 패키지 구조체.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 보호층의 재료는 상기 제 1 절연 밀봉재의 재료와 상이한 패키지 구조체.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 절연 밀봉재에 내장된 복수의 도전성 와이어를 더 포함하고, 상기 칩 스택은 상기 도전성 와이어를 통해 상기 접속 모듈에 전기적으로 접속되는 패키지 구조체.
  7. 삭제
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 도전성 캡의 재료는 금을 포함하는 패키지 구조체.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 도전성 바의 재료는 상기 도전성 캡의 재료와 다른 패키지 구조체.
  10. 삭제
  11. 캐리어를 제공하는 단계;
    상기 캐리어 상에 복수의 다이 및 복수의 접속 모듈을 배치하는 단계로서, 상기 접속 모듈의 각각은 보호층과 상기 보호층에 내장된 복수의 도전성 바와 복수의 배리어층과 복수의 도전성 캡을 포함하고, 상기 복수의 배리어층 각각은 상기 복수의 도전성 캡의 하나와 상기 복수의 도전성 바의 하나 사이에 배치되고, 상기 복수의 도전성 캡의 하나와 상기 복수의 도전성 바의 하나와 직접 접촉하고, 상기 보호층은 각 도전성 캡의 적어도 일부를 노출시키고, 상기 도전성 바의 재료는 구리를 포함하고, 상기 도전성 캡의 재료는 구리를 포함하지 않는 단계;
    상기 다이 및 상기 접속 모듈을 밀봉하기 위해 상기 캐리어 상에 제 1 절연 밀봉재를 형성하는 단계로서, 상기 도전성 캡의 표면과 상기 보호층의 표면과 상기 제 1 절연 밀봉재의 표면은 동일 평면인 단계;
    상기 다이, 상기 접속 모듈, 및 상기 제 1 절연 밀봉재 위에 재배선 구조를 형성하는 단계;
    상기 다이, 상기 접속 모듈, 및 상기 제 1 절연 밀봉재로부터 상기 캐리어를 제거하는 단계;
    상기 재배선 구조와 반대방향의 상기 다이 및 상기 제 1 절연 밀봉재 상에 칩 스택을 배치하는 단계로서, 상기 칩 스택은 상기 접속 모듈에 전기적으로 접속되는 단계; 및
    제 2 절연 밀봉재에 의해 상기 칩 스택을 밀봉하는 단계를 포함하는 패키지 구조체의 제조 방법.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 다이 및 상기 접속 모듈과 반대방향의 상기 재배선 구조 상에 복수의 도전성 단자를 형성하는 단계를 더 포함하는 방법.
  13. 제 11 항에 있어서,
    상기 제 2 절연 밀봉재에 내장된 복수의 도전성 와이어를 형성하는 단계를 더 포함하고, 상기 칩 스택은 상기 도전성 와이어를 통해 상기 접속 모듈에 전기적으로 접속되는 방법.
  14. 제 11 항에 있어서,
    싱귤레이션 공정을 행하는 단계를 더 포함하는 방법.
  15. 제 11 항에 있어서,
    상기 보호층의 재료는 상기 제 1 절연 밀봉재의 재료와 상이한 방법.
  16. 제 11 항에 있어서,
    상기 접속 모듈은 픽 앤드 플레이스 공정에 의해 상기 캐리어 상에 배치되는 방법.
  17. 삭제
  18. 제 11 항에 있어서,
    상기 접속 모듈은 상기 도전성 캡이 상기 캐리어를 향하도록 상기 캐리어 상에 배치되는 방법.
  19. 제 11 항에 있어서,
    상기 도전성 캡의 재료는 금을 포함하는 방법.
  20. 제 11 항에 있어서,
    상기 다이는 액티브 표면 및 상기 액티브 표면과 반대방향의 후면을 갖고, 상기 다이는 상기 액티브 표면 상에 위치된 복수의 도전성 커넥터를 포함하고,
    상기 제 1 절연 밀봉재를 형성하는 단계는,
    상기 다이 및 상기 접속 모듈을 덮기 위해 상기 캐리어 위에 절연 재료를 형성하는 단계; 및
    상기 다이의 도전성 커넥터 및 상기 접속 모듈의 도전성 바를 노출시키도록 상기 절연 재료의 일부를 제거하는 단계를 포함하는 방법.
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