JPWO2013099324A1 - ゴム組成物及び空気入りタイヤ - Google Patents

Abstract

本発明は、低燃費性、ウェットグリップ性能、耐摩耗性及び操縦安定性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
本発明は、Ｔｇが−７５〜０℃、Ｍｗが１．５×１０^５〜１．５×１０^６の共役ジエン系重合体の含有量が９５質量％以上であるゴム成分１００質量％中、スチレン含有量が５質量％以上１５質量％未満で、ビニル結合量が１０〜７０ｍｏｌ％のＳＢＲ（Ａ）の含有量が５〜６５質量％、スチレン含有量が１５質量％以上３０質量％未満で、ビニル結合量が１０〜７０ｍｏｌ％のＳＢＲ（Ｂ）の含有量が２０〜７５質量％であり、ゴム成分１００質量部に対して、Ｔｇが−７５〜０℃、Ｍｗが１．０×１０^３以上１．５×１０^５未満の低分子量共役ジエン系重合体の含有量が１〜３０質量部、Ｎ_２ＳＡが４０〜４００ｍ^２／ｇのシリカの含有量が１０〜１５０質量部であり、ｔａｎδピーク温度が−２０℃以上であるゴム組成物に関する。

Description

本発明は、ゴム組成物及びそれを用いて作製した空気入りタイヤに関するものである。

近年、環境問題への関心の高まりから、自動車に対して低燃費化の要求が強くなっており、自動車タイヤに用いるゴム組成物に対しても、低燃費性に優れることが求められている。自動車タイヤ用のゴム組成物としては、ポリブタジエンやブタジエン−スチレン共重合体などの共役ジエン系重合体と、カーボンブラックやシリカなどの充填剤とを含有するゴム組成物などが用いられている。

低燃費性を改善する方法として、ポリブタジエンゴムなどのガラス転移温度の低いポリマーを配合する方法が知られている。しかし、ポリブタジエンゴムを配合すると、低燃費性は改善されるものの、ウェットグリップ性能が悪化してしまう傾向がある。一方で、ポリブタジエンゴムを配合しない場合、耐摩耗性が悪化してしまう傾向がある。そのため、低燃費性、ウェットグリップ性能及び耐摩耗性をバランス良く改善する方法が求められている。

また、自動車タイヤは、安全性を確保する観点から、操縦安定性も必要とされるため、低燃費性、ウェットグリップ性能及び耐摩耗性とともに、操縦安定性の改善が求められている。

特許文献１では、アミノ基及びアルコキシ基を含有する有機ケイ素化合物で変性されたジエン系ゴム（変性ゴム）を用いて低燃費性を改善する方法が提案されている。しかし、低燃費性、ウェットグリップ性能、耐摩耗性及び操縦安定性をバランス良く改善する点については、未だ改善の余地がある。

特開２０００−３４４９５５号公報

本発明は、前記課題を解決し、低燃費性、ウェットグリップ性能、耐摩耗性及び操縦安定性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供することを目的とする。

本発明は、ガラス転移温度が−７５〜０℃、重量平均分子量Ｍｗが１．５×１０^５〜１．５×１０^６の共役ジエン系重合体の含有量が９５質量％以上であるゴム成分１００質量％中、スチレン含有量が５質量％以上１５質量％未満で、１，３−ブタジエン部分のビニル結合量が１０〜７０ｍｏｌ％のスチレンブタジエンゴム（Ａ）の含有量が５〜６５質量％、スチレン含有量が１５質量％以上３０質量％未満で、１，３−ブタジエン部分のビニル結合量が１０〜７０ｍｏｌ％のスチレンブタジエンゴム（Ｂ）の含有量が２０〜７５質量％であり、上記ゴム成分１００質量部に対して、ガラス転移温度が−７５〜０℃、重量平均分子量Ｍｗが１．０×１０^３以上１．５×１０^５未満の低分子量共役ジエン系重合体の含有量が１〜３０質量部、窒素吸着比表面積が４０〜４００ｍ^２／ｇのシリカの含有量が１０〜１５０質量部であり、ｔａｎδピーク温度が−２０℃以上であるゴム組成物に関する。

上記低分子量共役ジエン系重合体の重量平均分子量Ｍｗが１．０×１０^３〜５．０×１０^３であることが好ましい。

上記ゴム成分１００質量％中、スチレン含有量が３０質量％以上４５質量％未満で、１，３−ブタジエン部分のビニル結合量が１０〜７０ｍｏｌ％のスチレンブタジエンゴム（Ｃ）の含有量が５〜５０質量％であることが好ましい。

上記スチレンブタジエンゴム（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の少なくとも１つが、下記式（Ｉ）で表される重合開始剤を用いてスチレン、１，３−ブタジエン及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させて得られる共重合体の活性末端に、窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物を反応させて得られるものであることが好ましい。

（式（Ｉ）中、ｉは０又は１であり、Ｒ^１１は炭素原子数１〜１００のヒドロカルビレン基を表し、Ｒ^１２及びＲ^１３は、置換基を有してもよいヒドロカルビル基、又は、トリヒドロカルビルシリル基を表すか、あるいは、Ｒ^１２とＲ^１３とが結合して、ケイ素原子、窒素原子及び酸素原子からなる原子群から選択される少なくとも１種の原子をヘテロ原子として有していてもよいヒドロカルビレン基を表し、Ｍはアルカリ金属原子を表す）

上記スチレンブタジエンゴム（Ａ）が、上記式（Ｉ）で表される重合開始剤を用いてスチレン、１，３−ブタジエン及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させて得られる共重合体の活性末端に、窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物を反応させて得られるものであることが好ましい。

上記式（Ｉ）のＲ^１１が下記式（Ｉａ）で表される基であることが好ましい。

（式（Ｉａ）中、Ｒ^１４は共役ジエン化合物由来の構造単位及び／又は芳香族ビニル化合物由来の構造単位からなるヒドロカルビレン基を表し、ｎは１〜１０の整数を表す）

上記式（Ｉａ）のＲ^１４がイソプレン由来の構造単位１〜１０単位からなるヒドロカルビレン基であることが好ましい。

上記ケイ素含有ビニル化合物が、下記式（ＩＩ）で表される化合物であることが好ましい。

（式（ＩＩ）中、ｍは０又は１であり、Ｒ^２１はヒドロカルビレン基を表し、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３は置換アミノ基、ヒドロカルビルオキシ基、又は置換基を有していてもよいヒドロカルビル基を表す）

上記低分子量共役ジエン系重合体が、スチレン及び１，３−ブタジエンの共重合体であり、１，３−ブタジエン部分のビニル結合量が２０〜７０ｍｏｌ％であることが好ましい。

上記低分子量共役ジエン系重合体が、スチレン及び１，３−ブタジエンの共重合体であり、スチレン含有量が１０〜４５質量％であることが好ましい。

本発明はまた、上記ゴム組成物を用いて作製した空気入りタイヤに関する。

本発明によれば、特定のスチレンブタジエンゴム、低分子量共役ジエン系重合体、及びシリカをそれぞれ特定量配合したゴム組成物であるので、低燃費性、ウェットグリップ性能、耐摩耗性及び操縦安定性がバランス良く改善された空気入りタイヤを提供できる。

本発明のゴム組成物は、ガラス転移温度が−７５〜０℃、重量平均分子量Ｍｗが１．５×１０^５〜１．５×１０^６の共役ジエン系重合体の含有量が９５質量％以上であるゴム成分１００質量％中、スチレン含有量が５質量％以上１５質量％未満で、１，３−ブタジエン部分のビニル結合量が１０〜７０ｍｏｌ％のスチレンブタジエンゴム（Ａ）（以下、ＳＢＲ（Ａ）ともいう）の含有量が５〜６５質量％、スチレン含有量が１５質量％以上３０質量％未満で、１，３−ブタジエン部分のビニル結合量が１０〜７０ｍｏｌ％のスチレンブタジエンゴム（Ｂ）（以下、ＳＢＲ（Ｂ）ともいう）の含有量が２０〜７５質量％であり、上記ゴム成分１００質量部に対して、ガラス転移温度が−７５〜０℃、重量平均分子量Ｍｗが１．０×１０^３以上１．５×１０^５未満の低分子量共役ジエン系重合体の含有量が１〜３０質量部、窒素吸着比表面積が４０〜４００ｍ^２／ｇのシリカの含有量が１０〜１５０質量部であり、ｔａｎδピーク温度が−２０℃以上である。このように、ＳＢＲ（Ａ）及び（Ｂ）と、低分子量共役ジエン系重合体と、シリカとを併用し、ｔａｎδピーク温度を所定の範囲内に調整することで、低燃費性を維持しながら、ウェットグリップ性能、耐摩耗性及び操縦安定性を改善し、これらの性能が高次元でバランス良く得られる。また、本発明のゴム組成物は、加工性、ゴム強度及びウェットグリップ性能の温度依存性にも優れている。

本発明のゴム組成物は、ゴム成分として、ガラス転移温度（Ｔｇ）が−７５〜０℃、重量平均分子量Ｍｗが１．５×１０^５〜１．５×１０^６の共役ジエン系重合体を使用する。上記共役ジエン系重合体としては、Ｔｇ及び重量平均分子量Ｍｗが上記範囲内のものであれば特に限定されないが、上記ＳＢＲ（Ａ）及び（Ｂ）を好適に使用することができる。

ゴム成分１００質量％中、上記共役ジエン系重合体の含有量は、９５質量％以上、好ましくは９８質量％以上、より好ましくは９９質量％以上、特に好ましくは１００質量％である。９５質量％未満であると、低燃費性、ウェットグリップ性能、耐摩耗性及び操縦安定性をバランス良く改善できない場合がある。

上記共役ジエン系重合体のＴｇは、−７５℃以上、好ましくは−６５℃以上である。−７５℃未満であると、ウェットグリップ性能が低下する傾向がある。また、上記共役ジエン系重合体のＴｇは、好ましくは０℃以下、より好ましくは−１０℃以下である。０℃を超えると、上記ＳＢＲ（Ａ）及び（Ｂ）との相溶性が悪化し、低燃費性や耐摩耗性が悪化する傾向がある。
なお、Ｔｇは、実施例に記載の方法で測定した値（中間点ガラス転移温度）である。

上記共役ジエン系重合体の重量平均分子量Ｍｗは、１．５×１０^５以上、好ましくは２．５×１０^５以上である。１．５×１０^５未満であると、低燃費性、耐摩耗性を充分に確保できない場合がある。また、上記共役ジエン系重合体のＭｗは、１．５×１０^６以下、好ましくは５．０×１０^５以下である。１．５×１０^６を超えると、混練り加工性が著しく悪化し、生産性が大幅に低下してしまう場合がある。
なお、Ｍｗは、実施例に記載の方法により測定できる。

ＳＢＲ（Ａ）は、スチレン含有量が５質量％以上、好ましくは１０質量％以上である。５質量％未満の場合、スチレン基の効果が発揮し難くなり、ウェットグリップ性能が低下する傾向がある。また、該スチレン含有量は、１５質量％未満である。１５質量％以上の場合、ＳＢＲ（Ｂ）との併用による改善効果が得られない。
なお、スチレン含有量は、実施例に記載の方法で測定できる。

ＳＢＲ（Ｂ）は、スチレン含有量が１５質量％以上、好ましくは２０質量％以上である。１５質量％未満の場合、ＳＢＲ（Ａ）との併用による改善効果が得られない。また、該スチレン含有量は、３０質量％未満である。３０質量％以上の場合、共重合体（Ａ）との相溶性が悪化し、耐摩耗性が悪化する場合がある。

ＳＢＲ（Ａ）及び（Ｂ）において、スチレン含有量の差が小さい場合、これらを併用する効果が薄れ、ウェットグリップ性能の温度依存性が高くなる傾向がある。そのため、ＳＢＲ（Ａ）及び（Ｂ）におけるスチレン含有量の差は、好ましくは７質量％以上、より好ましくは１０質量％以上である。

本発明のゴム組成物は、ゴム成分として、ＳＢＲ（Ａ）及び（Ｂ）とともに、さらに、スチレン含有量が３０質量％以上４５質量％未満で、１，３−ブタジエン部分のビニル結合量が１０〜７０質量％のスチレンブタジエンゴム（Ｃ）（以下、ＳＢＲ（Ｃ）ともいう）を併用することが好ましい。これにより、ウェットグリップ性能の温度依存性をさらに改善し、幅広い温度領域で優れたウェットグリップ性能を発揮することが可能となる。

ＳＢＲ（Ｃ）は、スチレン含有量が３０質量％以上、好ましくは３５質量％以上である。３０質量％未満の場合、ＳＢＲ（Ｂ）との併用による改善効果が得られない。また、該スチレン含有量は、４５質量％未満である。４５質量％以上の場合、ＳＢＲ（Ａ）及び（Ｂ）との相溶性が悪化し、低燃費性が悪化する場合がある。

ＳＢＲ（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の１，３−ブタジエン部分のビニル結合量は、１０ｍｏｌ％以上、好ましくは２０ｍｏｌ％以上である。１０ｍｏｌ％未満の場合、シランカップリング剤とＳＢＲ（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）との反応性が低下し、低燃費性や耐摩耗性が悪化する傾向がある。該ビニル結合量は、７０ｍｏｌ％以下、好ましくは６０ｍｏｌ％以下である。７０ｍｏｌ％を超える場合、最終的に得られるゴム組成物のガラス転移温度が高くなり過ぎて、低燃費性が悪化する傾向がある。
なお、ビニル結合量は、実施例に記載の方法で測定できる。

ゴム成分１００質量％中のＳＢＲ（Ａ）の含有量は、５質量％以上、好ましくは１０質量％以上である。５質量％未満であると、ＳＢＲ（Ａ）による改善効果が充分に得られない傾向がある。該含有量は、６５質量％以下、好ましくは６０質量％以下である。６５質量％を超えると、ＳＢＲ（Ｂ）の含有量が少なくなり、ウェットグリップ性能の温度依存性が高くなる傾向がある。

ゴム成分１００質量％中のＳＢＲ（Ｂ）の含有量は、２０質量％以上、好ましくは３０質量％以上である。２０質量％未満であると、ＳＢＲ（Ｂ）による改善効果が充分に得られない傾向がある。該含有量は、７５質量％以下、好ましくは７０質量％以下である。７５質量％を超えると、ＳＢＲ（Ａ）の含有量が少なくなり、ウェットグリップ性能の温度依存性が高くなる傾向がある。

ゴム成分１００質量％中のＳＢＲ（Ｃ）の含有量は、好ましくは５質量％以上、より好ましくは１０質量％以上である。５質量％未満であると、ＳＢＲ（Ｃ）による改善効果が充分に得られない傾向がある。該含有量は、好ましくは５０質量％以下、より好ましくは４５質量％以下である。５０質量％を超えると、ＳＢＲ（Ａ）及び（Ｂ）の含有量が少なくなり、ウェットグリップ性能の温度依存性が高くなる傾向がある。

ゴム成分１００質量％中のＳＢＲ（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の合計含有量は、好ましくは７０質量％以上、より好ましくは８０質量％以上、さらに好ましくは９０質量％以上、特に好ましくは９５質量％以上であり、１００質量％であってもよい。７０質量％未満であると、ウェットグリップ性能を充分に改善できない傾向がある。また、通常、ＳＢＲ（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の合計含有量が９０質量％を超えると、加工性が悪化する傾向があるが、本発明のゴム組成物は、低分子量共役ジエン系重合体を配合しているため、上記合計含有量が９０質量％を超える場合であっても、良好な加工性を確保することができる。

ＳＢＲ（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の分子量分布は、低燃費性を高めるために、好ましくは１〜５であり、より好ましくは１〜２である。
分子量分布は、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により、数平均分子量（Ｍｎ）及び重量平均分子量（Ｍｗ）を測定し、ＭｗをＭｎで除すことにより求められる。

シリカを良好に分散させ、各性能の改善効果を高めることができるという点から、ＳＢＲ（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の少なくとも一つは、窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物で末端が変性されていることが好ましく、下記式（Ｉ）で表される重合開始剤を用いてスチレン、１，３−ブタジエン及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させて得られる共重合体の活性末端に、窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物を反応させて得られるもの（以下、変性ＳＢＲともいう）であることがより好ましい。また、低燃費性及び耐摩耗性をより大きく改善できるという点から、ＳＢＲ（Ａ）が変性ＳＢＲであることが好ましい。

（式（Ｉ）中、ｉは０又は１であり、Ｒ^１１は炭素原子数１〜１００のヒドロカルビレン基を表し、Ｒ^１２及びＲ^１３は、置換基を有してもよいヒドロカルビル基、又は、トリヒドロカルビルシリル基を表すか、あるいは、Ｒ^１２とＲ^１３とが結合して、ケイ素原子、窒素原子及び酸素原子からなる原子群から選択される少なくとも１種の原子をヘテロ原子として有していてもよいヒドロカルビレン基を表し、Ｍはアルカリ金属原子を表す）

本明細書では、ヒドロカルビル基は炭化水素から１個の水素原子を除いた１価の基を表す。ヒドロカルビレン基は、炭化水素から２個の水素原子を除いた２価の基を表す。ヒドロカルビルオキシ基は、ヒドロキシ基の水素原子がヒドロカルビル基で置き換えられた構造を有する１価の基を表す。置換アミノ基は、アミノ基の少なくとも１個の水素原子が、水素原子以外の１価の原子又は１価基に置き換えられた構造を有する基、又はアミノ基の２個の水素原子が２価基で置き換えられた構造を有する基を表す。置換基を有するヒドロカルビル基（以下、置換ヒドロカルビル基と記すこともある）は、ヒドロカルビル基の少なくとも１個の水素原子が置換基で置き換えられた構造を有する１価の基を表す。ヘテロ原子を有するヒドロカルビレン基（以下、ヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基と記すこともある）とは、ヒドロカルビレン基の水素原子が除かれている炭素原子以外の炭素原子及び／又は水素原子が、ヘテロ原子（炭素原子、水素原子以外の原子）を有する基で置き換えられた構造を有する２価の基を表す。

本明細書において「変性する」とは、ジエン化合物、又はジエン化合物及び芳香族ビニル化合物を有する共重合体に、これら以外の化合物を結合させることを意味する。上記変性ＳＢＲの場合、上記式（Ｉ）で表される重合開始剤により重合体開始末端が変性され、ケイ素含有ビニル化合物を共重合させる事により主鎖が変性され、窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物ケイ素含有ビニル化合物によって停止末端が変性された構造を有する。この構造により、シリカを良好に分散させ、低燃費性、ゴム強度、ウェットグリップ性能及び操縦安定性をバランス良く改善できる。また、通常、開始末端、主鎖、停止末端の全てが変性された変性ゴムを使用すると、加工性が大幅に悪化してしまう傾向があるが、上記変性共重合体は、開始末端、主鎖、停止末端のそれぞれを特定の化合物の組合せで変性しているため、良好な加工性を確保することができ、かつ低燃費性、ゴム強度、ウェットグリップ性能及び操縦安定性の改善効果を相乗的に高めることができる。

式（Ｉ）中のｉは０又は１であり、好ましくは１である。

式（Ｉ）中のＲ^１１は、炭素原子数１〜１００のヒドロカルビレン基であり、好ましくは炭素原子数６〜１００のヒドロカルビレン基であり、より好ましくは炭素原子数７〜８０のヒドロカルビレン基である。Ｒ^１１の炭素原子数が１００を超えると、重合開始剤の分子量が大きくなり、経済性及び重合時の操作性が低下することがある。
なお、式（Ｉ）で表される重合開始剤としては、Ｒ^１１の炭素原子数が異なる化合物を複数種併用してもよい。

式（Ｉ）中のＲ^１１は、好ましくは下記式（Ｉａ）で表される基である。

（式（Ｉａ）中、Ｒ^１４は共役ジエン化合物由来の構造単位及び／又は芳香族ビニル化合物由来の構造単位からなるヒドロカルビレン基を表し、ｎは１〜１０の整数を表す）

式（Ｉａ）中、Ｒ^１４は共役ジエン化合物由来の構造単位及び／又は芳香族ビニル化合物由来の構造単位からなるヒドロカルビレン基を表し、好ましくはイソプレン由来の構造単位からなるヒドロカルビレン基であり、より好ましくはイソプレン由来の構造単位１〜１０単位からなるヒドロカルビレン基である。

Ｒ^１４における共役ジエン化合物由来の構造単位及び／又は芳香族ビニル化合物由来の構造単位の数は、１〜１０単位であることが好ましく、１〜５単位であることがより好ましい。

式（Ｉａ）中、ｎは１〜１０の整数であり、好ましくは２〜４の整数である。

Ｒ^１１としては、イソプレン由来の構造単位１〜１０単位とメチレン基とを結合させた基、イソプレン由来の構造単位１〜１０単位とエチレン基とを結合させた基、イソプレン由来の構造単位１〜１０単位とトリメチレン基とを結合させた基をあげることができ、好ましくはイソプレン由来の構造単位１〜１０単位とトリメチレン基とを結合させた基である。

式（Ｉ）中のＲ^１２及びＲ^１３は、置換基を有してもよいヒドロカルビル基、又は、トリヒドロカルビルシリル基を表すか、あるいは、Ｒ^１２とＲ^１３とが結合して、ケイ素原子、窒素原子、酸素原子からなる群より選択される少なくとも一種の原子をヘテロ原子として有していてもよいヒドロカルビレン基を表す。

置換基を有してもよいヒドロカルビル基は、ヒドロカルビル基又は置換ヒドロカルビル基である。置換ヒドロカルビル基における置換基としては、置換アミノ基又はヒドロカルビルオキシ基をあげることができる。ヒドロカルビル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ドデシル基などの鎖状アルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基などの環状アルキル基；フェニル基、ベンジル基などのアリール基をあげることができ、好ましくは鎖状アルキル基であり、より好ましくは炭素原子数１〜４の鎖状アルキル基である。置換基が置換アミノ基である置換ヒドロカルビル基としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル基、２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル基、３−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル基をあげることができる。置換基がヒドロカルビルオキシ基である置換ヒドロカルビル基としては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシメチル基をあげることができる。これらの中では、ヒドロカルビル基が好ましく、炭素原子数１〜４の鎖状アルキル基がより好ましく、メチル基又はエチル基がさらに好ましい。

トリヒドロカルビルシリル基としては、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチル−ジメチルシリル基をあげることができ、トリメチルシリル基が好ましい。

ケイ素原子、窒素原子及び酸素原子からなる原子群より選択される少なくとも一種の原子をヘテロ原子として有していてもよいヒドロカルビレン基は、ヒドロカルビレン基、又は、ヘテロ原子がケイ素原子、窒素原子、酸素原子からなる原子群より選択される少なくとも一種の原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基である。ヘテロ原子がケイ素原子、窒素原子、酸素原子からなる原子群より選択される少なくとも一種の原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基としては、ヘテロ原子がケイ素原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基、ヘテロ原子が窒素原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基、ヘテロ原子が酸素原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基をあげることができる。ヒドロカルビレン基としては、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ペンタン−２−エン−１，５−ジイル基、２，２，４−トリメチルへキサン−１，６−ジイル基などのアルキレン基；ペンタン−２−エン−１，５−ジイル基などのアルケンジイル基をあげることができ、好ましくはアルキレン基であり、より好ましくは炭素原子数４〜７のアルキレン基である。ヘテロ原子がケイ素原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基としては、−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−で表される基をあげることができる。ヘテロ原子が窒素原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基としては、−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ＝ＣＨ−で表される基、−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−で表される基をあげることができる。ヘテロ原子が酸素原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基としては、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−で表される基をあげることができる。これらの中では、ヒドロカルビレン基が好ましく、炭素原子数４〜７のアルキレン基がより好ましく、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基がさらに好ましい。

Ｒ^１２及びＲ^１３はヒドロカルビル基であるか、Ｒ^１２とＲ^１３とが結合してヒドロカルビレン基であることが好ましく、炭素原子数１〜４の鎖状アルキル基であるか、結合して炭素原子数４〜７のアルキレン基であることがより好ましく、メチル基又はエチル基であることがさらに好ましい。

式（Ｉ）中、Ｍはアルカリ金属原子を表す。アルカリ金属原子としては、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓをあげることができ、好ましくはＬｉである。

式（Ｉ）で表される重合開始剤のうち、ｉが１である化合物としては、アミノアルキルリチウム化合物にイソプレン由来の構造単位１〜５単位を重合させた化合物をあげることができる。当該アミノアルキルリチウム化合物としては、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−１−プロピルリチウム、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−１−プロピルリチウム、３−（Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−ブチルアミノ）−１−プロピルリチウム、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−１−ブチルリチウム、４−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−１−ブチルリチウム、４−（Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−プロピルアミノ）−１−ブチルリチウム，３−（Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−ブチルアミノ）−１−ブチルリチウムなどのＮ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキルリチウム；３−（１−ピロリジノ）−１−プロピルリチウム、３−（１−ピペリジノ）−１−プロピルリチウム、３−（１−ヘキサメチレンイミノ）−１−プロピルリチウム、３−［１−（１，２，３，６−テトラヒドロピリジノ）］−１−プロピルリチウムなどのヘテロ原子非含有環状アミノアルキルリチウム化合物；３−（１−モルホリノ）−１−プロピルリチウム、３−（１−イミダゾリル）−１−プロピルリチウム、３−（４，５−ジヒドロ−１−イミダゾリル）−１−プロピルリチウム、３−（２，２，５，５−テトラメチル−１−アザ−２，５−ジシラ−１−シクロペンチル）−１−プロピルリチウムなどのヘテロ原子含有環状アミノアルキルリチウム化合物をあげることができ、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキルリチウムが好ましく、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−１−プロピルリチウム又は３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−１−プロピルリチウムがより好ましい。

式（Ｉ）で表される重合開始剤のうち、ｉが０である化合物としては、リチウムヘキサメチレンイミド、リチウムピロリジド、リチウムピペリジド、リチウムヘプタメチレンイミド、リチウムドデカメチレンイミド、リチウムジメチルアミド、リチウムジエチルアミド、リチウムジプロピルアミド、リチウムジブチルアミド、リチウムジヘキシルアミド、リチウムジヘプチルアミド、リチウムジオクチルアミド、リチウムジ−２−エチルヘキシルアミド、リチウムジデシルアミド、リチウム−Ｎ−メチルピペラジド、リチウムエチルプロピルアミド、リチウムエチルブチルアミド、リチウムメチルブチルアミド、リチウムエチルベンジルアミド、リチウムメチルフェネチルアミドなどがあげられる。

式（Ｉ）で表される重合開始剤のうち、ｉが０である化合物は、二級アミンとヒドロカルビルリチウム化合物から予備調製して重合反応に用いてもよいし、重合系中で生成させてもよい。ここで、二級アミンとしては、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、ジオクチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジイソブチルアミンなどの他、アザシクロヘプタン（即ち、ヘキサメチレンイミン）、２−（２−エチルヘキシル）ピロリジン、３−（２−プロピル）ピロリジン、３，５−ビス（２−エチルヘキシル）ピペリジン、４−フェニルピペリジン、７−デシル−１−アザシクロトリデカン、３，３−ジメチル−１−アザシクロテトラデカン、４−ドデシル−１−アザシクロオクタン、４−（２−フェニルブチル）−１−アザシクロオクタン、３−エチル−５−シクロヘキシル−１−アザシクロヘプタン、４−ヘキシル−１−アザシクロヘプタン、９−イソアミル−１−アザシクロヘプタデカン、２−メチル−１−アザシクロヘプタデセ−９−エン、３−イソブチル−１−アザシクロドデカン、２−メチル−７−ｔ−ブチル−１−アザシクロドデカン、５−ノニル−１−アザシクロドデカン、８−（４−メチルフェニル）−５−ペンチル−３−アザビシクロ［５．４．０］ウンデカン、１−ブチル−６−アザビシクロ［３．２．１］オクタン、８−エチル−３−アザビシクロ［３．２．１］オクタン、１−プロピル−３−アザビシクロ［３．２．２］ノナン、３−（ｔ−ブチル）−７−アザビシクロ［４．３．０］ノナン、１，５，５−トリメチル−３−アザビシクロ［４．４．０］デカンなどの環状アミンがあげられる。

式（Ｉ）で表される重合開始剤としては、ｉが１である化合物が好ましく、Ｎ，Ｎ−アミノアルキルリチウムにイソプレン由来の構造単位１〜５単位を重合させた化合物がより好ましく、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−１−プロピルリチウム又は３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−１−プロピルリチウムにイソプレン由来の構造単位１〜５単位を重合させた化合物がさらに好ましい。

式（Ｉ）で表される重合開始剤の使用量は、重合で使用される単量体成分１００ｇあたり０．０１〜１５ｍｍｏｌであることが好ましく、０．１〜１０ｍｍｏｌであることがより好ましい。

本発明においては、必要に応じて、ｎ−ブチルリチウムなどの他の重合開始剤を併用してもよい。

共役ジエン化合物としては、１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−ペンタジエン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、１，３−ヘキサジエン、ミルセンがあげられ、これらは１種でもよく、２種以上でもよい。入手容易性の観点から、１，３−ブタジエン、イソプレンであることが好ましい。

ケイ素含有ビニル化合物は、好ましくは下記式（ＩＩ）で表される化合物である。

（式（ＩＩ）中、ｍは０又は１であり、Ｒ^２１はヒドロカルビレン基を表し、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３は置換アミノ基、ヒドロカルビルオキシ基、又は置換基を有していてもよいヒドロカルビル基を表す）

式（ＩＩ）のｍは０又は１であり、好ましくは０である。

式（ＩＩ）におけるヒドロカルビレン基としては、アルキレン基、アルケンジイル基、アリーレン基、アリーレン基とアルキレン基とが結合した基をあげることができる。アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基をあげることができる。アルケンジイル基としてはビニレン基、エチレン−１，１−ジイル基をあげることができる。アリーレン基としては、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基をあげることができる。アリーレン基とアルキレン基とが結合した基としては、フェニレン基とメチレン基とが結合した基、フェニレン基とエチレン基とが結合した基をあげることができる。

Ｒ^２１は好ましくはアリーレン基であり、より好ましくはフェニレン基である。

式（ＩＩ）において、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３は置換アミノ基、ヒドロカルビルオキシ基、又は置換基を有していてもよいヒドロカルビル基を表す。好ましくは、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３の少なくとも１つが置換アミノ基であり、より好ましくは、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３の２つが置換アミノ基である。

式（ＩＩ）における置換アミノ基は、好ましくは下記式（ＩＩａ）で表される基である。

（式（ＩＩａ）中、Ｒ^２２及びＲ^２３は、置換基を有してもよいヒドロカルビル基、又は、トリヒドロカルビルシリル基を表すか、あるいは、Ｒ^２２とＲ^２３とが結合して、窒素原子及び／又は酸素原子をヘテロ原子として有していてもよいヒドロカルビレン基を表す）

式（ＩＩａ）における置換基を有してもよいヒドロカルビル基は、ヒドロカルビル基又は置換ヒドロカルビル基である。置換ヒドロカルビル基としては、置換基がヒドロカルビルオキシ基である置換ヒドロカルビル基をあげることができる。ヒドロカルビル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基などの鎖状アルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基などの環状アルキル基；フェニル基、ベンジル基、ナフチル基などのアリール基をあげることができ、鎖状アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。置換基がヒドロカルビルオキシ基である置換ヒドロカルビル基としては、メトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基などのアルコキシアルキル基；フェノキシメチル基などのアリールオキシアルキル基をあげることができる。

式（ＩＩａ）におけるトリヒドロカルビルシリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基などのトリアルキルシリル基をあげることができる。

式（ＩＩａ）における窒素原子及び／又は酸素原子をヘテロ原子として有していてもよいヒドロカルビレン基は、ヒドロカルビレン基又はヘテロ原子が窒素原子及び／又は酸素原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基である。ヘテロ原子が窒素原子及び／又は酸素原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基としては、ヘテロ原子が窒素原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基、ヘテロ原子が酸素原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基をあげることができる。ヒドロカルビレン基としては、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基、ドデカメチレン基、２，２，４−トリメチルへキサン−１，６−ジイル基などのアルキレン基；ペンタン−２−エン−１，５−ジイル基などのアルケンジイル基をあげることができる。ヘテロ原子が窒素原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基としては、−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ＝ＣＨ−で表される基、−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−で表される基をあげることができる。ヘテロ原子が酸素原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基としては、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−で表される基をあげることができる。

Ｒ^２２及びＲ^２３はアルキル基であるか、あるいはＲ^２２とＲ^２３とが結合してアルキレン基となっていることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、メチル基又はエチル基であることがさらに好ましい。

式（ＩＩａ）で表される置換アミノ基のうち、Ｒ^２２及びＲ^２３がヒドロカルビル基であるものとして、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ジイソブチルアミノ基、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基などのジアルキルアミノ基；ジフェニルアミノ基などのジアリールアミノ基をあげることができ、ジアルキルアミノ基が好ましく、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基がより好ましい。Ｒ^２２及びＲ^２３が置換基としてヒドロカルビルオキシ基を有する置換ヒドロカルビル基であるものとしては、ジ（メトキシメチル）アミノ基、ジ（エトキシメチル）アミノ基などのジ（アルコキシアルキル）アミノ基をあげることができる。Ｒ^２２及びＲ^２３がトリヒドロカルビルシリル基であるものとしては、ビス（トリメチルシリル）アミノ基、ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）アミノ基、Ｎ−トリメチルシリル−Ｎ−メチルアミノ基などのトリアルキルシリル基含有アミノ基をあげることができる。

式（ＩＩａ）で表される置換アミノ基のうち、Ｒ^２２とＲ^２３とが結合してヒドロカルビレン基となっているものとしては、１−トリメチレンイミノ基、１−ピロリジノ基、１−ピペリジノ基、１−ヘキサメチレンイミノ基、１−ヘプタメチレンイミノ基、１−オクタメチレンイミノ基、１−デカメチレンイミノ基、１−ドデカメチレンイミノ基などの１−アルキレンイミノ基をあげることができる。ヘテロ原子が窒素原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基となっているものとしては、１−イミダゾリル基、４，５−ジヒドロ−１−イミダゾリル基をあげることができる。ヘテロ原子が酸素原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基となっているものとしては、モルホリノ基をあげることができる。

式（ＩＩａ）で表される置換アミノ基としては、ジアルキルアミノ基又は１−アルキレンイミノ基が好ましく、ジアルキルアミノ基がより好ましく、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基がさらに好ましい。

式（ＩＩ）におけるヒドロカルビルオキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基などのアルコキシ基；フェノキシ基、ベンジルオキシ基などのアリールオキシ基をあげることができる。

式（ＩＩ）における置換基を有してもよいヒドロカルビル基は、ヒドロカルビル基又は置換ヒドロカルビル基である。置換ヒドロカルビル基としては、置換基がヒドロカルビルオキシ基である置換ヒドロカルビル基をあげることができる。ヒドロカルビル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基などのアルキル基；フェニル基、４−メチル−１−フェニル基、ベンジル基などのアリール基をあげることができる。置換基がヒドロカルビルオキシ基である置換ヒドロカルビル基としては、メトキシメチル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基などのアルコキシアルキル基をあげることができる。

式（ＩＩ）で表されるケイ素含有ビニル化合物のうち、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３のうちの１つが置換アミノ基であり、ｍが０である化合物としては、
（ジメチルアミノ）ジメチルビニルシラン、（エチルメチルアミノ）ジメチルビニルシラン、（ジ−ｎ−プロピルアミノ）ジメチルビニルシラン、（ジイソプロピルアミノ）ジメチルビニルシラン、（ジメチルアミノ）ジエチルビニルシラン、（エチルメチルアミノ）ジエチルビニルシラン、（ジ−ｎ−プロピルアミノ）ジエチルビニルシラン、（ジイソプロピルアミノ）ジエチルビニルシランなどの（ジアルキルアミノ）ジアルキルビニルシラン；［ビス（トリメチルシリル）アミノ］ジメチルビニルシラン、［ビス（ｔ−ブチルジメチルシリル）アミノ］ジメチルビニルシラン、［ビス（トリメチルシリル）アミノ］ジエチルビニルシラン、［ビス（ｔ−ブチルジメチルシリル）アミノ］ジエチルビニルシランなどの［ビス（トリアルキルシリル）アミノ］ジアルキルビニルシラン；（ジメチルアミノ）ジ（メトキシメチル）ビニルシラン、（ジメチルアミノ）ジ（メトキシエチル）ビニルシラン、（ジメチルアミノ）ジ（エトキシメチル）ビニルシラン、（ジメチルアミノ）ジ（エトキシエチル）ビニルシラン、（ジエチルアミノ）ジ（メトキシメチル）ビニルシラン、（ジエチルアミノ）ジ（メトキシエチル）ビニルシラン、（ジエチルアミノ）ジ（エトキシメチル）ビニルシラン、（ジエチルアミノ）ジ（エトキシエチル）ビニルシランなどの（ジアルキルアミノ）ジ（アルコキシアルキル）ビニルシラン；ピロリジノジメチルビニルシラン、ピペリジノジメチルビニルシラン、ヘキサメチレンイミノジメチルビニルシラン、４，５−ジヒドロイミダゾリルジメチルビニルシラン、モルホリノジメチルビニルシランなどの環状アミノジアルキルビニルシラン化合物をあげることができる。

式（ＩＩ）で表されるケイ素含有ビニル化合物のうち、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３のうちの１つが置換アミノ基であり、ｍが１である化合物としては、
（ジメチルアミノ）ジメチル−４−ビニルフェニルシラン、（ジメチルアミノ）ジメチル−３−ビニルフェニルシラン、（ジエチルアミノ）ジメチル−４−ビニルフェニルシラン、（ジエチルアミノ）ジメチル−３−ビニルフェニルシラン、（ジ−ｎ−プロピルアミノ）ジメチル−４−ビニルフェニルシラン、（ジ−ｎ−プロピルアミノ）ジメチル−３−ビニルフェニルシラン、（ジ−ｎ−ブチルアミノ）ジメチル−４−ビニルフェニルシラン、（ジ−ｎ−ブチルアミノ）ジメチル−３−ビニルフェニルシラン、（ジメチルアミノ）ジエチル−４−ビニルフェニルシラン、（ジメチルアミノ）ジエチル−３−ビニルフェニルシラン、（ジエチルアミノ）ジエチル−４−ビニルフェニルシラン、（ジエチルアミノ）ジエチル−３−ビニルフェニルシラン、（ジ−ｎ−プロピルアミノ）ジエチル−４−ビニルフェニルシラン、（ジ−ｎ−プロピルアミノ）ジエチル−３−ビニルフェニルシラン、（ジ−ｎ−ブチルアミノ）ジエチル−４−ビニルフェニルシラン、（ジ−ｎ−ブチルアミノ）ジエチル−３−ビニルフェニルシランなどの（ジアルキルアミノ）ジアルキルビニルフェニルシランをあげることができる。

式（ＩＩ）で表されるケイ素含有ビニル化合物のうち、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３のうちの２つが置換アミノ基であり、ｍが０である化合物としては、
ビス（ジメチルアミノ）メチルビニルシラン、ビス（ジエチルアミノ）メチルビニルシラン、ビス（ジ−ｎ−プロピルアミノ）メチルビニルシラン、ビス（ジ−ｎ−ブチルアミノ）メチルビニルシラン、ビス（ジメチルアミノ）エチルビニルシラン、ビス（ジエチルアミノ）エチルビニルシラン、ビス（ジ−ｎ−プロピルアミノ）エチルビニルシラン、ビス（ジ−ｎ−ブチルアミノ）エチルビニルシランなどのビス（ジアルキルアミノ）アルキルビニルシラン；ビス［ビス（トリメチルシリル）アミノ］メチルビニルシラン、ビス［ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）アミノ］メチルビニルシラン、ビス［ビス（トリメチルシリル）アミノ］エチルビニルシラン、ビス［ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）アミノ］エチルビニルシランなどのビス［ビス（トリアルキルシリル）アミノ］アルキルビニルシラン；ビス（ジメチルアミノ）メトキシメチルビニルシラン、ビス（ジメチルアミノ）メトキシエチルビニルシラン、ビス（ジメチルアミノ）エトキシメチルビニルシラン、ビス（ジメチルアミノ）エトキシエチルビニルシラン、ビス（ジエチルアミノ）メトキシメチルビニルシラン、ビス（ジエチルアミノ）メトキシエチルビニルシラン、ビス（ジエチルアミノ）エトキシメチルビニルシラン、ビス（ジメチルアミノ）エトキシエチルビニルシランなどのビス（ジアルキルアミノ）アルコキシアルキルシラン；ビス（ピロリジノ）メチルビニルシラン、ビス（ピペリジノ）メチルビニルシラン、ビス（ヘキサメチレンイミノ）メチルビニルシラン、ビス（４，５−ジヒドロイミダゾリル）メチルビニルシラン、ビス（モルホリノ）メチルビニルシランなどのビス（環状アミノ）アルキルビニルシラン化合物をあげることができる。

式（ＩＩ）で表されるケイ素含有ビニル化合物のうち、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３のうちの２つが置換アミノ基であり、ｍが１である化合物としては、
ビス（ジメチルアミノ）メチル−４−ビニルフェニルシラン、ビス（ジメチルアミノ）メチル−３−ビニルフェニルシラン、ビス（ジエチルアミノ）メチル−４−ビニルフェニルシラン、ビス（ジエチルアミノ）メチル−３−ビニルフェニルシラン、ビス（ジ−ｎ−プロピルアミノ）メチル−４−ビニルフェニルシラン、ビス（ジ−ｎ−プロピルアミノ）メチル−３−ビニルフェニルシラン、ビス（ジ−ｎ−ブチルアミノ）メチル−４−ビニルフェニルシラン、ビス（ジ−ｎ−ブチルアミノ）メチル−３−ビニルフェニルシラン、ビス（ジメチルアミノ）エチル−４−ビニルフェニルシラン、ビス（ジメチルアミノ）エチル−３−ビニルフェニルシラン、ビス（ジエチルアミノ）エチル−４−ビニルフェニルシラン、ビス（ジエチルアミノ）エチル−３−ビニルフェニルシラン、ビス（ジ−ｎ−プロピルアミノ）エチル−４−ビニルフェニルシラン、ビス（ジ−ｎ−プロピルアミノ）エチル−３−ビニルフェニルシラン、ビス（ジ−ｎ−ブチルアミノ）エチル−４−ビニルフェニルシラン、ビス（ジ−ｎ−ブチルアミノ）エチル−３−ビニルフェニルシランなどのビス（ジアルキルアミノ）アルキルビニルフェニルシランをあげることができる。

式（ＩＩ）で表されるケイ素含有ビニル化合物のうち、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３のうちの３つが置換アミノ基であり、ｍが０である化合物としては、
トリス（ジメチルアミノ）ビニルシラン、トリス（ジエチルアミノ）ビニルシラン、トリス（ジ−ｎ−プロピルアミノ）ビニルシラン、トリス（ジ−ｎ−ブチルアミノ）ビニルシランなどのトリス（ジアルキルアミノ）ビニルシランをあげることができる。

式（ＩＩ）で表されるケイ素含有ビニル化合物のうち、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３のうちの３つが置換アミノ基であり、ｍが１である化合物としては、
トリス（ジメチルアミノ）−４−ビニルフェニルシラン、トリス（ジメチルアミノ）−３−ビニルフェニルシラン、トリス（ジエチルアミノ）−４−ビニルフェニルシラン、トリス（ジエチルアミノ）−３−ビニルフェニルシラン、トリス（ジ−ｎ−プロピルアミノ）−４−ビニルフェニルシラン、トリス（ジ−ｎ−プロピルアミノ）−３−ビニルフェニルシラン、トリス（ジ−ｎ−ブチルアミノ）−４−ビニルフェニルシラン、トリス（ジ−ｎ−ブチルアミノ）−３−ビニルフェニルシランなどのトリス（ジアルキルアミノ）ビニルフェニルシランをあげることができる。

式（ＩＩ）で表されるケイ素含有ビニル化合物のうち、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３が置換アミノ基ではなく、ｍが０である化合物としては、
トリメトキシビニルシラン、トリエトキシビニルシラン、トリプロポキシビニルシランなどのトリアルコキシビニルシラン；メチルジメトキシビニルシラン、メチルジエトキシビニルシランなどのジアルコキシアルキルビニルシラン；ジ（ｔｅｒｔ−ペントキシ）フェニルビニルシラン、ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシ）フェニルビニルシランなどのジアルコキシアリールビニルシラン；ジメチルメトキシビニルシランなどのモノアルコキシジアルキルビニルシラン；ｔｅｒｔ−ブトキシジフェニルビニルシラン、ｔｅｒｔ−ペントキシジフェニルビニルシランなどのモノアルコキシジアリールビニルシラン；ｔｅｒｔ−ブトキシメチルフェニルビニルシラン、ｔｅｒｔ−ブトキシエチルフェニルビニルシランなどのモノアルコキシアルキルアリールビニルシラン；トリス（β−メトキシエトキシ）ビニルシランなどの置換アルコキシビニルシラン化合物をあげることができる。

さらに、ケイ素含有ビニル化合物としては、４−Ｎ，Ｎ−ビス（トリメチルシリル）アミノスチレン、３−Ｎ，Ｎ−ビス（トリメチルシリル）アミノスチレンなどのビス（トリアルキルシリル）アミノスチレン；４−ビス（トリメチルシリル）アミノメチルスチレン、３−ビス（トリメチルシリル）アミノメチルスチレン、４−ビス（トリメチルシリル）アミノエチルスチレン、３−ビス（トリメチルシリル）アミノエチルスチレンなどのビス（トリアルキルシリル）アミノアルキルスチレンをあげることができる。

ケイ素含有ビニル化合物は、式（ＩＩ）で表される化合物が好ましく、式（ＩＩ）中のｍが０である化合物がより好ましく、式（ＩＩ）中のＸ^１、Ｘ^２及びＸ^３のうち２つがジアルキルアミノ基である化合物がさらに好ましい。

ケイ素含有ビニル化合物として特に好ましい化合物は、ビス（ジメチルアミノ）メチルビニルシラン、ビス（ジエチルアミノ）メチルビニルシラン、ビス（ジ−ｎ−ブチルアミノ）メチルビニルシランである。

上記変性ＳＢＲの製造において、ケイ素含有ビニル化合物の使用量は、重合で使用した単量体成分の総使用量を１００質量％として、加工性、低燃費性、ゴム強度、ウェットグリップ性能及び操縦安定性をバランス良く高めるために、好ましくは０．０１質量％以上であり、より好ましくは０．０２質量％以上であり、さらに好ましくは０．０５質量％以上である。経済性を高めるために、また、ゴム強度を大きくするために、好ましくは２０質量％以下であり、より好ましくは２質量％以下であり、さらに好ましくは１質量％以下である。

上記変性ＳＢＲの製造においては、単量体成分として、スチレン、１，３−ブタジエン、ケイ素含有ビニル化合物に加え、さらに、重合可能な単量体を用いてもよい。該単量体としては、ビニルニトリル、不飽和カルボン酸エステルなどがあげられる。ビニルニトリルとしては、アクリロニトリルなどを、不飽和カルボン酸エステルとしては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸エチルなどを例示することができる。

上記変性ＳＢＲの製造においては、重合は炭化水素溶媒中で行うことが好ましい。炭化水素溶媒は式（Ｉ）の重合開始剤を失活させない溶媒であり、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、脂環族炭化水素などをあげることができる。脂肪族炭化水素としては、プロパン、ｎ−ブタン、ｉｓｏ−ブタン、ｎ−ペンタン、ｉｓｏ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタンなどをあげることができる。芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼンをあげることができる。脂環族炭化水素としては、シクロペンタン、シクロヘキサンなどをあげることができる。炭化水素溶媒は、工業用ヘキサンのような各種成分の混合物であってもよい。好ましくは、炭素原子数が２〜１２の炭化水素である。

重合反応は、１，３−ブタジエン単位のビニル結合量を調整する剤、変性ＳＢＲ鎖中での１，３−ブタジエン単位と１，３−ブタジエン以外の単量体に基づく単量体単位の分布を調整する剤（以下、総称して「調整剤」と記す）の存在下で行ってもよい。このような剤としては、エーテル化合物、第三級アミン化合物、ホスフィン化合物などをあげることができる。該エーテル化合物としては、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，４−ジオキサンなど環状のエーテル；ジエチルエーテル、ジブチルエーテルなどの脂肪族モノエーテル；エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルなどの脂肪族ジエーテル；ジフェニルエーテル、アニソールなどの芳香族エーテルなどがあげられる。該第三級アミン化合物として、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、ピリジン、キノリンなどをあげることができる。また、該ホスフィン化合物として、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリフェニルホスフィンなどをあげることができる。これらは１種類以上用いられる。

上記変性ＳＢＲの製造においては、重合反応器に単量体成分を供給する前に重合開始剤を重合反応器に供給してもよく、重合に使用する単量体成分全量を重合反応器に供給した後に重合開始剤を重合反応器に供給してもよく、重合に使用する単量体成分の一部を重合反応器に供給した後に重合開始剤を重合反応器に供給してもよい。また、重合開始剤を、重合反応器に一時に供給してもよく、連続的に供給してもよい。

上記変性ＳＢＲの製造においては、単量体成分を、重合反応器に一時に供給してもよく、連続的に供給してもよく、間欠的に供給してもよい。また、各単量体を、重合反応器に別々に供給してもよく、同時に供給してもよい。

上記変性ＳＢＲの製造における重合温度は、通常２５〜１００℃であり、好ましくは３５〜９０℃、より好ましくは５０〜８０℃である。重合時間は、通常１０分〜５時間である。

上記変性ＳＢＲは、式（Ｉ）で表される重合開始剤を用いてスチレン、１，３−ブタジエン及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させて得られる共重合体の活性末端（共重合体の活性末端には、当該重合開始剤由来のアルカリ金属を有すると考えられる）に、窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物を反応させて得られる（末端変性反応）。具体的には、窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物を重合溶液に添加し、混合することにより行われる。重合溶液に添加する窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物の量は、使用する式（Ｉ）で表される重合開始剤に由来するアルカリ金属１ｍｏｌあたり、通常、０．１〜３ｍｏｌであり、好ましくは、０．５〜２ｍｏｌであり、より好ましくは、０．７〜１．５ｍｏｌである。

上記末端変性反応の反応温度は、通常、２５〜１００℃であり、好ましくは３５〜９０℃であり、より好ましくは５０〜８０℃である。また、末端反応の反応時間は、通常、６０秒〜５時間であり、好ましくは５分〜１時間、より好ましくは１５分〜１時間である。

窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物のうち好ましいものとして、窒素原子及びカルボニル基を含有する化合物をあげることができる。

窒素原子及びカルボニル基を含有する化合物としては、下記式（ＩＩＩ）で表される化合物が好ましい。

（式（ＩＩＩ）中、Ｒ^３１は置換基を有してもよいヒドロカルビル基、Ｒ^３２と結合して窒素原子及び／又は酸素原子をヘテロ原子として有していてもよいヒドロカルビレン基、あるいは、Ｒ^３４と結合して２価基を表し、Ｒ^３２は置換基を有してもよいヒドロカルビル基、あるいは、Ｒ^３１と結合して窒素原子及び／又は酸素原子をヘテロ原子として有していてもよいヒドロカルビレン基を表し、Ｒ^３４は置換基を有してもよいヒドロカルビル基、水素原子、あるいは、Ｒ^３１と結合して２価基を表す。また、Ｒ^３３は２価基を表し、ｋは０又は１を表す）

式（ＩＩＩ）において、Ｒ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３４の置換基を有してもよいヒドロカルビル基は、ヒドロカルビル基又は置換ヒドロカルビル基である。置換ヒドロカルビル基としては、置換基がヒドロカルビルオキシ基である置換ヒドロカルビル基、置換基が置換アミノ基である置換ヒドロカルビル基をあげることができる。ヒドロカルビル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基などのアルキル基；ビニル基、アリル基、イソプロペニル基などのアルケニル基；フェニル基などのアリール基をあげることができる。置換基がヒドロカルビルオキシ基である置換ヒドロカルビル基としては、メトキシメチル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基などのアルコキシアルキル基をあげることができる。置換基が置換アミノ基である置換ヒドロカルビル基としては、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル基、２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチル基、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピル基、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）プロピル基などの（Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ）アルキル基；４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）フェニル基、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）フェニル基、４−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）フェニル基、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）フェニル基などの（Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ）アリール基；４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）メチルフェニル基、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチルフェニル基などの（Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ）アルキルアリール基；３−ピロリジノプロピル基、３−ピペリジノプロピル基、３−イミダゾリルプロピル基などの環状アミノ基含有アルキル基；４−ピロリジノフェニル基、４−ピペリジノフェニル基、４−イミダゾリルフェニル基などの環状アミノ基含有アリール基；４−ピロリジノエチルフェニル基、４−ピペリジノエチルフェニル基、４−イミダゾリルエチルフェニル基などの環状アミノ基含有アルキルアリール基をあげることができる。

式（ＩＩＩ）において、Ｒ^３１とＲ^３２とが結合した窒素原子及び／又は酸素原子をヘテロ原子として有していてもよいヒドロカルビレン基は、ヒドロカルビレン基、又はヘテロ原子が窒素原子及び／又は酸素原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基である。ヘテロ原子が窒素原子及び／又は酸素原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基としては、ヘテロ原子が窒素原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基、ヘテロ原子が酸素原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基をあげることができる。ヒドロカルビレン基としては、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ペンタン−２−エン−１，５−ジイル基、２，２，４−トリメチルへキサン−１，６−ジイル基などのアルキレン基；１，４−フェニレン基などのアリーレン基をあげることができる。ヘテロ原子が窒素原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基としては、−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ＝ＣＨ−で表される基、−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−で表される基をあげることができる。ヘテロ原子が酸素原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基としては、−（ＣＨ_２）_ｓ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ−で表される基（ｓ、ｔは１以上の整数）をあげることができる。

式（ＩＩＩ）において、Ｒ^３１とＲ^３４とが結合した２価基、及びＲ^３３の２価基としては、ヒドロカルビレン基、ヘテロ原子が窒素原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基、ヘテロ原子が酸素原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基、ヒドロカルビレン基と酸素原子とが結合した基、ヒドロカルビレン基と−ＮＲ^３５−で表される基（Ｒ^３５はヒドロカルビル基又は水素原子を表す）とが結合した基をあげることができる。ヒドロカルビレン基としては、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ペンタン−２−エン−１，５−ジイル基、２，２，４−トリメチルへキサン−１，６−ジイル基などのアルキレン基；１，４−フェニレン基などのアリーレン基をあげることができる。ヘテロ原子が窒素原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基としては、−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ＝ＣＨ−で表される基、−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−で表される基をあげることができる。ヘテロ原子が酸素原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基としては、−（ＣＨ_２）_ｓ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ−で表される基（ｓ、ｔは１以上の整数）をあげることができる。ヒドロカルビレン基と酸素原子とが結合した基としては、−（ＣＨ_２）_ｒ−Ｏ−で表される基（ｒは１以上の整数を表す）をあげることができる。ヒドロカルビレン基と−ＮＲ^３５−で表される基（Ｒ^３５はヒドロカルビル基又は水素原子を表す）とが結合した基としては、−（ＣＨ_２）_ｐ−ＮＲ^３５−で表される基（Ｒ^３５はヒドロカルビル基（好ましくは炭素原子数１〜６のヒドロカルビル基）、又は水素原子を表し、ｐは１以上の整数を表す）をあげることができる。

式（ＩＩＩ）で表される好ましい化合物として、ｋが０であり、Ｒ^３４が置換基を有してもよいヒドロカルビル基又は水素原子である下記式（ＩＩＩａ）で表される化合物をあげることができる。

（式（ＩＩＩａ）中、Ｒ^３１は置換基を有してもよいヒドロカルビル基を表すか、Ｒ^３２と結合して窒素原子及び／又は酸素原子をヘテロ原子として有していてもよいヒドロカルビレン基を表し、Ｒ^３２は置換基を有してもよいヒドロカルビル基を表すか、Ｒ^３１と結合して窒素原子及び／又は酸素原子をヘテロ原子として有していてもよいヒドロカルビレン基を表し、Ｒ^３４は置換基を有してもよいヒドロカルビル基又は水素原子を表す）

式（ＩＩＩａ）において、Ｒ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３４の置換基を有してもよいヒドロカルビル基、Ｒ^３１とＲ^３２とが結合した窒素原子及び／又は酸素原子をヘテロ原子として有していてもよいヒドロカルビレン基の説明及び例示は、式（ＩＩＩ）の説明において述べたものと同じである。

式（ＩＩＩａ）において、Ｒ^３１は、好ましくは炭素原子数１〜１０のヒドロカルビル基であるか、Ｒ^３２と結合して炭素原子数３〜１０のヒドロカルビレン基又はヘテロ原子が窒素原子である炭素原子数３〜１０のヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基である。より好ましくは、炭素原子数１〜１０のアルキル基又は炭素原子数６〜１０のアリール基であるか、Ｒ^３２と結合して炭素原子数３〜１０のアルキレン基、−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ＝ＣＨ−で表される基又は−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−で表される基である。さらに好ましくは、炭素原子数１〜６のアルキル基である。特に好ましくは、メチル基又はエチル基である。

式（ＩＩＩａ）において、Ｒ^３２は、好ましくは炭素原子数１〜１０のヒドロカルビル基であるか、Ｒ^３１と結合して炭素原子数３〜１０のヒドロカルビレン基又はヘテロ原子が窒素原子である炭素原子数３〜１０のヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基である。より好ましくは、炭素原子数１〜１０のアルキル基又は炭素原子数６〜１０のアリール基であるか、Ｒ^３１と結合して炭素原子数３〜１０のアルキレン基、−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ＝ＣＨ−で表される基又は−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−で表される基である。さらに好ましくは、炭素原子数１〜６のアルキル基である。特に好ましくは、メチル基又はエチル基である。

式（ＩＩＩａ）において、Ｒ^３４は好ましくはヒドロカルビル基又は水素原子であり、より好ましくは炭素原子数１〜１０のヒドロカルビル基又は水素原子であり、さらに好ましくは炭素原子数１〜６のアルキル基又は水素原子であり、特に好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基である。

式（ＩＩＩａ）により表される化合物のうち、Ｒ^３４がヒドロカルビル基であるものとしては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアセトアミドなどのＮ，Ｎ−ジヒドロカルビルアセトアミド；Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアクリルアミドなどのＮ，Ｎ−ジヒドロカルビルアクリルアミド；Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルメタクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルメタクリルアミドなどのＮ，Ｎ−ジヒドロカルビルメタクリルアミドをあげることができる。

式（ＩＩＩａ）により表される化合物のうち、Ｒ^３４が水素原子であるものとしては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルホルムアミドなどのＮ，Ｎ−ジヒドロカルビルホルムアミドをあげることができる。

式（ＩＩＩ）で表される好ましい化合物として、ｋが０であり、Ｒ^３４がＲ^３１と結合して２価基となっている下記式（ＩＩＩｂ）で表される化合物をあげることができる。

（式（ＩＩＩｂ）中、Ｒ^３２は置換基を有してもよいヒドロカルビル基を表し、Ｒ^３６はヒドロカルビレン基又はヒドロカルビレン基と−ＮＲ^３５−で表される基とが結合した基を表し、Ｒ^３５はヒドロカルビル基又は水素原子を表す）

式（ＩＩＩｂ）において、Ｒ^３２の置換基を有してもよいヒドロカルビル基の説明及び例示は、式（ＩＩＩ）の説明において述べたものと同じである。

式（ＩＩＩｂ）において、Ｒ^３６のヒドロカルビレン基としては、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ペンタン−２−エン−１，５−ジイル基、２，２，４−トリメチルへキサン−１，６−ジイル基などのアルキレン基；１，４−フェニレン基などのアリーレン基をあげることができる。Ｒ^３６の、ヒドロカルビレン基と−ＮＲ^３５−で表される基（Ｒ^３５はヒドロカルビル基又は水素原子を表す）とが結合した基としては、−（ＣＨ_２）_ｐ−ＮＲ^３５−で表される基（Ｒ^３５はヒドロカルビル基又は水素原子を表し、ｐは１以上の整数を表す）をあげることができる。

式（ＩＩＩｂ）において、Ｒ^３２は好ましくは炭素原子数１〜１０のヒドロカルビル基であり、より好ましくは炭素原子数１〜１０のアルキル基又は炭素原子数６〜１０のアリール基であり、さらに好ましくは炭素原子数１〜６のアルキル基、又はフェニル基であり、特に好ましくはメチル基、エチル基、フェニル基である。

式（ＩＩＩｂ）において、Ｒ^３６は好ましくは炭素原子数１〜１０のヒドロカルビレン基、又は、炭素原子数１〜１０のヒドロカルビレン基と−ＮＲ^３５−で表される基（Ｒ^３５はヒドロカルビル基（好ましくは炭素原子数１〜１０のヒドロカルビル基）又は水素原子を表す）とが結合した基であり、より好ましくは炭素原子数３〜６のアルキレン基又は−（ＣＨ_２）_ｐ−ＮＲ^３５−で表される基（Ｒ^３５はヒドロカルビル基（好ましくは炭素原子数１〜１０のヒドロカルビル基）を表し、ｐは１以上の整数（好ましくは２〜５の整数）を表す）であり、さらに好ましくはトリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、又は−（ＣＨ_２）_２−Ｎ（ＣＨ_３）−で表される基である。

式（ＩＩＩｂ）で表される化合物のうち、Ｒ^３６がヒドロカルビレン基であるものとしては、Ｎ−メチル−β−プロピオラクタム、Ｎ−フェニル−β−プロピオラクタムなどのＮ−ヒドロカルビル−β−プロピオラクタム；Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、Ｎ−フェニル−２−ピロリドン、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチル−５−メチル−２−ピロリドンなどのＮ−ヒドロカルビル−２−ピロリドン；Ｎ−メチル−２−ピペリドン、Ｎ−ビニル−２−ピペリドン、Ｎ−フェニル−２−ピペリドンなどのＮ−ヒドロカルビル−２−ピペリドン；Ｎ−メチル−ε−カプロラクタム、Ｎ−フェニル−ε−カプロラクタムなどのＮ−ヒドロカルビル−ε−カプロラクタム；Ｎ−メチル−ω−ラウリロラクタム、Ｎ−ビニル−ω−ラウリロラクタムなどのＮ−ヒドロカルビル−ω−ラウリロラクタムをあげることができ、中でもＮ−フェニル−２−ピロリドン、Ｎ−メチル−ε−カプロラクタムが好ましい。

式（ＩＩＩｂ）で表される化合物のうち、Ｒ^３６がヒドロカルビレン基と−ＮＲ^３５−で表される基（Ｒ^３５はヒドロカルビル基又は水素原子を表す）とが結合した基である化合物としては、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、１，３−ジエチル−２−イミダゾリジノン、１，３−ジビニル−２−イミダゾリジノン、１−メチル−３−エチル−２−イミダゾリジノンなどの１，３−ジヒドロカルビル−２−イミダゾリジノンをあげることができ、中でも１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンが好ましい。

式（ＩＩＩ）で表される好ましい化合物として、ｋが１であり、Ｒ^３３がヒドロカルビレン基である下記式（ＩＩＩｃ）で表される化合物をあげることができる。

（式（ＩＩＩｃ）中、Ｒ^３１は置換基を有してもよいヒドロカルビル基を表すか、あるいはＲ^３２と結合して窒素原子及び／又は酸素原子をヘテロ原子として有していてもよいヒドロカルビレン基を表し、Ｒ^３２は置換基を有してもよいヒドロカルビル基を表すか、あるいはＲ^３１と結合して窒素原子及び／又は酸素原子をヘテロ原子として有していてもよいヒドロカルビレン基を表し、Ｒ^３３はヒドロカルビレン基を表し、Ｒ^３４は置換基を有してもよいヒドロカルビル基又は水素原子を表す）

式（ＩＩＩｃ）において、Ｒ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３４の置換基を有してもよいヒドロカルビル基、Ｒ^３１とＲ^３２とが結合した窒素原子及び／又は酸素原子をヘテロ原子として有していてもよいヒドロカルビレン基、Ｒ^３３のヒドロカルビレン基の説明及び例示は、式（ＩＩＩ）の説明において述べたものと同じである。

式（ＩＩＩｃ）において、Ｒ^３３は好ましくは炭素原子数１〜１０のヒドロカルビレン基であり、より好ましくは炭素原子数１〜１０のアルキレン基又は炭素原子数６〜１０のアリーレン基であり、さらに好ましくは炭素原子数１〜６のアルキレン基又はフェニレン基であり、特に好ましくはエチレン基、トリメチレン基、１，４−フェニレン基である。

式（ＩＩＩｃ）において、Ｒ^３４は好ましくは炭素原子数１〜１０のヒドロカルビル基、又は置換基がジアルキルアミノ基である炭素原子数１〜１０の置換ヒドロカルビル基であり、より好ましくは炭素原子数１〜６のアルキル基若しくは炭素原子数６〜１０のアリール基、又は炭素原子数１〜６のジアルキルアミノアルキル基若しくは炭素原子数６〜１０のジアルキルアミノアリール基であり、さらに好ましくはメチル基、エチル基、フェニル基、３−ジメチルアミノエチル基、４−ジエチルアミノフェニル基である。

式（ＩＩＩｃ）において、Ｒ^３１は好ましくは炭素原子数１〜１０のヒドロカルビル基であるか、Ｒ^３２と結合して炭素原子数３〜１０のヒドロカルビレン基、又はヘテロ原子が窒素原子若しくは酸素原子である炭素原子数３〜１０のヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基であり、より好ましくは炭素原子数１〜１０のアルキル基又は炭素原子数６〜１０のアリール基であるか、Ｒ^３２と結合して炭素原子数３〜１０のアルキレン基、−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ＝ＣＨ−で表される基、−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−で表される基、−（ＣＨ_２）_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_２−で表される基であり、さらに好ましくは炭素原子数１〜６のアルキル基であるか、Ｒ^３２と結合して炭素原子数３〜６のアルキレン基、−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ＝ＣＨ−で表される基、−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−で表される基であり、特に好ましくはメチル基、エチル基であるか、Ｒ^３２と結合してテトラメチレン基、ヘキサメチレン基、−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ＝ＣＨ−で表される基である。

式（ＩＩＩｃ）において、Ｒ^３２は好ましくは炭素原子数１〜１０のヒドロカルビル基であるか、Ｒ^３１と結合して炭素原子数３〜１０のヒドロカルビレン基、又はヘテロ原子が窒素原子若しくは酸素原子である炭素原子数３〜１０のヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基であり、より好ましくは炭素原子数１〜１０のアルキル基又は炭素原子数６〜１０のアリール基であるか、Ｒ^３１と結合して炭素原子数３〜１０のアルキレン基、−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ＝ＣＨ−で表される基、−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−で表される基、−（ＣＨ_２）_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_２−で表される基であり、さらに好ましくは炭素原子数１〜６のアルキル基であるか、Ｒ^３１と結合して炭素原子数３〜６のアルキレン基、−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ＝ＣＨ−で表される基、−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−で表される基であり、特に好ましくはメチル基、エチル基であるか、Ｒ^３１と結合してテトラメチレン基、ヘキサメチレン基、−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ＝ＣＨ−で表される基である。

式（ＩＩＩｃ）で表される化合物のうち、Ｒ^３４がヒドロカルビル基である化合物としては、
４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）アセトフェノン、４−Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノアセトフェノン、４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノアセトフェノンなどの４−Ｎ，Ｎ−ジヒドロカルビルアミノアセトフェノン；４’−（イミダゾール−１−イル）アセトフェノン、４−ピラゾリルアセトフェノンなどの４−環状アミノアセトフェノン化合物などをあげることができ、中でも４−環状アミノアセトフェノン化合物が好ましく、４’−（イミダゾール−１−イル）アセトフェノンがより好ましい。

式（ＩＩＩｃ）で表される化合物のうち、Ｒ^３４が置換ヒドロカルビル基である化合物としては、
１，７−ビス（メチルエチルアミノ）−４−ヘプタノン、１，３−ビス（ジフェニルアミノ）−２−プロパノンなどのビス（ジヒドロカルビルアミノアルキル）ケトン；４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンゾフェノン、４−Ｎ，Ｎ−ジ−ｔ−ブチルアミノベンゾフェノン、４−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノベンゾフェノンなどの４−（ジヒドロカルビルアミノ）ベンゾフェノン；４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジフェニルアミノ）ベンゾフェノンなどの４，４’−ビス（ジヒドロカルビルアミノ）ベンゾフェノンをあげることができ、中でも４，４’−ビス（ジヒドロカルビルアミノ）ベンゾフェノンが好ましく、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンがより好ましい。

式（ＩＩＩ）で表される好ましい化合物として、ｋが１であり、Ｒ^３３がヒドロカルビレン基と酸素原子とが結合した基、又はヒドロカルビレン基と−ＮＲ^３５−で表される基（Ｒ^３５はヒドロカルビル基又は水素原子を表す）とが結合した基である下記式（ＩＩＩｄ）で表される化合物をあげることができる。

（式（ＩＩＩｄ）中、Ｒ^３１は置換基を有してもよいヒドロカルビル基を表すか、あるいはＲ^３２と結合して窒素原子及び／又は酸素原子をヘテロ原子として有していてもよいヒドロカルビレン基を表し、Ｒ^３２は置換基を有してもよいヒドロカルビル基を表すか、あるいはＲ^３１と結合して窒素原子及び／又は酸素原子をヘテロ原子として有していてもよいヒドロカルビレン基を表し、Ｒ^３７はヒドロカルビレン基を表し、Ａは酸素原子又は−ＮＲ^３５−を表し、Ｒ^３５はヒドロカルビル基又は水素原子を表し、Ｒ^３４は置換基を有してもよいヒドロカルビル基又は水素原子を表す）

式（ＩＩＩｄ）において、Ｒ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３４の置換基を有してもよいヒドロカルビル基、Ｒ^３１とＲ^３２とが結合した窒素原子及び／又は酸素原子をヘテロ原子として有していてもよいヒドロカルビレン基の説明及び例示は、式（ＩＩＩ）の説明において述べたものと同じである。また、Ｒ^３５のヒドロカルビル基は、Ｒ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３４のヒドロカルビル基で述べたものと同じである。

式（ＩＩＩｄ）において、Ａは好ましくは酸素原子又は−ＮＲ^３５−（Ｒ^３５はヒドロカルビル基（好ましくは炭素原子数１〜５のヒドロカルビル基）又は水素原子である）で表される基であり、より好ましくは酸素原子又は−ＮＨ−で表される基であり、さらに好ましくは−ＮＨ−で表される基である。

式（ＩＩＩｄ）において、Ｒ^３７のヒドロカルビレン基としては、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ペンタン−２−エン−１，５−ジイル基、２，２，４−トリメチルへキサン−１，６−ジイル基などのアルキレン基；１，４−フェニレン基などのアリーレン基をあげることができる。

式（ＩＩＩｄ）において、Ｒ^３４は好ましくは炭素原子数１〜１０のヒドロカルビル基であり、より好ましくは炭素原子数２〜５のアルケニル基であり、さらに好ましくはビニル基である。

式（ＩＩＩｄ）において、Ｒ^３７は好ましくは炭素原子数１〜１０のヒドロカルビレン基であり、より好ましくは炭素原子数１〜６のアルキレン基であり、さらに好ましくはエチレン基又はトリメチレン基であり、特に好ましくはトリメチレン基である。

式（ＩＩＩｄ）において、Ｒ^３１は好ましくは炭素原子数１〜１０のヒドロカルビル基であるか、Ｒ^３２と結合して炭素原子数３〜１０のヒドロカルビレン基、又はヘテロ原子が窒素原子若しくは酸素原子である炭素原子数３〜１０のヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基であり、より好ましくは炭素原子数１〜１０のアルキル基又は炭素原子数６〜１０のアリール基であるか、Ｒ^３２と結合して炭素原子数３〜１０のアルキレン基、−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ＝ＣＨ−で表される基、−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−で表される基、−（ＣＨ_２）_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_２−で表される基であり、さらに好ましくは炭素原子数１〜６のアルキル基であるか、Ｒ^３２と結合して炭素原子数３〜６のアルキレン基、−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ＝ＣＨ−で表される基、−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−で表される基であり、特に好ましくはメチル基、エチル基であるか、Ｒ^３２と結合してテトラメチレン基、ヘキサメチレン基、−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ＝ＣＨ−で表される基である。

式（ＩＩＩｄ）において、Ｒ^３２は好ましくは炭素原子数１〜１０のヒドロカルビル基であるか、Ｒ^３１と結合して炭素原子数３〜１０のヒドロカルビレン基、又はヘテロ原子が窒素原子若しくは酸素原子である炭素原子数３〜１０のヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基であり、より好ましくは炭素原子数１〜１０のアルキル基又は炭素原子数６〜１０のアリール基であるか、Ｒ^３１と結合して炭素原子数３〜１０のアルキレン基、−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ＝ＣＨ−で表される基、−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−で表される基、−（ＣＨ_２）_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_２−で表される基であり、さらに好ましくは炭素原子数１〜６のアルキル基であるか、Ｒ^３１と結合して炭素原子数３〜６のアルキレン基、−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ＝ＣＨ−で表される基、−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−で表される基であり、特に好ましくはメチル基、エチル基であるか、Ｒ^３１と結合してテトラメチレン基、ヘキサメチレン基、−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ＝ＣＨ−で表される基である。

式（ＩＩＩｄ）で表される化合物のうち、Ａが酸素原子である化合物としては、
２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、２−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレートなどの２−Ｎ，Ｎ−ジヒドロカルビルアミノエチルアクリレート；３−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリレートなどの３−Ｎ，Ｎ−ジヒドロカルビルアミノプロピルアクリレート；２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、２−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリレートなどの２−Ｎ，Ｎ−ジヒドロカルビルアミノエチルメタクリレート；３−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルメタクリレートなどの３−Ｎ，Ｎ−ジヒドロカルビルアミノプロピルメタクリレートをあげることができ、３−Ｎ，Ｎ−ジヒドロカルビルアミノプロピルアクリレートが好ましく、３−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリレートがより好ましい。

式（ＩＩＩｄ）で表される化合物のうち、Ａが−ＮＲ^３５−（Ｒ^３５はヒドロカルビル基又は水素原子を表す）で表される基である化合物としては、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリルアミドなどのＮ、Ｎ−ジヒドロカルビルアミノエチルアクリルアミド；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピルアクリルアミドなどのＮ，Ｎ−ジヒドロカルビルアミノプロピルアクリルアミド；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノブチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノブチルアクリルアミドなどのＮ，Ｎ−ジヒドロカルビルアミノブチルアクリルアミド；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリルアミドなどのＮ、Ｎ−ジヒドロカルビルアミノエチルメタクリルアミド；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピルメタクリルアミドなどのＮ，Ｎ−ジヒドロカルビルアミノプロピルメタクリルアミド；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノブチルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノブチルメタクリルアミドなどのＮ，Ｎ−ジヒドロカルビルアミノブチルメタクリルアミドをあげることができ、Ｎ，Ｎ−ジヒドロカルビルアミノプロピルアクリルアミドが好ましく、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミドがより好ましい。

式（ＩＩＩ）で表される化合物として好ましい化合物は式（ＩＩＩｄ）で表される化合物であり、中でもＮ，Ｎ−ジヒドロカルビルアミノプロピルアクリルアミドが特に好ましく、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミドが最も好ましい。

上記のほか、窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物のうち好ましいものとして、アルコキシシリル基を含有する化合物をあげることもできる。

アルコキシシリル基を含有する化合物としては、窒素原子及びアルコキシシリル基を含有する化合物が好ましく、下記式（ＩＶ）で表される化合物がより好ましい。

（式（ＩＶ）中、Ｒ^４１はヒドロカルビル基を表し、Ｒ^４２、Ｒ^４３はヒドロカルビル基又はヒドロカルビルオキシ基を表し、Ｒ^４４は置換基を有してもよいヒドロカルビル基又はトリヒドロカルビルシリル基を表すか、あるいはＲ^４５と結合して、ケイ素原子、窒素原子及び酸素原子からなる原子群より選択される少なくとも一種の原子をヘテロ原子として有してもよいヒドロカルビレン基を表し、Ｒ^４５は置換基を有してもよいヒドロカルビル基又はトリヒドロカルビルシリル基を表すか、あるいはＲ^４４と結合して、ケイ素原子、窒素原子及び酸素原子からなる原子群より選択される少なくとも一種の原子をヘテロ原子として有してもよいヒドロカルビレン基を表し、ｊは１〜５の整数を表す）

上記式（ＩＶ）において、置換基を有してもよいヒドロカルビル基は、ヒドロカルビル基又は置換ヒドロカルビル基である。ヒドロカルビル基としてはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基などのアルキル基；ビニル基、アリル基、イソプロペニル基などのアルケニル基；フェニル基などのアリール基をあげることができ、好ましくはアルキル基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基である。置換ヒドロカルビル基としては、オキシラニル基、テトラヒドロフラニル基などのオキサシクロアルキル基をあげることができ、好ましくはテトラヒドロフラニル基である。

本明細書において、オキサシクロアルキル基は、シクロアルキル基の脂環上のＣＨ_２が酸素原子に置き換わった基を表す。

ヒドロカルビルオキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基などのアルコキシ基；フェノキシ基、ベンジルオキシ基などのアリールオキシ基をあげることができ、好ましくはアルコキシ基であり、より好ましくはメトキシ基又はエトキシ基である。

トリヒドロカルビルシリル基としては、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチル−ジメチルシリル基をあげることができ、好ましくはトリメチルシリル基である。

ケイ素原子、窒素原子及び酸素原子からなる原子群より選択される少なくとも一種の原子をヘテロ原子として有していてもよいヒドロカルビレン基は、ヒドロカルビレン基、又はヘテロ原子がケイ素原子、窒素原子及び酸素原子からなる原子群より選択される少なくとも一種の原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基である。ヘテロ原子がケイ素原子、窒素原子及び酸素原子からなる原子群より選択される少なくとも一種の原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基としては、ヘテロ原子がケイ素原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基、ヘテロ原子が窒素原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基、ヘテロ原子が酸素原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基をあげることができる。ヒドロカルビレン基としては、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ペンタン−２−エン−１，５−ジイル基、２，２，４−トリメチルへキサン−１，６−ジイル基などのアルキレン基をあげることができ、中でも炭素原子数４〜７のアルキレン基が好ましく、ペンタメチレン基又はヘキサメチレン基が特に好ましい。ヘテロ原子がケイ素原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基としては、−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−で表される基をあげることができる。ヘテロ原子が窒素原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基としては、−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ＝ＣＨ−で表される基、又は−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−で表される基をあげることができる。ヘテロ原子が酸素原子であるヘテロ原子含有ヒドロカルビレン基、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−で表される基をあげることができる。

上記式（ＩＶ）において、Ｒ^４１は好ましくは炭素原子数１〜４のアルキル基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基である。Ｒ^４２、Ｒ^４３は好ましくはヒドロカルビルオキシ基であり、より好ましくは炭素原子数１〜４のアルコキシ基であり、さらに好ましくはメトキシ基又はエトキシ基である。Ｒ^４４、Ｒ^４５は好ましくはヒドロカルビル基であり、より好ましくは炭素原子数１〜４のアルキル基であり、さらに好ましくはメチル基又はエチル基である。また、ｊは好ましくは２〜４の整数である。

上記式（ＩＶ）で表される化合物としては、３−ジメチルアミノプロピルトリエトキシシラン、３−ジメチルアミノプロピルトリメトキシシラン、３−ジエチルアミノプロピルトリエトキシシラン、３−ジエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、３−ジメチルアミノプロピルメチルジエトキシシラン、２−ジメチルアミノエチルトリエトキシシラン、２−ジメチルアミノエチルトリメトキシシランなどの［（ジアルキルアミノ）アルキル］アルコキシシラン化合物；ヘキサメチレンイミノメチルトリメトキシシラン、３−ヘキサメチレンイミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（３−トリエトキシシリルプロピル）−４，５−ジヒドロイミダゾ−ル、Ｎ−（３−トリメトキシシリルプロピル）−４，５−イミダゾ−ルなどの環状アミノアルキルアルコキシシラン化合物；３−［ジ（テトラヒドロフラニル）アミノ］プロピルトリメトキシシラン、３−［ジ（テトラヒドロフラニル）アミノ］プロピルトリエトキシシランなどの［ジ（テトラヒドロフラニル）アミノ］アルキルアルコキシシラン化合物；Ｎ，Ｎ−ビス（トリメチルシリル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（トリメチルシリル）アミノプロピルメチルジエトキシシランなどのＮ，Ｎ−ビス（トリアルキルシリル）アミノアルキルアルコキシシラン化合物をあげることができ、中でも［（ジアルキルアミノ）アルキル］アルコキシシラン化合物が好ましく、３−ジメチルアミノプロピルトリエトキシシラン、３−ジメチルアミノプロピルトリメトキシシラン、３−ジエチルアミノプロピルトリエトキシシラン、３−ジエチルアミノプロピルトリメトキシシランがより好ましい。

アルコキシシリル基を含有する化合物として、上記の窒素原子及びアルコキシシリル基を含有する化合物以外には、
テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシランなどのテトラアルコキシシラン；メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシランなどのトリアルコキシヒドロカルビルシラン；トリメトキシクロロシラン、トリエトキシクロロシラン、トリ−ｎ−プロポキシクロロシランなどのトリアルコキシハロシラン；ジメトキシジメチルシラン、ジエトキシジメチルシラン、ジメトキシジエチルシランなどのジアルコキシジヒドロカルビルシラン；ジメトキシジクロロシラン、ジエトキシジクロロシラン、ジ−ｎ−プロポキシジクロロシランなどのジアルコキシジハロシラン；メトキシトリメチルシランなどのモノアルコキシトリヒドロカルビルシラン；メトキシトリクロロシラン、エトキシトリクロロシランなどのモノアルコキシトリハロシラン；２−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、２−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、（２−グリシドキシエチル）メチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、（３−グリシドキシプロピル）メチルジメトキシシランなどの（グリシドキシアルキル）アルコキシシラン化合物；２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル（メチル）ジメトキシシランなどの（３，４−エポキシシクロヘキシル）アルキルアルコキシシラン化合物；３−トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物、３−トリエトキシシリルプロピルコハク酸無水物などのアルコキシシリルアルキルコハク酸無水物；３−メタクリロイロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイロキシプロピルトリエトキシシランなどの（メタクリロイロキシアルキル）アルコキシシラン化合物をあげることができる。

また、アルコキシシリル基を含有する化合物は、窒素原子及びカルボニル基を含有していてもよい。アルコキシシリル基を含有し、かつ窒素原子及びカルボニル基を含有する化合物として、トリス［３−（トリメトキシシリル）プロピル］イソシアヌレート、トリス［３−（トリエトキシシリル）プロピル］イソシアヌレート、トリス［３−（トリプロポキシシリル）プロピル］イソシアヌレート、トリス［３−（トリブトキシシリル）プロピル］イソシアヌレートなどのトリス［（アルコキシシリル）アルキル］イソシアヌレート化合物をあげることができ、中でもトリス［３−（トリメトキシシリル）プロピル］イソシアヌレートが好ましい。

また、窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物としては、Ｎ，Ｎ−ジアルキル置換カルボン酸アミドジアルキルアセタール化合物をあげることもできる。Ｎ，Ｎ−ジアルキル置換カルボン酸アミドジアルキルアセタール化合物としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミドジメチルアセタールなどのＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジアルキルアセタール；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドジメチルアセタール、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミドジメチルアセタールなどのＮ，Ｎ−ジアルキルアセトアミドジアルキルアセタール；Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピオンアミドジメチルアセタール、Ｎ，Ｎ−ジエチルプロピオンアミドジメチルアセタールなどのＮ，Ｎ−ジアルキルプロピオンアミドジアルキルアセタールなどをあげることができ、中でも、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジアルキルアセタールが好ましく、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタールがより好ましい。

上記変性ＳＢＲの製造方法においては、単量体の重合開始から、後述する重合体の回収までに、変性ＳＢＲの炭化水素溶液にカップリング剤を添加してもよい。カップリング剤としては、下記式（Ｖ）で表される化合物をあげることができる。
Ｒ^５１ _ａＭＬ_４−ａ （Ｖ）
（式（Ｖ）中、Ｒ^５１はアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基又はアリール基を表し、Ｍはケイ素原子又はスズ原子を表し、Ｌはハロゲン原子又はヒドロカルビルオキシ基を表し、ａは０〜２の整数を表す）

上記式（Ｖ）で表されるカップリング剤としては、四塩化ケイ素、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、四塩化スズ、メチルトリクロロスズ、ジメチルジクロロスズ、トリメチルクロロスズ、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメトキシジメチルシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ジメトキシジエチルシラン、ジエトキシジメチルシラン、テトラエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ジエトキシジエチルシランなどをあげることができる。

カップリング剤の添加量は、共役ジエン系重合体の加工性を高めるために、アルカリ金属触媒由来のアルカリ金属１ｍｏｌ当たり、好ましくは０．０３ｍｏｌ以上であり、より好ましくは０．０５ｍｏｌ以上である。また、低燃費性を高めるために、好ましくは０．４ｍｏｌ以下であり、より好ましくは０．３ｍｏｌ以下である。

上記変性ＳＢＲの製造方法においては、後述する重合体の回収を行う前に未反応の活性末端をメタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコールにより処理してもよい。

上記変性ＳＢＲの炭化水素溶液から変性ＳＢＲを回収する方法としては公知の方法を用いることができ、例えば（Ａ）変性ＳＢＲの炭化水素溶液に凝固剤を添加する方法、（Ｂ）変性ＳＢＲの炭化水素溶液にスチームを添加する方法（スチームストリッピング処理）をあげることができる。回収した変性ＳＢＲは、バンドドライヤーや押出型ドライヤーなどの公知の乾燥機で乾燥してもよい。

上記変性ＳＢＲにおいて、式（Ｉ）で表される重合開始剤由来の構造単位の含有量は、加工性、低燃費性、ゴム強度、ウェットグリップ性能及び操縦安定性をバランス良く高める観点から、重合体単位質量あたり、好ましくは、０．０００１ｍｍｏｌ／ｇ重合体以上、より好ましくは０．００１ｍｍｏｌ／ｇ重合体以上であり、好ましくは０．１５ｍｍｏｌ／ｇ重合体以下、より好ましくは、０．１ｍｍｏｌ／ｇ重合体以下である。

上記変性ＳＢＲにおいて、ケイ素含有ビニル化合物由来の構造単位の含有量は、加工性、低燃費性、ゴム強度、ウェットグリップ性能及び操縦安定性をバランス良く高める観点から、重合体単位質量あたり、好ましくは、０．０１ｍｍｏｌ／ｇ重合体以上、より好ましくは０．０２ｍｍｏｌ／ｇ重合体以上であり、好ましくは０．４ｍｍｏｌ／ｇ重合体以下、より好ましくは、０．２ｍｍｏｌ／ｇ重合体以下である。

加工性、低燃費性、ゴム強度、ウェットグリップ性能及び操縦安定性をバランス良く高める観点から、上記変性ＳＢＲは、上記式（ＩＩ）で表される化合物由来の構造単位を有することが好ましい。なお、上記変性ＳＢＲ中の上記式（ＩＩ）で表される化合物由来の構造単位は、下記式（ＩＩｂ）で表される構造単位を意味する。

（式（ＩＩｂ）中、ｍ、Ｒ^２１、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３は、式（ＩＩ）におけるものと同一である）

上記変性ＳＢＲは、該共役ジエン系重合体中の式（ＩＩ）で表される化合物由来の構造単位において、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３の少なくとも１つが水酸基に置換されたものであることが好ましく、２つ以上が水酸基に置換されたものであることがより好ましく、２つが水酸基に置換されたものであることがさらに好ましい。これにより、加工性、低燃費性、ゴム強度、ウェットグリップ性能及び操縦安定性の改善効果を高めることができる。Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３を水酸基に置換する方法としては特に限定されないが、例えば、スチームストリッピング処理による方法があげられる。

本発明のゴム組成物は、ガラス転移温度が−７５〜０℃、重量平均分子量Ｍｗが１．０×１０^３以上１．５×１０^５未満の低分子量共役ジエン系重合体を含有する。
なお、上記低分子量共役ジエン系重合体は、ゴム成分には含まない。

加工性及びウェットグリップ性能をより改善できるという点から、上記低分子量共役ジエン系重合体の重量平均分子量Ｍｗは、１．０×１０^３〜５．０×１０^３であることが好ましい。

上記低分子量共役ジエン系重合体のＴｇは、−７５℃以上、好ましくは−６５℃以上である。−７５℃未満であると、ウェットグリップ性能が低下する傾向がある。また、上記共役ジエン系重合体のＴｇは、好ましくは０℃以下、より好ましくは−１０℃以下である。０℃を超えると、上記ＳＢＲ（Ａ）及び（Ｂ）との相溶性が悪化し、低燃費性や耐摩耗性が悪化する傾向がある。

上記低分子量共役ジエン系重合体の含有量は、ゴム成分１００質量部に対して、１質量部以上、好ましくは３質量部以上である。１質量部未満であると、上記低分子量共役ジエン系重合体による改善効果が充分に得られないおそれがある。また、上記低分子量共役ジエン系重合体の含有量は、３０質量部以下、好ましくは２６質量部以下である。３０質量部を超えると、低燃費性が悪化する傾向がある。

上記低分子量共役ジエン系重合体は、例えば、単量体である芳香族ビニル化合物及び共役ジエン化合物を、重合開始剤を用いて共重合させることで得られる。ここで、芳香族ビニル化合物としては、スチレン、ｐ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルスチレン、α−メチルスチレン、クロロメチルスチレン、ビニルトルエンなどが挙げられ、スチレンが好ましい。共役ジエン化合物としては、１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−ペンタジエン、２，３−ジメチルブタジエンなどが挙げられ、１，３−ブタジエンが好ましい。すなわち、上記低分子量共役ジエン系重合体は、スチレン及び１，３−ブタジエンの共重合体であることが好ましい。
上記低分子量共役ジエン系重合体がスチレン及び１，３−ブタジエンの共重合体であるとき、上記低分子量共役ジエン系重合体の１，３−ブタジエン部分のビニル結合量は、好ましくは２０ｍｏｌ％以上、より好ましくは４０ｍｏｌ％以上であり、好ましくは７０ｍｏｌ％以下、より好ましくは６０ｍｏｌ％以下である。また、上記低分子量共役ジエン系重合体のスチレン含有量は、好ましくは１０質量％以上、より好ましくは１２質量％以上であり、好ましくは４５質量％以下、より好ましくは４２質量％以下である。

本発明のゴム組成物は、窒素吸着比表面積（Ｎ_２ＳＡ）が４０〜４００ｍ^２／ｇのシリカを含有する。シリカとしては特に限定されず、例えば、乾式法シリカ（無水シリカ）、湿式法シリカ（含水シリカ）などがあげられるが、シラノール基が多いという理由から、湿式法シリカが好ましい。シリカは単独で用いてもよく、２種以上組み合わせて用いてもよい。

シリカの窒素吸着比表面積（Ｎ_２ＳＡ）は、４０ｍ^２／ｇ以上、好ましくは５０ｍ^２／ｇ以上、より好ましくは６０ｍ^２／ｇ以上である。４０ｍ^２／ｇ未満では、補強効果が小さく、ゴム強度が低下する傾向がある。また、シリカのＮ_２ＳＡは、４００ｍ^２／ｇ以下、好ましくは３６０ｍ^２／ｇ以下、より好ましくは３００ｍ^２／ｇ以下である。４００ｍ^２／ｇを超えると、シリカが分散しにくくなり、低燃費性や加工性が悪化する傾向がある。
なお、シリカのＮ_２ＳＡは、ＡＳＴＭ Ｄ３０３７−９３に準じてＢＥＴ法で測定される値である。

シリカの含有量は、ゴム成分１００質量部に対して、１０質量部以上、好ましくは３０質量部以上、より好ましくは４５質量部以上である。１０質量部未満であると、シリカを配合した効果が充分に得られず、ゴム強度が低下する傾向がある。また、シリカの含有量は、１５０質量部以下、好ましくは１００質量部以下である。１５０質量部を超えると、加工性が悪化する傾向がある。

シリカはシランカップリング剤と併用してもよい。シランカップリング剤としては、例えば、ビス（３−トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド、ビス（３−トリエトキシシリルプロピル）トリスルフィド、ビス（３−トリエトキシシリルプロピル）ジスルフィド、ビス（２−トリエトキシシリルエチル）テトラスルフィド、ビス（３−トリメトキシシリルプロピル）テトラスルフィド、ビス（２−トリメトキシシリルエチル）テトラスルフィド、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、２−メルカプトエチルトリメトキシシラン、２−メルカプトエチルトリエトキシシラン、３−トリメトキシシリルプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチルチオカルバモイルテトラスルフィド、３−トリエトキシシリルプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチルチオカルバモイルテトラスルフィド、２−トリエトキシシリルエチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルチオカルバモイルテトラスルフィド、３−トリメトキシシリルプロピルベンゾチアゾールテトラスルフィド、３−トリエトキシシリルプロピルベンゾチアゾリルテトラスルフィド、３−トリエトキシシリルプロピルメタクリレートモノスルフィド、３−トリメトキシシリルプロピルメタクリレートモノスルフィド、ビス（３−ジエトキシメチルシリルプロピル）テトラスルフィド、３−メルカプトプロピルジメトキシメチルシラン、ジメトキシメチルシリルプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチルチオカルバモイルテトラスルフィド、ジメトキシメチルシリルプロピルベンゾチアゾールテトラスルフィドなどがあげられる。中でも、補強性改善効果などの点から、ビス（３−トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド及び３−トリメトキシシリルプロピルベンゾチアゾリルテトラスルフィドが好ましい。これらのシランカップリング剤は単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

シランカップリング剤の含有量は、シリカ１００質量部に対して、好ましくは１質量部以上、より好ましくは２質量部以上である。１質量部未満では、未加硫ゴム組成物の粘度が高く、加工性が悪化する傾向がある。また、シランカップリング剤の含有量は、好ましくは２０質量部以下、より好ましくは１５質量部以下である。２０質量部を超えると、コストの増加に見合った効果が得られない傾向がある。

添加剤としては、公知のものを用いることができ、硫黄などの加硫剤；チアゾール系加硫促進剤、チウラム系加硫促進剤、スルフェンアミド系加硫促進剤、グアニジン系加硫促進剤などの加硫促進剤；ステアリン酸、酸化亜鉛などの加硫活性化剤；有機過酸化物；カーボンブラック、炭酸カルシウム、タルク、アルミナ、クレー、水酸化アルミニウム、マイカなどの充填剤；伸展油、滑剤などの加工助剤；老化防止剤を例示することができる。

上記カーボンブラックとしては、ＳＡＦ、ＩＳＡＦ、ＨＡＦ、ＭＡＦ、ＦＥＦ、ＳＲＦ、ＧＰＦ、ＡＰＦ、ＦＦ、ＣＦ、ＳＣＦ及びＥＣＦのようなファーネスブラック（ファーネスカーボンブラック）；アセチレンブラック（アセチレンカーボンブラック）；ＦＴ及びＭＴのようなサーマルブラック（サーマルカーボンブラック）；ＥＰＣ、ＭＰＣ及びＣＣのようなチャンネルブラック（チャンネルカーボンブラック）；グラファイトなどをあげることができる。これらは１種又は２種以上組み合わせて用いることができる。

カーボンブラックの含有量は、ゴム成分１００質量部に対して、好ましくは１質量部以上、より好ましくは６質量部以上、さらに好ましくは１０質量部以上である。１質量部未満では、充分な補強性が得られないおそれがある。カーボンブラックの含有量は、好ましくは６０質量部以下、より好ましくは３０質量部以下、さらに好ましくは２０質量部以下である。６０質量部を超えると、低燃費性が悪化する傾向がある。

カーボンブラックの窒素吸着比表面積（Ｎ_２ＳＡ）は、通常、５〜２００ｍ^２／ｇであり、下限は５０ｍ^２／ｇ、上限は１５０ｍ^２／ｇであることが好ましい。また、カーボンブラックのジブチルフタレート（ＤＢＰ）吸収量は、通常、５〜３００ｍｌ／１００ｇであり、下限は８０ｍｌ／１００ｇ、上限は１８０ｍｌ／１００ｇであることが好ましい。カーボンブラックのＮ_２ＳＡやＤＢＰ吸収量が上記範囲の下限未満では、補強効果が小さくゴム強度が低下する傾向があり、上記範囲の上限を超えると、分散性が悪く、ヒステリシスロスが増大し低燃費性が低下する傾向がある。該窒素吸着比表面積は、ＡＳＴＭ Ｄ４８２０−９３に従って測定され、該ＤＢＰ吸収量は、ＡＳＴＭ Ｄ２４１４−９３に従って測定される。市販品としては、東海カーボン（株）製商品名シースト６、シースト７ＨＭ、シーストＫＨ、ＥＶＯＮＩＫ−ＤＥＧＵＳＳＡ社製商品名ＣＫ３、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ４Ａなどを用いることができる。

上記伸展油としては、アロマチック系鉱物油（粘度比重恒数（Ｖ．Ｇ．Ｃ．値）０．９００〜１．０４９）、ナフテン系鉱物油（Ｖ．Ｇ．Ｃ．値０．８５０〜０．８９９）、パラフィン系鉱物油（Ｖ．Ｇ．Ｃ．値０．７９０〜０．８４９）などをあげることができる。伸展油の多環芳香族含有量は、好ましくは３質量％未満であり、より好ましくは１質量％未満である。該多環芳香族含有量は、英国石油学会３４６／９２法に従って測定される。また、伸展油の芳香族化合物含有量（ＣＡ）は、好ましくは２０質量％以上である。これらの伸展油は、２種以上組み合わされて用いられてもよい。中でも、アロマチック系鉱物油（アロマオイル）、パラフィン系鉱物油（ミネラルオイル）が好ましく、アロマオイル及びミネラルオイルの併用がより好ましい。
本発明の効果が良好に得られるという点から、進展油（オイル）及び低分子量共役ジエン系重合体の合計含有量は、ゴム成分１００質量部に対して、好ましくは１０質量部以上、より好ましくは２０質量部以上であり、好ましくは５０質量部以下、より好ましくは４０質量部以下である。

上記加硫促進剤としては、２−メルカプトベンゾチアゾール、ジベンゾチアジルジサルファイド、Ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾチアジルスルフェンアミドなどのチアゾール系加硫促進剤；テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィドなどのチウラム系加硫促進剤；Ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾチアゾールスルフェンアミド、Ｎ−ｔ−ブチル−２−ベンゾチアゾールスルフェンアミド、Ｎ−オキシエチレン−２−ベンゾチアゾールスルフェンアミド、Ｎ−オキシエチレン−２−ベンゾチアゾールスルフェンアミド、Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピル−２−ベンゾチアゾールスルフェンアミドなどのスルフェンアミド系加硫促進剤；ジフェニルグアニジン、ジオルトトリルグアニジン、オルトトリルビグアニジンなどのグアニジン系加硫促進剤をあげることができ、その使用量は、ゴム成分１００質量部に対して０．１〜５質量部が好ましく、より好ましくは０．２〜３質量部である。

上記ＳＢＲ（Ａ）及び（Ｂ）に、他のゴム成分や添加剤などを配合してゴム組成物を製造する方法としては、公知の方法、例えば、各成分をロールやバンバリーのような公知の混合機で混練する方法を用いることができる。

混練条件としては、加硫剤及び加硫促進剤以外の添加剤を配合する場合、混練温度は、通常５０〜２００℃であり、好ましくは８０〜１９０℃であり、混練時間は、通常３０秒〜３０分であり、好ましくは１分〜３０分である。

加硫剤、加硫促進剤を配合する場合、混練温度は、通常１００℃以下であり、好ましくは室温〜８０℃である。また、加硫剤、加硫促進剤を配合した組成物は、通常、プレス加硫などの加硫処理を行って用いられる。加硫温度としては、通常１２０〜２００℃、好ましくは１４０〜１８０℃である。

本発明のゴム組成物のｔａｎδピーク温度は、−２０℃以上である。−２０℃未満であると、充分なウェットグリップ性能を確保できない場合がある。また、本発明のゴム組成物のｔａｎδピーク温度は、好ましくは−５℃以下、より好ましくは−８℃以下である。−５℃を超えると、温度依存性が高くなり、幅広い温度領域で充分なウェットグリップ性能を発揮できなくなる傾向がある。
なお、ｔａｎδピーク温度は、実施例に記載の測定方法により得られる値である。

本発明のゴム組成物は、低燃費性、ウェットグリップ性能、耐摩耗性及び操縦安定性が高次元でバランス良く得られ、さらに、加工性、ゴム強度及びウェットグリップ性能の温度依存性にも優れている。

本発明のゴム組成物は、タイヤの各部材に用いることができ、特にトレッドに好適に用いることができる。

本発明の空気入りタイヤは、上記ゴム組成物を用いて通常の方法によって製造される。すなわち、必要に応じて各種添加剤を配合したゴム組成物を、未加硫の段階でタイヤのトレッドなどの形状に合わせて押し出し加工し、タイヤ成型機上にて通常の方法にて成形し、他のタイヤ部材とともに貼り合わせ、未加硫タイヤを形成する。この未加硫タイヤを加硫機中で加熱加圧して、本発明の空気入りタイヤを製造できる。

本発明の空気入りタイヤは、乗用車用タイヤとして好適に用いることができる。

実施例に基づいて、本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらのみに限定されるものではない。

以下、合成、重合時に用いた各種薬品について、まとめて説明する。なお、薬品は必要に応じて定法に従い精製を行った。
ＴＨＦ：関東化学（株）製無水テトラヒドロフラン
水素化ナトリウム：関東化学（株）製
ジエチルアミン：関東化学（株）製
メチルビニルジクロロシラン：信越化学工業（株）製
無水ヘキサン：関東化学（株）製
スチレン：関東化学（株）製
ブタジエン：東京化成工業（株）製の１，３−ブタジエン
ＴＭＥＤＡ：関東化学（株）製のテトラメチルエチレンジアミン
開始剤（１）：関東化学（株）製の１．６Ｍ ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液
開始剤（２）：ＦＭＣ社製のＡＩ−２００ＣＥ２（３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−１−プロピルリチウムにイソプレン由来の構造単位が２単位結合した化合物（下記式で表される化合物））（０．９Ｍ）

２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール：大内新興化学工業（株）製ノクラック２００
ビス（ジメチルアミノ）メチルビニルシラン：信越化学工業（株）製
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド：東京化成工業（株）製
３−ジエチルアミノプロピルトリエトキシシラン：アヅマックス（株）製
１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン：東京化成工業（株）製
トリス［３−（トリメトキシシリル）プロピル］イソシアヌレート：信越化学工業（株）製
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール：東京化成工業（株）製

＜変性剤（１）（主鎖変性剤）の作製＞
窒素雰囲気下、１００ｍｌメスフラスコにビス（ジメチルアミノ）メチルビニルシランを１５．８ｇ入れ、さらに無水ヘキサンを加え全量を１００ｍｌにして作成した。

＜変性剤（２）（末端変性剤）の作製＞
窒素雰囲気下、１００ｍｌメスフラスコにＮ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミドを１５．６ｇ入れ、さらに無水ヘキサンを加え全量を１００ｍｌにして作成した。

＜変性剤（３）（主鎖変性剤）の作製＞
充分に窒素置換した２Ｌ三つ口フラスコにＴＨＦ１０００ｍＬ、水素化ナトリウム１３ｇを加え、氷水バス上で撹拌しながらジエチルアミン３６．５ｇをゆっくり滴下した。３０分撹拌後、メチルビニルジクロロシラン３６ｇを３０分かけて滴下し、２時間撹拌させた。得られた溶液を濃縮し、ろ過後、減圧蒸留精製を行い、ビス（ジエチルアミノ）メチルビニルシランを合成した。得られたビス（ジエチルアミノ）メチルビニルシラン２１．４ｇを窒素雰囲気下で１００ｍｌメスフラスコに入れ、さらに無水ヘキサンを加え全量を１００ｍｌにした。

＜変性剤（４）（末端変性剤）の作製＞
窒素雰囲気下、１００ｍｌメスフラスコに３−ジエチルアミノプロピルトリエトキシシランを２７．７ｇ入れ、さらに無水ヘキサンを加え全量を１００ｍｌにして作製した。

＜変性剤（５）（末端変性剤）の作製＞
窒素雰囲気下、１００ｍｌメスフラスコに１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンを１１．４ｇ入れ、さらに無水ヘキサンを加え全量を１００ｍｌにして作製した。

＜変性剤（６）（末端変性剤）の作製＞
窒素雰囲気下、１００ｍｌメスフラスコにトリス［３−（トリメトキシシリル）プロピル］イソシアヌレートを３０．７ｇ入れ、さらに無水ヘキサンを加え全量を２００ｍｌにして作製した。

＜変性剤（７）（末端変性剤）の作製＞
窒素雰囲気下、１００ｍｌメスフラスコにＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタールを１１．９ｇ入れ、さらに無水ヘキサンを加え全量を２００ｍｌにして作製した。

＜共重合体の分析＞
下記により得られた共重合体（ＳＢＲ）、低分子量共重合体（低分子量共役ジエン系重合体）の分析は以下の方法で行った。

＜重量平均分子量Ｍｗ及び数平均分子量Ｍｎの測定＞
共重合体及び低分子量共重合体の重量平均分子量Ｍｗ及び数平均分子量Ｍｎは、ゲルパーミエーションクロマトグラフ（ＧＰＣ）（東ソー（株）製ＧＰＣ−８０００シリーズ、検出器：示差屈折計、カラム：東ソー（株）製のＴＳＫＧＥＬ ＳＵＰＥＲＭＵＬＴＩＰＯＲＥ ＨＺ−Ｍ）による測定値を基に標準ポリスチレン換算値として求めた。測定結果から、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎを算出した。

＜構造同定＞
共重合体及び低分子量共役ジエン系重合体の構造同定（スチレン含有量、ビニル結合量の測定）は、日本電子（株）製ＪＮＭ−ＥＣＡシリーズの装置を用いて行った。測定は、重合体０．１ｇを１５ｍｌのトルエンに溶解させ、３０ｍｌのメタノール中にゆっくり注ぎ込んで再沈殿させたものを、減圧乾燥後に測定した。

＜ガラス転移温度の測定＞
ＪＩＳ−Ｋ７１２１に従い、ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン社製の示差走査熱量計（Ｑ２００）を用いて、昇温速度１０℃／分の条件で中間点ガラス転移温度を測定した。

＜共重合体（１）の合成＞
充分に窒素置換した３０Ｌ耐圧容器にｎ−ヘキサンを１８Ｌ、スチレンを５５０ｇ、ブタジエンを１４５０ｇ、ＴＭＥＤＡを１０ｍｍｏｌ加え、４０℃に昇温した。次に、開始剤（１）を３４ｍＬ加えた後、５０℃に昇温させ３時間撹拌した。次に、変性剤（４）を４０ｍＬ追加し３０分間撹拌を行った。反応溶液にメタノール１５ｍＬ及び２，６−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０．１ｇを添加後、スチームストリッピング処理によって重合体溶液から凝集体を回収し、得られた凝集体を２４時間減圧乾燥させ、共重合体（１）を得た。
なお、投入した窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物（変性剤（４））は、投入した重合開始剤に由来するアルカリ金属１ｍｏｌあたり、１．１８ｍｏｌであった。

＜共重合体（２）の合成＞
スチレンの量を３００ｇに、ブタジエンの量を１７００ｇに変えた以外は、共重合体（１）の合成と同じ処方により、共重合体（２）を得た。
なお、投入した窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物（変性剤（４））は、投入した重合開始剤に由来するアルカリ金属１ｍｏｌあたり、１．１８ｍｏｌであった。

＜共重合体（３）の合成＞
スチレンの量を８００ｇに、ブタジエンの量を１２００ｇに変えた以外は、共重合体（１）の合成と同じ処方により、共重合体（３）を得た。
なお、投入した窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物（変性剤（４））は、投入した重合開始剤に由来するアルカリ金属１ｍｏｌあたり、１．１８ｍｏｌであった。

＜共重合体（４）の合成＞
充分に窒素置換した３０Ｌ耐圧容器にｎ−ヘキサンを１８Ｌ、スチレンを３００ｇ、ブタジエンを１４５０ｇ、ＴＨＦを４０ｍｍｏｌ加え、７０℃に昇温した。次に、開始剤（１）を３４ｍＬ加えた後、５０℃に昇温させ３時間撹拌した。次に、変性剤（４）を４０ｍＬ追加し３０分間撹拌を行った。反応溶液にメタノール１５ｍＬ及び２，６−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０．１ｇを添加後、スチームストリッピング処理によって重合体溶液から凝集体を回収し、得られた凝集体を２４時間減圧乾燥させ、共重合体（４）を得た。
なお、投入した窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物（変性剤（４））は、投入した重合開始剤に由来するアルカリ金属１ｍｏｌあたり、１．１８ｍｏｌであった。

＜共重合体（５）の合成＞
充分に窒素置換した３０Ｌ耐圧容器にｎ−ヘキサンを１８Ｌ、スチレンを３００ｇ、ブタジエンを１４５０ｇ、ＴＨＦを４０ｍｍｏｌ加え、３０℃に昇温した。次に、開始剤（１）を３４ｍＬ加えた後、５０℃に昇温させ３時間撹拌した。次に、変性剤（４）を４０ｍＬ追加し３０分間撹拌を行った。反応溶液にメタノール１５ｍＬ及び２，６−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０．１ｇを添加後、スチームストリッピング処理によって重合体溶液から凝集体を回収し、得られた凝集体を２４時間減圧乾燥させ、共重合体（５）を得た。
なお、投入した窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物（変性剤（４））は、投入した重合開始剤に由来するアルカリ金属１ｍｏｌあたり、１．１８ｍｏｌであった。

＜共重合体（６）の合成＞
スチレンの量を４２０ｇに、ブタジエンの量を１５８０ｇに変えた以外は、共重合体（１）の合成と同じ処方により、共重合体（６）を得た。
なお、投入した窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物（変性剤（４））は、投入した重合開始剤に由来するアルカリ金属１ｍｏｌあたり、１．１８ｍｏｌであった。

＜共重合体（７）の合成＞
充分に窒素置換した３０Ｌ耐圧容器にｎ−ヘキサンを１８Ｌ、スチレンを３００ｇ、ブタジエンを１７００ｇ、変性剤（１）を４０ｍＬ、ＴＭＥＤＡを１０ｍｍｏｌ加え、４０℃に昇温した。次に、開始剤（２）を３４ｍＬ加えた後、５０℃に昇温させ３時間撹拌した。次に、変性剤（２）を２０ｍＬ追加し３０分間撹拌を行った。反応溶液にメタノール１５ｍＬ及び２，６−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０．１ｇを添加後、スチームストリッピング処理によって重合体溶液から凝集体を回収し、得られた凝集体を２４時間減圧乾燥させ、共重合体（７）を得た。
なお、投入したケイ素含有ビニル化合物（変性剤（１））は、単量体成分１００ｇあたり０．３２ｇであった。投入した重合開始剤（開始剤（２））は、単量体成分１００ｇあたり０．８５ｍｍｏｌであった。投入した窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物（変性剤（２））は、投入した重合開始剤に由来するアルカリ金属１ｍｏｌあたり、１．１８ｍｏｌであった。

＜共重合体（８）の合成＞
変性剤（１）を変性剤（３）に変えた以外は、共重合体（７）の合成と同じ処方により、共重合体（８）を得た。
なお、投入したケイ素含有ビニル化合物（変性剤（３））は、単量体成分１００ｇあたり０．４３ｇであった。投入した重合開始剤（開始剤（２））は、単量体成分１００ｇあたり０．８５ｍｍｏｌであった。投入した窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物（変性剤（２））は、投入した重合開始剤に由来するアルカリ金属１ｍｏｌあたり、１．１８ｍｏｌであった。

＜共重合体（９）の合成＞
変性剤（２）を変性剤（４）に変えた以外は、共重合体（７）の合成と同じ処方により、共重合体（９）を得た。
なお、投入したケイ素含有ビニル化合物（変性剤（１））は、単量体成分１００ｇあたり０．３２ｇであった。投入した重合開始剤（開始剤（２））は、単量体成分１００ｇあたり０．８５ｍｍｏｌであった。投入した窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物（変性剤（４））は、投入した重合開始剤に由来するアルカリ金属１ｍｏｌあたり、１．１８ｍｏｌであった。

＜共重合体（１０）の合成＞
変性剤（２）を変性剤（４）に変えた以外は、共重合体（８）の合成と同じ処方により、共重合体（１０）を得た。
なお、投入したケイ素含有ビニル化合物（変性剤（３））は、単量体成分１００ｇあたり０．４３ｇであった。投入した重合開始剤（開始剤（２））は、単量体成分１００ｇあたり０．８５ｍｍｏｌであった。投入した窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物（変性剤（４））は、投入した重合開始剤に由来するアルカリ金属１ｍｏｌあたり、１．１８ｍｏｌであった。

＜共重合体（１１）の合成＞
スチレンの量を４２０ｇに、ブタジエンの量を１５８０ｇに変えた以外は、共重合体（７）の合成と同じ処方により、共重合体（１１）を得た。
なお、投入したケイ素含有ビニル化合物（変性剤（１））は、単量体成分１００ｇあたり０．３２ｇであった。投入した重合開始剤（開始剤（２））は、単量体成分１００ｇあたり０．８５ｍｍｏｌであった。投入した窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物（変性剤（２））は、投入した重合開始剤に由来するアルカリ金属１ｍｏｌあたり、１．１８ｍｏｌであった。

＜共重合体（１２）の合成＞
スチレンの量を４２０ｇに、ブタジエンの量を１５８０ｇに変えた以外は、共重合体（９）の合成と同じ処方により、共重合体（１２）を得た。
なお、投入したケイ素含有ビニル化合物（変性剤（１））は、単量体成分１００ｇあたり０．３２ｇであった。投入した重合開始剤（開始剤（２））は、単量体成分１００ｇあたり０．８５ｍｍｏｌであった。投入した窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物（変性剤（４））は、投入した重合開始剤に由来するアルカリ金属１ｍｏｌあたり、１．１８ｍｏｌであった。

＜共重合体（１３）の合成＞
変性剤（２）を変性剤（５）に変えた以外は、共重合体（７）の合成と同じ処方により、共重合体（１３）を得た。
なお、投入したケイ素含有ビニル化合物（変性剤（１））は、単量体成分１００ｇあたり０．３２ｇであった。投入した重合開始剤（開始剤（２））は、単量体成分１００ｇあたり０．８５ｍｍｏｌであった。投入した窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物（変性剤（５））は、投入した重合開始剤に由来するアルカリ金属１ｍｏｌあたり、１．１８ｍｏｌであった。

＜共重合体（１４）の合成＞
変性剤（２）を変性剤（５）に変えた以外は、共重合体（８）の合成と同じ処方により、共重合体（１４）を得た。
なお、投入したケイ素含有ビニル化合物（変性剤（３））は、単量体成分１００ｇあたり０．４３ｇであった。投入した重合開始剤（開始剤（２））は、単量体成分１００ｇあたり０．８５ｍｍｏｌであった。投入した窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物（変性剤（５））は、投入した重合開始剤に由来するアルカリ金属１ｍｏｌあたり、１．１８ｍｏｌであった。

＜共重合体（１５）の合成＞
変性剤（２）を変性剤（６）に変えた以外は、共重合体（７）の合成と同じ処方により、共重合体（１５）を得た。
なお、投入したケイ素含有ビニル化合物（変性剤（１））は、単量体成分１００ｇあたり０．３２ｇであった。投入した重合開始剤（開始剤（２））は、単量体成分１００ｇあたり０．８５ｍｍｏｌであった。投入した窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物（変性剤（６））は、投入した重合開始剤に由来するアルカリ金属１ｍｏｌあたり、１．１８ｍｏｌであった。

＜共重合体（１６）の合成＞
変性剤（２）を変性剤（６）に変えた以外は、共重合体（８）の合成と同じ処方により、共重合体（１６）を得た。
なお、投入したケイ素含有ビニル化合物（変性剤（３））は、単量体成分１００ｇあたり０．４３ｇであった。投入した重合開始剤（開始剤（２））は、単量体成分１００ｇあたり０．８５ｍｍｏｌであった。投入した窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物（変性剤（６））は、投入した重合開始剤に由来するアルカリ金属１ｍｏｌあたり、１．１８ｍｏｌであった。

＜共重合体（１７）の合成＞
変性剤（２）を変性剤（７）に変えた以外は、共重合体（７）の合成と同じ処方により、共重合体（１７）を得た。
なお、投入したケイ素含有ビニル化合物（変性剤（１））は、単量体成分１００ｇあたり０．３２ｇであった。投入した重合開始剤（開始剤（２））は、単量体成分１００ｇあたり０．８５ｍｍｏｌであった。投入した窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物（変性剤（７））は、投入した重合開始剤に由来するアルカリ金属１ｍｏｌあたり、１．１８ｍｏｌであった。

＜共重合体（１８）の合成＞
変性剤（２）を変性剤（７）に変えた以外は、共重合体（８）の合成と同じ処方により、共重合体（１８）を得た。
なお、投入したケイ素含有ビニル化合物（変性剤（３））は、単量体成分１００ｇあたり０．４３ｇであった。投入した重合開始剤（開始剤（２））は、単量体成分１００ｇあたり０．８５ｍｍｏｌであった。投入した窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物（変性剤（７））は、投入した重合開始剤に由来するアルカリ金属１ｍｏｌあたり、１．１８ｍｏｌであった。

＜低分子量共重合体（１）の合成＞
充分に窒素置換した３０Ｌ耐圧容器にｎ−ヘキサンを１８Ｌ、スチレンを５５０ｇ、ブタジエンを１４５０ｇ、ＴＭＥＤＡを５５０ｍｍｏｌの混合物を作製した。次に、開始剤（１）１３００ｍＬを１時間かけて滴下した後、３０℃に昇温させ３時間撹拌した。反応溶液にメタノール１５ｍＬ及び２，６−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０．１ｇを添加後、重合溶液を水１８Ｌへ混合し、２時間攪拌した後、２４時間放置した。分離した上層の凝集体を回収し、得られた凝集体を２４時間減圧乾燥させ、低分子量共重合体（１）を得た。

＜低分子量共重合体（２）の合成＞
スチレンの量を５５０ｇに、ブタジエンの量を１４５０ｇに変えた以外は、低分子量共重合体（１）の合成と同じ処方により、低分子量共重合体（２）を得た。

＜低分子量共重合体（３）の合成＞
スチレンの量を８００ｇに、ブタジエンの量を１２００ｇに変えた以外は、低分子量共重合体（１）の合成と同じ処方により、低分子量共重合体（３）を得た。

＜低分子量共重合体（４）の合成＞
ＴＭＥＤＡを１３０ｍｍｏｌ、開始剤（１）を３８０ｍＬに変えた以外は、低分子量共重合体（３）の合成と同じ処方により、低分子量共重合体（４）を得た。

共重合体（１）〜（１８）、低分子量共重合体（１）〜（４）の単量体成分などについて、表１にまとめた。

以下に、実施例及び比較例で用いた各種薬品について説明する。
共重合体（１）〜（１８）：上記方法で合成
低分子量共重合体（１）〜（４）：上記方法で合成
ブタジエンゴム：宇部興産（株）製のウベポールＢＲ１５０Ｂ（ガラス転移温度：−１１０℃）
シリカ：ＥＶＯＮＩＫ−ＤＥＧＵＳＳＡ社製のＵＬＴＲＡＳＩＬ ＶＮ３（Ｎ_２ＳＡ：１７５ｍ^２／ｇ）
シランカップリング剤：ＥＶＯＮＩＫ−ＤＥＧＵＳＳＡ社製のＳｉ６９（ビス（３−トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド）
カーボンブラック：三菱化学（株）製のダイアブラックＮ３３９（Ｎ_２ＳＡ：９６ｍ^２／ｇ、ＤＢＰ吸収量：１２４ｍｌ／１００ｇ）
アロマオイル：ＪＸ日鉱日石エネルギー（株）製のＸ−１４０
ミネラルオイル：出光興産（株）製のＰＳ−３２（パラフィン系プロセスオイル）
老化防止剤：住友化学（株）製のアンチゲン３Ｃ
ステアリン酸：日油（株）製のビーズステアリン酸つばき
酸化亜鉛：三井金属鉱業（株）製の亜鉛華１号
ワックス：大内新興化学工業（株）製のサンノックＮ
硫黄：鶴見化学工業（株）製の粉末硫黄
加硫促進剤１：住友化学（株）製のソクシノールＣＺ
加硫促進剤２：住友化学（株）製のソクシノールＤ

（実施例及び比較例）
表２〜４に示す配合内容に従い、（株）神戸製鋼所製の１．７Ｌバンバリーミキサーを用いて、硫黄及び加硫促進剤以外の材料を１５０℃の条件下で５分間混練りし、混練り物を得た。次に、得られた混練り物に硫黄及び加硫促進剤を添加し、オープンロールを用いて、８０℃の条件下で５分間練り込み、未加硫ゴム組成物を得た。得られた未加硫ゴム組成物を１７０℃で２０分間、０．５ｍｍ厚の金型でプレス加硫し、加硫ゴム組成物を得た。
また、得られた未加硫ゴム組成物をトレッドの形状に成形し、タイヤ成型機上で他のタイヤ部材とともに貼り合わせて未加硫タイヤを形成し、１７０℃で１２分間加硫し、試験用タイヤ（サイズ：１９５／６５Ｒ１５）を製造した。

＜評価項目及び試験方法＞
＜ｔａｎδピーク温度＞
（株）上島製作所製スペクトロメーターを用いて、動的歪振幅１％、周波数１０Ｈｚ、昇温速度２℃／分、測定温度−８０℃〜８０℃の温度域で加硫ゴム組成物のｔａｎδを測定し、ｔａｎδがピークとなる温度をｔａｎδピーク温度とした。

＜混練加工性指数＞
ＪＩＳ Ｋ ６３００−１：２００１「未加硫ゴム−物理特性−第１部：ムーニー粘度計による粘度及びスコーチタイムの求め方」に準じて、ムーニー粘度試験機を用いて、１分間の予熱によって熱せられた１３０℃の温度条件にて、小ローターを回転させ、４分間経過した時点での上記未加硫ゴム組成物のムーニー粘度（ＭＬ_１＋４／１３０℃）を測定した。結果は指数で表し、数値が大きいほどムーニー粘度が低く、混練加工性が良好である。指数は次の式で求めた。
（混練加工性指数）＝（比較例１のムーニー粘度）／（各配合のムーニー粘度）×１００

＜低発熱性指数＞
（株）上島製作所製スペクトロメーターを用いて、動的歪振幅１％、周波数１０Ｈｚ、温度５０℃で加硫ゴム組成物のｔａｎδを測定した。ｔａｎδの逆数の値について比較例１を１００として指数表示した。数値が大きいほど転がり抵抗が小さく（発熱しにくく）、低燃費性に優れることを示している。

＜ゴム強度指数＞
ＪＩＳ Ｋ ６２５１：２０１０に準じて引張試験を行い、破断伸びを測定した。測定結果を、比較例１を１００とした指数で示した。指数が大きい程、ゴム強度（破壊強度）が大きいことを示している。
（ゴム強度指数）＝（各配合の破断伸び）／（比較例１の破断伸び）×１００

＜ウェットグリップ性能指数＞
各試験用タイヤを車両（国産ＦＦ２０００ｃｃ）の全輪に装着して、湿潤アスファルト路面にて初速度１００ｋｍ／ｈからの制動距離を求めた。結果は指数で表し、数値が大きいほどウェットスキッド性能（ウェットグリップ性能）が良好である。指数は次の式で求めた。
（ウェットグリップ性能指数）＝（比較例１の制動距離）／（各配合の制動距離）×１００

＜ウェットグリップ温度依存性指数＞
各試験用タイヤを車両（国産ＦＦ２０００ｃｃ）の全輪に装着して、路面温度２５℃の湿潤アスファルト路面にて初速度１００ｋｍ／ｈからの制動距離を求めた（制動距離Ａ）。同じようにして路面温度１５℃の湿潤アスファルト路面にて初速度１００ｋｍ／ｈからの制動距離を求め（制動距離Ｂ）、制動距離Ａと制動距離Ｂの比をウェットグリップ温度依存性指数とした。数値が大きいほどウェットグリップ性能の温度依存性が小さく、良好である。
（ウェットグリップ温度依存性指数）
＝｛（比較例１の制動距離Ｂ）／（比較例１の制動距離Ａ）｝／｛（各配合の制動距離Ｂ）／（各配合の制動距離Ａ）｝×１００

＜耐摩耗性指数＞
ＬＡＴ試験機（Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ Ａｂｒａｓｉｏｎ ａｎｄ Ｓｋｉｄ Ｔｅｓｔｅｒ）を用い、荷重５０Ｎ、速度２０ｋｍ／ｈ、スリップアングル５°の条件にて、各加硫ゴム組成物の容積損失量を測定した。表２〜４の数値（耐摩耗性指数）は、比較例１の容積損失量を１００としたときの相対値である。当該数値が大きいほど耐摩耗性に優れている。

＜操縦安定性＞
各試験用タイヤを国産ＦＦ２０００ｃｃの全輪に装着し、テストコース（ドライ路面）でドライバーの官能評価により、操縦安定性を評価した。評価は１０点満点とし、比較例１を６点として相対評価をした。評点が大きいほど操縦安定性に優れている。

表２〜４に示すように、ＳＢＲ（Ａ）及び（Ｂ）と、低分子量共役ジエン系重合体と、シリカとを併用し、かつｔａｎδピーク温度が−２０℃以上の実施例は、ＳＢＲ（Ｂ）を単独で併用した比較例１と比較して、良好な低燃費性を確保しながら、ウェットグリップ性能、耐摩耗性及び操縦安定性が改善され、さらに、加工性、ゴム強度、ウェットグリップ性能の温度依存性も良好であった。

Claims (11)

1. ガラス転移温度が−７５〜０℃、重量平均分子量Ｍｗが１．５×１０^５〜１．５×１０^６の共役ジエン系重合体の含有量が９５質量％以上であるゴム成分１００質量％中、
   スチレン含有量が５質量％以上１５質量％未満で、１，３−ブタジエン部分のビニル結合量が１０〜７０ｍｏｌ％のスチレンブタジエンゴム（Ａ）の含有量が５〜６５質量％、
   スチレン含有量が１５質量％以上３０質量％未満で、１，３−ブタジエン部分のビニル結合量が１０〜７０ｍｏｌ％のスチレンブタジエンゴム（Ｂ）の含有量が２０〜７５質量％であり、
   前記ゴム成分１００質量部に対して、
   ガラス転移温度が−７５〜０℃、重量平均分子量Ｍｗが１．０×１０^３以上１．５×１０^５未満の低分子量共役ジエン系重合体の含有量が１〜３０質量部、
   窒素吸着比表面積が４０〜４００ｍ^２／ｇのシリカの含有量が１０〜１５０質量部であり、
   ｔａｎδピーク温度が−２０℃以上であるゴム組成物。
2. 前記低分子量共役ジエン系重合体の重量平均分子量Ｍｗが１．０×１０^３〜５．０×１０^３である請求項１記載のゴム組成物。
3. 前記ゴム成分１００質量％中、
   スチレン含有量が３０質量％以上４５質量％未満で、１，３−ブタジエン部分のビニル結合量が１０〜７０ｍｏｌ％のスチレンブタジエンゴム（Ｃ）の含有量が５〜５０質量％である請求項１又は２記載のゴム組成物。
4. 前記スチレンブタジエンゴム（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の少なくとも１つが、下記式（Ｉ）で表される重合開始剤を用いてスチレン、１，３−ブタジエン及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させて得られる共重合体の活性末端に、窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物を反応させて得られるものである請求項３記載のゴム組成物。
   

   

   （式（Ｉ）中、ｉは０又は１であり、Ｒ^１１は炭素原子数１〜１００のヒドロカルビレン基を表し、Ｒ^１２及びＲ^１３は、置換基を有してもよいヒドロカルビル基、又は、トリヒドロカルビルシリル基を表すか、あるいは、Ｒ^１２とＲ^１３とが結合して、ケイ素原子、窒素原子及び酸素原子からなる原子群から選択される少なくとも１種の原子をヘテロ原子として有していてもよいヒドロカルビレン基を表し、Ｍはアルカリ金属原子を表す）
5. 前記スチレンブタジエンゴム（Ａ）が、前記式（Ｉ）で表される重合開始剤を用いてスチレン、１，３−ブタジエン及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させて得られる共重合体の活性末端に、窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物を反応させて得られるものである請求項４記載のゴム組成物。
6. 前記式（Ｉ）のＲ^１１が下記式（Ｉａ）で表される基である請求項４又は５記載のゴム組成物。
   

   

   （式（Ｉａ）中、Ｒ^１４は共役ジエン化合物由来の構造単位及び／又は芳香族ビニル化合物由来の構造単位からなるヒドロカルビレン基を表し、ｎは１〜１０の整数を表す）
7. 前記式（Ｉａ）のＲ^１４がイソプレン由来の構造単位１〜１０単位からなるヒドロカルビレン基である請求項６記載のゴム組成物。
8. 前記ケイ素含有ビニル化合物が、下記式（ＩＩ）で表される化合物である請求項４〜７のいずれかに記載のゴム組成物。
   

   

   （式（ＩＩ）中、ｍは０又は１であり、Ｒ^２１はヒドロカルビレン基を表し、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３は置換アミノ基、ヒドロカルビルオキシ基、又は置換基を有していてもよいヒドロカルビル基を表す）
9. 前記低分子量共役ジエン系重合体が、スチレン及び１，３−ブタジエンの共重合体であり、１，３−ブタジエン部分のビニル結合量が２０〜７０ｍｏｌ％である請求項１〜８のいずれかに記載のゴム組成物。
10. 前記低分子量共役ジエン系重合体が、スチレン及び１，３−ブタジエンの共重合体であり、スチレン含有量が１０〜４５質量％である請求項１〜９のいずれかに記載のゴム組成物。
11. 請求項１〜１０のいずれかに記載のゴム組成物を用いて作製した空気入りタイヤ。