JPS5879033A - ポリアルキルピペリジン系安定剤組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は有機材料の安定剤組成物としての低分子量およ
び高分子量ポリアルキルピペリジンの組合せおよびこの
安定剤組成物で安定化された有機材料に関するものであ
る。

従来低分子量ポリアルキルピペリジンは、多くの刊行物
に光安定剤として記載されている。

例えば次の一般式： （式中、謳は１ないし３の数を表わし、Ｒは一価ないし
５価の炭化水素基を表わす。）で表わされる重要な種類
の立体障害ピペリジンは、米国特許第４．０３ａ２５１
０号明細書に開示されている。

近年、光安定剤として適する種々の高分子量ポリアルキ
ルピペリジンも報告されている。例えば米国特許第４．
２３４４１２号明細書には立体障害ピペリジン基を有す
る縮合および付加重合体が開示され、米国特許第４．２
１６１２号明細書には立体障害ピペリジン基を有するポ
リアクリレートが開示され、そして米国特許第４．０８
６．２０４号明細書には立体障害ピペリジン基を有する
トリアジンポリマーが開示されている。

さらに、一方の成分が立体障害ピペリジンで、多方の成
分が例えば従来知られたＵＶ吸収剤である相乗効果を有
する混合物を見出すための賦与も々されている。この種
の混合物は、例えば米国特許第４１１Ｑ３０４号明細書
によシ知られており、骸明細書には低分子量ポリアルキ
ルピペリジンとベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール
類、修酸ジアニリド類ま九はサリチル酸誘導体との混合
物が開示されている。

本発明者は、低分子量および高分子量ポリアルキルピペ
リジンの混合物が、光安定化作用に関して顕著な相乗効
果を奏することを見出した。

この光安定化作用の増加は当業者が予期し得なかつえも
のである。何故ならば、この作用は作用原理が同じで分
子量の相違のみで区別される光安定剤の組合せによるか
らである。従来の相乗効果を奏する混合物は、例えばフ
ェノール系酸化防止剤およびいわゆるチオシネルジスト
剤に知られるようＫ、構造および作用が大きく異なる物
質よりなる。

本発明は固成式（Ａ−１）ないしくＡ−１２）：Ｒ，−
ＱＣ（０）−（α公５−Ｃ（０）Ｏ−１１１（Ａ　−１
）　。

Ｒｓ−ＱＣ（０）　−（ＣＢｓ）ｓ−Ｃ（０）ＯＲＢ　
　（Ａ　−２）。

Ｒ，−ＮＨ−（ＣＢ、）、−ＮＨ−１，（Ａ−３）。

１、−０ＣＩ１．ＣＩＩ−ＣＨＣＨ，−０４，（Ａ−４
）。

Ｒ１−ＱＣ（０）−Ｎ　（Ｒ１）　−（ＣＨｍ）ｓ−Ｎ
（Ｒ＞）Ｃ（０）　−Ｒｓ　（Ａ　−５Ｌｔ、Ｌ；ａｍ Ｒ，−ＮＨ−Ｃ（０）　−（ＣＢ山−〇（０）−冊−Ｒ
１（Ａ−１２）。

（上記各式中、 Ｒ１は次式： で表わされる基を表わし、 Ｐり １ｍは次式： ％式％ で表わされる基を表わし、 Ｒ，は次式： で表わされる基を表わす、） で表わされる化合物よシなる群から選ばれた低分子量の
立体障害ポリアルキルピペリジンおよび 俤）　次式（Ｂ−１）ないしくＢ−？）：（−Ｃｌ（α
）Ｏ−１，）−ＣＢ、　　−）　　　　（重合度　５−
１００）（Ｂ−１） （Ｎ　（１１）　−（ＣＨＩ）＠　−Ｎ　（Ｒｔ）−Ｃ
Ｉｉｍ）ｓ　＋（ＩＩ−２）　　　　　　　　（重合９
　５−５０）τ で表わされる繰返し単位の１つを有する化合物および次
式（Ｂ−１０）： １４ＮＨ（ＣＨｘ）ｓ　−Ｎ　（Ｒ４）　−（ＣＨ宜）
黛−Ｎ　（Ｒ４）−（ＣＨｘ）ｓ−ＮＨＲ４（Ｂ−ｔｏ
） （弐Ｂ−１０中、 Ｒ１およびＲ１は前記の意味を表わし、Ｒ４は次式： で表わされる基を表わす。） で表わされる化合物よシなる群から選ばれた高分子量立
体障害ポリアルキルピペリジンよりなる安定剤組成物に
関する。

成分囚のうち、（Ａ−ｔ）、（Ａ−２Ｌ　　（Ａ−５）
。

（Ａ−７）、（Ａ−８）、（Ａ−１０）および（＾−１
１）の化合物、特Ｋ（Ａ−１）、ＩＡ−５）、（Ａ−８
）。

（＾−１０）および（Ａ−１１）の化合物が好ましい。

成分（Ｂ）Ｆ）’３ち、（ｆｌ−ｔ）、（Ｂ−２）、（
Ｂ−！り。

（Ｂ−４）、（Ｂ−５）、（Ｂ−ｉ）および（Ｂ−１０
）の化合物が４ＩＫ好まし込。

成分囚およびβ）よ抄なる混合物の一般的特徴は、成分
囚が成分＠）Ｋ比して著しく分子量が小さいこと、およ
び成分因および俤）の全化合物がポリアルキルピペリジ
ン誘導体でＴｏり、したがうて例えばＲ１＠　ＲＩＢ　
Ｒ＊または−で表わされる基の１つを有することである
。

成分＾および俤）の化合物は公知であり公知の方法で製
造できる。

成分＾：俤）の割合は広い範囲で選択できる。

しかしながら、相乗効果は成分囚：の）の割合がＩＱ：
１１にいし１１０、好ましくは５：１ないし１：５、そ
して特に１：２ないし２：１の混合物において著しい。

成分因゛シよびβ）の化合物は、保護すべき物質に対し
て合計嬢度ａｎｔないし５重量−の量で有機材料に添加
される。好ましくはαＯｓないし１．５重量−１そして
％Ｋａ２ないしα６重量嘔混入することが好ましい。

混入は重合前に行うか、または重合後に１例えば化合物
および適当であれば他の添加剤をプラスチック技術分野
で慣用の方法により成形工程前または成形工程中にｆＩ
ＩＩＩｓ物中に混合するか、または溶邂」シ〈は分散し
た化合物をポリマー上に適用し、必要であれば次いで溶
媒を蒸発させることＫよって行なってもよい。

成分（Ａｌおよび俤）の化合物は、安定化すべき物質中
に１これらの化合物を例えば２．５ないし２５重量嘩含
有するマスターパッチの形で添加することもできる。

架橋ポリエチレンの場合には、架橋工程前に化合物を添
加することもできる。

成分囚の化合物１種もしくはそれ以上および成分の）の
化合物１種もしくはそれ以上よ抄なる混合物は、有機材
料を酸素、熱および光による劣化に対して安定化するた
めに適する。次に示すものはこうして安定化される有機
材料の例である： ｔ　モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例え
ばポリエチレン（必要に応じて架橋されていてもよい）
、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブドー１−
エン、ポリメチルベント−１−エン、ポリイソプレンｉ
ｔはポリブタジェン、及びシクロオレフィン、例えばシ
クロヘンテン若しくはノルボルネンのポリマー。

２　前記１）に挙げたポリマーの混合物、例えばポリプ
ロピレンとポリエチレンまたはポリイソブチレンとの混
合物。

五　モノオレフィン及びジオレフィンの相互のコポリマ
ーまえは他のビニルモノマーとのコポリマー、ＨＬはエ
チレン／プロピレンコポリマー、プロピレン／ブドー１
−エンコポリマー、プロピレン／インブチレンコポリマ
ー、エチレン／ブドー１−エンコポリマー、プロピレン
／ブタジェンコポリマー、インブチレン／イソプレンコ
ポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー
、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチ
レン／酢酸ビニルコポリマー、またはエチレン／アクリ
ル酸コポリマー及びその塩（イオノマー）、並びにエチ
レンとプロピレン及びジエン、例えばヘキサジエン、ジ
シクロペンタジェンまたはエチリデンノルボルネンとの
ターポリマー。

４、　ポリスチレン。

翫　スチレンま九はＱ−メチルスチレンとジエンまたは
アクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／ブタ
ジェン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／メタ
クリル酸エチル、スチレン／ブタジェン／アクリル酸エ
チル、スチレン／アクリロニトリル／アクリル酸メチル
；スチレンコポリマーと他のポリマー、例えばポリアク
リレート、ジエンポリマーまたはエチレン／プロピレン
／ジェンターポリマーとから得られた衝撃強度の高い混
合物：及びスチレンのブロックコポリマー、例えばスチ
レン／ブタジェン／スチレン、スチレン／イソプレン／
スチレン、スチレン／エチレン−ブチレン／スチレン、
ｔｗはスチレン−エチレン／プロピレン−スチレンのブ
ロックコポリマー。

＆　スチレンのグラフトコポリマー、例えばスチレンと
ポリブタジェン、スチレン及びアクリロニトリルとポリ
ブタジェン、スチレン及びマレイン酸無水物とポリブタ
ジェン、スチレン及びアクリル酸アルキルを九社メタク
リル酸アルキルとポリブタジェン、スチレン及びアクリ
ロニトリルとエチレンープロピレンージェンターポリマ
ー、スチレン及びアクリロニトリルとポリアルキルアク
リレートを九はポリアルキルメタクリレート、スチレン
及びアクリロニトリルとアクリレート−ブタジェンコポ
リマーのようなグラフトコポリマー、及びこれらと５）
に列挙し九コポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ。

ＭＢＳ、ＡＳＡｔたはＡＥＳポリマーとして知られてい
る混合物。

ｌ　ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、
塩素化ゴム、塩発化若しくはクロロスルホン化ポリエチ
レン、エビクロロヒドリンホモポリマーおよびコポリマ
ー、特にハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、例えば
ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ弗化ビニル
、ポリ弗化ビニリデン及びこれらのコポリマー、例えば
塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニル
または塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー ＪＬ　　ａ、　　β−不飽和酸及びその誘導体から”誘
導されたポリマー、例えばポリアクリレート及びポリメ
タリレート、ポリアクリレートド及びポリアクリロニト
リル。

ρ　前記８）Ｋ挙げたモノマー相互のまたは他の不飽和
モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブ
タジェンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアク
リレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシア
クリレートコポリマー、アクリロニトリル／ハロゲン化
ヒニルコポリマーまたはアクリロニド１１ル／アルキル
メタクレート／ブタジエンターポリマー。

１（Ｌ　不飽和アルコール及びアミンを九はそのアシル
誘導体またはアセタールから誘導されたポリマー、例え
ばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニル
ステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマ
レエート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレー
ト、ポリアリルメラミン。

１ｔ　環状エーテルのホモポリマー及びコポリマー、例
えばポリエチレングリコール、ポリエチレンオキシド、
ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−グリシジ
ルエーテルとのコポリマーｅ １ｚ　ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン、及
びコモノマー、例えばエチレンオキシドを含むポリオキ
シメチレン。

１五　ポリフェニレンオキシド及びスルフィド。

１表一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエー
テル、ポリエステル及びポリブタジェンと他方の成分と
して脂肪族また社芳香族ポリイソシアネートとから誘導
されたポリウレタン及びその前駆物質（ポリイソシアネ
ート、ポリオール及びプレポリマー）。

１５、ジアミン及びジカルボン酸及び／またはアミノカ
ルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポリア
ミド及びコポリアミド、例えばポリアミド４、ポリアミ
ド６、ポリアミド６／６、ポリアミド６／１０、ポリア
ミド１１、ポリアミド１２、ポリ−２，４，４−）リメ
チルへキサメチレンテレフタルアミド、ポリ−ｍ−フェ
ニレンイソフタルアミド、及びこれらとポリエーテル、
例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコ
ールまたはポリテトラメチレングリコールとのコポリマ
ー。

１＆　ポリ尿素、ポリイミド及びポリアミドイミド。

１７、ジカルボン酸及びジオール及び／ま九はヒドロキ
シカルボン酸または相当するラクトンから誘導されたポ
リエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリ
ブチレンテレフタレート及びポリ−１，４−ジメチロー
ルシクロヘキサンテレフタレート、ポリ−〔２，２−ビ
ス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン〕テレフタレ
ートま九はポリヒドロキシベンゾエート及び更にヒドロ
キシ末端基を有するポリエチレン、ジアルコール及びジ
カルボン酸から誘導されたブロックポリエーテルエステ
ル。

１ａ　　ポリカーボネート。

１９、ポリスルホン及びポリエーテルスルホン。

２α一方の成分としてアルデヒド及び他方の成分として
フェノール、尿素またはメラミンから誘導され九架橋ポ
リマー、ガニばフェノール−ホルムアルデヒド樹脂、尿
素−ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン−ホルムアルデ
ヒド樹脂ｌ脂。

２ｔ　乾性及び不乾性アルキド樹脂。

２２．１ｓ和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコール
及び架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステルか
ら誘導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性の低
いハロゲン含有変性物。

２Ｘ　　置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアク
リレート、ウレタン／アクリレートまたはポリエステル
／アクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。

２毛　　メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネート
またはエポキシ樹脂で架橋されたアルキド樹脂、ポリエ
ステル樹脂及びアクリレート樹脂。

２５　ポリエポキシド、例えばビス−グリシジルエーテ
ル、または脂環式ジエボキシドから誘導された架橋エポ
キシ樹脂。

２＆天然ポリマー、例えばセルロース、天然ゴム及びゼ
ラチン、並びにこれらの化学的に変性された重合同族体
誘導体、例えば酢酸セルロース、プクビオン酸セル四−
ス及ヒｆｌ（ｌセルロース、及びセルロースエーテル、
ガニばメチルセルロース。

このようＫして安定化される有機材料は、好ましくは有
機ポリマーであ抄、非常に多様の形、例えば成形品、フ
ィルム、ファイバー、フオーム、プロフィールまたは塗
装剤として、あるいはラッカー、接着剤またはパテの結
合剤として使用できる。

本発明の安定剤組成物は、他の添加剤を慣用濃饗で併用
してもよい。そのような添加剤の例として次のものがあ
げられる： ｔ　酸化防止剤 １．１　　アルキル化モノフェノール ２．６−ジー第３ブチル−４−メチルフェノ−Ａ、２−
ｆＪｉｉｔｓブチル−４，６−シメチルフエノール、２
．６−ジー第５ブチル−４−エチルフェノール、２，６
−ジー第５ブチル−４−’ｎ−ブチルフェノール、２，
６−ジー第３ブチル−４−イソブチルフェノール、２，
６−ジ−シクロベンチルー４−メチルフェノール、２−
（ａ−メチル−シクロヘキシル）　−４，６−シメチル
フエノール、２．６−ジ−オクタデシル−４−メチルフ
ェノール、！、４．４−）ジ−シクロヘキシルフェノー
ルおよび２．６−ジー第５ブチル−４−メトキシメチル
フェノール。

ｔ２　アルキル化ハイドロキノン ２．６−ジー第３ブチル−４−メトキシフェノール、２
．５−ジー第３ブチルハイドロキノンおよび２，５−ジ
ー第３アミルハイドロキノン。

ｔ５　ヒドロキシル化　チオジフェニル　エーテル ２．２′−チオ−ビス−（６−第５ブチル−４−メチル
フェノール）、２．２’　−チオ−ビス−（４−オクチ
ルフェノール）、４，４′−チオービｘ−（６−第５ブ
ｆルー５−）ｆルフェノール）および４，４′−チオ−
ビス−（６−第３ブチル−２−メチルフェノール）。

２．２′　−メチレン−ビス−（６−第３ブチル−４−
メチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス−（６
−ＩＪＮ５プｆルー４−エチルフェノール）、２．２′
−メチにンービスー〔４−メチル−６−（α−メチルシ
クロヘキシル）−フェノール〕、２．２′−メチレン−
ビス−（４−メチル−６−シクロヘキジルフエノール）
、２．２’−メチレン−ビス−（６−ノニル−４−メチ
ルフエノーリ、２．２′　−メチレン−ビス−（４，６
−ジー第３ブチルフエノール）、２１”　−エチリデン
−ビス−（４，６−ジー第３プチルフエ〉−ル）、２．
２′　−エチリデン−ビス−（６−第５ブチル−４−イ
ソブチルフェノール）、４．４’−メチレン−ビス−（
２，６−第５ブチルフエノール）、４．４’−メチレン
−ビス−（６−第３フチルー２−メチルフェノール）、
１．ｔ−ビス＝（５−第３ブチル−４−ヒドロキシ−２
−メチルフェノール）−ブタン、２，６−ジー（３−第
３ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４
−メチルフェノール、１，１．５−）リス−（５−ＩＩ
ＩＩ３ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェノール
）−ブタン、１．１−ビス−（５−第５ブチル−４−ヒ
ト０ロキシー２−メチルフェニル）　−５−ｎ−ドデシ
ルメルカプトブタン、エチレン　グリコール　ビス−［
！１．５−ビスー（ｓ’４ｇ５−ブチル−４′−ヒドロ
キシフェニル）−ブチラード、ジー（３−第３ブチル−
４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−ジシクロペン
タジェンおよびジー（２−（５’−第３ブチル−２′−
ヒドロキシーダーメチルーペンジル）−４−５ｉ３ブチ
ル−４−メチル−フェニル〕テレフタレート。

１．５．５−）ジー（３，５−ジー第３ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）　−２，４，６−）リメ≠ルベンゼ
ン、ジー（５，５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）スルフィド、インオクチル　３．５−）−第５
ブチル−４−ヒドロキシベンジル−メルカプトアセテー
ト、ヒス−（４−第３ブチル−３−ヒドロキシ−２，６
−シメチルベンジル）−ジチオール　テレフタレート、
１、５．５−　）リス−（３，５−ジー第３ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）インシアヌレート、１、　Ｓ、
　５−トリス−（４−第３ブチル−５−ヒドロキシ−２
，６−シメチルベンジル）インシアヌレート、ジオクタ
デシル　３，５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル−ホスホネートおよびモノエチル　５，５−ジー第
３ブチル−４−ヒドロキシベンジル−ホスホネートのカ
ルシウム塩。

１．６　　アシルアミノフェノール ４−とド四キシーラウルリ酸アニリド、４−ヒドロキシ
−ステアリン酸アニリドおよび２．４−ビス−オクチル
メルカプト−６−（５，５−ジー第３ブチル−４−ヒド
ロキシアニリノ）−８−トリアジン。

一価もしくは多価アルコール、例えばメタノール、オク
タデカノール、ヘキサン−１，６−ジオール、ネオペン
チルグリコール、チオジエチレン　クリコール、ジエチ
レングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリ
トリトール、トリス−ヒト０ロキシエチル　イソシアヌ
レートおよびジヒドロキシエテル−修酸ジアミドとのエ
ステル。

Ｊニ 一価もしくは多価アルコール、例えばメタノール、オク
タデカノール、ヘキサン−１，６−ジオール、ネオペン
チルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリト
リトール、トリス−ヒドロキシエチル　イソシアヌレー
トおよびジヒドロキシエチル−修酸ジアミドとのエステ
ル。

例えばＮ、　Ｎ’−ジー（３，５−ジー第３ブチル−４
−ヒ）ａキシフェニルプロピオニル）−へ中サメチレン
ジアミン、　Ｎ、　Ｎ’−ジー（３，５〜ジー＠５ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−トリメチ
レンジアミンおよびＮ、Ｎ’−ジ〜（３，５−ジー第３
ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラ
ジン。

リアゾール 例えば５′−メチル：３，５’−ジー第３ブチル；５′
−第３ブチル；ジー（１，１，３，，５−テトラメチル
ブチル）：５−クロル−ｓｌ、ｓｌ−ジー第５ブチル：
５−クロル−ｓ’−ｔ７ｇｓブチル−５′−メチル；３
’−ｇ２プｆ　ｓ、　−５’−第５プｆ　ル＊　”　−
＃　ｌ　）キシおよび５′、ジ−ジー第５７ミル誘導２
、２　２−ヒドロキシベンゾフェノン例えば、４−ヒド
ロキシ；４−メトキシ：４−オクトキシ；４−デシルオ
キシ；４−ドデシルオキシ：４−ベンジルオキシ；　４
，　２’，４’−　）リヒドロキシおよび２′−ヒドロ
キシ−４．４′−ジメトキシ誘導体。

２、３　　置換もしくは非置換安息香酸のエステル例え
ば、４−第３ブチル−フェニルサリチレート、フェニル
サリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベン
ゾイルレゾルシノール。

ビス−（４−第５ブチルベンゾイル）−レゾルシノール
、ベンゾイルレゾルシノールおヨヒ２。

４−ジ−第５ブチルフエニル−３．５−ジーｌｌ３７’
　ｆ　ルー　４−ヒドロキシベンゾエート。

例えば、エチルもしくはインオクチルａ−シアノ−β，
β−ジフェニルアクリレート、メチルＯーカルボメトキ
シーシンナメート、メチルもしくはブチル　α−シアノ
−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメート、メチル　
Ｑ−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ−シンナメートおよ
びＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２
−メチル−インドリン。

２、５　　ニッケル化合物 例えば２．２′−チオ−ビス−（４−（１，　１，　５
。

３−テトラメチルブチル）−フェノール〕のニッケル錯
体例えば１：１もしくは１：２錯体で所望により付加配
位子、例えばｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミン
もしくはＮ−シクロヘキシルジェタノールアミンを持つ
もの、ニッケル　ジブチルジチオカルバメート、４−ヒ
ドロキシ−３，５−ジ−第３ブチルベンジル−ホスホン
酸モノアルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエ
ステルのニッケル塩、ケトオキシムのニッケル錯体、・
例えば２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシル
ケトオキシムおよび１−フェニル−４−ラウロイル−５
−ヒドロキシ−ピラゾールのニッケル錯体で所望により
付加配位子を持つもの。

２．６　　蓚酸ジアミド 例えば４．４１−ジ−オクチルオキシ−修酸アニリド、
２．２′　−ジ−オクチルオキシ−５，５’−ジー第３
ブチル修酸アニリド、２．２’　−ジドデシルオキシ−
５，５′−ジー第３ブチル修酸アニリド、２−エトキシ
−２′−エチル−修酸アニリド、ＮＩＷ−ビス−（３−
ジメチルアミノツクピル）−蓚酸アミド、２−エトキシ
−５−第３ブチル−２′−エチル−修酸アニリドおよび
それと２−エトキシ−２′−エチル−５，４′−ジーｗ
ｉ３ブチに修酸アニリドとの混合物、オルト−およびパ
ラ−メトキシ−ジ置換およびまたＯ−およびｐ−エト中
シージ置換蓚酸アニリドの混合物。

五　金属不活性化剤 例えばＮ、　Ｎ’−ジフェニル蓚酸ジアミド、Ｎ−サリ
チラルーＮ′−サリチロイルヒドラジン、Ｎ。

Ｎ′−ビス−サリチロイルヒドラジン、Ｎ、　Ｎ’　　
−ビス−（３，５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル）−ヒドラジン、３−サリチロイル
アミノ−１，２，４−）リアゾールおよびビス−ベンジ
リデン−蓚酸ジヒドラジン。

４、　ホスフィツトおよびホスホニットガニｔｆ）リフ
ェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィツト
、フェニルジアルキルホスフィツト、トリー（ノニルフ
ェニル）ホスフィツト、トリラウリルホスフィツト、ト
リオクタデシルホスフィツト、ジステアリル−ペンタエ
リトリトール　ジホスフィット、トリス−（２，４−ジ
ー第３ブチルフエニル）ホスフィツト、ジインデシル−
ペンタエリトリトール　ジホスフィット、ジー（２，４
−ジー第５ブチルフエニル）−ペンタエリトリトール　
ジホスフィット、トリステアリル−ソルビトールトリホ
スフィツトおよびテトラキス−（２，４−ジー第５ブチ
ルフエニル）　４．４’−ジフヱニレンジホスホニット
。

５、　過酸化物分解化合物 例えば、β−チオ−ジプロピオン酸のエステル例えばラ
ウリル、ステアリル、ミリスチルもしくはトリデシルエ
ステル、メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプ
トベンズイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチル−ジチオ
カルバメート、ジオクタデシルジスルフィドおよびペン
タエリトリトール　テトラキス−（４−ドデシルメルカ
プト）−プロピオネート。

瓜　ポリアミド安定剤 例えば沃素および／を九は燐化合物を組合せた銅塩、お
よび二価マンガン塩。

ｌ　塩基性補助安定剤 例えばメラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジア
ミド、トリアリル　シアヌレート、尿素誘導体、ヒドラ
ジン誘導体、アミノ、ポリアミド、ポリウレタン、高級
脂肪酸のアルカリ金属およびアルカリ土類金属塩、例え
ばステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステア
リン酸マグネシウム、リシノール酸ナトリウム、パルミ
チン酸カリウムおよびピロカテコール酸アンチモンもし
くはピロカテコール酸スズ。

ａ　核剤　　。

例えば４−第３ブチル安息香酸、アジピン酸およびジフ
ェニル酢酸。

θ　充填剤および補強剤 例えば炭酸カルシウム、シリケート、ガラス繊維、石綿
、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物
および水酸化物、カーボンブラックおよびグラファイト
。

１α他の添加剤 例えば可塑剤、滑剤、乳化剤、顔料、螢光増白剤、防炎
加工剤、帯電防止剤および液体発泡剤。

以下に本発明に従って安定剤混合物を使用するととＫよ
って得られる驚くべき相乗効果を実施例にて示す。

電化作用 １００部のポリプロピレン粉末（メルトフロ−インテッ
クス２３０℃／２．１６Ｋｐ　〜１２　）を、グラベン
ダープラストグラフ中２００℃にて１１０５部のペンタ
エリトリチル　テトラキス−５−（３，５−シー　第５
７’チル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、
α０５部のトリス−（２，４−ジー第３ブチルフエニル
）ホスフィツトおよびα０７５部の次表の２種の各安定
剤とともに１０分間均質化した。このよう圧して得られ
た組成物をニーグーから出来るだけ早く取り出し、トグ
ルプレス中で２〜３■の厚さのプレートに圧縮成形する
。得られた粗成形品の一部をカットしそして２枚の高光
沢ハードアルミニウムホイル間で実験室プレスにより６
分間、２６０℃にて１２トンの圧力で圧縮してａｔ■の
厚さのフィルムを得、即座に冷水中で冷却する。このフ
ィルムを各４５Ｘ４５■に打抜き、キセノテス）　１２
００中で照射する。一定の時間間隔でこれらのテストサ
ンプルを照射装置から取抄出し、それらのカルボニル含
有量を赤外線スペクトルメーターで試験し友、露光によ
るカルボニル吸光の増加はポリマーの光酸化度の規準〔
エル、ブラバンら（Ｌ、　Ｂｌａｂａｎ　ｅｔａｌ、、
　〕ジャーナル・オプ・ポリマーサイエンス、パートＣ
（Ｊ、Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉ。

Ｐａｒｔ　Ｃ，）第２２巻、第１０５９〜１０７１頁（
１９６９年）〕、〔ジェイ、エフ、ヒーコック（Ｊ、　
Ｆ。

Ｈｅａｃｏｃｋ　）ジャーナル・オプ・ポリマー　サイ
エンス　　パートＡ　−１（Ｊ、　Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓ
ｃｉ、　ＰａｒｔＡ−１）第２２巻、第２９２１〜３４
頁（１９６９年）〕、〔デー、ジェイ、カールソン（Ｄ
、　Ｊ、　Ｃａｒｌｓｓｏｎ）およびデー、エム、ワイ
ルス（ＤｌＭ、Ｗｉｆｅｓ）マクロモレキニールズ（Ｍ
ａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ　）第２巻、第５８７〜６
０６頁、１９６９年参照〕となシ、経険によれば、ポリ
マーの機械的特性の悪化を表わすことが判っている。ａ
ｌｏｏのカルボニル吸光に至る時間を安定化作用の規準
とする。

結果を第１表に示す。

第　　　１　　　表 ［１１■ポリプロピレンフイルム中の光安定性活性安定
化作用 １００部の市販、未安定化ポリウレタン樹脂（工□２■
：　ｇｓｔｍｎｅ　５７０７Ｆ　、）およ。以。

の第２表の各成分Ａと成分Ｂの１１２５部をジメチルホ
ルムアミドおよびアセトン１：１混合物３００部中に溶
解させる。攪拌を一夜行ない完全に溶液とする。重合溶
液を次いでガラスプレート上に注ぎ４３０μの厚さのフ
ィルムを得る。ガラスプレート上のフィルムを６０℃に
で４分間、続いて１４０℃の空気循環炉で６分間乾燥さ
せる。

得られた製品は６５ｇの厚さの乾式注型フィルムである
。これをガラスプレートから取シ除き、５ＸｔＯａｗの
サイズの試験試料にカットする。

試験試料をキセノテスト４５０中で４２０　ａｍでの透
過ロス１５１ｊが観察されるまで照射する。

結果を第２表Ｋｉとめた。

表　　　２ ６５　ｓｍ厚さポリウレタン注型フィルム中での光安定
化作用　　　　・ 実施例５　結晶性ポリスチレンの光安定化作用１００部
の結晶性ポリスチレンペレットｔ　第’、、Ｓ表に示す
成分Ａ（Ｌ１部および成分Ｂ［１１部とともに乾燥混合
し、乾燥混合物を次いで押出により均質化する。このよ
うＫして得られた安定化ペレットを射出成形し、２■の
厚さのプレートを得た。このプレートをウェザー−０−
メーターＷＲＣ６００（Ｗｅａｔｈｅｒ−０−Ｍｅｔｅ
ｒ　ＷＲＣ６０Ｇ　）中で２０００時間照射し、黄色度
指数（ｙｔ）をＡＳＴＭ　Ｄ　　１９２５／７０に従い
測定した。

結果を第３表に示した。

第　　３　　表 厚さ２■の結晶性ポリスチレン射出成形プレート中での
光安定化作用

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （リ　（２）次式（Ａ−１）ないしくＡ−１２）：島−
   〇〇（０）−（ＣＨｓ）ｓ−Ｃ（０）Ｏ−Ｌ　（Ａ−１
   ）。 Ｒｓ−ＱＣ（０）−（０１％）ａ−Ｃ（０）ＯＲ＃（Ａ
   −２）−島−ＮＨ−（ＣＨ彦）ｓ−ＮＨ−島　　（Ａ−
   ３）。 Ｒ，−ＯＣ＆ＣＨ冒ＣＨＣＨ，−〇−島　（Ａ−４）。 島−ＱＣ（０）　−Ｎ　（Ｌ）　−（α−−−）ｉ　（
   Ｌ）Ｃ（０）Ｏ−１１（Ａ−５）、　　Ｒ，−０−５量
   （−Ｃ１ｌｓ）雪−０−１１（Ａ−４）。 Ｒ１−Ｎｕ　−Ｃ（０）　−（ＣＨＪｓ　−Ｃ（０）　
   −Ｎｕ　−Ｒ１（Ａ　−１２）。 （上記各式中、 ｋ、は次式： で表わされる基を表わし、 で表わされる基を表わし、 で表わされる基を表わす。） で表わされる化合物よシなる群から選ばれ九低分子量の
   立体障害ポリアルキルピペリジンおよび 俤）　次式（Ｂ−１）な−Ｌ　（ＩＩ−９）　：（−Ｃ
   Ｂ　（Ｃｏｏ　−Ｒｓ）　−ＣＨＩ　±（重合［５５−
   １Ｏ０）（Ｂ−１ ）ｆＮ（Ｒｓ）−（Ｃ冨）ｓ　−Ｎ　（１＊）　４ＣＩ
   ｌｓ）ｍ→（重合度５−５０）（Ｂ−２） ＋ＣＭ　（ＣＯＯ−１１）　−ＣＨＩ＋　＋Ｃａｍ−Ｃ
   Ｈａ　＋（［）　　　　　　（［） （Ｂ−１） 一＋Ｎ　（Ｌ）　−（偽）・−１（（約−〇（０）−（
   Ｃ１ｌ雪）＊−Ｃ（０）＋−（Ｂ−ａ）　　　　　　　
   　　　　　　　（重合＃Ｌｓ　−ｓ　ｏ　）（Ｂ−７） （Ｂ−９） で表わされる繰返し単位の１つを有する化合物および次
   式（Ｂ、ｔｏ）： Ｌ　ＮＨ（ＣＨＩ）ｌ　−Ｎ　（Ｒ４）　−（ＣＬ）ｍ
   −Ｎ　（Ｌ）　−（ＣＴｏ）ｍ　−ＮＨＬ（Ｂ−１０） （弐Ｂ−ｔｏ中、 島およびＲ３は前記の意味を表わし、 Ｒａ社次式： で表わされる基を表わす。） で表わされる化合物よ）なる群から選ばれた高分子量立
   体障害ポリアルキルピペリジンよシなる安定剤組成物。 （２）　　成分（２）として化合物（Ａ−１）、（Ａ−
   ２）。 （Ａ−５）、（Ａ−７）、（Ａ−８）、（Ａ−１０）ま
   たは（Ａ−１１）を含有する特許請求の範囲第１項記載
   の組成物。。 （１）　　成分向とｌ、−ｔ”化合物（Ｂ−１）、（Ｂ
   −２）。 （Ｒ４）、（Ｂ−４）、（Ｂ−５）、（Ｂ−４）まえは
   （Ｂ−１０）を含有する特許請求の範囲第１項記載の組
   成物。 １４）　　成分＾とじて化合物（Ａ−１）、（Ａ−５）
   。 （Ａ−８３，（Ａ−１０）まえは（Ａ−１１）を含有す
   る特許請求の範囲第１項記載の組成物。 （５）　　成分（５）と０１）を１０：１ないし１：１
   ０の割合で含有する特許請求の範囲第１項記載の組成物
   。 （句　成分＾と俤）を５：１なＬｎｌ、１：５の割合で
   含有する特許請求の範囲第５項記載の組成物。 （７）四　次式（Ａ−１）ないしくＡ−１２）：ｔＩ−
   Ｑｃ　（０）−（（コ）−−１〇　　（０）Ｏ−Ｒ１（
   Ａ　　−１）−Ｒ雪−〇〇（０）−（α晶−Ｃ（０）Ｏ
   Ｒｍ　　（Ａ−２）。 Ｌ−ＮＨ−（Ｃａｍ）ｓ−ＮＨ−Ｒｔ　　（Ａ　−５）
   。 Ｒ＠−０ＣＲＩＣＨ−ＣＨＣＨＩ　−０−Ｒｓ　　（Ａ
   　−４）　。 Ｒｔ−〇〇（０）−Ｎ（Ｒｓ）−（ＯＨ）ｓ−Ｎ（Ｒ１
   ）Ｃ（０）Ｏ−Ｒｘ　（Ａ　−５）。 １１−０−８　ｌ　　（ＣＨｍ）諺−〇−１，（Ａ−６
   ）。 Ｒ５−Ｎｉ１−Ｃ（０）−（四−ｃ　（ｏ）−冊−１１
   （Ａ−１２）。 （上記各式中、 Ｒ１は次式： で表わされる基を表わし、 Ｒ３社次式： で表もされる基を表わし、 Ｒ，は次式： で表わされる基を表わす、） で表わされる化合物よシなる群から選ばれ九低分子量の
   立体障害ポリアルキルピペリジンおよび 俤）　次式（Ｂ−１）ないしくＢ−１）：（−ＣＨ（Ｃ
   ００−Ｌ＋）−Ｃ）ｂ÷　　　（重合１１５−１００）
   （Ｂ−１） 千Ｎ　（Ｌ）−（ＣＨｓ）ｓ　−Ｎ　（Ｒ１）−（ｃＨ
   ｓ）ｓ十（Ｂ−２）　　　　　　　　　（重合＠Ｓ−Ｓ
   Ｏ）で表わされる繰返し単位の１つを有する化合物およ
   び次式（Ｂ−１０）： Ｒａ’ＮＨ（ＣＨりｍ　−Ｎ　（Ｒ４）　−（ＣＨＪｍ
   　−Ｎ　（Ｒｊ　−（ＣＨ山−謹４（Ｂ−１０） （弐Ｂ−１０中、 島およびＲ１は前記の意味を表わし、 Ｒ４は次式： で表わされる基を表わす。） で表わされる化合物よシなる群から選ばれ九高分子量立
   体障害ポリアルキルピペリジンよりなる安定剤組成物を
   含有する有機重合体。 （８）有機重合体に対して安定剤組成物をｌ１０１ない
   し５重量−含有する特許請求の範囲第７項記載の有機重
   合体。