KR20140096036A - 안정화 폴리카르보네이트/아크릴로니트릴/스티렌/아크릴산 에스테르 성형 화합물 - Google Patents

안정화 폴리카르보네이트/아크릴로니트릴/스티렌/아크릴산 에스테르 성형 화합물 Download PDF

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Abstract

본 발명은, a) 성분 A로서의 3 내지 91.7 중량%의 적어도 하나의 방향족 폴리카르보네이트, b) 성분 B로서의 3 내지 91.7 중량%의 하나 이상의 스티렌 공중합체, c) 성분 C로서의 3 내지 91.7 중량%의, 고무 상에 올레핀계 이중 결합을 갖지 않는 하나 이상의 충격-개질 그라프트 고무, 및 d) 성분 D로서의 0.2 내지 0.9 중량%의 화학식 I의 화합물, e) 성분 E로서의 0 내지 0.9 중량%의 화학식 II의 블렌드, f) 0 내지 0.9 중량%의 트리아진 안정화제, 및 임의로는 다른 성분을 함유하며, 단 성분 E의 중량%가 0인 경우, 적어도 하나의 다른 안정화제는 0.01 내지 0.9 중량%의 양으로 존재하는 것인, 열가소성 성형 화합물에 관한 것이다. 상기 성형 화합물은 우수한 내후 특성을 갖는다.
<화학식 I>
Figure pct00027

<화학식 II>
Figure pct00028

(여기서, n은 2 내지 20임)

Description

안정화 폴리카르보네이트/아크릴로니트릴/스티렌/아크릴산 에스테르 성형 화합물 {STABILIZED POLYCARBONATE/ACRYLONITRILE/STYRENE/ACRYLIC ESTER MOULDING COMPOUNDS}
본 발명은 적어도 폴리카르보네이트, 스티렌 공중합체를 포함하고 고무 상에 올레핀계 이중 결합을 갖지 않는 충격-개질 그라프팅된 고무를 포함하는 열가소성 성형 조성물에 관한 것이다.
다양한 종류의 안정화 열가소성 성형 조성물이 주지되어 있고 그의 성능 특성, 특히 우수한 내후성이 많은 용도에서 유리하기 때문에 널리 사용된다. 폴리카르보네이트 및 ASA의 폴리블렌드 (아크릴로니트릴/스티렌/아크릴산 에스테르 중합체)는 탁월한 기계적 특성을 갖는다. 당업자는 이들 성형 조성물의 세부 사항을 예를 들어, 문헌 [L. Bottenbruch, Kunstoff-Handbuch, Volume 3/2 "Engineering polyblends" [in German], Hanser Verlag, Munich 1993]에서 찾을 것이다.
EP-A 1 263 855는, 예를 들어, 폴리에틸렌 또는 폴리프로필렌 또는 그의 공중합체 이외에도, 이하에 언급된 본 발명의 화학식 I, II, III, IV, V 또는 VI의 화합물을 1.5% 이하의 양으로 아크릴레이트 고무-개질 비닐방향족 공중합체 (ASA, 아크릴로니트릴/스티렌/아크릴레이트) 또는 폴리카르보네이트와 조합하여 추가로 포함할 수 있는 안정화 성형 조성물을 개시한다. 이들 성형 조성물은 내열성이 결여되어 있기 때문에 불리하다.
US 4,692,486은 개별 안정화제 성분이 각각 0.1 중량% 이하로 사용되는, 폴리프로필렌, 폴리우레탄 및 폴리스티렌을 위한 본 발명의 화학식 I 및 III의 화합물을 포함하는 안정화제 혼합물을 개시한다. 또한, 이들 혼합물은 성형 조성물이 내열성이 결여되어 있기 때문에 불리하다.
DE-A 103 16 198은 다양한 유형의 열가소성 중합체, 예를 들어 폴리프로필렌 등의 안정화제 혼합물을 개시한다. 안정화제 혼합물은 3성분 혼합물이다. 상기 안정화제 혼합물의 3종 성분 각각에 대해, 다수의 가능한 통상적인 화합물 및 구체적인 화합물이 기재되어 있다. 많은 가능한 것들 중 단지 하나로서 본 발명의 화학식 I, II 및 III의 화합물을 포함하는 안정화제 혼합물이 기재되어 있다.
3종의 안정화제 성분 각각은 바람직하게는 유기 물질을 기준으로 0.05 내지 1 중량%의 양으로 존재할 수 있다. 이들 혼합물은 풍화작용 동안 다축 인성이 현저히 감소하기 때문에 불리하다.
본 발명의 목적은 폴리카르보네이트 및 아크릴로니트릴/스티렌/아크릴레이트 성형 조성물을 기재로 하는 개선된 성형 조성물을 제공하는 것이다.
따라서, 본 발명은
a) 성분 A로서의 3 내지 91.7 중량%의 적어도 하나의 방향족 폴리카르보네이트,
b) 성분 B로서의 3 내지 91.7 중량%의 하나 이상의 스티렌 공중합체,
c) 성분 C로서의 3 내지 91.7 중량%의, 고무 상에 올레핀계 이중 결합을 갖지 않는 하나 이상의 충격-개질 그라프팅된 고무,
d) 성분 D로서의 0.2 내지 0.9 중량%의 화학식 I의 화합물,
e) 성분 E로서의 0 내지 0.9 중량%의 화학식 II의 혼합물,
f) 성분 F로서의, 0 내지 0.9 중량%의 화학식 III의 화합물, 또는 0 내지 0.9 중량%의 화학식 IV의 화합물, 또는 0 내지 0.9 중량%의 화학식 V의 화합물, 또는 0 내지 0.9 중량%의 화학식 VI의 화합물,
g) 0 내지 25 중량%의 적어도 하나의 할로겐-비함유 인 화합물 G
h) 성분 H로서의 0 내지 10 중량%의, 성분 D, E, F 및 G 이외의 하나 이상의 첨가물 물질, 및
i) 성분 I로서의 0 내지 40 중량%의 섬유성 또는 미립자 충전제
를 포함하며 (또는 심지어 상기 성분으로 이루어지며),
단, 성분 E가 정확히 0 중량%인 경우 (즉, 성분 E가 존재하지 않는 경우), 화학식 III, IV, V 또는 VI의 성분 중 적어도 하나가 0.01 내지 0.9 중량%, 바람직하게는 0.1 내지 0.9 중량%, 보다 바람직하게는 0.2 내지 0.8 중량%의 양으로 존재하고, 여기서 중량%는 각각 성분 A 내지 I의 총 중량을 기준으로 한 것이며, 이들의 합은 100 중량%가 되는 것인,
신규하고 개선된 열가소성 성형 조성물을 제공한다.
<화학식 I>
Figure pct00001
<화학식 II>
Figure pct00002
(n은 2 내지 20이고,
여기서, 하기 물질이 종종 사용됨:
<화학식 II>
Figure pct00003
),
<화학식 III>
Figure pct00004
<화학식 IV>
Figure pct00005
(여기서,
Figure pct00006
이고,
n은 2 내지 20임)
<화학식 V>
Figure pct00007
(여기서, n은 2 내지 20임)
<화학식 VI>
Figure pct00008
(여기서, n은 2 내지 20임)
안정화제 성분 D 및 안정화제 성분 E 및 임의로는 추가의 안정화제 성분 (예를 들어, F)을 포함하는 성형 조성물이 바람직하다. 또한 0.2 내지 0.9 중량%의 안정화제 성분 E를 포함하는 성형 조성물이 바람직하다.
본 발명은 추가로 성분 C의 팽윤 지수가 6 내지 20의 범위인 것인 열가소성 성형 조성물을 제공한다.
본 발명은 추가로 성분 B가 아크릴로니트릴, 스티렌 및/또는 α-메틸스티렌, 페닐말레이미드, 메틸 메타크릴레이트 또는 그의 혼합물의 공중합체를 포함하는 것인 열가소성 성형 조성물을 제공한다.
본 발명은 추가로 성분 C가, C를 기준으로 55 내지 80 중량%의 엘라스토머-가교된 아크릴산 에스테르 중합체 C1 및 C를 기준으로 45 내지 20 중량%의 그라프트 시스(sheath) C2를 포함하는 아크릴레이트-스티렌-아크릴로니트릴 (ASA) 그라프트 중합체의 혼합물을 포함하며, 상기 그라프트 시스 C2는 80:20 내지 65:35의 중량비의 비닐방향족 단량체 및 하나 이상의 극성 공중합성 에틸렌계 불포화 단량체, 임의로는 추가의 공중합성 에틸렌계 불포화 단량체로부터 형성된 것인 열가소성 성형 조성물을 제공한다.
본 발명은 추가로 성분 C에서 성분 C1이 0.01 내지 20 중량%, 바람직하게는 0.1 내지 5 중량%의 가교 단량체, 바람직하게는 부틸렌 디아크릴레이트, 디비닐벤젠, 부탄디올 디메타크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 디알릴 메타크릴레이트, 디알릴 말레에이트, 디알릴 푸마레이트, 트리알릴 메타크릴레이트, 트리알릴 이소시아누레이트, 보다 바람직하게는 디알릴 프탈레이트, 알릴 메타크릴레이트 및/또는 디히드로디시클로펜타디에닐 아크릴레이트를 포함하는 것인 열가소성 성형 조성물을 제공한다.
본 발명은 추가로 성분 C의 평균 입자 직경이 50 내지 1200 ㎚인 것인 열가소성 성형 조성물을 제공한다.
본 발명은 추가로 성분 D 및 E의 중량비가 4:1 내지 1:1의 범위이고 성분 E 및 F의 중량비가 2:1 내지 0.5:1의 범위인 것인 열가소성 성형 조성물을 제공한다.
본 발명은 추가로 0 내지 1.5 중량%의 프탈산 에스테르 또는 아디프산 에스테르를 포함할 수 있는 열가소성 성형 조성물을 제공한다.
본 발명은 추가로 성분 C1이 2 내지 99 중량%의 부틸 아크릴레이트를 포함하는 것인 열가소성 성형 조성물을 제공한다.
본 발명은 추가로 C2에서 비닐방향족 성분이 스티렌 또는 α-메틸스티렌 중 하나를 포함하는 것인 열가소성 성형 조성물을 제공한다.
본 발명은 추가로 C2에서 에틸렌계 불포화 성분이 아크릴로니트릴 및/또는 C1-C8 알킬을 갖는 알킬 메타크릴레이트 및/또는 알킬 아크릴레이트를 포함하는 것인 열가소성 성형 조성물을 제공한다.
본 발명은 추가로 성분 C가 단봉성 또는 쌍봉성 입자 크기 분포로 그라프팅된 고무를 포함하는 것을 특징으로 하는 열가소성 성형 조성물을 제공한다.
성분 A 내지 D 및, 임의로는, 성분 E 내지 I를 100 내지 300℃의 온도 및 1 내지 50 bar의 압력에서 임의의 바람직한 순서로 서로 상호 혼합한 다음, 혼련하고, 압출시키는 것을 특징으로 하는, 상기에서 기재된 바와 같은 열가소성 성형 조성물의 제조 방법이 추가로 제공된다.
열가소성 성형 조성물의 제조 방법은 먼저 성분 C의 일부를 성분 B의 일부와 예비혼합하여 1:1 내지 1:2의 비로 마스터배치를 형성시킨 다음, 상기 마스터배치를 추가의 성분 A 내지 D 및, 임의로는, 성분 E 내지 I와 혼합하여 열가소성 성형 조성물을 형성시킴으로써 수행될 수 있다.
본 발명은 추가로 성형품, 자기-지지 필름 또는 시트, 또는 섬유를 제조하기 위한 상기에서 기재된 바와 같은 열가소성 성형 조성물의 용도를 제공한다. 자동차 부품 또는 전자 기기 부품을 위한 성형품을 제조하기 위한 열가소성 성형 조성물의 용도가 특히 유리하다.
본 발명은 또한 상기에서 기재된 바와 같은 열가소성 성형 조성물로부터의 성형품, 섬유 또는 자기-지지 필름 또는 시트를 제공한다.
개별 성분 및 그의 특정 비율의 특정 선택은 본 발명에 있어서 필수적이고 본 발명의 성형 조성물에, 공지된 안정화 성형 조성물에 비해, 개선된 내후성, 즉 개선된 내열성, 내광성 및/또는 산소 저항성을 부여한다.
본 발명에 의해 제공된 성형 조성물, 물품, 방법 및 용도가 이제 더욱 상세히 설명될 것이다. 본 발명의 성형 조성물은 각각, 총합이 100 중량%가 되는, 성분 A, B, C, D, E, F, G 및 I의 총 중량을 기준으로,
a) 성분 A로서의, 3 내지 91.7 중량%, 바람직하게는 30 내지 75 중량%의 적어도 하나의 방향족 폴리카르보네이트,
b) 3 내지 91.7 중량%, 바람직하게는 10 내지 30 중량%의 성분 B,
c) 3 내지 91.7 중량%, 바람직하게는 4 내지 20 중량%의 성분 C,
d) 0.2 내지 0.9 중량%, 바람직하게는 0.2 내지 0.7 중량%, 보다 바람직하게는 0.3 내지 0.6 중량%의 성분 D,
e) 0 내지 0.9 중량%, 바람직하게는 0.2 내지 0.7 중량%, 보다 바람직하게는 0.2 내지 0.4 중량%의 성분 E (단, 성분 E가 0 중량%인 경우 (즉, 성분 E가 존재하지 않는 경우), 화학식 III, IV, V 또는 VI의 성분 중 적어도 하나가 0.01 내지 0.9 중량%, 바람직하게는 0.1 내지 0.9 중량%, 보다 바람직하게는 0.2 내지 0.8 중량%의 양으로 존재함);
f) 0 내지 0.9 중량%, 바람직하게는 0.1 내지 0.9 중량%, 보다 바람직하게는 0.2 내지 0.8 중량%의 성분 F,
g) 0 내지 25 중량%, 바람직하게는 0 내지 15 중량%, 보다 바람직하게는 0 내지 10 중량%의 성분 G,
h) 0 내지 10 중량%, 바람직하게는 0 내지 8 중량%, 보다 바람직하게는 0 내지 5 중량%의 성분 H, 및
i) 0 내지 40 중량%, 바람직하게는 0 내지 25 중량%, 보다 바람직하게는 0 내지 15 중량%의 성분 I
를 포함한다.
성분 D 대 성분 E의 중량비는 일반적으로 4:1 내지 0.25:1의 범위, 바람직하게는 4:1 내지 1:1의 범위, 보다 바람직하게는 3:1 내지 1:1의 범위이다. 성분 E 대 F의 중량비는 종종 2:1 내지 0.5:1의 범위이다.
성형 조성물은 종종 30 내지 75 중량%의 성분 A, 10 내지 30 중량%의 성분 B, 4 내지 20 중량%의 성분 C 및 0.3 내지 0.6 중량%의 성분 D를 포함한다.
사용된 성분은 이하에 정의되어 있다:
성분 A:
성분 A는 본 발명에 따른 성형 조성물에 3 내지 91.7 중량%, 바람직하게는 30 내지 75 중량%, 종종 50 내지 70 중량%의 양으로 포함된다.
성분 A는 바람직하게는 할로겐-비함유 폴리카르보네이트를 포함한다. 적합한 할로겐-비함유 폴리카르보네이트는, 예를 들어, 화학식 VII의 디페놀을 기재로 하는 것을 포함한다:
<화학식 VII>
Figure pct00009
상기 식에서, X는 단일 결합, C1-C3 알킬렌 기, C2-C3 알킬리덴 기, C3-C6 시클로알킬리덴 기, -S- 및 -SO2-로 이루어진 군으로부터 선택된다.
화학식 VII의 디페놀의 바람직한 예는 히드로퀴논, 레조르시놀, 4,4'-디히드록시페놀, 2,2-비스(4-히드록시페닐)프로판, 2,4-비스(4-히드록시페닐)-2-메틸부탄, 1,1-비스(4-히드록시페닐)시클로헥산이다. 2,2-비스(4-히드록시페닐)프로판 및 1,1-비스(4-히드록시페닐)시클로헥산 및 또한 1,1-비스(4-히드록시페닐)-3,3,5-트리메틸시클로헥산이 특히 바람직하다.
비스페놀 A의 코폴리카르보네이트뿐만 아니라 비스페놀 A 호모폴리카르보네이트도 바람직하다는 점에서 호모폴리카르보네이트뿐만 아니라 코폴리카르보네이트도 성분 A로서 유용하다. 적합한 폴리카르보네이트는 선형 구조를 갖거나 그렇지 않으면 공지된 방식이지만, 바람직하게는, 사용된 디페놀의 총합을 기준으로 0.05 내지 2 몰%의 적어도 하나의 삼관능성 화합물, 예를 들어 3개 이상의 페놀성 OH 기를 갖는 것의 혼입에 의해 분지될 수 있다.
특히 유리한 것으로 입증될 폴리카르보네이트는 1.1 내지 1.5, 특히 1.2 내지 1.4의 상대 점도 η상대를 갖는다. 이는 10,000 내지 200,000, 바람직하게는 15,000 내지 80,000의 평균 분자량 Mw (중량-평균 값), 또는 20 내지 100 ml/g, 특히 40 내지 80 ml/g의 점도 수 (23℃에서 메틸렌 클로라이드 중 0.5 중량% 용액에 대해 독일 표준 사양서 DIN 53727에 따라 측정됨)에 상응한다.
화학식 VII의 디페놀은 그 자체로 공지되거나 공지된 방법에 의해 수득가능하다. 폴리카르보네이트는 예를 들어 디페놀을 상 계면 공정에 의한 포스겐과 또는 균질 상 공정 (소위 피리딘 공정)에 의해 포스겐과 반응시킴으로써 수득가능하고, 이 경우에 특히 설정되는 점도수 (및 그러므로 분자량)는 공지된 쇄 종결제의 적절한 양을 통해 공지된 방식으로 달성된다. 마찬가지로 사용할 수 있는 폴리디오가노실록산-함유 폴리카르보네이트에 관해서는, 예를 들어 DE-A-33 34 782를 참조한다.
폴리카르보네이트를 형성시키기에 적합한 쇄 종결제는, 예를 들어, 페놀, p-t-부틸페놀이지만 장쇄 알킬페놀, 예컨대 4-(1,3-테트라메틸부틸부틸)페놀, (DE-A-28 42 005에 기재된 바와 같음), 또는 알킬 치환기에 모두 8 내지 20개의 탄소 원자를 갖는 모노알킬페놀 또는 디알킬페놀 (DE-A-35 06 472에 기재된 바와 같음), 예컨대 p-노닐페놀, 3,5-디-t-부틸페놀, p-t-옥틸페놀, p-도데실페놀, 2-(3,5-디메틸헵틸)페놀 및 4-(3,5-디메틸헵틸)페놀도 포함한다.
본 발명의 목적상 할로겐-비함유 폴리카르보네이트는 할로겐-비함유 디페놀, 할로겐-비함유 쇄 종결제 및 임의로는 할로겐-비함유 분지제로 구성된 폴리카르보네이트이지만, 예를 들어 상 계면 공정에 의한 포스겐을 사용한 폴리카르보네이트의 합성으로 인한, 비누화가능한 염소의 매우 낮은 ppm 양 (예를 들어, 5 ppm)의 존재는 본 발명의 목적상 할로겐-함유로서 간주되어서는 안된다.
비누화가능한 염소의 ppm 함량을 갖는 상기 폴리카르보네이트는 본 발명의 목적상 할로겐-비함유 폴리카르보네이트이다.
실험 섹션에서 사용되는 폴리카르보네이트를 사용하는 것이 바람직하다.
성분 B:
본 발명에 따른 열가소성 성형 조성물의 성분 B는 하나 이상의 스티렌 공중합체를 포함한다. 성분 B는 성형 조성물에 3 내지 91.7 중량%, 바람직하게는 10 내지 30 중량%, 종종 15 내지 21 중량%의 양으로 포함된다.
임의의 적합한 공단량체뿐만 아니라 스티렌도 이들 공중합체에 존재할 수 있다. 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체, 알파-메틸스티렌-아크릴로니트릴 공중합체 또는 N-페닐말레이미드-스티렌 공중합체가 관련되는 것이 바람직하다.
당업자에게 공지되고 문헌에 기재된 임의의 스티렌-아크릴로니트릴, α-메틸스티렌-아크릴로니트릴, N-페닐말레이미드-아크릴로니트릴 공중합체, 및 그의 혼합물은 원칙적으로 성분 B로서 사용될 수 있되, 단, 그의 혼합물은 85 ml/g 이하의 점도수 VN (디메틸포름아미드 중 0.5 중량%의 용액에 대해 25℃에서 독일 표준 사양서 DIN 53727에 따라 측정된 바와 같고; 이 측정 방법은 또한 임의의 이하에 언급된 점도수 VN에 대해 준용됨)을 갖는다.
바람직한 성분 B는 50 내지 90 중량%, 바람직하게는 60 내지 85 중량%, 특히 70 내지 83 중량%의 스티렌 및 10 내지 50 중량%, 바람직하게는 15 내지 40 중량%, 특히 17 내지 30 중량%의 아크릴로니트릴 및 또한 0 내지 5 중량%, 바람직하게는 0 내지 4 중량%, 특히 0 내지 3 중량%의 추가의 단량체로 구성되고, 여기서 중량%는 각각 공중합체 B의 성분의 중량을 기준으로 한 것이고, 합은 100 중량%가 된다.
바람직한 성분 B는 추가로 50 내지 90 중량%, 바람직하게는 60 내지 80 중량%, 특히 65 내지 78 중량%의 α-메틸스티렌 및 10 내지 50 중량%, 바람직하게는 20 내지 40 중량%, 특히 22 내지 35 중량%의 아크릴로니트릴 및 또한 0 내지 5 중량%, 바람직하게는 0 내지 4 중량%, 특히 0 내지 3 중량%의 추가의 단량체로 구성되고, 여기서 중량%는 각각 공중합체 B의 성분의 중량을 기준으로 한 것이고, 합은 100 중량%가 된다.
유사하게 바람직한 성분 B는 이들 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체 및 α-메틸스티렌-아크릴로니트릴 공중합체와 N-페닐말레이미드-스티렌-아크릴로니트릴 삼원공중합체 또는 N-페닐말레이미드-스티렌 공중합체의 혼합물이다.
상기에 언급된 추가의 단량체는 임의의 공중합성 단량체, 예를 들어 p-메틸스티렌, t-부틸스티렌, 비닐나프탈렌, 알킬 아크릴레이트 및/또는 알킬 메타크릴레이트, 예를 들어 C1-C8 알킬을 갖는 것들, N-페닐말레이미드 및 그의 혼합물일 수 있다.
성분 B의 공중합체는 공지된 방법으로 수득가능하다. 예를 들어, 이들은 자유 라디칼 중합, 특히 유화, 현탁, 용액 또는 벌크 중합에 의해 수득가능하다. 이들은 40,000 내지 2,000,000 g/mol의 평균 분자량 Mw (중량-평균 값)에 상응하는, 40 내지 160 ml/g 범위의 점도수를 갖는다.
성분 C:
성분 C는 폴리(알킬 아크릴레이트) 고무 상에 비닐방향족 화합물, 특히 스티렌, 및 비닐 시아나이드, 특히 아크릴로니트릴의 엘라스토머 그라프트 공중합체를 포함한다. 성분 C는 성형 조성물에 3 내지 91.7 중량%, 바람직하게는 4 내지 20 중량%, 종종 10 내지 20 중량%로 포함된다.
중합체의 가교 입자의 가교 정도를 특정하는 한 방법은 팽윤 지수 SI를 측정하는 것이고, 이는 문헌에 따르면, 거의 가교된 중합체가 용매에 의해 어느 정도 팽윤가능한 지의 척도이다. 통상의 팽윤제의 예는 메틸 에틸 케톤 및 톨루엔이다. 본 발명에 따른 성형 조성물의 그라프트 공중합체 C는 전형적으로 SI = 10 내지 60의 범위로 SI를 갖는다. SI는 바람직하게는 6 내지 18의 범위이고 더욱 바람직하게는 7 내지 15의 범위 (톨루엔 중에서)이다.
팽윤 지수를 측정하기 위해, 그라프트 공중합체 C의 수성 분산액을 약간 감압 (600 내지 800 mbar) 및 질소하에 금속 시트 상에서 밤새 80℃에서 건조시켜, 약 2 mm 두께의 필름을 잔류시킨다. 그 다음 1 ㎠ 슬라이스를 절단해 내고 페니실린 병에서 50 ml의 톨루엔 (또는 메틸 에틸 케톤)에서 밤새 팽윤시킨다. 상청액 톨루엔을 흡입 제거하고, 팽윤 필름의 중량을 재고 밤새 80℃에서 건조시킨다. 건조 필름의 중량을 측정한다. 팽윤 지수는 팽윤 겔의 중량을 건조 겔의 중량으로 나눔으로써 계산된다.
한 바람직한 실시양태에서, 엘라스토머 그라프트 공중합체 C는, C를 기준으로:
C1 0℃ 미만의 유리 전이 온도를 갖는, 1 내지 99 중량%, 바람직하게는 55 내지 80 중량%, 특히 55 내지 65 중량%의 미립자 그라프팅 베이스 C1, 및
C2 30℃ 초과의 유리 전이 온도를 갖는, 99 내지 1 중량%, 바람직하게는 45 내지 20 중량%, 특히 45 내지 35 중량%의 그라프트 C2
로 구성된다.
여기서 성분 C1은:
C11 성분 C-11로서, 60 내지 99.98 중량%, 바람직하게는 80 내지 99.9 중량%의, 아크릴산의 하나 이상의 C1 - 8알킬 에스테르, 바람직하게는 C4 -8 알킬 아크릴레이트, 특히 n-부틸 아크릴레이트 및/또는 2-에틸헥실 아크릴레이트,
C12 0.01 내지 20 중량%, 바람직하게는 0.1 내지 5 중량%의, 하나 이상의다관능성 가교 단량체, 바람직하게는 부틸렌 디아크릴레이트, 디비닐벤젠, 부탄디올 디메타크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 디알릴 메타크릴레이트, 디알릴 말레에이트, 디알릴 푸마레이트, 트리알릴 메타크릴레이트, 트리알릴 이소시아누레이트, 보다 바람직하게는 디알릴 프탈레이트, 알릴 메타크릴레이트 및/또는 디히드로디시클로펜타디에닐 아크릴레이트 ("DCPA"), 및
C13 0.01 내지 39.99 중량%, 바람직하게는 0 내지 19.9 중량%의, 경질 중합체를 형성하는 단량체, 예컨대 비닐 아세테이트, (메트)아크릴로니트릴, 스티렌, 치환된 스티렌, 메틸 메타크릴레이트 또는 비닐 에테르
로 구성된다.
여기서 성분 C2는:
C21 40 내지 100 중량%, 바람직하게는 65 내지 85 중량%의 비닐방향족 단량체, 특히 스티렌, α-메틸스티렌 또는 N-페닐말레이미드, 및
C22 0 내지 60 중량%, 바람직하게는 15 내지 35 중량%의 극성 공중합성 에틸렌계 불포화 단량체, 특히 아크릴로니트릴, (메트)아크릴산 에스테르 또는 메타크릴로니트릴
로 구성된다.
성분 C는 그라프팅 베이스 C1 및 하나 이상의 그라프트 C2를 포함하는 그라프트 공중합체를 포함한다. 그라프트 공중합체 C는 거의 완벽하게 발생된 코어-쉘 구조 (그라프팅 베이스 C1이 코어이고, 그라프트 C2가 쉘임)를 가질 수 있지만, 그라프트 C2가 단지 불완전하게 그라프팅 베이스 C1을 둘러싸는 것/덮는 것, 또는 대안으로 그라프팅 베이스 C2에 의해 그라프트 C1이 전체적으로 또는 부분적으로 관통되는 것이 또한 가능하다.
본 발명의 한 실시양태에서 그라프팅 베이스 C1은 연질 엘라스토머 중합체 또는 경질 중합체로부터 형성될 수 있는 소위 코어를 포함할 수 있고; 그라프팅 베이스 C1이 코어를 포함하는 다양한 실시양태에서, 코어는 경질 중합체, 특히 폴리스티렌 또는 스티렌 공중합체로부터 바람직하게 형성된다. 상기 그라프팅 코어 및 그의 제조 방법은 당업자에게 공지되어 있고 예를 들어 EP-A 535 456 및 EP-A 534 212에 기재되어 있다.
예를 들어 그의 구성 또는 입자 크기가 서로 다른, 2종 이상의 그라프팅 베이스 C1을 사용하는 것이 또한 가능하다. 상이한 그라프팅 베이스의 상기 혼합물은 통상적인 방식으로, 예를 들어 2종 이상의 고무 라텍스를 개별적으로 제조하고 상응하는 분산제를 혼합하고; 습윤 고무를 상응하는 분산제로부터 개별적으로 침전시키고, 예를 들어 이들을 압출기에서 혼합하거나, 상응하는 분산제의 전체 후처리를 개별적으로 수행한 다음, 수득된 그라프팅 베이스를 혼합함으로써 수득가능하다.
그라프트 공중합체 C는, 그라프팅 베이스 C1 및 그라프트 C2 사이에 한 지점에서, 예를 들어 단량체의 상이한 구성을 갖는, 하나 이상의 추가의 그라프트, 또는 그라프팅된 시스 또는 쉘을 포함할 수 있다. 그러나, 바람직하게는, 그라프트 공중합체 C는 그라프트 C2 이외에 추가의 그라프트 또는 그라프팅된 시스 또는 쉘을 포함하지 않는다.
그라프팅 베이스 C1의 중합체는 전형적으로 0℃ 미만의 유리 전이 온도, 바람직하게는 (-20)℃ 미만, 특히 (-30)℃ 미만의 유리 전이 온도를 갖는다. 그라프트 C2를 형성하는 단량체로부터 형성된 중합체는 전형적으로 30℃ 초과, 특히 50℃ 초과의 유리 전이 온도 (각각 독일 표준 사양서 DIN 53765에 따라 측정됨)를 갖는다.
그라프트 공중합체 C는 전형적으로 50 내지 1200 ㎚의 범위, 바람직하게는 50 내지 800 ㎚의 범위, 보다 바람직하게는 50 내지 600 ㎚ 범위의 평균 입자 크기 d50을 갖는다. 이들 입자 크기는 그라프팅 베이스 C1로서 50 내지 1000 ㎚의 범위, 바람직하게는 50 내지 700 ㎚의 범위, 보다 바람직하게는 50 내지 500 ㎚ 범위의 평균 입자 크기 d50을 사용함으로써 수득가능하다. 본 발명의 한 실시양태에서, 입자 크기 분포는 단봉성이다.
본 발명의 추가 실시양태에서, 성분 C의 입자 크기 분포는, 성분 C의 총 중량을 기준으로, 60 내지 90 중량%가 50 내지 200 ㎚ 범위의 평균 입자 크기이고, 10 내지 40 중량%가 200 내지 800 ㎚ 범위의 평균 입자 크기라는 점에서 쌍봉성이다. 본원에서 보고된 입자 크기 분포 및 평균 입자 크기는 누적 질량-기반 분포로부터 측정된다. 본 발명의 맥락에서 언급된 이들 입자 크기 및 추가의 평균 입자 크기는 모든 경우에서 HDC를 통해 결정된 바와 같은 입자 크기의 중량 평균이다 (문헌 [W. Wohlleben and H. Schuch in Measurement of Particle Size Distribution of Polymer Latexes, 2010, Editors: Luis M. Gugliotta and Jorge R. Vega, pp. 130 to 153]).
그라프트 공중합체 C는 상기에서 언급된 그라프팅 베이스 C1 중 적어도 하나 상으로의 성분 C-21 및 C-22의 그라프트 중합에 의해 수득가능하다. 그라프트 공중합체 C의 적합한 제조 방법은 유화 중합, 용액 중합, 벌크 중합 및 현탁 중합이다. 그라프트 공중합체 C는 수용성 또는 유용성 개시제, 예컨대 퍼옥소디술페이트 또는 벤질 퍼옥시드를 사용하거나, 레독스 개시제에 의하여, 20 내지 90℃의 온도에서 성분 C1의 라텍스의 존재하에 자유 라디칼 유화 중합에 의해 바람직하게 제조된다. 레독스 개시제는 또한 20℃ 미만의 중합에 유용하다.
적합한 중합 방법은 WO 02/10222, DE-A 28 269 25, DE-A 31 49 358 및 DE-C 12 60 135에 기재되어 있다. 그라프트는 바람직하게는 DE-A 32 27 555, DE-A 31 49 357, DE-A 31 49 358, DE-A 34 14 118에 기재된 바와 같은 유화 중합에 의해 구성된다. 50 내지 1200 ㎚ 범위로의 평균 입자 크기의 한정된 조정은 바람직하게는 DE-C-12 60 135 및 DE-A 28 26 925, 및/또는 문헌 [Applied Polymer Science, volume 9 (1965), page 2929]에 기재된 방법에 따라 이루어진다.
상이한 입자 크기를 갖는 중합체의 사용은 예를 들어 DE-A-28 26 925 및 US 5 196 480으로부터 공지되어 있다. DE-B-12 60 135에 기재된 방법에서, 제1 단계는 본 발명의 한 실시양태에서 사용된 C-11 아크릴산 에스테르(들) 및 가교제 및/또는 그라프팅 시약으로서 작용하는 C-12 화합물을, 임의로 추가의 모노에틸렌계 불포화 단량체 C-13과 함께, 20 내지 100℃, 바람직하게는 50 내지 90℃의 온도에서 통상적인 방식으로 수성 유제에서 중합시킴으로써 그라프팅 베이스 C1을 제조하는 것을 포함한다.
통상의 유화제를 사용할 수 있고, 그 예는 알킬- 및 알킬아릴 술폰산의 알칼리 금속 염, 알킬 술페이트, 지방 알콜 술포네이트, 10 내지 30개의 탄소 원자를 갖는 고급 지방산의 염, 또는 수지 비누이다. 10 내지 18개의 탄소 원자를 갖는 지방산 또는 알킬 술포네이트의 나트륨 염을 사용하는 것이 바람직하다. 한 실시양태에서, 유화제는 그라프팅 베이스 C1의 제조에 사용된 단량체를 기준으로, 0.5 내지 5 중량%, 특히 0.7 내지 2 중량%의 양으로 사용된다. 물 대 단량체의 중량비는 일반적으로 4:1 내지 0.6:1의 범위이다.
유용한 중합 개시제는 특히 통상의 과황산염, 예컨대 과황산칼륨을 포함한다. 그러나, 레독스 시스템을 또한 사용할 수 있다. 개시제는 일반적으로 그라프팅 베이스 C1의 제조에 사용된 단량체를 기준으로 0.1 내지 1 중량%의 양으로 사용된다. 유용한 중합 보조제는 추가로 6 내지 9의 바람직한 범위로 pH를 조정하는 통상의 완충 물질, 예컨대 중탄산나트륨 및 피로인산나트륨, 및 또한 0 내지 3 중량%의 분자량 조절제, 예컨대 메르캅탄, 테르피놀 또는 이량체 α-메틸스티렌을 포함한다.
정밀한 중합 조건, 특히 유화제 유형, 공급 모듈러스 및 양은, 가교 아크릴산 에스테르 중합체 C1의 생성되는 라텍스가 50 내지 1000 ㎚의 범위, 바람직하게는 50 내지 700 ㎚의 범위, 보다 바람직하게는 50 내지 500 ㎚의 범위로 d50 값을 갖도록 상기 특정된 범위 내에서 구체적으로 결정된다. 그리고 라텍스의 입자 크기 분포는, 문헌 [W. Maechtle and L. Boerger, Analytical Ultracentrifugation of Polymers and Nanoparticles, (Springer, Berlin, 2006)]에서와 같이, 바람직하게는 좁아야 하며, <0.75의 다분산 지수를 갖는다.
그라프트 중합체 C를 형성시키기 위해, 본 발명의 한 실시양태는 후속 단계를 포함할 수 있고, 여기서 가교 아크릴산 에스테르 중합체 C1에 대해 그렇게 수득된 라텍스는 성분 C-21, 바람직하게는 스티렌, 성분 C-22, 바람직하게는 아크릴로니트릴 및/또는 (메트)아크릴산 에스테르의 단량체 혼합물로서 존재하고, 임의로 추가의 불포화 단량체를 중합한다. 이 중합에 단량체 C-21, C-22 및 임의로는 추가의 불포화 단량체를 개별적으로 또는 서로 간의 혼합물로 첨가할 수 있다. 한 가능한 예는, 최초로 스티렌을 단독으로 및 그 후 스티렌과 아크릴로니트릴의 혼합물을 그라프트시키는 것이다. 가교 아크릴산 에스테르 중합체 그라프팅 베이스 상으로의 이러한 그라프트 공중합을 상기에서 기재된 바와 같이 통상의 조건하에 다시 수성 유제 중에서 수행하는 것이 유리하다.
그라프트 공중합은 편의상 그라프팅 베이스 C1을 형성시키는 유화 중합과 동일한 시스템에서 수행할 수 있고, 이 경우에 필요한 경우 추가의 유화제 및 개시제를 첨가할 수 있다. 본 발명의 한 실시양태에서 그라프팅 베이스 상으로 그라프팅되는 단량체 혼합물을 모두 한 번에, 둘 이상의 단계로 회분식으로 - 예를 들어 둘 이상의 그라프트를 구성하도록 - 또는 바람직하게는 중합 동안 연속해서 반응 혼합물에 첨가할 수 있다. 그라프트 공중합체 C가, 성분 C의 총 중량을 기준으로 10 내지 70 중량%의 범위, 바람직하게는 20 내지 60 중량%의 범위, 특히 30 내지 55 중량%의 범위로 그라프팅 정도를 갖도록, 가교되는 아크릴산 에스테르 중합체 C1의 존재하에 성분 C-21, C-22 및 임의로는 추가의 단량체의 혼합물의 그라프트 공중합을 수행한다.
그라프트 공중합의 그라프팅 수율이 결코 100%가 아니기 때문에, 유리하게는 그라프팅 정도에 상응하는 것보다 다소 더 많은 양의, C-21, C-22 및 임의로는 추가의 단량체의 단량체 혼합물이 그라프트 공중합에서 사용되어야 한다. 그라프트 공중합에서 그라프팅 수율의 제어 및 그에 따른 최종 그라프트 공중합체 C의 그라프팅 정도는 당업자에게 익숙하며, 예를 들어 단량체의 공급량을 통해 또는 연쇄 이동제의 혼합물을 통해 완수될 수 있다 (문헌 [Chauvel, Daniel, ACS Polymer Preprints 15 (1974), page 329 to 333]).
유화 그라프트 공중합은 일반적으로, 그라프트 공중합체를 기준으로 5 내지 15 중량%의, 성분 C-21, C-22 및 임의로는 추가의 단량체의 유리, 비그라프팅된(ungrafted) 공중합체를 생성할 것이다. 그라프트 공중합에서 수득된 중합 생성물 중 그라프트 공중합체 C의 비율을 예를 들어 US 2004/0006178에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.
본 발명에 따른 방법의 추가 실시양태에서, 그라프팅 베이스 C1은 시드 입자의 존재하에 형성될 수 있고/거나, 그라프팅 베이스 C1의 형성 후 그리고 그라프트 C2의 적용 전에 응집 단계를 수행할 수 있다. 이들 두 가공처리 옵션은 당업자에게 공지되어 있고/거나 문헌에 기재되어 있고, 예를 들어 입자 크기 및 입자 크기 분포를 특정의 방식으로 조정할 수 있도록 선택된다.
시드 입자의 d50 크기는 일반적으로 10 내지 200 ㎚의 범위, 바람직하게는 10 내지 180 ㎚의 범위, 보다 바람직하게는 10 내지 160 ㎚의 범위이다. 좁은 폭의 입자 크기 분포를 갖는 시드 입자를 사용하는 것이 바람직하다. 이들 중에서 특히 바람직한 시드 입자는 단봉성 입자 크기 분포를 갖는다. 시드 입자는 원칙적으로 엘라스토머 중합체를 형성하는 단량체로 구성될 수 있거나 (상기 단량체의 예는 1,4-부타디엔 또는 아크릴레이트임), 유리 전이 온도가 0℃ 초과, 바람직하게는 25℃ 초과인 중합체로 구성될 수 있다. 이들 시드 입자를 기재로 하는 바람직한 단량체는 비닐방향족 단량체, 예컨대 스티렌, 고리-치환된 스티렌, 또는 α-메틸스티렌을 포함하고, 이는 바람직하게는 스티렌, 아크릴로니트릴, 알킬아크릴산, 알킬 아크릴레이트를 포함하고, 이는 바람직하게는 n-부틸 아크릴레이트를 포함한다. 또한, 언급된 단량체 중 2종 이상, 바람직하게는 정확히 2종의 혼합물이 적합하다.
폴리스티렌 또는 n-부틸 아크릴레이트로부터의 시드 입자가 특히 바람직하다. 이 유형의 시드 입자의 제조는 당업자에게 공지되어 있거나 그 자체 공지된 방법에 따라 수행될 수 있다. 시드 입자는 입자-형성 불균일 중합 방법에 의해, 바람직하게는 유화 중합에 의해 바람직하게 수득된다. 시드 입자는 본 발명에 따라 초기에 충전하고 그를 위해 시드 입자를 먼저 개별적으로 제조하고, 후처리한 다음, 사용하는 것이 가능하다. 그러나, 시드 입자를 형성시킨 다음, 사전 후처리 없이, 성분 C-11, C-12 및 임의로는 C-13의 단량체 혼합물과 혼합하는 것이 또한 가능하다.
그라프팅 베이스 C1의 부분 또는 완전 응집 방법은 당업자에게 공지되어 있다. 응집은 당업자에게 그 자체 공지된 방법에 따라 수행될 수 있다 (예를 들어, 문헌 [Keppler et. al. Angew. Markomol. Chemie, 2, 1968 No. 20, pages 1 to 25] 참조). 원칙적으로 응집 방법에 대한 제한은 전혀 없다. 따라서 물리적 방법, 예컨대 동결 응집 또는 가압 응집 방법을 사용할 수 있다. 그러나, 화학적 방법 또한 그라프팅 베이스를 응집시키는데 사용할 수 있다. 후자는 전해질 또는 유기 또는 무기 산의 혼합물을 포함한다.
응집 중합체에 의한 응집이 바람직하다. 응집 중합체의 예는 폴리에틸렌 옥시드 중합체, 폴리비닐 에테르 또는 폴리비닐 알콜이다. 적합한 응집 중합체는 추가로 C1-C12-알킬 아크릴레이트 또는 C1-C12-알킬 메타크릴레이트 또는 극성 공단량체, 예컨대 아크릴아미드, 메타크릴아미드, 에틸아크릴아미드, n-부틸아크릴아미드, 말레아미드, 또는 (메트)아크릴산을 포함하는 공중합체를 포함한다. 이들 단량체 이외에, 이들 공중합체는 또한 디엔, 예컨대 부타디엔 또는 이소프렌을 포함한 추가의 단량체로 구성될 수 있다. 응집 중합체는 다단계 구조를 가질 수 있고, 예를 들어 코어/쉘 구조를 가질 수 있다. 코어는, 예를 들어, 폴리아크릴레이트, 예컨대 폴리에틸 아크릴레이트일 수 있으며, 한편 쉘은 언급된 극성 공단량체 및 알킬 (메트)아크릴레이트 상의 입자일 수 있다. 특히 바람직한 응집 중합체는 92 내지 99 중량%의 에틸 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트 및 1 내지 8 중량%의 (메트)아크릴아미드 및/또는 (메트)아크릴산으로부터 형성된 공중합체이다. 응집 중합체는 일반적으로 분산제의 형태로 사용된다. 응집 방법은 100 중량부의 그라프팅 베이스 당 일반적으로 0.1 내지 5 중량부, 바람직하게는 0.5 내지 3 중량부의 응집 중합체를 이용한다.
본 발명의 그라프트 공중합체 C는, 예를 들어 라텍스 유제 또는 분산제로서, 반응 혼합물 중에서 수득된 바와 같이 추가로 사용될 수 있다. 별법으로 - 그리고 이는 대부분의 용도에 바람직함 - 이들은 또한 추가 단계에서 후처리될 수 있다. 후처리 수단은 당업자에게 공지되어 있다. 이들은, 예를 들어, 분무 건조, 전단에 의해 또는 강산을 사용한 침전에 의해, 또는 조핵제, 예컨대 무기 화합물, 예를 들어 황산마그네슘에 의하여, 반응 혼합물로부터 그라프트 공중합체 C를 단리시키는 것을 포함한다. 그러나, 수득된 그라프트 공중합체 C는 또한 완전 또는 부분 탈수시킴으로써 후처리될 수 있다. 또 다른 가능성은 언급된 방법의 조합에 의하여 후처리하는 것이다. 성형 조성물을 형성시키기 위한 성분 B 및 C의 혼합은 공지된 방법에 의해 임의의 목적하는 방식으로 수행될 수 있다.
예를 들어, 이들 성분이 유화 중합을 통해 형성된 경우, 수득된 중합체 분산제를 서로 혼합한 다음, 중합체를 함께 침전시키고, 중합체 혼합물을 후처리하는 것이 가능하다. 그러나, 바람직하게는, 이들 성분은, 함께 압출, 혼련 또는 롤링되는 것에 의해 블렌딩되며, 그 때문에 성분들은 필요한 경우 중합시의 용액 또는 수성 분산액으로부터 미리 단리되게 된다. 그러나, 수성 분산액에서 수득된 그라프트 공중합 생성물 C를 또한 부분적으로만 탈수시키고 경질 매트릭스 B와의 습윤 크럼의 형태로 혼합할 수 있으며, 이 경우에 그 다음에 그라프트 공중합체 C는 혼합 동안에 완전히 건조된다.
성분 D:
본 발명에 따른 성형 조성물의 성분 D는 화학식 I의 화합물을 포함한다:
<화학식 I>
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이 입체 장애 아민 (CAS 번호 52829-07-9) 및 그의 제조 방법은 당업자에게 공지되어 있고 문헌 (예를 들어 US 4 396 769 및 이 특허에 인용된 참고문헌 참조)에 기재되어 있다. 이는 바스프 에스이(BASF SE)에 의해 티누빈(Tinuvin)® 770이라는 명칭으로 시판되고 있다.
성분 D는 성형 조성물에 0.2 내지 0.9 중량%, 바람직하게는 0.2 내지 0.7 중량%, 종종 0.3 내지 0.6 중량%의 양으로 사용된다.
성분 E:
본 발명에 따른 성형 조성물의 성분 E는 화학식 II의 화합물 또는 화합물들의 혼합물을 포함한다:
<화학식 II>
Figure pct00011
(여기서, n은 2 내지 20, 특히 7 내지 8임)
이들 입체 장애 아민, 예컨대 (CAS 번호 167078-06-0) 및 그의 제조 방법은 당업자에게 공지되어 있고 문헌 (Carlsson et al., Journal of Polymer Science, Polymer Chemistry Edition (1982), 20(2), 575-82)에 기재되어 있다. 이는 특히 사이텍 인더스트리즈(Cytec Industries)로부터 시아소르브(Cyasorb)® 3853 (CAS 번호 167078-06-0)이라는 명칭으로 반복 단위 n = 7 내지 8로 시판되고 있다.
성분 E는 성형 조성물에 0.2 내지 0.7 중량%, 바람직하게는 0.2 내지 0.5 중량%, 종종 0.2 내지 0.4 중량%의 양으로 사용된다.
성분 F:
본 발명에 따른 성형 조성물의 성분 F는 화학식 III의 화합물 또는 상기 화합물의 혼합물일 수 있다:
<화학식 III>
Figure pct00012
이 입체 장애 아민 (CAS 번호 71878-19-8) 및 그의 제조 방법은 당업자에게 공지되어 있고 문헌 (예를 들어 EP-A 093 693 및 이 특허에 인용된 참고문헌 참조)에 기재되어 있다. 이는 바스프 에스이로부터 키마스소르브(Chimassorb)® 944라는 명칭으로 시판되고 있다.
본 발명에 따른 성형 조성물의 성분 F는 추가로 화학식 IV의 화합물 또는 혼합물일 수 있다:
<화학식 IV>
Figure pct00013
(여기서,
Figure pct00014
이고,
n은 2 내지 20임).
이 입체 장애 아민 (CAS 번호 101357-37-3) 및 그의 제조 방법은 당업자에게 공지되어 있고 문헌 (예를 들어 US 5 208 132 및 이 특허에 인용된 참고문헌 참조)에 기재되어 있다. 이는 아데카(ADEKA)에 의해 아데카 스탭(Adeka Stab)® LA-68이라는 명칭으로 시판되고 있다.
본 발명에 따른 성형 조성물의 성분 F는 추가로 화학식 V의 화합물 또는 혼합물일 수 있다:
<화학식 V>
Figure pct00015
(여기서, n은 2 내지 20).
이 입체 장애 아민 (CAS 번호 82451-48-7) 및 그의 제법은 당업자에게 공지되어 있고 문헌 (예를 들어 US A 4 331 586 및 이 특허에 인용된 참고문헌 참조)에 기재되어 있다. 이는 사이텍 인더스트리즈로부터 시아소르브® UV-3346이라는 명칭으로 시판되고 있다.
본 발명에 따른 성형 조성물의 성분 F는 추가로 화학식 VI의 화합물 또는 혼합물일 수 있다:
<화학식 VI>
Figure pct00016
(여기서, n은 2 내지 20임).
이 입체 장애 아민 (CAS 번호 192268-64-7) 및 그의 제조 방법은 당업자에게 공지되어 있고 문헌 (예를 들어 EP-A-782 994 및 이 특허에 인용된 참고문헌 참조)에 기재되어 있다. 이는 바스프 에스이로부터 키마스소르브® 2020이라는 명칭으로 시판되고 있다.
성분 G:
임의의 공지된 통상의 인-함유 난연제를 원칙적으로 성분 G로서 사용할 수 있다. DE-A 40 34 336 및/또는 EP-A 522 397에서 언급된 난연제가 우선적으로 사용된다.
예는 트리-(2,6-디메틸페닐) 포스페이트, 트리페닐 포스페이트, 트리크레실 포스페이트, 디페닐 2-에틸크레실 포스페이트, 디페닐 크레실 포스페이트, 트리(이소프로필페닐) 포스페이트 및 또한 디페닐 4-페닐페닐 포스페이트, 페닐 비스(4-페닐페닐) 포스페이트, 트리스(4-페닐페닐) 포스페이트, 디페닐 벤질페닐 포스페이트, 페닐 비스(벤질페닐) 포스페이트, 트리스(벤질페닐) 포스페이트, 디페닐(1-페닐에틸)페닐 포스페이트, 페닐 비스(1-페닐에틸)페닐 포스페이트, 트리스(1-페닐에틸)페닐 포스페이트, 디페닐 (1-메틸-1-페닐에틸)페닐 포스페이트, 페닐 비스(1-메틸-1-페닐에틸)페닐 포스페이트, 트리스((1-메틸-1-페닐에틸)페닐) 포스페이트, 페닐 비스(4-(1-페닐에틸)-2,6-디메틸페닐) 포스페이트, 디페닐 2,4-디벤질페닐 포스페이트, 디페닐 2,4-디(1-페닐에틸)페닐 포스페이트 및 디페닐 2,4-디(1-메틸-1-페닐에틸)페닐 포스페이트이다. 이들은 또한 트리페닐포스핀 옥시드 또는 트리(2,6-디메틸페닐)포스핀 옥시드와 혼합하여 사용될 수 있다.
바람직한 난연제는 또한 레조르시놀 디포스페이트 및 상응하게 고급 올리고머, 히드로퀴논 디포스페이트 및 상응하는 고급 올리고머를 포함한다. EP-A 103 230, EP-A 174 493, EP-A 206 058, EP-A 363 608 및 EP-A 558 266에 언급된 인 화합물을 또한 참조한다.
트리페닐 포스페이트는 종종 성분 G로서 성형 조성물에서 0 내지 10 중량%의 양으로 사용된다.
성분 H:
본 발명에 따른 성형 조성물은, 성분 A, B, C, D, E, F 및 G 이외에도, 플라스틱의 혼합물에 전형적이고 통상적으로 사용되며, 성분 D, E, F 및 G 이외의 하나 이상의 첨가제/첨가물 물질을 포함할 수 있다.
상기 첨가제/첨가물 물질의 예는: 열 안정성을 개선시키고, 광 안정성을 증가시키고, 가수분해 내성과 내화학성을 증강시키는, 염료, 안료, 착색제, 정전기방지제, 항산화제, 안정화제, 열 분해에 길항하는 작용제, 특히 성형물 및/또는 성형품을 제조하는데 유용한 윤활제/활택제이다. 이들 추가의 첨가물 물질은 제조 공정의 매 단계에서, 그러나 바람직하게는 첨가물 물질의 안정화 효과 (또는 다른 특정 효과)를 조기에 이용하도록 조기 단계에서 혼합될 수 있다. 열 안정화제 및 산화 지연제는 전형적으로 금속 할라이드 (클로라이드, 브로마이드, 아이오다이드)이고 주기율표의 I족 금속 (예컨대 Li, Na, K, Cu)으로부터 유도된다.
성분 H로서 유용한 안정화제는 통상의 장애 페놀을 포함하지만, 또한 "비타민 E" 및/또는 유사 구조를 갖는 화합물도 포함한다. 벤조페논, 레조르시놀, 살리실레이트, 벤조트리아졸 및 기타 화합물이 또한 적합하다. 이들은 전형적으로 (본 발명에 따른 성형 조성물의 총 중량을 기준으로) 0 내지 2 중량%, 바람직하게는 0.01 내지 2 중량%의 양으로 사용된다.
종종 성형 조성물은 추가의 안정화제를 전혀 함유하지 않지만 섬유 H로서 0 내지 5 중량%의 첨가제, 예컨대 카본 블랙을 함유한다.
적합한 활택제 및 이형제는 스테아르산, 스테아릴 알콜, 스테아르산 에스테르 및/또는 일반적으로 고급 지방산, 그의 유도체, 및 12 내지 30개의 탄소 원자를 갖는 상응하는 지방산 혼합물을 포함한다. 이들 첨가에 관한 사용 수준은 - 존재하는 경우 - (본 발명에 따른 성형 조성물의 총 중량을 기준으로) 0.05 내지 1 중량%의 범위이다.
유용한 첨가물 물질은 추가로 실리콘 오일, 올리고머 이소부틸렌 또는 유사 물질을 포함하고, 전형적인 사용 수준은 - 존재하는 경우 - (본 발명에 따른 성형 조성물의 총 중량을 기준으로) 0.05 내지 5 중량%의 범위이다. 안료, 염료, 색 증백제, 예컨대 울트라마린 블루, 프탈로시아닌, 이산화티타늄, 황화카드뮴, 페릴렌테트라카르복실산의 유도체를 마찬가지로 사용할 수 있다.
가공 보조제 및 안정화제, 윤활제 및 정전기방지제는 전형적으로 (본 발명에 따른 성형 조성물의 총 중량을 기준으로) 0 내지 2 중량%, 바람직하게는 0.01 내지 2 중량%의 양으로 사용된다.
성분 I:
본 발명에 따른 성형 조성물의 성분 I는 임의로 또한, 성분 D, E, F, G 및 H 이외의 섬유성 또는 미립자 충전제 (또는 그의 혼합물)를 포함할 수 있다. 여기에서, 시판품, 예를 들어 탄소 섬유 및 유리 섬유가 관련되는 것이 바람직하다. 사용가능한 유리 섬유는 E-, A- 또는 C-유리일 수 있고, 바람직하게는 사이징제 및 커플링제로 마무리된다. 그의 직경은 일반적으로 6 내지 20 ㎛이다. 1 내지 10 ㎜, 바람직하게는 3 내지 6 ㎜의 길이를 갖는 연속-필라멘트 섬유뿐만 아니라 절단 유리 섬유 (스테이플) 또는 로빙도 사용할 수 있다.
추가로 충전 및 강화 물질, 예컨대 유리 비드, 광물 섬유, 위스커, 알루미나 섬유, 운모, 석영 분말 및 월라스토나이트를 첨가하는 것이 가능하다.
본 발명에 따른 성형 조성물은 성분 A, B, C, D, 및 임의로는 E, F, G, H, I 이외에도 추가의 중합체를 포함할 수 있다.
상기 성분들로부터 본 발명의 성형 조성물의 제조 방법은 임의의 공지된 방법에 의해 임의의 목적하는 방식으로 수행할 수 있다. 그러나, 바람직하게는, 성분들을, 예를 들어 160 내지 400℃, 바람직하게는 180 내지 280℃ 범위의 온도에서 용융 혼합, 예를 들어 함께 압출, 혼련 또는 롤링함으로써 성분들을 블렌딩하며, 여기서, 한 바람직한 실시양태에서, 성분들은 먼저 제조 공정의 특정 단계에서 수득된 반응 혼합물로부터 부분적으로 또는 완전히 단리되게 된다. 예를 들어, 그라프트 공중합체 C를 비닐방향족 공중합체 B의 펠릿과 습윤 크럼의 형태로 혼합할 수 있고, 그 다음에 이 경우에 기재된 그라프트 공중합체를 제공하는 완전한 건조가 혼합 동안에 실시된다.
성분들을 각각 순수한 형태로 적합한 혼합 장치, 특히 압출기, 바람직하게는 이축 압출기로 공급할 수 있다. 그러나, 또한 개별 성분, 예를 들어 B와 C를 먼저 예비혼합한 다음, 추가의 성분 B 또는 C 또는 다른 성분, 예를 들어 D 및 E와 혼합할 수 있다. 본원에서는 성분 B를 사전에 개별적으로 제조된 성분으로서 사용할 수 있지만; 아크릴레이트 고무 및 비닐방향족 공중합체를 서로 독립적으로 투입하는 것이 또한 가능하다. 한 실시양태에서, 예를 들어 성분 B 중 성분 C 및 D의 농축물을 먼저 제조하고 (마스터배치 또는 첨가제 배치를 수득하기 위해), 이어서 목적하는 양의 남은 성분과 혼합한다. 성형 조성물을, 당업자에게 공지된 방법에 의해 가공처리하여 예를 들어 펠릿을 형성시키거나, 그렇지 않으면 직접 가공처리하여 예를 들어 성형품을 형성시킬 수 있다.
본 발명의 성형 조성물을 가공처리하여 자기-지지 필름 또는 시트, 성형품 또는 섬유를 형성시킬 수 있다. 이들 자기-지지 필름 또는 시트, 성형품 또는 섬유는 특히 옥외 부문, 즉 풍화 조건하에 사용하기에 적합하다.
이들 자기-지지 필름 또는 시트, 성형품 또는 섬유는 공지된 열가소성 가공처리 방법에 의해 본 발명의 성형 조성물로부터 수득가능하다. 더욱 특히, 그의 제조는 열성형, 압출, 사출 성형, 캘린더링, 취입 성형, 압축 성형, 가압 소결, 딥드로잉 또는 소결의 형태를 취할 수 있고, 바람직하게는 사출 성형에 의해서이다.
본 발명의 성형 조성물은 공지된 안정화 성형 조성물과 비교하여, 더 개선된 내후성, 즉 더 개선된 내열성, 내광성 및/또는 산소 저항성을 갖는다.
본 발명은 실시예 및 특허청구범위에 의해 더욱 상세히 설명된다.
A) 측정 방법:
생성물의 충격 강도를 ISO 179 1/eU에 따라 ISO 바(bar) 상에서 (-30)℃에서 측정하였다. 항복 인장 응력을 23℃에서 ISO 527에 따라 측정하였다.
내후성의 척도를 수득하기 위해, 시험 시편 (60×60×2 ㎜, 260℃의 용융 온도 및 60℃의 금형 온도에서 패밀리 금형에서 ISO 294에 따라 제조됨)을 ISO 4892/2, 방법 A에 따라, 외부에서 크세논-아크 시험에 의해 내후성 부여에 적용하였다. 샘플에는 내후성 부여 후 어떠한 추가 처리도 적용하지 않았다. 표 1에 언급된 1500 h 내후성 부여 시간 ("BWZ")에 이어서, 모든 샘플의 표면 광택을 60° 관측 각도에서 독일 표준 사양서 DIN 67530에 따라 측정하고 ISO 105-A02 (1993)에 따라 그레이 스케일 (5: 변화 없음, 1: 대규모의 변화)의 면에서 표면을 평가하였다.
내후성의 추가의 척도를 수득하기 위해, 실온 (20℃)에서 ISO 6603-2 표준에 따라 소형 플라크 (60×60×2 ㎜, 260℃의 용융 온도 및 60℃의 금형 온도에서 패밀리 금형에서 ISO 294에 따라 제조됨) 상에서 침투를 측정하였다.
실험에 사용된 물질:
접두사 "V-"를 갖는 성분 또는 제품은 본 발명에 따른 것이 아니고 비교를 위해 제공된다.
성분 A로서 (또는 비교용 성분 V-A로서) 다음을 사용하였다:
A-i: SEC-MALLS를 사용하여 측정된 18,300 g/mol의 Mw를 갖는 바이엘(Bayer)로부터의 마크롤론(Makrolon)® 2205 폴리카르보네이트 (문헌 [Chi-san Wu, Handbook of size exclusion chromatography and related techniques, volume 91, chapter 21, page 19]).
A-ii: SEC-MALLS를 사용하여 측정된 21,100 g/mol의 Mw를 갖는 바이엘로부터의 마크롤론® 2405 폴리카르보네이트 (문헌 [Chi-san Wu, Handbook of size exclusion chromatography and related techniques, volume 91, chapter 21, page 19]).
V-A-iii: 리온델바젤 인더스트리즈 에이에프 에스씨에이(LyondellBasell Industries AF S.C.A)로부터 시판되는 모플렌(Moplen)® HP500N 폴리프로필렌.
V-A-iv: 바스프 에스이 (또는 스티롤루션 게엠베하(Styrolution GmbH))로부터 시판되는 폴리스티롤(Polystyrol)® 158K 폴리스티렌.
성분 B로서 다음을 사용하였다:
B-i: SEC-MALLS를 사용하여 측정된 19%의 아크릴로니트릴 함량 및 134,000의 쇄 길이를 갖는 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체 (문헌 [Chi-san Wu, Handbook of size exclusion chromatography and related techniques, volume 91, chapter 21, page 19]).
B-ii: SEC-MALLS를 사용하여 측정된 25%의 아크릴로니트릴 함량 및 171,000의 쇄 길이를 갖는 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체 (문헌 [Chi-san Wu, Handbook of size exclusion chromatography and related techniques, volume 91, chapter 21, page 19]).
성분 C (또는 비교용 V-C로서)로서 다음을 사용하였다:
C-i: 성분 B-i로서, EP-A-450 485의 발명의 실시예에 기재된 바와 같이 합성된 그라프팅된 아크릴레이트 고무. 성분 B-i은 2부의 트리시클로데세닐 아크릴레이트 대신 2부의 디히드로디시클로펜타디에닐 아크릴레이트 (CAS 번호 12542-30-2)를 사용하여 합성되었다.
C-i1: 16부의 부틸 아크릴레이트 및 0.4부의 디히드로디시클로펜타디에닐 아크릴레이트를 150부의 물 중 및 1부의, C12-C18 파라핀술폰산의 나트륨 염, 0.4부의 과황산칼륨, 0.3부의 중탄산나트륨 및 0.15부의 피로인산나트륨의 존재하에 교반하에 60℃로 가열하였다. 반응 개시 후 10분, 82부의 부틸 아크릴레이트와 1.6부의 디히드로디시클로펜타디에닐 아크릴레이트의 혼합물을 3시간에 걸쳐 첨가하였다. 그 후 반응 혼합물을 1시간 동안 추가로 단독으로 방치하였다. 수득된 라텍스는 40 중량%의 고형분을 가졌다. 평균 입자 크기는 92 nm로서 측정되었다. 입자 크기 분포는 좁았다 (지수 Q = 0.33).
C-i2: C-i1에서 기재된 바와 같이 제조된 라텍스의 2.5부의 초기 충전을 50부의 물 및 0.1부의 과황산칼륨과 혼합한 후 3시간 과정으로 49부의 부틸 아크릴레이트와 2부의 디히드로디시클로펜타디에닐 아크릴레이트의 혼합물 및 또한 25부의 물 중 C12-C18 파라핀술폰산의 나트륨 염의 0.5부의 용액과 혼합하였다. 이 단계에서 초기 충전의 온도는 60℃이었다. 첨가 완료시 시스템을 2시간 동안 후중합시켰다. 수득된 라텍스는 40%의 고형분을 가졌다. 평균 입자 크기는 526 nm로서 측정되었다. 입자 크기 분포는 좁았다 (지수 Q = 0.16).
C-i3: 150부의, C-i2에 따라 수득된 라텍스를 20부의 스티렌 및 60부의 물과 혼합하고 추가의 0.03부의 과황산칼륨 및 0.05부의 라우로일 퍼옥시드의 첨가 후 3시간 동안 교반하에 65℃로 가열하였다. 수득된 분산제를 추가의 4시간 동안 20부의, 스티렌과 아크릴로니트릴의 75:25의 비의 혼합물로 중합시키고 염화칼슘 용액으로 침전시키고, 침전물을 분리 제거하고, 물로 세척하고, 온난한 공기 스트림에서 건조시켰다. C-i의 그라프팅 정도는 35%로서 측정되었고, 평균 입자 크기는 624 nm로서 측정되었다.
톨루엔 중 C-i의 팽윤 지수는 13.6인 것으로 밝혀졌다.
V-C-ii: C-i1 및 C-i2에서 각 경우에 2부 대신에 5부의 디히드로디시클로펜타디에닐 아크릴레이트를 사용하는 것을 제외하고, 성분 C-i과 같이 제조됨. B-i은 톨루엔 중 4.9의 팽윤 지수를 갖는 것으로 밝혀졌다. 평균 입자 크기는 653 nm로서 측정되었다. 입자 크기 분포는 좁았다 (SI = 0.14).
V-C-iii: 1207 nm의 입자 크기를 갖는 그라프팅된 아크릴레이트 고무. 성분 C-i2로부터 제조됨.
V-C-iii1: C-i2에서 기재된 바와 같이 제조된 라텍스의 9.4부의 초기 충전을 50부의 물 및 0.1부의 과황산칼륨과 혼합한 후 3시간 과정으로 49부의 부틸 아크릴레이트와 2부의 디히드로디시클로펜타디에닐 아크릴레이트의 혼합물 및 또한 25부의 물 중 C12-C18 파라핀술폰산의 나트륨 염의 0.5부의 용액과 혼합하였다. 이 단계에서 초기 충전의 온도는 60℃이었다. 첨가 완료시 시스템을 2시간 동안 후중합시켰다. 수득된 라텍스는 40%의 고형분을 가졌다. 평균 입자 크기는 1065 nm로서 측정되었다.
V-C-iii2: 150부의, C-i2에 따라 수득된 라텍스를 20부의 스티렌 및 60부의 물과 혼합하고 추가의 0.03부의 과황산칼륨 및 0.05부의 라우로일 퍼옥시드의 첨가 후 3시간 동안 교반하에 65℃로 가열하였다. 수득된 분산액을 추가의 4시간 동안 20부의, 스티렌과 아크릴로니트릴의 75:25의 비의 혼합물로 중합시키고 염화칼슘 용액으로 침전시키고, 침전물을 분리 제거하고, 물로 세척하고, 온난한 공기 스트림에서 건조시켰다. C-i의 그라프팅 정도는 35%로서 측정되었고, 평균 입자 크기는 1207 nm로서 측정되었다.
톨루엔 중 V-C-iii의 팽윤 지수는 9인 것으로 밝혀졌다.
성분 D (또는 비교용 V-D)로서 다음을 사용하였다:
D-i: 바스프 에스이로부터 티누빈® 770이라는 명칭으로 시판되는 화학식 I의 화합물.
V-D-ii: 바스프 에스이로부터 티누빈® 765라는 명칭으로 시판되는, 화학식 VII의 화합물.
<화학식 XII>
Figure pct00017
성분 E로서 다음을 사용하였다:
E-i: 사이텍 인더스트리즈로부터 시아소르브® 3853이라는 명칭으로 시판되는 화학식 II의 화합물 (이 경우, 화학식 II에서 n은 바람직하게는 7 내지 8임).
성분 F (또는 비교용 V-F)로서 다음을 사용하였다:
F-i: 바스프 에스이로부터 키마스소르브® 944라는 명칭으로 시판되는 화학식 III의 화합물.
V-F-iii: 사보 에스피에이(SABO S.p.A.)로부터 사보스탭(Sabostab)® 119라는 명칭으로 시판되는, 화학식 VIII의 고분자량 입체 장애 아민, CAS 번호 106990-43-6.
<화학식 VIII>
Figure pct00018
성분 G로서 다음을 사용하였다:
G-i: 디스플라몰(Disflamoll) TP라는 명칭으로 시판되는, 시판 (예를 들어, 랑세스 독일(Lanxess Germany)) 트리페닐 포스페이트 (CAS 번호 115-86-6).
성분 H로서 다음을 사용하였다:
H-i: 캐보트 코포레이션(Cabot Corporation, 미국 보스턴)으로부터 시판되는 블랙 펄스(Black Pearls) 880 카본 블랙.
성형 조성물 및 성형품의 제조:
성분 A, B, C, D, E, F, H 및 G (각각의 중량부에 대해서는 표 1 참조)를 이축 압출기 (베르너 앤드 플라이더러(Werner & Pfleiderer)로부터의 ZSK30)에서 280℃에서 균질화하고 그로부터 수조로 압출시켰다. 압출물을 펠릿화하고 건조시켰다. 성형 조성물의 펠릿을 사용하여 260℃의 용융 온도 및 60℃의 금형 표면 온도에서 다양한 시험 시편을 사출 성형하여 내후성 부여 전후 표 1에 언급된 특성을 측정하였다.
Figure pct00019
실시예는 적어도 하나의 폴리카르보네이트, 스티렌 공중합체 및 충격-개질 그라프팅된 고무를 포함하는 본 발명의 성형 조성물이 공지된 안정화 성형 조성물에 비해, 개선된 내후성, 즉 개선된 내열성, 내광성 및/또는 산소 저항성을 갖는다는 것을 실증한다. 성분 구성은 중량 분율로 보고되고, 약어 BWZ는 내후성 부여 시간을 의미한다. 조성물 중 적어도 하나의 성분 D (예컨대 티누빈 770) 및 적어도 하나의 성분 E (예컨대 시아소르브 3853)는 특히 유리한 것으로 입증된다.

Claims (17)

  1. a) 성분 A로서의 3 내지 91.7 중량%의 적어도 하나의 방향족 폴리카르보네이트,
    b) 성분 B로서의 3 내지 91.7 중량%의 하나 이상의 스티렌 공중합체,
    c) 성분 C로서의 3 내지 91.7 중량%의, 고무 상에 올레핀계 이중 결합을 갖지 않는 하나 이상의 충격-개질 그라프팅된 고무,
    d) 성분 D로서의 0.2 내지 0.9 중량%의 하기 화학식 I의 화합물,
    e) 성분 E로서의 0 내지 0.9 중량%의 하기 화학식 II의 혼합물,
    f) 성분 F로서의, 0 내지 0.9 중량%의 하기 화학식 III의 화합물, 또는 0 내지 0.9 중량%의 하기 화학식 IV의 화합물, 또는 0 내지 0.9 중량%의 하기 화학식 V의 화합물, 또는 0 내지 0.9 중량%의 하기 화학식 VI의 화합물,
    g) 0 내지 25 중량%의 적어도 하나의 할로겐-비함유 인 화합물 G,
    h) 성분 H로서의 0 내지 10 중량%의, 성분 D, E, F 및 G 이외의 하나 이상의 첨가물 물질, 및
    i) 성분 I로서의 0 내지 40 중량%의 섬유성 또는 미립자 충전제
    를 포함하며,
    단, 성분 E가 0 중량%인 경우, 화학식 III, IV, V 또는 VI의 성분 중 적어도 하나가 0.01 내지 0.9 중량%, 바람직하게는 0.1 내지 0.9 중량%, 보다 바람직하게는 0.2 내지 0.8 중량%의 양으로 존재하고, 여기서 중량%는 각각 성분 A 내지 I의 총 중량을 기준으로 한 것이며, 이들의 합은 100 중량%가 되는 것인,
    열가소성 성형 조성물.
    <화학식 I>
    Figure pct00020

    <화학식 II>
    Figure pct00021

    (n은 2 내지 20임)
    <화학식 III>
    Figure pct00022

    <화학식 IV>
    Figure pct00023

    (여기서,
    Figure pct00024
    이고,
    여기서, n은 2 내지 20임)
    <화학식 V>
    Figure pct00025

    (여기서, n은 2 내지 20임)
    <화학식 VI>
    Figure pct00026

    (여기서, n은 2 내지 20임)
  2. 제1항에 있어서, 성분 C의 팽윤 지수가 6 내지 20의 범위인 것을 특징으로 하는 열가소성 성형 조성물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 성분 B가 아크릴로니트릴, 스티렌 및/또는 α-메틸스티렌, 페닐말레이미드, 메틸 메타크릴레이트 또는 그의 혼합물의 공중합체를 포함하는 것을 특징으로 하는 열가소성 성형 조성물.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 성분 C가, C를 기준으로 55 내지 80 중량%의 엘라스토머-가교된 아크릴산 에스테르 중합체 C1 및 C를 기준으로 45 내지 20 중량%의 그라프트 시스(sheath) C2를 포함하는 아크릴레이트-스티렌-아크릴로니트릴 (ASA) 그라프트 중합체의 혼합물을 포함하며, 상기 그라프트 시스 C2는 80:20 내지 65:35의 중량비의 비닐방향족 단량체 및 하나 이상의 극성 공중합성 에틸렌계 불포화 단량체, 임의로는 추가의 공중합성 에틸렌계 불포화 단량체로부터 형성된 것을 특징으로 하는 열가소성 성형 조성물.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 성분 C에서 성분 C1이 0.01 내지 20 중량%, 바람직하게는 0.1 내지 5 중량%의 가교 단량체, 바람직하게는 부틸렌 디아크릴레이트, 디비닐벤젠, 부탄디올 디메타크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 디알릴 메타크릴레이트, 디알릴 말레에이트, 디알릴 푸마레이트, 트리알릴 메타크릴레이트, 트리알릴 이소시아누레이트, 보다 바람직하게는 디알릴 프탈레이트, 알릴 메타크릴레이트 및/또는 디히드로디시클로펜타디에닐 아크릴레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 열가소성 성형 조성물.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 성분 C의 평균 입자 직경이 50 내지 1200 ㎚인 것을 특징으로 하는 열가소성 성형 조성물.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 성분 D 및 E의 중량비가 4:1 내지 1:1의 범위이고, 성분 E 및 F의 중량비가 2:1 내지 0.5:1의 범위인 것을 특징으로 하는 열가소성 성형 조성물.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 0 내지 1.5 중량%의 프탈산 에스테르 또는 아디프산 에스테르를 포함할 수 있는 것을 특징으로 하는 열가소성 성형 조성물.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 성분 C1이 2 내지 99 중량%의 부틸 아크릴레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 열가소성 성형 조성물.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, C2에서 비닐방향족 성분이 스티렌 또는 α-메틸스티렌 중 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 열가소성 성형 조성물.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, C2에서 에틸렌계 불포화 성분이 아크릴로니트릴 및/또는 C1-C8 알킬을 갖는 알킬 메타크릴레이트 및/또는 알킬 아크릴레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 열가소성 성형 조성물.
  12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 성분 C가 단봉성 또는 쌍봉성 입자 크기 분포로 그라프팅된 고무를 포함하는 것을 특징으로 하는 열가소성 성형 조성물.
  13. 성분 A 내지 D 및, 임의로는, 성분 E 내지 I를 100 내지 300℃의 온도 및 1 내지 50 bar의 압력에서 임의의 바람직한 순서로 서로 상호 혼합한 다음, 혼련하고, 압출시키는 것을 특징으로 하는, 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 따른 열가소성 성형 조성물의 제조 방법.
  14. 제13항에 있어서, 먼저 성분 C의 일부를 성분 B의 일부와 1:1 내지 1:2의 비로 예비혼합하여 마스터배치를 형성시킨 다음, 추가의 성분 A 내지 D 및 임의로는 성분 E 내지 I와 혼합하여 열가소성 성형 조성물을 형성시키는 것을 특징으로 하는, 열가소성 성형 조성물의 제조 방법.
  15. 성형품, 자기-지지 필름 및 시트 또는 섬유를 제조하기 위한, 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 따른 열가소성 성형 조성물의 용도.
  16. 제15항에 있어서, 자동차 부품 또는 전자 기기 부품을 위한 성형품을 제조하기 위한, 열가소성 성형 조성물의 용도.
  17. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 따른 열가소성 성형 조성물로부터의 성형품, 섬유 또는 자기-지지 필름 또는 시트.
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