JPH09110841A - ベンゾトリアゾールまたはベンゾフェノン部分により置換されたハイブリッドｓ−トリアジン光安定剤およびそれにより安定化された組成物 - Google Patents

ベンゾトリアゾールまたはベンゾフェノン部分により置換されたハイブリッドｓ−トリアジン光安定剤およびそれにより安定化された組成物

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JPH09110841A
JPH09110841A JP8271851A JP27185196A JPH09110841A JP H09110841 A JPH09110841 A JP H09110841A JP 8271851 A JP8271851 A JP 8271851A JP 27185196 A JP27185196 A JP 27185196A JP H09110841 A JPH09110841 A JP H09110841A
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alkyl
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Gregory Robert Coughlin
ロバート コーフリン グレゴリー
Robert Allan Falk
アラン フォーク ロバート
Tyler A Stevenson
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ポリマーへの相溶性に優れ、添加後の組成物
の高温における加工中に揮発による損失への良好な耐性
をもつ、光、酸素、熱による崩壊を受けやすい有機材料
のための安定剤を提供する。 【解決手段】 式ＩまたはIIのベンゾトリアゾール又は
ベンゾフェノン部分により置換されたハイブリッドｓ−
トリアジン光安定剤とそれにより安定化された組成物
〔例えば２，２’−ジヒドロキシ−３−（２Ｈ−ベンゾ
トリアゾール−２−イル）−３’−（４，６−ジフェニ
ル−ｓ−トリアジン−２−イル）−５−メチル−６’−
ヘキシルオキシ−ジフェニルメタン〕。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はベンゾトリアゾリル
またはベンゾフェノニル部分で置換されたｓ−トリアジ
ン紫外線吸収剤ならびにそれにより安定化された有機材
料との組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】発明の背景 ２Ｈ−ベンゾトリアゾールおよびベンゾフェノンタイプ
の紫外線吸収剤は多くの有機材料のための非常に有効な
光安定剤として知られておりかなりの商業的成功も治め
ている。最近長く知られたｓ−トリアジン紫外線吸収剤
はそれらの光安定剤効果に加えて特に良好な熱安定性を
示すことを示してきた。
【０００３】米国特許第3,004,896 号、 3,055,896号、
3,072,585号、3,074,910 号、3,230,194 号、4,127,58
6 号、4,226,763 号、4,278,589 号、4,315,848 号、4,
383,863 号、4,675,352 号、4,681,905 号および4,853,
471 号では、２Ｈ−ベンゾトリアゾール紫外線吸収剤の
製造と使用を記載する。
【０００４】ベンゾフェノン紫外線吸収剤の記載、製造
および使用は"Encyclopedia of Polymer Science and T
echnology", Ｎ．バイカルズ（N.Bicales), 編，ジョン
ウイリー−インターサイエンス（John Wiley-Interscie
nce), New York, Vol. 14,1971,125-148頁のＧ．Ｒ．ラ
ピン（G.R.Lapin)による包括的な総説に見出される。
【０００５】ｓ−トリアジン紫外線吸収剤は米国特許第
5,376,710 号、5,369,140 号、5,364,749 号、5,354,79
4 号、5,350,449 号、5,322,868 号、5,300,414 号、5,
298,067 号、5,298,030 号、5,288,778 号、5,106,972
号、5,106,891 号、5,096,489 号、5,084,570 号、4,96
2,142 号、4,950,304 号、4,831,068 号、4,826,978
号、4,740,542 号、4,619,956 号、4,355,071 号および
3,843,371 号；ならびに欧州特許第704,437 号公開公
報、欧州特許第557,247 号公開公報、欧州特許第506,61
5 号公開公報、欧州特許第483,488 号公開公報、欧州特
許第468,921 号公開公報、欧州特許第444,323 号公開公
報、欧州特許第442,847 号公開公報、欧州特許第434,60
8 号公開公報、欧州特許第280,653 号公開公報、欧州特
許第205,493号公開公報、欧州特許第200,190 号公開公
報、欧州特許第165,608 号公開公報ならびに国際公開WO
94/05645号に記載されている。
【０００６】多くの実例では、ｓ−トリアジン、ベンゾ
トリアゾールおよび／またはベンゾフェノン紫外線防止
剤は、一定の物質との限られた相溶性（compalability)
および／または、米国特許第3,268,474 号；3,244,708
号；3,242,175 号に記載されるように高温において加工
される場合に、安定化された組成物のシート、フィル
ム、他の薄膜への加工中に、過度に滲出、昇華または揮
発して消失する傾向を示す。同様にこのような配合物は
また、二次加工の構造物が使用中に高温を受ける場合
に、該構造物、特に薄いフィルム、塗膜もしくは繊維か
らの揮発または昇華によるひどい損失を甘受しなければ
ならない。
【０００７】これらの紫外線吸収剤の構造を改良するこ
とにより相溶性を増加させ、および／または揮発性を減
少させる試みがなされている。ベンゾフェノンおよびベ
ンゾトリアゾールとのハイブリッド生成物が報告されて
おり、欧州特許第431,868 号に２４０−４２０ｎｍの範
囲にて有益である、紫外線吸収剤の例、即ち３，５−ビ
ス（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−２，４，
４’−トリヒドロキシベンゾフェノンが記載されてい
る。
【０００８】欧州特許第613,891 号は２−（ベンゾトリ
アゾール−２−イル）−４−アルキル−６−（２−ヒド
ロキシ−３−ベンゾイル−６−アルコキシ−ベンジル）
フェノールのようなハイブリッド生成物が、２−（２−
ヒドロキシ−５−アルキルフェニル）−２Ｈ−ベンゾト
リアゾールのマンニッヒ塩基を２−ヒドロキシ−４−ア
ルコキシベンゾフェノンと反応させることにより製造さ
れることを教示している。このハイブリッド生成物は光
で誘発された劣化から有機物質を保護することへの著し
い効果ならびに高温における安定化組成物の加工中の揮
発または滲出による損失への良好な耐性を示す。
【０００９】米国特許第3,230,194 号は第三オクチルの
ような高級アルキル基の、メチル基のような低級アルキ
ル基への置換がポリエチレン中の置換ベンゾトリアゾー
ル紫外線吸収剤の相溶性および性能を改良することを示
唆する。
【００１０】同様に米国特許第4,278,590 号；4,283,32
7 号および4,383,863 号は、２−（ヒドロキシ−３，５
−ジ−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンズトリアゾ
ールが、安定化された組成物の塗膜またはフィルムが周
囲の気象条件（ambient weathering) および化学線に曝
される最終用途において、および写真用途において、高
温加工中の揮発による損失に対するより優れた耐性に加
え、多くのポリマー物質との相溶性および／またはそれ
への溶解性、との優れたコンビネーションを示すことを
記載する。
【００１１】米国特許第4,675,352 号は、低揮発性の液
体ベンゾトリアゾール紫外線吸収剤が予め形成された２
−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベ
ンゾトリアゾールのアルキル化によって製造されること
を教示している。
【００１２】米国特許第3,936,305 号,4,681,905号，4,
684,679 号および5,108,835 号は高いモル活量および低
い揮発性を持つ２，２’−メチレン−ビス［４−ヒドロ
カルビル−６−（ベンゾトリアゾール−２−イル）フェ
ノール］を開示する。
【００１３】米国特許第3,399,237 号および4,169,089
号、特願昭５３−１１３８４９号、特願昭５７−６４７
０号；特願昭４９−７８６９２号、特願昭５０−７４５
７９号および特願昭５０−８６４８７号はメチレン−ビ
ス（２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン類）である高モル
活量をもつ相当する低揮発性化合物の部類を教示する。
【００１４】米国特許第5,166,355 号はビス（ジアルキ
ルアミノ）メタンを使用する、２，２’−メチレン−ビ
ス［６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４
−ヒドロカルビルフェノール］または５，５’−メチレ
ン−ビス（２−ヒドロキシ−４−アルコキシ−ベンゾフ
ェノン）の製造方法を記載する。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明の組成物は従来技
術の化合物の各々から構造的に区別され、そして該本発
明の化合物は減少した揮発性と特に幅広い紫外線範囲に
おいてそれらの吸収特質の予期できない増大を示す。そ
れらの写真的不活性(photographic inertness)は、写真
用組成物への、特に化学線の有害な作用に対してカラー
着色画像（color dye images) を保護することへのそれ
らの使用に、特に役立つ。
【００１６】本発明の目的 本発明の第一の目的はより優れた紫外線吸収特性および
安定化効果を有する新規なハイブリッド紫外線吸収剤を
提供することである。本発明の他の目的は、特に写真へ
の適用における、前記化合物を使用するより優れた安定
化組成物を提供することである。
【００１７】詳細な説明 本発明はベンゾトリアゾリルまたはベンゾフェノニル部
分により置換されたｓ−トリアジン紫外線吸収剤および
それらにより安定化された有機材料の組成物に関する。
【００１８】さらに特に、本発明が次式ＩまたはII 〔式中、ＸおよびＹは同じかまたは異なっており、フェ
ニル基または１または３個の、低級アルキル基、ハロゲ
ン原子、ヒドロキシ基もしくはアルコキシ基により置換
されたフェニル基を表し；Ｔ1 は水素原子、クロロ基、
炭素原子数１ないし４のアルキル基または−ＳＯ3Ｈを
表し；Ｔ2 は炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表
し；Ｅ1 は水素原子、クロロ基もしくは−ＯＥ2 を表
し；Ｅ2 は水素原子または炭素原子数１ないし１８のア
ルキル基を表し；Ｅ3 は水素原子、炭素原子数１ないし
４のアルキル基、クロロ基または−ＳＯ3Ｈを表し；Ｅ
4 は水素原子、クロロ基または−ＯＥ5 を表し；Ｅ5 は
水素原子または炭素原子数１ないし１８のアルキル基を
表し；Ｅ6 は水素原子、ヒドロキシ基またはカルボキシ
基を表し；Ｇ1 は水素原子を表すか、またはＧ1 がフェ
ニル環の５位にあるときはＧ1 はまた直鎖もしくは枝分
れした炭素原子数１ないし２４のアルキル基、炭素原子
数５ないし１２のシクロアルキル基または炭素原子数７
ないし１５のフェニルアルキル基を表し；Ｒは水素原
子、直鎖もしくは分枝鎖の炭素原子数１ないし２４のア
ルキル基または炭素原子数５ないし１２のシクロアルキ
ル基；または１ないし８個の、ハロゲン原子、エポキシ
基、グリシジルオキシ基、フリルオキシ基、−Ｒ2 、−
ＯＲ3、−Ｎ（Ｒ3 ）2 、−ＣＯＮ（Ｒ3 ）2 、−ＣＯ
Ｒ3 、−ＣＯＯＲ3 、−ＯＣＯＲ3 、−ＯＣＯＣ
（Ｒ3 ）＝Ｃ（Ｒ3 ）2 、−Ｃ（Ｒ3 ）＝ＣＣＯＯ
Ｒ3 、−ＣＮ、−ＮＣＯまたは 、またはそれらの組合せにより置換されている上記アル
キル基またはシクロアルキル基；あるいは１ないし６個
の、エポキシ基、−Ｏ−、−ＮＲ3 −、−ＣＯＮＲ
3 −、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−、−Ｃ
（Ｒ3 ）＝Ｃ（Ｒ3 ）ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣ（Ｒ3 ）＝
Ｃ（Ｒ3 ）−、−（Ｒ3 ）Ｃ＝Ｃ（Ｒ3 ）−、フェニレ
ン基または−フェニレン−Ｇ−フェニレン基（式中、Ｇ
は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2 −、−ＣＨ2 −または−Ｃ
（ＣＨ3 ）2 −を表す。）、またはそれらの組合せによ
り中断された上記アルキル基またはシクロアルキル基；
または上述した基の組合せにより置換と中断の両方がな
された上記アルキル基またはシクロアルキル基；あるい
はＲは−ＳＯ2 Ｒ1 または−ＣＯＲ4 を表し；Ｒ1 は炭
素原子数１ないし２０のアルキル基、炭素原子数３ない
し１８のアルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシク
ロアルキル基、炭素原子数７ないし１５のフェニルアル
キル基、炭素原子数６ないし１０のアリール基または１
または２個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換
された上記アリール基を表し；Ｒ2 は炭素原子数６ない
し１０のアリール基または１ないし３個の、ハロゲン原
子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数１
ないし８のアルコキシ基またはそれらの組合せによって
置換された上記アリール基；炭素原子数５ないし１２の
シクロアルキル基、または炭素原子数７ないし１５のフ
ェニルアルキル基；またはフェニル環上１ないし３個
の、ハロゲン原子、炭素原子数１ないし８のアルキル
基、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基またはそれら
に組合せにより置換された上記フェニルアルキル基；直
鎖または分枝鎖の炭素原子数２ないし１８のアルケニル
基を表し；Ｒ3 はＲ2 で定義された意味を表すか、また
はＲ3 はまた水素原子または直鎖もしくは分枝鎖の炭素
原子数１ないし２４のアルキル基を表すか；またはＲ3
は式 （式中、Ｔは水素原子、オキシル基、ヒドロキシル基、
炭素原子数１ないし１２のアルキル基、少なくとも１個
の、ヒドロキシル基または低級アルコキシ基によって置
換された上記アルキル基、ベンジル基または炭素原子数
２ないし１８のアルカノイル基を表す。）で表される基
を表し；Ｒ4 は直鎖または分枝鎖の炭素原子数１ないし
１８のアルキル基、直鎖または分枝鎖の炭素原子数２な
いし１８のアルケニル基、フェニル基、炭素原子数１な
いし１２のアルコキシ基、フェノキシ基、炭素原子数１
ないし１２のアルキルアミノ基、炭素原子数６ないし１
２のアリールアミノ基または基−Ｒ5 ＣＯＯＨまたは−
ＮＨ−Ｒ6 −ＮＣＯを表し；Ｒ5 は炭素原子数２ないし
１４のアルキレン基またはｏ−フェニレン基を表し；お
よびＲ6 は炭素原子数２ないし１０のアルキレン基、フ
ェニレン基、トリレン基、ジフェニレンメタン基または
基： を表す。〕で表される化合物に関する。
【００１９】好ましくは、Ｔ1 が水素原子またはクロロ
基であり、最も好ましくは水素原子を表す。好ましく
は、Ｔ2 が炭素原子数１ないし１２のアルキル基、好ま
しくは炭素原子数１ないし８のアルキル基を表す。
【００２０】好ましくは、Ｅ1 は−ＯＥ2 （式中、Ｅ2
は水素原子または炭素原子数１ないし１２のアルキル基
を表し、最も好ましくはＥ2 は水素原子または炭素原子
数１ないし８のアルキル基を表す。）を表す。好ましく
は、Ｅ3 は水素原子を表す。好ましくは、Ｅ4 は水素原
子または−ＯＥ5 （式中、Ｅ5 は水素原子または炭素原
子数１ないし１２のアルキル基を表し、最も好ましくは
Ｅ5 は水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル
基を表す。）を表す。好ましくは、Ｅ6 は水素原子また
はヒドロキシル基を表す。
【００２１】特に好ましいものは、Ｔ1 が水素原子また
はクロロ基を表し、Ｔ2 が炭素原子数１ないし１２のア
ルキル基を表し、Ｅ1 は−ＯＥ2 （式中、Ｅ2 は水素原
子または炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表
す。）を表し；Ｅ3 は水素原子を表し、Ｅ4 は水素原子
または−ＯＥ5 （式中、Ｅ5 は水素原子または炭素原子
数１ないし１２のアルキル基を表す。）を表し、ならび
に、Ｅ6 は水素原子またはヒドロキシル基を表す、化合
物である。
【００２２】特別に好ましいものはまた、Ｔ1 が水素原
子またはクロロ基を表しおよびＴ2が炭素原子数１ない
し１２のアルキル基を表すか；あるいはＥ1 は−ＯＥ2
（式中、Ｅ2 は水素原子または炭素原子数１ないし１２
のアルキル基を表す。）を表し、Ｅ3 は水素原子または
ＳＯ3 Ｈを表し、Ｅ4 は水素原子を表し、ならびに、Ｅ
6 は水素原子またはヒドロキシル基を表し；ＸおよびＹ
はフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、４−メチ
ルフェニル基または４−クロロフェニル基を表し；Ｒは
炭素原子数１ないし２４のアルキル基または１または２
個の−ＯＲ3 （式中、Ｒ3 は水素原子または直鎖もしく
は分枝鎖の炭素原子数１ないし２４のアルキル基を表
す。）により置換された炭素原子数２ないし６のアルキ
ル基を表す、化合物である。
【００２３】特別に好ましいものは、Ｒが炭素原子数１
ないし２４のアルキル基を表すか、または１個のヒドロ
キシル基によりおよび１個の炭素原子数１ないし２４の
アルコキシ基により置換された炭素原子数２ないし６の
アルキル基を表し；およびＧ1 は水素原子を表すか、ま
たはＧ1 はフェニル環の５−位にありそして炭素原子数
７ないし１２のフェニルアルキル基を表す、ものであ
る。
【００２４】またさらに、好ましいものは、Ｔ1 が水素
原子を表し、Ｔ2 が炭素原子数１ないし８のアルキル基
を表し、Ｅ1 が−ＯＥ2 （式中、Ｅ2 は炭素原子数１な
いし１２のアルキル基を表す。）を表し、Ｅ3 、Ｅ4 お
よびＥ6 の各々が水素原子を表す化合物である。
【００２５】好ましくは、ＸおよびＹは、フェニル基ま
たは１ないし３個の、低級アルキル基またはハロゲン原
子により置換されたフェニル基であり；Ｒは直鎖もしく
は分枝鎖の炭素原子数２ないし２４のアルキル基を表す
か、または１もしくは２個の−ＯＲ3 （基中、Ｒ3 は水
素原子、直鎖もしくは分枝鎖の炭素原子数１ないし２４
のアルキル基または、フェニル基を表す。）により置換
された上記アルキル基を表す。
【００２６】特別に好ましいのはＲが１個のヒドロキシ
ル基および１個の−ＯＲ3 （基中、Ｒ3 は炭素原子数１
ないし２４のアルキル基またはフェニル基を表す。）に
より置換された上記アルキル基を表す、化合物である。
【００２７】最も好ましくは、ＸおよびＹがフェニル
基、２，４−ジメチルフェニル基、４−メチルフェニル
基または４−クロロフェニル基であり；Ｒが直鎖もしく
は分枝鎖の炭素原子数２ないし６のアルキル基、または
１もしくは２個の−ＯＲ3 （基中、Ｒ3 は水素原子、直
鎖もしくは分枝鎖の炭素原子数１ないし２４のアルキル
基を表す。）により置換された上記アルキル基を表す
か；特にＲが１個のヒドロキシル基によりおよび１個の
炭素原子数１ないし２４個のアルコキシ基により置換さ
れた炭素原子数１ないし２４のアルキル基を表すもので
ある。
【００２８】Ｔ1 ないしＥ6 のいずれかがアルキル基の
場合、このような基は、例えば、メチル基、エチル基、
イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、第二ブ
チル基、第三ブチル基、第三アミル基、２−エチルヘキ
シル基、イソオクチル基、第三オクチル基、ラウリル
基、第三ドデシル基、トリデシル基、ｎ−ヘキサデシル
基およびｎ−オクタデシル基である。
【００２９】本発明はまた、（ａ）化学線、酸素および
／または熱によって崩壊し易い有機材料および（ｂ）前
に記載した式Ｉおよび／またはIIで表される化合物の有
効な安定化量からなる安定化組成物、および有機材料の
安定剤としての式Ｉおよび／または式IIで表される化合
物の使用ならびに相当する、光、酸素および／または熱
による劣化に対して有機材料を安定化する方法にも関す
る。
【００３０】好ましい安定化された組成物は、成分
（ａ）の有機材料がポリスチレン、スチレンのグラフト
コポリマー、ポリフェニレンオキシド、ポリフェニレン
スルフィド、ポリウレタン、ポリ尿素、ポリイミド、ポ
リアミド−イミド、芳香族ポリエステル、ポリカーボネ
ート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエー
テルケトン、アルキド樹脂、アミノプラスト樹脂および
エポキシ樹脂からなる群から選択される合成ポリマーで
あるもの、特にポリオレフィンであるものである。
【００３１】本発明の化合物は、フェニル環上３位に何
も付かない２Ｈ−ベンゾトリアゾールのマンニッヒ塩基
を製造しそして該マンニッヒ塩基をｓ−トリアジンと反
応させることにより、またはｓ−トリアジンのマンニッ
ヒ塩基を製造しそして該マンニッヒ塩基とベンゾトリア
ゾールまたはベンゾフェノンを製造することにより製造
される。このｓ−トリアジン、ベンゾフェノンおよび上
記２Ｈ−ベンゾトリアゾールは、多くの市販製品である
かまたは当業者に良く知られた方法によって容易に製造
できる。本発明の化合物はまた、ベンゾフェノンのマン
ニッヒ塩基を作りおよびそれと適当なｓ−トリアジンと
を反応させることによっても製造できる。
【００３２】本発明の化合物は揮発への良好な耐性を示
し、選択された溶媒への増大された溶解性をもち、所望
の紫外線吸収特性をもちおよび写真的に不活性である。
この特性の組合せはそれらを特に写真用組成物、とりわ
け紫外線の有害な影響に対するカラー着色画像を保護す
ることにおいて特に有用である。
【００３３】本発明の化合物は写真ゼラチン層の紫外線
吸収剤として有益である。組成物は近紫外で最大吸収を
示し、ちょうど可視領域の外側で鋭敏なカットオフを示
す。化合物は、本質的に無色で、溶媒−分散またはイン
ビビション法のいずれかにより容易に分散または溶解
し、そして写真的に不活性である。
【００３４】本発明の化合物は写真組成物のゼラチン層
において優れた相溶的性質を示し、それは本質的に、紫
外線の有害な作用に対してカラー着色画像の優れた保護
とつながる曇りのない組成物をもたらす。この特性のコ
ンビネーションは、本発明を、従来の最も近似の化合物
から、はっきり区別する。
【００３５】好ましい有機材料は、合成ポリマーであ
る。このようなポリマーは芳香環部分を含むもの特にポ
リスチレン、スチレンのグラフトコポリマー例えば、Ａ
ＢＳ樹脂、ポリフェノレンオキシド、ポリフェニレンス
ルフィド、ポリウレタン、ポリ尿素、ポリイミド、ポリ
アミド−イミド、芳香族ポリエステル、ポリカーボネー
ト、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテ
ルケトン、アルキド樹脂、アミノプラスト樹脂およびエ
ポキシ樹脂である。
【００３６】他の特に重要な合成ポリマーの部類はポリ
オレフィン、例えばポリプロピレンである。
【００３７】一般に安定化され得るポリマーは以下のよ
うなものである： １．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えば（所望により架橋結合できる）ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−１、ポリ
メチルペンテン−１、ポリイソプレンまたはポリブタジ
エン、ならびにシクロオレフィン例えばシクロペンテン
またはノルボルネンのポリマー。
【００３８】２． １．に記載したポリマーの混合物、
例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物。
【００３９】３．モノオレフィンとジオレフィン相互ま
たは他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレ
ン／プロピレンコポリマー、プロピレン／ブテン−１コ
ポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチ
レン／ブテン−１コポリマー、プロピレン／ブタジエン
コポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エ
チレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／
アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／ビニル
アセテートコポリマーまたはエチレン／アクリル酸コポ
リマーおよびそれらの塩類（アイオノマー）およびエチ
レンとプロピレンとジエン例えばヘキサジエン、ジシク
ロペンタジエンまたはエチリデン−ノルボルネンのよう
なものとのターポリマー。
【００４０】４．ポリスチレン、ポリ−（α−メチルス
チレン）。
【００４１】５．スチレンまたは、α−メチルスチレン
とジエンもしくはアクリル誘導体とのコポリマー、例え
ばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリ
ル、スチレン／エチルメタクリレート、スチレン／ブタ
ジエン／エチルアクリレート、スチレン／ブタジエン／
エチルメタクリレート、スチレン／アクリロニトリル／
メチルアクリレート；スチレンコポリマーと他のポリマ
ー、例えばポリアクリレート、ジエンポリマーまたはエ
チレン／プロピレン／ジエンターポリマーとの高衝撃強
度の混合物；およびスチレンのブロックコポリマー、例
えばスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソ
プレン／スチレン、スチレン／エチレン／ブチレン／ス
チレン、又はスチレン／エチレン／プロピレン／スチレ
ン。
【００４２】６．スチレンのグラフトコポリマー、例え
ばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジエンにスチレ
ンおよびアクリロニトリル；ポリブタジエンにスチレン
およびアルキルアクリレートまたはメタクリレート、エ
チレン／プロピレン／ジエンターポリマーにスチレンお
よびアクリロニトリル、ポリアクリレートまたはポリメ
タクリレートにスチレンおよびアクリロニトリル、アク
リレート／ブタジエンコポリマーにスチレンおよびアク
リロニトリル、ならびにこれらと５．に列挙したコポリ
マーとの混合物、例えばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡおよび
ＡＥＳポリマーとして知られているコポリマー混合物。
【００４３】７．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリク
ロロプレン、塩素化ゴム、塩素化もしくはクロロスルホ
ン化ポリエチレン、エピクロロヒドリンホモ−およびコ
ポリマー、ハロゲン含有ビニル化合物からのポリマー、
例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ
化ビニル、およびポリフッ化ビニリデンならびにこれら
のコポリマー、例えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩
化ビニル／酢酸ビニル、塩化ビニリデン／酢酸ビニルコ
ポリマーまたはフッ化ビニル／ビニルエーテルコポリマ
ー。
【００４４】８．α，β−不飽和酸、およびその誘導体
から誘導されたポリマー、例えばポリアクリレートおよ
びポリメタクリレート、ポリアクリルアミドおよびポリ
アクリロニトリル。
【００４５】９．上記８に挙げたモノマーの相互または
他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニ
トリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／ア
ルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／ア
ルコキシアルキルアクリレートまたはアクリロニトリル
／ハロゲン化ビニルコポリマー、又はアクリロニトリル
−アルキルメタクリレート−ブタジエンターポリマー。
【００４６】10．不飽和アルコールおよびアミンまたは
それらのアシル誘導体またはそれらのアセタールから誘
導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ
酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベン
ゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラー
ル、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン。
【００４７】11．環状エーテルのホモポリマーおよびコ
ポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチ
レンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらと
ビスグリシジルエーテルとのコポリマー。
【００４８】12. ポリアセタール、例えばポリオキシメ
チレンおよびエチレンオキシドをコモノマーとして含む
ポリオキシメチレン。
【００４９】13．ポリフェニレンオキシドおよびスルフ
ィド、ならびにポリフェニレンオキシドとポリスチレン
との混合物。
【００５０】14. 一方の成分としてヒドロキシ末端基を
含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエン
と他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネ
ートとから誘導されたポリウレタンならびにその前駆物
質（ポリイソシアネート、ポリオールまたはプレポリマ
ー）。
【００５１】15. ジアミンおよびジカルボン酸および／
またはアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘
導されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリア
ミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、ポリアミド
６／１０、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ポリ−
２，４，４−（トリメチルヘキサメチレン）テレフタル
アミド、ポリ−ｐ−フェニレンテレフタルアミドまたは
ポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド；ならびにこれ
らとポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポ
リプロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリ
コールとのコポリマー。
【００５２】16. ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−
イミド。
【００５３】17. ジカルボン酸およびジオールから、お
よび/ またはヒドロキシカルボン酸または相当するラク
トンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレン
テレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−
１, ４−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレー
ト、ポリ［２，２−（４−ヒドロキシフェニル）−プロ
パン］テレフタレートおよびポリヒドロキシベンゾエー
トならびにヒドロキシ末端基を含有するポリエーテルか
ら誘導されたブロック−コポリエーテル−エステル。
【００５４】18. ポリカーボネート
【００５５】19. ポリスルホン、ポリエーテルスルホン
およびポリエーテルケトン。
【００５６】20．一方でアルデヒドから、および他方で
フェノール、尿素またはメラミンから誘導された架橋ポ
リマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿
素／ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン／ホルムアル
デヒド樹脂。
【００５７】21．乾性もしくは非乾性アルキッド樹脂。
【００５８】22．飽和および不飽和ジカルボン酸と多価
アルコールおよび架橋剤としてビニル化合物とのコポリ
エステルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂および
燃焼性の低いそれらのハロゲン含有変成物。
【００５９】23．置換アクリル酸エステル、例えばエポ
キシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリエ
ステル−アクリレートから誘導された熱硬化性アクリル
樹脂。
【００６０】24．架橋剤として、メラミン樹脂、尿素樹
脂、ポリイソシアネートまたはエポキシ樹脂と混合する
アルキッド樹脂、ポリエステル樹脂およびアクリレート
樹脂。
【００６１】25．ポリエポキシド、例えばビスグリシジ
ルエーテルまたは脂環式ジエポキシドから誘導された架
橋エポキシ樹脂。
【００６２】26．天然ポリマー、例えば、セルロース、
ゴム、ゼラチンおよびそれらを化学変性した同族誘導
体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースお
よび酪酸セルロース、およびセルロースエーテル、例え
ばメチルセルロース。
【００６３】27．前述のポリマーの混合物、例えばＰＰ
／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭまたはＡＢＳ、ＰＶ
Ｃ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／
ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ。
【００６４】28．純粋なモノマー化合物またはそれらの
混合物からなる天然および合成有機材料、例えば鉱油、
動物または植物脂肪、オイルおよびワックスまたは合成
エステル（例えばフタレート、アジペート、ホスフェー
トまたはトリメリテート）に基づいたオイル、脂肪およ
びワックス、ならびにポリマー用可塑剤として、または
紡糸製剤油として用いられているいかなる重量比での合
成エステルと鉱油との混合物、ならびにそれら材料の水
性エマルジョン。
【００６５】29．天然または合成ゴムの水性エマルジョ
ン、例えば天然ラテックス、またはカルボキシル化スチ
レン／ブタジエンコポリマーのラテックス。
【００６６】30．例えば、米国特許第４，２５９，４６
７号に記載された軟質、親水性ポリシロキサンおよび米
国特許第４，３５５，１４７号に記載された硬質ポリオ
ルガノシロキサンのようなポリシロキサン。
【００６７】31．不飽和アクリルポリアセトアセテート
樹脂もしくは不飽和アクリル樹脂と組合わせるポリケチ
ミン。不飽和アクリル樹脂はウレタンアクリレート、ポ
リエーテルアクリレート、側鎖不飽和基をもつビニルま
たはアクリルコポリマーおよびアクリル化メラミン。ポ
リケチミンは酸触媒の存在下ポリアミンおよびポリケト
ンから製造される。
【００６８】32．エチレン性不飽和モノマーまたはオリ
ゴマーおよびポリ不飽和脂肪族オリゴマーを含む放射線
硬化性組成物。
【００６９】33．ＬＳＥ−４１０３（モンサント社(Mon
santo)) のようなエポキシ官能コエーテル化（coetheri
fied) したハイソリッドメラミン樹脂により架橋された
光安定性エポキシ樹脂のようなエポキシメラミン樹脂。
【００７０】一般に、本発明の化合物は安定化組成物の
約０．０１ないし約５重量％で使用されるが、しかしこ
れは特に基材および適用法により変化する。有利な範囲
は約０．５ないし約２％、特に約０．１ないし約１％で
ある。
【００７１】本発明の安定剤は有機ポリマーからの成形
品の製造の前のいずれかの都合のよい段階において、慣
用の技術によって有機ポリマーへ容易に混合できる。例
えば、安定剤は乾燥粉末形態でポリマーと混合でき、ま
たは安定剤の懸濁物もしくはエマルジョンはポリマーの
溶液、懸濁物、またはエマルジョンと混合できる。得ら
れた本発明の安定化ポリマー組成物は所望によりまた、
以下に示す材料のような種々の慣用の添加剤またはその
混合物約０．０１ないし約５重量％、好ましくは約０．
０２５ないし約重０２％、および特には約０．１ないし
約１重量％を含む。
【００７２】１．抗酸化剤 １．１ アルキル化モノフェノール 、例えば２，６−ジ
−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル
−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチ
ル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−イソブチルフェノール、２，６−ジ−シクロペンチ
ル−４−メチルフェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘ
キシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオ
クタデシル−４−メチルフェノ−ル、２，４，６−トリ
シクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−メトキシメチルフェノール。
【００７３】１．２ アルキル化ハイドロキノン、例え
ば２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、
２，５−ジ−第三ブチル−ハイドロキノン、２，５−ジ
−第三−アミル−ハイドロキノン、２，６−ジフェニル
−４−オクタデシルオキシフェノール。
【００７４】１．３ ヒドロキシル化チオジフェニルエ
ーテル、例えば２，２′−チオビス（６−第三ブチル−
４−メチルフェノール）、２，２′−チオビス（４−オ
クチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−第三ブ
チル−３−メチルフェノール）、４，４′−チオビス
（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）。
【００７５】１．４ アルキリデンビスフェノール、例
えば２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−
メチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス（６−
第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′−メチ
レン−ビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキ
シル）フェノール］、２，２′−メチレン−ビス（４−
メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２′−
メチレン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス [６−（α−メチルベ
ンジル）−４−ノニルフェノール] 、２，２′−メチレ
ン−ビス [６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノ
ニルフェノール] 、２，２′−メチレン−ビス（４，６
−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２′−エチリデン
−ビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，
２′−エチリデン−ビス（６−第三ブチル−４−イソブ
チルフェノール）、４，４′−メチレン−ビス（２，６
−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４′−メチレン−
ビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，
１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチ
ルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−
５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフ
ェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビ
ス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェ
ニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレン
グリコールビス［３，３−ビス（３′−第三ブチル−
４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート] 、ビス（３−
第三ブチル−４ーヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジ
シクロペンタジエン、ビス［２−（３′−第三ブチル−
２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６−第三
ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート。
【００７６】１．５． ベンジル化合物、例えば、１，
３，５−トリ（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、ジ−
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
スルフィド ３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−メ
ルカプト−酢酸イソオクチルエステル ビス−（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジ
メチルベンジル）ジチオールテレフタレート １，３，５−トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、１，３，５
−トリス−（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６
−ジメチルベンジル）−イソシアヌレート、３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−リン酸ジオク
タデシルエステル ３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−リ
ン酸モノエチルエステル，カルシウム塩。
【００７７】１．６． アシルアミノフェノール、例え
ば４−ヒドロキシラウリン酸アニリド、４−ヒドロキシ
ステアリン酸アニリド、２，４−ビス−オクチルメルカ
プト−６−（３，５−第三ブチル−４−ヒドロキシアニ
リノ）−ｓ−トリアジン、オクチル−Ｎ−（３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメー
ト。
【００７８】１．７． β−（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の下記の一価
または多価アルコールとのエステル、例えば、メタノー
ル、 ジエチレングリコール、オクタデ
カノール、 トリエチレングリコール、１，６
−ヘキサンジオール、 ペンタエリトリトール、ネオペ
ンチルグリコール、 トリスヒドロキシエチルイソシ
アヌレート、チオジエチレングリコール、 ジ−ヒドロ
キシエチルシュウ酸ジアミド。
【００７９】１．８． β−（５−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の下記の
一価または多価アルコールとのエステル、例えば、メタ
ノール、 ジエチレングリコール、オク
タデカノール、 トリエチレングリコール、
１，６−ヘキサンジオール、 ペンタエリトリトール、
ネオペンチルグリコール、 トリスヒドロキシエチル
イソシアヌレート、チオジエチレングリコール、 ジ−
ヒドロキシエチルシュウ酸ジアミド。
【００８０】１．９． β−（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例
えばＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。
【００８１】１．１０．ジアリールアミン、例えばジフ
ェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ
−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフチルアミ
ン、４，４’−ジ−第三オクチルジフェニルアミン、Ｎ
−フェニルベンジルアミンと２，４，４−トリメチルペ
ンテンとの反応生成物、ジフェニルアミンと２，４，４
−トリメチルペンテンとの反応生成物、Ｎ−フェニル−
１−ナフチルアミンと２，４，４−トリメチルペンテン
との反応生成物。
【００８２】２． 紫外線吸収剤および光安定剤 ２．１． ２−( ２′−ヒドロキシフェニル) ベンゾト
リアゾール 、例えば、５’−メチル−、３’，５’−ジ
−第三ブチル−、５’−第三ブチル−、５’−（１，
１，３，３−テトラメチルブチル) −、５−クロロ−
３’，５’−ジ−第三ブチル−、５−クロロ−３’−第
三ブチル−５’−メチル−、３’−第二ブチル−５’−
第三ブチル−、４’−オクトキシ、３’，５’−ジ−第
三アミル−、３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベン
ジル）、３’−第三ブチル−５’−（２（オメガ−ヒド
ロキシ−オクタ−（エチレンオキシ）カルボニル−エチ
ル）−３’−ドデシル−５’−メチル−および３’−第
三ブチル−５’−（２’−オクチルオキシカルボニル）
エチル−およびドデシル化−５’−メチルフェニル誘導
体。
【００８３】２．２． ２−ヒドロキシ−ベンゾフェノ
ン、例えば４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オ
クトキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ
−、４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒド
ロキシ−または２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキ
シ誘導体。
【００８４】２．３． 置換されたおよび非置換安息香
酸のエステル、例えばフェニルサリチレート、４−第三
ブチルフェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチ
レート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三
ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾル
シノール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ安
息香酸２，４−ジ−第三ブチルフェニルエステルおよび
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ヘキ
サデシルエステル。
【００８５】２．４． アクリレート、例えばα−シア
ノ−β, β−ジフェニルアクリル酸エチルエステル、α
−シアノ−β, β−ジフェニルアクリル酸イソオクチル
エステル、α−カルボメトキシ−ケイヒ酸メチルエステ
ル、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−ケイヒ酸
メチルエステル、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキ
シ−ケイヒ酸ブチルエステル、α−カルボメトキシ−ｐ
−メトキシケイヒ酸メチルエステル、Ｎ−（β−カルボ
メトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリ
ン。
【００８６】２．５． ニッケル化合物，例えば２，
２′−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチ
ルブチル) −フェノール］のニッケル錯体，例えば１：
１または１：２錯体であって，所望によりｎ−ブチルア
ミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシ
ル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うも
の、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロ
キシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノ
アルキルエステル例えばメチル、エチルもしくはブチル
エステルのニッケル塩、ケトキシム例えば、２−ヒドロ
キシ−４−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニ
ッケル錯体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒド
ロキシピラゾールのニッケル錯体であって，所望により
他の配位子を伴うもの。
【００８７】２．６． 立体障害性アミン、例えばビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セ
バケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−
４−ピペリジル）セバケート、ｎ−ブチル−３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロン酸ビス
（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジ
ル）エステル、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，
２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジン
とコハク酸との重縮合生成物、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメ
チレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジ
クロロ−１，３，５−トリアジンとの重縮合生成物、ト
リス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，
３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，１′−
（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テ
トラメチルピペラジノン）、ジ（１−オクチルオキシ−
２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）
セバケート、ジ−（１−シクロヘキシルオキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）スク
シネート、１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ヒドロキシ−ピペリジン、ポリ−｛［６
−第三オクチルアミノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジイ
ル］［２−（１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，
６−テトラメチルピペリジン−４−イル）イミノ−ヘキ
サメチレン−［４−（１−シクロヘキシルオキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）イミ
ノ］および２，４，６−トリス［Ｎ−（１−シクロヘキ
シルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン
−４−イル）−ｎ−ブトキシアミノ］−ｓ−トリアジ
ン。
【００８８】２．７． シュウ酸ジアミド、例えば４，
４′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、２，２′−ジ
−オクチルオキシ−５，５′−ジ−第三ブチルオキサニ
リド、２，２′−ジ−ドデシルオキシ−５，５′−ジ−
第三ブチルオキサニリド、２−エトキシ−２′−エチル
オキサニリド、Ｎ，Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプ
ロピル）オキサルアミド、２−エトキシ−５−第三ブチ
ル−２′−エトキシオキサニリドおよび該化合物と２−
エトキシ−２′−エチル−５，４′−ジ−第三ブチル−
オキサニリドとの混合物，ｏ−およびｐ−メトキシ−二
置換オキサニリドの混合物およびｏ−およびｐ−エトキ
シ−二置換オキサニリドの混合物。
【００８９】２．８． ２−（２−ヒドロキシフェニ
ル）−ｓ−トリアジン、例えば２，６−ビス（２，４−
ジメチルフェニル）−４−（２−ヒドロキシ−４−オク
チルオキシフェニル) −ｓ−トリアジン、２，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−４−（２，４−ジヒド
ロキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス
（２，４−ジヒドロキシフェニル）−６−（４−クロロ
フェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒド
ロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−
６−（４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４
−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキ
シ）フェニル］−６−（２，４−ジメチルフェニル）−
ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−
（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−６−（４−ブ
ロモフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−
ヒドロキシ−４−（２−アセトキシエトキシ）フェニ
ル］−６−（４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、
２，４−ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）−６−
（２，４−ジメチルフェニル）−ｓ−トリアジン。
【００９０】３． 金属不活性化剤，例えばＮ，Ｎ′−
ジフェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ′−
サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイ
ル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジ
ン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾー
ル、ビス（ベンジリデン）シュウ酸ジヒドラジド。
【００９１】４． ホスフィットおよびホスホナイト、
例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデ
シルペンタエリトリトールジホスフィット、ジ−（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）−ペンタエリトリトール
ジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホス
フィット、テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニ
ル）４，４′−ビフェニレンジホスホナイト。
【００９２】５． 過酸化物スカベンジャー、例えばβ
−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ス
テアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メル
カプトベンズイミダゾール、または２−メルカプトベン
ズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸
亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリト
ールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネ
ート。
【００９３】６．ヒドロキシルアミン、例えば、Ｎ，Ｎ
−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒ
ドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルア
ミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ
−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキ
サデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシル
ヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクダデ
シルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オク
タデシルヒドロキシルアミン、ハロゲン化獣脂アミンか
ら誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
【００９４】７．ニトロン、例えば、Ｎ−ベンジル−ア
ルファ−フェニル−ニトロン、Ｎ−エチル−アルファ−
メチル−ニトロン、Ｎ−オクチル−アルファ−ヘプチル
−ニトロン、Ｎ−ラウリル−アルファ−ウンデシル−ニ
トロン、Ｎ−テトラデシル−アルファ−トリデシル−ニ
トロン、Ｎ−ヘキサデシル−アルファ−ペンタデシル−
ニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ヘプタデシル
−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−アルファ−ヘプタデシ
ル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ペンタデ
シル−ニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−アルファ−ヘプタ
デシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ヘキ
サデシル−ニトロン、ハロゲン化獣脂アミンから誘導さ
れたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンより誘導さ
れたニトロン。
【００９５】８． ポリアミド安定剤、例えばヨウ化物
および／またはリン化合物と組合せた銅塩、および二価
マンガンの塩。
【００９６】９． 塩基性補助安定剤、例えばメラミ
ン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカ
リ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン
酸Ｃａ塩、ステアリン酸Ｚｎ塩、ベヘン酸Ｍｇ塩、ステ
アリン酸Ｍｇ塩、リシノール酸Ｎａ塩およびパルミチン
酸Ｋ塩、カテコールアンチモン塩およびカテコール亜鉛
塩。
【００９７】10． 核剤、例えば４−第三ブチル安息香
酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸。
【００９８】11． 充填剤および強化剤、例えば炭酸カ
ルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、タル
ク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物および
水酸化物、カーボンブラック、グラファイト。
【００９９】12．その他の添加剤、例えば可塑剤、潤滑
剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤、静電防止剤、発泡
剤、およびジラウリルチオジプロピオネートまたはジス
テアリルチオジプロピオネートのようなチオ相乗剤。
【０１００】特に興味深いフェノール性抗酸化剤はｎ−
オクタデシル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシヒ
ドロシンナメート、ネオペンタンテトライルテトラキス
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナ
メート）、ジ−ｎ−オクタデシル３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、１，３，５ト
リス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）イソシアヌレート、チオジエチレンビス（３，５−
ジ第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）、
１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５
−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、
３，６−ジオキサオクタメチレンビス（３−メチル−５
−第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）、
２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール、２，２’−エ
チリデン−ビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、
１，３，５−トリス（２，６−ジメチル−４−第三ブチ
ル−３−ヒドロキシベンジル）イソシヌレート、１，
１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第
三ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリス〔２−
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナ
モイルオキシ）エチル〕−イソシアヌレート、３，５−
ジ−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）メシトール、ヘキサメチレンビス（３，５−ジ第三
ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）、１−
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−
３，５−ジ−（オクチルチオ）−ｓ−トリアジン、Ｎ，
Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシヒドロシンナミド）、カルシウム ビス
（エチル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ルホスホネート）、エチレンビス〔３，３−ジ（３−第
三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ブチレート〕、オ
クチル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル
メルカプトアセテート、ビス（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシヒドロシンナモイル）−ヒドラジド、お
よびＮ，Ｎ’−ビス〔２−（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシヒドロシンナモイルオキシ）−エチル〕−
オキサミドからなる群から選ばれる。
【０１０１】もっとも好ましいフェノール性抗酸化剤
は、ネオペンタンテトライルテトラキス（３，５−ジ第
三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）、ｎ−
オクタデシル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシヒ
ドロシンナメート、１，３，５トリメチル−２，４，６
−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル）ベンゼン、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、
２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾールまたは２，２’
−エチリデン−ビス−（４，６−ジ第三ブチルフェノー
ル）である。
【０１０２】特に興味深い障害性アミン化合物はビス
（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメ
チルピペリジン−４−イル）セバケート、ジ（１，２，
２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ブ
チルマロネート、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テ
トラメチルピペリジン、４−ステアリールオキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン、３−ｎ−オクチ
ル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリ
アザ−スピロ〔４．５〕デカン−２，４−ジオン、トリ
ス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）ニトリロトリアセテート、１，２−ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−３−オキソ−ピペラジン−４−
イル）エタン、２，２，４，４−テトラメチル−７−オ
キサ−３，２０−ジアザ−２１−オキサジスピロ〔５．
１．１１．２〕ヘンエイコサン、２，４−ジクロロ−６
−第三オクチルアミノ−ｓ−トリアジンと４，４’−ヘ
キサメチレンビス（アミノ−２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジン）の重縮合生成物、１−（２−ヒドロキ
シエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒド
ロキシピペリジンとコハク酸の重縮合生成物、４，４’
−ヘキサメチレンビス（アミノ−２，２，６，６−テト
ラメチルピペリジン）と１，２−ジブロモエタンの重縮
合生成物、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン−４−イル）１，２，３，４−ブタンテトラ
カルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−
ペンタメチルピペリジン−４−イル）１，２，３，４−
ブタンテトラカルボキシレート、２，４−ジクロロ−６
−モルホリノ−ｓ−トリアジンと４，４’−ヘキサメチ
レンビス（アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペ
リジン）の重縮合生成物、Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”’−テ
トラキス〔（４，６−ビス（ブチル−２，２，６，６−
テトラメチルピペリジン−４−イル）−アミノ−ｓ−ト
リアジン−２−イル〕−１，１０−ジアミノ−４，７−
ジアザデカン、混合された〔２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジン−４−イル／β，β，β’，β’−テト
ラメチル−３，９−（２，４，８，１０−テトラオキサ
スピロ〔５．５〕−ウンデカン）ジエチル〕１，２，
３，４−ブタンテトラカルボキシレート、混合された
〔１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−
イル／β，β，β’，β’−テトラメチル−３，９−
（２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕−
ウンデカン）ジエチル〕１，２，３，４−ブタンテトラ
カルボキシレート、オクタメチレンビス（２，２，６，
６−テトラメチルピペリジン−４−カルボキシレー
ト）、４，４’−エチレンビス（２，２，６，６−テト
ラメチルピペラジン−３−オン）、Ｎ−２，２，６，６
−テトラメチルピペリジン−４−イル−ｎ−ドデシルス
クシンイミド、Ｎ−１，２，２，６，６−ペンタメチル
ピペリジン−４−イル−ｎ−ドデシルスクシンイミド、
Ｎ−１−アセチル−２，２，６，６−テトラメチルピペ
リジン−４−イルｎ−ドデシルスクシンイミド、１−ア
セチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル
−１，３，８−トリアザスピロ〔４．５〕デカン−２，
４−ジオン、ジ−（１−オクチルオキシ−２，２，６，
６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート、
ジ−（１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テ
トラメチルピペリジン−４−イル）スクシネート、１−
オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−
ヒドロキシピペリジン、ポリ−｛［６−第三オクチルア
ミノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル］［２−（１−
シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン−４−イル）イミノ−ヘキサメチレン−［４
−（１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テト
ラメチルピペリジン−４−イル）イミノ］および２，
４，６−トリス［Ｎ−（１−シクロヘキシルオキシ−
２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）
−ｎ−ブトキシアミノ］−ｓ−トリアジンからなる群か
ら選ばれる。
【０１０３】もっとも好ましい障害性アミン化合物はビ
ス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメ
チルピペリジン−４−イル）セバケート、ジ（１，２，
２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
ブチルマロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−
２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリ
ジンとコハク酸の重縮合生成物、２，４−ジクロロ−６
−第三オクチルアミノ−ｓ−トリアジンと４，４’−ヘ
キサメチレンビス（アミノ−２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジン）の重縮合生成物、Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，
Ｎ”’−テトラキス〔（４，６−ビス（ブチル−（２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミ
ノ−ｓ−トリアジン−２−イル〕−１，１０−ジアミノ
−４，７−ジアザデカン、ジ−（１−オクチルオキシ−
２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）
セバケート、ジ−（１−シクロヘキシルオキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）スク
シネート、１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ヒドロキシピペリジン、ポリ−｛［６−
第三オクチルアミノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジイ
ル］［２−（１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，
６−テトラメチルピペリジン−４−イル）イミノ−ヘキ
サメチレン−［４−（１−シクロヘキシルオキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）イミ
ノ］または２，４，６−トリス［Ｎ−（１−シクロヘキ
シルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン
−４−イル）−ｎ−ブトキシアミノ］−ｓ−トリアジン
である。
【０１０４】
【実施例】以下の実施例は説明のみを目的としてあり、
いかなる方法においても本発明の特徴および範囲を制限
するものと解釈すべきでない。
【０１０５】実施例１ ２−（２−ヒドロキシ−３−ジエチルアミノメチル−５
−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール ２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−
ベンゾトリアゾール（７４．３ｇ、０．３３ｍｏｌ）、
ジエチルアミン（３７．０ｇ，０．５１ｍｏｌ）および
パラホルムアルデヒド（１７．１ｇ）をｎ−ブタノール
８５ｍｌに溶解する。混合物を攪拌しながら還流で（９
５℃ないし１００℃）４４時間加熱する。溶媒を次に減
圧蒸留にて除去して黄色粘稠性液体を高収率で得る（＞
９９％）。このマンニッヒ塩基は移動層としてトルエン
を使用する薄層クロマトグラフィーによって上に示され
た化合物として確認される。
【０１０６】実施例２ ２−（２−ヒドロキシ−３−ジエチルアミノメチル−５
−第三オクチル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール ２−（２−ヒドロキシ−５−第三オクチル）−２Ｈ−ベ
ンゾトリアゾール（７０．０ｇ，０．２２ｍｏｌ）、ジ
メチルアミン（２４．３ｇ，０．３３ｍｏｌ）およびパ
ラホルムアルデヒド（１１．２ｇ）をｎ−ブタノール５
５ｍｌに溶解する。混合物を攪拌しながら還流で（９５
ないし１００℃）５０時間加熱する。溶媒を次に減圧蒸
留により除去して、生成物としてオフホワイトの固体を
高収率（９９％）で得る。このマンニッヒ塩基は移動層
としてトルエンを使用する薄層クロマトグラフィーによ
って上に示された化合物として確認される。
【０１０７】実施例３ ２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−３−ピペ
リジノメチル−４−ヘキシルオキシフェニル）−ｓ−ト
リアジンおよび２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロ
キシ−５−ピペリジノメチル−４−ヘキシルオキシフェ
ニル）−ｓ−トリアジン ２，４−ジフェニル−６−（２−ヘキシルオキシフェニ
ル）−ｓ−トリアジン（４２．５ｇ，０．１ｍｏｌ）、
ジピペリジノメタン（１７．５ｇ，０．０９６ｍｏｌ）
および水酸化ナトリウム（０．８ｇ，０．０２ｍｏｌ）
をメシチレン４２ｇに溶解する。混合物を攪拌しながら
１６０℃で１８時間加熱する。酢酸（８．５ｇ）を次に
加えそして反応混合物を１２０−１３０℃で３０分間加
熱する。トルエン（３００ｍｌ）を加えて反応生成物が
溶解するまで加熱を続ける。反応混合物を次に室温に冷
却し、そして生成物を結晶化して反応生成物２１ｇを得
る。粗生成物をトルエン５００ｍｌから再結晶化させて
最終生成物１５ｇを得る。移動相としてトルエン／メタ
ノールの５／１を使用する薄層クロマトグラフィーによ
り、主な１成分を得る。生成物をプロトン 1Ｈ ＮＭＲ
により異性体３−および５−ピペリジノメチルマンニッ
ヒ塩基の９／１混合物として確認する。生成物は１９０
−１９２℃にて融解するオフホワイトの固体である。1
Ｈ ＮＭＲは３−置換対５−置換異性体に対して９／１
の異性体比を伴う２つの異性体一置換化合物と一致する
プロトン共鳴を示す。より多い方の「オルト」二重線は
６．６４ｐｐｍにおいて見られ、より少ない方の「パ
ラ」一重線は６．５３ｐｐｍに見られる。マススペクト
ルデータはＥＩおよびＤＣＩ分光測定によって測定され
る。ｍ／ｚ＝５２２に親ピークそしてｍ／ｚ＝４３９，
４３８，３６８，１４８，１０４および８４にフラグメ
ントピークが見出され、標記混合物に対する構造的な帰
属と一致する。混合物それ自体が本発明の組成物を製造
するための出発物質として許容して使用できるが、２つ
の異性体生成物は慣用の有機化学の技術によって分離で
きる。
【０１０８】実施例４ ２，２’−ジヒドロキシ−３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾ
ール−２−イル）−３’−（４，６−ジフェニル−ｓ−
トリアジン−２−イル）−５−メチル−６’−ヘキシル
オキシ−ジフェニルメタン ２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−３−ピペ
リジノメチル−４−ヘキシルオキシフェニル）−ｓ−ト
リアジン（実施例３にて製造したもの５．２ｇ，０．０
１ｍｏｌ）、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール（２．５ｇ，０．０１
１ｍｏｌ）およびナトリウムメチレート（１．０ｇ，メ
タノール中２１％）をメシチレン８０ｇに溶解する。反
応混合物を攪拌しながら１６０−１８０℃で２４時間加
熱する。シリカゲルプレートを用い、溶離液としてトル
エン／メタノール６／１を使用する薄層クロマトグラフ
ィーによって出発ベンゾトリアゾールの消失および生成
物の出現が結果として見られる。酢酸（８．５ｇ）を次
に加え、次いで熱ろ過が可能なように十分にトルエンを
加える。反応生成物は添加されたメタノールおよび冷却
の助けにより結晶化する。粗結晶化生成物（４ｇ）をろ
過、熱トルエンへの溶解、シリカゲルによる処理をし
て、着色した不純物の除去し、そしてろ過により単離し
て減圧下で乾燥した後、１８８−１８９℃で融解する、
単一の黄色の固体生成物を得る。周囲温度におけるＣＤ
Ｃｌ3 中の生成物の 1Ｈ ＮＭＲ，ＮＯＥおよびデカッ
プリング試験は非常に少量の不純物を含む単一の物質を
示唆し、そして標記化合物の構造と一致する。 分析： Ｃ41Ｈ38Ｎ6 Ｏ3 の計算値 Ｃ, ７４．３；Ｈ，５．８；Ｎ，１２．７ 実測値 Ｃ, ７３．７；Ｈ，５．５；Ｎ，１２．２
【０１０９】実施例５ ２，２’−ジヒドロキシ−３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾ
ール−２−イル）−３’−（４，６−ジフェニル−ｓ−
トリアジン−２−イル）−５−第三オクチル−６’−ヘ
キシルオキシ−ジフェニルメタン ２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−３−ピペ
リジノメチル−４−ヘキシルオキシフェニル）−ｓ−ト
リアジン（実施例３で製造されたもの２．６ｇ，０．０
０５ｍｏｌ），２−（２−ヒドロキシ−５−第三オクチ
ルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール（１．７８
ｇ，０．００５５ｍｏｌ）およびナトリウムメチラート
（０．５ｇ，２１％メタノール中）をテトラリン５０ｇ
に溶解する。反応混合物を１６０−１７４℃で２４時間
攪拌しながら加熱する。シリカゲルプレートを用い、溶
離液としてヘプタン／メタノール１０／１を使用する薄
層クロマトグラフィーによって出発ベンゾトリアゾール
の消失および生成物の出現が結果として見られる。追加
のベンゾトリアゾール（０．２ｇ）を添加し、反応混合
物をさらに２２時間加熱する。酢酸（１．０ｇ）を次に
添加し、そして反応混合物を溶離液としてトルエンを使
用するシリカゲルを用いたクロマトグラフィーにかけ
る。二番目の画分は真空乾燥して８５℃−８７℃で融解
する単一の黄色の固体としての生成物を得る。室温にお
けるＣＤＣｌ3 中の生成物の 1Ｈ ＮＭＲ試験はテトラ
リンを含む非常に少量の不純物を含む単一の物質を示唆
し、そして標記化合物の構造と一致する。 分析： Ｃ48Ｈ52Ｎ6 Ｏ3 の計算値 Ｃ, ７５．７；Ｈ，６．９；Ｎ，１１．０ 実測値 Ｃ, ７５．６；Ｈ，７．１；Ｎ，１０．３
【０１１０】実施例６−１２：実施例１−３のマンニッ
ヒ中間体を使用して実施例４ないし５の一般的手順に従
って、下記表に見られる、以下のｓ−トリアジニルおよ
びベンゾトリアゾリル部分を含むハイブリッドＵＶ吸収
剤を製造する。 実施例 Ｔ1 Ｔ2 Ｒ Ｇ1 Ｘ Ｙ ６ Ｈ メチル ヘキシル Ｈ キシリル キシリル ７ Ｃｌ メチル オクチル Ｈ フェニル フェニル ８ Ｈ ｔ−オクチル オクチル α−クミル キシリル キシリル ９ Ｈ ｔ−オクチル ヘキシル Ｈ トリル トリル １０ Ｈ メチル オクチル Ｈ キシリル キシリル １１ Ｈ ｔ−オクチル ドデシル Ｈ フェニル フェニル １２ Ｃｌ メチル ノニル Ｈ キシリル キシリル
【０１１１】実施例１３−１９ 実施例１−３のマンニッヒ中間体を使用して実施例４な
いし５の一般的手順に従って、下記表に見られる、以下
のｓ−トリアジニルおよびベンゾフェノニル部分を含む
ハイブリッドＵＶ吸収剤を製造する。 実施例 Ｅ1 Ｅ3 Ｅ4 Ｅ6 Ｒ Ｘ Ｙ １３ オクチルオキシ Ｈ Ｈ Ｈ ヘキシル フェニル フェニル １４ メトキシ Ｈ Ｈ Ｈ オクチル フェニル フェニル １５ オクチルオキシ Ｈ Ｈ Ｈ ノニル キシリル キシリル １６ ドデシルオキシ Ｈ Ｈ Ｈ オクチル キシリル キシリル １７ メトキシ Ｈ Ｈ Ｈ ヘキシル トリル トリル １８ ヒドロキシ SO3H Ｈ Ｈ オクチル キシリル キシリル １９ ドデシルオキシ Ｈ Ｈ ＯＨ ヘキシル フェニル フェニル 実施例１３−１９各々においてはＧ1 は水素原子を表
す。
【０１１２】実施例２０ 紫外線透過性ベースコート(UV Transparent Base Coat
s) の上に塗布した紫外線吸収剤を含むハイソリッド熱
硬化性アクリルクリアコートの離層抵抗 市販の紫外線透過性ベースコートの上に、ウエット−オ
ン−ウエット塗布でアクリルメラミン樹脂に基づき本発
明の紫外線吸収剤安定剤２重量％を含む、市販のハイソ
リッド熱硬化性アクリルメラミンクリアコートの１．８
−２．０ミル（０．０３６−０．０５１ｍｍ）厚フィル
ムになるよう吹付塗布することにより、試験パネルを調
整する。トップコートはアドバンス・コーティングズ・
テクノロジー社(Adbance Coatings Technology Inc.)か
ら入手した４″×１２″（１０．１６×３０．４８ｃ
ｍ）の登録商標ユニプライム（UNIPRIME) パネル上に塗
布する。次に、塗布されたパネルを２５０°Ｆ（１２１
℃）で３０分間焼き付ける。空気調整室における１週間
貯蔵後、ＳＡＥＪ−１９７６によるブラックボックス
で、５°南面で、パネルをフロリダで曝露する。パネル
は１年間曝露する。１年後、パネルを４日間、１００°
Ｆ（３８℃）および１００％湿度に曝露することからな
る加湿試験にかける。４日後、テープ粘着試験を行う。
本発明の化合物は屋外曝露中にベースコートへのクリア
コートの接着性を改良するのに有効である。
【０１１３】実施例２１ エレクトロコートプライマー上に直接塗布した紫外線吸
収剤を含むアクリルウレタンクリアコートの離層抵抗 アドバンス・コーティングズ・テクノロジー社(Adbance
Coatings TechnologyInc.)から入手した４″×１２″
（１０．１６×３０．４８ｃｍ）の登録商標ユニプライ
ム（UNIPRIME) パネル上に、直接、アクリルウレタン樹
脂に基づき本発明の紫外線吸収剤安定剤２重量％を含
む、市販のアクリルウレタンクリアコートの１．８−
２．０ミル（０．０３６−０．０５１ｍｍ）厚フィルム
になるよう吹付塗布することにより、試験パネルを調整
する。次に、塗布されたパネルを２５０°Ｆ（１２１
℃）で３０分間焼き付ける。空気調整室における１週間
貯蔵後、ＳＡＥＪ−１９７６によるブラックボックス
で、パネルを５°南面でフロリダで曝露する。パネルは
離層について毎日評価され、そして離層が明らかにパネ
ル面積の１０％を越えたとき試験から外す。本発明の化
合物はエレクトロコートプライマーからのクリアコート
の離層を遅延させるのに有効である。
【０１１４】実施例２２ 以下の実施例では、同時押出製品において製造されるよ
うに紫外線吸収剤が薄い表面保護層内のみに混入されて
いる積層されたポリカーボネートプラークでの本発明の
ｏ−ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジンの使用効果を
示す。ワバッシュ圧縮成形機（Wabash Compression mol
der)にて、３５０Ｆ°（１７７℃）において、１０００
ｐｓｉ（７０ｋｇ／ｃｍ2 ）で３分間、３０００ｐｓｉ
（２１０ｋｇ／ｃｍ2 ）で３分間、さらに冷却しながら
３０００ｐｓｉ（２１０ｋｇ／ｃｍ2 ）で３分間、圧縮
成形することにより、紫外線吸収剤５％を含む、１ミル
（０．０２５４ｍｍ）ポリカーボネートフィルム（登録
商標レクサン(LEXAN) １４１−１１１Ｎ），ゼネラルエ
レクトリック社（General Electric Co.) を紫外線安定
化してない１２５ミル（３．１８ｍｍ）ポリカーボネー
トプラーク（登録商標レクサン１４１−１１１Ｎ）に接
着することによって、積層プラークを調整する。保護層
を入射光に対面させてＡＳＴＭ表示Ｇ２６−８８試験法
Ｃを使用し、このプラークをアトラス ＣＩ−６５ キ
セノンアーク ウエザローメーター（Atras CI-65 Xeno
n Arc Weatherometer)に曝露する。ポリマーの崩壊はＡ
ＣＳ分光光度計で黄色度指数（ＹＩ）を測定することに
より決定する。本発明のハイブリッドｏ−ヒドロキシフ
ェニル−ｓ−トリアジンは崩壊および変色からポリカー
ボネートシートを保護するのに非常に有効である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ロバート アラン フォーク アメリカ合衆国，ニューヨーク 10956, ニューシティ，グレンサイド ドライヴ 35 (72)発明者 タイラー アーサー スティーブンソン アメリカ合衆国，ニュージャージー 07666，ティーネック，ケンウッド プレ イス 538

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 式ＩまたはII 〔式中、ＸおよびＹは同じかまたは異なっており、フェ
    ニル基または１または３個の、低級アルキル基、ハロゲ
    ン原子、ヒドロキシ基もしくはアルコキシ基により置換
    されたフェニル基を表し；Ｔ1 は水素原子、クロロ基、
    炭素原子数１ないし４のアルキル基または−ＳＯ3Ｈを
    表し；Ｔ2 は炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表
    し；Ｅ1 は水素原子、クロロ基もしくは−ＯＥ2 を表
    し；Ｅ2 は水素原子または炭素原子数１ないし１８のア
    ルキル基を表し；Ｅ3 は水素原子、炭素原子数１ないし
    ４のアルキル基、クロロ基または−ＳＯ3Ｈを表し；Ｅ
    4 は水素原子、クロロ基または−ＯＥ5 を表し；Ｅ5 は
    水素原子または炭素原子数１ないし１８のアルキル基を
    表し；Ｅ6 は水素原子、ヒドロキシ基またはカルボキシ
    基を表し；Ｇ1 は水素原子を表すか、またはＧ1 がフェ
    ニル環の５位にあるときはＧ1 はまた直鎖もしくは枝分
    れした炭素原子数１ないし２４のアルキル基、炭素原子
    数５ないし１２のシクロアルキル基または炭素原子数７
    ないし１５のフェニルアルキル基を表し；Ｒは水素原
    子、直鎖もしくは分枝鎖の炭素原子数１ないし２４のア
    ルキル基または炭素原子数５ないし１２のシクロアルキ
    ル基；または１ないし８個の、ハロゲン原子、エポキシ
    基、グリシジルオキシ基、フリルオキシ基、−Ｒ2 、−
    ＯＲ3、−Ｎ（Ｒ3 ）2 、−ＣＯＮ（Ｒ3 ）2 、−ＣＯ
    Ｒ3 、−ＣＯＯＲ3 、−ＯＣＯＲ3 、−ＯＣＯＣ
    （Ｒ3 ）＝Ｃ（Ｒ3 ）2 、−Ｃ（Ｒ3 ）＝ＣＣＯＯ
    Ｒ3 、−ＣＮ、−ＮＣＯまたは 、またはそれらの組合せにより置換されている上記アル
    キル基またはシクロアルキル基；あるいは１ないし６個
    の、エポキシ基、−Ｏ−、−ＮＲ3 −、−ＣＯＮＲ
    3 −、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−、−Ｃ
    （Ｒ3 ）＝Ｃ（Ｒ3 ）ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣ（Ｒ3 ）＝
    Ｃ（Ｒ3 ）−、−（Ｒ3 ）Ｃ＝Ｃ（Ｒ3 ）−、フェニレ
    ン基または−フェニレン−Ｇ−フェニレン基（式中、Ｇ
    は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2 −、−ＣＨ2 −または−Ｃ
    （ＣＨ3 ）2 −を表す。）、またはそれらの組合せによ
    り中断された上記アルキル基またはシクロアルキル基；
    または上述した基の組合せにより置換と中断の両方がな
    された上記アルキル基またはシクロアルキル基；あるい
    はＲは−ＳＯ2 Ｒ1 または−ＣＯＲ4 を表し；Ｒ1 は炭
    素原子数１ないし２０のアルキル基、炭素原子数３ない
    し１８のアルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシク
    ロアルキル基、炭素原子数７ないし１５のフェニルアル
    キル基、炭素原子数６ないし１０のアリール基または１
    または２個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換
    された上記アリール基を表し；Ｒ2 は炭素原子数６ない
    し１０のアリール基または１ないし３個の、ハロゲン原
    子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数１
    ないし８のアルコキシ基またはそれらの組合せによって
    置換された上記アリール基；炭素原子数５ないし１２の
    シクロアルキル基、または炭素原子数７ないし１５のフ
    ェニルアルキル基；またはフェニル環上１ないし３個
    の、ハロゲン原子、炭素原子数１ないし８のアルキル
    基、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基またはそれら
    に組合せにより置換された上記フェニルアルキル基；直
    鎖または分枝鎖の炭素原子数２ないし１８のアルケニル
    基を表し；Ｒ3 はＲ2 で定義された意味を表すか、また
    はＲ3 はまた水素原子または直鎖もしくは分枝鎖の炭素
    原子数１ないし２４のアルキル基を表すか；またはＲ3
    は式 （式中、Ｔは水素原子、オキシル基、ヒドロキシル基、
    炭素原子数１ないし１２のアルキル基、少なくとも１個
    の、ヒドロキシル基または低級アルコキシ基によって置
    換された上記アルキル基、ベンジル基または炭素原子数
    ２ないし１８のアルカノイル基を表す。）で表される基
    を表し；Ｒ4 は直鎖または分枝鎖の炭素原子数１ないし
    １８のアルキル基、直鎖または分枝鎖の炭素原子数２な
    いし１８のアルケニル基、フェニル基、炭素原子数１な
    いし１２のアルコキシ基、フェノキシ基、炭素原子数１
    ないし１２のアルキルアミノ基、炭素原子数６ないし１
    ２のアリールアミノ基または基−Ｒ5 ＣＯＯＨまたは−
    ＮＨ−Ｒ6 −ＮＣＯを表し；Ｒ5 は炭素原子数２ないし
    １４のアルキレン基またはｏ−フェニレン基を表し；お
    よびＲ6 は炭素原子数２ないし１０のアルキレン基、フ
    ェニレン基、トリレン基、ジフェニレンメタン基または
    基： を表す。〕で表される化合物。
  2. 【請求項２】 Ｔ1 が水素原子またはクロロ基を表しお
    よびＴ2 が炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表す
    請求項１に記載の化合物。
  3. 【請求項３】 Ｅ1 は−ＯＥ2 （式中、Ｅ2 は水素原子
    または炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表す。）
    を表し；Ｅ3 は水素原子を表し；およびＥ4は水素原子
    または−ＯＥ5 （式中、Ｅ5 は水素原子または炭素原子
    数１ないし１２のアルキル基を表す。）を表す請求項１
    に記載の化合物。
  4. 【請求項４】 Ｔ1 が水素原子またはクロロ基を表しお
    よびＴ2 が炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表す
    か；あるいはＥ1 は−ＯＥ2 （式中、Ｅ2 は水素原子ま
    たは炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表す。）を
    表し；Ｅ3 は水素原子またはＳＯ3 Ｈを表し、Ｅ4 は水
    素原子を表し、ならびに、Ｅ6 は水素原子またはヒドロ
    キシル基を表し；ＸおよびＹはフェニル基、２，４−ジ
    メチルフェニル基、４−メチルフェニル基または４−ク
    ロロフェニル基を表し；Ｒは炭素原子数１ないし２４の
    アルキル基または１または２個の−ＯＲ3 （式中、Ｒ3
    は水素原子または直鎖もしくは分枝鎖の炭素原子数１な
    いし２４のアルキル基を表す。）により置換された炭素
    原子数２ないし６のアルキル基を表す請求項１に記載の
    化合物。
  5. 【請求項５】 Ｒが炭素原子数１ないし２４のアルキル
    基を表すか、または１個のヒドロキシル基によりおよび
    １個の炭素原子数１ないし２４のアルコキシ基により置
    換された炭素原子数２ないし６のアルキル基を表し；お
    よびＧ1 は水素原子を表すか、またはＧ1 はフェニル環
    の５−位にありそして炭素原子数７ないし１２のフェニ
    ルアルキル基を表す請求項４に記載の化合物。
  6. 【請求項６】 （ａ）化学線、酸素および／または熱に
    よって崩壊し易い有機材料および（ｂ）請求項１に記載
    の式Ｉおよび／またはIIで表される化合物の有効な安定
    化量からなる安定化組成物。
  7. 【請求項７】 成分（ａ）の有機材料がポリスチレン、
    スチレンのグラフトコポリマー、ポリフェニレンオキシ
    ド、ポリフェニレンスルフィド、ポリウレタン、ポリ尿
    素、ポリイミド、ポリアミド−イミド、芳香族ポリエス
    テル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル
    スルホン、ポリエーテルケトン、アルキド樹脂、アミノ
    プラスト樹脂およびエポキシ樹脂からなる群から選択さ
    れる合成ポリマーである請求項６に記載の安定化組成
    物。
  8. 【請求項８】 成分（ａ）の有機材料がポリオレフィン
    である請求項６に記載の安定化組成物。
  9. 【請求項９】 他の成分として１またはそれ以上の他の
    安定剤および／または他の添加剤を含む請求項６に記載
    の安定化組成物。
  10. 【請求項１０】 他の成分として立体障害性アミンの部
    類、２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−ト
    リアジンの部類および／または２−（２’−ヒドロキシ
    フェニル）ベンズトリアゾールの部類からの光安定剤を
    含む請求項９に記載の安定化組成物。
  11. 【請求項１１】 成分（ａ）に基づいて０．０１ないし
    ５重量％の量で成分（ｂ）の安定剤を含む請求項６に記
    載の安定化組成物。
  12. 【請求項１２】 光、酸素および／または熱による有機
    材料への損傷に対する該有機材料のための安定剤として
    の請求項１に記載の式Ｉおよび／または式IIで表される
    化合物の使用。
  13. 【請求項１３】 光、酸素および熱による損傷に対して
    有機材料を安定化する方法であって請求項１に記載の式
    Ｉおよび／または式IIで表される化合物の少なくとも１
    種をこの有機材料に混合することからなる方法。
JP8271851A 1995-09-20 1996-09-20 ベンゾトリアゾールまたはベンゾフェノン部分により置換されたハイブリッドｓ−トリアジン光安定剤およびそれにより安定化された組成物 Ceased JPH09110841A (ja)

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