JPH03200767A - ビス（１―ヒドロカルビルオキシ―２，２，６，６―テトラメチルピペリジン―４―イル）アミン誘導体および安定化組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、化学線の悪影響からポリマーを保護するため
の有効な安定剤であるビス（ｌ−ヒドロセラカルビルオ
キシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−
イル）アミンｍ１体および安定化＆ｌｌ底物放物する。

（従来の技術・発明が解決しようとする課題〕本発明の
化合物は、本願の優先権主張の基礎となる米国特許出願
第３２６８４９号の同時継続出願である米国特許出願第
２５９９５０号に記載された１−ヒドロカルビルオキシ
誘導体とは異なる構造を有する。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、次式： （式中、 ｎは１ないし４を表し、 Ｒ１およびＲ２は独立して炭素原子数１ないし４のアル
キル基を表すか、またはＲ１およびＲ２は一緒になって
ペンタメチレン基を表し、Ｅは炭素原子数１ないし１８
のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキ
ル基、炭素原子数２ないし１８のアルケニル基、炭素原
子数５ないし１２のシクロアルケニル基、炭素原子数７
ないし１５のアルアルキル基、炭素原子数７ないし１２
の飽和もしくは不飽和二環式もしくは三環式炭化水素の
基、または炭素原子数６ないし１０のアリール基もしく
はアルキル基により置換された前記アリール基を表し、
Ｔは原子価ｎの基を表し、そして ｎが１であるとき、Ｔは水素原子、炭素原子数２ないし
２０のアルカノイル基、炭素原子数６ないし１３のシク
ロアルカノイル基、炭素原子数７ないし１１のアロイル
基、炭素原子数８ないし１６のアルアルカノイル基、置
換されたカルバモイル基または炭素原子数２ないし２０
のアルコキシカルボニル基を表し、 ｎが２であるとき、Ｔは一〇〇−基、脂肪族、環状脂肪
族、芳香脂肪族または芳香族ジカルボン酸の２価のアシ
ル基、ジカルバミン酸の２価のアシル基または混合され
たカルボン酸／カルバミン酸の２価のアシル基を表し、 ｎが３であるとき、Ｔは脂肪族、環状脂肪族、芳香脂肪
族または芳香族トリカルボン酸の３価のアシル基を表し
、 ｎが４であるとき、Ｔは脂肪族、環状脂肪族または芳香
族テトラカルボン酸の４価のアシル基を表す。） で表される化合物に関する。

好ましくは、ｎは２ないし４である。

Ｒ１およびＲ２は好ましくは各々メチル基である。

Ｅは好ましくは炭素原子数１ないし１２のアルキル基、
シクロヘキシル基またはアルファメチルベンジル基であ
る。最も好ましくはＥはメチル基、ヘプチル基、オクチ
ル基、ノニル基またはシクロヘキシル基である。

ｎが２であるとき、Ｔは炭素原子数２ないし１０のアル
カンジオイル基またはへキサメチレンジカルバモイル基
が好ましく、最も好ましくはオキサリル基、スクシニル
基またはセバコイル基である。

ｎが４であるとき、Ｔは１．２，３．４−ブタンテトラ
カルボキソイル基、１，２．３，４ブチ−２−エン−テ
トラカルボキソイル基、１．２，３．５−ベンタンテト
ラカルホキソイル基または１．２，４．５−ペンタンテ
トラカルボキソイル基が好ましく、最も好ましくは１゜
２．３．４−ブタンテトラカルボキソイル基である。

Ｎ−メトキシピペリジン部分は、上記米国特許出願第２
５９９５０号に記載されているように、適当なＮ−オキ
シル前駆体とジー第三ブチルパーオキシドの熱分解によ
り生成されるメチル基との、不活性溶媒例えばクロロベ
ンゼン中での反応により合成される。

米国特許第４６６５１８５号は、立体障害性アミンの過
酸化水素および金属酸化物触媒での酸化、続く接触水素
添加によるＮ−ヒドロキシピペリジンの製造を教示して
いる。立体障害性ア５ンの過酸化水素および金属酸化物
触媒での酸化によるＮ−ヒドロキシピペリジンは接触水
素添加により続けられている。Ｎ−ヒギロキシ化合物は
水素化ナトリウムおよびヨウ化アルキルとの反応により
アルキル化される。

Ｎ−ヒドロカルビル化合物の好ましい製造方法は、炭化
水素溶液の、特に例えばシクロヘキサン、ヘプタン、オ
クタン、ノナンまたはエチルヘンゼンのような炭化水素
との熱反応、立体障害性アミンまたはそのＮ−オキシル
誘導体の第三ブチルヒドロパーオキシドおよび金属酸化
物触媒との熱反応を包含する。ＥＰ−Ａ−３０９４０２
参照。

本発明の化合物は２つの一般的な合成経路により製造さ
れる。ビス（２，２，６，６−チトラメチルピベリジン
ー４−イル）アミンを、酸クロライドまたはイソシアネ
ートと反応させ、そしてＮ−ヒドロカルビルオキシ基を
上記の好ましい方法により導入する。

また、Ｎ−ヒドロカルビルオキシ部分は、最初に導入さ
れ、次に酸クロライドまたはイソシアネートと反応させ
てもよい。ビス（ｌ−ヒドロカルビルオキシ−２，２，
６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミンは
、４−オキソ−１−ヒドロカルビルオキシピペリジンの
４−アミノ−１−ヒドロカルビルオキンピペリジンとの
還元アミノ化により製造される。

本発明の化合物の製造において有用な中間体は広く市販
されている。

本発明は２，２，６．６−チトラアルキルピペリジン構
造を強調しているけれども、本発明は以下のテトラアル
キル置換されたピペラジンまたはピペラジノン部分が上
記テトラアルキルピペリジン部分の代わりに使用されて
いる化合物にも関する： レン、ＡＢＳ樹脂、エラストマー例えばブタジェンゴム
、ＥＰＭ、ＥＰＤＭ、ＳＢＲおよびニトリルゴムである
。

式中、ＭおよびＹは独立してメチレン基またはカルボニ
ル基を表し、好ましくはＭはメチレン基を表し、モして
Ｙはカルボニル基を表す。

そのような化合物に適用可能な同定された置換基は環窒
素原子上での置換に適当であるものであることが理解さ
れる。

本発明の化合物が特に有用である基材は、ポリオレフィ
ン例えばポリエチレンおよびポリプロピレン、ポリスチ
レン特に耐衝撃性ポリスチレン化され得るポリマーは一
般に以下のものを包含する： １、　モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、
例えば（所望により架橋結合できる）ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−１、ポ
リメチルペンテン−１、ポリイソプレンまたはポリブタ
ジェン、並びにシクロオレフィン例えばシクロペンテン
またはノルボルネンのポリマー ２．１．に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロ
ピレンとポリイソブチレンとの混合物。

３、　モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビ
ニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピ
レン、プロピレン／ブテン−１、プロピレン／イソブチ
レン、エチレン／ブテン−Ｌプロピレン／ブタジェン、
インブチレン／イソプレン、エチレン／アルキルアクリ
レート、エチレン／アルキルメタクリレート、エチレン
／ビニルアセテートまたはエチレン／アクリル酸コポリ
マーおよびそれらの塩類（アイオノマー）、およびエチ
レンとプロピレンとジエン例えばヘキサジエン、ジシク
ロペンタジェンまたはエチリデン−ノルボルネンとのタ
ーポリマー ４、　ポリスチレン１．ポリ−（ｐ−メチルスチレン）
。

５、　スチレンまたはメチルスチレンとジエンまたはア
クリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／ブタジ
ェン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／メチル
メタクリレート、スチレン／ブタジェン／エチルアクリ
レート、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレ
ート；スチレンコポリマーと別のポリマー、例えばポリ
アクリレート、ジエンポリマーまたはエチレン／プロピ
レン／ジェンターポリマーからの高耐衝撃性混合物；お
よびスチレンのブロックポリマー例えばスチレン／ブタ
ジェン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、
スチレン／エチレン／ブチレン／スチレンまたはスチレ
ン／エチレン／プロピレン／スチレン。

６、　スチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブタ
ジェンにスチレン、ポリブタジェンにスチレンおよびア
クリロニトリル、ポリブタジェンにスチレンおよびアル
キルアクリレートまたはメタアクリレート、エチレン／
プロピレン／ジェンターポリマーにスチレンおよびアク
リロニトリル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレ
ートにスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート
／ブタジェンコポリマーにスチレンおよびアクリロニト
リル、並びにこれらと５゜に列挙したコポリマーとの混
合物、例えばＡＢＳ−１ＭＢＳ−１ＡＳＡ−またはＡＥ
Ｓ−ポリマーとして知られているコポリマー混合物。

７、　ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン
、塩素化ゴム、塩素化またはクロロスルホンポリエチレ
ン、エビクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、ハロ
ゲン含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリ
フッ化ビニリデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩
化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニル、
塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマーまたはフッ化ビ
ニル／ビニルエーテルコポリマー ８、　α、β−不飽和酸およびその誘導体から誘導され
たポリマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタア
クリレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニ
トリル。

９、　前項８．に挙げたモノマー相互のまたは他の不飽
和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／
ブタジェン、アクリロニトリル／アルキルアクリレート
、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレート
またはアクリロニトリル／ハロゲン化ビニルコポリマー
またはアクリロニトリル／アルキルメタアクリレート／
ブタジェンターポリマー １０、不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのア
シル誘導体またはそれらのアセタールから誘導されたポ
リマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル
、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、
ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリア
リルフタレートまたはポリアリルメラミン。

１１、環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、
例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−グリ
シジルエーテルとのコポリマー １２、ポリアセタール、例えばポリオキシメチレンおよ
びエチレンオキシドをコモノマーとして含むポリオキシ
メチレン。

１３、ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド並びに
ポリフェニレンオキシドとポリスチレンとの混合物。

１４、一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエ
ーテル、ポリエステルまたはポリブタジェンと他方の成
分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとから
誘導されたポリウレタン並びにその前駆体（ポリイソシ
アネート、ポリオールまたはプレポリマー）。

１５、ジアミンおよびジカルボン酸および／またはアミ
ノカルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポ
リアミドおよびコポリアもド。

例えばポリアミド４、ボリアξドロ、ポリアミド６７６
、ポリアミド６／１０、ボリア逅ド１１１ポリアミド１
２、ポリ−２，４，４−トリメチルへキサメチレンテレ
フタルアミドまたはポリーｍ−フェニレンイソフタルア
ξド、並びにこれらとポリエーテル、例えばポリエチレ
ングリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテ
トラメチレングリコールとのコポリマー１６、ポリ尿素
、ポリイミドおよびポリアミトイ稟ド。

１７、ジカルボン酸およびジオールおよび／またはヒド
ロキシカルボン酸または相当するラクトンから誘導され
たポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、
ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチロ
ール−シクロヘキサンテレフタレートおよびポリヒドロ
キシベンゾエート並びにヒドロキシ末端基を含有するポ
リエーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエス
テル。

１８、ポリカーボネート。

１９、ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリ
エーテルケトン。

２０、一方の成分としてアルデヒドおよび他方の成分と
してフェノール、尿素およびメラミンから誘導された架
橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂
、尿素／ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン／ホルム
アルデヒド樹脂。

２１、乾性および不乾性アルキド樹脂。

２２、＃和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコール
および架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステル
から誘導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性の
低いそれらのハロゲン含有変性物。

２３、置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリ
レート、ウレタン−アクリレートまたはシリコーン−ア
クリレートから誘導された熱硬化性アクリル樹脂。

２４、架橋剤としてメラミン樹ＩＭ％尿素樹脂、ポリイ
ソシアネートまたはエポキシ樹脂と混合されたアルキド
樹脂、ポリエステル樹脂またはアクリレート樹脂。

２５、ポリエポキシド、例えばビス−グリシジルエーテ
ル、または脂環式ジエポキシドから誘導された架橋エポ
キシ樹脂。

２６、天然ポリマー、例えばセルロース、ゴム、ゼラチ
ンおよびこれらの化学的に変性させた重合同族体誘導体
、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースおよ
び酪酸セルロースまたはセルロースエーテル例えばメチ
ルセルロース。

２７、前記したポリマーの混合物、例えばＰＰ／ＥＰＤ
Ｍ、ポリアミド６／ＥＰＤＭまたはＡＢＳＳＰＶＣ／Ｅ
ＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳＳＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ
、、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ。

２８、純単量体化合物またはその化合物の混合物である
天然および合成有機材料、例えば鉱油、動物および植物
脂肪、オイルおよびワックスまたは合成エステル（例え
ばフタレート、アジペート、ホスフェートまたはトリメ
リテート）をベースとした上記オイル、脂肪およびワッ
クス、並びに適当な重量比で混合された合成エステルと
鉱油との混合物で、その材料はポリマーのための可塑剤
として、繊維紡績油として、並びにこのような材料の水
性エマルジョンとして使用され得る。

２９、天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例えば
カルボキシル化スチレン／ブタジェンコポリマーの天然
ラテックス。

３０、ポリシロキサン、例えば米国特許第４２５９４７
６号に記載された軟質親水性ポリシロキサン、および例
えば米国特許第４３５５１４７号に記載された硬質ポリ
オルガノシロキサン。

３１、不飽和アクリルポリアセトアセテート樹脂または
不飽和アクリル樹脂と組み合わせたポリケチミン、不飽
和アクリル樹脂はペンダント不飽和基を有するウレタン
アクリレート、ポリエーテルアクリレート、ビニルまた
はアクリルコポリマーおよびアクリル化メラもンを包含
する。

ポリケチ壽ンは酸触媒の存在下でポリアミンとケトンと
から製造される。

３２、エチレン性不飽和七ツマ−またはオリゴマーおよ
び多不飽和脂肪族オリゴマーを含有する放射線硬化性組
成物。

３３、エポキシメラミン樹脂、例えばエポキシ官能性共
エーテル化ハイソリッドメラミン樹脂、例えばＬＳＥ４
１０３（モンサント社製）により架橋された光安定性エ
ポキシ樹脂。

一般に、本発明の化合物は安定化される組成物の約０．
０１ないし約５重量％使用されるが、しかしこれは特定
の基材および施用で変化するであろう、有利な範囲は約
０．５ないし約２％、そして特に０．１ないし約１％で
ある。

本発明の安定剤は、有機ポリマー中に、当該分野で慣用
の方法により成形の前のあらゆる段階で容易に混入され
得る６例えば該安定剤は乾燥粉末の形態でポリマーと混
合されてもよく、また安定剤の懇濁液またはエマルジョ
ンは、ボリマーの溶液、懸濁液またはエマルジョンと混
合されてもよい。本発明の生成した安定化ポリマー組成
物は、以下に示すような種々の慣用の添加剤を所望によ
り添加することもできる。

２．６−ジー第三ブチル−４−メチルフェノール、２−
第三ブチル−４，６−シメチルフエノール、２．６−ジ
ー第三ブチル−４−エチルフェノール、２．６−ジー第
三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール ２．６−ジー第三ブチル−４−イソブチルフェノール、 ２．６−シシクロペンチルー４−メチルフェニル、 ２−（α−メチルシクロヘキシル）　−４，６−シメチ
ルフエノール、 ２．６−シオクタデシルー４−メチルフェノール、２．
４．６−ドリシクロヘキシルフエノール、２．６−ジー
第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール。

ル、 ２．５−ジー第三ブチルハイドロキノン、２．５−ジー
第三アミルハイドロキノン、２．６−ジ−フェニル−４
−オクタデシルオキシフェノール。

３　ヒドロキシル　チオジフェニルエー−ル例えば、 ２．２゛−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェ
ノール）、 ２．２゛−チオビス（４−オクチルフェノール）、４．
４°−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノー
ル）、 ４．４°−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェ
ノール）。

ルキ　−゛ンビスエ　−ル、例えば ２．２゛−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチル
フェノール）、 ２．２゛−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチル
フェノール）、 ２．２゛−メチレンビス〔４−メチル−６−（α−メチ
ルシクロヘキシル）フェノール〕、２．２゛−メチレン
ビス（４−メチル−６−シクロヘキジルフエノール）、 ２．２°−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェ
ノール）、 ２．２°−メチレンビス（６−（α−メチルベンジル）
−４−ノニルフェノール）、 ２．２゛−メチレンビス〔６−（α、α−ジメチルヘン
シル）−４−ノニルフェノール〕、２．２゛−メチレン
ビス（４，６−ジー第三ブチルフェノール）、 ２．２°−エチリデンビス（４，６−ジー第三ブチルフ
ェノール）、 ２．２°−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソ
ブチルフェノール）、 ４．４“−メチレンビス（２，６−ジー第三ブチルフェ
ノール）、 ４．４゛−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチル
フェノール）、 １．１−ビス（５−第三プチル−４−ヒドロキシ−２−
メチルフェニル）ブタン、 ２．６−ビス（３−第三プチル−５−メチル−２−ヒド
ロキシベンジル）−４−メチルフェノール、 １．１．３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ
−２−メチルフェニル）ブタン、 １．１−ビス（５−第三プチル−４−ヒドロキシ−２−
メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン
、 エチレングリコールビス（３，３−ビス（３“−第三ブ
チル−４゛−ヒドロキシフェニル）ブチレート）、 ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフ
ェニル）ジシクロペンタジェン、ビス（２−（３”−第
三プチル−２°−ヒドロキシ５゛−メチルベンジル）−
６−第三ブチル−４−メチルフエニル〕テレフタレート
。

ベンジル　ム　、例えば １．３．５−）リス（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）　−２，４，６−）リメチルベンゼ
ン、 ビス（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）スルフィド、 イソオクチル３．５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルメルカプトアセテート、ビス（４−第三ブチル
−３−ヒドロキシ−２，６−シメチルベンジル）ジチオ
ールテレフタレート、 １．３．５−　）リス（３，５−ジー第三ブチル−４−
ヒドロキシベンジルイソシアヌレート、１．３．５−ト
リス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−シメ
チルベンジル）インシアヌレート、 ジオクタデシル３．５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルホスホネート、 モノエチル３．５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジルホスホネートのカルシウム塩。

シル　　　　エ　−ル、例えば ラウリン酸４−ヒドロキシアニリド、 ステアリンＭ４−ヒドロキシアニリド、２．４−ビス（
オクチルメルカプト）−６−（３゜５−ジー第三ブチル
−４−ヒドロキシアニリノ）−ｓ−トリアジン、 オクチルＮ−（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）−カルバメート。

アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、１．６−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、チオジエチレングリコール、Ｎ、Ｎ’−ビス（
ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド。

：　　ルー　−ヒ　ロ　シ ル　エニル　　ロピオン　の　　の −ルコール　のエスール アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、１．６−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、チオジエチレングリコール、Ｎ、Ｎ”−ビス（
ヒドロキシエチル）シェラ酸シアミド。

Ｎ、　Ｎ’−ビス（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニルプロピオニル）へキサメチレンジアミン
、 Ｎ、Ｎ”−ビス（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、 Ｎ、　Ｎ’−ビス（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。

−ヒ　ロキシ　ェニル　ベンゝ 一ト失１ｊ−：止、例えば、 ５”メチル−１３’、５’−ジー第三ブチル−１５°−
第三ブチル−１５°−（１，１，３，３−テトラメチル
ブチル〉−１５−クロロ−３°、５′　−ジー第三ブチ
ル−１５−クロロ−３１−第三ブチル−５°−メチル−
１３°−第二プチル−５°−第三ブチル、４゛−オクト
キシー、３゛、５°−ジー第三アミル−１３゛。

５′−ビス（α、α−ジメチルベンジル）−３°−第三
ブチル−５°−２−（ω−ヒドロキシ−オクタ−（エチ
レンオキシ）−カルボニルエチル）−１３゛−ドデシル
−５゛−メチル−１および３゛−第三ブチル−５’−（
２−オクチルオキシカルボニル）−エチル、およびドデ
シル化−５’−メチル−銹導体。

一ヒ　ロ　シーベン゛　　エ　ン、例えば ４−ヒドロキシ−１４−メトキシ−１４−オクトキシ−
１４−デシルオキシ−１４−ドデシルオキシ−１４−ベ
ンジルオキシ−１４，２’、４’−トリヒドロキシ−お
よび２゛−ヒドロキシ−４，４゛−ジメトキシ銹導体。

自　　のニス 至上、例えば フェニルサリチレート、 ４−第三ブチルフェニルサリチレート、オクチルフェニ
ルサリチレート、 ジベンゾイルレゾルシノール、 ビス（４〜第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール ベンゾイルレゾルシノール、 ３．５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香１２．
４−ジー第三ブチルフェニルエステル、および３．５−
ジー第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシル
エステル。

、　　　　ル−　、例えば α−シアノ−β、β−ジフェニルーアクリル酸エチルエ
ステル、 α−シアノ−β、β−ジフェニルーアクリル酸イソオク
チルエステル、 α−カルボメトキシ−桂皮酸メチルエステル、α−シア
ノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸メチルエステル
、 α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸ブチル
エステル、 α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ桂皮酸メチルエステ
ル、および Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−
メチルインドリン。

二・・　ル　八　、例えば ２．２′−チオビス−（４−（１，１，３，３−テトラ
メチルブチル）−フェノール〕のニッケル錯体、例えば
１：１または１７２１１体であって、所望によりｎ−ブ
チルアミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロ
ヘキシル−ジ−エタノ−ルアξンのような他の配位子を
伴うもの、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−
ヒドロキシ３．５−ジー第三ブチルベンジルホスホン酸
モノアルキルエステル、例えばメチル、エチルもしくは
ブチルエステルのニッケル塩、２−ヒドロキシ−４−メ
チル−フェニルウンデシルケトキシムのようなケトキシ
ムのニッケル錯体、１フェニル−４−ラウロイル−５−
ヒドロキシ−ピラゾールのニッケル錯体であって、所望
により他の配位子を伴うもの。

≧ン、例えば ビス（２，２，６，６−ケトラメチルピペリジル）セバ
ケート、 ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）
セバケート、 ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）
ｎ−ブチル−３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルマロネート、 ｌ−ヒドロキシエチル−２，２，６，６−テトラメチル
−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物
、 Ｎ、　Ｎ’−ビス（２，２，６，６−ケトラメチルピペ
リジル）へキサメチレンジアミンと４−第三オクチルア
ミノ−２，６−ジクロロ−５−トリアジンとの縮合生成
物、 トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ニトリロトリアセテート、 テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジル）　−１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸
、 １．１’−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，
５゜５−テトラメチルピペラジノン）。

シュ　　ジ　稟′、例えば ４．４′−ジ−オクチル−オキシオキサニリド、２．２
′−ジ−オクチルオキシ−５，５゛−ジー第三ブチルオ
キサニリド、 ２．２”−ジ−ドデシルオキシ−５，５°−ジー第三ブ
チルオキサニリド、 ２−エトキシ−２゛−エチルオキサニリド、Ｎ、　Ｎ’
−ビス（３−ジメチルアミノプロピル−オキサルアミド
、 ２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−エチルオキサニ
リドおよび該化合物と２−エトキシ−２゛エチル−５，
４゛−ジー第三ブチル−オキサニリドとの混合物、 オルト−およびパラーメトキシ一二置換オキサニリドの
混合物、および ０−およびｐ−エトキシー二置換オキサニリドの混合物
。

２．８　　ヒドロキシエトキシＳ−アジン、例えば ２．６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）４−（２
−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−ｓ−）
リアジン、 ２．６−ビス＝（２，４−ジメチルフェニル）４−（２
，４−ジヒドロキシフェニル）　−ｓトリアジン、 ２．４−ビス−（２，４−ジヒドロキシフェニル’）−
６−（４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、 ２．４−ビス−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキ
シエトキシ）フェニル）−６−（４−クロロフェニル）
−ｓ−１−リアジン、２．４−ビス−〔２−ヒドロキシ
−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニルツー６−フ
ェニル−５−トリアジン、 ２．４−ビス−〔２−ヒドロキシ−４−（２ヒドロキシ
エトキシ）フェニル）−６−（２゜４−ジメチルフェニ
ル）−Ｓ−トリアジン、２．４−ビス−（２−ヒドロキ
シ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）　−６
−（４ブロモフエニル）−８−トリアジン、 ２．４−ビス−〔２−ヒドロキシ−４−（２アセトキシ
エトキシ）フェニル）　−６−（４クロロフエニル）−
５−トリアジン、 ２．４−ビス−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−６
−（２，４−ジメチルフェニル）　−ｓトリアジン。

３、　　　・ゝ　　　、例えば Ｎ、　Ｎ’−ジフェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−サリチ
ラルーＮ゛−サリチロイルヒドラジン、Ｎ、Ｎ’−ビス
（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ、Ｎ’−ビス（３，５
−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル〉ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４
−トリアゾール ビス（ヘンジリデン）シュウ酸ジヒドラジン。

４、　ホスフ　　　　よびホスホ　イ　、例えばトリフ
ェニルホスフィツト、 ジフェニルアルキルホスフィツト、 フエニルジアルキルホスフィンド、 トリス（ノニルフェニル）ホスフィツト、トリラウリル
ホスフィツト、 トリオクタデシルホスフィツト、 ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、 トリス（２，４−ジー第三ブチルフェニル）ホスフィ　
ノド、 ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、 ビス（２，４−’；−第三ブチルフェニル）ペンタエリ
トリトールジホスフィット、 トリステアリルソルビトールトリホスフィツト、テトラ
キス（２，４−ジー第三ブチルフェニル〉４．４゛−ビ
フエニリレンジホスホナイト。

５、　　　　　　　　　る　ム　、例えばβ−チオジプ
ロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ステアリル、
ミリスチルまたはトリデシルエステル、 メルカプトベンズイミダゾール、または２−メルカプト
ベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミ
ン酸亜鉛、 ジオクタデシルジスルフィド、 ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカ
プト）プロピオネート。

６、ヒドロキシル　ミン、例えば Ｎ、Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ、Ｎ−ジエ
チルヒドロキシルアミン、Ｎ、Ｎ−ジオクチルヒドロキ
シルアミン、Ｎ、Ｎ−ジラウリルヒドロキシルア逅ン、
Ｎ、Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアごン、Ｎ、Ｎ−
ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、ＮＮ−ジオクタデ
シルヒドロキシルア鑓ン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オク
タデシルヒドロキシルアミン、 Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタテ°シルヒドロ牛ジルア
ミン、 水素化タロウアミンから誘導されるＮ、Ｎ−ジアルキル
ヒドロキシルアミン。

７、　ポ１アミ゛　　　、例えば ヨウ化物および／またはリン化合物と組合せた銅塩、お
よび二価マンガンの塩。

Ｌ−過動む１■陳翻、例えば メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミン、
トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導
体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、 高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩
、例えばＣａステアレート、Ｚｎステアレート、Ｍｇス
テアレート、Ｎａリシル−トおよびにパルミテート、 ピロカテコール酸アンチモン、または ピロカテコール酸亜鉛。

一矢−ユ虹紐、例えば ４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸
。

０　　旨　゛よび　　　、例えば 炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスヘスト、
タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物お
よび水酸化物、カーボンブラック、グラファイト。

１１、　　の　の１、　　、例えば 可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤、静電
防止剤、発泡剤およびチオ相乗剤例えばジラウリルチオ
ジプロピオネートまたはジステアリルチオジプロピオネ
ート。

室温硬化されおよび酸触媒されるコーティング系を含む
種々のコーティング系における本発明の誘導体の利用が
特に興味深い。特に、コーティングの物理的結合性は、
光沢の損失および黄変における顕著な低下の提示が高程
度に維持される。重要な改良は、Ｎ−アルキル立体障害
性アミン光安定剤で発生する硬化遅延が実質的にないこ
と；Ｎ−アルキル立体障害性アミンが着色されたコーテ
ィング系に利用される場合に見られるフロキュレーショ
ンおよび分散不安定性が実質的にないこと、コーティン
グとポリカーボネート基材との間の接着損失がないこと
、を包含する。従って、本発明はまた、本発明の化合物
を、場合によりその他の安定剤と一緒に、アルキド樹脂
；熱可塑性アクリル樹脂ニアクリル−アルキド：シリコ
ン、イソシアネート、イソシアヌレート、ケチミンまた
はオキサゾリジンで変性されてもよいアクリル−アルキ
ドまたはポリエステル樹脂；およびカルボン酸、無水物
、ポリアミンまたはメルカプタンで架橋されたエポキシ
樹脂；および骨格において反応性基で変性され、そして
エポキシで架橋されたアクリルおよびポリエステル樹脂
系をベースとする室温硬化性コーティングを光、湿気お
よび酸素の劣化作用に対して安定化するために使用する
ことにも関する。

さらに、それらの工業用の使用において、架橋可能なア
クリル、ポリエステル、ウレタンまたはアルキド樹脂を
ベースとする高い固形含量を有するエナメルは別の酸触
媒で硬化される。

塩基性窒素基を有する光安定剤は一般に本発明において
十分なものではない。酸触媒と光安定剤との間の塩の生
成は、該塩の不適合性または不溶性および沈澱並びに硬
化の低下した程度および低下した光保護作用および低い
湿分耐性を導く。

これらの酸触媒された焼付はラッカーは熱架橋性アクリ
ル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミドまたはア
ルキド樹脂をベースとしている。本発明に従って光、湿
気および酸素に対して安定化され得るアクリル樹脂ラッ
カーは、例えばＨ，Ｋｉｔｔｅｌ’ｓ“Ｌｅｈｒｂｕｃ
ｈ　ｄｅｒ　［、ａｃｋｅ　ｕｎｄＢｅｓｃｈｒｃｈＬ
ｕｎｇｅｎ　、　Ｖｏｌ、Ｉ　Ｐａｒ　２＋７３５およ
び７４２頁（ベルリン、　１９７２年）　＋　”Ｌａｃ
ｋｋｕｎｓｔｈａｒｚｅ”ｌｌ。

ＷａｇｎｅｒおよびＩｔ、　Ｆ、　５ａｒｘ著、　２２
９−２３８頁、およびＳ、　Ｐａｕｌ’ｓ著“５ｕｒｆ
ａｃｅ　Ｃｏａｔｉｎｇｓ：　５ｃｉｅｎｃｅａｎｄ　
Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ”（１９８５）に記載されている
アクリル／メラミン系を包含する慣用のアクリル樹脂焼
付はラッカーまたは熱硬化性樹脂である。

光および温気の作用に対して安定化され得るポリエステ
ルラッカーは例えばＨ，ＷａｇｎｅｒおよびＩｔ、　Ｆ
、　５ａｒｘ著の上掲書８６−９９頁に記載されている
慣用の焼付はラッカーである。

本発明に従って光および湿気の作用に対して安定化され
得るアルキド樹脂ラッカーは特に自動車塗装に使用され
る慣用の焼付はラッカー（自動車仕上げラッカー）であ
り、例えばアルキド／メラミン樹脂およびアルキド／ア
クリル／メジくン樹脂をベースとするラッカーである（
Ｈ，ＷａｇｎｅｒおよびＨ，Ｆ、　５ａｒｘ著の上掲書
９９−１２３頁参照）、その他の架橋剤はグリコールウ
リル樹脂、ブロックされたインシアネートまたはエポキ
シ樹脂を包含する。

本発明に従って安定化される酸触媒された焼付はラッカ
ーは金属仕上げ塗装および固体シェード仕上げの両方に
、特に修正仕上げ、並びに種々のコイルコーティングの
場合に適当である。

本発明に従って安定化されるラッカーは、シングルコー
ト法またはツーコート法の２方法のいずれかによる慣用
の方法で塗装されるのが好ましい、後者の方法において
、顔料含有ベースコートがまず最初に塗布され、そして
次にその上に透明ラッカーのカバーコートを塗布する。

本発明の置換された立体障害性アミンは酸触媒されてい
ない熱硬化性樹脂、例えばシリコーン、イソシアネート
またはインシアヌレートで変性されてもよいエポキシ、
エポキシポリエステル、ビニル、アルキド、アクリルお
よびポリエステル樹脂中への使用に適用可能である。エ
ポキシおよびエポキシポリエステル樹脂は慣用の架橋剤
例えば酸、酸無水物、アミン等で架橋される。

また、エポキシは主鎖上の反応性基の存在により変性さ
れた種々のアクリルまたはポリエステル樹脂系のための
架橋剤として利用され得る。

そのようなコーティングにおいて最大の光安定性を達成
するために、その他の慣用の光安定剤の同時使用が有利
であり得る０例はベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール
、アクリル酸誘導体またはオキサニリドタイプ、または
アリール−ｓ〜トリアジンまたは金属含有光安定剤例え
ば有機ニッケル化合物の上記紫外線吸収剤である。ツー
コート系において、これらのその他の光安定剤はクリア
コートおよび／または着色されたベースコートに添加さ
れ得る。

そのような組合せが使用される場合には、全体の光安定
剤の合計は、フィルム形成性樹脂に基づいて０．２ない
し２０重量％、好ましくは０．５ないし５重量％である
。

上記のピペリジン化合物と組み合わせた本発明の組成物
において使用され得る紫外線吸収剤の異なる類の例は、
Ｅｕｒｏｐｅａｎ　Ｐｏｌｙｍｅｒ　ＪｏｕｒｎａｌＳ
ｕｐｐｌｅｍｅｎｔ、　１９６９．１０５−１３２頁の
Ｈ，Ｊ、　Ｈｅ１ｌｅｒによる文献に引用されている。

これらの類はフェニルサリチレート、Ｏ−ヒドロキシベ
ンゾフェノン、ヒドロキシキサントン、ベンゾキサゾー
ル、ベンズイミダゾール、オキサジアゾール、トリアゾ
ール、ビリミジン、キナゾリン、Ｓ−トリアジン、ヒド
ロキシフェニル−ベンゾトリアゾール、α−シアノアク
リレートおよびベンゾエートを包含する。

特別重要な紫外線吸収剤は以下のものである：（ａ）２
−（２’−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリアゾール
例えば５′−メチル−１３′５１−ジー第三ブチル−１
５１−第三ブチル−５′−ジー（１，１，３，３−テト
ラメチルブチル）−１５−クロロ−３’、５’−ジー第
三フチルー、５−クロロ−３１−第三ブチル−５−メチ
ル−１３′−第二ブチル−５１−第三ブチル−１４′−
オクトキシ−１および３１５°−ジー第三アミル誘導体
。

（ｂ）２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン例えば４−ヒド
ロキシ−１４−メトキシ−１４−オクトキシ−１４−デ
シルオキシ−１４−ドデシルオキシ−１４−ベンジルオ
キシ−１４，２’、４−トリヒドロキシ−および２′−
ヒドロキシ−４，４°−ジメトキシ誘導体。

（Ｃ）　　アクリレート例えばα−シアノ−β、βジフ
ェニルアクリル酸エチルエステルまたはイックチルエス
テル、α−カルボメトキシ桂皮酸メチルエステル、α−
シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ桂皮酸メチルエステ
ルまたはブチルエステル、α−カルボメトキシ−ｐ−メ
トキシ桂皮酸メチルエステル、Ｎ−（β−カルボメトキ
シ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。

（ｄ）　　ニッケル化合物例えば２，２°−チオビス−
（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェ
ノール）のニッケル錯体、例えば１：１またはｌ：２　
ｔｉ体であって、所望によりｎ−ブチルアミン、トリエ
タノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシル−ジ−エタ
ノールアミンのような他の配位子を伴うもの、ニッケル
ジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロキシ−３，５
−ジー第三ブチルベンジルホスホン酸モノアルキルエス
テル、例えばメチル、エチルもしくはブチルエステルの
ニッケル塩、２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウン
デシルケトキシムのようなケトキシムのニッケル錯体、
１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシ−ピラ
ゾールのニッケル錯体であって、所望により他の配位子
を伴うもの。

（ｅ）　　シュウ酸シアミド例えば ４．４゛−ジ−オクチル−オキシオキサニリド、２．２
”−ジ−オクチルオキシ−５，５°−ジー第三ブチルオ
キサニリド、 ２．２°−ジ−ドデシルオキシ−５，５“−ジー第三ブ
チルオキサニリド、 ２−エトキシ−２１−エチルオキサニリド、Ｎ、　Ｎ’
−ビス（３−ジメチルアくノプロピル）−オキサルアミ
ド、 ２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−エチルオキサニ
リドおよび該化合物と２−エトキシ−２゛−エチル−５
，４゛−ジー第三ブチル−オキサニリドとの混合物、 オルト−およびバラ−メトキシｍ：置換オキサニリドの
混合物、および ０−およびｐ−エトキシー二置換オキサニリドの混合物
。

（ｆ）　　ヒドロキシフェニル−５−）リアジン例えば
２，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−４−（２
−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−Ｓ−）
リアジンまたは相当する４−（２，４−ジヒドロキシフ
ェニル）誘導体。

高分子量で低揮発性のベンゾトリアゾール例えば２−〔
２−ヒドロキシ−３，５−ジ（α。

α−ジメチルベンジル）フェニル）−２８−ベンゾトリ
アゾール、２−（２−ヒドロキシ−３゜５−ジー第三オ
クチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（
２−ヒドロキシ−３−α、α−ジメチルベンジル−５−
第三オクチルフェニル）−２８−ペンツトリアゾール、
２（２−ヒドロキシ−３−第三オクチル−５−α。

α−ジメチルベンジルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾール、２−（２−ヒドロキシ−３゜５−第三アミルフ
ェニル）−２１−１−ベンゾトリアゾール、２−〔２−
ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−（２−ω−ヒドロキ
シ−オクタ−（エチレンオキシ）カルボニル）−エチル
フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、ドデシル化２
−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベ
ンゾトリアゾール、２−〔２ヒドロキシ−３−第三ブチ
ル−５−（２−オクチルオキシカルボニル）〜エチルフ
ェニル〕２Ｈ−ベンゾトリアゾールおよび上記のベンゾ
トリアゾールの各々に相当する５−クロロ化合物が本発
明の＆１１）（ａ威物酸物いて特に貴重である。

本発明の組成物に有用なベンゾトリアゾールとしては２
−〔２−ヒχロキシー３，５−ジ（α、α−ジメチルベ
ンジル）フェニル〕−２Ｈ−ヘンシトリアゾール、ドデ
シル化２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−
２８−ヘンシトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３
−第三プチル−５−（２−ω−ヒドロキシ−オクタ−（
エチレンオキシ）カルボニル）−エチルフェニル）　−
２Ｈ〜ヘンシトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３
−第三ブチル−５−（２−オクチルオキシカルボニル）
−エチルフェニル）−２０−ベンゾトリアゾールおよび
５−クロロ−２−〔２−ヒドロキシ−３＝第三ブチル−
５−（２−オクチルオキシカルボニル）−エチルフェニ
ル）−２Ｈ−ヘンシトリアソールが最も好ましい。

本発明の化合物が、フェノール系酸化防止剤、立体障害
性アミン光安定剤、有機リン化合物、紫外線吸収剤およ
びそれらの混合物からなる群から選択されるその他の安
定剤と組み合わせて使用される場合、ポリオレフィンフ
ァイバー特にポリプロピレンファイバーの安定剤として
とりわけ有効であろうこともまた期待される。

本発明の好ましい実施態様は、 （ａ）　　熱架橋性アクリル、ポリエステルまたはアル
キド樹脂をベースとする酸触媒された熱硬化性コーティ
ングまたはエナメル、 （ｂ）ＮＯＥ置換された２、　　２．　６．６−チトラ
アルキルピペリジン化合物、および （Ｃ）　　ヘンシフエノン、ベンゾトリアゾール、アク
リル酸誘導体、有機ニッケル化合物、アリール−５−）
リアジンおよびオキサニリドからなる群から選択される
紫外線吸収剤、 からなる安定化された＆［ｌ酸物に関する。

エナメルまたはコーティングが含有し得るその他の成分
は酸化防止剤、例えば立体障害性フェノール誘導体、リ
ン化合物例えばホスフィツト、ホスフィンまたはホスホ
ナイト、可塑剤、レベル補助剤、硬化触媒、増粘剤、分
散剤または接着促進剤である。

本発明のその他の好ましい実施態様は、上記（ａｌ、ω
）および（Ｃ）の成分の他にさらに成分（ｄ）としてホ
スフィツトまたはホスホナイトを含有する安定化された
組成物である。

本発明のｍｓ物において使用されるホスフィツトまたは
ホスホナイト（ｄ）の量は、フィルム形成性樹脂に基づ
いて０．０５ないし２重置％、好ましくは０．１ないし
１重量％である。ツーコート系において、これらの安定
剤はクリアコートおよび／またはベースコートに添加さ
れてもよい。

典型的なホスフィツトおよびホスホナイトはトリフェニ
ルホスフィツト、 ジフェニルアルキルホスフィノド、 フエニルジアルキルホスフィツト、 トリス（ノニルフェニル）ホスフィツト、トリラウリル
ホスフィツト、 トリオクタデシルホスフィンド、 ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィノト、 トリス（２，４−ジー第三ブチルフェニル）ホスフィツ
ト、 ジイソデシルベソタエリトリトールジホスフィット・ ビス（２，４−ジー第三ブチルフェニル）ペンタエリト
リトールジホスフィット、 トリステアリルソルビトールトリホスフィント、テトラ
キス（２，４−ジー第三ブチルフェニル）４．４′−ビ
フェニリレンジホスホナイトを包含する。

酸触媒された熱硬化性エナメルは、最終使用者において
適当に機能するために、安定化されなければならない、
使用される安定剤は、硬化に付随する遅延と酸触媒で安
定化された塩基性アミンの沈澱とを防止するために、場
合により紫外線吸収剤例えばヘンシトリアゾール、ヘン
シフエノン、置換ｓ−トリアジン、フェニルベンゾエー
トまたはオキサニリドと組み合わせた、立体障害性アミ
ン、好ましくはＮ−原子が不活性ブロック基により置換
されたものである。

安定剤は硬化されたエナメルにより、長い耐久性（２０
°光沢、画像の鮮明性、クランキングまたはチョーキン
グにより測定されるようなもの）の維持を与えるために
必要とされ；安定剤は硬化を遅延させてはいけない（１
２１″Ｃでの自動仕上げのための通常の焼付けおよび８
２°Ｃでのより低い焼付は修復、硬度、接着性、溶媒耐
性および湿分耐性により測定されるようなもの）：エナ
メルは硬化して黄変すべきでなく、そしてさらに光への
暴露での変色は最低限にされなければならない；安定剤
はコーティングにおいて通常使用される有１ａ　？ＩＪ
媒、例えばメチルアミルケトン、キシレン、ｎ−へキシ
ルアセテート、アルコール等中に溶解しなければならな
い。

Ｎ原子がＯ置換部分で置換された本発明の立体障害性ア
ミン光安定剤は、これらの要求の各々を満たし、そして
単独でまたは紫外線吸収剤と組み合わせて、硬化され酸
触媒された熱硬化性エナメルに対して顕著な光安定化保
護を付与する。

本発明の安定剤のさらに他の好ましい組合せは、ガス褪
色からポリプロピレンファイバーを保護するためのヒド
ロキシルアミンとの組合せである。

〔実施例・発明の効果〕

以下の実施例は説明のためのものであって、本発明の範
囲をなんら限定するものではない。

実施例１ Ｎ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テトラキス（１−オクチルオキシ
−２，２，６，６−チトラメチルピベリジンー４−イル
）セパカミド ７０％水性第三ブチルヒドロパーオキシド６８．０ｇ（
５２８ミリモル）、ｎ−オクタン２２５　ｍｌおよび塩
化ナトリウム１０ｇの混合物を分液ロート中で揺動させ
る。有機相を分離する。第三ブチルヒドロパーオキシド
／ｎ−オクタンの溶液のＡをＮ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テト
ラキス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４
−イル）セバカξド２５．Ｏｇ（３３ξリモル）および
二酸化モリブデン０．３ｇに添加する。混合物を還流下
で１時間加熱する。水をディーンースタークトラップに
集める。第三ブチルヒドロパーオキシド／ｎ−オクタン
の溶液の残りを次に還流している赤色混合物に２時間か
けて添加する。添加終了後、赤色を消すために、混合物
を還流してもう４時間加熱する。濾過により固体を除去
し、モして濾液を減圧下で蒸発させる。粗生成物を溶出
液としてヘプタン：酢酸エチル＝４：１を用いて短いシ
リカゲルカラムに通すと、表題化合物２２．２ｇ（収率
５３％）がガラスとして得られる。

分析結果 Ｃｆｆ１ｌＨＩＳ！Ｎ６０．に対する計算（ａ　：Ｃ７
３，８；　Ｈ１２，１ｉ　Ｎ　６．６実験値： Ｃ７３，８ｉ　Ｈ１２，１；　Ｎ　６．５実施例２ Ｎ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テトラキス（１−シクロヘキシル
オキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４
−イル）セバカミドＮ、　Ｎ、　Ｎ’、　Ｎ’−テトラ
キス（２，２゜６．６−チトラメチルピベリジンー４−
イル）セバカミド３５．０ｇ（４６ξリモル）、９０％
第三ブチルヒドロパーオキシド７４．０ｇ（７３９ミリ
モル）、二酸化モリブデン０．４ｇおよびシクロヘキサ
ン２５０Ｉｄの混合物をフィッシャー−ポーター圧力ビ
ン中１４０−１５０°Ｃで５時間加熱する。赤色反応混
合物を新たな９０％第三ブチルヒドロパー・オキシド１
９．０　ｇ、二酸化モリブデン０．２ｇおよびシクロヘ
キサン５〇−で処理する。混合物を次に１５０°Ｃで３
時間加熱して、赤色を消失させる。濾過により固体を除
去し、モして濾液を減圧下で蒸発させる。

残渣を溶出液としてヘプタン：酢酸エチル−４：１を用
いてシリカゲルカラムに通すと、表題化合物２８．３ｇ
（収率５３％）が融点１２９−１３３°Ｃの白色固体と
して得られる。

分析結果 Ｃ１゜ＨＩ□、Ｎ６０．に対する計算値：Ｃ７３，１、
Ｈ１１，２；　Ｎ　７．３実験値： Ｃ７２，７、Ｈ１１，６；　Ｎ　　７．３実施例３ Ｎ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ″−テトラキス（ｌ−シクロヘキシル
オキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４
〜イル）スクシンアミドＮ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テトラキ
ス（２，２゜６．６−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）スクシンアミドア、５ｇ（１１ξリモル）、９０％
第三ブチルヒドロパーオキシＦ２２．３ｇ（２２３ミリ
モル）、二酸化モリブデン０．１５　ｇおよびシクロヘ
キサン１００ｍの混合物をフィッシャー−ポーター圧力
ビン中１５０−１６０℃で５時間加熱する。有機混合物
を新たな９０％第三ブチルヒドロパーオキシド７．０ｇ
、二酸化モリブデン０．１　ｇおよびシクロヘキサン４
０Ｉｄで処理する０反応混合物を１５０−１６０°Ｃで
３時間加熱して、赤色を消失させる８反応混合物をクロ
ロホルム２００−で希釈し、そして濾過する。濾液を減
圧下で蒸発させて、温かい塩化メチレンに溶解する固体
を得る。塩化メチレン溶液を濾過し、そしてイソプロピ
ルアルコールを添加しながら徐々に蒸発させ、生成物の
晶出を誘導する０表題化合物は白色固体として得られ、
これは８．３ｇの収量（収率７０％）であり、２８１−
２８２℃で分解して融解する。

分析結果 ＣｈａＨ＋ｒｈＮｈＯｂに対する計算値：Ｃ７２，１；
　Ｈ１１，０；　Ｎ　７．９実験値： Ｃ７１，７；　Ｈ１１，Ｏｉ　Ｎ　７．８実施例４ Ｎ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テトラキス（１−シクロヘキシル
オキシ−２，２，６，６−チトラメチルピベリジンー４
−イル）オキサξドア０％水性第三ブチルヒドロパーオ
キシド３２．３ｇ（２５１ミリモル）、シクロヘキサン
１５０−および飽和塩化ナトリウム１００−の混合物を
分液ロート中で揺動させ、相に分離し、そして有機相を
無水の硫酸マグネシウムで乾燥させることにより、第三
ブチルヒドロパーオキシドのシクロヘキサン中の無水溶
液を製造する。

Ｎ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テトラキス（２，２，６゜６−テ
トラメチルピペリジン−４−イル）オキサミド８．１ｇ
（１２，６ミリモル）、二酸化モリブデン０．３ｇ、お
よび上で製造した無水の第三ブチルヒドロパーオキシド
／シクロヘキサン溶液の混合物をフィッシャー−ポータ
ー圧力ビン中で３時間加熱する（浴温１５０−１６０°
Ｃ）。

固体を濾過により除去し、そして濾液を減圧下で蒸発さ
せて固体を得る。イソプロピルアルコール：塩化メチレ
ン−２：１からの再結晶により、表題化合物９．８ｇ（
収率７５％）が融点２７８°Ｃ（分解）の白色固体とし
て得られる。

分析結果 Ｃｈ　ｚ　Ｈ＋　＋　ｚ　Ｎ　ｈ　Ｏｈに対する計算値
：Ｃ７１，８；　Ｈ１０，９、Ｎ　８．１実験（！　： Ｃ７１，３Ｓ　Ｈ１０，６：　Ｎ　７．９実施例５ Ｎ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テトラキス（１−オクチルオキシ
−２，２，６，６−テトラメチルビペリジン−４−イル
）オキサミド 表題化合物はＮ、Ｎ、Ｎ”、Ｎ’−テトラキス（２，２
，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）オキサ
ごドとｎ−オクタンとから、実施例４の操作に従って製
造される。

実施例６ Ｎ、Ｎ’−ビス〔ジ（１−オクチルオキシ−２，２，６
，６−テトラメチルピペリジン−４−イル〉アミノカル
ボニル）−１，６−ヘキサンシアミン 表題化合物はビス（１−オクチルオキシ−２゜２．６．
６−テトラメチルビベリジン−４−イル）アミンとへキ
サメチレンジイソシアネートとの反応により製造される
。

実施例７ ｌ−（Ｎ、Ｎ−ジ（１−オクチルオキシ−２゜２．６．
６−チトラメチルピベリジンー４−イル）ウレイド−メ
チル）−５−（Ｎ、Ｎ−ジ（ｌ−オクチルオキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ウレ
イド〕−１．３．３−）リメチルシクロヘキサン表題化
合物はビス（ｌ−オクチルオキシ−２゜２．６．６−チ
トラメチルピベリジンー４−イル）アミンと５−イソシ
アナト−１−（イソシアナトメチル）−１，３，３−）
リメチルシクロヘキサン（またはイソホロンジイソシア
ネート）との反応により製造される。

実施例８ Ｎ’、Ｎ”−１，６−ヘキサンジイル−Ｎ。

Ｎ、Ｎ”ｖ、Ｎ”１−テトラキス（１−シクロヘキシル
オキシ−２，２，６，６−テトラメチルビペリジン−４
−イル）ビス尿素 塩化メチレン３０−中のへキサメチレンジイソシアネー
ト３．５ｇ（２０，８ミリモル）の溶液ヲ塩化メチレン
５０ｍ１中のビス（１−シクロヘキシルオキシ−２，２
，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミン
１１．７ｇ（２３゜３稟すモル）の溶液に１０分間かけ
て添加する。

反応混合物を次に還流して３０分間加熱する。

溶媒を蒸発させ、モして残渣をシリカゲル上（ヘプタン
：酢酸エチル−２＝１）でのフラッシュクロマトグラフ
ィー、次いで塩化メチレン／メタノールからの再結晶に
より精製すると、表題化合物６．９ｇ（収率５１％）が
融点１３８−１４１’Ｃの白色固体として得られる。

により精製する。

分析結果 Ｃ６ｓ　Ｈｌ　！　ｈ　Ｎ　ｍ　Ｏ１Ｈｔ　Ｏに対する
計算値：Ｃ６９，８、Ｈ１１，０、Ｎ　９．６ 実験（Ｉｌｌ　： Ｃ６９，８ｉ　Ｈ１０，８ｉ　Ｎ　９．２実施例９ ポリプロピレンの光安定化 本実施例は本発明の安定剤の光安定化作用を説明する。

ｎ−オクタデシル３．５−ジー第三ブチル−４−ヒドロ
キシヒドロシンナメート０．２重量％で安定化されたポ
リプロピレン粉末（Ｈｉｓｏｎｔ　Ｐｒｏｆａｘ　６５
０１）を示された量の添加剤と十分に混合する。混合さ
れた材料を次に２本ロール稟ル上１−８２℃で５分間粉
砕し、その後安定化されたポリプロピレンをミルから出
してシートとし、そして冷却する。粉砕されたポリプロ
ピレンを次に小片に切断し、モして液圧プレス上で０．
１２７ｍに２５０℃および１．２Ｘ１０”Ｐａで圧縮成
形する。試料を蛍光太陽光／ブラックライトチャンバー
に破損するまで暴露する。破損は暴露されたフィルムの
赤外線スペクトル法によるカルボニル吸収が０．５に達
するまで要する時間として表される。

対照”　　　　　　　　　　　　　３４０実施例１　　
　０．１　　　　１１６０ａｔｉｎｇ　Ｔｅｃｈｎｏｌ
ｏｇｙ）製のユニプライム（Ｕｎｉｐｔｉｍｅ）〕にま
ず市販のシルバーメタリックベースコートを０．０１５
−０．０２閣の膜厚にスプレー被覆し、その上に市販の
ハイソリッド熱硬化性アクリルメラミンクリアコートを
膜厚０．０５−にスプレー塗布（ウェット・オン・ウェ
ット）することにより、ベースコート／クリアコートエ
ナメルを製造する。被覆されたパネルを次に１２１’Ｃ
で３０分間焼き付ける。空調室で１週間貯蔵後、これら
の被覆されたパネルを次に、ＦＳ−４０バルブを用い、
ＡＳＴＭ　　Ｇ−５３／７７に従って、ＱＵＶ暴露装置
内で耐候試験を行う。

２０°光沢がＱＵＶ暴露の期間後に測定され、その結果
を下に示す。

ト 実施例１０ バネ／Ｉｚ１０．１６ｃｍＸ３０．４Ｂｃ口〔アドバン
スト・コーティング・テクノロジー（＾ｄｖａｎｃｅ＋
ｉ　Ｃ。

非安定化０ ３２　ＬＩＶＡ” ４ ６ ９１＊ ７ １ これらの被覆されたパネルを次に、キセノンアークウエ
ザロメータ内で耐候試験を行う。

２０＠光沢値がキセノンアークウェザロメータ暴露後に
測定され、その結果を下に示す。

非安定化 ５ ２ ０ ＊＊＊　　クラッキングを示す。

実施例１１ 市販の白色アクリルポリウレタン再仕上げエナメルは、
２％紫外線吸収剤および２％の本発明の化合物で安定化
される（全ての％は重量％）、この材料を市販のエポキ
シブライマーが下塗りされた鋼パネル上に厚さ約０．０
６１１１１）（ａ１１にスプレー塗布する。空調室での
１ケ月間貯蔵後、代 理 人

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. （１）次式； ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、 ｎは１ないし４を表し、 Ｒ＿１およびＲ＿２は独立して炭素原子数１ないし４の
   アルキル基を表すか、またはＲ＿１およびＲ＿２は一緒
   になってペンタメチレン基を表し、Ｅは炭素原子数１な
   いし１８のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシク
   ロアルキル基、炭素原子数２ないし１８のアルケニル基
   、炭素原子数５ないし１２のシクロアルケニル基、炭素
   原子数７ないし１５のアルアルキル基、炭素原子数７な
   いし１２の飽和もしくは不飽和二環式もしくは三環式炭
   化水素の基、または炭素原子数６ないし１０のアリール
   基もしくはアルキル基により置換された前記アリール基
   を表し、Ｔは原子価ｎの基を表し、そして ｎが１であるとき、Ｔは水素原子、炭素原子数２ないし
   ２０のアルカノイル基、炭素原子数６ないし１３のシク
   ロアルカノイル基、炭素原子数７ないし１１のアロイル
   基、炭素原子数８ないし１６のアルアルカノイル基、置
   換されたカルバモイル基または炭素原子数２ないし２０
   のアルコキシカルボニル基を表し、 ｎが２であるとき、Ｔは−ＣＯ−基、脂肪族、環状脂肪
   族、芳香脂肪族または芳香族ジカルボン酸の２価のアシ
   ル基、ジカルバミン酸の２価のアシル基または混合され
   たカルボン酸／カルバミン酸の２価のアシル基を表し、 ｎが３であるとき、Ｔは脂肪族、環状脂肪族、芳香脂肪
   族または芳香族トリカルボン酸の３価のアシル基を表し
   、そして ｎが４であるとき、Ｔは脂肪族、環状脂肪族または芳香
   族テトラカルボン酸の４価のアシル基を表す。） で表される化合物。
2. （２）上記式中、ｎが２ないし４を表す請求項１記載の
   化合物。
3. （３）上記式中、ｎが２または４を表す請求項２記載の
   化合物。
4. （４）上記式中、Ｒ＿１およびＲ＿２が各々メチル基を
   表す請求項１記載の化合物。
5. （５）上記式中、Ｅが炭素原子数１ないし１２のアルキ
   ル基、シクロヘキシル基またはアルファメチルベンジル
   基を表す請求項１記載の化合物。
6. （６）上記式中、Ｅがメチル基、ヘプチル基、オクチル
   基、ノニル基またはシクロヘキシル基を表す請求項５記
   載の化合物。
7. （７）上記式中、ｎが２であるとき、Ｔが炭素原子数２
   ないし１０のアルカンジオイル基またはヘキサメチレン
   ジカルバモイル基を表す請求項１記載の化合物。
8. （８）上記式中、Ｔがオキサリル基、スクシニル基また
   はセバコイル基を表す請求項７記載の化合物。
9. （９）上記式中、ｎが４であるとき、Ｔが１，２，３，
   ４−ブタンテトラカルボキソイル基、１，２，３，４−
   ブテ−２−エン−テトラカルボキソイル基、１，２，３
   ，５−ペンタンテトラカルボキソイル基または１，２，
   ４，５−ペンタンテトラカルボキソイル基を表す請求項
   １記載の化合物。
10. （１０）上記式中、Ｔが１，２，３，４−ブタンテトラ
    カルボキソイル基を表す請求項９記載の化合物。
11. （１１）（ａ）化学線の劣化作用に曝されているポリマ
    ー、および （ｂ）有効安定化量の請求項１記載の化合物からなる安
    定化された組成物。
12. （１２）ポリマーがポリオレフィン、特にポリプロピレ
    ンである請求項１１記載の組成物。
13. （１３）ポリマーが、アルキド、アクリル、アクリル−
    アルキド、ポリエステル、エポキシド、ウレタン、ポリ
    アミド、ビニルまたはエポキシ−ポリエステル樹脂に基
    づいたコーティング系である請求項１１記載の組成物。
14. （１４）紫外線吸収剤またはその他の光安定剤を含有す
    る請求項１１記載の組成物。