JP2860587B2 - ミカエル付加反応によりｎ―ヒドロキシヒンダードアミンから誘導された安定剤 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 α，β−不飽和カルボニル化合物によるＮ−ヒドロキ
シヒンダードアミンのミカエル付加生成物は、有機ポリ
マーのための有効な光安定剤である。

〔従来の技術〕

アクリルアミドによる４−ベンジルオキシ−１−ヒド
ロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンのミカエル
付加生成物はミヤザワ他（Miyazawa et al,Synthesis,1
984,1034.）により報告されているが、得られた生成物
の利用については記述がない。

モード他（Aust.J.Chem.36,1573（1983））により報
告されているように、４−ベンゾイル−１−オキシル
（oxyl）−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンは、クロ
トン酸メチル、メタアクリル酸メチルおよびアクリル酸
メチルの存在下において、ジ第三ブチル過酸化水素と過
酸化ジベンゾイルの分解から発生するラジカルをトラッ
プするのに使用されている。合成された生成物の、ポリ
マーの光安定剤としての使用は、開示も暗示もされてい
ない。

ビニルホスホン酸エステルによるN,N′−ジアルキル
ヒドロキシルアミンのミカエル付加生成物は、米国特許
No.4,753,972号に報告されている。これらのアミノ−オ
キシエチルホスホネートは、ポリオレフィンのための色
改善剤と加工安定剤である。

ジ−．カデット他［J.Cadet et al,Tetrahedron,35,2
743（1979）;Inst.J.Radiat.Biol Rel Stud Phys.,Che
m.Med,30,1（1976）；］フルスカ他［F.Hruska et al,C
an J.Chem,63,15（1985）．］により報告されているよ
うに、４−ヒドロキシ−１−オキシル（oxyl）−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジンと１−オキシル（oxyl）−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジンも、チミンおよびチ
ミジン中におけるヒドロキシラジカルの二重結合への付
加反応から形成されるラジカルをトラップするのに使用
されている。これら生成物のポリマー安定剤としての使
用は開示も暗示もされていない。

ある種のＮ−ヒドロキシヒンダードアミンは米国特許
No.4,590,231号;4,649,221号;4,691,015号;4,691,015
号;4,668,721号；および4,703,073号に記述されてい
る。

〔課題を解決するための手段〕

本化合物は、式ＩないしVIII 〔式中、G₁およびG₂は互いに独立して炭素原子数１な
いし４のアルキル基を表すか； またはG₁とG₂が一緒になってペンタメチレン基を表
し； R₁は水素原子、メチル基またはフェニル基を表し； R₂は水素原子またはメチル基を表し； R₃は水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル
基を表し； Ｘは炭素原子数１ないし18のアルコキシ基、−NH₂、
−NHR₆、−N(R₆)₂または式 （式中、R₆は炭素原子１ないし８のアルキル基または
フェニル基を表し； R₇は炭素原子数１ないし18のアルキル基、炭素原子数
５ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数２ないし18
のアルケニル基、炭素原子数５ないし12のシクロアルケ
ニル基、炭素原子数７ないし15のアラルキル基、飽和も
しくは不飽和の、炭素原子数７ないし12の２環式もしく
は３環式炭化水素の基または炭素原子数６ないし10のア
リール基、またはアルキル基により置換された該アリー
ル基を表し； R₈は水素原子または炭素原子数１ないし８のアルキル
基を表す）により表される基より成る群より選ばれた基
を表し； R₄は水素原子またはメチル基を表し； R₅は水素原子またはメチル基を表し； Ｙは−Ｏ−、−NH−または−NR₉−または式 （式中、R₉は炭素原子数１ないし18のアルキル基を表
す）により表される基を表し； Ｚは−NH−CO−NH−または−CH₂C(CH₃)₂CH₂−を表
し； Ｌは−Ｏ−R₁₀−Ｏ−、 −NH−R₁₀−NH−、 −NR₈−R₁₀−NR₈−または式 （式中、R₁₀は炭素原子数２ないし18のアルキレン基
または炭素原子数６ないし10のアリーレン基を表す）に
より表される基を表し； Ｇは炭素原子数１ないし12のアルキレン基または炭素
原子数６ないし10のアリーレン基を表し； Ｔは脂肪族、環状脂肪族もしくは芳香族酸のカルボキ
シル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、環状アルコキ
シ基、アラルコキシ基、脂肪族もしくは芳香族の、第１
もしくは第２アミンのまたはメラミンのまたはＮ−置換
メラミンのアミニル基、脂肪族もしくは芳香族の、アミ
ド、カルバミドもしくはカーバメイトのアミジル基およ
び飽和イミドのイミド基（imidyl radical）からなる群
から選ばれたｎ一価の基を表すか； またはＴは1,3−ジオキソランもしくは1,3−ジオキサ
ン環を形成する2n−価のアルコキシ２価基を表すか； またはＴはヒダントインもしくはＮ−置換されたヒダ
ントインの２価の基または2,2−置換の４−オキサゾリ
ドンの２価の炭素基を表し； ＥはＴと同じ定義を持ち；そして ｎは１ないし４の整数を表し； 但し、式Ｉにおいて、ｎが１を表し、Ｔはベンジルオ
キシ基を表し、R₁、R₂およびR₃は各々水素原子を表す場
合は、Ｘは−NH₂を表さないという条件； 式Ｉにおいて、ｎが１を表し、Ｔはベンゾイルオキシ
基を表し、R₁、R₂およびR₃は各々水素原子を表す場合
は、Ｘはメトキシ基を表さないという条件； 式Ｉにおいて、ｎが１を表し、Ｔはベンゾイルオキシ
基を表し、Ｘはメトキシ基を表しそしてR₃は水素原子を
表す場合、R₁またはR₂はメチル基を表さないという条件
に従う〕の構造式の一つを持つミカエル付加生成物であ
る。

好ましくはG₁およびG₂は各々メチル基を表す。

好ましくはR₁は水素原子またはメチル基を表し、最も
好ましくは水素原子を表す。

好ましくはR₂は水素原子またはメチル基を表す。

Ｘは、好ましくは炭素原子数１ないし12のアルコキシ
基を表すかまたは式 （式中、R₇は炭素原子数１ないし12のアルキル基また
はシクロヘキシル基を表す）により表される基を表し； 最も好ましくはメチル基、ヘプチル基、オクチル基、
ノニル基またはシクロヘキシル基を表す。

R₈は好ましくは水素原子を表す。

R₄およびR₅は好ましくは各々水素原子を表す。

Ｙは好ましくは式 （式中、R₇は好ましくは上述のように定義される）に
より表される基を表す。

Ｚは好ましくは−NHCONH−を表す。

Ｌは、好ましくは−Ｏ−R₁₀−Ｏ−を表し； R₁₀は炭素原子数２ないし12のアルキレン基、最も好
ましくはエチレン基、テトラメチレン基および2,2−ジ
メチルトリメチレン基を表す。

Ｇは好ましくはｏ−フェニレン基、ｍ−フェニレン基
またはｐ−フェニレン基を表す。

ｎは好ましくは１または２である。

好ましい化合物は、式Ｉにより表される化合物であ
る。

本化合物は、Ｎ−ヒドロキシヒンダードアミンとあら
ゆる種類のα、β−不飽和カルボニル化合物との反応に
より製造される。

Ｎ−ヒドロキシ−アミンは、イー．ジー．ロザンツェ
フ他（E.G.Rozantsev et al,Synthesis,1971,190）によ
り教示されているように過酸化水素を使用してのＮ−オ
キシル中間体へのアミンの酸化；または有機過酸化物と
金属酸化物触媒による酸化とそれに次ぐ触媒的水素化に
よる（米国特許No.4,665,185号参照）により合成すると
便利である。

Ｎ−ハイドロカルビルオキシヒンダードアミンは幾つ
かのルートにより合成される。

Ｎ−メトキシピペリジン誘導体は、Ｎ−オキシル誘導
体の、クロロベンゼンのような不活性溶媒中のジ−tert
−ブチルパーオキシドの熱分解により発生するメチルラ
ジカルによる反応により合成される。

Ｎ−ヒドロキシ誘導体は、水素化ナトリウムとアルキ
ルハライドの反応によりアルキル化され得る。

Ｎ−ハイドロカルビルオキシ化合物の合成のための好
ましい方法は、欧州特許公開公報EP-A-309 402号に教示
されているように、ヒンダードアミンまたはそのＮ−オ
キシル誘導体の炭化水素溶液と、tert−ブチルハイドロ
パーオキサイドの酸化金属触媒の熱反応である。

α、β−不飽和カルボニル中間体は、広く市販されて
おり、または４−アミノ−および４−ヒドロキシ−置換
ヒンダードアミンから出発する常法により合成できる。

典型的なα、β−不飽和カルボニル中間体はエステ
ル、アミド、酸、イミドおよびケトンであり、それらの
典型例はアクリレート、メタアクリレート、シンナメー
ト（cinnamates）、チグレート（tiglates）、クロトネ
ート（crotonates）、イタコネート、シトラコネート、
ゼネシオネート（ジメチルアクリレート）、ホロン、イ
ソホロン、マレエート、フマレート、マレイミド、ウラ
シルおよび同様のものである。

本発明の他の範囲は、式IXを持つミカエル付加生成物
である化合物とそのアルカリ金属塩もしくはアルカリ土
類金属塩、およびそれらにより安定化されたポリマー組
成物に係わる。

（式中、Ｔは上述で定義されたように定義され； ｎは１ないし４の整数を表し； G₃およびG₄は互いに独立して炭素原子数１ないし４の
アルキル基を表すか； またはG₃およびG₄は一緒になってペンタメチレン基を
表し；そして T₁とT₂は互いに独立して水素原子、炭素原子数１ない
し36のアルキル基、炭素原子数５ないし12のシクロアル
キル基、炭素原子数７ないし９のアラルキル基または炭
素原子数１ないし36のアルキル基により置換された該ア
ラルキルを表す） 好ましくは、Ｔは一価であり、そしてｎは１を表す。

好ましくはG₃およびG₄は各々メチル基を表す。

好ましくはT₁およびT₂は互いに独立して炭素原子数１
ないし18のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキ
シル基、ベンジル基、α−メチルベンジル基またはα，
α−ジメチルベンジル基を表す。

最も好ましくはT₁およびT₂は炭素原子数１ないし８の
アルキル基、特にエチル基を表す。

本出願は、2,2,6,6−テトラアルキルピペリジン構造
を強調しているが、本発明は下記のテトラアルキル置換
ピペラジンまたはピペラジンノン部分が上述のテトラア
ルキルピペリジン部分に代わる化合物にも関する点に注
意すべきである。

（式中、ＭとＹは互いに独立してメチレン基またはカ
ルボニル基を表し；好ましくはＭはメチレン基を表し、
Ｙはカルボニル基を表す） このような化合物に適用できると確認された置換基
は、環の窒素原子上の置換に適当なものであると理解さ
れるべきである。

本発明の化合物が存在すると特に役に立つ支持体は、
ポリエチレンおよびポリプロピレンのようなポリオレフ
ィン；特に耐衝撃ポリスチレンを含むポリスチレン;ABS
樹脂；例えばブタジエンゴム、EPM、EPDM、SBRおよびニ
トリルゴムのようなエラストマーである。

安定化され得るポリマーの例は一般に以下のものを包
含する： 1.モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例え
ばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−
１、ポリメチルペンテン−１、ポリイソプレンまたはポ
リブタジエン、並びにシクロオレフィン例えばシクロペ
ンテンまたはノルボルネンのポリマー、（所望により架
橋結合できる）ポリエチレン、例えば高密度ポリエチレ
ン（HDPE）、低密度ポリエチレン（LDPE）および線状低
密度ポリエチレン（LLDPE）。

2.1.に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロピレ
ンとポリイソブチレンとの混合物。

3.モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニル
モノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレン
コポリマー、プロピレン／ブテン−１、プロピレン／イ
ソブチレン、エチレン／ブテン−１、プロピレン／ブタ
ジエン、イソブチレン／イソプレン、エチレン／アルキ
ルアクリレート、エチレン／アルキルメタクリレート、
エチレン／ビニルアセテートまたはエチレン／アクリル
酸コポリマーおよびそれらの塩類（アイオノマー）、お
よびエチレンとプロピレンとジエン例えばヘキサジエ
ン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデン−ノルボル
ネンとのターポリマー。

4.ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチレン）、ポリ
−（α−メチルスチレン）。

5.スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたはア
クリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／ブタジ
エン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／アルキ
ルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルア
クリレート、スチレン／アクリロニトリル／メチルアク
リレート；スチレンコポリマーと別のポリマー、例えば
ポリアクリレート、ジエンポリマーまたはエチレン／プ
ロピレン／ジエンターポリマーからの高耐衝撃性混合
物；およびスチレンのブロックコポリマー例えばスチレ
ン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／ス
チレン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレンまた
はスチレン／エチレン／プロピレン／スチレン。

6.スチレンまたはαメチルスチレンのグラフトコポリマ
ー、例えばポリブタジエンにスチレンとアクリロニトリ
ル、ポリブタジエンにスチレンおよびアルキルアクリレ
ートまたはメタアクリレート、エチレン／プロピレン／
ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロニトリ
ル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレートにスチ
レンおよびアクリロニトリル、アクリレート／ブタジエ
ンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル、並び
にこれらと5.に列挙したコポリマーとの混合物、例えば
ABS−、MBS−、ASA−またはAES−ポリマーとして知られ
ているコポリマー混合物。

7.ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩
素化ゴム、塩素化またはクロロスルホンポリエチレン、
エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、ハロゲン
含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ
化ビニリデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩化ビ
ニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニル、塩化
ビニリデン／酢酸ビニルまたは弗化ビニル／ビニルエー
テルコポリマー。

8.ポリアクリレートおよびポリメタアクリレート、ポリ
アクリルアミドおよびポリアクリロニトリルのような
α，β−不飽和酸およびその誘導体から誘導されたポリ
マー。

9.前項8.に挙げたモノマー相互のまたは他の不飽和モノ
マーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジ
エン、アクリロニトリル／アルキルアクリレート、アク
リロニトリル／アルコキシアルキルアクリレートまたは
アクリロニトリル／ハロゲン化ビニルコポリマーまたは
アクリロニトリル／アルキルメタアクリレート／ブタジ
エンターポリマー。

10.ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニ
ルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニル
マレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレ
ートまたはポリアリルメラミンのような不飽和アルコー
ルおよびアミンまたはそれらのアシル誘導体またはそれ
らのアセタールから誘導されたポリマー。

11.ポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−グリ
シジルエーテルとのコポリマーのような環状エーテルの
ホモポリマーおよびコポリマー。

12.ポリオキシメチレンおよびエチレンオキシドをコモ
ノマーとして含むポリオキシメチレンのようなポリアセ
タール。

13.ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド並びにポ
リフェニレンオキシドとポリスチレンとの混合物。

14.一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエー
テル、ポリエステルまたはポリブタジエンと他方の成分
として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとから誘
導されたポリウレタン並びにその前駆物質（ポリイソシ
アネート、ポリオールまたはプレポリマー）。

15.ポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド6/6、ポリ
アミド6/10、ポリアミド11、ポリアミド12、ポリ−2,4,
4−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミドまたは
ポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミドのようなジアミ
ンおよびジカルボン酸および／またはアミノカルボン酸
または相当するラクタムから誘導されたポリアミドおよ
びコポリアミド。並びにこれらと例えばポリエチレング
リコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテトラ
メチレングリコールのようなポリエーテルとのコポリマ
ー。

16.ポリ尿素、ポリイミドおよびポリアミドイミド。

17.ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフ
タレート、ポリ−1,4−ジメチロール−シクロヘキサン
レフタレートおよびポリヒドロキシベンゾエートのよう
なジカルボン酸およびジオールおよび／またはヒドロキ
シカルボン酸または相当するラクトンから誘導されたポ
リエステルのようなもの。並びにヒドロキシ末端基を含
有するポリエーテルから誘導されたブロックコポリエー
テルエステル。

18.ポリカーボネートおよびポリエステル−カーボネー
ト。

19.ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリエ
ーテルケトン。

20.フェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ホルム
アルデシド樹脂およびメラミン／ホルムアルデヒド樹脂
のような一方の成分としてアルデヒドおよび他方の成分
としてフェノール、尿素およびメラミンから誘導された
架橋ポリマー。

21.乾性および不乾性アルキド樹脂。

22.飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコールお
よび架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステルか
ら誘導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性の低
いそれらのハロゲン含有変性物。

23.エポキシアクリレート、ウレタン−アクリレートま
たはシリコーンアクリレートのような置換アクリル酸エ
ステルから誘導された架橋性アクリル樹脂。

24.メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネートまた
はエポキシ樹脂で架橋されたアルキド樹脂、ポリエステ
ル樹脂またはアクリレート樹脂。

25.ポリエポキシド、例えばビス−グリシジルエーテ
ル、または脂環式ジエポキシドから誘導された架橋エポ
キシ樹脂。

26.天然ポリマー、例えばセルロース、天然ゴム、ゼラ
チン、およびこれらを化学的に変性させた重合同族体誘
導体：即ち酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースお
よび酢酸セルロース、もしくはメチルセルロースのよう
なセルロースエーテルのようなもの。

27.前記したポリマーの混合物（ポリマーブレンド）、
例えばPP/EPDM、ポリアミド6/EPDMまたはABS、PVC/EV
A、PVC/ABS、PVC/MBS、PC/ABS、PBTP/ABS。

28.純単量体化合物またはその化合物からなる天然およ
び合成有機材料、例えば鉱油、動物および植物脂肪、オ
イルおよびワックスまたは合成エステル（例えばフタレ
ート、アジペート、ホスフェートまたはトリメリテー
ト）をベースとした上記オイル、脂肪およびワックス、
並びに合成エステルの適当な重量比で混合された鉱油と
の混合物で、その材料はポリマーのための繊維紡績油と
して並びにこのような材料の水性エマルジョンとして使
用され得る。

29.天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例えばカ
ルボキシル化スチレン／ブタジエンコポリマーの天然ラ
テックス。

30.例えば米国特許No.4,259,467号に記述されているよ
うな軟質の水和性のポリシロキサン；および例えば米国
特許No.4,355,147号に記述されている硬質のポリ有機シ
ロキサンのようなポリシロキサン。

31.不飽和アクリルポリアセトアセテート樹脂とまたは
不飽和アクリル樹脂と配合してあるポリケチミン。不飽
和アクリル樹脂は、ウレタンアクリレート、ポリエーテ
ルアクリレート、側不飽和基を伴うビニルもしくはアク
リルコポリマーおよびアクリレート化されたメラミンを
包含する。ポリケチミンは、酸触媒の存在下ポリアミン
とケトンから合成される。

32.エチレン性不飽和モノマーまたはオリゴマーおよび
他不飽和脂肪族オリゴマーを含む照射硬化性組成物。

33.LSE 4103（モンサント社製）のようなエポキシ機能
のコエーテル化ハイソリッドメラミン樹脂により架橋さ
れる光安定性のエポキシ樹脂のようなエポキシメラミン
樹脂。

一般に、本発明の化合物は安定化される組成物の約0.
01ないし約５重量％使用される。しかしこれは特定の基
材および施用で変化するであろう。有利な範囲は約0.5
ないし約２％、そして特に0.1ないし約１％である。

本発明の安定剤は、有機ポリマー中に、当該分野で慣
用の方法により成形の前のあらゆる段階で容易に混入さ
れ得る。例えば安定剤は乾燥粉末の形態でポリマーと混
合されてもよく、また安定剤の懸濁液またはエマルジョ
ンは、ポリマーの溶液、懸濁液またはエマルジョンと混
合され得る。本発明の生成した安定化ポリマー組成物
は、如何に示すような種々の慣用の添加剤を所望により
添加することもできる。

1.酸化防止剤 1.1 アルキル化モノフェノール、例えば 2,6−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、 ２−第三ブチル−4,6−ジメチルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、 2,6−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、 ２−（α−メチルシクロヘキシル）−4,6−ジメチル
フェノール、 2,6−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、 2,4,6−トリシクロヘキシルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノー
ル、 1.2 アルキル化ハイドロキノン、例えば 2,6−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、 2,5−ジ−第三ブチルハイドロキノン、 2,5−ジ−第三アミルハイドロキノン、 2,6−ジ−フェニル−４−オクタデシルオキシフェノ
ール。

1.3 ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル例えば、 2,2′−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェ
ノール）、 2,2′−チオビス（４−オクチルフェノール）、4,4′
−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノー
ル）、 4,4′−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェ
ノール）。

1.4 アルキリデンビスフェノール、例えば 2,2′−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチル
フェノール）、 2,2′−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチル
フェノール）、 2,2′−メチレンビス〔４−メチル−６−（α−メチ
ルシクロヘキシル）フェノール〕、 2,2′−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキ
シルフェノール）、 2,2′−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェ
ノール）、 2,2′−メチレンビス〔６−（α−メチルベンジル）
−４−ノニルフェノール〕、 2,2′−メチレンビス〔６−（α，α−ジメチルベン
ジル）−４−ノニルフェノール〕、 2,2′−メチレンビス（4,6−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、 2,2′−エチリデンビス（4,6−ジ−第三ブチルフェノ
ール）、 2,2′−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソ
ブチルフェノール）、 4,4′−メチレンビス（2,6−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、 4,4′−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチル
フェノール）、 1,1−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−
メチルフェニル）ブタン、 2,6−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒド
ロキシベンジル）−４−メチルフェノール、 1,1,3−トリス（５−第三ブチル−４−４ヒドロキシ
−２−メチルフェニル）ブタン、 1,1−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−
メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタ
ン、 エチレングリコールビス〔3,3−ビス（３′−第三ブ
チル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート〕、 ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチル
フェニル）ジシクロペンタジエン、 ビス〔２−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−
５′−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチル
フェニル〕テレフタレート。

1.5 ベンジル化合物、例えば 1,3,5−トリス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル）−2,4,6−トリメチルベンゼン、 ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）スルフィド、 イソオクチル3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルメルカプトアセテート、 ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−2,6−ジメ
チルベンジル）ジチオテレフタレート、1,3,5−トリス
（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルイソ
シアヌレート、 1,3,5−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−
2,6−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、 ジオクタデシル3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルホスホネート、 モノエチル3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジルホスホネートのカルシウム塩、 1.6 アシルアミノフェノール、例えば ラウリン酸４−ヒドロキシアニリド、 ステアリン酸４−ヒドロキシアニリド、 2,4−ビス（オクチルメルカプト）−６−（3,5−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−ｓ−トリアジ
ン、 Ｎ（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−カルバミン酸オクチルエステル。

1.7 β−（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオン酸の以下の一価または多価アルコールと
のエステル、 アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコー
ル、オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6
−ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペン
チルグリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシア
ヌレート、チオジエチレングリコール、N,N′−ビス
（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド。

1.8 β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メ
チルフェニル）プロピオン酸の以下の一価または多価ア
ルコールとのエステル、 アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコー
ル、オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6
−ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペン
チルグリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシア
ヌレート、チオジエチレングリコール、N,N′−ビス
（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド。

1.9 β−（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオン酸のアミド、 例えばN,N′−ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミ
ン、 N,N′−ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、 N,N′−ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル）ヒドラジン。

2.紫外線吸収剤および光安定剤 2.1 ２−（２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリア
ゾール、例えば、 ５′メチル、３′,5′−ジ−第三ブチル−、５′−第
三ブチル−、５′−（1,1,3,3−テトラメチルブチル）
−、５−クロロ−３′,5′−ジ−第三ブチル−、５−ク
ロロ−３′−第三ブチル−５′−メチル−、３′−第二
ブチル−５′−第三ブチル:4′−オクトキシ−、３′,
5′−ジ−第三ブチルおよび３′,5′−ビス（α，α−
ジメチルベンジル）−、 ３′−第三ブチル−５′−２−（ω−ヒドロキシ−オ
クタ（エチレンオキシ）カルボニルエチル）−、３′−
ドデシル−５′−メチル−および３′−第三ブチル−
５′−（２′−オクチルオキシカルボニル）エチル−、
およびドデシル化−５′−メチル誘導体。

2.2 ２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン、例えば ４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクトキシ
−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−
ベンジルオキシ−、4,2′,4′−トリヒドロキシ−およ
び２′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシ誘導体。

2.3 置換されたおよび非置換安息香酸のエステル、例
えば ４−第三ブチルフェニルサリチレート、 フェニルサリチレート、 オクチルフェニルサリチレート、 ジベンゾイルレゾルシノール、 ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、 ベンゾイルレゾルシノール、 2,4−ジ−第三ブチルフェニル3,5−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシベンゾエート、およびヘキサデシル3,5
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。

2.4 アクリレート、例えば α−シアノ−β，β−ジフェニル−アクリル酸エチル
エステル、 α−シアノ−β，β−ジフェニル−アクリル酸イソオ
クチルエステル、 α−カルボメトキシ−桂皮酸メチルエステル、 α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸メチ
ルエステル、 α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸ブチ
ルエステル、 α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ桂皮酸メチルエス
テル、および Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２
−メチルインドリン。

2.5 ニッケル化合物、例えば 2,2′−チオビス−〔４−（1,1,3,3−テトラメチルブ
チル）−フェノール〕のニッケル錯体、例えば1:1また
は1:2錯体であって、所望によりｎ−ブチルアミン、ト
リエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシル−ジ−
エタノールアミンのような他の配位子を伴うもの、ニッ
ケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロキシ−3,
5−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノアルキルエ
ステル、例えばメチル、エチルもしくはブチルエステル
のニッケル塩、２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニル
ウンデシルケトキシムのようなケトキシムのニッケル錯
体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシ−
ピラゾールのニッケル錯体であって、所望により他の配
位子を伴うもの。

2.6 立体障害性アミン、例えば ビス（2,2,6,6−テトラメチルピペリジル）セバケー
ト、 ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル）セバケ
ート、 ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル）ｎ−ブ
チル−3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル
マロンネート、 １−（２−ヒドロキシエチル）−2,2,6,6−テトラメ
チル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生
成物、 N,N′−ビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ
−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンとの縮合生成物、 トリス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）
ニトリロトリアセテート、 テトラキス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、 1,1′−（1,2−エタンジイル）−ビス（3,3,5,5−テ
トラメチルピペラジノン）。

2.7 シュウ酸ジアミド、例えば 4,4′−ジ−オクチル−オキシオキサニリド、 2,2′−ジ−オクチルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチル
オキサニリド、 2,2′−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチル
オキサニリド、 ２−エトキシ−２′−エチルオキサニリド、 N,N′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル−オキサ
ルアミド、 ２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−エチルオキサ
ニリドおよび該化合物と２−エトキシ−２′−エチル−
5,4′−ジ−第三ブチル−オキサニリドとの混合物、 ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合
物、および ｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合
物。

2.8 ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジン 例えば、2,6−ビス−（2,4−ジメチルフェニル）−４
−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−
ｓ−トリアジン;2,6−ビス−（2,4−ジメチルフェニ
ル）−４−（2,4−ジヒドロキシフェニル）−ｓ−トリ
アジン;2,4−ビス−（2,4−ジヒドロキシフェニル）−
６−（４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン;2,4−ビ
ス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）
フェニル］−６−（４−クロロフェニル）−ｓ−トリア
ジン;2,4−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキ
シエトキシ）フェニル］−６−フェニル−ｓ−トリアジ
ン;2,4−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ
エトキシ）フェニル］−６−（2,4−ジメチルフェニ
ル）−ｓ−トリアジン;2,4−ビス［２−ヒドロキシ−４
−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−６−（４−
ブロモフェニル）−ｓ−トリアジン;2,4−ビス［２−ヒ
ドロキシ−４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］
−６−（４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン;2,4−
ビス（2,4−ジヒドロキシフェニル）−６−（2,4−ジメ
チルフェニル）−ｓ−トリアジン。

3.金属不活性化剤、例えば N,N′−ジフェニルシュウ酸ジアミド、 Ｎ−サリチラル−Ｎ′−サリチロイルヒドラジン、 N,N′−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、 N,N′ービス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル）ヒドラジン、 ３−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリアゾール、 ビス（ベンジリデン）オキサロジヒドラジン。

4.ホスフィットおよびホスホナイト、例えばトリフェニ
ルホスフィット、 ジフェニルアルキルホスフィット、 フェニルジアルキルホスフィット、 トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、 トリラウリルホスフィット、 トリオクタデシルホスフィット、 ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、 トリス（2,4−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィッ
ト、 ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、 ビス（2,4−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリト
リトールジホスフィット、 トリステアリルソルビトールトリホスフィット、 テトラキス（2,4−ジ−第三ブチルフェニル） 4,4′−ビフェニレンジホスホナイト。

5.過酸化物スカベンジャー、例えば β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリ
ル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステ
ル、 メルカプトベンズイミダゾール、または ２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、 ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、 ジオクタデシルジスルフィド、 ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメル
カプト）プロピオネート。

6.ヒドロキシルアミン、例えば N,N−ジベンジルヒドロキシルアミン、 N,N−ジエチルヒドロキシルアミン、 N,N−ジオクチルヒドロキシルアミン、 N,N−ジラウリルヒドロキシルアミン、 N,N−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、 N,N−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、 N,N−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、 Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルア
ミン、 Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルア
ミン、 水素化された獣脂アミンから誘導されるN,N−ジアル
キルルヒドロキシルアミン。

7.ポリアミド安定剤、例えば ヨウ化物および／またはリン化合物と組合せた銅塩、
および二価マンガンの塩。

8.塩基性補助安定剤、例えば メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミ
ン、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン
誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、 高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属
塩、例えばCaステアレート、Znステアレート、Mgステア
レート、NaリシノレートおよびＫパルミテート、 ピロカテコール酸アンチモン、または ピロカテコール酸亜鉛。

9.核剤、例えば ４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、 ジフェニル酢酸。

10.充填剤および強化剤、例えば 炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベス
ト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化
物および水酸化物、カーボンブラック、グラファイト。

11.その他の添加剤、例えば 可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤、静
電防止剤、発泡剤、およびジラウリル チオジプロピオ
ネートまたはジステアリル チオジプロピオネートのよ
うなチオ相乗剤。

特に興味のあるのは、常温硬化および酸触媒塗布系を
含む塗布系の多様における本誘導体の利用である。

特に塗膜の物理的結合度は、光沢の消失度と黄変度に
おける顕著な減少を伴って高い程度に維持される。

主な改良点は、Ｎ−アルキルヒンダードアミン系光安
定剤の使用により硬化の減退が実質的に無くなること；
凝集と分散の不安定化が、Ｎ−アルキルヒンダードアミ
ンがある種の着色塗布系に利用された場合に観察される
ように実質的に無くなること；そして塗膜とポリカーボ
ネート基材の間の接着の損失が無くなることを含む。

従って本発明は、光線、湿気および酸素の分解的な影
響な対して、アルキッド樹脂；熱可塑性アクリル樹脂；
アクリルアルキッド；所望によりシリコーン、イソシア
ナート、イソシアヌレート、ケチミンもしくはオキサゾ
リジンで改質されたアクリルもしくはポリエステルアル
キッド；およびカルボン酸、酸無水物、ポリアミンもし
くはメルカプタンで架橋されたエポキシ樹脂；および主
鎖構造において反応性基により改質されそしてエポキシ
ドにより架橋されたアクリルおよびポリエステル樹脂系
を基材にした常温硬化塗膜を安定化するための、所望に
より更に他の安定剤と共の、本化合物の使用にも関す
る。

更に、その工業的用途において、架橋性のアクリル、
ポリエステル、ウレタンまたはアルキッド樹脂を基材に
したハイソリッド内容物のエナメルは、酸触媒を追加し
て硬化される。塩基性窒素基を含有光安定剤は、この適
用において満足できるものではない。

酸触媒と光安定剤との塩の形成は、塩の不相溶性もし
くは不溶性および沈澱を招き、そして硬化の度合いが減
少し、光保護作用が減少し、湿気に対する抵抗性が不良
になる事態を招く。

これらの酸触媒焼付ラッカーは、熱架橋性のアクリ
ル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミドまたはア
ルキッド樹脂を基材にしている。

本発明に従って光線、湿気および酸素に対して安定化
できるアクリル樹脂ラッカーは、常用されるアクリル樹
脂焼付ラッカーまたは熱硬化樹脂である。これらの樹脂
は、例えばハー．キッテル著「レールブーフ デア ラ
ッケ ウント ベシヒトング」巻１、２部、735と742頁
（ベルリン1972）；「ラックングスハルツェ」（197
7）、ハー．ワグナーおよびハー．エフ．ザルクス著、2
29-238頁；およびエス．パウル′ス著「サーフェイス
コーティング：サイエンス アンド テクノロジー」
（1985）に記載のアクリル／メラミン系を含む。

光線と湿気の作用に対して安定化できるポリエステル
ラッカーは、例えば上述のハー．ワグナーおよびハー．
エフ．ザルクス著の文献86-99頁に記述されている常用
の焼付ラッカーである。

本発明に従って、光線と湿気の作用に対して安定化で
きるアルキッド樹脂ラッカーは、特に自動車の塗装に使
用される常用の焼付ラッカー（自動車仕上用ラッカー）
である。これらのラッカーは例えば、アルキッド／メラ
ミン樹脂およびアルキッド／アクリル／メラミン樹脂を
基材にしている（上述のハー．ワグナーおよびハー．エ
フ．ザルクス著の文献99-123頁を参照）。

他の架橋剤は、グリコウリル（glycouril）樹脂、ブ
ロックトイソシアナートまたはエポキシ樹脂を含む。

本発明に従って安定化される酸触媒焼付ラッカーは、
金属仕上げ塗装および固体色仕上げの両方、特に修正仕
上げ、並びにいろいろなコイル塗装適用に適している。

本発明に従って安定化されたラッカーは、２法、即ち
一回塗装または二回塗装の方法のどちらでも、慣用の方
法で適用するのが好ましい。後者の方法では、顔料含有
の下塗り塗装が先ず行われ、次いで、下塗り層に被せて
透明ラッカーの被覆塗装が行われる。

本発明の置換ヒンダードアミンは、所望によりシリコ
ーン、イソシアナートまたはイソシアヌレートにより改
質されているエポキシ、エポキシ−ポリエステル、ビニ
ル、アルキッド、アクリルおよびポリエステル樹脂のよ
うな非−酸触媒熱硬化樹脂における使用のために適用で
きることにも注目すべきである。エポキシ−およびエポ
キシ−ポリエステル樹脂は酸、酸無水物、アミン、並び
に同様のもののような常用の架橋剤で架橋されている。

従って、エポキシ樹脂は、主鎖構造上の反応性基の存
在により改質されたいろいろのアクリルまたはポリエス
テル樹脂系のための架橋剤として使用されてよい。

このような塗料において最高の光安定性を達成するた
めに、他の常用の光安定剤の共用は有利であり得る。

この例は、上述したベンゾフェノン、ベンゾトリアゾ
ール、アクリル酸誘導体、またはオキサニリド型、また
はアリール−ｓ−トリアジンまたは金属−含有光安定
剤、例えば有機ニッケル化合物の紫外線吸収剤である。

二回塗装系では、これらの追加の光安定剤は透明塗膜
および／または着色下塗りに添加できる。

もしもこのような組み合わせが取られるならば、全て
の光安定剤の量は、塗層（film）を形成する樹脂に基づ
いて、0.2ないし20重量％、好ましくは0.5ないし５重量
％である。

上述のピペリジン化合物と一緒にして、本組成物に使
用されてもよい紫外線吸収剤の異種の類は、ジェー．ヘ
ラー著の「ヨーロピアン・ポリマー・ジャーナル・サプ
リメント、1969、105-132頁」に参照される。これらの
類は、サリチル酸フェニル、ｏ−ヒドロキシベンゾフェ
ノン、ヒドロキシキサントン、ベンゾキサゾール、ベン
ズイミダゾール、オキサジアゾール、トリアゾール、ピ
リミジン、キナゾリン、ｓ−トリアジン、ヒドロキシフ
ェニル−ベンゾトリアゾール、アルファ−シアノアクリ
レートおよびベンゾエート等である。

特に重要な紫外線吸収剤の例は下記の通りである： （ａ）２−（２′−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリ
アゾール類、例えば５′−メチル、３′,5′−ジ第三ブ
チル−、５′−第三ブチル、５′−（1,1,3,3−テトラ
メチルブチル）−、５−クロロ−３′、５′−ジ第三ブ
チル−、５−クロロ−３′−第三ブチル−５′−メチル
−、３′−sec−ブチル−５′−第三ブチル−、４′−
オクトキシ−、および３′,5′−ジ第三アミル 誘導
体。

（ｂ）２−ヒドロキシベンゾフェノン類、例えば４−ヒ
ドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクトキシ−、４−
デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−ベンジル
オキシ−、4,2′,4′−トリヒドロキシ−および２′−
ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシ 誘導体。

（ｃ）アクリレート、例えば、アルファーシアノ−β，
β−ジフェニル−アクリル酸エチルエステルもしくはイ
ソオクチルエステル、アルファ−カルボメトキシーケイ
皮酸メチルエステル、アルファ−シアノ−β−メチル−
ｐ−メトキシケイ皮酸メチルエステルもしくはブチルエ
ステル、アルファーカルボメトキシ−ｐ−メトキシ−ケ
イ皮酸メチルエステル、Ｎ−（β−カルボメトキシ−β
−シアノビニル）−２−メチル−インドリン。

（ｄ）ニッケル化合物、例えば2,2′−チオビス−［４
−（1,1,3,3−テトラメチルブチル）−フェノール］、
1:1もしくは1:2錯塩であって、所望によりｎ−ブチルア
ミン、トリエタノールアミンまたはＮ−シクロヘキシル
−ジエタノールアミンのような追加の配位子をもつも
の；ジブチルジチオカルバミン酸ニッケル塩;4−ヒドロ
キシ−3,5−ジ第三ブチルベンジルホスホン酸のメチ
ル、エチルもしくはブチルエステルのようなモノアルキ
ルエステルのニッケル塩;2−ヒドロキシ−４−メチルフ
ェニル ウンデシルケトノキシムのようなケトオキシム
のニッケル錯塩;1−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒ
ドロキシ−ピラゾールのニッケル錯塩で所望により追加
の配位子のあるもの。

（ｅ）オキサジアミド、例えば４、４′−ジ−オクチル
オキシオキサニリド、2,2′−ジ−オクチルオキシ−5,
5′−ジ第三ブチル−オキサニリド、2,2′−ジ−ドデシ
ルオキシ−5,5′−ジ第三ブチル−オキサニリド、２−
エトキシ−２′−エチル−オキサニリド、N,N′−ビス
（３−ジメチルアミノプロピル）−オキサミド、２−エ
トキシ−５−第三ブチル−２′−エチル−オキサニリド
およびその２−エトキシ−２′−エチル−5,4′−ジ第
三ブチル−オキサニリドとの混合物およびｏ−およびｐ
−メトキシ−並びにｏ−およびｐ−エトキシ−ジ置換オ
キサニリドの混合物。

（ｆ）2,6−ビス（2,4−ジメチルフェニル）−４−（２
−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−ｓ−ト
リアジンまたはそれに相応する４−（2,4−ジヒドロキ
シフェニル）誘導体のようなヒドロキシフェニル−ｓ−
トリアジン類。

本組成物中において特に価値あるものは、２−［２−
ヒドロキシ−3,5−ジ（α，α−ジメチルベンジル）−
フェニル］−2H−ベンゾトリアゾール、２（２−ヒドロ
キシ−3,5−ジ第三オクチルオキシフェニル）−2H−ベ
ンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−α，α
−ジメチルベンジル）−５−第三オクチルフェニル）−
2H−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−第三
オクチル−５−α，α−ジメチルベンジル）−2H−ベン
ゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−3,5−ジ第三
アミルフェニル）−2H−ベンゾトリアゾール、２−［２
−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−（２−（ω−ヒド
ロキシ−オクタ−（エチレンオキシ）カルボニル）−エ
チルフェニル］−2H−ベンゾトリアゾール、２−（２−
ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−2H−ベンゾトリア
ゾールのドテシル化物、２−［２−ヒドロキシ−３−第
三ブチル−５−（２−オクチルオキシカルボニル）エチ
ルフェニル］−2H−ベンゾトリアゾールおよび上述した
ベンゾトリアゾール類の各々の対応する５−クロロ化合
物のような高分子量および低揮発性のベンゾトリアゾー
ルである。

本組成物に役立つベンゾトリアゾールで最も好ましい
ものは、２−［２−ヒドロキシ−3,5−ジ（α，α−ジ
メチルベンジル）−フェニル］−2H−ベンゾトリアゾー
ル、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−2H
−ベンゾトリアゾールのドテシル化物、２−［２−ヒド
ロキシ−３−第三ブチル−５−（２−（ω−ヒドロキシ
−オクタ−（エチレンオキシ）カルボニル）−エチルフ
ェニル］−2H−ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロ
キシ−３−第三ブチル−５−（２−オクチルオキシカル
ボニル）エチルフェニル］−2H−ベンゾトリアゾールお
よび５−クロロ−２−［２−ヒドロキシ−３−第三ブチ
ル−５−（２−オクチルオキシカルボニル）エチルフェ
ニル］−2H−ベンゾトリアゾールである。

本化合物が、フェノール性抗酸化剤、ヒンダードアミ
ン光安定剤、有機リン化合物、紫外線吸収剤およびこれ
らの混合物から成る群から選ばれた他の安定剤と関連し
て使用される時は、ポリオレフィン繊維、特にポリプロ
ピレン繊維のための安定剤として特に有効で有るだろう
ことも考えられる。

本発明の好ましい実施態様は、 （ａ）熱架橋性のアクリル、ポリエステルまたはアルキ
ッド樹脂を基材にした酸触媒熱硬化塗料またはエナメ
ル、 （ｂ）NO−置換の2,2,6,6−テトラアルキルピペリジン
化合物、および （ｃ）ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、アクリル
酸誘導体、有機ニッケル化合物、アリール−ｓ−トリア
ジンおよびオキサニリドから成る群から選ばれた紫外線
吸収剤を含有する安定化された組成物に係わる。

エナメルまたは塗料が含有できる更に他の成分は抗酸
化剤であり、例えば立体障害フェノール誘導体、ホスフ
ィット、ホスフィンもしくはホスホナイトのようなリン
化合物、可塑剤、均展助剤、硬化触媒、増粘剤、分散剤
または接着促進剤である。

他の好ましい本発明の実施態様は、追加成分（ｄ）と
してホスフィットまたはホスホナイトを含有する上述の
成分（ａ）、（ｂ）および（ｃ）を含有する安定化され
た組成物である。

本組成物で使用されるホスフィットまたはホスホナイ
トの量は、層（塗膜）を形成する樹脂の重量に基づいて
0.05ないし２重量％、好ましくは0.1ないし１重量％で
ある。

二回塗装系では、これらの安定剤は透明塗膜および／
または下塗り層に添加できる。

典型的なホスフィットおよびホスホナイトは、亜リン
酸トリフェニルエステル、亜リン酸ジフェニルアルキル
エステル、亜リン酸フェニルジアルキルエステル、亜リ
ン酸トリ−（ノニルフェニル）エステル、亜リン酸トリ
ラウリルエステル、亜リン酸トリオクタデシルエステ
ル、亜リン酸ジーステアリル−ペンタエリスリットール
エステル、亜リン酸トリス−（2,4−ジ第三ブチルフェ
ニル）エステル、ジ−イソデシルペンタエリスリトール
ジホスフィット、ジ−（2,4−ジ第三ブチルフェニ
ル）ペンタエリスリトール ジホスフィット、トリステ
アリル−ソルビトール トリホスフィット、テトラキス
−（2,4−ジ第三ブチルフェニル）−4,4′−ジ−フェニ
レンホスホナイト等を含む。

酸触媒熱硬化エナメルは、末端使用の適用に受容して
機能できるように安定化されていなければならない。使
用される安定剤は、ヒンダードアミン、好ましくは、硬
化における遅延が併存することになる、酸触媒により安
定化された塩基性アミンの沈澱を阻止するためにＮ−原
子上が不活性のブロック基により置換されているもので
あり、所望によりベンゾトリアゾール、ベンゾフェノ
ン、ベンゾフェノン、置換ｓ−トリアジン、フェニルベ
ンゾエートまたはオキサニリドのような紫外線吸収剤と
組み合わされる。

この安定剤は、硬化したエナメルに耐久性のより大き
い保持を付与することを要求される（20°光沢、像の鮮
明度、亀裂またはチョーキングにより測定されるよう
に）； この安定剤は硬化を遅延さしてはいけない（自動車仕
上げのための120℃における普通の焼付と82℃における
低温焼付修理（硬度、接着度、耐溶媒と耐湿性により測
定されるように）； このエナメルは硬化において黄化してはならず、更に
光線への暴露における色の変化は最小にされなければな
らない； この安定剤は、メチルアミルケトン、キシレン、酢酸
ｎ−ヘキシル、アルコール並びに同様のもののような塗
装に通常使用される有機溶媒に溶解しなければならな
い。

置換された−Ｏ−部分によりＮ−原子上が置換されて
いる本ヒンダードアミン光安定剤は、これらの要求を満
たし、それ単独でまたは紫外線吸収剤と組み合わせて、
硬化酸触媒熱硬化エナメルに対して顕著な光安定化保護
を提供する。

更にもう一つの本安定剤の好ましい組み合わせは、ポ
リプロピレン繊維をガス褪色から保護するためのヒドロ
キシルアミンとの組み合わせである。

〔実施例〕

下記の実施例は説明の目的だけに提示されたものであ
り、どのような方法によっても本発明の性質と範囲を限
定すべきものではない。

実施例１ ４−ベンジルオキシ−１−［２−（メトキシカルボニ
ル）エトキシ］−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン ４−ベンジルオキシ−１−オキシル（oxyl）−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン20.0g,無水硫酸マグネシウ
ム10.0g、５％パラジウム／炭素500mgおよびテトラヒド
ロフラン150mlの混合物を、パール装置（Parr apparatu
s）50psi、常温）で、水素化する。

触媒と乾燥剤をろ過により除き、ろ液を素早く窒素雰
囲気下フラスコに移す。このフラスコにカリウム第三ブ
トキシド0.85g、アクリル酸メチル19.7g（229mmol）お
よびテトラヒドロフラン50mlを添加する。反応混合物を
常温で３時間、そして１時間55℃で攪拌する。

反応混合物をエーテル（300ml）と飽和重炭酸ナトリ
ウム溶液（150ml）の間で分配する。エーテル層を水で
洗浄し（２×500ml）、飽和食塩水（200ml）で洗浄し、
無水硫酸マグネシウム上乾燥しそして油状物に濃縮す
る。

油状物をフラッシクロマトグラフィー（シリカゲル;
9:1＝ヘキサン：酢酸エチル）で精製して、無色液体と
して表題の化合物13.0gを与える。

分析： 理論式：C₂₀H₃₁NO₄ 計算値:C,68.7;H,8.9,N,4.0. 実測値:C,69.6;H,8.9,N,4.1. 実施例２ α，α′−ビス［１−（２−メトキシカルボニルエト
キシ）−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イル
オキシ］−ｐ−キシレン α，α′−ビス［１−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−４−イルオキシ］−ｐ−キシレン
16.9g（38mmol）、カリウム第三ブトキシド0.85gおよび
テトラヒドロフラン70mlの混合物に、アクリル酸メチル
（64.9g、750mmol）を、窒素雰囲気下素早く添加する。
反応は発熱反応であり、温度は１時間にわたって40℃を
超える。次いで、反応混合物を60℃で４時間加熱し、常
温で一夜放置する。

反応混合物をエーテル（300ml）で希釈し、続いて飽
和重炭酸ナトリウム溶液（200ml）、水（４回×500m
l）、および飽和食塩水（200ml）で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウム上乾燥しそして蒸発して油状物にする。油状
物をメタノールで攪拌し、そして沈澱が形成する。

上澄み液を濃縮すると固体を与え、この固体をフラッ
シクロマトグラフィー（シリカゲル;9:1＝ヘキサン：酢
酸エチル）で精製して、84-85℃で融解する白色固体と
して、表題の化合物の4.6g（収率:20％）を与える。

分析： 理論式：C₃₄H₅₆N₂O₈ 計算値:C,65.8;H,9.1,N,4.5. 実測値:C,65.4;H,9.0,N,4.7. 実施例３ フタル酸ビス［１−２−メトキシカルボニルエトキ
シ）−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イル］ フタル酸ビス［１−オキシル（oxyl）−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−４−イル］25.0g（52.7mmo
l）、硫酸マグネシウム10.0g、５％パラジウム／炭素10
0mg、およびテトラヒドロフラン200mlの混合物を、パー
ル装置（Parr apparatus）（50 psi、25℃）で、水素
化する。固体をろ過により除く。ろ液を10℃に冷却して
（窒素雰囲気下）、カリウム第三ブトキシド0.6g（5.3m
mol）で処理する。アクリル酸メチル（45.5g、527mmo
l）をこの反応混合物に５分間かけて添加する。

次いで、反応混合物を常温で２時間攪拌し、追加のカ
リウム第三ブトキシド0.6gで処理しそして常温で一夜攪
拌する。

反応混合物をエーテル（300ml）で希釈し、1N塩酸水
（２回×200ml）で洗浄し、飽和重炭酸ナトリウム溶液
（200ml）で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上乾燥し、
そして油状物に濃縮する。油状物をフラッシクロマトグ
ラフィー（シリカゲル;4:1＝ヘキサン：酢酸エチル）で
精製して固体を得る。この固体をメタノールから再結晶
すると117-118℃で融解する白色固体として表題の化合
物8.8g（収率:26％）を与える。

分析： 理論式：C₃₄H₅₂N₂O₁₀ 計算値:C,62.9;H,8.1,N,4.3. 実測値:C,63.0;H,8.2,N,4.2. 実施例４ イソフタル酸ビス［１−（２−メトキシカルボニルエ
トキシ）−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル］ 実施例３の一般的手順に従って、フタル酸ビス［１−
オキシル（oxyl）−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−４−イル］の当量をイソフタル酸ビス［１−オキシル
（oxyl）−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル］に置き換えると、表題の化合物が94-96℃で融解す
る白色固体として得られる。

分析： 理論式：C₃₄H₅₂N₂O₁₀ 計算値:C,62.9;H,8.1,N,4.3. 実測値:C,62.9;H,7.9,N,4.6. 実施例５ ４−ベンゾイルオキシ−１−（２−メトキシカルボニ
ルエトキシ）−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン 実施例３の一般的手順に従って、フタル酸ビス［１−
オキシル（oxyl）−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−４−イル］を当量の４−ペンゾイルオキシ−１−オキ
シル（oxyl）−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンに置
き換えると、表題の化合物が64-69℃で融解する白色固
体として得られる。

分析： 理論式：C₂₀H₂₉NO₅ 計算値:C,66.1;H,8.0,N,3.9. 実測値:C,66.3;H,8.0,N,4.0. 実施例６ ４−ベンゾイルオキシ−１−（１−フェニルサクシン
イミド−３−イルオキシ）−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン ベンゾイルオキシ−１−ヒドロキシ−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン5.5g（19.8mmol）、Ｎ−フェニルマ
レイミド3.5g（20.0mmol）およびテトラヒドロフラン40
mlの混合物を数分間攪拌し、密栓し、25℃で64時間放置
する。次いで、溶媒を蒸発し、残留分をメタノールから
再結晶すると1.7g（収率:19％）の表題化合物を、135-1
36℃で融解する白色結晶として得る。

分析： 理論式：C₂₆H₃₀N₂O₅ 計算値:C,69.3;H,6.7,N,6.2. 実測値:C,69.3;H,6.8,N,6.3. 実施例７ 1,4−ブタンジイル ビス［３−（４−オクタデカノ
イルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−１−
イルオキシ）プロピオネート］ 表題の化合物は実施例２の一般的順序に従って、1,4
−ブタンジイル ジアクリレートと１−ヒドロキシ−４
−オクタデカノイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジンから合成される。

実施例８ セバシン酸ビス｛１−［２−（１−シクロヘキシルオ
キシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イルオ
キシ）−カルボニルエトキシ］−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン−４−イル｝ 表題の化合物は、実施例２の一般的手順に従って、ア
クリル酸１−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−４−イルとセバシン酸ビス（１−ヒ
ドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）から合成される。

実施例９ セバシン酸ビス｛１−［２−（１−メトキシ−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン−４−イルオキシカルボニ
ル）エトキシ］−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
４−イル｝ 表題の化合物は、実施例２の一般的手順に従って、ア
クリル酸１−メトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン−４−イルとセバシン酸ビス（１−ヒドロキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イル）から合成
される。

実施例10 セバシン酸ビス｛１−［２−（１−オクタデシルオキ
シ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イルオキ
シカルボニル）エトキシ］−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン−４−イル｝ 表題の化合物は、実施例２の一般的手順に従って、ア
クリル酸１−オクタデシルオキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−４−イルとセバシン酸ビス（１−ヒド
ロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）から合成される。

実施例11 ４−ベンゾイルオキシ−１−［２−（１−シクロヘキ
シルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−
イルオキシカルボニル）エトキシ］−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン ４−ベンゾイルオキシ−１−ヒドロキシ−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン11.3g（40.7mmol）、アクリル
酸１−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−４−イル 12.0g（38.8mmol）、カリウム
第３ブトキシド0.21gおよびテトラヒドロフラン50mlの
混合物を30分間攪拌し次いで密栓しそして72時間室温で
放置する。

次いで、反応混合物をフラッシクロマトグラフィーに
よりシリカゲル上精製（4:1,ヘプタン：酢酸エチル）し
て、表題化合物8.2g（収率:36％）を無色のガラス状物
として得る。

分析： 理論式：C₃₄H₅₄N₂O₆ 計算値:C,69.6;H,9.3,N,4.8. 実測値:C,68.8;H,9.6,N,4.6. 実施例12 ４−ベンゾイルオキシ−１−［２−（１−オクチルオ
キシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−オキシ
カルボニル）エトキシ］−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン ４−ベンゾイルオキシ−１−オキシル（oxyl）−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン19.2g（69.6mmol）、10％
パラジウム／炭素0.8g、無水硫酸マグネシウム2.0gおよ
び無水テトラヒドロフラン100mlの混合物をパール装置
（Parr apparatus）（48psi、25℃）で、３時間にわた
って水素化する。次いで、固体をろ過により除く。ろ液
にアクリル酸１−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−４−イル19.7g（58.0mmol）、カリウ
ム第三ブトキシド0.8gおよびテトラヒドロフラン40mlを
添加する。反応混合物を窒素ガスでパージ（purge）
し，密栓しそして25℃で５日間放置する。

次いで、この混合物をジエチルエーテル（200ml）で
希釈し、そして1N塩酸水（２回×75ml）、次いで飽和重
炭酸ナトリウム溶液（200ml）で洗浄し、次いで無水硫
酸マグネシウム上乾燥し、そして淡紅色の残留物に濃縮
する。シリカゲル上フラッシクロマトグラフィー（4:1,
ヘプタン：酢酸エチル）で精製して、無色のシロップ状
物として、表題の化合物12.7g（収率:35％）が得られ
る。

分析： 理論式：C₃₆H₆₀N₂O₆ 計算値:C,70.1;H,9.8,N,4.5. 実測値:C,70.3;H,10.2,N,4.8. 実施例13 ４−ベンゾイルオキシ−１−［２−（１−メトキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イルオキシカ
ルボニル）エトキシ］−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン 表題の化合物を、実施例12の一般的手順に従って、４
−ベンゾイルオキシ−１−オキシル（oxyl）−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジンおよびアクリル酸１−メトキ
シ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イルか
ら、無色のシロップ状物として50％の収率で合成する。

分析： 理論式：C₂₉H₄₆N₂O₆ 計算値:C,67.1;H,8.9,N,5.4. 実測値:C,67.1;H,9.2,N,5.2. 実施例14 イソフタル酸ビス｛１−［２−（１−メトキシ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン−４−イルオキシカルボ
ニル）エトキシ］−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−４−イル｝ 表題の化合物は、実施例12の一般的手順に従って、イ
ソフタル酸ビス（１−オキシル（oxyl）−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−４−イル）およびアクリル酸１
−メトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−
イルから、無色のガラス状物として31はは収率で合成さ
れる。この場合は、反応は５日間から48時間に減少す
る。

分析： 理論式：C₅₂H₈₆N₄O₁₂ 計算値:C,65.1;H,9.6,N,5.8. 実測値:C,64.5;H,9.4,N,5.6. 実施例15 1,2−ビス［３−（４−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン−１−イルオキシ）−サクシン
イミド］ベンゼン 表題の化合物は、実施例６の一般的手順に従って、N,
N′−1,2−フェニレンジマレイミドおよび４−ベンゾイ
ルオキシ−１−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジンから製造される。

実施例16 セバシン酸ビス［１−（１−フェニルサクシンイミド
−３−イルオキシ）−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン−４−イル］ セバシン酸ビス（１−オキシル（oxyl）−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン−４−イル）10.0g（19.6mmo
l）、10％パラジウム／炭素0.2gおよびテトラヒドロフ
ラン50mlの混合物をパール装置（Parr apparatus）（50
psi、25℃）上、３時間にわたって水素化する。次い
で、固体をろ過により除く。ろ液にＮ−フェニルマレイ
イミド6.8g（19.6mmol）およびテトラヒドロフラン10ml
を添加する。反応混合物を窒素ガスでパージ（purge）
し、密栓しそして室温で９日間放置する。

次いで、溶媒を蒸発し、残留分をシリカゲル上フラッ
シクロマトグラフィー（2:1、ヘプタン：酢酸エチル）
で精製する。粗生成物をヘプタン：酢酸エチル＝2:1か
ら再結晶すると、102-108℃で融解する白色固体として
表題の化合物2.2g（収率:13％）を与える。

分析： 理論式：C₄₈H₆₆N₄O₁₀ 計算値:C,67.1;H,7.7,N,6.5. 実測値:C,67.1;H,7.9,N,6.3. 実施例17 ポリプロピレンの光安定化 この実施例は、本安定剤の光安定効果を説明するもの
である。

0.2重量％の3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシハ
イドロケイ皮酸ｎ−オクタデシルエステルにより安定化
されたポリプロピレン粉末〔ハーキュレス プロファッ
クス （Hercules Profax）6501〕を、下表に掲示した
量の添加剤と充分に配合する。配合した材料を、次いで
二本ロール機上182℃で５分間微粉砕し、その時間の後
安定化したポリプロピレンをミルから圧延してシートと
し、放冷する。

次いで、ミルから圧延したポリプロピレンを細断し、
油圧機で250℃、1.2×106paで0.127mmフィルムに圧縮成
形する。

試料を、破損するまで蛍光−太陽光／暗光室に暴露す
る。破損時間は、暴露フィルムの赤外線スペクトルによ
るカルボニル基の吸光度が0.5に達するのに要する時間
数であるとする。

実施例18 ハイソリッド熱硬化アクリル樹脂エナメルの安定化 アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸ブチ
ル、メタアクリル酸メチル、スチレンおよびアクリル酸
の70重量％およびメラミン樹脂の30重量％の結合剤を基
材とする熱硬化アクリルエナメル、および酸触媒、例え
ばｐ−トルエンスルホン酸、ジノニルナフタレンジスル
ホン酸またはドデシルベンゼンスルホン酸を、ベンゾト
リアゾール系紫外線吸収剤およびヒンダードアミン光安
定剤を含むように製剤する。

市販のエポキシ樹脂下塗りした10×30cmパネル〔ユニ
プライム（Uniprime）、アドヴアンスド コーティング
テクノロジー社製（Advanced Coatings Technolog
y）〕を銀金属粉下塗り剤で約0.023mmの厚さにスプレー
塗装し、３分間風乾する。次いで、安定化した熱硬化性
樹脂エナメルを約0.04mmの厚みになるように下塗りした
パネルに散布する。

15分間風乾した後、塗装したシートを121℃で30分
間、焼き付ける。

空調室に１週間貯蔵した後、塗装したシートを、ASTM
G-53/77の試験方法に従ってQUV（石英紫外線）暴露装
置の中で屋外暴露に曝す。

この試験では、試料は、50℃で湿り大気中４時間、次
いで70℃で紫外線下８時間の反復周期の条件の屋外暴露
に処す。

これらパネルをQUV暴露装置中に暴露し、透明塗膜が
亀裂するまでの時間を測定する。

実施例19 実施例18の熱硬化アクリルエナメルは、ベンゾトリア
ゾール系紫外線吸収剤と本発明のいろいろのヒンダード
アミンを含有するように製剤化される。施用の前に銀金
属下塗り剤は３％のUVA（樹脂固体に基づく）で安定化
される。

エナメルは実施例18における手順に準じて塗布され、
焼付けは121℃で30分間行われる。

塗布されたパネルは、QUV暴露装置内で暴露され、塗
膜が亀裂するまでの時間が測定される。

実施例20 熱可塑性アクリルラッカーの安定化 市販の淡青色金属性の熱可塑性ラッカーが使用され
る。この物質を下表に示した量（全固形樹脂の重量に基
づく）のUVAとヒンダードアミン光安定剤（HALS）で安
定化され、次いでエポキシ樹脂で下塗りしたボンダーラ
イト（Bonderite）40パネルにスプレー施用する。常温
で２週間貯蔵した後、このパネルをキセノン−アーク−
ウェザーメーターに1250時間暴露する。パネルの60°光
沢値を表１に報告する。

実施例21 油性アルキッドエナメル媒体の安定化 葉のないアルミニウム顔料で着色し、淡青色に色彩を
つけた市販の油性アルキッドエナメル媒体を使用する。
この物質は表２に示した量（重量％）のUVAとヒンダー
ドアミン光安定剤（HALS）で安定化され、次いでエポキ
シ下塗り剤で塗布した冷間圧延スチールパネルに散布し
て施用する。室温で２週間にわたって塗膜を硬化した
後、該パネルをキセノン−アーク−ウェザーメーターに
840時間暴露する。パネルの20°光沢保持値を表２に報
告する。

実施例22 アクリル−アルキッド仕上げエナメルの安定化 葉のないアルミニウム顔料で着色し、淡青色に色彩を
つけた市販のアクリル−アルキッドエナメルを使用す
る。この物質は表３に示した量（重量％）のUVAとヒン
ダードアミン光安定剤（HALS）で安定化され、次いでア
ルキッド下塗り剤で塗布したボンダーライト（Bonderit
e）40パネルに散布して施用する。室温で14日間にわた
って塗膜を硬化した後、パネルを８ヶ月間の期間にわた
って南緯５°の地点で屋外暴露に処した。パネルの20°
光沢値が測定され、表３に報告されている。

実施例23 脂肪族イソシアナートで架橋されたアクリル−アルキ
ッド仕上げエナメルの安定化 脂肪族イソシアナートで硬化した市販の銀金属アクリ
ル−アルキッドエナメルを使用する。この物質は表４に
示した量（重量％）UVAとヒンダードアミン光安定剤（H
ALS）で安定化され、次いで黒色アルキル下塗り剤で塗
布したボンダーライト（Bonderite）40パネルに散布し
て施用する。塗膜を常温で２週間経時させた後、パネル
を21ヶ月間の期間にわたって南緯５°の地点で屋外暴露
に処した。パネルの20°光沢値が表４に報告されてい
る。

実施例24 ２成分のアクリル−ウレタンエナメルは、下表に示さ
れた量の紫外線吸収剤とヒンダードアミン光安定剤で安
定化される。

冷間圧延鋼鉄パネル〔10×30cmボンダーライト（Bond
erite）40〕を約１ミル（mil）厚の乾燥塗膜になるよう
に市販のエポキシ−ポリアミドの仕上げ下塗り剤で塗布
する。

下塗りしたパネルを常温で１−２日間貯蔵し、次いで
熱可塑性のアクリル−銀金属下地剤で約0.02ミリ厚にな
るように塗布する。下地塗布したパネルを30-40分間風
乾し、次いで安定化したエナメルで0.055mm厚になるよ
うに上塗りする。１週間常温で貯蔵した後、パネルをキ
セノン−アーク−ウェザーメーター中で促進（accelera
ted）ウェザーの暴露に処する。パネルの20°光沢値を
暴露中に測定する。

実施例25 ジエチル ２−（４−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン−１−オキシ）エチルホスホネ
ート 乾燥テトラヒドロフラン25ml中のカリウム第３ブトキ
シド0.12gのけん濁液に、４−ベンゾイルオキシ−１−
ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン3.0gを
添加する。10分間、室温で窒素下、溶液を攪拌した後、
ビニルホスホン酸ジエチル1.78gを添加する。24時間、
窒素下室温で、反応混合物を攪拌した後、減圧下溶媒を
留去する。残留分を水と塩化メチレンとの間で分配す
る。有機層を水、次いで食塩水で洗浄し、そして最後に
無水硫酸マグネシウム上乾燥し、次いで蒸発する。残留
分を液体クロマトグラフィーで精製して、無色の液体と
して表題の化合物が与える。核磁気共鳴（nmr）、遠赤
外線（ir）および質量スペクトラム（ms）による解析結
果は表題の化合物の構造と一致している。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０８Ｋ 5/5373 Ｃ０８Ｋ 5/5373 Ｃ０９Ｋ 3/00 １０４ Ｃ０９Ｋ 3/00 １０４Ｂ (72)発明者 ラマナサン ラヴィシャンドラン 米国、ニューヨーク 10954，ナヌエッ ト，ケンジントン コート ７ (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) C07D 211/94 ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ) ＣＡ（ＳＴＮ)

Claims (14)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】式ＩないしVIII 〔式中、G₁およびG₂は互いに独立して炭素原子数１ない
   し４のアルキル基を表すか； またはG₁とG₂が一緒になってペンタメチレン基を表し； R₁は水素原子、メチル基またはフェニル基を表し； R₂は水素原子またはメチル基を表し； R₃は水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基
   を表し； Ｘは炭素原子数１ないし18のアルコキシ基、−NH₂、−N
   HR₆、−N(R₆)₂または式 （式中、R₆は炭素原子数１ないし８のアルキル基または
   フェニル基を表し； R₇は炭素原子数１ないし18のアルキル基、炭素原子数５
   ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数２ないし18の
   アルケニル基、炭素原子数５ないし12のシクロアルケニ
   ル基、炭素原子数７ないし15のアラルキル基、飽和もし
   くは不飽和の、炭素原子数７ないし12の２環式もしくは
   ３環式炭化水素の基または炭素原子数６ないし10のアリ
   ール基、またはアルキル基により置換された該アリール
   基を表し； R₈は水素原子または炭素原子数１ないし８のアルキル基
   を表す）により表される基より成る群より選ばれた基を
   表し； R₄は水素原子またはメチル基を表し； R₅は水素原子またはメチル基を表し； Ｙは−Ｏ−、−NH−または−NR₉−または式 （式中、R₉は炭素原子数１ないし18のアルキル基を表
   す）により表される基を表し； Ｚは−NH−CO−NH−または−CH₂C(CH₃)₂CH₂−を表し； Ｌは−Ｏ−R₁₀−Ｏ−、−NH−R₁₀−NH−、−NR₈−R₁₀−
   NR₈−または式 （式中、R₁₀は炭素原子数２ないし18のアルキレン基ま
   たは炭素原子数６ないし10のアリーレン基を表す）によ
   り表される基を表し； Ｇは炭素原子数１ないし12のアルキレン基または炭素原
   子数６ないし10のアリーレン基を表し； Ｔは脂肪族、環状脂肪族もしくは芳香族酸のカルボキシ
   ル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、環状アルコキシ
   基、アラルコキシ基、脂肪族もしくは芳香族の、第１も
   しくは第２のアミンのまたはメラミンのまたはＮ−置換
   メラミンのアミニル基（aminyl radical）、脂肪族もし
   くは芳香族の、アミド、カルバミドもしくはカーバメイ
   トのアミジル基（amidyl radical）および飽和イミドの
   イミジル基（imidyl radical）からなる群から選ばれた
   ｎ一価の基を表すか； またはＴは1,3−ジオキソランもしくは1,3−ジオキサン
   環を形成する2n−価のアルコキシ２価基を表すか； またはＴはヒダントインもしくはＮ−置換されたヒダン
   トインの２価の基または2,2−置換の４−オキサゾリド
   ンの２価の炭素基を表し； ＥはＴと同じ定義を持ち；そして ｎは１ないし４の整数を表し； 但し、式Ｉにおいて、ｎが１を表し、Ｔはベンジルオキ
   シ基を表し、R₁、R₂およびR₃は各々水素原子を表す場合
   は、Ｘは−NH₂を表さないという条件； 式Ｉにおいて、ｎが１を表し、Ｔはベンゾイルオキシ基
   を表し、R₁、R₂およびR₃は各々水素原子を表す場合は、
   Ｘはメトキシ基を表さないという条件； 式Ｉにおいて、ｎが１を表し、Ｔはベンゾイルオキシ基
   を表し、Ｘはメトキシ基を表しそしてR₃は水素原子を表
   す場合、R₁またはR₂はメチル基を表さないという条件に
   従う〕の構造式の一つを持つ化合物。
2. 【請求項２】G₁およびG₂が各々メチル基を表す請求項
   （１）記載の化合物。
3. 【請求項３】R₁が水素原子またはメチル基を表す請求項
   （１）記載の化合物。
4. 【請求項４】R₂が水素原子またはメチル基を表す請求項
   （１）記載の化合物。
5. 【請求項５】Ｘが炭素原子数１ないし12のアルコキシ基
   を表すかまたは式 （式中、R₇は炭素原子数１ないし12のアルキル基または
   シクロヘキシル基を表す）により表される基を表す請求
   項（１）記載の化合物。
6. 【請求項６】R₈が水素原子を表す請求項（１）記載の化
   合物。
7. 【請求項７】R₄およびR₅が各々水素原子を表す請求項
   （１）記載の化合物。
8. 【請求項８】式III中、Ｙが式 （式中、R₇は炭素原子数１ないし12のアルキル基または
   シクロヘキシル基を表す）により表される基を表し； 式IV中、Ｚが−NHCONH−を表し； 式Ｖ中、Ｌが−Ｏ−R₁₀−Ｏ−（式中、R₁₀は炭素原子数
   ２ないし12のアルキレン基を表す）を表し； 式VIII中、Ｇはｏ−フェニレン基、ｍ−フェニレン基ま
   たはｐ−フェニレン基を表す請求項１記載の化合物。
9. 【請求項９】（ａ）合成ポリマー、および （ｂ）安定化する量の、請求項（１）で定義された式Ｉ
   ないしVIIIの一つの構造式を持つ化合物を含有する、化
   学線の有害な影響に対して安定化された組成物。
10. 【請求項１０】合成ポリマーがポリオレフィンである
    か、またはアルキッド、アクリル、アクリル−アルキッ
    ド、ポリエステル、エポキシド、ウレタン、ポリアミ
    ド、ビニルまたはエポキシ−ポリエステル樹脂を基材に
    した塗装系である請求項（９）記載の組成物。
11. 【請求項１１】式IX （式中、Ｔは脂肪族、環状脂肪族もしくは芳香族酸のカ
    ルボキシル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、環状ア
    ルコキシ基、アラルコキシ基、脂肪族もしくは芳香族
    の、第１もしくは第２アミンのまたはメラミンのまたは
    Ｎ−置換メラミンのアミノ基（aminyl radical）、脂肪
    族もしくは芳香族の、アミド、カルバミドもしくはカー
    バメイトのアミド基（amidyl radical）および飽和イミ
    ドのイミド基（imidyl radical）からなる群から選ばれ
    たｎ−価の基を表すか； またはＴは1,3−ジオキソランもしくは1,3−ジオキサン
    環を形成する2n−価のアルコキシ２価基を表すか； またはＴはヒダントインもしくはＮ−置換されたヒダン
    トインの２価の基または2,2−置換の４−オキサゾリド
    ンの２価の炭素基を表し； ｎは１ないし４を表し； G₃およびG₄は互いに独立して炭素原子数１ないし４のア
    ルキル基を表すか； またはG₃およびG₄は一緒になってペンタメチレン基を表
    し；そして T₁とT₂は互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし
    36のアルキル基、炭素原子数５ないし12のシクロアルキ
    ル基、炭素原子数７ないし９のアラルキル基または炭素
    原子数１ないし36のアルキル基により置換された該アラ
    ルキルを表す）により表される化合物、またはそれらの
    アルカリ金属またはアルカリ土類金属塩。
12. 【請求項１２】Ｔが１価であり、ｎが１を表し； そしてG₃とG₄が各々メチル基を表す請求項（11）記載の
    化合物。
13. 【請求項１３】T₁およびT₂が互いに独立して炭素原子数
    １ないし18のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘ
    キシル基、ベンジル基、α−メチルベンジル基または
    α，α−ジメチルベンジル基をを表す請求項（11）記載
    の化合物。
14. 【請求項１４】（ａ）合成ポリマー、および （ｂ）安定化する量の、請求項（11）記載の式IXにより
    表される化合物を含有する、化学線の有害な影響に対し
    て安定化された組成物。