JP2879160B2 - ヒンダードアミン置換ｓ―トリアジンのＮ―ヒドロカルビルオキシ誘導体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は新規なトリアジン誘導体および広範囲の物質
を光誘起の崩壊に対して安定化するためのその使用法に
関する。

（従来の技術、発明が解決しようとする課題） 合成ポリマーは、日光または他の紫外線放射源に曝露
したとき、その物質的性質において漸進的な変化、例え
ば色変化および機械的特性の損失を受けることは知られ
ている。ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、アクリ
ル酸誘導体、オキサニリド、アリール−ｓ−トリアジ
ン、ニッケル錯体および立体障害アミンを含め、多種類
の添加剤が崩壊を遅延するために提案されそして利用さ
れてきた。

後者の代表的な例は、例えばU.S.4,344,876,U.S.4,42
6,471およびU.S.4,426,472において、塗料安定化の文脈
において挙げられている。

立体障害アミノの中には種々の（テトラアルキル−４
−ピペリジル）アミノ−トリアジン誘導体が含まれる。
参照は、この領域において代表的な開示であるところの
U.S.3,925,376,U.S.4,086,204,U.S.4,108,829,U.S.4,47
7,615,U.S.4,533,688およびU.S.4,547,548についてなし
うる。これらヒンダードアミン光安定剤は、ヒンダーア
ミンの窒素原子に直接置換されたＯ−置換部を有する構
造を持つものでない。

別のヒンダードアミン置換トリアジン誘導体の開示の
ためには、Ｎ−未置換およびＮ−アルキル置換2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン−４−イルオキシ−1,3,5−
トリアジン誘導体は、U.S.4,314,933およびU.S.4,426,4
71において注目される。

（課題を解決するための手段、発明の効果） 本発明の化合物は、次式I,IIまたはIII （式中、Ｔは を表わし、 Ｒは水素原子またはメチル基を表わし、 R¹は炭素原子数１ないし18のアルキル基、炭素原子数
２ないし18のアルケニル基、炭素原子数２ないし18のア
ルキニル基、炭素原子数５ないし12のシクロアルキル
基、炭素原子数５ないし12のシクロアルケニル基、炭素
原子数６ないし10のビシクロアルキル基、炭素原子数６
ないし10のアリール基、炭素原子数７ないし12のアルア
ルキル基または炭素原子数１ないし12のアルキル基もし
くは炭素原子数６ないし10のアリール基により置換され
た炭素原子数７ないし12のアルアルキル基を表わし、 R²は水素原子、炭素原子数１ないし12のアルキル基ま
たは を表わし、 Ｙは直接結合または を表わし、 m,pおよびｑは独立して２ないし６を表わし、 Ａは酸素原子、硫黄原子または−Ｎ（R²）−を表わ
し、 ｎは２ないし４を表わし、そして R³はｎ価アルカンまたはアリール基を表わす。）で表
わされる。

アルキル基は好ましくは炭素原子数１ないし12のもの
を表わしそしてメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル
基、ドデシル基並びにオクタデシル基を含む。シクロア
ルキル基は好ましくはシクロペンチル基およびシクロヘ
キシル基を表わす。アルケニル基は好ましくはビニル基
およびアリル基を表わし、一方アルキニル基は好ましく
はプロパルギル基を表わす。アリール基は好ましくはフ
ェニル基、ナフチル基およびトリル基を表わし、一方ア
ルアルキル基は好ましくはベンジル基、α−メチルベン
ジル基およびα，α−ジメチルベンジル基を表わす。

R¹は最も好ましくはメチル基、ヘプチル基、オクチル
基およびシクロヘキシル基を表わす。R²は最も好ましく
は水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基そ
して特に水素原子またはｎ−ブチル基を表わす。

式IIの化合物については、Ｙが直接結合または置換ト
リアジン基を表わすとともにm,pおよびｑは好ましくは
2,3または６を表わす。

式IIIの化合物については、Ａは好ましくは酸素原子
または−Ｎ（R²）−（R²は上記と同じ好ましいものを表
わす。）を表わす。ｎが２を表わす場合、R³は好ましく
は、メチレン基、ニチレン基およびヘキサメチレン基を
含む炭素原子数１ないし12の直鎖または枝分れ鎖アルキ
レン基、炭素原子数２ないし６のアルキリデン基、炭素
原子数５ないし10のシクロアルキレン基、フェニレン
基、キシリレン基およびナフチレン基を含む炭素原子数
６ないし10のアリーレン基、または炭素原子数８ないし
10のアルキレンアリーレンアルキレン基を表わす。Ａが
酸素原子かつR³がｐフェニレン基を表わし、またＡが−
NH−かつR³がエチレン基またはヘキサメチレン基を表わ
すのが特に好ましい。

ｎが３を表わす場合、R³は好ましくは炭素原子数３な
いし６のアルカントリイル基例えばグリセリル基もしく
はトリメチリルプロパン基、または炭素原子数６ないし
10のアリール−トリイル基を表わす。

ｎが４を表わす場合、R³は好ましくは炭素原子数４な
いし６のアルカンテトライル基例えばペンタエリスリチ
ル基または炭素原子数６ないし10のアリール−テトライ
ル基を表わす。

三価および四価の基は、 を含む。

本発明の化合物は、シアヌル酸塩化物またはシアヌル
酸塩化物の誘導体を４−ヒドロキシ−１−ヒドロカルビ
ルオキシ−2,2,6,6−テトラアルキルピペリジンと、不
活性溶媒例えばアセトン、メチルエチルケトン、ジオキ
サン、テトラヒドロフロン、キシレン、および同様のも
のを用い、そして強塩基例えば水素化ナトリウムの存在
下で反応させることにより製造することができる。

米国特許第4,665,185号は、適当なペルオキシ化合物
例えば過酸化水素および金属酸化物触媒を用いたヒンダ
ードアミンの酸化、と続いて接触水素添加によるＮ−ヒ
ドロキシピペリジンの製造法を教示する。Ｎ−ヒドロキ
シ化合物は水素化ナトリウムとハロゲン化炭化水素の反
応によりアルキル化することができる。

Ｎ−ヒドロカルビル化合物を作る好ましい方法は、ヒ
ンダードアミンまたはそのＮ−オキシル誘導体の炭化水
素溶液（とりわけ、シクロヘシサン、ヘプタン、オクタ
ン、ノナンまたはエチルベンゼンのような炭化水素を用
いると有効である。）と第三ブチルヒドロペルオキシド
および金属酸化物触媒との反応を伴う。参照EP−Ａ−30
9 402。

これら化合物を製造するのに必要な出発物質は、商業
品目であるかまたは公知の方法により製造することがで
きる。

本出願は、2,2,6,6−テトラアルキルピペリジン構造
を強調するものであるが、本発明は以下のテトラアルキ
ル置換ピペラジンまたはピペラジノン部分が上述のテト
ラアルキルピペリジン部分に置き換わる化合物にも関す
ることに留意すべきである。

（式中、ＭとＹは互いに独立してメチレン基またはカル
ボニル基を表し；好ましくはＭはメチレン基を表わし、
Ｙはカルボニル基を表わす。） かかる化合物に適用できると確認された置換基は、環
の窒素原子上の置換に適当なものであると理解されるべ
きである。

本発明の化合物が特に有用であるところの支持体は、
ポリエチレンおよびポリプロピレンのようなポリオレフ
ィン；特に耐衝撃ポリスチレンを含むポリスチレン;ABS
樹脂；例えばブタジエンゴム、EPM,EPDM,SBRおよびニト
リルゴムのようなエラストマーである。

安定化され得るポリマーの例は一般に以下のものを包
含する： 1. モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−
１、ポリメチルペンテン−１、ポリイソプレンまたはポ
リブタジエン、並びにシクロオレフィン例えばシクロペ
ンテンまたはノルボルネンのポリマー、（所望により架
橋結合できる）ポリエチレン、例えば高密度ポリエチレ
ン（HDPE）、低密度ポリエチレン（LDPE）および線状低
密度ポリエチレン（LLDPE）。

2. 1.に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロピ
レンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレンと
ポリエチレンとの混合物（例えばPP/HDPE,PP/LDPE）お
よびポリエチレンの異なるタイプの混合物（例えばLDPE
/HDPE）。

3. モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニ
ルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレ
ンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（LLDPE）およ
びその低密度ポリエチレン（LDPE）との混合物、プロピ
レン／ブテン−１、エチレン／ヘキセン、エチレン／メ
チルペンテン、エチレン／ヘプテン、エチレン／オクテ
ン、プロピレン／イソブチレン、エチレン／ブテン−
１、プロピレン／ブタジエン、イソブチレン／イソブレ
ン、エチレン／アルキルアクリレート、エチレン／アル
キルメタクリレート、エチレン／ビニルアセテートまた
はエチレン／アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類
（アイオノマー）、およびエチレンとプロピレンとジエ
ン例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエ
チリデン−ノルボルネンとのターポリマー；並びに前記
コポリマーおよびそれらの混合物と1.に記載したポリマ
ーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロ
ピレン−コポリマー、LDPE/EVA,LDPE/EAA,LLDPE/EVAお
よびLLDPE/EAA。

3a. 炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）お
よびそれらの水素化変性物（例えば粘着付与剤。

4. ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチレン）、ポ
リ−（α−メチルスチレン）。

5. スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたは
アクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／ブタ
ジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／アル
キルメタクリレート、スチレン／無水マレイン酸、スチ
レン／ブタジエン／アルキルアクリレート、スチレン／
アクリロニトリル／メチルアクリレート；スチレンコポ
リマーと別のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエ
ンポリマーまたはエチレン／プロピレン／ジエンターポ
リマーからの高耐衝撃性混合物；およびスチレンのブロ
ックコポリマー例えばスチレン／ブタジエン／スチレ
ン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチ
レン／ブチレン／スチレンまたはスチレン／エチレン／
プロピレン／スチレン。

6. スチレンまたはαメチルスチレンのグラフトコポリ
マー、例えばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジエ
ン−スチレンまたはポリブタジエン−アクリロニトリル
にスチレン；ポリブタジエンにスチレンおよびアクリロ
ニトリル（またはメタアクリロニトリル）；ポリブタジ
エンにスチレンおよび無水マレイン酸またはマレインイ
ミド；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルお
よび無水マレイン酸またはマレインイミド；ポリブタジ
エンにスチレン、アクリロニトリルおよびメチルメタア
クリレート、ポリブタジエンにスチレンおよびアルキル
アクリレートまたはメタアクリレート、エチレン／プロ
ピレン／ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロ
ニトリル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレート
にスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート／ブ
タジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリ
ル、並びにこれらと5.に列挙したコポリマーとの混合
物、例えばABS−,MBS−,ASA−またはAES−ポリマーとし
て知られているコポリマー混合物。

7. ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、
煙素化ゴム、塩素化またはクロロスルホンポリエチレ
ン、エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、ハロ
ゲン含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリ
フッ化ビニリデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩
化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルま
たは塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー。

8. α，β−不飽和酸およびその誘導体から誘導された
ポリマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタアク
リレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニト
リル。

9. 前項8.に挙げたモノマー相互のまたは他の不飽和モ
ノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタ
ジエン、アクリロニトリル／アルキルアクリレート、ア
クリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレートまた
はアクリロニトリル／ハロゲン化ビニルコポリマーまた
はアクリロニトリル／アルキルメタアクリレート／ブタ
ジエンターポリマー。

10. 不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのア
シル誘導体またはそれらのアセタールから誘導されたポ
リマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエー
ト、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポ
リアリルフタレートまたはポリアリルメラミン；並びに
それらと上記1.に記載したオレフィンとのコポリマー。

11. 環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、
例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−グリ
シジルエーテルとのコポリマー。

12. ポリアセタール、例えばポリオキシメチレンおよ
びエチレンオキシドをコモノマーとして含むポリオキシ
メチレン；熱可塑性ポリウレタンで変性させたポリアセ
タール、アクリレートまたはMBS。

13. ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド並びに
ポリフェニレンオキシドとポリスチレンまたはポリアミ
ドとの混合物。

14. 一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエ
ーテル、ポリエステルまたはポリブタジエンと他方の成
分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとから
誘導されたポリウレタン並びにその前駆物質（ポリイソ
シアネート、ポリオールまたはプレポリマー）。

15. ジアミンおよびジカルボン酸および／またはアミ
ノカルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポ
リアミドおよびコポリアミド。例えばポリアミド４、ポ
リアミド６、ポリアミド6/6,6/10,6/9,6/12および4/6、
ポリアミド11、ポリアミド12、ｍ−キシレンジアミンお
よびアジピン酸の縮合によって得られる芳香族ポリアミ
ド；ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸または
／およびテレフタル酸および所望により変性剤としての
エラストマーから製造されるポリアミド、例えばポリ−
2,4,4−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミドま
たはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド。さらに、
前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマ
ー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグラフトし
たエラストマーとの別のコポリマー；またはこれらとポ
リエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロ
ピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコール
とのコポリマー。EPDMまたはABSで変性されたポリアミ
ドまたはコポリアミド。加工の間に縮合させたポリアミ
ド（RIM−ポリアミド系）。

16. ポリ尿素、ポリイミドおよびポリアミドイミド。

17. ジカルボン酸およびジオールおよび／またはヒド
ロキシカルボン酸または相当するラクトンから誘導され
たポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、
ポリブチレンテレフタレート、ポリ−1,4−ジメチロー
ル−シクロヘキサンテレフタレートおよびポリヒドロキ
シベンゾエート並びにヒドロキシ末端基を含有するポリ
エーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエステ
ル；およびポリカーボネートまたはMBSで編成されたポ
リエステル。

18. ポリカーボネートおよびポリエステル−カーボネ
ート。

19. ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリ
エーテルケトン。

20. 一方の成分としてアルデヒドおよび他方の成分と
してフェノール、尿素およびメラミンから誘導された架
橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹
脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン／ホル
ムアルデヒド樹脂。

21. 乾性および不乾性アルキド樹脂。

22. 飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコール
および架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステル
から誘導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性の
低いそれらのハロゲン含有変性物。

23. 置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリ
レート、ワレタン−アクリレートまたはポリエステル−
アクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。

24. メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネートま
たはエポキシ樹脂で架橋されたアルキド樹脂、ポリエス
テル樹脂またはアクリレート樹脂。

25. ポリエポキシド、例えばビス−グリシジルエーテ
ル、または脂環式ジエポキシドから誘導された架橋エポ
キシ樹脂。

26. 天然ポリマー、例えばセルロース、天然ゴム、ゼ
ラチンおよびこれらの化学的に変性させた重合同族体誘
導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース
および酪酸セルロースまたはセルロースエーテル、例え
ばメチルセルロース；ロジンおよびそれらの誘導体。

27. 前記したポリマーの混合物（ポリブレンド）、例
えばPP/EPDM、ポリアミド/EPDMまたはABS,PVC/EVA,PVC/
ABS,PVC/MBS,PC/ABS,PBTP/ABS,PC/ASA,PC/PBT,PVC/CPE,
PVC/アクリレート、POM/熱可塑性PUR,PC/熱可塑性PUR,P
OM/アクリレート、POM/MBS,PPO/HIPS,PPO/PA6.6および
コポリマー、PA/HDPE,PA/PP,PA/PPO。

28. 純単量体化合物またはその化合物からなる天然お
よび合成有機材料、例えば鉱油、動物および植物脂肪、
オイルおよびワックスまたは合成エステル（例えばフタ
レート、アジペート、ホスフェートまたはトリメリテー
ト）をベースとした上記オイル、脂肪およびワックス、
並びに合成エステルの適当な重量比で混合された鉱油と
の混合物で、その材料はポリマーのための繊維紡績油と
して並びにこのような材料の水性エマルジョンとして使
用され得る。

29. 天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例えば
カルボキシ化スチレン／ブタジエンコポリマーの天然ラ
テックス。

30. ポリシロキサン、例えば米国特許第4259476号に記
載された軟質親水性ポリシロキサン、および例えば米国
特許第4355147号に記載された硬質ポリオルガノシロキ
サン。

31. 不飽和アクリルポリアセトアセテートまたは不飽
和アクリル樹脂と組み合わせたポリケチミン。不飽和ア
クリル樹脂はペンダント不飽和基を有するウレタンアク
リレート、ポリエーテルアクリレート、ビニルまたはア
クリルコポリマーおよびアクリル化メラミンを包含す
る。ポリケチミンは酸触媒の存在下でのポリアミンとケ
トンとから製造される。

32. エチレン性不飽和モノマーまたはオリゴマーおよ
び多不飽和脂肪族オリゴマーを含有する放射線硬化性組
成物。

33. エポキシメラミン樹脂、例えばエポキシ官能性共
エーテル化ハイソリッドメラミン樹脂例えばLSE4103
（モンサント社製）により架橋された光安定性エポキシ
樹脂。

一般に、本発明の化合物は安定化される組成物の約0.
01ないい約５重量％使用されるが、しかしこれは特定の
基材および施用で変化するであろう。有利な範囲は約0.
5ないし約２％、そして特に0.1ないし約１％である。

この混合は、本発明の安定剤は、有機ポリマー中に、
当該分野で慣用の方法により成形の前のあらゆる段階で
容易に混入され得る。例えば安定剤は乾燥粉末の形態で
ポリマーと混合されてもよく、また安定剤の懸濁液また
はエマルジョンは、ポリマーの溶液、懸濁液またはエマ
ルジョンと混合され得る。本発明の生成した安定化ポリ
マー組成物は、以下に示すような種々の慣用の添加剤を
所望により添加することもできる。

1. 酸化防止剤 1.1 アルキル化モノフェノール、例えば 2,6−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、 ２−第三ブチル−4,6−ジメチルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、 2,6−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、 ２−（α−メチルシクロヘキシル）−4,6−ジメチルフ
ェノール、 2,6−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、 2,4,6−トリシクロヘキシルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノー
ル、 2,6−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、 1,2 アルキル化ハイドロキノン、例えば 2,6−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、 2,5−ジ−第三ブチルハイドロキノン、 2,6−ジ−フェニル−４−オクタデシルオキシフェノー
ル。

1,3 ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル例えば、 2,2′−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノ
ール）、 2,2′−チオビス（４−オクチルフェノール）、 4,4′−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノ
ール、 4,4′−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノ
ール）。

1.4 アルキリデンビスフェノール、例えば 2,2′−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフ
ェノール）、 2,2′−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフ
ェノール）、 2,2′−メチレンビス〔４−メチル−６−（α−メチル
シクロヘキシル）フェノール〕、 2,2′−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシ
ルフェノール）、 2,2′−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノ
ール）、 2,2′−メチレンビス（4,6−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、 2,2′−エチリデンビス（4,6−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、 2,2′−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブ
チルフェノール）、 2,2′−メチレンビス〔６−（α−メチルベンジル）−
４−ノニルフェノール〕、 2,2′−メチレンビス〔６−（α，α−ジメチルベンジ
ル）−４−ノニルフェノール〕、 4,4′−メチレンビス（2,6−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、 4,4′−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチルフ
ェノール）、 1,1−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メ
チルフェニル）ブタン、 2,6−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロ
キシベンジル）−４−メチルフェノール、 1,1,3−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２
−メチルフェニル）ブタン、 1,1−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メ
チルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、 エチレングリコールビス〔3,3−ビス（３′−第三ブチ
ル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート〕、 ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフ
ェニル）ジシクロペンタジエン、 ビス〔２−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−
５′−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチル
フェニル〕テレフタレート。

1.5 ベンジル化合物、例えば 1,3,5−トリス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）−2,4,6−トリメチルベンゼン、 ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）スルフィド、 イソオクチル3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジルメルカプトアセテート、 ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−2,6−ジメチ
ルベンジル）ジチオテレフタレート、 1,3,5−トリス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルイソシアヌレート、 1,3,5−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−2,6
−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、 ジオクタデシル3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート、 モノエチル3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ジルホスホネートのカルシウム塩、 1,3,5−トリス（3,5−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキ
シベンジル）イソシアヌレート。

1.6 アシルアミノフェノール、例えば ラウリン酸４−ヒドロキシアニリド、 ステアリン酸４−ヒドロキシアニリド、 2,4−ビス（オクチルメルカプト）−６−（3,5−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−ｓ−トリアジ
ン、 オクチルＮ−（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）−カルバメート。

1.7 β−（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオン酸の以下の一価または多価アルコールと
のエステル、 アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6−ヘ
キサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチル
グリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレ
ート、チオジエチレングリコール、N,N′−ビス（ヒド
ロキシエチル）シュウ酸ジアミド。

1.8 β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メ
チルフェニル）プロピオン酸の以下の一価または多価ア
ルコールとのエステル、 アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6−ヘ
キサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチル
グリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレ
ート、チオジエチレングリコール、N,N′−ビス（ヒド
ロキシエチル）シュウ酸ジアミド。

1.9 β−（3,5−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロピオン酸の以下の一価または多価アルコー
ルとのエステル、 アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6−ヘ
キサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチル
グリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレ
ート、チオジエチレングリコール、N,N′−ビス（ヒド
ロキシエチル）シュウ酸ジアミド。

1.10 β−（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオン酸のアミド、例えば N,N′−ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、 N,N′−ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、 N,N′−ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル）ヒドラジン。

2. 紫外線吸収剤および光安定剤 2.1 ２−（２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリア
ゾール、例えば、 ５′メチル、３′,5′−ジ−第三ブチル−、５′−第
三ブチル−、５′−（1,1,3,3−テトラメチルブチル）
−、５−クロロ−３′,5′−ジ−第三ブチル−、５−ク
ロロ−３′−第三ブチル−５′−メチル−、３′−第二
ブチル−５′−第三ブチル:4′−オクトキシ−、３′,
5′−ジ−第三アミルおよび３′,5′−ビス（α，α−
ジメチルベンジル）誘導体。

2.2 ２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン、例えば ４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクトキシ
−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−
ベンジルオキシ−、4,2′,4′−トリヒドロキシ−およ
び２′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシ誘導体。

2.3 置換されたおよび非置換安息香酸のエステル、例
えば ４−第三ブチルフェニルサリチレート、 フェニルサリチレート、 オクチルフェニルサリチレート、 ジベンゾイルレゾルシノール、 ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、 ベンゾイルレゾルシノール、 2,4−ジ−第三ブチルフェニル3,5−ジ−第三ブチル−４
−ヒドロキシベンゾエート、および 3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。

2.4 アクリレート、例えば α−シアノ−β，β−ジフェニル−アクリル酸エチルエ
ステル、 α−シアノ−β，β−ジフェニル−アクリル酸イソオク
チルエステル、 α−カルボメトキシ−桂皮酸メチルエステル、 α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸メチル
エステル、 α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸ブチル
エステル、 α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ桂皮酸メチルエステ
ル、および Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−
メチルインドリン。

2.5 ニッケル化合物、例えば 2,2′−チオビス−〔４−（1,1,3,3−テトラメチルブ
チル）−フェノール〕のニッケル錯体、例えば1:1また
は1:2錯体であって、所望によりｎ−ブチルアミン、ト
リエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシル−ジ−
エタノールアミンのような他の配位子を伴うもの、ニッ
ケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロキシ−3,
5−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノアルキルエ
ステル、例えばメチルもしくはエチルエステルのニッケ
ル塩、２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウンデシ
ルケトキシムのようなケトキシムのニッケル錯体、１−
フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシ−ビラゾー
ルのニッケル錯体であって、所望により他の配位子を伴
うもの。

2.6 立体障害性アミン、例えば ビス（2,2,6,6−テトラメチルピペリジル）セバケー
ト、 ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル）セバケー
ト、 ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル）ｎ−ブチ
ル−3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマ
ロネート、 １−（２−ヒドロキシエチル）−2,2,6,6−テトラメチ
ル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成
物、 N,N′−ビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ
−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンとの縮合生成物、 トリス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）ニ
トリロトリアセテート、 テトラキス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、 1,1′−（1,2−エタンジイル）−ビス（3,3,5,5−テト
ラメチルピペラジノン）。

2.7 シュウ酸ジアミド、例えば 4,4′−ジ−オクチル−オキシオキサニリド、 2,2′−ジ−オクチルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチルオ
キサニリド、 2,2′−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチルオ
キサニリド、 ２−エトキシ−２′−エチルオキサニリド、 N,N′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル−オキサル
アミド、 ２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−エチルオキサニ
リドおよび該化合物と２−エトキシ−２′−エチル−5,
4′−ジ−第三ブチル−オキサニリドとの混合物、 オルト−およびパラ−メトキシ−二置換オキサニリドの
混合物、および ｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合
物。

2.8 ２−（２−ヒドロキシフェニル）−1,3,5−トリア
ジン、例えば 2,4,6−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシ
フェニル）−1,3,5−トリアジン、 ２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）
−4,6−ビス（2,4−ジメチルフェニル）−1,3,5−トリ
アジン、 ２−（2,4−ジヒドロキシフェニル）−4,6−ビス（2,4
−ジメチルフェニル）−1,3,5−トリアジン、 2,4−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェ
ニル）−６−（2,4−ジメチルフェニル）−1,3,5−トリ
アジン、 ２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）
−4,6−ビス（４−メチルフェニル）−1,3,5−トリアジ
ン、 ２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）
−4,6−ビス（2,4−ジメチルフェニル）−1,3,5−トリ
アジン。

3. 金属不活性化剤、例えば N,N′−ジフェニルシュウ酸ジアミド、 Ｎ−サリチラル−Ｎ′−サリチロイルヒドラジン、 N,N′−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、 N,N′−ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル）ヒドラジン、 ３−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリアゾール、 ビス（ベンジリデン）オキサロジヒドラジン。

4. ホスフィットおよびホスホナイト、例えば トリフェニルホスフィット、 ジフェニルアルキルホスフィット、 フェニルジアルキルホスフィット、 トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、 トリラウリルホスフィット、 トリオクタデシルホスフィット、 ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、 トリス（2,4−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィッ
ト、 ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、 ビス（2,4−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリ
トールジホスフィット、 トリステアリルソルビトールトリホスフィット、 テトラキス（2,4−ジ−第三ブチルフェニル）4,4′−ビ
フェニレンジホスホナイト、 3,9−ビス（2,4−ジ−第三ブチルフェノキシ）−2,4,8,
10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ〔5.5〕ウン
デカン。

5. 過酸化物スカベンジャー、例えば β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリ
ル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステ
ル、 メルカプトベンズイミダゾール、または ２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、 ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、 ジオクタデシルジスルフィド、 ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカ
プト）プロピオネート。

6. ヒドロキシルアミン、例えば N,N−ジベンジルヒドロキシルアミン、 N,N−ジエチルヒドロキシルアミン、 N,N−ジオクチルヒドロキシルアミン、 N,N−ジラウリルヒドロキシルアミン、 N,N−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、 N,N−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、 N,N−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、 Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミ
ン、 Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミ
ン、 水素化タロウアミンから誘導されるN,N−ジアルキルル
ヒドロキシルアミン。

7. ポリアミド安定剤、例えば ヨウ化物および／またはリン化合物と組合せた銅塩、
および二価マンガンの塩。

8. 塩基性補助安定剤、例えば メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミ
ン、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン
誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、 高級脂肪酸のアルカリ金属およびアルカリ土類金属
塩、例えばCaステアレート、Znステアレート、Mgステア
レート、NaリシノレートおよびＫパルミテート、 ピロカテコール酸アンチモン、または ピロカテコール酸亜鉛。

9. 核剤、例えば ４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢
酸。

10. 充填剤および強化剤、例えば 炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベス
ト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化
物および水酸化物、カーボンブラック、グラファイト。

11. その他の添加剤、例えば 可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤、静
電防止剤、発泡剤およびチオ相乗剤例えばジラウリルチ
オジプロピオネートまたはジステアリルチオジプロピオ
ネート。

特に興味のあるのは、常温硬化および酸触媒塗布系を
含む塗布系の多様における本誘導体の利用である。

特に塗膜の物理的結合度は、光沢の消失度と黄変度に
おける顕著な減少を伴って高い程度に維持される。

主な改良点は、Ｎ−アルキルヒンダードアミン系光安
定剤の使用により硬化の減退が実質的に無くなること；
凝集と分散の不安定化が、Ｎ−アルキルヒンダードアミ
ンがある種の着色塗布系に利用される場合に観察される
ように実質的に無くなること；そして塗膜とポリカーボ
ネート基材の間の接着の損失が無くなることを含む。

従って本発明は、光線、湿気および酸素の分解的な影
響を対して、アルキッド樹脂；熱可塑性アクリル樹脂；
アクリルアルキッド；所望によりシリコーン、イソシア
ナート、イソシアヌレート、ケチミンもしくはオキサゾ
リジンで改質されたアクリルもしくはポリエステルアル
キッド；およびカルボン酸、酸無水物、ポリアミンもし
くはメルカプタンで架橋されたエポキシ樹脂；および主
鎖構造において反応性基により改質されそしてエポキシ
ドにより架橋されたアクリルおよびポリエステル樹脂系
を基材にした常温硬化塗膜を安定化するための、所望に
より更に他の安定剤と共の、本化合物の使用にも関す
る。

更に、その工業的用途において、架橋性のアクリル、
ポリエステル、ウレタンまたはアルキッド樹脂を基材に
したハイソリッド内容物のエナメルは、酸触媒を追加し
て硬化される。塩基性窒素基を含有光安定剤は、この適
用において満足できるものではない。

酸触媒と光安定剤との塩の形成は、塩の不相溶性もし
くは不溶性および沈澱を招き、そして硬化の度合いが減
少し、光保護作用が減少し、湿気に対する抵抗性が不良
になる事態を招く。

これらの酸触媒焼付ラッカーは、熱架橋性のアクリ
ル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミドまたはア
ルキッド樹脂を基材にしている。

本発明に従って光線、湿気および酸素に対して安定化
できるアクリル樹脂ラッカーは、常用されるアクリル樹
脂焼付ラッカーまたは熱硬化樹脂である。これらの樹脂
は、例えばハー．キッテル著「レールブーフ デア ラ
ッケ ウント ベシヒトング」巻１、２部、735と742頁
（ベルリン1972）；「ラックングスハルシェ」（197
7）、ハー．ワグナーおよびハー．エフ．ザルクス著、2
29−238頁；およびエス．パウル′ス著「サーフェイス
コーティング：サイエンス アンド テクノロジー」
（1985）に記載のアクリル／メラミン系を含む。

光線と湿気の作用に対して安定化できるポリエステル
ラッカーは、例えば上述のハー．ワグナーおよびハー．
エフ．ザルクス著の文献86−99頁に記述されている常用
の焼付ラッカーである。

本発明に従って、光線と湿気の作用に対して安定化で
きるアルキッド樹脂ラッカーは、特に自動車の塗装に使
用される常用の焼付ラッカー（自動車仕上用ラッカー）
である。これらのラッカーは例えば、アルキッド／メラ
ミン樹脂およびアルキッド／アクリル／メラミン樹脂を
基材にしている（上述のハー．ワグナーおよびハー．エ
フ．ザルクス著の文献99−123頁を参照）。

他の架橋剤は、グリコウリル（glycouril）樹脂、ブ
ロックとイソシアナートまたはエポキシ樹脂を含む。

本発明に従って安定化される酸触媒焼付ラッカーは、
金属仕上げ塗装および固体色仕上げの両方、特に修正仕
上げ、並びにいろいろなコイル塗装適用に適している。

本発明に従って安定化されたラッカーは、２法、即ち
一回塗装または二回塗装の方法のどちらでも、慣用の方
法で適用するのが好ましい。後者の方法では、顔料含有
の下塗り塗装が先ず行われ、次いで、下塗り層に被せて
透明ラッカーの被覆塗装が行われる。

本発明の置換ヒンダードアミンは、所望によりシリコ
ーン、イソシアナートまたはイソシアヌレートにより改
質されているエポキシ、エポキシ−ポリエステル、ビニ
ル、アルキッド、アクリルおよびポリエステル樹脂のよ
うな非−酸触媒熱硬化樹脂における使用のために適用で
きることにも注目すべきである。エポキシ−およびエポ
キシ−ポリエステル樹脂は酸、酸無水物、アミン、並び
に同様のもののような常用の架橋剤で架橋されている。

従って、エポキシ樹脂は、主鎖構造上の反応性基の存
在により改質されたいろいろのアクリルまたはポリエス
テル樹脂系のための架橋剤として使用されてよい。

このような塗料において最高の光安定性を達成するた
めに、他の常用の光安定剤の共用は有利であり得る。

この例は、上述したベンゾフェノン、ベンゾトリアゾ
ール、アクリル酸誘導体、またはオキサニリド型、また
はアリール−ｓ−トリアジンまたは金属−含有光安定
剤、例えば有機ニッケル化合物の紫外線吸収剤である。

二回塗装系では、これらの追加の光安定剤は透明塗膜
および／または着色下塗りに添加できる。

もしもこのような組み合わせが取られるならば、全て
の光安定剤の量は、塗層（film）を形成する樹脂に基づ
いて、0.2ないし20重量％、好ましくは0.5ないし５重量
％である。

上述のピペリジン化合物と一緒にして、本組成物に使
用されてもよい紫外線吸収剤の異種の類は、ジェー．ヘ
ラー著の「ヨーロピアン・ポリマー・ジャーナル・サブ
リメント、1969、105−132頁」に参照される。これらの
類は、サリチル酸フェニル、ｏ−ヒドロキシベンゾフェ
ノン、ヒドロキシキサントン、ベンゾキサゾール、ベン
ズイミダゾール、オキサジアゾール、トリアゾール、ピ
リミジン、キナゾリン、ｓ−トリアジン、ヒドロキシフ
ェニル−ベンゾトリアゾール、アルファーシアノアクリ
レートおよびベンゾエート等である。

特に重要な紫外線吸収剤の例は下記の通りである： （ａ）２−（２′−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリ
アゾール類、例えば５′−メチル、３′,5′−ジ第三ブ
チル−、５′−第三ブチル、５′−（1,1,3,3−テトラ
メチルブチル）−、５−クロロ−３′、５′−ジ第三ブ
チル−、５−クロロ−３′−第三ブチル−５′−メチル
−、３′−sec−ブチル−５′−第三ブチル−、４′−
オクトキシ−、および３′,5′−ジ第三アミル誘導体。

（ｂ）２−ヒドロキシベンゾフェノン類、例えば４−ヒ
ドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクトキシ−、４−
デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−ベンジル
オキシ−、4,2′,4′−トリヒドロキシ−および２′−
ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシ誘導体。

（ｃ）アクリレート、例えば、アルファ−シアノ−β，
β−ジフェニル−アクリル酸エチルエステルもしくはイ
ソオクチルエステル、アルファ−カルボメトキシ−ケイ
皮酸メチルエステル、アルファ−シアノ−β−メチル−
ｐ−メトキシケイ皮酸メチルエステルもしくはブチルエ
ステル、アルファ−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ−ケ
イ皮酸メチルエステル、Ｎ−（β−カルボメトキシ−β
−シアノビニル）−２−メチル−インドリン。

（ｄ）ニッケル化合物、例えば2,2′−チオビス−［４
−（1,1,3,3−テトラメチルブチル）−フェノール］、
1:1もしくは1:2錯塩であって、所望によりｎ−ブチルア
ミン、トリエタノールアミンまたはＮ−シクロヘキシル
−ジエタノールアミンのような追加の配位子のもつも
の；ジブチルジチオカルバミン酸ニッケル塩;4−ヒドロ
キシ−3,5−ジ第三ブチルベンジルホスホン酸のメチ
ル、エチルもしくはブチルエステルのようなモノアルキ
ルエステルのニッケル塩;2−ヒドロキシ−４−メチルフ
ェニルウンデシルケトノキシムのようなケトオキシムの
ニッケル錯塩;1−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒド
ロキシ−ピラゾールのニッケル錯塩で所望により追加の
配位子のあるもの。

（ｅ）オキサジアミド、例えば4,4′−ジ−オクチルオ
キシオキサニリド、2,2′−ジ−オクチルオキシ−5,5′
−ジ第三ブチル−オキサニリド、2,2′−ジ−ドデシル
オキシ−5,5′−ジ第三ブチル−オキサニリド、２−エ
トキシ−２′−エチル−オキサニリド、N,N′−ビス−
（３−ジメチルアミノプロピル）−オキサミド、２−エ
トキシ−５−第三ブチル−２′−エチル−オキサニリド
およびその２−エトキシ−２′−エチル−5,4′−ジ第
三ブチル−オキサニリドとの混合物およびｏ−およびｐ
−メトキシ−並びにｏ−およびｐ−エトキシ−ジ置換オ
キサニリドの混合物。

（ｆ）2,6−ビス（2,4−ジメチルフェニル）−４−（２
−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−ｓ−ト
リアジンまたはそれに相応する４−（2,4−ジヒドロキ
シフェニル）誘導体のようなヒドロキシフェニル−ｓ−
トリアジン類。

本組成物中において特に価値あるものは、２−［２−
ヒドロキシ−3,5−ジ（α，α−ジメチルベンジル）−
フェニル］−2H−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒド
ロキシ−3,5−ジ第三オクチルオキシフェニル）−2H−
ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−α，
α−ジメチルベンジル）−５−第三オクチルフェニル）
−2H−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−第
三オクチル−５−α，α−ジメチルベンジル）−2H−ベ
ンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−3,5−ジ第
三アミルフェニル）−2H−ベンゾトリアゾール、２−
［２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−（２−（ω−
ヒドロキシ−オクタ−（エチレンオキシ）カルボニル）
−エチルフェニル］−2H−ベンゾトリアゾール、２−
（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−2H−ベンゾ
トリアゾールのドデシル化物、２−［２−ヒドロキシ−
３−第三ブチル−５−（２−オクチルオキシカルボニ
ル）エチルフェニル］−2H−ベンゾトリアゾールおよび
上述したベンゾトリアゾール類の各々に対応する５−ク
ロロ化合物のような高分子量および低揮発性のベンゾト
リアゾールである。

本組成物に役立つベンゾトリアゾールで最も好ましい
ものは、２−［２−ヒドロキシ−3,5−ジ（α，α−ジ
メチルベンジル）−フェニル］−2H−ベンゾトリアゾー
ル、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−2H
−ベンゾトリアゾールのドテシル化物、２−［２−ヒド
ロキシ−３−第三ブチル−５−（２−（ω−ヒドロキシ
−オクタ−（エチレンオキシ）カルボニル）−エチルフ
ェニル］−2H−ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロ
キシ−３−第三ブチル−５−（２−オクチルオキシカル
ボニル）エチルフェニル］−2H−ベンゾトリアゾールお
よび５−クロロ−２−［２−ヒドロキシ−３−第三ブチ
ル−５−（２−オクチルオキシカルボニル）エチルフェ
ニル］−2H−ベンゾトリアゾールである。

本化合物が、フェノール性抗酸化剤、ヒンダードアミ
ン光安定剤、有機リン化合物、紫外線吸収剤およびこれ
らの混合物から成る群から選ばれた他の安定剤と関連し
て使用される時は、ポリオレフィン繊維、特にポリプロ
ピレン繊維のための安定剤として特に有効で有るだろう
ことも考えられる。

本発明の好ましい実施態様は、 （ａ）熱架橋性のアクリル、ポリエステルまたはアルキ
ッド樹脂を基材にした酸触媒熱硬化塗料またはエナメ
ル、 （ｂ）NO−Ｒ′−置換の2,2,6,6−テトラアルキルピペ
リジン化合物、および （ｃ）ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、アクリル
酸誘導体、有機ニッケル化合物、アリール−ｓ−トリア
ジンおよびオキサニリドから成る群から選ばれた紫外線
吸収剤を含有する安定化された組成物に係わる。

エナメルまたは塗料が含有できる更に他の成分は抗酸
化剤であり、例えば立体障害フェノール誘導体、ホスフ
ィット、ホスフィンもしくはホスホナイトのようなリン
化合物、可塑剤、均展助剤、硬化触媒、増粘剤、分散剤
または接着促進剤である。

他の好ましい本発明の実施態様は、追加成分（ｄ）と
してホスフィットまたはホスホナイトを含有する上述の
成分（ａ），（ｂ）および（ｃ）を含有する安定化され
た組成物である。

本組成物で使用されるホスフィットまたはホスホナイ
トの量は、層（塗膜）を形成する樹脂の重量に基づいて
0.05ないし２重量％、好ましくは0.1ないし１重量％で
ある。

二回塗装系では、これらの安定剤は透明塗膜および／
または下塗り層に添加できる。

典型的なホスフィットおよびホスホナイトは、亜リン
酸トリフェニルエステル、亜リン酸ジフェニルアルキル
エステル、亜リン酸フェニルジアルキルエステル、亜リ
ン酸トリ−（ノニルフェニル）エステル、亜リン酸トリ
ラウリルエステル、亜リン酸トリオクタデシルエステ
ル、亜リン酸ジ−ステアリル−ペンタエリスリット−ル
エステル、亜リン酸トリス−（2,4−ジ第三ブチルフェ
ニル）エステル、ジ−イソデシルペンタエリスリトール
ジホスフィット、ジ−（2,4−ジ第三ブチルフェニ
ル）ペンタエリスリトール ジホスフィット、トリステ
アリル−ソルビトール トリホスフィット、テトラキス
−（2,4−ジ第三ブチルフェニル）−4,4′−ジフェニレ
ンホスホナイト等を含む。

酸触媒熱硬化エナメルは、末端使用の適用に受容して
機能できるように安定化されていなければならない。使
用される安定剤は、ヒンダードアミン、好ましくは、硬
化における遅延が併存することになる。酸触媒により安
定化された塩基性アミンの沈澱を阻止するためにＮ−原
子上が不活性のブロック基により置換されているもので
あり、所望によりベンゾトリアゾール、ベンゾフェノ
ン、ベンゾフェノン、置換ｓ−トリアジン、フェニルベ
ンゾエートまたはオキサニリドのような紫外線吸収剤と
組み合わされる。

この安定剤は、硬化したエナメルに耐久性のより大き
い保持を付与することを要求される（20゜光沢、像の鮮
明度、亀裂またはチョーキングにより測定されるよう
に）； この安定剤は硬化を遅延さしてはいけない（自動車仕
上げのための121℃における普通の焼付と82℃における
低温焼付修理（硬度、接着度、耐溶媒と耐湿性により測
定されるように）； このエナメルは硬化において黄化してはならず、更に
光線への曝露における色の変化は最小にされなければな
らない。

この安定剤は、メチルアミルケトン、キシレン、酢酸
ｎ−ヘキシル、アルコール並びに同様のもののような塗
装に通常使用される有機溶媒に溶解しなければならな
い； 置換された−Ｏ−部分によりＮ−原子上が置換されて
いる本ヒンダードアミン光安定剤は、これらの要求を満
たし、それ単独でまたは紫外線吸収剤と組み合わせて、
硬化酸触媒熱硬化エナメルに対して顕著な光安定化保護
を提供する。

更にもう一つの本安定剤の好ましい組み合わせは、ポ
リプロピレン繊維をガス褪色から保護するためのヒドロ
キシアミンとの組み合わせである。

〔実施例〕

以下の実施例は、例示の目的だけに提供されたもので
あり、いかなる方法によるとしても本発明の性質と範囲
を限定するものと解釈されるべきではない。

実施例１ 2,4,6−トリス（１−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン−４−イルオキシ）−1,3,5−
トリアジン １−シクロヘキシルオキシ−４−ヒドロキシ−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン30.0g（0.117mol）、水素化
ナトリウム2.8g（0.117mol）、ジメチルスルホキシド数
滴、および1,4−ジオキサン150mlの混合物を２時間の間
還流加熱し、その後冷却せしめた。この混合物にジオキ
サン50ml中のシアヌル酸塩化物7.2g（0.039mol）の溶液
を15分かけて加えた。塩形成が観察され、そして反応温
度が添加のうちに20℃ないし50℃上昇する。その後反応
混合物を30分間還流加熱しそして室温にて一晩中撹拌し
た。塩を濾過により除去し、そして塩ケーキを水中でス
ラリーとしそして、生成物より塩を除去するため、ソリ
ッドを濾過した。粗生成物を弗騰メタノール中に溶解
し、そして残りの塩を濾過により取り除いた。別の生成
物をジオキサン濾過から回収した。粗製ソリッドを集め
て、還流する２−プロパノール中で加熱した。結果生じ
た懸濁液を冷却せしめ、そしてソリッドを濾過により単
離すると、標記化合物19.4g（59％収率）を与えた。白
色ソリッドで、融点242−245℃（分解）である。

分析 C₄₈H₈₄N₆O₆について計算値： C,68.5; H,10.1; N,10.0. 実測値:C,68.6; H, 9.9; N,10.0. 実施例２ 2,4.6−トリス（１−メトキシ−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−４−イルオキシ）−1,3,5−トリアジン ４−ヒドロキシ−１−メトキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン、水素化ナトリウム、および1,4−ジオ
キサン溶媒中のシアヌル酸塩化物の反応により、標記化
合物を製造した。

実施例３ 2,4,6−トリス（１−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−４−イルオキシ）−1,3,5−トリア
ジン ４−ヒドロキシ−１−オクチルオキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン、水素化ナトリウム、および1,4
−ジオキサン溶媒中のシアヌル酸塩化物の反応により、
標記化合物を製造した。

実施例４ N,N′−ジメチル−N,N′−ビス［2,4−ビス（１−シク
ロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−４−イルオキシ）−1,3,5−トリアジン−６−イル］
−1,6−ヘキサンジアミン １−シクロヘキシルオキシ−４−ヒドロキシ−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン22.6g（88.6mmol）、水素化
ナトリウム2.13g（88.6mmol）、および1,4−ジオキサン
150mlの混合物を2.5時間の間還流加熱した。反応混合物
を60℃に冷却しそしてジオキサン50ml中のN,N′−ジメ
チル−N,N′−ビス（2,4−ジクロロ−1,3,5−トリアジ
ン−６−イル）−1,6−ヘキサンジアミン7.8g（17.7mmo
l）の溶液で処理した。反応混合物を氷で急冷した。上
澄み液をデカントし、そして残渣を酢酸エチル（250m
l）中に溶解した。溶液を無水硫酸マグネシウム上で乾
燥しそしてガラス状になるまで濃縮した。溶離剤として
4:1ヘキサン：酢酸エチルを用いてシリカゲルの短カラ
ムの中に通して精製すると、標記化合物19.8g（85％収
率）、白色ガラスを与えた。

分析 C₇₄H₁₃₀N₁₂O₈について計算値： C,67.5; H,10.0; N,12.8. 実測値:C,67.6; H,10.3; N,12.4. 実施例５ 1,2−ビス｛〔2,4−ビス（１−シクロヘキシルオキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イルオキシ）
−1,3,5−トリアジン−６−イル〕チオ｝エタン 実施例４におけるN,N′−ジメチル−N,N′−ビス（2,
4−ジクロロ−1,3,5−トリアジン−６−イル）−1,6−
ヘキサンジアミンにつき、1,2−ビス［（2,4−ジクロロ
−1,3,5−トリアジン−６−イル）チオ］エタンに置き
換えることにより、標記化合物を製造した。

要するに、本発明は、一連の新規ヒンダード−アミン
置換トリアジン誘導体を提供するものであると理解され
る。特許請求の範囲により画定された本発明の範囲から
逸脱することなく、割合、手法および材料について変形
を行なってよい。

実施例６ ハイソリッド熱硬化性アクリル樹脂エナメルの安定化 ｐ−トルエンスルホン酸、ジノニルナフタレン ジス
ルホン酸またはドデシルベンゼンスルホン酸の酸触媒を
用い、２−ヒドロキシエチルアクリレート、ブチルアク
リレート、メチルメタクリレート、スチレンおよびアク
リル酸70重量％とメラミン樹脂30重量％からなるバイン
ダーをベースとする熱硬化性アクリル酸エナメルを、樹
脂ソリッドに基いて２重量％のベンゾトリアゾール紫外
線吸収剤および安定化有効量の試験ヒンダードアミン光
安定剤が含まれるように配合した。

市販で入手できるエポキシ下塗りの４″×12″（10.1
6cm×30.48cm）パネル（Advanced Coatings Technology
よりの一層下塗り）に、銀メタリック下塗りを約0.8mil
（0.023mm）の厚さに噴霧被覆しそして３分間空気乾燥
させた。その後安定化された熱硬化性アクリル樹脂エナ
メルを下塗りされた該パネル上に約1.7mil（0.049mm）
の厚さに噴霧した。15分間の空気乾燥の後、被覆された
シートを250゜F（121℃）で30分間焼付けた。

空調室中での１週間の貯蔵の後、被覆パネルをQUV曝
露装置中で試験方法ASTM G−53177に従って曝露した。
この試験において、湿潤雰囲気中50℃で４時間そしてそ
の後紫外光線下70℃で８時間というサイクルの繰返して
試料を曝露した。パネルをQUV中で1500時間曝露した。
試料の20゜光沢度を曝露の前後で測定した。

安定化パネルの光沢損失は未安定化の対照パネルのそ
れより相当に小さいものであった。

実施例７ ポリプロピレンの光安定化 この実施例は本安定剤の光安定化有効性を示すもので
ある。

ｎ−オクタデシル3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シヒドロシンナメート0.2重量％で安定化されたポリプ
ロピレン粉末（Himont Profax6501）を所定量の添加剤
と十分に混和した。その後ブレンド材料を二本ロールミ
ル上で182℃にて５分間混練し、その後安定化ポリプロ
ピレンをミルよりシート成形しそして冷却せしめた。そ
の後混練ポリプロピレンを一片ずつに切断しそして油圧
プレス上で250℃,175psi（1.2×10⁶Pa）にて圧縮成形し
て5mil（0.127mm）フィルムとした。試料を螢光／暗光
チャンバ中で破壊するまで曝露した。破壊は、曝露フィ
ルムについて赤外線分光分析による0.5カルボニル吸光
度に達するのに要する時間で以て取り扱った。

本発明化合物を安定剤として含有するポリプロピレン
組成物についての破壊までの時間は、かかる安定剤が存
在しないポリプロピレンについての破壊までの時間より
も格段に長いものであった。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) C07D 401/14 ＣＡ，ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims (15)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】次式Ｉ、IIまたはIII （式中、Ｔは を表わし、 Ｒは水素原子またはメチル基を表わし、 R¹は炭素原子数１ないし18のアルキル基、炭素原子数２
   ないし18のアルケニル基、炭素原子数２ないし18のアル
   キニル基、炭素原子数５ないし12のシクロアルキル基、
   炭素原子数５ないし12のシクロアルケニル基、炭素原子
   数６ないし10のビシクロアルキル基、炭素原子数６ない
   し10のアリール基、炭素原子数７ないし12のアルアルキ
   ル基または炭素原子数１ないし12のアルキル基もしくは
   炭素原子数６ないし10のアリール基により置換された炭
   素原子数７ないし12のアルアルキル基を表わし、 R²は水素原子、炭素原子数１ないし12のアルキル基また
   は を表わし、 Ｙは直接結合または を表わし、 ｍ、ｐおよびｑは独立して２ないし６を表わし、 Ａは酸素原子、硫黄原子または−Ｎ（R²）−を表わし、 ｎは２ないし４を表わし、そして R³はｎ価アルカンまたはアリール基を表わす。）で表わ
   される化合物。
2. 【請求項２】式中、R¹は炭素原子数１ないし12のアルキ
   ル基、炭素原子数５ないし６のシクロアルキル基、フェ
   ニル基、ナフチル基、トリル基、ベンジル基、α−メチ
   ルベンジル基またはα，α−ジメチルベンジル基を表わ
   す請求項１記載の化合物。
3. 【請求項３】式中、R¹はメチル基、ヘプチル基、オクチ
   ル基またはシクロヘキシル基を表わす請求項１記載の式
   Ｉで表わされる化合物。
4. 【請求項４】式中、Ｙは直接結合を表わしそしてｍおよ
   びｐは２、３または６を表わす請求項１記載の式IIで表
   わされる化合物。
5. 【請求項５】式中、Ｙは置換トリアジン基を表わしそし
   てｍ、ｐおよびｑは２、３または６を表わす請求項１記
   載の式IIで表わされる化合物。
6. 【請求項６】式中、ｎは２を表わしそしてR³は炭素原子
   数１ないし12のアルキレン基、炭素原子数２ないし６の
   アルキリデン基、炭素原子数５ないし10のシクロアルキ
   レン基、炭素原子数６ないし10のアリーレン基または炭
   素原子数８ないし10のアルキレンアリーレンアルキレン
   基を表わす請求項１記載の式IIIで表わされる化合物。
7. 【請求項７】式中、Ａは酸素原子を表わしそしてR³はｐ
   −フェニレン基を表わす請求項６記載の化合物。
8. 【請求項８】式中、Ａは−NH−を表わしそしてR³はエチ
   レン基またはヘキサメチレン基を表わす請求項６記載の
   化合物。
9. 【請求項９】式中、ｎは３を表わしそしてR³は炭素原子
   数３ないし６のアルカントリイル基または炭素原子数６
   ないし10のアリール−トリイル基を表わす請求項１記載
   の式IIIで表わされる化合物。
10. 【請求項１０】式中、ｎは４を表わしそしてR³は炭素原
    子数４ないし６のアルカンテトライル基または炭素原子
    数６ないし10のアリール−テトライル基を表わす請求項
    １記載の式IIIで表わされる化合物。
11. 【請求項１１】安定化有効量の請求項１記載の化合物で
    安定化された、酸化的、熱的または化学線崩壊を受ける
    ポリマーより成る組成物。
12. 【請求項１２】ポリマーは合成ポリマーである請求項11
    記載の組成物。
13. 【請求項１３】合成ポリマーはポリオレフィンホモポリ
    マーまたはコポリマーである請求項12記載の組成物。
14. 【請求項１４】前記ポリマーはアルキド樹脂、アクリル
    樹脂、アクリルアルキド樹脂、ポリエステル樹脂、エポ
    キシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ビニル樹脂
    またはエポキシ−ポリエステル樹脂をベースとする塗料
    系である請求項11記載の組成物。
15. 【請求項１５】紫外線吸収剤または別の光安定剤を含む
    請求項14記載の組成物。