JPS6181441A - 高分子材料組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、特定のトリアミンからＪＡ４されるノアヌレ
ート化合物を含有する高分子材料組成物、詳しくは、分
子内に２．２．６．６−チトラメチルピペリジン基を有
する、ウンデカントリアミノから誘導されるノアヌレー
ト化合物を含有することにより、特に耐光性の改善され
た高分子材料組成物に関する。

〔従来の技術及び発明が解決しようとする問題点コポリ
プロピレン、ポリ塩化ビニル、スチレノ系樹脂等の高分
子材料は光の作用により劣化し、変色或いは機械的強度
の低下等を引き起こし、区期の使用に耐えないことが知
られている。

そこで、高分子材ｆ１の劣化を防止ずろためＧこ、従来
種々の安定剤が用いられており、分Ｙ中に２゜２．６．
６−−テトラメチルピベリノ７法を１′、ｉ′−４゛る
化合物も多’Ｊｔ２案さｎ、ている。

これらのビペリンノ化合物のうち、ノアヌレ−１力導体
は化合物自体の由熱性が比較的良好である利点を有して
δす、これまでいくつかの化合物が提案されている。例
えば、特開昭４９−２１３８９号公報にはビペリンル基
を佇するノアヌレート化合物が提案されているが、該公
報に記載の化合物は、低分子量化合物であるために高分
子材料の加工中に撞敗し、或いは水、４機溶媒により抽
出されやすい等の欠点を有していた。

このため、特開昭５２−７３８８６号公報、特開昭５８
−４７０３０℃公報、特開１１１３５８−１９４９３１
号公報及び特開昭５９−１２２４８７号公報等には高分
子量の化合物が提案されているが、これらの化合物の安
定化効果は未だ不充分であり、また製造上も工程数が多
く煩雑な操作が要求される等の問題があり、実用上満足
し得るものではなかった。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明者等は、高分子材料に対する光安定化効果が大き
く、また比較的容易な操作により製造し得る化合物を提
供すべく鋭意検討を重ねた結果、次の一般式（１）で表
される化合物が容易な操作により製造でき、また高分子
材料に配合した場合、高分子材料の耐光性を著しく改善
することを見い出し、本発明に到達した。

即ち、本発明は、高分子材料ｔｏｏｉａ量部に、置部一
般式（］）で表される化合物０．００１〜５重量部を添
加してなる、安定化された高分子材料組成物を提供する
ものである。

を示し、Ｒは水素原子、オキノル（０・）、アルキル基
又はアンル基を示し、Ｒ１は低級アルキル基を示し、Ｙ
は−０，又は−Ｎ−を示し、Ｒ２は水素原子又はアルキ
ル基を示す、） 以下、本発明の高分子材料組成物について詳述する。

本発明で用いられる前記一般式（１）で表される化合物
において、Ｒで表されるアルキル基としては、メチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、オクチル、
デノル、ドデシル、ヘンシル、２−ヒドロキンエチル、
２−ヒドロキノプロピル、２．３−エボキンプロビル等
があげられ、アンル基としては、ホルミル、アセチル、
プロピオニル、ブチロイル、オクタノイル、ヘンジイル
、アクリロイル、メククリロイル等があげられる。

また、Ｒ１で表される低級アルキル基としては、メチル
、エチル、プロピル、ブチル等があげられる。

また、Ｒ２で表されるアルキル基としては、メチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第２ブチル、
イソブチル、アミル、ヘキノルーオクチル、２−エチル
ヘキソル、ノニル、デンル、ドデシル、テトラゾノル、
オフタデノル等があげられる。

従って、本発明で用いられる前記一般式（１）で表され
る化合物としては、例えば次の表−１に示すものがあげ
られる。

尚、表−１中、ＩＩＤＴ＾は −ＮＨ−（ＣＨ２ＴＴＣｌｌ−（側２「丁Ｎ１１−を示
し、Ｈ 表−１ ＡＮ９ １１ｋ１４ 隘６ ４＋１ λ れるノ置換ノアヌル酸モノクロライドと１．５゜１１−
トリアミノウンデカンを反応させることによって容易に
ｖ！ｌ造することができる。

次に、本発明で用いられる前記一般式（１）でコ化合物
の具体的な合成例をあげるが、本−記の合成例に制限を
受けるものではない。

て表−１のＩｋ２化合物の合成） −ビス　〔Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６゜ラメチル−
４−ピペリジル）アミノコ−ロー１．３．５−トリアジ
ン１３．４ｇ。

１．５．１１−）リアミノウンデカン１．７ｇ、キシレ
ンＩＯＱ＋ｓｌ及び水酸化ナトリウム粉末１．０ｇを１
素気流下１４０℃で２４時間攪拌した。

ルエン１０（１＋１を加え、濾過後、水洗、−０／ａ媒
を留去し、軟化点１０５−１ｌｌス状固体の生成物を得
た。

二成物は、高速液体クロマトグラフィーに−の結果ｌピ
ークであり、また分子量が約（計算値１６９８）であっ
た、また、こ１についての元素分析の結果は下記の如（
であり、計算値と良く一致した。

云１立丘　　　　　　ＣＨＮ 実測値（％）　　　６９．４３　　１１．１７　　１９
．４０計算値（％）　　　６９．２６　　１０．９５　
　１９．７９本発明は、１１１１記　般式（１）で表さ
れる化合物を高分子材料に添加してその安定性、特に耐
光性を改善するものであり、そのｒ会加望は、通常、高
分子材料１００市量部に対し０．００１〜５東量部、好
ましくは０．０１〜３市量部である。

本発明における安定性改善の対象となる高分子材料とし
ては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブ
テン、ポリ−３〜メチルブテン等のα−オレフィン−１
τ合体又はエチレン　酢酸ビニル共重合体、エチレン−
プロピレン共重合体等のポリオレフィン及びこれらの共
重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ボリフフ化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩
素化ポリプロピレン、ポリフッ化ビニルデン、臭素化ポ
リエチレン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−プロ
ピレン共重合体、塩化ビニル−スチレン共重合体、塩化
ビニル−イソブチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニ
リデン共重合体、塩゛　　　化ビニルースチレンー無水
マレイン酸三元共重合体、塩化ビニル−スチレン−アク
リロニトリル共重合体、塩化ビニル−ブタジェン共重合
体、塩化ビニル−イソプレン共重合体、塩化ビニル−塩
素化プロピレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン
−酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エ
ステル共重合体、塩化とニル−マレイン酸エステル共重
合体、塩化ビニルーメククリル酸エステル共重合体、塩
化ビニル−アクリロニトリル共重合体、内部可塑化ポリ
塩化ビニル等の含ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、クマロ
ン樹脂、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂
、ポリアクリロニトリル、スチレンと他の単量体く例え
ば無水マレイン酸、ブタノエン、アクリコニトリル等）
との共重合体、アクリロニトリル−ブタジェン−スチレ
ン共重合体、アクリル酸エステル−ブタジェン−スチレ
ン共重合体、メタクリル酸エステル−ブタジェン−スチ
レン共重合体、ポリメチルメタクリレート等のメタクリ
レート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマ
ール、ポリビニルブチラール、直鎖ポリエステル、ポリ
フＬニレンオキノト、ポリアミド、ポリカーボネート、
ポリアセタール、ポリウレタン、繊維素系樹脂、或いは
フェノール＋１脂、ユリ了樹脂、メラミン＋１脂、エポ
キノ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ノリコーン樹脂等
をあげるごとができる。更に、イソプレンゴム、ブタジ
ェンゴム、アクリロニトリル−ブタジェン共重合ゴム、
スチレン−ブタジェン共重合ゴム等のゴム類やこれらの
樹脂のブレノド品であってもよい。

また、過酸化物或いは放射線等によって架橋させた架橋
ポリエチレン等の架橋上合体及び発泡剤によって発泡さ
せた発泡ポリスチレン等の発泡重合体も包含される。

本発明の組成物に更に周知のフェノール系の抗酸化剤を
添加することによってその酸化安定性を一１≠改ｔ％す
ることができる。このフェノール系抗酸化剤としては例
えば、２，６−ジー第３ブチル−ｐ−クレゾール、２．
６−ジフェニル−４−オクトキノフェノール、ステアリ
ル−（３，５−ジ−メチル−４−ヒドロキシヘンノル）
チオグリコレート、ステアリル−β−（４−ヒドロキノ
−３゜５−ジー第３ブチルフエニル）プロピオネート、
ジステアリル−３，５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルホスホネート、２．４．６−トリス（３’　
、５’−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシベンノルチオ
）１，３．５．−トリアジン、ジステアリル（４−ヒド
ロキノ−３−メチル−５−第３　メチル）へンジルマロ
＊−１，２，２°−メチレンビス（４−メチル−６−第
３ブチルフエノール）、４．４“−メチレンビス（２，
６−ノー第３ブチルフエノール）、２．２’−メチレノ
ビス（６−（１−メチルンクロヘキノル）ｐ−クレゾー
ル〕、ビス〔３，５−ビス（４−ヒドロキシ−３−第３
ブチルフエニル）プチリックア／ド〕グリコールエステ
ル、４．４”−ブチルデンビス（６−第３ブチル−ｍ−
クレゾール）、２．２゛−エチリデンビス（４，６−ジ
ー第３ブチルフエノール）、２．２°−エチリデンビス
（４−第２ブチル−６−第３ブチルフエノール）、１．
１゜３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキノ−５−第
：３ソナルソエニル）ブタン、ヒス〔２−第３ブチル−
４−一メチル−６−（２−ヒドロキノ−３−第３７千ル
ー５−メチルへノソル）フェニル〕テレフタレート、１
．　　：１．　５−トリス４２．６−　　ジメチル−３
−ヒドロキノ−４−第３ブチル）ペンノルイソノアヌレ
ート、１．３．５−）リス（３゜５−ノー第３ブチル−
４−ヒドロキソヘンシル）−−２，４，６−トリメチル
ベンゼン、テトラキス（メチレン　３−（３，５−ノー
第３ブチル−４−ヒドロキノフェニル）プロピオネート
）メタン、１．３．５−１リス　（３，５−ノー第３ブ
チル−＝４−ヒドロキノベンジル）イソノアヌレート、
ｌ。

３．５−トリス（（３，５−ノー第３ブチル−４−ヒド
ロキンフェニル）プロピオ二ルオキンエチル〕イソンア
ヌレート、２−オクチルチオ−４゜６−ノ（４−ヒドロ
キシ−３，５−ジー第３ブチル）フェノキソー１．３．
５−）リアンン、４゜４”−チオビス（６−ｇＡ３ブチ
ル−ｍ−クレゾール）等のフェノールｆ１及び４．４°
−ブチリデンビス（２−第３ブチル−５−メチルフェノ
ール）の炭酸オリゴエステル（例えば重合度２．３．４
゜５．６．７．８．９．１０等）の多価フェノール炭酸
オリゴエステル類があげられる。

本発明の組成物に更に硫黄系の抗酸化剤を加えてその酸
化安定性の改善をはかることもできる。

この硫黄系抗酸化剤としては、例えば、ジラウリル−、
シミリスチル−、ノステアリルー等のジアルキルチオジ
プロピオネート及びブチル−、オクチル−、ラウリル−
、ステアリル−等のアルキルチオプロピオン酸の多価ア
ルコール（例えばグリセリン、トリメチロールエタン、
トリメチロールエタン、ペンタエリスリトール、トリス
ヒドロキンエチルイソンアスレート）のエステル（例工
ばペンタエリスリトールテトララウリルチオプロピオネ
ート）があげられる。

本発明の組成物に、更にホスファイト等の含リン化合物
を添加することによってその耐光性及び耐熱性を一層改
善することができる。この含リン化合物としては、例え
ば、トリオクチルホスファイト、トリラウリルホスファ
イト、トリデシルホスファイ１−、オクチル−ノー１エ
ニルホスフアイト、トリス（２，４−ノー第３フナルフ
エニル）ホスファイト、トリフェニルホスファイト、ト
リス（ブトキノエチル）ホスファイト、トリス（ノニル
フェニル）ホスファイト、ジステアリンペンタエリスリ
トールノホスファイト、テトラ（トリデシル）−１，１
，３−）リス　（２−メチル−５＝第３ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）ブタンジホスファイト、テトラ（Ｃ
１２〜１５混合アルキル）−４，４°−イソプロピリデ
ンジフェニルジホスファイト、テトラ（トリデンル）−
４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−第３ブチ
ルフエノール）ジホスファイト、トリス（３，５−ジー
第３ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ホスファイト、
トリス（モノ・ン混合ノニルフェニル）ホスファイト、
水素化−４，４°−イソプロピリデンジフェノールポリ
ホスファイト、ビス（オクチルフェニル）・ビス〔４，
４°−ブチリデンビス（３−メチル−６−第３ブチルフ
エノール）〕　・第１６−Ｑキサンジオールジホスファ
イト、フェニル・４，４°−イソプロピリデンジフェノ
ール・ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２
゜４−ジー第３ブチルフエニル）ペンタエリスリトール
ジホスファイト、ビス（２，６−ジー第３ブチル−４−
メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト
、トリス（４，４’−イソプロピリデンビス（２−第３
ブチルフエノール）〕ホスファイト、フェニル・ジイソ
デシルホスファイト、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリ
スリトールジホスファイト、トリス（１，３−ジ−ステ
アロイルオキシイソプロビル）ホスファイト、４．４°
−イソプロピリデンビス（２−第３ブチルフエノール）
・ジ（ノニルフェニル）ホスファイト、９．１０−ジ−
ハイドロ−９−オキサ−１Ｏ−フォスノアフェナンスレ
ン−１０−オキサイド、テトラキス（２，４−ジー第３
ブチルフエニル）−４，４゛−ビフエニレンジホスホナ
イト等があげられる。

本発明の組成物に他の光安定剤を添加することによって
その耐光性を一層改善することができる。

ごの光安定剤としては、例えば、２−ヒドロキン−４−
メトキノへ７ゾフエノン、２−ヒドロキン−４−〇−オ
クトキノベンゾフェノン、２．２゛−ジ−ヒドロキシ−
４−メトキンベンゾフェノン、２．４−ジヒドロキシベ
ンゾフェノン等のヒドロキシベンゾフェノン１．２−（
２°−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５°−メチルフ
ェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’
−ヒ°ドロキシー３’、５’−ジーｔ−ブチルフェニル
）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２゜−ヒド
ロキシ−５゛−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２°−ヒドロキシ−３゛　５゜−ジーｔ−アミル
フェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール
類、フェニルサリンレート、ｐ−ｔ−プチルフェニルサ
リシレート、２゜４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５
−ジーし一ブチルー４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキ
サデシル−３，５−ジーＬ−ブチルー４−ヒドロキンベ
ンゾエート等のベンゾエート類、２．２’−チオビス（
４−ｔ−オクチルフェノール）Ｎｉｐ、（２，２゛−チ
オビス（４−ｔ−オクチルフ二ノラ−）））−ｎ−ブチ
ルアミンＮｉ、　（３，５−ジー【−ブチル−４−ヒド
ロキンベンジル）ホスホン酸モノエチルエステルＮｉ塩
等のニッケル化合物類、α−ソアノーβ−メチルーβ−
（ｐ−メトキンフェニル）アクリル類メチル等の置換ア
クリロニトリルＩｊｌ＆びＮ−２−エチルフェニル−Ｎ
’−２−エトキン−５−４３プチルフエニルシエウ酸ジ
アミド、Ｎ−２−エチルフェニル−Ｎ゛−２−エトキシ
フェニルシェウ酸ジアミド等のシェラ酸ジアニリド類が
あげられる。

その他必要に応じて、本発明の組成物には重金属不活性
化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合物、可塑剤、エ
ポキシ化合物、顔料、充項剤、発泡剤、帯電防止剤、難
燃剤、滑剤、加工助剤等を包含させることができる。

本発明によって安定化された高分子材料は橿めて多様な
形で、例えばフィルム、繊維、テープ、シート、各種成
型品として使用でき、また、塗料、ラッカー用結合罰、
接着剤、パテ及び写真材料における基材としても用いる
ことができる。

次に本発明を実施例によって具体的に説明する。

しかしながら、本発明はこれらの実施例によって限定さ
れるものではない。

実施例１ く配　合〉 ポリプロピレン　　　　　１００　　重量部ステアリン
酸カルシウム　　　０．２ ヱニルブロピオネート） 安定剤（表−２参照）０．２ 上記配合にて厚さ０．３　ｍｍのプレスノートを作成し
、このシートについて高圧水銀ランプを用いての耐光性
試験を行った。また、１００時間光照射後８０℃の熱水
に２４時間浸漬後のシートについても耐光性試験を行っ
た。その結果を表−２に示す。

表−２ 逼主〕 ＊ｌＮ、Ｎ“　、Ｎ”−トリスＣ２，４−ビス〔Ｎ−−
（２，２，６，ら−−テトラメチルー４−ピペリノル）
ブチルアミン］−１，３゜５−一一ト刃アノンーら−イ
ル）ノエチレントリアミン ＊２：　ｌ、８−ビス　（２，４−ビス　（Ｎ−（２゜
２．ら、６−アドラメチルー４−ピペリノル）ブチルア
ミノ）−１，３，５−１−リアノン−６−イル〕　アミ
ノ−４−−Ｎ−［２゜４−ビス　（Ｎ−（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミノコ−
１，３，５−トリアジン−６−イル〕アミノメチルオク
タン ’に３：１．ｌＩ−ビス（Ｎ−（２，４−ビス〔Ｎ−（
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリノル）ブチ
ルアミノ）−１，３，５−トリアジン−６−イル］　−
Ｎ　−（２、２。

６．６−テトラメチル−４−ピペリノル））　アミノ−
６−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル
）アミノウンデカ（以下の各表においても、Ａ、Ｂ及び
Ｃで示す安定剤は上記と同し） 実施例２ 通常の安定剤は樹脂の高温加工時にｌｌｉ宛、分解等に
よりその効果が著しく失われることが知られている。

本実施例では押し出し加工を繰り返し行うことにより高
温加工による影響を確かめた。

次の配合により樹脂と添加剤をミキサーで５分間混合し
た後、押し出し機でコンバンドを乍成した（シリンダ一
温度２３０℃、２４０℃、ヘッドダイス温度２５０℃、
回転数２Ｑｒｐ＋＊ｌ。押し出しを５回繰り返し行った
後このコンバンドを用いて試験片を射出成形機で作成し
た（ノリノダ一温度２４０℃、ノズル温度２５０℃、射
出圧４７５Ｋｇ／ａｊ）　。

得られた試験片を用いて高圧水銀ランプで耐光性試験を
行った。また、押し出し１回のものについても同様に試
験した。その結果を表−３に示す。

〈配　合〉 エチレン−プロピレン共重合樹脂［００出量部ステアリ
ン酸カルンウム　　　　　　０．２フェニルブロピオ不
−ト ノラウリルチオジプロビオネート　　０．２安定剤（表
−３参照）０．２ 表−３ 実施例３ く配　合〉 ポリエチレン　　　　　　　　１００　　ｉ置部Ｃａ−
ステアレート　　　　　　　　１．０ビオネート〕メタ
ン ジステアリルチオジプロピオネート０．３安定剤（表−
４参照）０．２ 上記配合物を混練後プレスして厚さ０．５−のシートを
作成した。このシートを用いてウエザオフ−ター中で耐
光性を測定し、脆化するまでの時間を測定した。その結
果を表−４に示す。

表−４ 実施例４ く配　合〉 ポリ塩化ビニル　　　　　　　　１００重量部ジオクチ
ルフタレート　　　　　　４８エポキシ化大豆油　　　
　　　　　　２トリスノニルフエニルホスフアイト　０
．２Ｃａ−ステアレート　　　　　　　　　　１．０Ｚ
ｎ−ステアレート　　　　　　　　　　０．１安定剤（
表−５参照）０．２ 上記配合物を混練ロール上で混練し、厚さ１ｍｍのシー
トを作成した。このシートを用いウエザオフ−ター中で
の耐光性試験を行った。その結果を表−５に示す。

表−５ 実施例５ く配　合〉 ＡＢＳ樹脂　　　　　　　　　１００　　重量部上記配
合物をロール練り後プレスして厚さ３ｍｍのシートを作
成した。このシートを用いウェザオメーターで８００時
間照射後の抗張力残率を測定した。その結果を表−６に
示す。

表−６ 実施例６ く配　合〉 ポリウレタン樹脂　　　　　　＋ｏｏ　　ｚ置部（旭電
化製Ｕ　−１００） Ｂａ−ステアレート　　　　　　　　　０．７Ｚｎ−ス
テアレート　　　　　　　　　０．３２．６−ジー第３
ブチル−ｐ−クレゾール０．１安定剤（表−７参照）０
．５ 上記配合物を７０°Ｃで５分間ロール上で混練し、１２
０℃で５分間プレスして厚さ０．５ｍｍのシートを作成
した。このシートを用いフェードメーターにて５０時間
照射後の伸び残率を測定した。その結果を表−７に示す
。

表−７ 実ｈ＆！１ダ１７ 本発明の化合物は塗料用の光安定剤としても有用である
０本実施例においては金属顔料を含存するヘースコート
及び透明なトップコートからなる二洲金属光沢塗ｆ：Ｆ
についてその効果をみた。

ａ）ベースコート学科 メタクリル酸メチルｌ　００　ｙ、アクリル１％［ｎ　
−ブチル６６ｇ１メタクリル酸−２−ヒドロキノエチル
：３０ｇ、メタクリル酸４Ｆ！、キル）８０ｇ及びｎ−
ブタノール２０ｇをとり、ｌｌＯ’Ｃに加熱攪拌しなか
らアンヒスイソブチロニトリル２ｇ１ドデノルメル力ブ
タン０．５ｇ、キソレン８０ｇ及びｎ−ブタノール２０
ｇからなる溶液を３時間で滴下した７その後同温度で２
時間Ｐ＆１′ドし、樹脂固形分５０％のアクリル（耐脂
熔液をＩＭ製した。

Ｌ記アクリル樹脂ｌ容液１２車量部、ブトキノ化メチロ
ールメラミン（三井東圧社製、ユーハン２（ｌｓＥ６０
；樹脂固形分６０％）２．５重９°部、セルロースアセ
テートブチレート樹脂（２０％酢酸フチル１容液１５０
１ｔＱ部、アルミニウム顔料（東洋アルミニウム社製：
アルペースト１１２３Ｎ）５．５重量部、キンレフ１０
重量部、酢酸ブチル２０１量部及び銅フタロンアニンブ
ルー０．２ｆｆｌ（２部をとりヘースコート塗料とした
。

ｂ）ト７ブコート領料 上記アクリル４召脂／８液４８ｆｌｊｆ；）部、ブトキ
ノ化メチロールメラミン１０１量部、キシレン置部市量
部、ブチルグリコールアセテート４重量部及び安定剤（
表−８参照）　Ｏ，１５小量部（固形分に対し０．５％
）をとり、トップコート塗料とした。

ブライマー処理した鋼板にベースコート受粉を乾燥膜厚
が２０μになるようにスプレーし、１０分間放置後トフ
ブコート塗料を乾燥膜厚が３０μになるようにスプレー
した。１５分間放置後１４０℃で３０分間焼付し試片と
した。

上記試片をウエザオメーターに入れ塗１９のワレの発生
するまでの時間を測定した。その結果を表−８に示す。

表−８

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 高分子材料１００重量部に、次の一般式（ I ）で表さ
   れる化合物０．００１〜５重量部を添加してなる、安定
   化された高分子材料組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｘは▲数式、化学式、表等があります▼又は▲
   数式、化学式、表等があります▼ を示し、Ｒは水素原子、オキシル（Ｏ・）、アルキル基
   （又はアシル基を示し、Ｒ＿１は低級アルキル基を示し
   、Ｙは−Ｏ−又は−Ｎ−を示し、Ｒ＿２は水素原子又は
   アルキル基を示す。）