JPS6116775B2 - - Google Patents

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JPS6116775B2
JPS6116775B2 JP57192086A JP19208682A JPS6116775B2 JP S6116775 B2 JPS6116775 B2 JP S6116775B2 JP 57192086 A JP57192086 A JP 57192086A JP 19208682 A JP19208682 A JP 19208682A JP S6116775 B2 JPS6116775 B2 JP S6116775B2
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JP
Japan
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butyl
tert
acid
formula
weight
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Application number
JP57192086A
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English (en)
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JPS5981348A (ja
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Ii Raisunaa Uiriamu
Motonobu Minagawa
Yutaka Nakahara
Tooru Haruna
Jun Nishimura
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Adeka Corp
Original Assignee
Adeka Argus Chemical Co Ltd
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Publication date
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Priority to EP83110882A priority patent/EP0108993B1/en
Priority to DE8383110882T priority patent/DE3368423D1/de
Priority to US06/547,814 priority patent/US4529760A/en
Publication of JPS5981348A publication Critical patent/JPS5981348A/ja
Publication of JPS6116775B2 publication Critical patent/JPS6116775B2/ja
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G69/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain of the macromolecule
    • C08G69/02—Polyamides derived from amino-carboxylic acids or from polyamines and polycarboxylic acids
    • C08G69/26—Polyamides derived from amino-carboxylic acids or from polyamines and polycarboxylic acids derived from polyamines and polycarboxylic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G63/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain of the macromolecule
    • C08G63/68—Polyesters containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
    • C08G63/685—Polyesters containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen containing nitrogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3412—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having one nitrogen atom in the ring
    • C08K5/3432—Six-membered rings
    • C08K5/3435—Piperidines

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
  • Hydrogenated Pyridines (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】
本発明は、耐光性の改善された高分子材料組成
物、詳しくは、−テトラメチルピ
ペリゞル基を有するカルボン酞゚ステルのオリゎ
マヌを含有せしめおなる耐光性の改良された高分
子材料組成物に関する。 ポリ゚チレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニ
ル等の合成暹脂は䞀般に光の効果に察しお敏感で
あり、その䜜甚により劣化し、倉色あるいは機械
的匷床の䜎䞋等を匕き起こし、長期の䜿甚に耐え
ないこずが知られおいる。 そこでこの光による合成暹脂の劣化を防止する
ために、埓来皮々の安定剀が甚いられおきたが、
埓来甚いられおきた光安定剀はその安定化効果が
ただ䞍十分であり、たた安定剀自䜓が熱あるいは
酞化に察しお䞍安定であ぀たり、氎等の溶剀によ
぀お暹脂から抜出されやすいものが倚く、さらに
暹脂に着色を䞎えるものが倚い等の欠点を持぀お
おり、長期にわた぀お合成暹脂を安定化するこず
ができなか぀た。 これら埓来甚いられおきた光安定剀の䞭でもピ
ペリゞン系の化合物はそれ自䜓が非着色性であ
り、たた玫倖線吞収剀ずしおではなく、消光剀ず
しお䜜甚するなどの特城を有しおおり近幎特に泚
目されおいる。 これらのピペリゞン化合物䞭最も重芁なものは
−テトラメチルピペリゞン−−
オヌルたたは−テトラメチルピペ
リゞン−−オンのトリメチロヌルアルカンケタ
ヌルのカルボン酞゚ステルであり、これたで倚く
の化合物が提案されおきた。 䟋えば、特公昭46−42618号公報、同53−36502
号公報、同53−42347号公報、同54−20977号公
報、同56−5431号公報、特開昭48−65180号公
報、同52−112648号公報、同53−7748号公報及び
同56−16534号公報には皮々のポリカルボン酞の
−テトラメチルピペリゞン−−
オヌル類たたは−テトラメチルピ
ペリゞン−−オンのトリメチロヌルアルカンケ
タヌルの゚ステルが開瀺されおいる。 しかしながら、これらの公報蚘茉の化合物は耐
氎性に劣るものが倚く、高分子材料に添加した堎
合も氎により容易に抜出されおしたい、特に屋倖
等における長期間の䜿甚に耐えない堎合が倚い。
たた、これらの化合物は比范的分子量が小さく、
高分子材料を高枩で加工する堎合に揮散しその察
果を倱う堎合もあ぀た。 これらの欠点を解消するために、高分子量の化
合物を甚いるこずも提案されおいる。 䟋えば、特開昭52−141883号公報にはヒンダヌ
ドピペリゞル基を有するポリ゚ステル、ポリアミ
ド等の重合䜓が提案されおいる。しかしながら同
公報蚘茉の重合䜓は、ヒンダヌドピペリゞル基を
有するグリコヌルたたはゞアミンずゞカルボン酞
から誘導されるから、あるいはヒンダヌドピペリ
ゞル基を有するゞカルボン酞ずグリコヌルたたは
ゞアミンから誘導されるものであり、〜個の
ポリカルボン酞を甚いる本発明の化合物ずは党く
異なるものである。しかも、同公報蚘茉重合䜓の
倚くはその補法が極めお繁雑であり、さらに反埩
分子単䜍䞭にヒンダヌドピペリゞル基を有する重
合䜓はその−結合が光の照射により切断され
䜎分子量化されるこずも近幎瀺唆されおおり、実
甚䞊満足し埗るものではない。 本発明者等は、かかる珟状に鑑み鋭意怜蚎を重
ねた結果、〜䟡のポリカルボン酞の
−テトラメチルピペリゞル゚ステルをゞア
ミンたたはグリコヌルでオリゎマヌ化するこずに
より䞊蚘欠点が党お解消されるこずを芋い出し本
発明に到達した。 即ち、本発明は、高分子材料100重量郚に、次
の䞀般匏で衚わされる化合物0.001〜重
量郚を添加しおなる安定化高分子材料組成物を提
䟛するものである。 匏䞭、は〜䟡のポリカルボン酞の残基
を瀺し、は〜を瀺す。は−−たたは
【匏】を瀺し、は䟡アルコヌルの残基たた は䟡アミンの残基を瀺す。R3は氎玠原子、ア
ルキル基たたはアリヌル基を瀺し、たたは個の
R3が互いに結合しおアルキレン基を瀺しおも良
い。は−CH〓たたは
【匏】 を瀺し、R4はアルキル基を瀺す。R2は氎玠原
子、オキシル、アルキル基たたはアシル基を瀺
す。R1は−−−−たたは
【匏】を瀺す。は〜10を瀺 す。 以䞋、本発明の組成物に぀いお詳述する。 本発明で甚いられる、前蚘䞀般匏で衚わ
される化合物においお、R2で衚わされるアルキ
ル基ずしおは、䟋えばメチル、゚チル、プロピ
ル、む゜プロピル、ブチル、アミル、ヘキシル、
ヘプチル、オクチル、−゚チルヘキシル、ノニ
ル、デシル、ドデシル、オクタデシル、ベンゞ
ル、プニル゚チル、−ヒドロキシ゚チル、
−ヒドロキシプロピル、−ヒドロキシブチル、
−゚ポキシプロピルなどがあげられ、アシ
ル基ずしおは、䟋えばアセトル、プロピオニル、
ブチロむル、アクリロむル、メタクリロむル、オ
クタノむル、ベンゟむルなどがあげられる。 R3で衚わされるアルキル基ずしおは、䟋えば
メチル、゚チル、プロピル、む゜プロピル、ブチ
ル、む゜ブチル、第ブチル、ヘキシル、シクヘ
キシル、オクチル、む゜オクチル、−゚チルヘ
キシル、第オクチル、デシル、ドデシル、テト
ラデシル、オクタデシルなどがあげられ、アリヌ
ル基ずしおは、䟋えばプニル、ナフチル、トリ
ル、キシリル、第ブチルプニル、オクチルフ
゚ニル、−ゞ−第ブチルプニル、ノニ
ルプニル、ゞノニルプニルなどがあげられ
る。たた、個のR3が互いに結合しおアルキレ
ン基を瀺すずきは、䟋えばメチレン、゚チレン、
−プロピレン、−プロピレンであ぀
おもよい。 R4で衚わされるアルキル基ずしおは、䟋えば
メチル、゚チル、プロピル、ブチル、む゜ブチル
などがあげられる。 で衚わされる基は、䟡アルコヌルの残基た
たは䟡アミンの残基であり、䞊蚘䟡アルコヌ
ルずしおは䟋えば、゚チレングリコヌル、ゞ゚チ
レングリコヌル、トリ゚チレングリコヌル、
−プロピレングリコヌル、−ブチレング
リコヌル、チオゞ゚タノヌル、−ヘキサン
ゞオヌル、−メチルベンタン、−ゞオヌ
ル、ネオベンチルグリコヌル、10−デカンゞ
オヌル、12−ドデカンゞオヌル、シクロヘキ
サンゞメタノヌル、ベンれンゞメタノヌル、氎添
ビスプノヌル、−ブテン−−ゞオヌ
ル、−ビス−ゞメチル−−ヒド
ロキシ゚チル−10−テトラオキサ
スピロ〔5.6〕りンデカンなどがあげられ、た
た、䞊蚘䟡アミンずしおは䟋えば゚チレンゞア
ミン、−プロピレンゞアミン、−ヘ
キサメチレンゞアミン、−オクタメチレン
ゞアミン、10−デカメチレンゞアミン、
11−りンデカメチレンゞアミン、キシリレンゞア
ミン、ビスアミノメチルシクロヘキサン、む
゜フオロンゞアミン、ビスアミノシクロヘキシ
ルメタン、−ビス−アミノプロピ
ル−10−テトラオキサスピロ
〔〕りンデカン、ピペラゞン、−ゞ
メチルピペラゞンなどがあげられる。 で衚わされる基は
【匏】で衚わされ る〜䟡のポリカルボン酞の残基であり、該カ
ルボン酞ずしおは次に瀺すものが包含される。 即ち、トリカリバリル酞、ク゚ン酞、アセチル
ク゚ン酞、ブタン−−トリカルボン
酞、−ブテン−−トリカルボン酞、
トリメリツト酞、ブタン−−テト
ラカルボン酞、−゚テンテトラカ
ルボン酞、−ビシクロ〔〕オクテン
−−テトラカルボン酞、
−プロパンテトラカルボン酞、ピロメリツ
ト酞、14−テトラデカンヘ
キサカルボン酞、14−テトラデカン
テトラカルボン酞、ニトリロトリ酢酞、ニトリロ
トリプロピオン酞などがあげられる。 本発明で甚いられる前蚘䞀般匏で衚わさ
れる化合物の代衚䟋を衚−に瀺す。尚衚䞭、
【匏】は
【匏】を瀺す。たた、
【匏】は
【匏】を
【匏】は
【匏】を、
【匏】は
【匏】を、
【匏】は
【匏】を、及び
【匏】は
【匏】を それぞれ瀺す。 本発明で甚いられる前蚘䞀般匏で衚わさ
れる化合物、䟋えば〜䟡のポリカルボン酞の
䜎玚アルキル゚ステルず、
【匏】 で衚わされる−テトラメチルピペ
リゞン基を有するアルコヌル及びHK−−XH
で衚わされる䟡のアルコヌルたたは䟡のアミ
ンずを反応させるこずによ぀お容易に補造するこ
ずができる。たた、反応は段階的に行なうこず
も、あるいは䞀段で行なうこずもできる。 以䞋、具䜓的な合成䟋をも぀お本発明をさらに
詳现に説明するが、本発明は以䞋の合成䟋によ぀
お制限を受けるものではない。 合成䟋 衚−のNo.化合物の合成 ブタン−−テトラカルボン酞テ
トラメチル゚ステル14.5、−テ
トラメチル−−ピペリゞノヌル26.0及びテト
ラむ゜プロピルチタネヌト0.8をミネラルスピ
リツト50mlに溶解し、窒玠気流䞋160〜165℃で
時間加熱撹拌した。次に10−デカンゞオヌル
4.4及びテトラむ゜プロピルチタネヌト0.2を
加え30cmHgの枛圧䞋160〜165℃で時間撹拌し
た。溶媒及び過剰の−テトラメチ
ル−−ピペリゞノヌルを枛圧䞋に陀去した埌、
40mlのキシレンを加え氎掗、也燥埌キシレンを留
去し、融点50〜55℃の淡耐色固䜓の生成物を埗
た。 合成䟋 衚−のNo.化合物の合成 ブタン−−テトラカルボン酞テ
トラメチル゚ステル14.5、−テ
トラメチル−−ピペリゞノヌル26.0及びテト
ラむ゜プロピルチタネヌト0.8をミネラルスピ
リツト50mlに溶解し、窒玠気流䞋160〜165℃で
時間加熱撹拌した。次に氎添ビスプノヌル
A6.0及びテトラむ゜プロピルチタネヌト0.2
を加え、30cmHgの枛圧䞋160〜165℃で時間撹
拌した。その埌合成䟋ず同様に凊理し融点80〜
85℃の淡耐色固䜓の生成物を埗た。 合成䟋 衚−のNo.化合物の合成 ブタン−−テトラカルボン酞テ
トラメチル゚ステル5.8、−テ
トラメチル−−ピペリゞノヌル8.6及びテト
ラむ゜プロピルチタネヌト0.4をミネラルスピ
リツト25mlに溶解し、窒玠気流䞋160〜165℃で
時間加熱撹拌した。次に氎添ビスプノヌル
A3.6を加え、160〜165℃で時間加熱撹拌し
た。その埌合成䟋ず同様に凊理し、融点92〜94
℃、平均重合床の淡耐色固䜓の生成物を埗
た。 合成䟋 衚−のNo.化合物の合成 ブタン−−テトラカルボン酞テ
トラメチル゚ステル5.8、−テ
トラメチル−−ピペリゞノヌル10.4及びテト
ラむ゜プロピルチタネヌト0.4をミネラルスピ
リツト25mlに溶解し、窒玠気流䞋160〜165℃で
時間加熱撹拌した。次に−ビス−
ゞメチル−−ヒドロキシ゚チル−
10−テトラオキサスピロ〔〕りンデカ
ンを加え、160〜165℃で時間撹拌した。そ
の埌合成䟋ず同様に凊理し、融点75〜80℃の淡
耐色固䜓の生成物を埗た。 合成䟋 衚−のNo.化合物の合成 ブタン−−テトラカルボン酞テ
トラメチル゚ステル5.8、−テ
トラメチル−−ピペリゞノヌル8.6及びテト
ラむ゜プロピルチタネヌト0.4をミネラルスピ
リツト25mlに溶解し、窒玠気流䞋160〜165℃で
時間加熱撹拌した。次に−ビス−
ゞメチル−−ヒドロキシ゚チル−
10−テトラオキサスピロ〔5.5〕りンデカン4.6
を加え、160〜165℃で時間撹拌した。その埌合
成䟋ず同様に凊理し、融点90〜95℃、平均重合
床の淡耐色固䜓の生成物を埗た。 本発明は前蚘䞀般匏で衚わされる化合物
を高分子材料に添加しおその耐光性を改善するも
のであり、その添加量は、通垞、高分子材料100
重量郚に察し0.001〜重量郚、奜たしくは0.01
〜重量郚である。 本発明における耐光性改善の察象ずなる高分子
材料ずしおは、䟋えば、ポリ゚チレン、ポリプロ
ピレン、ポリブテン、ポリ−−メチルブテン、
などのα−オレフむン重合䜓たたぱチレン−酢
酞ビニル共重合䜓、゚チレン−プロピレン共重合
䜓などのポリオレフむンおよびこれらの共重合
䜓、ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフツ
化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩玠化ポリ゚チ
レン、塩玠化ポリプロピレン、ポリフツ゜化ビニ
リデン、臭玠化ポリ゚チレン、塩化ゎム、塩化ビ
ニル−酢酞ビニル共重合䜓、塩化ビニル−゚チレ
ン共重合䜓、塩化ビニル−プロピレン共重合䜓、
塩化ビニル−スチレン共重合䜓、塩化ビニル−む
゜ブチレン共重合䜓、塩化ビニル−塩化ビニリデ
ン共重合䜓、塩化ビニル−スチレン−無氎マレむ
ン酞䞉元共重合䜓、塩化ビニル−スチレン−アク
リロニトリル共重合䜓、塩化ビニル−ブタゞ゚ン
共重合䜓、塩化ビニル−む゜プレン共重合䜓、塩
化ビニル−塩玠化プロピレン共重合䜓、塩化ビニ
ル−塩化ビニリデン−酢酞ビニル䞉元共重合䜓、
塩化ビニル−アクリル酞゚ステル共重合䜓、塩化
ビニル−マレむン酞゚ステル共重合䜓、塩化ビニ
ル−メタクリル酞゚ステル共重合䜓、塩化ビニル
−アクリロニトリル共重合䜓、内郚可塑化ポリ塩
化ビニルなどの含ハロゲン合成暹脂、石油暹脂、
クマロン暹脂、ポリスチレン、ポリ酢酞ビニル、
アクリル暹脂、スチレンず他の単量䜓䟋えば無
氎マレむン酞、ブタゞ゚ン、アクリロニトリルな
どずの共重合䜓、アクリロニトリル−ブタゞ゚
ン−スチレン共重合䜓、アクリル酞゚ステル−ブ
タゞ゚ン−スチレン共重合䜓、メタクリル酞゚ス
テル−ブタゞ゚ン、スチレン共重合䜓、ポリメチ
ルクリレヌトなどのメタクリレヌト暹脂、ポリビ
ニルアルコヌル、ポリビニルホルマヌル、ポリビ
ニルブチラヌル、盎鎖ポリ゚ステル、ポリプニ
レンオキシド、ポリアミド、ポリカヌボネヌト、
ポリアセタヌル、ポリりレタン、繊維玠系暹脂、
あるいはプノヌル暹脂、ナリア暹脂、メラミン
暹脂、゚ポキシ暹脂、䞍飜和ポリ゚ステル暹脂、
シリコヌン暹脂などを挙げるこずができる。曎
に、む゜プレンゎム、ブタゞ゚ンゎム、アクリロ
ニトリル−ブタゞ゚ン共重合ゎム、スチレン−ブ
タゞ゚ン共重合ゎムなどのゎム類やこれらの暹脂
のブレンド品であ぀おもよい。 たた、過酞化物あるいは攟射線等によ぀お架橋
させた架橋ポリ゚チレン等の架橋重合䜓及び発泡
剀によ぀お発泡させた発泡ポリスチレン等の発泡
重合䜓も包含される。 本発明の組成物にさらにプノヌル系の抗酞化
剀を添加するこずによ぀お酞化安定性を改善する
こずができる。これらのプノヌル系抗酞化剀ず
しおはたずえば、−ゞ−第ブチル−−
クレゟヌル、−ゞプニル−−オクトキ
シプノヌル、ステアリル−−ゞ−メチ
ル−−ヒドロキシベンゞルチオグリコレヌ
ト、ステアリル−β−−ヒドロキシ−
−ゞ−第ブチルプニルプロピオネヌト、ゞ
ステアリル、−ゞ−第ブチル−−ヒド
ロキシベンゞルホスホネヌト、−トリ
ス3′5′−ゞ−第ブチル−4′−ヒドロキシベ
ンゞルチオ−−トリアゞン、ゞステ
アリル−ヒドロキシ−−メチル−−第
ブチルベンゞルマロネヌト、2′−メチレン
ビス−メチル−−第ブチルプノヌ
ル、4′−メチレンビス−ゞ−第
ブチルプノヌル、2′−メチレンビス〔
−−メチルシクロヘキシル−クレゟヌ
ル〕、ビス〔−ビス−ヒドロキシ−
−第ブチルプニルブチリツクアシド〕グリ
コヌル゚ステル、4′−プチリデンビス−
第ブチル−−クレゟヌル、2′−゚チリ
デンビス−ゞ−第ブチルプノヌ
ル、2′−゚チリデンビス−第ブチル
−−第ブチルプノヌル、−ト
リス−メチル−−ヒドロキシ−−第ブ
チルプニルブタン、ビス〔−第ブチル−
−メチル−−−ヒドロキシ−−第ブ
チル−−メチルベンゞルプニル〕テレフタ
レヌト、−トリス−ゞメチル
−−ヒドロキシ−−第ブチルベンゞルむ
゜シアヌレヌト、−トリス−
ゞ−第ブチル−−ヒドロキシベンゞル−
−トリメチルベンれン、テトラキス
〔メチレン−−−ゞ−第ブチル−−
ヒドロキシプニルプロピオネヌト〕メタン、
−トリス−ゞ−第ブチル−
−ヒドロキシベンゞルむ゜シアヌレヌト、
−トリス〔−ゞ−第ブチル
−−ヒドロキシプニルプロピオニルオキシ
゚チル〕む゜シアヌレヌト、−オクチルチオ−
−ゞ−ヒドロキシ−−ゞ−第
ブチルプノキシ、−トリアゞン、
4′−チオビス−第ブチル−−クレゟ
ヌルなどのプノヌル類及び4′−ブチリデ
ンビス−第ブチル−−メチルプノヌ
ルの炭酞オリゎ゚ステル䟋えば重合床
10などなどの倚
䟡プノヌル炭酞オリゎ゚ステル類があげられ
る。 本発明の組成物にさらに硫黄系の抗酞化剀を加
えおその酞化安定性の改善をはかるこずもでき
る。これらの硫黄系抗酞化剀ずしおは、䟋えばゞ
ラりリル−、ゞミリスチル−、ゞステアリル−な
どのゞアルキルチオゞプロピオネヌト及びブチル
−、オクチル−、ラりリル−、ステアリル−など
のアルキルチオプロピオン酞の倚䟡アルコヌル
䟋えばグリセリン、トリメチロヌル゚タン、ト
リメチロヌルプロパン、ペンタ゚リスリトヌル、
トリスヒドロキシ゚チルむ゜シアヌレヌトの゚
ステル䟋えばペンタ゚リスリトヌルテトララり
リルチオプロピオネヌトがあげられる。 本発明の組成物に、さらにホスフアむト等の含
リン化合物を添加するこずによ぀お、耐光性及び
耐熱性を改善するこずができる。この含リン化合
物ずしおは、䟋えばトリオクチルホスフアむト、
トリラりリルホスフアむト、トリデシルホスフア
むト、オクチル−ゞプニルホスフアむト、トリ
ス−ゞ−第ブチルプニルホスフア
むト、トリプニルホスフアむト、トリスブト
キシ゚チルホスフアむト、トリスノニルプ
ニルホスフアむト、ゞステアリルベンタ゚リス
リトヌルゞホスフアむト、テトラトリデシル
−−トリス−メチル−−第ブ
チル−−ヒドロキシプニルブタンゞホスフ
アむト、テトラ12〜15混合アルキル−
4′−む゜プロピリデンゞプニルゞホスフアむ
ト、テトラトリデシル−4′−プチリデン
ビス−メチル−−第ブチルプノヌル
ゞホスフアむト、トリス−ゞ−第ブチ
ル−−ヒドロキシプニルホスフアむト、ト
リスモノ・ゞ混合ノニルプニルホスフアむ
ト、氎玠化−4′−む゜プロピリデンゞプノ
ヌルポリホスフアむト、ビスオクチルプニ
ル・ビス〔4′−ブチリデンビス−メチ
ル−−第ブチルプノヌル〕・−ヘキ
サンゞオ−ルゞホスフアむト、プニル・
4′−む゜プロピリデンゞプノヌル・ペンタ゚リ
スリトヌルゞホスフアむト、ビス−ゞ−
第ブチルプニルペンタ゚リスリトヌルゞホ
スフアむト、ビス−ゞ−第ブチル−
−メチルプニルペンタ゚リスリトヌルゞホス
フアむト、トリス〔4′−む゜プロピリデンビ
ス−第ブチルプノヌル〕ホスフアむ
ト、プニル・ゞむ゜デシルホスフアむト、ゞ
ノニルプニルペンタ゚リスリトヌルゞホス
フアむト、トリス−ゞ−ステアロむルオ
キシむ゜プロピルホスフアむト、4′−む゜
プロピリデンビス−第ブチルプノヌ
ル・ゞノニルプニルホスフアむト、
10−ゞ−ハむドロ−−オキサ−10−フオスフア
プナンスレン−10−オキサむド、テトラキス
−ゞ−第ブチルプニル−4′−ビ
プニレンゞホスホナむトなどがあげられる。 本発明の組成物に他の光安定剀を添加するこず
によ぀おその耐光性をさらに改善するこずができ
る。これらの光安定剀ずしおは、䟋えば、−ヒ
ドロキシ−−メトキシベンゟプノン、−ヒ
ドロキシ−−−オクトキシベンゟプノン、
2′−ゞ−ヒドロキシ−−メトキシベンゟフ
゚ノン、−ゞヒドロキシベンゟプノン等
のヒドロキシベンゟプノン類、−2′−ヒド
ロキシ−3′−−ブチル−5′−メチルプニル
−−クロロベンゟトリアゟヌル、−2′−ヒ
ドロキシ−3′5′−ゞ−−ブチルプニル−
−クロロベンゟトリアゟヌル、−2′−ヒド
ロキシ−5′−メチルプニルベンゟトリアゟヌ
ル、−2′−ヒドロキシ−3′5′−ゞ−−アミ
ルプニルベンゟトリアゟヌル等のベンゟトリ
アゟヌル類、プニルサリシレヌト、−−ブ
チルプニルサリシレヌト、−ゞ−−ブ
チルプニル−−ゞ−−ブチル−−ヒ
ドロキシベンゟ゚ヌト、ヘキサデシル−−
ゞ−−ブチル−−ヒドロキシベンゟ゚ヌト等
のベンゟ゚ヌト類、2′−チオビス−−
オクチルプノヌルNi塩、〔2′−チオビス
−−オクチルプノラヌト〕−−ブチル
アミンNi、−ゞ−−ブチル−−ヒド
ロキシベンゞルホスホン酞モノ゚チル゚ステル
Ni塩等のニツケル化合物類、α−シアノ−β−
メチル−β−−メトキシプニルアクリル
類メチル等の眮換アクリロニトリル類及び−
−゚チルプニル−N′−−゚トキシ−−第
ブチルプニルシナり酞ゞアミド、−−゚
チルプニル−N′−−゚トキシプニルシナ
り酞ゞアミド等のシナり酞ゞアニリド類があげら
れる。 その他必芁に応じお、本発明組成物は重金属䞍
掻性化剀、造栞剀、金属石けん、有機錫化合物、
可塑剀、゚ポキシ化合物、顔料、充填剀、発泡
剀、垯電防止剀、難燃剀、滑剀、加工助剀等を包
含させるこずができる。 本発明によ぀お安定化された高分子材料は極め
お倚様な圢で、䟋えばフむルム、繊維、テヌプ、
シヌト、各皮成型品ずしお䜿甚でき、たた、塗
料、ラツカヌ甚結合剀、接着剀、パテ及び写真材
料における基材ずしおも甚いるこずができる。 次に本発明を実斜䟋によ぀お具䜓的に説明す
る。しかしながら、本発明はこれらの実斜䟋によ
぀お限定されるものではない。 実斜䟋 
【衚】 䞊蚘配合にお厚さ0.3mmのプレスシヌトを䜜成
し、高圧氎銀ランプを甚いお耐光性詊隓を行な぀
た。たた80℃の熱氎に15時間浞挬埌のシヌトに぀
いおも耐光性詊隓を行な぀た。その結果を衚−
に瀺す。
【衚】
【衚】 実斜䟋  通垞の安定剀は暹脂の高枩加工時に揮発、分解
等によりその効果が著るしく倱なわれるこずが知
られおいる。 本実斜䟋では抌し出し加工を繰り返し行なうこ
ずにより高枩加工による圱響を確かめた。 次の配合により暹脂ず添加剀をミキサヌで分
間混合した埌、抌し出し機でコンパりンドを䜜成
した。シリンダヌ枩床230℃、240℃、ヘツドダ
むス枩床250℃、回転数20rpm抌し出しを回
繰り返し行な぀た埌このコンパりンドを甚いお詊
隓片を射出成圢機で䜜成した。シリンダヌ枩床
240℃、ノズル枩床250℃、射出圧475Kgcm2 埗られた詊隓片を甚いお高圧氎銀ランプで耐光
性詊隓を行な぀た。たた、抌し出し回のものに
぀いおも同様に詊隓した。その結果を衚−に瀺
す。 配合
【衚】
【衚】
【衚】 実斜䟋 
【衚】 䞊蚘配合物を混緎埌プレスしお厚さ0.5mmのシ
ヌトを䜜成した。このシヌトを甚いおり゚ザオメ
ヌタヌ䞭で耐光性を枬定し、脆化するたでの時間
を枬定した。その結果を衚−に瀺す。
【衚】 実斜䟋 
【衚】 䞊蚘配合物をロヌル䞊130℃で混緎埌、140℃で
プレスシヌト厚さ0.4mmを䜜成した。このシ
ヌトをり゚ザオメヌタヌ䞭で500時間照射埌の抗
匵力残率を枬定した。その結果を衚−に瀺す。
【衚】 実斜䟋  ポリ塩化ビニル 100重量郹 ゞオクチルフタレヌト 48 ゚ポキシ化倧豆油  トリスノニルプニルホスフアむト 0.2 Ca−ステアレヌト 1.0 Zn−ステアレヌト 0.1 安定剀衚− 0.3 䞊蚘配合物をロヌル䞊で混緎し厚さmmのシヌ
トを䜜成した。このシヌトを甚いり゚ザオメヌタ
ヌ䞭での耐光性詊隓を行な぀た。その結果を衚−
に瀺す。
【衚】 実斜䟋 
【衚】 䞊蚘配合物をロヌル緎り埌プレスしお厚さmm
のシヌトを䜜成した。このシヌトを甚いり゚ザオ
メヌタヌで800時間照射埌の抗匵力残率を枬定し
た。その結果を衚−に瀺す。
【衚】
【衚】 実斜䟋 
【衚】 䞊蚘配合物を70℃で分間ロヌル䞊で混緎し、
120℃で分間プレスしお厚さ0.5mmのシヌトを䜜
成した。このシヌトをプヌドメヌタヌにお50時
間照射埌の䌞び残率を枬定した。その結果を衚−
に瀺す。
【衚】
【衚】 実斜䟋  本発明の化合物は塗料甚の光安定剀ずしおも有
甚である。本実斜䟋においおは金属顔料を含有す
るベヌスコヌト及び透明なトツプコヌトからなる
二局金属光沢塗料に぀いおその効果をみた。  ベヌスコヌト塗料 メタクリル酞メチル100、アクリル酞−
ブチル66、メタクリル酞−−ヒドロキシ゚
チル30、メタクリル酞、キシレン80及
び−ブタノヌル20をずり、110℃に加熱撹
拌しながらアゟビスむ゜ブチロニトリル、
ドデシルメルカブタン0.5、キシレン80及
び−ブタノヌル20からなる溶液を時間で
滎䞋した。その埌同枩床で時間撹拌し、暹脂
固型分50のアクリル暹脂溶液を調補した。 䞊蚘アクリル暹脂溶液12重量郚、ブトキシ化
メチロヌルメラミン䞉井東圧瀟補ナヌバン
20SE60暹脂固型分602.5重量郚、セルロ
ヌスアセテヌトブチレヌト暹脂20酢酞ブチ
ル溶液50重量郚、アルミニりム顔料東掋ア
ルミニりム瀟補アルペヌスト1123N5.5重
量郚、キシレン10重量郚、酢酞ブチル20重量郹
及び銅フタロシアニンブルヌ0.2重量郚をずり
ベヌスコヌト塗料ずした。  トツプコヌト塗料 䞊蚘アクリル暹脂溶液48重量郚、ブトキシ化
メチロヌルメラミン10重量郚、キシレン10重量
郚、ブチルグリコヌルアセテヌト重量郚及び
安定剀衚−0.15重量郚固型分に察し
0.5をずり、トツプコヌト塗料ずした。 プラむマヌ凊理した鋌板にベヌスコヌト塗料
を也燥膜厚が20Όになるようにスプレヌし、10
分間攟眮埌トツプコヌト塗料を也燥膜厚が30ÎŒ
になるようにスプレヌした。15分間攟眮埌140
℃で30分間焌付し詊片ずした。 䞊蚘詊片をり゚ザオメヌタヌに入れ塗膜のワレ
の発生するたでの時間を枬定した。その結果を衚
−に瀺す。
【衚】

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  高分子材料100重量郚に、次の䞀般匏
    で衚わされる化合物0.001〜重量郚を添加しお
    なる、安定化高分子材料組成物。 匏䞭、は〜䟡のポリカルボン酞の残基
    を瀺し、は〜を瀺す。は−−たたは
    【匏】を瀺し、は䟡アルコヌルの残基たた は䟡アミンの残基を瀺す。R3は氎玠原子、ア
    ルキル基たたはアリヌル基を瀺し、たたは個の
    R3が互いに結合しおアルキレン基を瀺しおも良
    い。は−CH〓たたは 【匏】を瀺し、R4はアルキル 基を瀺す。R2は氎玠原子、オキシル、アルキル
    基たたはアシル基を瀺す。R1は−−−−
    たたは 【匏】を瀺す。は〜10を瀺 す。
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