JPH0730208B2 - 光安定性の改善された高分子材料組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、高分子量のシュウ酸ジアミド化合物を配合し
てなる高分子材料組成物、詳しくは、アルキレン若しく
はオキシビス（４−アミノベンゼン）のシュウ酸アミド
化合物を配合することにより光安定性の改善された高分
子材料組成物に関する。

〔従来の技術〕 ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、スチレン系樹脂等の
高分子材料は光の作用により劣化し、変色或いは機械的
強度の低下等を引き起こし、長期の使用に耐えないこと
が知られている。

そこで、高分子材料の劣化を防止するために、従来から
種々の光安定剤が用いられており、シュウ酸ジアニリド
化合物も高分子材料用の光安定剤として知られている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上記の公知の光安定剤は、高分子材料の加工中に揮散し
たり、或いは水、有機溶媒に抽出され易い欠点を有して
おり、実用上不満足なものであった。

〔問題点を解決するための手段〕 本発明者等は、高分子材料に対する光安定化効果に優
れ、しかも耐熱性、耐水性、耐溶剤性の良好な化合物を
得るべく鋭意検討を重ねた結果、次の一般式（Ｉ）で表
される化合物が上記課題を全て解決し、高分子材料に添
加した場合、高分子材料の光安定性を著しく改善するこ
とを見出し、本発明に到達した。

即ち、本発明は、高分子材料100重量部に、次の一般式
（Ｉ）で表される化合物0.001〜５重量部を配合してな
る、光安定性の改善された高分子材料組成物を提供する
ものである。

一般式（Ｉ） （式中、R₁,R₂,R₃及びR₄は各々水素原子、アルキル基、
アルコキシ基、アリール基、アリーロキシ基又はハロゲ
ン原子を示し、Ｘはアルキレン基又は酸素原子を示し、
ｎは１〜10の数を示す。） 以下、本発明の高分子材料組成物について詳述する。

本発明で用いられる前記一般式（Ｉ）で表される化合物
において、R₁、R₂、R₃及びR₄で示されるアルキル基とし
ては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、第２ブチル、第３ブチル、アミル、第３アミル、ヘ
キシル、ヘプチル、オクル、２−エチルヘキシル、第３
オクチル、ノニル、デシル、ドデシル、テトラデシル、
オクタデシル、ベンジル、α−メチルベンジル、α，α
−ジメシルベンジル等が挙げられ、アルコキシ基として
は上記のアルキル基から誘導されるアルコキシ基が挙げ
られる。また、アリール基としてはフェニル、メチルフ
ェニル、ブチルフェニル、シクロヘキシルフェニル等が
挙げられ、アリーロキシ基としては上記のアリール基か
ら誘導されるアリーロキシ基が挙げられる。ハロゲン原
子としては塩素、臭素、沃素が挙げられる。

Ｘで表されるアルキレン基としては、メチレン、メチル
メチレン（エチリデン）、ジチルメチレン（イソプロピ
リデン）、メチルエチルメチレン、1,2−エチレン等が
挙げられる。

従って、本発明で用いられる前記一般式（Ｉ）で表され
る化合物の代表例としては、次に示す化合物が挙げられ
る。

上述の本発明で用いられる前記一般式（Ｉ）で表される
化合物は、例えば、シュウ酸ジエステル、アニリン類、
及びアルキレ若しくはオキシビス（アミノベンゼン）類
を逐次的に反応させることにより容易に製造することが
できる。

次に、本発明で用いられる前記一般式（Ｉ）で表される
化合物の具体的な合成例をあげるが、本発明は下記の合
成例によって制限を受けるものではない。

合成例（No.1化合物の合成） シュウ酸ジエチル29.8g（0.2モル）、２−メトキシアニ
リン24.6g（0.2モル）、キシレン50ml及びホウ酸0.2gを
とり、110〜115℃で生成するアルコールを除去しながら
16時間撹拌した。

冷却して生じた沈澱物を濾別し、エタノール100mlに加
え加熱溶解させ、不溶のジアミド体を熱時に濾過するこ
とによって除去した。

濾液に水を加え、析出した粉末を濾別後、水／エタノー
ル（2/1）混合溶液から再結晶し、融点85.5〜87.5℃の
白色粉末の生成物を得た。

この生成物は、赤外分光分析の結果、1720cm^-1にエステ
ルに基づく吸収があり且つ3400cm^-1にアニリドに基づく
吸収があることから、シュウ酸モノエチルモノ（２−メ
トキシアニリド）であることを確認した。

上記のシュウ酸モノエチルモノ（２−メトキシアニリ
ド）11.2g（0.05モル）、4,4′−メチレンビス（２−エ
チルアニリン）6.36g（0.025モル）、脂肪族炭化水素溶
剤（イプゾール150）20ml及びホウ酸0.15gをとり、160
〜165℃で生成するエタノールを除去しながら30時間撹
拌した。冷却後、微量の不溶物を濾別し、濾液を脱溶媒
した。ここにアセトン20mlを加えることにより、融点20
0〜201.5℃の淡褐色粉末の生成物を得た。

この生成物は、赤外分光分析の結果、1720cm^-1のエステ
ルに基づく吸収が消失しており、目的物であることを確
認した。

本発明は、前記一般式（Ｉ）で表される化合物を高分子
材料に添加してその安定性、特に光安定性を改善するも
のであり、その添加量は、通常、高分子材料100重量部
に対し0.001〜５重量部、好ましくは0.01〜３重量部で
ある。

本発明における安定性改善の対象となる高分子材料とし
ては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブ
テン、ポリ−３−メチルブテン等のα−オレフィン重合
体又はエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プロ
ピレン共重合体等のポリオレフィン及びこれらの共重合
体、ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフッ化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素化
ポリプロピレン、ポリフッ化ビニリデン、臭素化ポリエ
チレン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、
塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−プロピレ
ン共重合体、塩化ビニル−スチレン共重合体、塩化ビニ
ル−イソブチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデ
ン共重合体、塩化ビニル−スチレン−無水マレイン酸三
元共重合体、塩化ビニル−スチレン−アクリロニトリル
共重合体、塩化ビニル−ブタジエン共重合体、塩化ビニ
ル−イソプレン共重合体、塩化ビニル−塩素化プロピレ
ン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニル
三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重合
体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化ビ
ニル−メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−ア
クリロニトリル共重合体、内部可塑化ポリ塩化ビニル等
の含ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポリ
スチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、ポリアクリ
ロニトリル、スチレンと他の単量体（例えば無水マレイ
ン酸、ブタジエン、アクリロニトリル等）との共重合
体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合
体、アクリル酸エステル−ブタジエン−スチレン共重合
体、メタクリル酸エステル−ブタジエン−スチレン共重
合体、ポリメチルメタクリレート等のメタクリレート樹
脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポ
リビニルブチラール、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リブチレンテレフタレート等の直鎖ポリエステル、ポリ
フェニレンオキシド、ポリアミド、ポリカーボネート、
ポリアセタール、ポリウレタン、繊維素系樹脂、或いは
フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ
樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等を挙
げることができる。更に、イソプレンゴム、ブタジエン
ゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム、スチ
レン−ブタジエン共重合ゴム等のゴム類やこれらの樹脂
のブレンド品であってもよい。

また、過酸化物或いは放射線等によって架橋させた架橋
ポリエチレン等の架橋重合体及び発泡剤によって発泡さ
せた発泡ポリスチレン等の発泡重合体も包含される。

本発明の組成物に更にヒンダードアミン系の光安定剤0.
01〜３重量部を添加することによってその光安定性を一
層改善することができる。

このヒンダードアミン系の光安定剤としては、ピベリジ
ン骨格を有するヒンダードアミンが好ましく、例えば、
2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジルベンゾエー
ト、ビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）
セバケート、ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピ
ペリジル）セバケート、ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチ
ル−４−ピペリジル）−２−ブチル−２−（3,5−ジ−
第３ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ト
リス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）ニト
リロトリアセテート、テトラキス（2,2,6,6−テトラメ
チル−４−ピペリジル）−1,2,3,4−ブタンテトラカル
ボキシレート、ビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピ
ペリジル）・ジ（トリデシル）−1,2,3,4−ブタンテト
ラカルボキシレート、ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチル
−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）−1,2,3,4−ブ
タンテトラカルボキシレート、Ｎ−ヒドロキシエチル−
2,2,6,6−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジン／
コハク酸ジメチル縮合物、２−第３オクチルアミノ−4,
6−ジクロロトリアジン/1,6−ビス（2,2,6,6−テトラメ
チル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン縮合物、1,6−
ビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジルアミ
ノ）ヘキサン/1,2−ジブロモエタン縮合物、2,2,4,4−
テトラメチル−７−オキサ−3,20−ジアザジスピロ〔5.
1.11.2〕ヘンエイコサン−21−オン、3,9−ビス〔1,1−
ジメチル−２−トリス（2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジルオキシカルボニル）ブチルカルボニルオキシ
エチル〕−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5.5〕ウン
デカン、3,9−ビス〔1,1−ジメチル−２−トリス（1,2,
2,6,6−ベンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニ
ル）ブチルカルボニルオキシエチル〕−2,4,8,10−テト
ラオキサスピロ〔5.5〕ウンデカン、1,3,8−トリアザ−
３−ドデシル−８−アセチル−7,7,9,9−テトラメチル
スピロ〔4.5〕デカン−2,4−ジオン、1,5,8,12−テトラ
キス〔4,6−ビス〔Ｎ−ブチル−Ｎ−（2,2,6,6−テトラ
メチル−４−ピペリジル）アミノ〕−1,3,5−トリアジ
ン−２−イル〕ドデカン等が挙げられる。

本発明の組成物に更に周知のフェノール系の抗酸化剤を
添加することによってその酸化安定性を一層改善するこ
とができる。このフェノール系抗酸化剤としては、例え
ば、2,6−ジ−第３ブチル−ｐ−クレゾール、2,6−ジフ
ェニル−４−オクトキシフェノール、ステアリル−（3,
5−ジ−メチル−４−ヒドロキシベンジル）チオグリコ
レート、ステアリル−β−（４−ヒドロキシ−3,5−ジ
−第３ブチルフェニル）プロピオネート、ジステアリル
−3,5−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシベンジルホス
ホネート、2,4,6−トリス（３′,5′−ジ−第３ブチル
−４−ヒドロキシベンジルチオ）1,3,5−トリアジン，
ジステアリル（４−ヒドロキシ−３−メチル−５−第３
ブチル）ベンジルマロネート、2,2′−メチレンビス
（４−メチル−６−第３ブチルフェノール）、4,4−メ
チレンビス（2,6−ジ−第３ブチルフェノール）、2,2′
−メチレンビス〔６−（１−メチルシクロヘキシル）ｐ
−クレゾール〕、ビス〔3,5−ビス（４−ヒドロキシ−
３−第３ブチルフェニル）ブチリックアシド〕グリコー
ルエステル、4,4′−ブチルデンビス（６−第３ブチル
−ｍ−クレゾール）、2,2′−エチリデンビス（4,6−ジ
−第３ブチルフェノール）、2,2′−エチリデンビス
（４−第２ブチル−６−第３ブチルフェノール）、1,1,
3−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第３ブ
チルフェノール）ブタン、ビス〔２−第３ブチル−４−
メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−第３ブチル−５−
メチルベンジル）フェニル〕テレフタレート、1,3,5−
トリス（2,6−ジメチル−３−ヒドロキシ−４−第３ブ
チル）ベンジルイソシアヌレート、1,3,5−トリス（3,5
−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−2,4,6
−トリメチルベンゼン、テトラキス〔メチレン−３−
（3,5−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロピオネート〕メタン、1,3,5−トリス（3,5−ジ−第３
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、
1,3,5−トリス〔（3,5−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレ
ート、２−オクチルチオ−4,6−ジ（４−ヒドロキシ−
3,5−ジ−第３ブチル）フェノキシ−1,3,5−トリアシ
ン、4,4′−チオビス（６−第３ブチル−ｍ−クレゾー
ル）等が挙げられる。

本発明の組成物に更に硫黄系の抗酸化剤を加えてその酸
化安定性の改善をはかることもできる。この硫黄系抗酸
化剤としては、例えば、ジラウリル−，ジミリスチル
−，ジステアリル−等のジアルキルチオジプロピオネー
ト及びブチル−，オクチル−，ラウリル−，ステアリル
−等のアルキルチオプロピオン酸の多価アルコール（例
えばグリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロー
ルプロパン、ペンタエリスリトール、トリスヒドロキシ
エチルイソシアヌレート）のエステル（例えばペンタエ
リスリトールテトララウリルチオプロピオネート）が挙
げられる。

本発明の組成物に、更にホスファイト等の含リン化合物
を添加することによってその耐光性及び耐熱性を一層改
善することができる。この含リン化合物としては、例え
ば、トリオクチルホスファイト、トリラウリルホスファ
イト、トリデシルホスファイト、オクチル−ジフェニル
ホスファイト、トリス（2,4−ジ−第３ブチルフェニ
ル）ホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリス
（ブトキシエチル）ホスファイト、トリス（ノニルフェ
ニル）ホスファイト、ジステアリンペンタエリスリトー
ルジホスファイト、テトラ（トリデシル）−1,1,3−ト
リス（２−メチル−５−第３ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）ブタンジホスファイト、テトラ（C₁₂〜₁₅混合
アルキル）−4,4′−イソプロピリデンジフェニルジホ
スファイト、テトラ（トリデシル）−4,4′−ブチリデ
ンビス（３−メチル−６−第３ブチルフェノール）ジホ
スファイト、トリス（3,5−ジ−第３ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）ホスファイト、トリス（モノ・ジ混合
ノニルフェニル）ホスファイト、水素化−4,4′−イソ
プロピリデンジフェノールポリホスファイト、ビス（オ
クチルフェニル）・ビス〔4,4′−ブチリデンビス（３
−メチル−６−第３ブチルフェノール）〕・1,6−ヘキ
サンジオールジホスファイト、フェニル・4,4′−イソ
プロピリデンジフェノール・ペンタエリスリトールジホ
スファイト、ビス（2,4−ジ−第３ブチルフェニル）ペ
ンタエリスリトールジホスファイト、ビス（2,6−ジ−
第３ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトー
ルジホスファイト、トリス〔4,4′−イソプロピリデン
ビス（２−第３ブチルフェノール）〕ホスファイト、フ
ェニル・ジイソデシルホスファイト、ジ（ノニルフェニ
ル）ペンタエリスリトールジホスファイト、トリス（1,
3−ジ−ステアロイルオキシイソプロピル）ホスファイ
ト、4,4′−イソプロピリデンビス（２−第３ブチルフ
ェノール）・ジ（ノニルフェニル）ホスファイト、9,10
−ジ−ハイドロ−９−オキサ−10−フォスファフェナン
スレン−10−オキサイド、テトラキス（2,4−ジ−第３
ブチルフェニル）−4,4′−ビスフェニレンジホスホナ
イト等が挙げられる。

その他必要に応じて、本発明の組成物には重金属不活性
化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合物、可塑剤、エ
ポキシ化合物、顔料、充填剤、発泡剤、帯電防止剤、難
燃剤、滑剤、加工助剤等を包含させることができる。

本発明によって安定化された高分子材料は極めて多様な
形で、例えば、フィルム、繊維、テープ、シート、各種
成型品として使用でき、また、塗料、ラッカー用結合
剤、接着剤、パテ及び写真材料における基材としても用
いることができる。

次に本発明を実施例によって具体的に説明する。しかし
ながら、本発明はこれらの実施例によって限定されるも
のではない。

実施例１ ＜配 合＞ ポリプロピレン 100 重量部 ステアリン酸カルシウム 0.2 ペンタエリスリトールテトラキス（3,5−ジ−第３ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニルプロピオネート） 0.1
安定剤（下記表−１参照） 0.2 上記配合にて厚さ0.3mmのプレスシートを作成し、この
シートについて高圧水銀ランプを用いての耐光性試験を
行った。また、80℃の熱水に48時間浸漬後のシートにつ
いても耐光性試験を行った。その結果を下記表−１に示
す。

実施例２ 本発明の組成物に更にヒンダードアミン系の光安定剤を
併用した時の効果を観察するために、次の配合により、
実施例１と同様にしてシートを作成した。

このシートを用いて、高圧水銀ランプによる耐光性試験
を行った。その結果を下記表−２に示す。

＜配 合＞ ポリプロピレン 100 重量部 ステアリン酸カルシウム 0.2 ペンタエリスリトールテトラキス（3,5−ジ−第３ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニルプロピオネート） 0.1
No.1化合物 0.1 ヒンダードアミン系光安定剤（表−２参照） 0.1 実施例３ 通常の安定剤は樹脂の高温加工時に揮発、分解等により
その効果が著しく失われることが知られている。

本実施例では押し出し加工を繰り返し行うことにより高
温加工による影響を確かめた。

次の配合により樹脂と添加剤をミキサーで５分間混合し
た後、押し出し機でコンパンドを作成した（シリンダー
温度230℃、240℃、ヘッドダイス温度250℃、回転数20r
pm）。押し出しを５回繰り返し行った後このコンパンド
を用いて試験片を射出成形機で作成した（シリンダー温
度240℃、ノズル温度250℃、射出圧475Kg/cm²）。

得られた試験片を用いて高圧水銀ランプで耐光性試験を
行った。また、押し出し１回のものについても同様に試
験した。その結果を下記表−３に示す。

＜配 合＞ エチレン−プロピレン共重合樹脂 100 重量部 ステアリン酸カルシウム 0.2 ステアリル−β−3,5−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキ
シフェニルプロピオネート 0.1 ジラウリルチオジプロピオネート 0.2 安定剤（表−３参照） 0.2 実施例４ ＜配 合＞ ポリエチレン 100 重量部 ステアリン酸カルシウム 1.0 テトラキス〔メチレン−３−（3,5−ジ−第３ブチル−
４−ヒドロキシフェニル（プロピオネート〕メタン 0.1
ジステアリルチオジプロピオネート 0.3 安定剤（表−４参照） 0.2 上記配合物を混練後プレスとして厚さ0.5mmのシートを
作成した。このシートを用いてウエザオメーター中で耐
光性を測定し、脆化するまでの時間を測定した。その結
果を下記表−４に示す。

実施例５ ＜配 合＞ 重量部 ポリ塩化ビニル（ビニカ37H） 100 ジ−２−エチルヘキシルフタレート 45 トリクレジルホスフェート 5 エポキシ樹脂（エピコート828） 3 ステアリン酸バリウム 0.3 バリウムノニルフェネート 0.3 ステアリン酸亜鉛 0.6 オクチルジフェニルホスファイト 0.5 ソルビタンモノパルミテート 2.0 メチレンビスステアリルアミド 0.3 安定剤（表−５参照） 0.1 上記配合により、混練ロールで厚さ0.1mmのフィルムを
作成した。このフィルムを用いてウエザオメーター中で
の耐候性試験を行った。その結果を下記表−５に示す。

実施例６ ＜配 合＞ ABS樹脂 100 重量部 4,4′−ブチリデンビス（２−第３ブチル−ｍ−クレゾ
ール） 0.1 安定剤（表−６参照） 0.25 上記配合物をロール練り後プレスして厚さ3mmのシート
を作成した。このシートを用いウエザオメーター中で80
0時間照射後の抗張力残率を測定した。その結果を下記
表−６に示す。

実施例７ ＜配 合＞ ポリウレタン樹脂（旭電化製Ｕ−100） 100 重量部 ステアリン酸バリウム 0.7 ステアリン酸亜鉛 0.3 2,6−ジ−第３ブチル−ｐ−クレゾール 0.1 安定剤（表−７参照） 0.5 上記配合物を70℃で５分間ロール上で混練し、120℃で
５分間プレスして厚さ0.5mmのシートを作成した。この
シートを用いてフェードメーターにて50時間照射後の伸
び残率を測定した。その結果を下記表−７に示す。

実施例８ 本発明の安定剤成分は塗料用の光安定剤としても有用で
ある。本実施例においては金属顔料を含有するベースコ
ート及び透明なトップコートからなる二層金属光沢塗料
についてその効果をみた。

ａ）ベースコート塗料 メタクリル酸メチル100g、アクリル酸ｎ−ブチル66g、
メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル30g、メタクリル
酸4g、キシレン80g及びｎ−ブタノール20gをとり、110
℃に加熱撹拌しながらアゾビスイソブチロニトリル2g、
ドデシルメルカプタン0.5g、キシレン80g及びｎ−ブタ
ノール20gからなる溶液を３時間で滴下した。その後同
温度で２時間撹拌し、樹脂固形分50％のアクリル樹脂溶
液を調製した。

上記アクリル樹脂溶液12重量部、ブトキシ化メチロール
メラミン（三井東圧社製；ユーバン20SE60;樹脂固形分6
0％）2.5重量部、セルロースアセテートブチレート樹脂
（20％酢酸ブチル溶液）50重量部、アルミニウム顔料
（東洋アルミニウム社製；アルペースト1123N）5.5重量
部、キシレン10重量部、酢酸ブチル20重量部及び銅フタ
ロシアニンブルー0.2重量部をとりベースコート塗料と
した。

ｂ）トップコート塗料 上記アクリル樹脂溶液48重量部、ブトキシ化メチロール
メラミン10重量部、キシレン10重量部、ブチルグリコー
ルアセテート４重量部及び安定剤（表−８参照）0.15重
量部（固形分に対し0.5％）をとり、トップコート塗料
とした。

プライマー処理した鋼板にベースコート塗料を乾燥膜厚
が20μになるようにスプレーし、10分間放置後トップコ
ート塗料を乾燥膜圧が30μになるようにスプレーした。
15分間放置後140℃で30分間焼付し試片とした。

上記試片をウエザオメーターに入れ塗膜のワレの発生す
るまでの時間を測定した。その結果を下記表−８に示
す。

〔発明の効果〕 本発明の高分子材料組成物は、安定性、特に光安定性の
著しく改善されたもので、例えば、フィルム、繊維、テ
ープ、シート、各種成型品として使用でき、また、塗
料、ラッカー用結合剤、接着剤、パテ及び写真材料にお
ける基材としても用いることができる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】高分子材料100重量部に、次の一般式
   （Ｉ）で表される化合物0.001〜５重量部を配合してな
   る、光安定性の改善された高分子材料組成物。 一般式（Ｉ） （式中、R₁,R₂,R₃及びR₄は各々水素原子、アルキル基、
   アルコキシ基、アリール基、アリーロキシ基又はハロゲ
   ン原子を示し、Ｘはアルキレン基又は酸素原子を示し、
   ｎは１〜10の数を示す。）