JPS6218443A - 安定化高分子材料組成物 - Google Patents
安定化高分子材料組成物Info
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- JPS6218443A JPS6218443A JP60157727A JP15772785A JPS6218443A JP S6218443 A JPS6218443 A JP S6218443A JP 60157727 A JP60157727 A JP 60157727A JP 15772785 A JP15772785 A JP 15772785A JP S6218443 A JPS6218443 A JP S6218443A
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- Japan
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- tert
- butyl
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
- C07D401/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing three or more hetero rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3467—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
- C08K5/3477—Six-membered rings
- C08K5/3492—Triazines
- C08K5/34926—Triazines also containing heterocyclic groups other than triazine groups
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、特に耐光性の改善された高分子材料組成物、
詳しくは、2,2,6.6−テトラメチルピペリジル基
を有するシアヌレートHAm体を含有させてなる特に耐
光性の改善された高分子材料組成物に関する。
詳しくは、2,2,6.6−テトラメチルピペリジル基
を有するシアヌレートHAm体を含有させてなる特に耐
光性の改善された高分子材料組成物に関する。
(従来の技術及び発明が解決しようとする問題点〕ポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等の合成樹
脂は一般に光の効果に対して敏感であり、その作用によ
り劣化し、変色或いは機械的強度の低下等を引き起こし
、長期の使用に耐えないことが知られている。
エチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等の合成樹
脂は一般に光の効果に対して敏感であり、その作用によ
り劣化し、変色或いは機械的強度の低下等を引き起こし
、長期の使用に耐えないことが知られている。
そこで、この光による合成樹脂の劣化を防止するために
、従来種々の安定剤が用いられてきたが、従来用いられ
てきた光安定剤はその安定化効果がまだ不十分であり、
また安定剤自体が熱或いは酸化に対して不安定であった
り、水等の溶剤によって樹脂から抽出され易いものが多
く、さらに樹脂に着色を与えるものが多い等の欠点を持
っており、長期にわたって合成樹脂を安定化することが
できなかった。
、従来種々の安定剤が用いられてきたが、従来用いられ
てきた光安定剤はその安定化効果がまだ不十分であり、
また安定剤自体が熱或いは酸化に対して不安定であった
り、水等の溶剤によって樹脂から抽出され易いものが多
く、さらに樹脂に着色を与えるものが多い等の欠点を持
っており、長期にわたって合成樹脂を安定化することが
できなかった。
これら従来用いられてきた光安定剤の中でもピペリジン
系の化合物はそれ自体が非着色性であり、近年特に注目
されている。
系の化合物はそれ自体が非着色性であり、近年特に注目
されている。
しかしながら、従来知られているピペリジン系の化合物
は光安定化能が不十分であり、また、水によって樹脂か
ら容易に抽出されてしまうという欠点もあった。
は光安定化能が不十分であり、また、水によって樹脂か
ら容易に抽出されてしまうという欠点もあった。
また、これらのピペリジン系の化合物は化合物自体の耐
熱性が不十分であり、合成樹脂を高温で加工する際など
に、分解或いは揮敗し、その効果を失う場合も多かった
。
熱性が不十分であり、合成樹脂を高温で加工する際など
に、分解或いは揮敗し、その効果を失う場合も多かった
。
これらのピペリジン系化合物のうち、トリアジン環を含
有する化合物は比較的化合物自体の耐熱性が良好であり
、また、原料として安価な塩化シアヌルを用いることが
でき、反応も容易である等の利点を有している。
有する化合物は比較的化合物自体の耐熱性が良好であり
、また、原料として安価な塩化シアヌルを用いることが
でき、反応も容易である等の利点を有している。
トリアジン環を含有するピペリジン化合物としては特開
昭49−21389号、特開昭52−71486号、特
開昭52−738.86号、特開昭53−9782号、
特開昭53−67749号、特開昭54−106483
号、特開昭54−126249号、特開昭55−981
80号、特開昭55−102637号、特開昭55−1
04279号、特開昭56−4639号及び特開昭56
−30974号の各公報に種々の化合物が提案されてい
る。
昭49−21389号、特開昭52−71486号、特
開昭52−738.86号、特開昭53−9782号、
特開昭53−67749号、特開昭54−106483
号、特開昭54−126249号、特開昭55−981
80号、特開昭55−102637号、特開昭55−1
04279号、特開昭56−4639号及び特開昭56
−30974号の各公報に種々の化合物が提案されてい
る。
これら公報記載の化合物の中でも、特開昭49−213
89号公報に記載された化合物は、製造も容易であり、
比較的良好な効果を有するが、比較的低分子量であるた
めに耐熱性、耐抽出性が不充分であり、その改善が必要
であった。
89号公報に記載された化合物は、製造も容易であり、
比較的良好な効果を有するが、比較的低分子量であるた
めに耐熱性、耐抽出性が不充分であり、その改善が必要
であった。
これらの改善を目的として、多価アミン又は多価アルコ
ールでトリアジン環を結合することも提案されているが
、製法が煩雑となるばかりでなく、安定化に寄与するピ
ペリジン環の含有量が低下する場合が多く、満足し得る
ものではなかった。
ールでトリアジン環を結合することも提案されているが
、製法が煩雑となるばかりでなく、安定化に寄与するピ
ペリジン環の含有量が低下する場合が多く、満足し得る
ものではなかった。
本発明者等は、かかる現状に鑑み、鋭意検討を重ねた結
果、次の一般式(I)で表される化合物が耐熱性、耐抽
出性及び光安定化能に優れ、高分子材料用の安定剤とし
て極めて有用であることを知見した。
果、次の一般式(I)で表される化合物が耐熱性、耐抽
出性及び光安定化能に優れ、高分子材料用の安定剤とし
て極めて有用であることを知見した。
一般式(I)
(式中、Rは水素原子、アルキル基、アルケニル基、ア
シル基又はオキシルを示す、X及びYは各々OR,又は
N を示し、RIはアルキル基又はアリール基を示
し、R2及びR1は各々水素を示し、またR2とR1は
互いに結合して窒素原子と共に5〜6員環を形成しても
良い、)本発明は、上記知見に基づきなされたもので、
高分子材料100重量部に、上記一般式(I)で表され
る化合物0.001〜5重量部を添加してなる、安定化
高分子材料組成物を提供するものである。
シル基又はオキシルを示す、X及びYは各々OR,又は
N を示し、RIはアルキル基又はアリール基を示
し、R2及びR1は各々水素を示し、またR2とR1は
互いに結合して窒素原子と共に5〜6員環を形成しても
良い、)本発明は、上記知見に基づきなされたもので、
高分子材料100重量部に、上記一般式(I)で表され
る化合物0.001〜5重量部を添加してなる、安定化
高分子材料組成物を提供するものである。
以下、本発明の安定化高分子材料組成物について詳述す
る。
る。
本発明で用いられる前記一般式(I)で表される化合物
において、Rで表されるアルキル基としては、例えば、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ア
ミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、2−エチルヘキ
シル、ノニル、デシル、ドデシル、オクタデシル、ベン
ジル、フェニルエチル、2−一ヒドロキシエチル、2−
ヒドロキシプロピル、2−ヒドロキシブチル、2.3−
エポキシプロビル等があげられ、アルケニル基としては
アリル等があげられ、アシル基としては、例えば、アセ
チル、プロピオニル、ブチロイル、アクリロイル、メタ
クリロイル、オククノイル、ヘンヅイル等があげられる
。
において、Rで表されるアルキル基としては、例えば、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ア
ミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、2−エチルヘキ
シル、ノニル、デシル、ドデシル、オクタデシル、ベン
ジル、フェニルエチル、2−一ヒドロキシエチル、2−
ヒドロキシプロピル、2−ヒドロキシブチル、2.3−
エポキシプロビル等があげられ、アルケニル基としては
アリル等があげられ、アシル基としては、例えば、アセ
チル、プロピオニル、ブチロイル、アクリロイル、メタ
クリロイル、オククノイル、ヘンヅイル等があげられる
。
R+、Rt及びR3で表されるアルキル基としては、例
えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、第2ブチル、ヘキシル、シクロヘキシ
ル、オクチル、イソオクチル、2−エチルヘキシル、第
3オクチル、デシル、ドデシル、テトラデシル、オクタ
デシル、2−ヒドロキシエチル、メトキシエチル、ブト
キシエチル、ジメチルアミノプロピル等があげられる。
えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、第2ブチル、ヘキシル、シクロヘキシ
ル、オクチル、イソオクチル、2−エチルヘキシル、第
3オクチル、デシル、ドデシル、テトラデシル、オクタ
デシル、2−ヒドロキシエチル、メトキシエチル、ブト
キシエチル、ジメチルアミノプロピル等があげられる。
R,、R,及びR3で表されるアリール基としては、例
えば、フェニル、ナフチル、トリル、キシリル、第3ブ
チルフエニル、オクチルフェニル、2.4−ジー第3ブ
チルフエニル、ノニルフェニル、ジノニルフェニル等が
あげられる。
えば、フェニル、ナフチル、トリル、キシリル、第3ブ
チルフエニル、オクチルフェニル、2.4−ジー第3ブ
チルフエニル、ノニルフェニル、ジノニルフェニル等が
あげられる。
また、R2とR3が互いに結合して窒素原子と共に形成
する5〜6員環としては、例えば、ピロリジノ、ピペリ
ジノ、モルホリノ、メチルピペラジノ等があげられる。
する5〜6員環としては、例えば、ピロリジノ、ピペリ
ジノ、モルホリノ、メチルピペラジノ等があげられる。
本発明で用いられる前記一般式(I)で表される化合物
の代表例を次の表−1に示す。
の代表例を次の表−1に示す。
表−1
N[Ll
1h2
し4 II q シa II q寛3
隅4
11k15
寛6
阻7
隘9
隘10
U−L;Js
階11
本発明で用いられる前記一般式(I)で表される化合物
は、例えば、塩化シアヌルとテトラメチルピペリジン類
とを反応させること、又は塩化シアヌルとテトラメチル
ピペリジン類とを反応させた後、該反応物とアミン類、
アルコール類又はフェノール類とを反応させることによ
り容易に製造することができる。また、塩化シアヌルと
アミン類(又はアルコール類、フェノール類)とを反応
させた後、該反応物とテトラメチルピペリジン類とを反
応させることによっても容易に製造することができる。
は、例えば、塩化シアヌルとテトラメチルピペリジン類
とを反応させること、又は塩化シアヌルとテトラメチル
ピペリジン類とを反応させた後、該反応物とアミン類、
アルコール類又はフェノール類とを反応させることによ
り容易に製造することができる。また、塩化シアヌルと
アミン類(又はアルコール類、フェノール類)とを反応
させた後、該反応物とテトラメチルピペリジン類とを反
応させることによっても容易に製造することができる。
以下に本発明で用いられる前記一般式(I)で表される
化合物の合成例を示し、本発明をさらに詳細に説明する
が、本発明は以下の合成例によって制限を受けるもので
はない。
化合物の合成例を示し、本発明をさらに詳細に説明する
が、本発明は以下の合成例によって制限を受けるもので
はない。
合成例1 (表−1の11m1化合物の合成)2.4−
ジクロロ−6−ジニチルアミノトリアジン2.21g及
びビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ニル)アミン5.90gをキシレン25m1に溶解した
。これに、粉末水酸化ナトリウム0.88 g及び沃化
ナトリウム0.45 gを加え、還流温度で30時間加
熱攪拌した。冷却後水洗した。次いで、キシレン層を硫
酸すトリウムで乾燥後減圧下に脱溶媒して、n−ヘキサ
ンを加えることにより、融点210〜212°Cの白色
粉末(目的物)を得た。
ジクロロ−6−ジニチルアミノトリアジン2.21g及
びビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ニル)アミン5.90gをキシレン25m1に溶解した
。これに、粉末水酸化ナトリウム0.88 g及び沃化
ナトリウム0.45 gを加え、還流温度で30時間加
熱攪拌した。冷却後水洗した。次いで、キシレン層を硫
酸すトリウムで乾燥後減圧下に脱溶媒して、n−ヘキサ
ンを加えることにより、融点210〜212°Cの白色
粉末(目的物)を得た。
合成例2(表−1の隘4化合物の合成)ビス(2,2,
6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)アミン6.
20gをキシレン25m1に溶解した。これに、粉末水
酸化ナトリウム0.93gを加え、水冷下、塩化シアヌ
ル1.29 gを滴加した。次いで、沃化ナトリウム0
.42 gを加え、還流温度で20時間加熱攪拌した。
6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)アミン6.
20gをキシレン25m1に溶解した。これに、粉末水
酸化ナトリウム0.93gを加え、水冷下、塩化シアヌ
ル1.29 gを滴加した。次いで、沃化ナトリウム0
.42 gを加え、還流温度で20時間加熱攪拌した。
冷却後水洗した。次いで、キシレン層を硫酸ナトリウム
で乾燥後減圧下に脱溶媒して、n−ヘキサンを加えるこ
とにより、白色粉末(目的物、363°Cで昇!m)を
得た。
で乾燥後減圧下に脱溶媒して、n−ヘキサンを加えるこ
とにより、白色粉末(目的物、363°Cで昇!m)を
得た。
本発明は、前記一般式(I)で表される化合物を高分子
材料に添加して特にその耐光性を改善するものであり、
その添加量は、通常、高分子材料100重量部に対し0
.001〜5重量部、好ましくは0.01〜3重量部で
ある。
材料に添加して特にその耐光性を改善するものであり、
その添加量は、通常、高分子材料100重量部に対し0
.001〜5重量部、好ましくは0.01〜3重量部で
ある。
本発明における安定性改善の対象となる高分子材料とし
ては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブ
テン、ポリ−3−メチルブテン等のα−オレフィン重合
体又はエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プロ
ピレン共重合体等のポリオレフィン及びこれらの共重合
体、ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフッ化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素化
ポリプロピレン、ポリフッソ化ビニルデン、臭素化ポリ
エチレン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−プロピ
レン共重合体、塩化ビニルーーースチレン共重合体、塩
化ビニル−イソブチレン共1重合体、塩化ビニル−塩化
ビニリデン共重合体、塩化ビニル−スチレン−無水マレ
イン酸三元共重合体、塩化ビニル−スチレン−アクリロ
ニトリル共重合体、塩化ビニル−ブタジェン共重合体、
塩化ビニル−イソプレン共重合体、塩化ビニル−塩素化
プロピレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢
酸ビニル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステ
ル共重合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体
、塩化ビニルーメククリル酸エステル共重合体、塩化ビ
ニル−アクリロニトリル共重合体、内部可塑化ポリ塩化
ビニル等の含ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、クマロン樹
脂、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、ス
チレンと他の単量体(例えば無水マレイン酸、ブタジェ
ン、アクリロニトリル等)との共重合体、アクリロニト
リル−ブタジェン−スチレン共重合体、アクリル酸エス
テル−ブタジェン−スチレン共重合体、メタクリル酸エ
ステル−ブタジェン−スチレン共重合体、ポリメチルメ
タクリレート等のメタクリレート樹脂、ポリビニルアル
コール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール
、直鎖ポリエステル、ポリフェニレンオキシド、ポリア
ミド、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリウレタ
ン、繊維素系樹脂、或いはフェノール樹脂、ユリア樹脂
、メラミン樹脂、エポキソ樹脂、不飽和ポリエステル樹
脂、シリコーン樹脂等をあげることができる。更に、イ
ソプレンゴム、ブタジェンゴム、アクリロニトリル−ブ
タジェン共重合ゴム、スチレン−ブタジェン共重合ゴム
等のゴム類やこれらの樹脂のブレンド品であってもよい
。
ては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブ
テン、ポリ−3−メチルブテン等のα−オレフィン重合
体又はエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プロ
ピレン共重合体等のポリオレフィン及びこれらの共重合
体、ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフッ化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素化
ポリプロピレン、ポリフッソ化ビニルデン、臭素化ポリ
エチレン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−プロピ
レン共重合体、塩化ビニルーーースチレン共重合体、塩
化ビニル−イソブチレン共1重合体、塩化ビニル−塩化
ビニリデン共重合体、塩化ビニル−スチレン−無水マレ
イン酸三元共重合体、塩化ビニル−スチレン−アクリロ
ニトリル共重合体、塩化ビニル−ブタジェン共重合体、
塩化ビニル−イソプレン共重合体、塩化ビニル−塩素化
プロピレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢
酸ビニル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステ
ル共重合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体
、塩化ビニルーメククリル酸エステル共重合体、塩化ビ
ニル−アクリロニトリル共重合体、内部可塑化ポリ塩化
ビニル等の含ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、クマロン樹
脂、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、ス
チレンと他の単量体(例えば無水マレイン酸、ブタジェ
ン、アクリロニトリル等)との共重合体、アクリロニト
リル−ブタジェン−スチレン共重合体、アクリル酸エス
テル−ブタジェン−スチレン共重合体、メタクリル酸エ
ステル−ブタジェン−スチレン共重合体、ポリメチルメ
タクリレート等のメタクリレート樹脂、ポリビニルアル
コール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール
、直鎖ポリエステル、ポリフェニレンオキシド、ポリア
ミド、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリウレタ
ン、繊維素系樹脂、或いはフェノール樹脂、ユリア樹脂
、メラミン樹脂、エポキソ樹脂、不飽和ポリエステル樹
脂、シリコーン樹脂等をあげることができる。更に、イ
ソプレンゴム、ブタジェンゴム、アクリロニトリル−ブ
タジェン共重合ゴム、スチレン−ブタジェン共重合ゴム
等のゴム類やこれらの樹脂のブレンド品であってもよい
。
また、過酸化物或いは放射線等によって架橋させた架橋
ポリエチレン等の架橋重合体及び発泡剤によって発泡さ
せた発泡ポリスチレン等の発泡重合体も包含される。
ポリエチレン等の架橋重合体及び発泡剤によって発泡さ
せた発泡ポリスチレン等の発泡重合体も包含される。
本発明の組成物に更にフェノール系の抗酸化剤を添加す
ることによってその酸化安定性を一層改善することがで
きる。このフェノール系抗酸化剤としては、例えば、2
,6−ジー第3ブチル−p−クレゾール、2.6−ジフ
ェニル−4−オクトキシフェノール、ステアリル−(3
,5−ジ−メチル−4−ヒドロキシヘンシル)チオグリ
コレート、ステアリル−β−(4−ヒドロキシ−3,5
−ジー第3ブチルフエニル)プロピ第2−ト、ジステア
リル−3,5−ノー第3ブチル−4−ヒドロキンヘンシ
ルホスホネート、2,4.6−)リス(3’、5°−ジ
ー第3ブチル−4−ヒドロキノヘンノルチオ) 1.
3. 5.−1−リアジン、ジステアリル(4−ヒド
ロキン−3−メチル−5−第3ブチル)ヘンシルマロネ
ート、2.2°−メチレンビス(4−メチル−6−第3
ブチルフエノール)、4.4’−メチレンビス(2,6
−ジー第3ブチルフエノール)、2.2’−メチレンビ
ス(6−−(I−メチルソクロヘキシル)p−クレゾー
ル〕、ビス〔3,5−ビス(4−ヒドロキン−3−第3
ブチルフェニル)ブチリックアシド〕グリコ、−ルエス
テル、4.4°−ブチリデンビス(6−第3ブチル−m
−クレゾール)、2.2”−エチリデンビス(4,6−
ジー第3ブチルフエノール)、2.2’−エチリデンビ
ス(4−第2ブチル−6−第3ブチルフエノール)、1
.1゜3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5=
第3ブチルフエニル)ブタン、ビス〔2−第3ブチル−
4−メチル−6−(2−ヒドロキシ−3−第3ブチル−
5−メチルヘンシル)フェニル〕テレフタレート、!、
3.5−1リス(2,6−シメチルー3−ヒドロキシ−
4−第3ブチル)ヘンシルイソシアヌレート、1.3.
5−)リス(3゜5−ジー第3ブチル−4−ヒドロキン
ヘンシル)−2,4,6−−1−リメチルヘンゼン、テ
トラキス〔メチレン−3−(3,5−ジー第3ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)プロピオネートコメタン、1
.3.5−トリス (3,5−ジー第3ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジル)イソシアヌレート、l。
ることによってその酸化安定性を一層改善することがで
きる。このフェノール系抗酸化剤としては、例えば、2
,6−ジー第3ブチル−p−クレゾール、2.6−ジフ
ェニル−4−オクトキシフェノール、ステアリル−(3
,5−ジ−メチル−4−ヒドロキシヘンシル)チオグリ
コレート、ステアリル−β−(4−ヒドロキシ−3,5
−ジー第3ブチルフエニル)プロピ第2−ト、ジステア
リル−3,5−ノー第3ブチル−4−ヒドロキンヘンシ
ルホスホネート、2,4.6−)リス(3’、5°−ジ
ー第3ブチル−4−ヒドロキノヘンノルチオ) 1.
3. 5.−1−リアジン、ジステアリル(4−ヒド
ロキン−3−メチル−5−第3ブチル)ヘンシルマロネ
ート、2.2°−メチレンビス(4−メチル−6−第3
ブチルフエノール)、4.4’−メチレンビス(2,6
−ジー第3ブチルフエノール)、2.2’−メチレンビ
ス(6−−(I−メチルソクロヘキシル)p−クレゾー
ル〕、ビス〔3,5−ビス(4−ヒドロキン−3−第3
ブチルフェニル)ブチリックアシド〕グリコ、−ルエス
テル、4.4°−ブチリデンビス(6−第3ブチル−m
−クレゾール)、2.2”−エチリデンビス(4,6−
ジー第3ブチルフエノール)、2.2’−エチリデンビ
ス(4−第2ブチル−6−第3ブチルフエノール)、1
.1゜3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5=
第3ブチルフエニル)ブタン、ビス〔2−第3ブチル−
4−メチル−6−(2−ヒドロキシ−3−第3ブチル−
5−メチルヘンシル)フェニル〕テレフタレート、!、
3.5−1リス(2,6−シメチルー3−ヒドロキシ−
4−第3ブチル)ヘンシルイソシアヌレート、1.3.
5−)リス(3゜5−ジー第3ブチル−4−ヒドロキン
ヘンシル)−2,4,6−−1−リメチルヘンゼン、テ
トラキス〔メチレン−3−(3,5−ジー第3ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)プロピオネートコメタン、1
.3.5−トリス (3,5−ジー第3ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジル)イソシアヌレート、l。
3.5−トリス ((3,5−ジー第3ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)プロピオニルオキシエチル〕イソシ
アヌレート、2−オクチルチオ−4゜6−ジ(4−ヒド
ロキシ−3,5−ジー第3ブチル)フェノキシ−1,3
,5−トリアジン、4゜4゛−チオビス(6−第3ブチ
ル−m−クレゾール)等のフェノール類及び4,4°−
ブチリデンビス(2−第3ブチル−5−メチルフェノー
ル)の炭酸オリゴエステル(例えば重合度2.3.4゜
5.6.7.8.9.10等)等の多価フェノール炭酸
オリゴエステル類があげられる。
ドロキシフェニル)プロピオニルオキシエチル〕イソシ
アヌレート、2−オクチルチオ−4゜6−ジ(4−ヒド
ロキシ−3,5−ジー第3ブチル)フェノキシ−1,3
,5−トリアジン、4゜4゛−チオビス(6−第3ブチ
ル−m−クレゾール)等のフェノール類及び4,4°−
ブチリデンビス(2−第3ブチル−5−メチルフェノー
ル)の炭酸オリゴエステル(例えば重合度2.3.4゜
5.6.7.8.9.10等)等の多価フェノール炭酸
オリゴエステル類があげられる。
本発明の組成物に更に硫黄系の抗酸化剤を加えてその酸
化安定性の改善をはかることもできる。
化安定性の改善をはかることもできる。
この硫黄系抗酸化剤としては、例えば、ジラウリル−、
シミリスチル−、ジステアリル−等のジアルキルチオジ
プロビオネ−1−及びブチル−、オクチル−、ラウリル
−、ステアリル−等のアルキルチオプロピオン酸の多価
アルコール(例えばグリセリン、トリメチロールエタン
、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ト
リスヒドロキシエチルイソシアヌレート)のエステル(
例えばペンタエリスリトールテトララウリルチオプロピ
オネート)があげられる。
シミリスチル−、ジステアリル−等のジアルキルチオジ
プロビオネ−1−及びブチル−、オクチル−、ラウリル
−、ステアリル−等のアルキルチオプロピオン酸の多価
アルコール(例えばグリセリン、トリメチロールエタン
、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ト
リスヒドロキシエチルイソシアヌレート)のエステル(
例えばペンタエリスリトールテトララウリルチオプロピ
オネート)があげられる。
本発明の組成物に更にホスファイト等の含リン化合物を
添加することによっ°(その耐光性及び耐熱性を一層改
善することができる。この含リン化合物としては、例え
ば、トリオクチルホスファイト、トリラウリルホスファ
イト、トリデシルホスファイト、オクチル−ジフェニル
ホスファイト、トリス(2,4−ジー第3ブチルフエニ
ル)ホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリス
(ブトキシエチル)ホスファイト、トリス(ノニルフェ
ニル)ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトー
ルジホスファイト、テトラ(トリデシル)−1,1,3
−トリス(2−メチル−5−第3ブチル−4−ヒドロキ
シフェニル)ブタンジホスファイト、テトラ(C+□〜
、5混合アルキル)−4,4°−イソプロピリデンジフ
ェニルジホスファイト、テトラ(トリデシル)−4,4
°−ブチリデンビス(3−メチル−6=第3ブチルフエ
ノール)ジホスファイト、トリス(3,5−ジー第3ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)ホスファイト、トリス
(モノ・ジ混合ノニルフェニル)ホスファイト、水素化
−4,4”−イソプロピリデンジフェノールポリホスフ
ァイト、ビス(オクチルフェニル)・ビス〔4,4°−
ブチリデンビス(3−メチル−6−第3〕゛チルフエノ
ニル)〕 ・1.6−ヘキサンジオールジホスファイト
、フェニル・4,4°−イソプロピリデンジフェノール
・ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2、4
−’、;−第3 ブチルフェニル)ペンタエリスリトー
ルジホスファイト、ビス(2,6−ジー第3ブチル−4
−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイ
ト、トリス〔4,4°−イソプロピリデンビス(2−第
3ブチルフエノール)〕ホスファイト、フェニル・ジイ
ソデシルホスファイト、ジ(ノニルフェニル)ペンタエ
リスリトールジホスファイト、トリス(l、3−ジ−ス
テア0イルオキシイソプロピル)ホスファイト、4.4
°−イソプロピリデンビス(2−第3ブチルフエノール
)・ジ(ノニルフェニル)ホスファイト、9.10−ジ
−ハイドロ−9−オキサ−10−フォスノアフェナンス
レン−10−オキサイド、テトラキス(2,4−ジー第
3ブチルフエニル)−4,4°−ビフエニレンジホスホ
ナイト等があげられる。
添加することによっ°(その耐光性及び耐熱性を一層改
善することができる。この含リン化合物としては、例え
ば、トリオクチルホスファイト、トリラウリルホスファ
イト、トリデシルホスファイト、オクチル−ジフェニル
ホスファイト、トリス(2,4−ジー第3ブチルフエニ
ル)ホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリス
(ブトキシエチル)ホスファイト、トリス(ノニルフェ
ニル)ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトー
ルジホスファイト、テトラ(トリデシル)−1,1,3
−トリス(2−メチル−5−第3ブチル−4−ヒドロキ
シフェニル)ブタンジホスファイト、テトラ(C+□〜
、5混合アルキル)−4,4°−イソプロピリデンジフ
ェニルジホスファイト、テトラ(トリデシル)−4,4
°−ブチリデンビス(3−メチル−6=第3ブチルフエ
ノール)ジホスファイト、トリス(3,5−ジー第3ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)ホスファイト、トリス
(モノ・ジ混合ノニルフェニル)ホスファイト、水素化
−4,4”−イソプロピリデンジフェノールポリホスフ
ァイト、ビス(オクチルフェニル)・ビス〔4,4°−
ブチリデンビス(3−メチル−6−第3〕゛チルフエノ
ニル)〕 ・1.6−ヘキサンジオールジホスファイト
、フェニル・4,4°−イソプロピリデンジフェノール
・ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2、4
−’、;−第3 ブチルフェニル)ペンタエリスリトー
ルジホスファイト、ビス(2,6−ジー第3ブチル−4
−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイ
ト、トリス〔4,4°−イソプロピリデンビス(2−第
3ブチルフエノール)〕ホスファイト、フェニル・ジイ
ソデシルホスファイト、ジ(ノニルフェニル)ペンタエ
リスリトールジホスファイト、トリス(l、3−ジ−ス
テア0イルオキシイソプロピル)ホスファイト、4.4
°−イソプロピリデンビス(2−第3ブチルフエノール
)・ジ(ノニルフェニル)ホスファイト、9.10−ジ
−ハイドロ−9−オキサ−10−フォスノアフェナンス
レン−10−オキサイド、テトラキス(2,4−ジー第
3ブチルフエニル)−4,4°−ビフエニレンジホスホ
ナイト等があげられる。
本発明の組成物に他の光安定剤を添加することによって
その耐光性をさらに改善することができる。この光安定
剤としては、例えば、2−ヒドロキシ−4−メトキシベ
ンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシヘ
ンシフエノン、2゜2°−ジ−ヒドロキシ−4−メトキ
シベンゾフェノン、2.4−ジヒドロキシベンゾフェノ
ン等のヒドロキシベンゾフェノン類、2−(2°−ヒド
ロキシ−3°−t−−フチルー5°−メチルフェニル)
−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2°−ヒドロ
キシ−3° 、5”−ジー【−ブチルフェニル)−5−
クロロベンゾトリアゾール、2−(2゛−ヒドロキシ−
5゛−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2
’−ヒドロキシ−3° 5°−ジ−t−アミルフェニル
)ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール類、フェ
ニルサリシレート、p−t−プチルフェニルサリシレー
ト、2.4−ジ−t−ブチルフェニル−3,5−ジ−t
−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル
−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエー
ト等のベンゾエート類、2゜2°−チオビス(4−も−
オクチルフェノールNi塩、(2.2’−チオビス(4
−t−オクチルフェノラート)〕−〕nジーチルアミン
Ni (3。
その耐光性をさらに改善することができる。この光安定
剤としては、例えば、2−ヒドロキシ−4−メトキシベ
ンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシヘ
ンシフエノン、2゜2°−ジ−ヒドロキシ−4−メトキ
シベンゾフェノン、2.4−ジヒドロキシベンゾフェノ
ン等のヒドロキシベンゾフェノン類、2−(2°−ヒド
ロキシ−3°−t−−フチルー5°−メチルフェニル)
−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2°−ヒドロ
キシ−3° 、5”−ジー【−ブチルフェニル)−5−
クロロベンゾトリアゾール、2−(2゛−ヒドロキシ−
5゛−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2
’−ヒドロキシ−3° 5°−ジ−t−アミルフェニル
)ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール類、フェ
ニルサリシレート、p−t−プチルフェニルサリシレー
ト、2.4−ジ−t−ブチルフェニル−3,5−ジ−t
−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル
−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエー
ト等のベンゾエート類、2゜2°−チオビス(4−も−
オクチルフェノールNi塩、(2.2’−チオビス(4
−t−オクチルフェノラート)〕−〕nジーチルアミン
Ni (3。
5 − シー t−フチルー4−ヒドロキシベンジル)
ホスホン酸モノエチルエステルNi塩等のニッケル化合
物類、α−シアノ−β−メチル−β−(ρーメトキシフ
ェニル)アクリル類メチル等の置換アクリロニトリル類
及びN−2−エチルフェニル−N゛−2−エトキシ−5
−第3ブチルフエニルシユウ酸ジアミド、N−2−エチ
ルフェニル−N゛−2−エトキシフェニルシュウ酸ジア
ミド等のシュウ酸ジアニリド類があげられる。
ホスホン酸モノエチルエステルNi塩等のニッケル化合
物類、α−シアノ−β−メチル−β−(ρーメトキシフ
ェニル)アクリル類メチル等の置換アクリロニトリル類
及びN−2−エチルフェニル−N゛−2−エトキシ−5
−第3ブチルフエニルシユウ酸ジアミド、N−2−エチ
ルフェニル−N゛−2−エトキシフェニルシュウ酸ジア
ミド等のシュウ酸ジアニリド類があげられる。
その他必要に応じて、本発明の組成物には重金属不活性
化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合物、可塑剤、エ
ポキシ化合物、顔料、充填剤、発泡剤、帯電防止剤、難
燃剤,滑剤、加工助剤等を包含させることができる。
化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合物、可塑剤、エ
ポキシ化合物、顔料、充填剤、発泡剤、帯電防止剤、難
燃剤,滑剤、加工助剤等を包含させることができる。
本発明によって安定化された高分子材料は極めて多様な
形で、例えば、フィルム、繊維、テープ、シート、各種
成型品として使用でき、また、塗料、ラッカー用結合剤
、接着剤、パテ及び写真材料における基材としても用い
ることができる。
形で、例えば、フィルム、繊維、テープ、シート、各種
成型品として使用でき、また、塗料、ラッカー用結合剤
、接着剤、パテ及び写真材料における基材としても用い
ることができる。
次に本発明を実施例によって具体的に説明する。
しかしながら、本発明はこれらの実施例によって限定さ
れるものではない。
れるものではない。
実施例1
〈配 合〉
ポリプロピレン 100 重量部プロピオネー
ト 安定剤(表−2参照)0.3 上記配合にて厚さ0.3mmのプレスシートを作成し、
このシートについて高圧水銀ランプを用いて耐光性試験
を行った。また、80℃の熱水に15時間浸漬後のシー
トについても耐光性試験を行った。その結果を表−2に
示す。
ト 安定剤(表−2参照)0.3 上記配合にて厚さ0.3mmのプレスシートを作成し、
このシートについて高圧水銀ランプを用いて耐光性試験
を行った。また、80℃の熱水に15時間浸漬後のシー
トについても耐光性試験を行った。その結果を表−2に
示す。
表−2
実施例2
通常の安定剤は樹脂の高温加工時に揮発、分解等により
その効果が著しく失われることが知られている。
その効果が著しく失われることが知られている。
本実施例では押し出し加工を繰り返し行うことにより高
温加工による影響を確かめた。
温加工による影響を確かめた。
次の配合により樹脂と添加剤をミキサーで5分間混合し
た後、押し出し機でコンバンドを作成した(シリンダ一
温度230℃、240℃、ヘッドダイス温度250℃、
回転数20rpI11) 、押し出しを5回繰り返し行
った後このコンバンドを用いて試験片を射出成形機で作
成した(シリンダ一温度240℃、ノズル温度250℃
、射出圧475Kg/cシ)。
た後、押し出し機でコンバンドを作成した(シリンダ一
温度230℃、240℃、ヘッドダイス温度250℃、
回転数20rpI11) 、押し出しを5回繰り返し行
った後このコンバンドを用いて試験片を射出成形機で作
成した(シリンダ一温度240℃、ノズル温度250℃
、射出圧475Kg/cシ)。
得られた試験片を用いて高圧水銀ランプで耐光性試験を
行った。また、押し出し1回のものについても同様に試
験した。その結果を表−3に示す。
行った。また、押し出し1回のものについても同様に試
験した。その結果を表−3に示す。
く配 合〉
エチレン−プロピレン共重合樹脂100 重量部ステ
アリン酸カルシウム 0.2フエニルプロピ
オネート ジラウリルチオジプロピオネート0.2安定剤(表−3
参照)0.2 表−3 実施例3 く配 合〉 ポリエチレン 100 重量部Ca−ス
テアレート 1,0ジステアリルチオ
ジプロピオ不−ト0.3安定剤(表−4参照)0.2 上記配合物を混練後プレスして厚さ0.5mmのシート
を作成した。このシートを用いてウエザオフ−ター中で
耐光性を測定し、脆化するまでの時間を測定した。その
結果を表−4に示す。
アリン酸カルシウム 0.2フエニルプロピ
オネート ジラウリルチオジプロピオネート0.2安定剤(表−3
参照)0.2 表−3 実施例3 く配 合〉 ポリエチレン 100 重量部Ca−ス
テアレート 1,0ジステアリルチオ
ジプロピオ不−ト0.3安定剤(表−4参照)0.2 上記配合物を混練後プレスして厚さ0.5mmのシート
を作成した。このシートを用いてウエザオフ−ター中で
耐光性を測定し、脆化するまでの時間を測定した。その
結果を表−4に示す。
表−4
実施例4
く配 合〉
クレゾール 01l
Ca−ステアレート 0. IZロ
ーステアレート 0.1ジイソ
デシルフエニルホスフアイト 0.2安定剤(表−5参
照)0.2 上記配合物を混練ロール上130℃で混練後、140℃
でプレスシート(厚さ0.4mm)を作成した。このシ
ートを用いてウエザオフ−ター中で500時間照射後の
抗張力残率を測定した。その結果を表−5に示す。
ーステアレート 0.1ジイソ
デシルフエニルホスフアイト 0.2安定剤(表−5参
照)0.2 上記配合物を混練ロール上130℃で混練後、140℃
でプレスシート(厚さ0.4mm)を作成した。このシ
ートを用いてウエザオフ−ター中で500時間照射後の
抗張力残率を測定した。その結果を表−5に示す。
表−5
実施例5
〈配 合〉
ポリ塩化ビニル 100重足部ジオクチ
ルフタレート 48エポキノ化大q油
2トリスノニルフエニルホスフアイト
0.2Ca−ステアレート 1.0
Zn−ステアレート 0.1安定剤
(表−6参照)0.3 上記配合物をロール上で混練し、厚さ1mmのシートを
作成した。このシートを用いてウエザオフ−ター中での
耐光性試験を行った。その結果を表−6に示す。
ルフタレート 48エポキノ化大q油
2トリスノニルフエニルホスフアイト
0.2Ca−ステアレート 1.0
Zn−ステアレート 0.1安定剤
(表−6参照)0.3 上記配合物をロール上で混練し、厚さ1mmのシートを
作成した。このシートを用いてウエザオフ−ター中での
耐光性試験を行った。その結果を表−6に示す。
表−6
実施例6
〈配 合〉
ABS樹脂 100 重量部4.4
“、ブチリデンビス(2−第 0.13ブチル−m
−クレゾール) 安定剤(表−7参照)0.3 上記配合物をロール練り後プレスして厚さ3mmのシー
トを作成した。このシー1−を用いてウエザオメーター
で800時間照射後の抗張力残率を測定した。その結果
を表−7に示す。
“、ブチリデンビス(2−第 0.13ブチル−m
−クレゾール) 安定剤(表−7参照)0.3 上記配合物をロール練り後プレスして厚さ3mmのシー
トを作成した。このシー1−を用いてウエザオメーター
で800時間照射後の抗張力残率を測定した。その結果
を表−7に示す。
表−7
実施例7
く配 合〉
ポリウレタン樹脂 100 重量部(旭電
化製U100) Ba−ステアレート 0.7Zn−ス
テアレート 0.32.6−ジー第3
ブチル−p−クレゾール0.1安定剤(表−8参照)0
.3 上記配合物を70℃で5分間ロール上で混練し、120
℃で5分間プレスして厚さ0.5 mmのシートを作成
した。このシートを用いてフェードメーターにて50時
間照射後の伸び残率を測定した。その結果を表−8に示
す。
化製U100) Ba−ステアレート 0.7Zn−ス
テアレート 0.32.6−ジー第3
ブチル−p−クレゾール0.1安定剤(表−8参照)0
.3 上記配合物を70℃で5分間ロール上で混練し、120
℃で5分間プレスして厚さ0.5 mmのシートを作成
した。このシートを用いてフェードメーターにて50時
間照射後の伸び残率を測定した。その結果を表−8に示
す。
表−8
実施例8
本発明の化合物は塗料用の光安定剤としても有用である
0本実施例においては金属顔料を含有するベースコート
及び透明なトップコートからなる二層金属光沢塗料につ
いてその効果をみた。
0本実施例においては金属顔料を含有するベースコート
及び透明なトップコートからなる二層金属光沢塗料につ
いてその効果をみた。
a)ベースコート塗料
メタクリル酸メチル100g、アクリル[lIn−ブチ
ル66g、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル30g
、メタクリルM4g、キシレン80g及びn−ブタノー
ル20gをとり、110℃に加熱攪拌しながらアゾビス
イソブチロニトリル2g。
ル66g、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル30g
、メタクリルM4g、キシレン80g及びn−ブタノー
ル20gをとり、110℃に加熱攪拌しながらアゾビス
イソブチロニトリル2g。
ドデシルメルカプタン0.5g、キシレン80g及びn
−ブタノール20gからなる溶液を3時間で滴下した。
−ブタノール20gからなる溶液を3時間で滴下した。
その後同温度で2時間攪拌し、樹脂固形分50%のアク
リル樹脂溶液を調製した。
リル樹脂溶液を調製した。
上記アクリル樹脂溶液12重量部、ブトキシ化メチロー
ルメラミン(三井東圧社製;ニーパン205E60;樹
脂固形分60%)2.5重量部、セルロースアセテート
ブチレート樹脂(20%酢酸ブチル溶液)50重量部、
アルミニウム顔料(東洋アルミニウム社製;アルペース
ト1123N)5.5重量部、キシレン10重量部、酢
酸ブチル20重量部及び銅フタロシアニンブルー〇、2
重ff1部をとりベースコート倹料とした。
ルメラミン(三井東圧社製;ニーパン205E60;樹
脂固形分60%)2.5重量部、セルロースアセテート
ブチレート樹脂(20%酢酸ブチル溶液)50重量部、
アルミニウム顔料(東洋アルミニウム社製;アルペース
ト1123N)5.5重量部、キシレン10重量部、酢
酸ブチル20重量部及び銅フタロシアニンブルー〇、2
重ff1部をとりベースコート倹料とした。
b))ノブコート塗料
上記アクリル樹脂溶液48重量部、ブトキシ化メチロー
ルメラミンIO重量部、キシレン10重量部、ブチルグ
リコールアセテート4重量部及び安定剤(表−9参照>
0.15重量部(固形分に対し0.5%)をとり、トッ
プコート塗料とした。
ルメラミンIO重量部、キシレン10重量部、ブチルグ
リコールアセテート4重量部及び安定剤(表−9参照>
0.15重量部(固形分に対し0.5%)をとり、トッ
プコート塗料とした。
プライマー処理した鋼板にベースコート塗料を乾燥膜厚
が20μになるようにスプレーし、10分間放置後トフ
プコート塗料を乾燥膜厚が30μになるようにスプレー
した。15分間放置後140℃で30分間焼付し試片と
した。
が20μになるようにスプレーし、10分間放置後トフ
プコート塗料を乾燥膜厚が30μになるようにスプレー
した。15分間放置後140℃で30分間焼付し試片と
した。
上記試片をウエザオメーターに入れ塗膜のワレの発生す
るまでの時間を測定した。その結果を表−9に示す。
るまでの時間を測定した。その結果を表−9に示す。
表−9
特許出願人 アデカ・アーガス化学株式会社代理人弁
理士 羽 鳥 修。
理士 羽 鳥 修。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 高分子材料100重量部に、次の一般式( I )で表さ
れる化合物0.001〜5重量部を添加してなる、安定
化高分子材料組成物。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは水素原子、アルキル基、アルケニル基、ア
シル基又はオキシルを示す。X及びYは各々OR_1又
は▲数式、化学式、表等があります▼を示し、R_1は
アルキル基又はアリール基を示し、R_2及びR_3は
各々水素原子、アルキル基、アリール基又は▲数式、化
学式、表等があります▼ を示し、またR_2とR_3は互いに結合して窒素原子
と共に5〜6員環を形成しても良い。)
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60157727A JPS6218443A (ja) | 1985-07-17 | 1985-07-17 | 安定化高分子材料組成物 |
US06/884,146 US4910238A (en) | 1985-07-17 | 1986-07-10 | Poly(2,2,6,6-tetramethyl piperidyl amino)-1,3,5-triazines as stabilizers for synthetic polymer compositions |
EP86109774A EP0209127A3 (en) | 1985-07-17 | 1986-07-16 | Poly(2,2,6,6-tetramethyl-piperidyl-amino)-1,3,5-triazines as stabilizers for synthetic polymer compositions |
US07/139,525 US4898688A (en) | 1985-07-17 | 1987-12-30 | Poly(2,2,6-tetramethyl piperidyl amino)-1,3,5-triazines as stabilizers for synthetic polymer compositions |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60157727A JPS6218443A (ja) | 1985-07-17 | 1985-07-17 | 安定化高分子材料組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6218443A true JPS6218443A (ja) | 1987-01-27 |
JPH0513188B2 JPH0513188B2 (ja) | 1993-02-19 |
Family
ID=15656041
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60157727A Granted JPS6218443A (ja) | 1985-07-17 | 1985-07-17 | 安定化高分子材料組成物 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US4910238A (ja) |
EP (1) | EP0209127A3 (ja) |
JP (1) | JPS6218443A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6470485A (en) * | 1987-03-24 | 1989-03-15 | Ciba Geigy Ag | Triazine compound derived from 2,2,6,6- tetramethylpiperidine |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB8709488D0 (en) * | 1987-04-22 | 1987-05-28 | Shell Int Research | Copolymer composition |
GB8710171D0 (en) * | 1987-04-29 | 1987-06-03 | Shell Int Research | Copolymer composition |
IT1216560B (it) * | 1988-04-07 | 1990-03-08 | Ciba Geigy Spa | Procedimento per la preparazione di bis(2,2,6,6_tetrametil_4_piperidil)ammina. |
IT1227333B (it) * | 1988-08-04 | 1991-04-08 | Ciba Geigy Spa | Composti contenenti gruppi piperidinici sostituiti atti all'impiego come stabilizzanti per materiali organici |
US5306495A (en) * | 1988-08-04 | 1994-04-26 | Ciba-Geigy Corporation | Compounds containing substituted piperidine groups for use as stabilizers for organic materials |
IT1226857B (it) * | 1988-09-23 | 1991-02-19 | Ciba Geigy Spa | Composti piperidin triazinici atti all'impiego come stabilizzanti per materiali organici. |
US4883831A (en) * | 1988-12-15 | 1989-11-28 | Ici Americas Inc. | Melamine-based light stabilizers for plastics |
US5118736A (en) * | 1989-03-21 | 1992-06-02 | Ciba-Geigy Corporation | N,N-bis(1-hydrocarbyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)amino triazines and stabilized compositions |
EP0389428A3 (en) * | 1989-03-21 | 1991-10-09 | Ciba-Geigy Ag | N,n-bis(l-hydroxycarbyloxy-2,2,6,6-tetramethyl-piperidin-4-yl) amino triazines and stabilized compositions |
US5216156A (en) * | 1992-05-05 | 1993-06-01 | Ciba-Geigy Corporation | Non-migrating 1-hydrocarbyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine 1,3,5-triazine derivatives |
DE59509122D1 (de) * | 1994-08-25 | 2001-05-03 | Ciba Sc Holding Ag | Wasserlösliche Piperidin-Triazinverbindungen und ihre Verwendung zur Stabilisierung von Polyamidfasern |
US5804622A (en) * | 1996-03-22 | 1998-09-08 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Monomeric N-piperidinylmelamines as stabilizers for chlorine-containing polymers |
TW589341B (en) * | 1997-05-27 | 2004-06-01 | Ciba Sc Holding Ag | Block oligomers containing 1-hydrocarbyloxy-2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl groups as stabilizers for organic materials |
US20110014467A1 (en) * | 2009-07-16 | 2011-01-20 | Brown Nancy E | Extrusion coated non-twisted yarn |
AU2014336388B2 (en) * | 2013-10-17 | 2018-04-12 | Basf Se | Triazine, piperidine and pyrrolidine based hindered amine light stabilizers |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1393551A (en) * | 1972-04-21 | 1975-05-07 | Ciba Geigy Ag | Piperidine derivatives |
US4028334A (en) * | 1973-04-11 | 1977-06-07 | Ciba-Geigy Corporation | Piperidine derivatives |
US4191683A (en) * | 1975-05-28 | 1980-03-04 | Ciba-Geigy Corporation | Derivatives of 4-aminopiperidine as stabilizers for polymers |
IT1060458B (it) * | 1975-12-18 | 1982-08-20 | Chimosa Chimica Organica Spa | Composti piperidil triazinici adatti per la stabilizzazione di polimeri sintetici e procedimento per la loro preparazione |
CH622536A5 (ja) * | 1976-07-08 | 1981-04-15 | Ciba Geigy Ag | |
DE2862264D1 (en) * | 1977-12-30 | 1983-07-07 | Ciba Geigy Ag | New polyalkylpiperidine derivatives of s-triazines, their use in the stabilisation of plastics and plastics stabilized in this way |
US4165592A (en) * | 1978-01-24 | 1979-08-28 | Blankenship Roy L | Cable directing apparatus |
DE2961381D1 (en) * | 1978-02-08 | 1982-01-28 | Ciba Geigy Ag | Polyalkylpiperidine derivatives of s-triazines, their use as stabilizers for polymers and polymers thus stabilized |
US4288593A (en) * | 1979-02-06 | 1981-09-08 | Ciba-Geigy Corporation | Polyalkylpiperidine derivatives of s-triazines |
JPS564639A (en) * | 1979-06-23 | 1981-01-19 | Sankyo Co Ltd | Stabilizer for high-molecular material |
JPS6023789B2 (ja) * | 1979-07-31 | 1985-06-10 | 宇部興産株式会社 | 難燃性ポリアミド組成物 |
EP0082244B1 (en) * | 1981-07-20 | 1986-03-19 | American Cyanamid Company | Novel light stabilizers for polymers |
DE3379050D1 (en) * | 1982-08-11 | 1989-03-02 | Ciba Geigy Ag | Process for the chemical bond between a stabilising compound and a polymer |
US4524165A (en) * | 1983-10-24 | 1985-06-18 | Eastman Kodak Company | Stabilized copolyesterether compositions suitable for outdoor applications |
-
1985
- 1985-07-17 JP JP60157727A patent/JPS6218443A/ja active Granted
-
1986
- 1986-07-10 US US06/884,146 patent/US4910238A/en not_active Expired - Fee Related
- 1986-07-16 EP EP86109774A patent/EP0209127A3/en not_active Withdrawn
-
1987
- 1987-12-30 US US07/139,525 patent/US4898688A/en not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0209127A2 (en) | 1987-01-21 |
JPH0513188B2 (ja) | 1993-02-19 |
US4910238A (en) | 1990-03-20 |
EP0209127A3 (en) | 1988-06-15 |
US4898688A (en) | 1990-02-06 |
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