JPS6250342A - 安定化された高分子材料組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、特に耐光性の改善された高分子材料組成物、
詳しくは、２．２，６．６−チトラメチルピペリジル暴
を有するシアヌレ−）　３Ａ導体を含有させてなる特に
耐光性の改善された高分子材料組成物に関する。

〔従来の技術及び発明が解決しようとする問題点〕ポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等の合成樹
脂は一般に光の効果に対して敏感であり、その作用によ
り劣化し、変色或いは機械的強度の低下等を引き起こし
、長期の使用に耐えないことが知られている。

そこで、この光による合成樹脂の劣化を防止するだめに
、従来様々の安定剤が用いられてきたが、従来用いられ
てきた光安定剤はその安定化効果がまだ不十分であり、
また安定剤自体が熱或いは酸化に対して不安定であった
り、水等の）容剤によって樹脂から抽出され易いものが
多く、さらに樹脂に着色を与えるものが多い等の欠点を
持っており、長月にわたって合成樹脂を安定化すること
ができなかった。

これら従来用いられてきた光安定剤の中でもピペリジン
系の化合物はそれ自体が非着色性であり、近年特に注目
されている。

しかしながら、従来知られているピペリジン系の化合物
は光安定化能が不十分であり、また、水によって樹脂か
ら容易に抽出されてしまうという欠点もあった。

また、これらのピペリジン系の化合物は化合物自体の耐
熱性が不十分であり、合成樹脂を高温で加工する際など
に、分解或いは揮敗し、その効果を失う場合も多かった
。

これらのピペリジン系化合物のうち、トリアジン環を含
有する化合物は比較的化合物自体の耐熱性が良好であり
、また、原料として安価な塩化シアヌルを用いることが
でき、反応も容易である等の利点を有している。

１−リアジン環を含有するピペリジン化合物としては特
開昭４９−２１３８９号、特開昭５２−７１４８６号、
特開昭５２−７３８８６号、特開昭５３−−９７８２号
、特開昭５３−６７７４９号、特開昭５４−１０６４８
３号、特開昭５４−１２６２４９号、特開昭５５−９８
１８０号、特開昭５５−１０２６３７号、特開昭５５−
１０４２７９号、特開昭５６−４６３９号、特開昭５６
−３０９７４号及び特開昭５９−１２６４３９号の各公
報に種々の化合物が促案されている。

これら公報記載の化合物において、特開昭５２−７１４
８６号公報に記載された化合物に代表される、ジアミン
又はグリコールで２個以上のトリアジン環を縮合させた
化合物が耐熱性、耐抽出性等が比較的優れている。

しかしながら、これらの化合物でも、その耐熱性、耐抽
出性及び光安定化能は未だ満足し得るものではなく、さ
らに優れた光安定剤の開発が要望されていた。

また、特開昭５９−１２６４３９号公報には、スピロジ
アセクール環を有するジアミンを結合手とした、ピペリ
ジン置換基を有するトリアジン化合物が記載されている
が、該化合物でもその耐熱性は不充分であり、高分子物
質を長期に渡って安定化することはできなかった。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明者等は、かかる現状に鑑み、鋭意検討を重ねた結
果、スピロジアセクール構造を有するピペリジルジアミ
ン化合物を結合手として用いた下記一般式（Ｉ）で表さ
れるオリゴマー化合物が耐熱性、耐抽出性及び光安定化
能に著しく優れ、高分子材料用の光安定剤として極めて
有用であることを知見した。

一般式（Ｉ） 〔式中、Ｒは水素原子、アルキル基、アルケニル基、ア
シル基又はオキシルを示す。Ｒ７及びＲ２は各々水素原
子又はアルキル基を示し、またＲ１とＲ２は互いに結合
してアルキレン基又はオキサジアルキレン基を示しても
よい。ｎは２〜４０を示す。〕 本発明は、上記知見に基づきなされたもので、高分子材
料１００重量部に、上記一般式（＋）で表される化合物
０．０Ｏ１〜５重量部を話力１１シてなる、安定化され
た高分子材料組成物を提供するものである。

以下、本発明の高分子材料組成物について詳述する。

本発明で用いられる前記一般式（Ｎで表される化合物に
おいて、Ｒで表されるアルキル法としては、例えば、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、アミ
ル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、２−エチルヘキシ
ル、ノニル、デシル、ドデシル、オクタデシル、ベンジ
ル、フェニルエチル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒド
ロキシプロヒル、２−ヒドロキシエチル、２．３−コニ
ボキンプロピル等があげられ、アルケニル基としては、
アリル等があげられ、アソル基としては、例えば、アセ
チル、プロピオニル、ブチロイル、アクリロイル、メタ
クリロイル、オクタノイル、ヘンジイル等があげられる
。

Ｒ１及びＲ２で表されるアルキル基としては、例えば、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イ
ソブチル、第２ブチル、ヘキシル、ソクロヘキノル、オ
クチル、イソオクチル、２−エチルヘキシル、第３オク
チル、デシル、ドブノル、テトラデシル、オクタデシル
、２−ヒドロキシエチル、メトキシエチル、ブトキシエ
チル、ジメチルアミノプロピル等があげられる。

また、Ｒ１及びＲ２が互いに結合して表すアルキレン基
としては、テトラメチレン、ペンタメチレン等があげら
れ、オキサジアルキレン基としては、オキサジエチレン
等があげられる。

本発明で用いられる前記一般式（＋）で表される化合物
の代表例を次の表−１に示す、向、表中、表　　−１ Ｃ１ｌｚ　　　　　’　　　　　Ｃｌ１ｓ１ｈ３ １ＩＩ＋ ＩＩ＆１４ ＣＯＣｔｌ　３　　　　　　　　Ｃ０Ｃｔｌ　２１１＆
１５ ＨＩＩ 階６ 阻７ Ｈ１１ 本発明で用いられる前記一般式（＋）で表される化合物
は、例えば、塩化シアヌルと Ｒ５ る化合物を反応させた後、ＨＮ　　　　で表されるＲ。

アミンを反応させ、その後必要に応じて、アルキル化、
アシル化等することによって容易に製造し得る。

以下に、本発明で用いられる前記一般式（■）で表され
る化合物の合成例を示し、本発明をさらに詳細に説明す
るが、本発明は以下の合成例によって制限を受けるもの
ではない。

合成例１　（表−１のＮｌｌ化合物の合成）塩化シアヌ
ル３．６９　ｇ　（０，０２モル）及びトルエンｌｏＯ
ｍｌをとり、これに、３．９−ビス〔３−（２，２，６
，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミン〕プロピ
ル−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ（５，５）
ウンデカン１４．６８ｇ（０，０２７モル）を室温下に
ゆっくりと加えた。

室温下に１時間攪拌後、粉末状の水酸化ナトリウム１．
７６　ｇ　（０，０４４モル）を加え窒素気流下生成水
を除去しながら８０℃で６時間攪拌した。

次いで、冷却後、モルホリン２．６１　ｇ　（０，０３
モル）及び水酸化ナトリウム０．８８　ｇ　（０，０２
２モル）を加え、窒素気流下生成水を除去しながら１１
０℃で２０時間攪拌した。

次いで、冷却後、不溶物を濾別後水洗乾燥し、キョーワ
ード７００（協和化学製吸着剤）で処理した。吸着剤を
濾別後、減圧下に溶媒を溶去し、軟化点１５５〜１６０
℃の白色ガラス状固体の生成物を得た。

この生成物は、高速液体クロマトグラフィーによる分析
の結果、平均分子量約３０００であった。

合成例２（表−１のｌ！１３化合物の合成）塩化シアヌ
ル３．６９　ｇ　（０，０２モル）及びトルエン１００
ｎ＋１をとり、これに、３．９−ビス〔３−（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミン〕プロ
ピル−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ（５，５
）ウンデカン１２．１４ｇ　（０，０２２モル）を室温
下にゆっ（りと加えた。

室温下に１時間攪拌後、粉末状の水酸化ナトリウム１．
７６　ｇ　（０，０４４モル）を加え窒素気流下生成水
を除去しながら８０℃で６時間攪拌した。

次いで、冷却後、ジプチルアミン３．８７ｇ（０゜０３
モル）及び水酸化ナトリウム０．８ｇ（０，０２モル）
を加え、窒素気流下生成水を除去しながら１１０℃で２
０時間攪拌した。

次いで、冷却後、不溶物を濾別後水洗乾燥し、キョーワ
ード７００（協和化学製吸着剤）で処理した。吸着剤を
濾別後、減圧下に溶媒を溶去し、軟化点１５５〜１６０
°Ｃの白色ガラス状固体の生成物を得た。

この生成物は・、高速液体クロマトグラフィーによる分
析の結果、平均分子量約８０００であった。

本発明は、前記一般式（Ｉ）で表される化合物を高分子
材料に添加して特にその耐光性を改善するものであり、
その添加量は、通常、高分子材料１００重量部に対し０
．００１〜５重量部、好ましくは０．０１〜３重量部で
ある。

本発明における安定性改善の対象となる高分子材料とし
ては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブ
テン、ポリ−３−メチルブテン等のα−オレフィン重合
体又はエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プロ
ピレン共重合体等のポリオレフィン及びこれらの共重合
体、ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフッ化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素化
ポリプロピレン、ポリフッソ化ビニルデン、臭素化ポリ
エチレン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−プロピ
レン共重合体、塩化ビニル−スチレン共重合体、塩化ビ
ニル−イソブチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリ
デン共重合体、塩化ビニル−スチレン−無水マレイン酸
三元共重合体、塩化ビニル−スチレン−アクリロニトリ
ル共重合体、塩化ビニル−ブタジェン共重合体、塩化と
ニル−イソプレン共重合体、塩化ビニル−塩素化プロピ
レン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニ
ル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重
合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化
ビニルーメククリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−
アクリロニトリル共重合体、内部可塑化ポリ塩化ビニル
等の含ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポ
リスチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、スチレン
と他の単量体（例えば無水マレイン酸、ブタジェン、ア
クリロニトリル等）との共重合体、アクリロニトリル−
ブタジェン−スチレン共重合体、アクリル酸エステルー
ブタジエンースチレン共重合体、メタクリル酸エステル
−ブタジェン−スチレン共重合体、ポリメチルメタクリ
レート等のメタクリレート樹脂、ポリビニルアルコール
、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、直鎮
ポリエステル、ポリフェニレンオキシド、ポリアミド、
ポリカーボネート、ポリアセクール、ポリウレタン、繊
維素系樹脂、或いはフェノール樹脂、ユリア樹脂、メラ
ミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シ
リコーン樹脂等をあげることができる。更に、イソプレ
ンゴム、ブタジェンゴム、アクリロニトリル−ブタジェ
ン共重合ゴム、スチレン−ブタジェン共重合ゴム等のゴ
ム類やこれらの樹脂のブレンド品であってもよい。

また、過酸化物或いは放射線等によって架橋させた架橋
ポリエチレン等の架橋重合体及び発泡剤によって発泡さ
せた発泡ポリスチレン等の発泡重合体も包含される。

本発明の組成物に更にフェノール系の抗酸化剤を添加す
ることによってその酸化安定性を一層改善することがで
きる。このフェノール系抗酸化剤としては、例えば、２
，６−ジー第３ブチル−ｐ−クレゾール、２．６−ジフ
ェニル−４−オクトキソフェノール、ステアリル−（３
，５−ジ−メチル−４−ヒドロキソヘンシル）チオグリ
コレート、ステアリル−β−（４−ヒドロキン−３，５
−ジー第３ブチルフエニル）プロピ第２−１・、ジステ
アリル−３，５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシベン
ジルホスホネート、２．４．６−トリス（３’　、５°
−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシベンジルチオ’）１
．３，５．−トリアジン、ジステアリル（４−ヒドロキ
シ−３−メチル−５−第３ブチル）ベンジルマロネート
、２．２°−メチレンビス（４−メチル−６−第３ブチ
ルフエノール）、４．４’−メチレンビス（２，６−ジ
ー第３ブチルフエノール）、２．２°−メチレンビス（
６−（Ｉ−メチルシクロへキシル）ｐ−クレゾール〕、
ビス〔３，５−ビス（４−ヒドロキシ−３−第３ブチル
フエニル）プチリフクアシド〕グリコールエステル、４
，４°−ブチリデンビス（６−第３ブチルー−ＩＴＩ−
クレゾール）、２．２゜−エチリデンビス（４，６−ジ
ー第３ブチルフエノール）、２．２“−エチリデンビス
（４−第２ブチル−６−第３ブチルフエノール）、１．
１゜；）−トリス　（２−メチル−４−ヒドロキン−５
−第３ブチルフエニル）ブタン、ビス〔２−第３ブチル
−４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−第３ブチル
−５−メチルヘンシル）フェニル〕テレフタレート、］
、３．５−−）リス（２，６−シメチルー３−ヒドロキ
ン−４−第３ブチル）ヘンジルイソンアヌレ−１・、１
．３．５−トリス（３゜５−ジー第３ブチル−４−ヒド
ロキシヘンシル）−２，４，［ｌｉ−トリメチルベンゼ
ン、テトラキス〔メチレン−３−−（３，５−ジー第３
ブチル−４−ヒドロキソフェニル）プロピオネートコメ
タン、１．３．５−−）−リス（３，５−ジー第３ブチ
ル−４−一ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、ｌ
。

３．５−トリスＣ（３，５−ジー第３ブチル−４−−ヒ
ドロキンフェニル）プロピオニルオキシエチル〕イソノ
アヌレート、２−オクチルチオ−４゜６−ジ　（４−ヒ
ドロキシ−３，５−ノー第３ブチル）フェノキソー１．
３．５−トリアジン、４゜４°−チオビス（６−第３ブ
チル−ｍ−クレゾール）等のフェノール類及び４．４°
−ブチリデンビス（２−第３ブチル−５−メチルフェノ
ール）の炭酸オリゴエステル（例えば重合度２．３．４
゜５．６．７．８，９．１０等）等の多価フェノール炭
酸オリゴエステル類があげられる。

本発明の組成物に更に硫黄系の抗酸化剤を加えてその酸
化安定性の改善をはかることもできる。

この硫黄系抗酸化剤としては、例えば、ジラウリル−、
シミリスチル−、ジステアリル−等のジアルキルチオジ
プロピオネート及びブチル−、オクチル−、ラウリル−
、ステアリル−等のアルキルチオプロピオン酸の多価ア
ルコール（例えばグリセリン、トリメチロールエタン、
トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリ
スヒドロキンエチルイソシアヌレート）のエステル（例
えばペンタエリスリトールテトララウリルチオプロビオ
ネート）があげられる。

本発明の組成物に更にホスファイト等の含リン化合物を
添加することによってその耐光性及び耐をへ性を一層改
善することができる。この含リン化合物としては、例え
ば、トリオクチルホスファイＩ・、トリラウリルホスフ
ァイト、トリデシルホスファイト、オクチル−ジフェニ
ルホスファイト、トリス（２，４−ジー第３ブチルフエ
ニル）ホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリ
ス（ブトキノエチル）ホスファイト、トリス（ノニルフ
ェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリト
ールジホスファイト、テトラ（トリデシル）−−１，１
，３−１−リス　（２−メチル−５＝第３ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）ブタンジホスファイト、テトラ（
Ｃ１，〜１５混合アルキル）−−４，４’−イソプロビ
リデンジフェニルノホスファイト、テトラ　（トリデシ
ル）−４，４°−ブチリデンビス（３−メチル−６−第
３ブチルフエノール）ジホスファイト、トリス（３，５
−シーー第３ブチル−４−ヒドロキンフェニル）ホスフ
ァイト、トリス（モノ・ジ混合ノニルフェニル）ホスフ
ァイト、水素化−４，４°−イソプロピリデンジフェノ
ールポリホスファイト、ビス（オクチルフェニル）・ビ
ス〔４，４°−ブチリデンビス（３−メチル−６−第３
ブチルフエノール）〕　・１．６−ヘキサンジオールジ
ホスファイト、フェニル・４，４゛−イソプロピリデン
ジフェノール・ペンタエリスリトールジホスファイト、
ビス（２，４−ジー第３ブチルフエニル）ペンタエリス
リトールジホスファイト、ビス（２，６−ジー第３ブチ
ル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホス
ファイト、トリス〔４，４°−イソプロピリデンビス（
２−第３ブチルフエノール）〕ホスファイト、フェニル
・ジイソデシルホスファイト、ジ（ノニルフェニル）ペ
ンタエリスリトールジホスファイト、トリス（Ｉ，３−
ジ−ステアロイルオキシイソプロビル）ホスファイト、
４．４“−イソプロピリデンビス（２−第３ブチルフエ
ノール）・ジ（ノニルフェニル）ホスファイト、９．　
ｌＯ−ジ−ハイドロ−９−オキサ−１Ｏ−フォスファフ
エナンスレン−１０−オキサイド、テトラキス（２，４
−ジー第３ブチルフエニル）−４，４′−ビフエニレン
ジホスホナイト等があげられる。

本発明の組成物に他の光安定剤を添加することによって
その耐光性を更に改笹することができる。

この光安定剤としては、例えば、２−ヒドロキン−４−
メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキン−４−ｎ−オ
クトキシベンゾフェノン、２．２゛−ジ−ヒドロキシ−
４−メトキシヘンシフエノン、２．４−ジヒドロキシベ
ンゾフェノン等のヒドロキソベンゾフェノン類、２−（
２°−ヒドロキシ−３’　−ｔ−ブチル−５°−メチル
フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２
°−−ヒドロキシ−３゛　、５°−ジ−ｔ−ブチルフェ
ニル）−５−クロロヘンシトリアゾール、２−（２゛−
ヒドロキシ−５°−メチルフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（２’−ヒドロキシ−３゜５°−ジ−ｔ−アミ
ルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾー
ル類、フェニルサリシレート、ｐ−ｔ−プチルフェニル
サリシレート、２．４−シー−ｔ−ブチルフェニル−３
，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキジヘンヅエート、
ヘキサデシルー−３，５−ジーし一ブチルー４−ヒドロ
キノペンヅエート等のヘンシェード類、２，２゛−チオ
ビス（４−Ｌ−オクチルフェノール）Ｎｉ塩、（２，２
’−チオビス（４−【−オクチルフェノラート）〕−〕
ｎジーチルアミンＮｉ　（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）ホスホン酸モノエチルエステル
Ｎｉ塩等のニッケル化合物類、α−シアノ−β−メチル
−β−（ｐ−メトキシフェニル）アクリル類メチル等の
置換アクリロニトリル類及びＮ−２−エチルフェニル−
Ｎ′−２−−工）キシ−５−第３ブチルフエニルシユウ
酸ジアミド、Ｎ−−２−エチルフェニル−Ｎ’−２−エ
トキシフヱニルンユウ酸ジアミド等のンユウ酸ジアニリ
ド類があげられる。

その他必要に応して、本発明の組成物には重金属不活性
化剤、造核剤、金属石けん、有ａ錫化合物、可塑剤、エ
ポキシ化合物、頗料、充填剤、発泡剤、帯電防止剤、難
燃剤、滑剤、加工助剤等を包含させることができる。

本発明によって安定化さ糺た高分子材料は極めて多様な
形で、例えば、フィルム、繊維、テープ、シート、各種
成型品として使用でき、また、塗料、ラッカー用結合剤
、接着剤、パテ及び写真材料における基材としても用い
ることができる。

次に本発明を実施例によって具体的に説明する。

しかしながら、本発明はこれらの実施例によって限定さ
れるものではない。

実施例１ く配　合〉 ポリプロピレン　　　　　１００　重量部プロピオネー
ト 安定剤（表−２参照）０．３ 上記配合にて厚さ０．３　ｍｍのプレスシートを作成し
、このシートについて高圧水銀ランプを用いて耐光性試
験を行った。また、８０℃の熱水に２４時間浸漬後のノ
ートについても耐光性試験を行った。その結果を表−２
に示す。

表−２ １３表−２中、比較化合物Ａ及びＢは下記の通りである
（下記表−３〜表−８においても同じ）。

傘１：比較化合物Ａ ２．４−ジクロロ−６−ｔ−オクチルアミノ−１，３，
５−トリアジンと１．６−ビス（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサンとの縮合物
（分子量約３０００） ＊２：比較化合物Ｂ ２．４−ジクロロ−６（Ｎ−（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）ブチルアミノ］　−１，３，
５−）リアジンと３，９−ビス（アミノプロピル）　−
２，４゜８．１０−テトラオキサスピロ（５，５）ウン
デカンとの縮合物の末端モルホリン反応物（分子量約３
０　Ｑ　Ｏ） 実施例２ 通常の安定剤は樹脂の高温加工時に揮発、分解等により
その効果が著しく失われることが知られている。

本実施例では押し出し加工を繰り返し行うことにより高
温加工による影響を確かめた。

次の配合により樹脂と添加剤をミキサーで５分間部合し
た後、押し出し機でコンバンドを作成した（シリンダ一
温度２３０℃、２４０℃、ヘッドダイス温度２５０℃、
回転数２Ｏｒｐｍ）、押し出しを１０回繰り返し行った
後このコンバンドを用いて試験片を射出成形機で作成し
たくシリンダーｌ法度２４Ｑ’Ｃ，／ズ）Ｌ／？ｍ度２
５０℃、射出圧４７５Ｋｇ／ｃシ）。

得られた試験片を用いて高圧水根ランプで耐光性試験を
行った。また、押し出し１回及び５回のものについても
同様に試験した。その結果を表−３に示す。

く配　合〉 エチレン−プロピレン共重合樹脂１００　　重量部ステ
アリン酸カルシウム　　　　　　　０．２フエニルプロ
ビオネート ジラウリルチオジプロピオネート　　０．２安定剤（表
−３参照）０．２ 表−３ 実施例３ く配　合〉 ポリエチレン　　　　　　　　１００　　重量部Ｃａ−
ステアレート　　　　　　　　１．０ジステアリルチオ
ジプロピオネート０．３安定剤（表−４参照）０．２ 上記配合物を混練後プレスして厚さ０．５ｎ＋ｎのシー
トを作成した。このシートを用いてウエザオフ−ター中
で耐光性を測定し、脆化するまでの時間を測定した。そ
の結果を表−４に示す。

表−４ 実施例４ く配　合〉 ＡＢＳ樹脂　　　　　　　　　１００　　重量部４．４
゛−ブチリデンビス（２−第　　　０．１３ブチル−ｍ
−クレゾール） 安定剤（表−５参照）０．２ 上記配合物をロール練り後プレスして厚さ３ＩＩＩＩの
シートを作成した。このシー１−を用いてウエザオメー
ターで８００時間照射後の抗張力残率を測定した。その
結果を表−５に示す。

表−５ 実施例５ 〈配　合〉 ポリ塩化ビニル　　　　　　　　１００重晴部ジオクチ
ルフタレート　　　　　　　４８エボキノ化大豆油　　
　　　　　　　２トリスノニルフエニルホスフアイト　
０．２Ｃａ−ステアレート　　　　　　　　　　１．０
Ｚｎ−ステアレート　　　　　　　　　　０．１安定剤
（表−６参照）０．２ 上記配合物をロール上で混練し、厚さ１ｍ１ｌのシート
を作成した。このシートを用いてウエザオフ−ター中で
の耐光性試験を行った。その結果を表−Ｇに示す。

表−６ 実施例６ 〈配　合〉 ｔｅａ−ステ７レー１−　　　　　　　　０．７Ｚｎ−
ステアレート　　　　　　　　　０．３２．６−ジー第
３ブチル−ｐ−クレゾール０．１安定剤（表−７参照）
０．３ 上記配合物を７０℃で５分間ロール上で混練し、１２０
°Ｃで５分間プレスして厚さ０．５１のシートを作成し
た。このシートを用いてフェードメーターにて５０時間
及び１００時間照射後の伸び残率を測定した。その結果
を表−７に示す。

表−７ 実施例７ 本発明の化合物は塗料用の光安定剤としても有用である
。本実施例においては金属顔料を含有するヘースコート
及び透明なトップコートからなる二層金属光沢塗料につ
いてその効果をみた。

ａ）ヘースコート塗料 メタクリル酸メチル１００ｇ、アクリル酸ｎ　−ブチル
６６ｇ、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル３０ｇ、
メタクリル酸４ｇ、キシレン８０ｇ及びｎ−ブタノール
２０ｇをとり、ｌｌＯ′Ｃに加熱攪拌しながらアゾビス
イソブチロニトリル２ｇ、ドデシルメルカプタン０．５
ｇ、キシレン８０ｇ及びｎ−ブタノール２０ｇからなる
溶液を３時間で滴下した。その後同温度で２時間攪拌し
、樹脂固形分５０％のアクリル樹脂溶液を調製した。

上記アクリル樹脂溶液１２重量部、ブトキシ化メチロー
ルメラミン（三井東圧社製；ユーハン２０３Ｅ６０ｉ樹
脂固形分６０％）２．５重量部、セルロースアセテート
ブチレート樹脂（２０％酢酸ブチル溶液）５０重量部、
アルミニウム顔料（東洋アルミニウム社製；アルペース
ト１１２３Ｎ＞５．５重量部、主２１フ１０重里部、酢
酸ブチル２０重量部及び銅フタロシアニンブルー０．２
屯１部をとリヘースコート塗膜４とした。

ｂ））ツブコート塗料 上記アクリル樹脂溶液４８重量部、ブトキン化メチロー
ルメラミン１０重量部、キシレンＩＯ重量部、ブチルグ
リコールアセテート４重量部及び安定剤（表−８参照）
０．１２重量部（固形分に対し０．４％）をとり、トッ
プコート塗膜１とした。

プライマー処理した鋼板にヘースコート塗料を乾燥膜厚
が２０μになるようにスプレーし、１０分間放放置後ッ
プコート塗料を乾燥膜厚が３０μになるようにスプレー
した。１５分間放置後１４０℃で３０分間焼付し試片と
した。

上記試片をウエザオメーターに入れ塗膜のワレの発生す
るまでの時間を測定した。その結果を表−８に示す。

表−８

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 高分子材料１００重量部に、次の一般式（ I ）で表さ
   れる化合物０．００１〜５重量部を添加してなる、安定
   化された高分子材料組成物。 一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒは水素原子、アルキル基、アルケニル基、ア
   シル基又はオキシルを示す。Ｒ＿１及びＲ＿２は各々水
   素原子又はアルキル基を示し、またＲ＿１とＲ＿２は互
   いに結合してアルキレン基又はオキサジアルキレン基を
   示してもよい。ｎは２〜４０を示す。〕