JPH1171356A

JPH1171356A - トリアジン系化合物および紫外線吸収剤

Info

Publication number: JPH1171356A
Application number: JP24972397A
Authority: JP
Inventors: Etsuo Hida; 悦男飛田; Yoko Nanbu; 洋子南部; Shinichi Ishikawa; 慎一石川; Takashi Ayabe; 敬士綾部
Original assignee: Asahi Denka Kogyo KK
Current assignee: Adeka Corp
Priority date: 1997-08-29
Filing date: 1997-08-29
Publication date: 1999-03-16
Anticipated expiration: 2017-08-29
Also published as: JP4070157B2

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】紫外線吸収効果を発揮し、かつ有機材料を着
色することなく高度の耐候性を付与し、耐熱性にも優れ
るトリアジン系化合物を提供する。【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表されるトリアジン
系化合物、それからなる紫外線吸収剤、該紫外線吸収剤
を添加された高分子材料組成物。（式中、Ｒ_１は炭素原子数１〜１２の直鎖または分岐の
アルキル基、炭素原子数３〜８のシクロアルキル基、炭
素原子数３〜８のアルケニル基、炭素原子数６〜１８の
アリール基、アルキルアリール基またはアリールアルキ
ル基を表し、Ｒ_２は炭素原子数１〜８のアルキル基また
は炭素原子数３〜８のアルケニル基を表し、Ｒ_３、
Ｒ_４、Ｒ_５およびＲ_６は水素原子、ハロゲン原子、ヒド
ロキシ基、炭素原子数１〜１２のアルキル基、アルコキ
シ基、アルコキシカルボニル基またはアリールアルキル
基を表す。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、特定の構造を有す
るトリアジン系化合物、該化合物からなる紫外線吸収
剤、該紫外線吸収剤を配合した高分子材料組成物並びに
耐候性の改善されたフィルム、シート、繊維織物および
塗料などの薄膜状物に関する。

【０００２】

【従来の技術及び問題点】ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、スチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネー
ト等の高分子材料や有機顔料または染料は光の作用によ
り劣化し、変色あるいは機械的強度の低下等を引き起こ
して長期の使用に耐えないことが知られている。

【０００３】これら有機材料の劣化を防止したり、透過
光の波長をコントロールするために、従来から種々の紫
外線吸収剤が用いられ、ベンゾフェノン系、ベンゾトリ
アゾール系、２，４，６−トリアリールトリアジン系お
よびシアノアクリレート系の紫外線吸収剤が知られてい
る。

【０００４】これら紫外線吸収剤は、その構造の違いに
由来して各々異なる紫外線吸収スペクトルを示し、有機
材料との相溶性や揮散性も異なるため用途に応じて使い
分けられている。特に、保護層に用いられる薄膜状物に
おいては、高度の紫外線遮蔽効果が要求されるため紫外
線吸収剤の添加量を多くする必要があり、基材層への相
溶性に優れ、揮散性が小さく、吸光係数の大きな紫外線
吸収剤が求められる。

【０００５】２，４，６−トリアリールトリアジン系紫
外線吸収剤は吸光係数が高く、耐熱性にも優れている
が、例えば公知の２−（２，４−ジヒドロキシフェニ
ル）−４，６−ジアリール−ｓ−トリアジン化合物は極
大吸収波長が２７５〜２９０ｎｍおよび３３０〜３４０
ｎｍであり、３００〜３２０ｎｍでの吸収が小さく、３
５０〜４００ｎｍでの吸収もベンゾトリアゾール系紫外
線吸収剤に比較して小さく実用的でなかった。

【０００６】一方、特開平８−５３４２７号公報には、
置換基によって２，４，６−トリアリールトリアジン系
紫外線吸収剤の紫外線吸収スペクトルを安定化に有効な
波長にシフトさせることが提案されている。例えば、２
−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ジアリ
ールトリアジンの２，４−ジヒドロキシフェニル基の５
位に置換基を導入することで３３０〜３４０ｎｍにある
極大吸収を３５０ｎｍ付近にシフトさせ、３５０〜４０
０ｎｍでの吸収を改善することで安定化効果を高めてい
る。しかし、吸収波長が可視光を含むため着色して実用
的でなかった。

【０００７】また、特開昭６１−２４５７７号公報には
実施例において２，４−ビス−（２，４−ジヒドロキシ
−３−メチルフェニル）−６−フェニルトリアジンおよ
び２，４−ビス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−
（２−ヒドロキシ−３−スルホン酸ナトリウムプロピル
オキシ）フェニル）−６−フェニルトリアジンが記載さ
れている。しかし、ジヒドロキシフェニル基を２個有す
るトリアジン化合物は、吸収波長域が４００ｎｍを越え
て有機材料を着色するため実用的でなかった。また、ス
ルホン酸塩を有する化合物は、水溶性を有していて写真
材料への耐候性付与には適しているものの、ポリオレフ
ィンなどの高分子材料とは相溶性が乏しく実用的でなか
った。

【０００８】

【問題点を解決するための手段】本発明者等は、上記の
現状に鑑み、鋭意検討を重ねた結果、下記一般式（Ｉ）
で表される特定の位置に置換基を有するトリアジン系化
合物が紫外線吸収効果を発揮し、かつ有機材料を着色す
ることなく高度の耐候性を付与し、耐熱性にも優れるこ
とを見出し、本発明に到達した。

【０００９】即ち、本発明は下記一般式（Ｉ）で表され
るトリアジン系化合物およびそれからなる紫外線吸収剤
を提供するものである。以下、上記要旨をもってなる本
発明について詳述する。

【００１０】

【化２】

【００１１】

【発明の実施の形態】上記式中、R₁、R₃、R₄、R₅及びR₆
で表されるアルキル基としては、例えば、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第
二ブチル、第三ブチル、アミル、第三アミル、ヘキシ
ル、オクチル、第二オクチル、第三オクチル、２−エチ
ルヘキシル、デシル、ウンデシル、ドデシルなどの直鎖
又は分岐のアルキル基が挙げられる。シクロアルキル基
としては、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘ
キシル、シクロヘプチルなどが挙げられる。アリールア
ルキル基としては、ベンジル、２−フェニルエチル、１
−メチル−１−フェニルエチルなどが挙げられ、中でも
メチル基が好ましい。

【００１２】R₂で表されるアルキル基としては、例え
ば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、第
三アミル、オクチル、第三オクチル等が挙げられる。

【００１３】R₁およびR₂で表されるアルケニル基として
は、直鎖および分岐のプロペニル、ブテニル、ペンテニ
ル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニルが不飽和結合
の位置によらず挙げられる。

【００１４】R₁で表されるアリール基としては、例え
ば、フェニル、ナフチル、ビフェニルなどが挙げられ
る。また、置換基や中断を有するアリール基としては、
４−メチルフェニル、３−クロロフェニル、４−ベンジ
ルオキシフェニル、４−シアノフェニル、４−フェノキ
シフェニル、４−グリシジルオキシフェニル、４−イソ
シアヌレートフェニルなどが挙げられる。

【００１５】R₁で表される置換基および中断を有してい
てもよいアルキル基、シクロアルキル基としては、２−
ヒドロキシプロピル、２−メトキシエチル、３−スルホ
ニル−２−ヒドロキシプロピル、４−メチルシクロヘキ
シルなどが挙げられる。

【００１６】R₃、R₄、R₅及びR₆で表されるアルコキシ基
としては、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、
イソプロポキシ、ブトキシ、第二ブトキシ、第三ブトキ
シ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキ
シ、オクトキシ、デシルオキシなどのアルコキシ基が挙
げられる。アルコキシカルボニル基としては、上記アル
コキシ基の誘導体が挙げられる。アリールアルキル基と
しては、例えば、クミル基、フェニルメチレン基などが
挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子が挙げられる。

【００１７】本発明の上記一般式（Ｉ）で表される化合
物としては、例えば、下記の化合物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．１
０等の化合物が挙げられる。

【００１８】

【化３】

【００１９】

【化４】

【００２０】

【化５】

【００２１】

【化６】

【００２２】

【化７】

【００２３】

【化８】

【００２４】

【化９】

【００２５】

【化１０】

【００２６】

【化１１】

【００２７】

【化１２】

【００２８】本発明の前記一般式（Ｉ）で表される化合
物の合成方法は特に限定されるものではなく、通常用い
られる合成方法のいずれでもよい。例えば、塩化シアヌ
ル１モルにｍ−キシレン１モルを三塩化アルミニウム触
媒により付加させた後、３−メチルレゾルシノールを三
塩化アルミニウム触媒で付加反応させることで２，４−
ビス（２，４−ジヒドロキシ−３−メチルフェニル）−
６−（４−メチルフェニル）−ｓ−トリアジンを合成
し、これとプロピルブロマイドを反応させ、２，４−ビ
ス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−プロピルオキシ
フェニル）−６−（４−メチルフェニル）−ｓ−トリア
ジンを合成する。

【００２９】本発明に係るトリアジン系化合物は、それ
単独で紫外線吸収剤として使用することができる。本発
明の紫外線吸収剤が適用される対象としては、高分子材
料があげられる。特に、本発明の紫外線吸収剤は揮発性
が小さく、優れた耐光性を有するため、特に薄膜状物に
おいて有効であり、薄膜状のものであれば、合成樹脂フ
ィルム、シート、塗料の他、不織布や織物などに用いら
れる繊維であってもよい。具体的には、農業用資材など
のフィルム・シート、ＰＥＴに代表されるポリエステル
繊維やナイロン繊維などの繊維材料、眼内レンズ、テー
プなどの高分子材料のほか、感熱記録材料、塗料、とく
に自動車用塗料、接着剤、パテ、ラッカー用結合剤、写
真材料における基材、液晶組成物などが挙げられる。特
に、積層フィルムの最外層や塗装面の保護のためのトッ
プコート層に用いられる塗料などに好適に用いられる。
本発明の紫外線吸収剤の添加量は安定化の対象が高分子
材料である場合、高分子材料１００重量部に対して通常
０．００１〜３０重量部、好ましくは０．０１〜１０重
量部である。

【００３０】本発明の紫外線吸収剤は、揮散性が小さ
く、優れた耐光性を付与するので、農業用資材や自動車
塗料等の高度の耐光性が要求される分野に特に有用であ
り、熱硬化性塗料などへの組み込みにおいては特に優れ
た安定化効果が期待できる。

【００３１】本発明における安定性改善の対象となる高
分子材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、エラ
ストマー等を挙げることができる。例えば、高密度、低
密度または直鎖状低密度ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリブテン−１、ポリ−３−メチルペンテン等のα
−オレフィン重合体またはエチレン−酢酸ビニル共重合
体、エチレン−プロピレン共重合体等のポリオレフィン
及びこれらの共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、
ポリフッ化ビニリデン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビ
ニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニ
リデン−酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニル−アクリ
ル酸エステル共重合体、塩化ビニル−マレイン酸エステ
ル共重合体、塩化ビニル−シクロヘキシルマレイミド共
重合体、塩化ビニル−シクロヘキシルマレイミド共重合
体等の含ハロゲン樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポリ
スチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、スチレン及
び／又はα−メチルスチレンと他の単量体（例えば、無
水マレイン酸、フェニルマレイミド、メタクリル酸メチ
ル、ブタジエン、アクリロニトリル等）との共重合体
（例えば、ＡＳ樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＭＢＳ樹脂、耐熱Ａ
ＢＳ樹脂等）、ポリメチルメタクリレート、ポリビニル
アルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラ
ール、ポリエチレンテレフタレート及びポリテトラメチ
レンテレフタレート等の直鎖ポリエステル、ポリフェニ
レンオキサイド、ポリカプロラクタム及びポリヘキサメ
チレンアジパミド等のポリアミド、ポリカーボネート、
分岐ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリフェニレ
ンサルファイド、ポリウレタン、繊維素系樹脂等の熱可
塑性合成樹脂及びこれらのブレンド物、あるいはフェノ
ール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、
不飽和ポリカステル樹脂等の熱硬化性樹脂をあげること
ができる。更に、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、ア
クリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム、スチレン−ブ
タジエン共重合ゴム等のエラストマーであってもよい。

【００３２】本発明の紫外線吸収剤は、必要に応じて他
の汎用の酸化防止剤、安定剤等の添加剤を併用すること
ができる。

【００３３】これらの添加剤として特に好ましいものと
しては、フェノール系、硫黄系、ホスファイト系等の酸
化防止剤、ヒンダードアミン系の光安定剤があげられ、
特に、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン化合物
に代表されるヒンダードアミン系の光安定剤は本発明の
化合物と相乗効果を奏するので好ましい。

【００３４】上記フェノール系酸化防止剤としては、例
えば、２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール、２，６
−ジフェニル−４−オクタデシロキシフェノール、ステ
アリル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート、ジステアリル（３，５−ジ第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホネート、チオジ
エチレングリコールビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘ
キサメチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサメ
チレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロピオン酸アミド〕、４，４’−チオビス
（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール)、２，２’−メチ
レンビス（４−メチル−６−第三ブチルフェノール）、
２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−第三ブチル
フェノール）、ビス〔３，３−ビス（４−ヒドロキシ−
３−第三ブチルフェニル）ブチリックアシッド〕グリコ
ールエステル、４，４’−ブチリデンビス（６−第三ブ
チル−ｍ−クレゾール）、２，２’−エチリデンビス
（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，２’−エチ
リデンビス（４−第二ブチル−６−第三ブチルフェノー
ル)、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキ
シ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、ビス〔２−第三
ブチル−４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−第三
ブチル−５−メチルベンジル）フェニル〕テレフタレー
ト、１，３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−ヒド
ロキシ−４−第三ブチルベンジル）イソシアヌレート、
１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ルキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリ
ス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，３，５−トリ
ス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、テ
トラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２−
第三ブチル−４−メチル−６−（２−アクリロイルオキ
シ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル)フェノー
ル、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛（３−第
三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロ
ピオニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラ
オキサスピロ〔５.５〕ウンデカン、トリエチレングリ
コールビス〔（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−
メチルフェニル）プロピオネート〕等が挙げられる。

【００３５】また、上記硫黄系酸化防止剤としては例え
ば、チオジプロピオン酸ジラウリル、ジミリスチル、ジ
ステアリル等のジアルキルチオジプロピオネート類及び
ペンタエリスリトールテトラ（β−ドデシルメルカプト
プロピオネート）等のポリオールのβ−アルキルメルカ
プトプロピオン酸エステル類があげられる。

【００３６】また、上記ホスファイト系酸化防止剤とし
ては、例えば、トリスノニルフェニルホスファイト、ト
リス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスファイト、
トリス〔２−第三ブチル−４−（３−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−５−メチルフェニルチオ）−５−メチルフ
ェニル〕ホスファイト、トリデシルホスファイト、オク
チルジフェニルホスファイト、ジ（デシル）モノフェニ
ルホスファイト、ジ（トリデシル）ペンタエリスリトー
ルジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトール
ジホスファイト、ジ(ノニルフェニル）ペンタエリスリ
トールジホスファイト、ビス（２，４−ジ第三ブチルフ
ェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス
（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタ
エリスリトールジホスファイト、ビス（２，４，６−ト
リ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスフ
ァイト、テトラ（トリデシル）ビスフェノールＡホスフ
ァイト、テトラ（トリデシル）イソプロピリデンジフェ
ノールジホスファイト、テトラ（トリデシル）−４，
４’−ｎ−ブチリデンビス（２−第三ブチル−５−メチ
ルフェノール)ジホスファイト、ヘキサ（トリデシル）
−１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−
５−第三ブチルフェニル）ブタントリホスファイト、
２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニ
ル）−２−エチルヘキシルホスファイト、２，２’−メ
チレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）オクタデ
シルホスファイト、２，２’−エチリデンビス（４，６
−ジ第三ブチルフェニル）フルオロホスファイト、テト
ラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ビフェニレン
ジホスホナイト、９，１０−ジハイドロ−９−オキサ−
１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキサイド、ト
リス（２−〔（２，４，８，１０−テトラキス第三ブチ
ルジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１，３，２〕ジオキサホスフェ
ピン−６−イル）オキシ〕エチル）アミン、２−エチル
−２−ブチルプロピレングリコールと２，４，６−トリ
第三ブチルフェノールの亜リン酸エステルなどが挙げら
れる。

【００３７】また、上記ヒンダードアミン系光安定剤と
しては、例えば、２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジルベンゾエート、Ｎ−（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）ドデシルコハク酸イミド、
１−〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオニルオキシエチル〕−２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジル−（３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セ
バケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−
４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，
６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−ブチル−２
−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
マロネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、テ
トラ（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ブタンテトラカルボキシレート、テトラ（１，２，
２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ブタンテ
トラカルボキシレート、ビス（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）ブタンテ
トラカルボキシレート、ビス（１，２，２，６，６−ペ
ンタメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）ブタ
ンテトラカルボキシレート、３，９−ビス〔１，１−ジ
メチル−２−｛トリス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカル
ボニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオ
キサスピロ〔５．５〕ウンデカン、３，９−ビス〔１，
１−ジメチル−２−｛トリス（１，２，２，６，６−ペ
ンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニルオキシ）
ブチルカルボニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０
−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、１，５，
８，１２−テトラキス〔４，６−ビス｛Ｎ−（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミ
ノ｝−１，３，５−トリアジン−２−イル〕−１，５，
８，１２−テトラアザドデカン、１−（２−ヒドロキシ
エチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジノール／コハク酸ジメチル縮合物、２−第三オクチル
アミノ−４，６−ジクロロ−ｓ−トリアジン／Ｎ，Ｎ’
−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ヘキサメチレンジアミン縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘ
キサメチレンジアミン／ジブロモエタン縮合物、２，
２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジン
−Ｎ−オキシル、ビス（２，２，６，６−テトラメチル
−Ｎ−オキシルピペリジン）セバケート、テトラキス
（２，２，６，６−テトラメチル−Ｎ−オキシルピペリ
ジル）ブタン−１，２，３，４−テトラカルボキシレー
ト、３，９−ビス（１，１−ジメチル−２−（トリス
（２，２，６，６−テトラメチル−Ｎ−オキシルピペリ
ジル−４−オキシカルボニル）ブチルカルボニルオキ
シ）エチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ
〔５．５〕ウンデカン等があげられる。

【００３８】その他必要に応じて、本発明の高分子材料
組成物には重金属不活性化剤、造核剤、金属石けん、有
機錫化合物、可塑剤、エポキシ化合物、発泡剤、帯電防
止剤、難燃剤、滑剤、加工助剤等を包含させることがで
きる。

【００３９】本発明の紫外線吸収剤の高分子材料への適
用方法は特に限定されるものではなく、添加する際の形
態は粉末でもエマルジョンやサスペンジョンなどの水分
散体でもよく、有機溶剤により溶液としてもよい。

【００４０】さらに、添加される形態に応じて添加工程
も種々可能であり、安定化される有機材料が高分子材料
の場合は通常用いられる高分子材料への紫外線吸収剤の
適用方法のいずれでもよい。例えば、加工時に添加して
もよく、加工後に吸着および含浸させてもよく、また本
発明の紫外線吸収剤を添加したフィルムなどをコーティ
ングしてもよい。加工時の添加方法においては、高濃度
に配合したマスターバッチを調製したり、顆粒化して粉
塵を抑制した後に最終的に目的とする配合において混練
されてもよい。塗料や感熱記録材料、液晶組成物などに
おいては直接添加でもよく、保護層中に添加してもよ
い。

【００４１】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお
「％」は、特に示す場合を除くほか「重量％」を示す。

【００４２】合成実施例−１（化合物Ｎｏ．１の合成）まず、中間体としての２，４−ビス（２，４−ジヒドロ
キシ−３−メチルフェニル）−６−（２，４−ジメチル
フェニル）−ｓ−トリアジン（以下、中間体Ａ）を合成
した。２−（２’，４’−ジメチルフェニル）−４，６
−ジクロロ−ｓ−トリアジン５３ｇ（０．２１モル）を
クロロベンゼン２６５ｇに溶解し、２−メチルレゾルシ
ノール５４．６ｇ（０．４４モル）を加えたのち、室温
で攪拌しながら、三塩化アルミニウム３２．０ｇ（０．
２４モル）を除々に加え、７０℃で２時間反応させた。
常法により触媒である三塩化アルミニウムを除き、水蒸
気蒸留により脱溶媒後、熱水および熱キシレンで洗浄
し、融点３１０℃の淡黄色粉末５４．４g(収率６０．３
％）を得た。得られた化合物は紫外線吸収スペクトルに
おいて、313.0nm,353.0nmに極大吸収を示し、各々の波
長における吸光係数は、ε_313.0:36800、ε_353.0:3710
0であった。また、¹Ｈ−ＮＭＲにより中間体Ａと同定
した。 2.1,2.4,2.6(Ar-CH₃)、6.5-6.7,7.1-7.3,7.7-7.9,8.0-
8.2(Ar-H)、10.4,13.5(Ar-OH) 次いで、中間体Ａ２１．５ｇ(０．０５モル)、苛性ソー
ダ４．４ｇ（０．１１モル)をジメチルホルムアミド
（以下、ＤＭＦ）１５０ｍｌに溶解し、沃化メチル２
１．３ｇ（０．１５モル）を滴下した後、７５℃×２時
間反応させて、冷却後１Ｎ塩酸水溶液１００ｍｌを加
え、析出した沈澱をろ取してトルエンより再結晶により
融点２３９℃の淡黄色粉末１９．３g(収率８４．４％）
を得た。得られた化合物は紫外線吸収スペクトルにおい
て、313.0nm,348.0nmに極大吸収を示し、各々の波長に
おける吸光係数は、ε_313.0:42500、ε_348.0:36300で
あった。また、¹Ｈ−ＮＭＲにより化合物Ｎｏ．２と同
定した。 2.1(-CH₃)、2.4,2.6(-CH₃)、3.9(O-CH₃)、4.0(-CH₂-)、
6.7-6.9,7.2-7.4,7.8-8.0,8.3-8.5(Ar-H)、13.4(Ar-OH)

【００４３】合成実施例−２（化合物Ｎｏ．２の合成）中間体Ａ４２．９ｇ(０．１モル)、苛性ソーダ９．６ｇ
（０．２４モル)をＤＭＦ８００ｍｌに溶解し、ヘキシ
ルブロマイド４９．５ｇ（０．３０モル)を滴下した
後、８０℃×３時間反応させて、冷却後１Ｎ塩酸水溶液
２００ｍｌを加え、析出した沈澱をろ取してイソプロパ
ノールより再結晶により融点１０３℃の淡黄色粉末５
０．６g(収率８４．６％）を得た。得られた化合物は紫
外線吸収スペクトルにおいて、318.0nm,347.0nmに極大
吸収を示し、各々の波長における吸光係数は、
ε_318.0:42900、ε_347.0:40800であった。また、¹Ｈ
−ＮＭＲにより化合物Ｎｏ．３と同定した。 0.8(-CH₃)、1.1-1.9(-CH₂-)、2.2(-CH₃)、2.4,2.7(-C
H₃)、4.0-4.1(-CH₂-)、6.5-6.7,7.1-7.3,7.8-8.0,8.3-
8.5(Ar-H)、13.5(Ar-OH)

【００４４】合成実施例−３（化合物Ｎｏ．３の合成）中間体Ａ２１．５ｇ(０．０５モル)、苛性ソーダ４．８
ｇ（０．１２モル)をＤＭＦ３００ｍｌに溶解し、ｎ−
ラウリルブロマイド３９．９ｇ（０．１６モル)を滴下
した後、７５℃×１０時間反応させ、冷却後１Ｎ塩酸水
溶液１００ｍｌを加え、析出した沈澱をろ取してイソプ
ロパノールより再結晶により融点８７℃の淡黄色粉末３
２．６g(収率８５．１％）を得た。得られた化合物は紫
外線吸収スペクトルにおいて、318.0nm,345.4nmに極大
吸収を示し、各々の波長における吸光係数は、
ε_318.0:43000、ε_345.4:40900であった。また、¹Ｈ
−ＮＭＲにより化合物Ｎｏ．４と同定した。 0.8(CH₃、1.1-2.0(-CH₂-)、2.2,2.4,2.7(Ar-CH₃)、4.0-
4.2(O-CH₂-)、6.5-6.7,7.1-7.3,7.8-8.0,8.3-8.5(Ar-
H)、13.5(O-H)

【００４５】合成実施例−４（化合物Ｎｏ．４の合成）中間体Ａ２１．５ｇ(０．０５モル)と２−ブロモエタノ
ール２５０ｇ（２．０モル）をＤＭＦ３００ｍｌに溶解
し、８０℃で４０％水酸化ナトリウム水溶液７０ｇ
（０．７モル）を滴下した。滴下終了後７８℃で１時間
反応させて、冷却後１Ｎ塩酸水溶液１００ｍｌを加え、
析出した沈澱をろ取してイソプロパノールより再結晶に
より融点２１０℃の淡黄色粉末２１．１g(収率８１．５
％）を得た。得られた化合物は、¹Ｈ−ＮＭＲにより化
合物Ｎｏ．４と同定した。 2.1,2.4,2.6(Ar-CH₃)、3.3(CH₂O-H)、3.7-4.1(O-CH₂CH₂
-O)、6.6-6.8,7.2-7.4,7.7-7.9,8.1-8.3(Ar-H)、13.3(A
r-OH)

【００４６】合成実施例−５（化合物Ｎｏ．６の合成）塩化シアヌル１８．４ｇ（０．１モル）とフェノール１
８．８ｇ（０．２モル）をキシレン１００ｍｌ、水１０
０ｍｌの混合溶媒中、炭酸水素ナトリウム２１．８ｇ
（０．２６モル）、トリエチルベンジルアンモニウムク
ロライド０．９１ｇ（４ミリモル）を加え、５℃で１０
時間反応させた。水洗、脱水してキシレン層を分取し、
三塩化アルミニウム２６．７ｇ（０．２モル）を加え、
９５℃で１０時間反応させた。反応液に２−メチルレゾ
ルシノール３７．２ｇ（０．３モル）を加え、還流下１
５時間反応させた。常法により三塩化アルミニウムを除
き、熱水、熱キシレンで洗浄して中間体Ａを２６．１ｇ
（収率６０．７％）を得た。得られた中間体Ａを２１．
５ｇ(０．０５モル)、ｔ−ブトキシカリウム０．５６ｇ
（５ミリモル)をトルエン３００ｍｌに懸濁し、トリエ
チレングリコール−α−メチル−ε−グリシジルエーテ
ル４０．５ｇ（０．１６モル)を加えた後、１１０℃×
１５時間反応させて、冷却後１Ｎ塩酸水溶液で中和し、
水洗、脱水脱溶媒して淡黄色液体４０．３g(収率９２．
６％）を得た。得られた化合物は紫外線吸収スペクトル
において、313.6nm,347.0nmに極大吸収を示し、各々の
波長における吸光係数は、ε_313.6:42300、ε_347.0:34
000であった。また、¹Ｈ−ＮＭＲにより化合物Ｎｏ．
６と同定した。 2.18,2.41,2.68(Ar-CH₃)、3.37(O-CH₃)、3.5-4.2(O-CH₂
CH₂-O,-CH(OH)-)、6.5-6.7,7.1-7.3,7.8-8.0,8.2-8.4(A
r-H)、13.5(Ar-OH)

【００４７】合成実施例−６（化合物Ｎｏ．１０の合
成）塩化シアヌル１８．４ｇ（０．１モル）、２−メチルレ
ゾルシノール４９．７ｇ（０．４モル）、三塩化アルミ
ニウム６０．０ｇ（０．４５モル）をクロルベンゼン
中、５０℃で１時間反応させた。常法により三塩化アル
ミニウムを除き、脱溶媒して黄色粉末４３．８ｇを得
た。得られた黄色粉末２２．４ｇ（０．０５モル）、ブ
ロモヘキサン３３．０ｇ（０．２モル）、水酸化ナトリ
ウム８．０ｇ（０．２モル）を加え、ＤＭＦ２００ｍｌ
中７０℃で１２時間反応させて、融点１９３℃の淡黄色
粉末６０．６ｇ（収率８２．３％）を得た。得られた化
合物は紫外線吸収スペクトルにおいて、330.0nm,357.0n
mに極大吸収を示し、各々の波長における吸光係数は、
ε_330.0:42300、ε_357.0:34000であった。また、¹Ｈ
−ＮＭＲにより化合物Ｎｏ．１０と同定した。 0.8-1.9(-C₅H₁₁)、2.1(Ar-CH₃)、3.9-4.1(O-CH₂-)、6.4
-6.6,7.8-8.0(Ar-H)、13.5(Ar-OH)

【００４８】実施例−１エチレン−プロピレン共重合体１００重量部、ステアリ
ル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート０．１重量部、トリス（２，４−ジ第三
ブチルフェニル）ホスファイト０．０５重量部、ＨＡＬ
Ｓ−１（１，５，８，１２−テトラキス〔４，６−ビス
｛Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ブチルアミノ｝−１，３，５−トリアジン−２−イ
ル〕−１，５，８，１２−テトラアザドデカン）０．３
重量部、ステアリン酸カルシウム０．０５重量部および
表−１に示す試料化合物０．２重量部により組成物を
得、これを２５０℃で押し出し加工してペレットを作製
した。次いで、２５０℃で射出成型して、厚さ２mmのシ
ートを作製し、黄色度を測定した。このシートについ
て、サンシャインウエザオメーターを用いて、ブラック
パネル温度８３℃、１２０分中１８分間の降雨サイクル
で、耐候性試験を行った。評価方法はクラックの発生時
間の比較で行なった。その結果を次の表−１に示す。

【００４９】

【表１】

【００５０】

【化１３】

【００５１】

【化１４】

【００５２】実施例−２ベースコート塗料として、メタクリル酸メチル１００
ｇ、アクリル酸ｎ−ブチル６６ｇ、メタクリル酸−２−
ヒドロキシエチル３０ｇ、メタクリル酸４ｇ、キシレン
８０ｇおよびｎ−ブタノール２０ｇを１１０℃に加熱し
てアゾビスイソブチロニトリル２ｇ、ドデシルメルカプ
タン０．５ｇ、キシレン８０ｇおよびｎ−ブタノール２
０ｇからなる溶液を３時間で滴下した。さらに２時間反
応させて樹脂固形分５０％のアクリル樹脂溶液を調製し
た。このアクリル樹脂溶液１２重量部にブトキシ化メチ
ロールメラミン２．５重量部、セルロースアセテートベ
チレート樹脂５０重量部、アルミニウム顔料５．５重量
部、キシレン１０重量部、酢酸ブチル２０重量部および
銅フタロシアニンブルー０．２重量部をとりベースコー
ト塗料とした。

【００５３】メタクリル酸メチル１００ｇ、アクリル酸
ｎ−ブチル６６ｇ、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチ
ル３０ｇ、メタクリル酸４ｇ、紫外線吸収剤（表−２参
照）２ｇ、キシレン８０ｇおよびｎ−ブタノール２０ｇ
を１１０℃に加熱してアゾビスイソブチロニトリル２
ｇ、ドデシルメルカプタン０．５ｇ、キシレン８０ｇお
よびｎ−ブタノール２０ｇからなる溶液を３時間で滴下
した。さらに２時間反応させて樹脂固形分５０％のアク
リル樹脂溶液を調製した。このアクリル樹脂溶液４８重
量部にブトキシ化メチロールメラミン１０重量部、キシ
レン１０重量部およびブチルグリコールアセテート４重
量部をとりトップコート塗料とした。

【００５４】プライマー処理した鋼板に上記ベースコー
ト塗料を乾燥膜厚が２０μｍになるようにスプレーし、
１０分間放置後、上記トップコート塗料を乾燥膜厚が３
０μｍになるようにスプレーした。１５分放置後、１４
０℃で３０分間焼付し、試験片を作製した。

【００５５】得られた試験片をサンシャインウェザオメ
ーターに入れ、塗膜に割れの発生するまでの時間を測定
した。その結果を表−２に示す。

【００５６】

【表２】

【００５７】実施例−３塩化ビニル樹脂（重合度1,000)１００重量部、ジオクチ
ルフタレート４７重量部、トリキシレニルホスフェート
３重量部、亜鉛ステアレート０．８重量部、ホスホン酸
ノニルフェニルエステルバリウム塩０．８重量部、テト
ラ（トリデシル）ビスフェノールＡジホスファイト０．
８重量部、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル３重
量部、メチレンビス（ステアリン酸アミド）０．５重量
部、ソルビタンモノパルミテート２重量部、テトラ
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−
１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート０．５
重量部および表−３に示す試料化合物０．２重量部から
組成物を得、これを混練ロールにより混練し厚さ０．１
ｍｍのフィルムを作製した。このフィルムから試験片を
切取り、サンシャインウェザオメーター（雨なし）によ
る耐候性試験を行った。その結果を表−３に示す。

【００５８】

【表３】

【００５９】実施例−４紫外線吸収剤（表−４に記載）３５重量部をノニオン系
界面活性剤（ノニルフェノールとエチレンオキシドの付
加物）１重量部と水６４重量部に微分散させた液３０ｇ
とアントラキノン系赤色染料（Resolin Red FB：バイエ
ル社製）１０ｇと酢酸０．３ｇを水１リットルに分散し
て染液として、浴比１：１０でポリエステル布１００ｇ
を密閉容器に入れて１３０℃恒温槽にて３０分間染色し
た。冷却後水洗して、常法により還元洗浄して試験片を
得た。染液の染色前後の吸光度から紫外線吸収剤の吸尽
率を測定した。また、得られた染色布のサンシャインウ
ェザオメーター８３℃（散水なし）での２４０時間後の
試験前との色差により耐候性試験を行った。なお、吸尽
率については染料がない場合についても測定した。その
結果を次の表−４に示す。

【００６０】

【表４】

【００６１】実施例−５極限粘度０．５７（ジオキサン中、３０℃）のビスフェ
ノールＡポリカーボネート１００重量部に、表−５に記
載の紫外線吸収剤１０重量部を添加した保護層４０μｍ
と、紫外線吸収剤を添加していない基材層１０ｍｍを２
８０℃×８０ｒｐｍで共押し出しにより積層してシート
を得た。得られたシートを高圧水銀灯で２週間照射前後
の色差により耐候性を評価した。結果を表−５に示す。

【００６２】

【表５】

【００６３】

【発明の効果】上記各実施例の結果から、本発明の特定
の紫外線吸収剤を用いた場合は、従来知られていたトリ
アジン系紫外線吸収剤を用いた場合と比較して高分子材
料の安定化効果が著しく大きいことが明らかである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者綾部敬士埼玉県浦和市白幡５丁目２番13号旭電化工業株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記一般式（Ｉ）で表されるトリアジン
系化合物。【化１】
【請求項２】一般式（Ｉ）で表されるトリアジン系化
合物からなる紫外線吸収剤。
【請求項３】請求項２記載の紫外線吸収剤を添加され
た高分子材料組成物。
【請求項４】請求項２記載の紫外線吸収剤を添加され
た繊維状物。
【請求項５】請求項３記載の高分子材料組成物からな
る薄膜状物。
【請求項６】請求項３記載の高分子材料組成物からな
る塗膜。
【請求項７】請求項３記載の高分子材料組成物からな
るフィルム。