JPH0446136A - 紫外線吸収剤およびそれを含む光感受性有機材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

［０００１］

【産業上の利用分野】

本発明はアントロン、アクリドンおよびキサントン型の
新規な紫外線吸収剤、及び該吸収剤を含む光感受性有機
材料に関する。 ［０００２］

【従来の技術】

１−ヒドロキシアントラキノンが使用される、光、特に
紫外線の有害な影響から光感受性材料を保護する方法は
ＣＨ−Ａ−３７９７６０号に開示されている。 ［０００３］

【発明が解決しようとする課題】

本発明は、この目的に首尾よく使用できるある種のアン
トロン、アクリドンおよび他の類のキサントン化合物を
提供することを課題とする。 ［０００４］

【課題を解決するための手段】

特に本発明は次式（１）

【５】 され、 及び／または酸素原子によって中断されてもよい炭素原
子数４ないし１８のアルキル基を表すか、 または−〇ＯＲ４ 〔Ｒ４が炭素原子数２ないし１２のア ルケニル基を表わし、 ｙが１ないし１２を表わす） を表わし、 そしてＲ２およ 基、炭素原子数２ないし１２のアルケニル基、−〇Ｒ１
（Ｒ１が上記の意味を表 し４のアルキル基を表す）で表わされる化合物に関する
。 ［０００５］ 本発明はまたこれらの化合物の製造方法、少なくとも１
個の該化合物（Ｘが０を表わす）を含む光感受性有機材
料と同様に、Ｘが０を表わす式（１）の化合物を使用す
ることによって光感受性有機材料を保護する方法に関す
る。 ［０００６］ 式（１）の化合物に於いて、置換基Ｒ６は水素原子に加
えて、式−（ＣＨ２）□−Ｃ○２Ｒで表わされる基であ
る。この式に於いて、Ｒは炭素原子数１ないし１８のア
ルキル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ウンデシ
ル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、及びオクタデシル
基、及び相当する分枝状異性体であるが、または式−（
ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）　ｍ　Ｈ（ｒｎが１ないし１２を表す
）で表わされる基である。ｎは１または２である。Ｒ１
は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、いわゆる代表
的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペ
ンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシ
ル基、ヘキサデシル基、またはオクタデシル基であり、
そして相当する分校状アルキル基も適当でありうる。ア
ルキル基Ｒ１が炭素原子を４ないし１８個を含むとき、
１またはそれ以上のヒドロキシル基によって置換されて
もよい。それらは１またはそれ以上の酸素原子によって
中断されてもよくそしてさらに１またはそれ以上のヒド
ロキシル基を含んでもよい。そのようなアルキル基の実
例は、−（ＣＨ２）ｘ−〇−（ＣＨ２）ｙＨ及び−（Ｃ
Ｈ２）Ｘ−０−（ＣＨ２）、−０−（ＣＨ２）、Ｈ（ｘ
及びｙまたはｘ、　ｙ及び２の総計○Ｈ （ｒが０または１を表わし、Ｓが１ないし１５を表わす
）で表わされる基である［０００７］ Ｒ１は式−〇ＯＲ４（Ｒ４がそれぞれ炭素原子数２ない
し１２のアルキル基またはアルケニル基を表す）で表わ
される基を表す。アルキル基の例は上記に引用する。ア
ルケニル基の例はエチニル基、プロペニル基、ブテニル
基、ヘキセニル基、オクテニル基、ノネニル基及びドデ
セニル基である。アルケニル基Ｒ１は多不飽和でもよい
。Ｒ１は相当する分枝状異性体を示してもよい。 ２を表す〕で表わされる基を示す。 ［０００８］ ［０００９］ し１２のアルキル基、 炭素原子数２ないし１２のアルケニル基（これらの例は
上ある。Ｘは二価でありＣＨ２ ［００１０］ ＮＨまたはＯである。 メチル基である。（１）で表わされる好ましい化合物の
他の基は、Ｒ１がヒドロキシル基によって置換され、及
び／または酸素原子によって中断されてもよい炭素原子
数４ないし１２のアルキル基であるか、または−〇ＯＲ
４であるか、また（Ｒ４が炭素原子数４ないし８のアル
キル基を表わし、ｙが１ないし４を表わしそしてＲ５が
炭素原子数１ないし４のアルキル基を表す）で表わされ
る基を表す化合物からなる。 ［００１１］ これらの化合物中、Ｒ１が炭素原子数１ないし８のアル
キル基を表すものが特に好ましい。 ［００１２］ 式（１）で表わされる他の好ましい化合物は、Ｒが−Ｃ
Ｈ２ＣＨ２ＣＯ２Ｒ（Ｒが炭素原子数１ないし８のアル
キル基か、または−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍＨを表わし、
ｍが６ないし８を表す）で表わされる化合物である。光
感受性有機材料は本発明の実施で、該材料に保護塗膜、
例えばＸがＯである式（１）で表わされる化合物を少な
くとも１個含む塗料またはワニス組成物を提供すること
によって、または該有機材料中に慣用の方法で、そのよ
うな化合物を混入することによって、紫外線照射の有害
影響から保護されうる。そのような方法で、ＸがＮＨま
たはＣＨ２である式（１）で表わされる化合物を使用す
ることが可能である。 ［００１３］ 光感受性有機材料は本発明の実施において、立体障害性
アミンまたはヒドロキシフェニベンゾトリアゾール誘導
体を含まない。 ［００１４］ 本発明の実施で、光の有害影響から保護しうる光感受性
有機材料を以下に示す［００１５］ １、モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー　例
えば、ポリフロピレンポリイソブチレン、ポリブチ−１
−エン、ポリメチルペンテ−１−エン、ポリイソプレン
またはポリブタジェン、同様にシクロオレフィン、例え
ばシクロペンテンまたはノルポルエンのポリマー　ポリ
エチレン（架橋されていてもいなくてのよい）　例えば
高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）　　低密度ポリエチレ
ン（ＬＤＰＥ）及び線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰ
Ｅ）。 ［００１６］ ２、上記１に挙げたポリマーの混合物、例えばポリプロ
ピレンとポリイソブチレン、ポリプロピレンとポリエチ
レン（例えばＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）及び種
々のタイプのポリエチレンの混合物。（例えばＬＤＰＥ
／ＨＤＰＥ）。 ［００１７］ ３、モノオレフィンおよびジオレフィンの相互もしくは
他のビニルモノマーとのコポリマー　例えばエチレン−
プロピレンコポリマー　線状低密度ポリエチレン（ＬＬ
ＤＰＥ）およびそれらと低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ
）の混合物、プロピレン−ブチ−１−エンコポリマー　
エチレン−ヘキセンコポリマー　エチレン−メチルペン
テンコポリマー−エチレン−ヘプテンコポリマー　エチ
レン−オクテンコポリマー　プロピレン−ブタジェンコ
ポリマー　イソブチレン−イソプレンコポリマー　エチ
レンーアルキルメタクリレートコポイマー　エチレン−
アルキルメタクリレートコポリマー　エチレン−ビニル
アセテートコポリマー　又はエチレン−アクリル酸コポ
リマー及びそれらの塩（アイソマー）　並びにエチレン
とプロピレンとジエン、例えばヘキサジエン、ジシクロ
ペンタジェン、またはエチリデンノルボルネンとのター
ポリマー　そしてさらに、そのようなコポリマーと相互
に、及び上記１で挙げたポリマーとの混合物、例えば、
ポリプロピレン／エチレン／フロピレンコポリマー　　
ＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＤＰＥ／ＥＡＡ。 ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ及びＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ０［００１
８］ ３ａ、炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）で
あり、そこからの水素化変成を含むもの。（例えば粘着
性樹脂）。 ［００１９］ ４、ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）及びポ
リ（α−メチルスチレン）。 ［００２Ｏ］ ５、スチレンもしくはα−メチルスチレンとジエンもし
くはアクリル誘導体とのコポリマー　例えばスチレン／
ブタジェン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／
アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジェン／アル
キルアクリレート、スチレン／無水マレイン酸、及びス
チレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート、スチ
レンコポリマーと他のポリマー　例えばポリアクリレー
ト、ジエンポリマーまたはエチレン−プロピレン−ジェ
ンターポリマーとの高衝撃強度の混合物、及びスチレン
のブロックコポリマー　例えばスチレン／ブタジェン／
スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン
／エチレン／スチレン、又はスチレン／エチレン／プロ
ピレン／スチレン。 ［００２１］ ６、スチレンまたはα−メチルスチレンのグラフトコポ
リマー　例えば、ポリブタジェンにスチレン、ポリブタ
ジェン／スチレンコポリマーまたはポリブタジェン／ア
クリロニトリルコポリマーにスチレン、及びポリブタジ
ェンにスチレンとアクリロニトリル（またはメタアクリ
ロニトリル）；ポリブタジェンにスチレン及び無水マレ
イン酸またはマレイミド；ポリブタジェンにスチレン、
アクリロニトリルおよび無水マレイン酸またはマレイミ
ド；ポリブタジェンにスチレン、アクリロニトリル及び
メチルメタクリレート；ポリブタジェンにスチレンとア
ルキルアクリレートまたはアルキルメタクリレート、エ
チレン／プロピレン／ジェンターポリマーにスチレンと
アクリロニトリル、ポリアルキルアクリレートまたはポ
リアルキルメタクリレートにスチレンとアクリロニトリ
ル、アクリレート／ブタジェンコポリマーにスチレンと
アクリロニトリル、及びそれらと前記５で挙げたコポリ
マーとの混合物、例えばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡまたは
ＡＥＳポリマーとして知られるもの。 ［００２２］ ７、ハロゲン含有ポリマー　例えばポリクロロプレン、
塩素化ゴム、塩素化もしくはクロロスルホン化ポリエチ
レン、エチレンと塩素化工イレンとコポリマー及びエビ
クロロヒドリンホモ−及びコポリマー−好ましくはハロ
ゲン含有ビニル化合物、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリ弗化ビニル、及びポリ弗化ビニリデ
ンのポリマー；及びそれらのコポリマー　例えば塩化ビ
ニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまたは
塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー。 ［００２３］ ８、α、β−不飽和酸、及びその誘導体から誘導された
ポリマー　例えばポリアクリレート及びポリメタクリレ
ート、ポリアクリルアミド及びポリアクリロニトリル。 ［００２４］ ９、上記８に挙げたモノマーの相互または他の不飽和モ
ノマーとのコポリマー例えばアクリロニトリル−ブタジ
ェンコポリマー　アクリロニトリル−アルキルアクリレ
ートコポリマー　アクリロニトリル−アルコキシアルキ
ルアクリレートコポリマー　またはアクリロニトリル−
ハロゲン化ビニルコポリマー　又はアクリロニトリル−
アルキルメタクリレート−ブタジェンターポリマー。 ［００２５］ １０、不飽和アルコール及びアミン、又はアシル誘導体
もしくはアセタールから誘導されたポリマー　例えばポ
リビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリステアリン
酸ヒニル、ポリ安息香酸ビニル、ポリマレイン酸ビニル
、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレートおよび
ポリアリルメラミン；及びそれらと上記１に挙げたオレ
フィンとのコポリマー。 ［００２６］ １１、環状エーテルのホモポリマー及びコポリマー　例
えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド
、ポリプロピレンオキシドまたはそれらとビスグリシジ
ルエーテルとのコポリマー。 ［００２７］ １２、ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン、及
びコモノマー例えばエチレンオキシドを有するポリオキ
シメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレートまた
はＭＢＳで変成されたポリアセタール。 ［００２８］ １３、ポリフェニレンオキシド及びスルフィド、及びそ
れらとポリスチレンまたはポリアミドの混合物。 ［００２９］ １４．一方で末端水酸基を有するポリエーテル、ポリエ
ステル及びポリブタジェン、他方で脂肪族もしくは芳香
族ポリイソシアネートから誘導されるポリウレタン、及
びその前駆物質。 ［００３０］ １５、ジアミン及びジカルボン酸から、及び／又はアミ
ノカルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポ
リアミド及びコポリアミド、例えばポリアミド４ポリア
ミド６、ポリアミド６／６、ポリアミド６／１０、ポリ
アミド６／９、ポリアミド６／１２または４／６、ポリ
アミド１１、ポリアミド１２及びｍ−キシレン、ジアミ
ン及びアジピン酸から出発した芳香族ポリアミド；ヘキ
サメチレンジアミン及びイソフタル酸及び／又はテレフ
タル酸から、及び必要ならば、変成剤としてのエラスト
マー　例えばポリ−２，４，４−）リメチルへキサメチ
レンテレフタルアミド、ポリ−ｍ−フェニレン−イソフ
タルアミドを使用して製造されたポリアミド；前述した
ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマイオ
ノマーまたは化学的に結合された、又はグラフト化され
たエラストマー；又はポリエーテル、例えばポリエチレ
ングリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテ
トラメチレングリコールとのブロックコポリマー；及び
さらにポリアミド、又はＥＰＤＭまたはＡＢＳで変成さ
れたコポリアミド；及び加工の間縮合されたポリアミド
（ＲＩＭポリアミド系）。 ［００３１］ １６、ポリウレア、ポリイミド、ポリアミド−イミド及
びポリベンゾイミダゾール。 ［００３２］ １７、ジカルボン酸及びジオールから、及び／又はヒド
ロキシカルボン酸または相当するラクトンから誘導され
るポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、
ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチロ
ールシクロヘキサンテレフタレート及びポリヒドロキシ
ベンゾエート、並びに末端水酸基を有するポリエーテル
から誘導されるブロックポリエーテルエステル；及び、
さらにポリカーボネートまたはＭＢＳで変成されたポリ
エステル。 ［００３３］ １８．ポリカーボネートおよびポリエステルカーボネー
ト。 ［００３４］ １９、ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリ
エーテルケトン。 ［００３５］ ２Ｏ、一方でアルデヒドから、及び他方でフェノール、
尿素またはメラミンから誘導された架橋ポリマー　例え
ばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ホルムア
ルデヒド樹脂及びメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。 ［００３６］ ２１、乾性もしくは非乾性アルキッド樹脂。 ［００３７］ ２２、飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコールと
のコポリエステルから、ビニル化合物を架橋剤として誘
導された不飽和ポリエステル樹脂及びそのハロゲン含有
、難燃変成樹脂。 ［００３８］ ２３、置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリ
レート、ウレタンアクリレートまたはポリエステルアク
リレートから誘導された架橋アクリル樹脂。 ［００３９］ ２４、メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネートま
たはエポキシ樹脂と架橋したアルキッド樹脂、ポリエス
テル樹脂及びアクリレート樹脂。 ［００４０］ ２５、ポリエポキシド、例えばビスグリシジルエーテル
から、または環状脂肪族ジエポキシドから誘導された架
橋エポキシ樹脂。 ［００４１］ ２６、セルロースのような天然ポリマー　ゴム、ゼラチ
ン及びそれらを化学変成した同族誘導体、例えば酢酸セ
ルロース、プロピオン酸セルロース及び酪酸セルロース
、及びセルロースエーテル、例えばメチルセルロース、
並びにロジン樹脂およびその誘導体。 ［００４２］ ２７、前述のポリマーの混合物（ポリブレンド）　例え
ばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリｒミド６／ＥＰＤＭまたはＡＢ
ｓ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＳ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ
、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、Ｐ
Ｃ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰｖＣ／アクリレート、
ＰＯＭ／熱可塑性Ｐ　Ｕ　Ｒ、Ｐ　Ｃｌ熱可塑性ＰＵＲ
，ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＥ／Ｈ
ＩＰＳ、ＰＰＥ／ＰＡ６．６及びコポリマー　ＰＡ／Ｈ
ＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ及びＰＡ／ＰＰＥ０［００４３］ 式（１）の化合物を含むことに付は加えて、光感受性有
機材料は以下に示すような慣用の安定剤および添加剤を
含むこともできる。 例えば、２，６−ジー第三ブチル−４メチルフエノール
、２−第三ブチル−４，６−シメチルフエノール、２，
６−ジー第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−
ジー第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−
ジー第三ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−
ジ−シクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α
−メチルシクロヘキシル）−４，６ジメチルフエノール
、２，６−シオクタデシルー４−メチルフェノール、２
．４．６−ドリシクロヘキシルフエノール、２，６−ジ
ー第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール及び２，
６−グツニル−４−メチルフェノール。 ［００４４］ １．２．アルキル　ヒドロキノン 例えば、２，６−ジー第三ブチル−４−メトキシフェノ
ール、２，５−ジー第三ブチルヒドロキノン、２，５−
ジー第三アミルヒドロキノンおよび２，６−ジフェニル
−４−オクタデシルオキシフェノール。 ［００４５］ １．３．ヒドロキシル　チオジフェニルエーテル例えば
、２，２′−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフ
ェノール）　　２．２’−チオビス（４−オクチルフェ
ノール）　　４．４’−チオビス（６−第三ブチル−３
−メチルフェノール）および４，４′−チオビス（６−
第三ブチル−２−メチルフェノール）。 ［００４６］ １．４．アルキリデンビスフェノール 例えば、２，２′−メチレンビス（６−第三ブチル−４
−メチルフェノール）　　２．２’−メチレンビス（６
−第三ブチル−４−エチルフェノール）　　２．２’−
メチレンビス〔４−メチル−６−（α−メチルシクロヘ
キシル）フェノール、ｌ、２．２’−メチレンビス（４
−メチル−６−シクロヘキジルフエノール）　　２．２
’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール
）、２．２’−メチレンビス（４，６−ジ第三ブチルフ
エノール）　　２．２’−エチリデン−ビス（４，６−
ジ第三ブチルフエノール）　　２．２’−エチリデン−
ビス−（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）
　　２．２’−メチレンビス〔６−（α−メチルベンジ
ル）−４−ノニルフェノール、ｌ、２，２’−メチレン
ビス（”６−（α、α−ジメチルベンジル）−４−ノニ
ルフェノール）、４．４’−メチレンビス（２，６−ジ
ー第三ブチルフェノール）　　４．４’−メチレンビス
（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）　　１．１
−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル
フェニル）ブタン、２，６−ジー（３−第三ブチル−５
−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェ
ノール１．１．３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒド
ロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１゜１−ビス（
５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル
）　−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレング
リコール　ビス〔３，３−ビス（３′−第三ブチル−４
′−ヒドロキシフェニル）−ブチレート〕、ビス（３−
第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジ
シクロペンタジェン、及びビス−［２−（３’−第三ブ
チル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６
−第三ブチル−４−メチルフェニル〕テレフタレート［
００４７］ ＬＬだ之之ル化金惣 例えば、１．３．５−トリス（３，５−ジー第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）　−２，４，６−ドリメチ
ルベンゼン、ビス−（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）スルフィド、インオクチル３，５−
ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトア
セテート、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２
，６−シメチルベンジル）ジチオールテレフタレート、
１．３．５−　）リス（３，５−ジー第三ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１．３．５−
トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−シ
メチルベンジル）インシアヌレート、ジオクタデシル３
，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホ
ネート、モノエチル３，５−ジー第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンジルホスホネートのカルシウム塩及び１．３
．５−　）リス（３，５−ジシクロへキシル−４ヒドロ
キシベンジル）インシアヌレート。 ［００４８］ １．６．アシルアミノフェノール 例えば、ラウリル酸４−ヒドロキシアニリド、ステアリ
ン酸４−ヒドロキシアニリド２．４−ビス（オクチルメ
ルカプト）−６−（３，５−第三ブチル−４−ヒドロキ
シアニリノ）−Ｓ−）リアジン、Ｎ−（３，５−ジー第
三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−力ルバミン酸オ
クチルエステル。 ［００４９］ アルコールの例：メタノール、オクタデカノール、１，
６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、トリ
エチレングリコール、ペンタエリトリトール、ｌ・リス
（ヒドロキシエチル）インシアヌレート、チオジエチレ
ングリコール、Ｎ、Ｎ’−ビス−（ジヒドロキシエチル
）蓚酸ジアミド。 ［００５０１ アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、１，６−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、チオジエチレングリコール、Ｎ、Ｎ’−ビス−
（ジヒドロキシエチル）蓚酸ジアミド。 ［００５月 アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、１，６−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、チオジエチレングリコール、Ｎ、Ｎ’−ビス−
（ジヒドロキシエチル）蓚酸ジアミド。 ［００５２］ 上 例えばＮ、Ｎ’−ビス（３，５−ジー第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）へキサメチレンジア
ミン、Ｎ、Ｎ’−ビス（３，５−ジー第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミ
ンおよびＮ、Ｎ’−ビス（３，５−ジー第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。 ［００５３］ 例えば４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクトキシ
、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジ
ルオキシ、４．２’、４’−トリヒドロキシおよび２′
−ヒドロキシ−４，４−ジメトキシ誘導体。 ［００５４］ ２．３．必　に応じて置　された−息禾酸のエステル例
えば４−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサ
リチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾ
イルレゾルシノール、ビス−（４−第三ブチルベンゾイ
ル）−レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、３
，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸２，４
−ジー第三ブチルフェニルエステル及び３，５−ジー第
三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシルエステ
ル。 ［００５５］ ２．４．アクリレート 例えばα−シアノ−β、β−ジフェニルアクリル酸のエ
チルエステル又は、インオクチルα−シアノ−β、β−
ジフェニルアクリレート、メチルα−カルボメトキシシ
ンナメート、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシケ
イ皮酸のメチルエステル又はブチルエステル、メチルα
−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート、Ｎ−（
β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチル
インドリン。 ［００５６］ 茹■三ジじυ呵ビ合掬 例えば２，２′−チオ−ビスＣ４−（１，１，３，３−
テトラメチルブチル）フェノール〕のニッケル錯体、例
として１：１または１：２錯体、場合により付加配位子
、例えばｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミンまた
はＮ−シクロヘキシルジェタノールアミンを有してよい
、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロキ
シ−３，５−ジー第三ブチルベンジルホスホン酸モノア
ルキルエステル、例えばメチル、又はエチルエステルの
ニッケル塩、ケトオキシム、例えば２−ヒドロキシ−４
−メチルフェニルウンデシルケトオキシムのニッケル錯
体、および場合により、付加配位子を含んでよい１−フ
ェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールの
ニッケル錯体。 ［００５７］ ２．６．１酸ジアミド 例えば４，４′−ジオクチルオキシオキサニリド、２，
２′−ジオクチルオキシ−５，５′−ジ第三ブトキサニ
リド、２，２′−ジドデシルオキシ−５，５′−ジ第三
ブトキサニリド、２−エトキシ−２′−エチルオサニリ
ド、Ｎ、Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オ
キサルアミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−
エチルオキサニリドおよび、２−エトキシ−２′−エチ
ル−５，４′−ジ第三ブトオキサニリドとの混合物、及
びオルト−並びにバラ−メトキシｍ−置換オキサニリド
の混合物、及び〇−並びにｐ−エトキシニ置換オキサニ
リドの混合物。 ［００５８］ ２．７．２−（２−ヒドロキシフェニル）−１３５−）
リアジン例えば２．４．６−　）リス（２−ヒドロキシ
−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−）リア
ジン、２−（２−ヒドロキシ−４，６−ビス（２，４−
ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン２−（２
，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４
−ジメチルフェニル）　１，３．５−；’リアジン、２
，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェ
ニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）　−１，３
，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチ
ルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニ
ル）−１，３，５−）リアジン、２−（２−ヒドロキシ
−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，
４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン。 ［００５９］ 立−１１襲ジ箭を化到 例えばＮ、Ｎ’−ジフェニル蓚酸ジアミド、Ｎ−サリチ
ラルーＮ′−サリチロイルヒドラジン、Ｎ、Ｎ’−ビス
（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ、Ｎ’−ビス（３，５
−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４
−トリアゾールおよびビス（ベンジリデン）蓚酸ジヒド
ラジド。 ［００６０］ ４、ホスフィツトおよびホスホニット 例えば、トリフェニルホスフィツト、ジフェニルアルキ
ルホスフィツト、フエニルジアルキルホスフィツト、ト
リス（ノニルフェニル）ホスフィツト、トリラウリルホ
スフィツト、トリオクタデシルホスフィツト、ジステア
リルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２
，４−ジー第三ブチルフェニル）ホスフィットジイソデ
シルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，
４−ジー第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジ
ホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフ
ィツト、テトラキス−（２，４−ジー第三ブチルフェニ
ル）４．４’−ジフェニレンジホスフィット、３，９−
ビス（２，４−ジ第三ブチルフェノキシ）−２，４，８
，１０−テトラオキサ−３，９−ジホスファスピロ［５
，５）ウンデカン。 ［００６１］ ５、過酸　　スカベンジャー 例えば、β−チオジプロピオン酸エステル、例えばラウ
リル酸エステル、ステアリル酸エステル、ミリスチン酸
エステル又はトリデシル酸エステル、メルカプトベンズ
イミダゾール、又は２−メルカプトベンズイミダゾール
の亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタ
デシルジスルフィドおよびペンタエリトリトールテトラ
キス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。 ［００６２］ ６、ポリアミド′″′″″′″Ｊ 例えば、ヨウ素及び／又はリン化合物及び二価マグネシ
ウムの塩と組み合わせた銅塩。 ［００６３］ ７、塩基・生パ且″′−剤 例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジ
アミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラ
ジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン高級脂
肪酸のアルカリ金属およびアルカリ土類金属塩、例えば
、カルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネ
シウムステアレート、ナトリウムリシルレート、カリウ
ムパルミテート、アンチモンピロ力テコレート、または
亜鉛ピロカテコレート。 ［００６４］ 旦−核剋 例えば、４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェ
ニル酢酸。 ［００６５］ ９、　土吉剤および虻　剤 例えば、炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、アスベ
スト、タルク、カオリン雲母、硫酸バリウム、金属酸化
物および金属水酸化物、カーボンブラック、黒鉛。 ［００６６］ 四−１１粁註腎先卯掬 例えば、可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃
剤、静電防止剤、および発泡剤。 ［００６７］ 本発明の実施において光誘導分解から保護されうる有機
材料中、有機ポリマーは特に記載され、好ましくは合成
ポリマーに選ばれる。それゆえ、熱可塑性ポリマーを保
護すること、特にポリマー結合剤が光の影響に対して安
定化されるのが好ましい表面塗膜組成物光安定剤が好ま
しい。 ［００６８］ 式■の化合物を含む表面塗膜組成物、すなわち塗料また
はワニス組成物は例えば、着色若しくは非着色性塗料ま
たはワニス組成物またはメタリック塗料でもよい。それ
らは有機溶媒を含むか、または無溶媒、又は水性塗料で
もよい。 ［００６９］ 塗料またはワニス組成物は前記に引用されたものから選
ばれたポリマーを結合剤として含んでもよい。特別な結
合剤を含む塗料またはワニス組成物の実例を以下に示す
。 ［００７０１ １、任意の酸硬化性触媒が添加されている冷−または温
−架橋性アルキッド、アクリレート、ポリエステル、エ
ポキシまたはメラミン樹脂またはそれら樹脂の混合物に
基づいた塗料またはワニス組成物。 ［００７１］ ２、ヒドロキシル化アクリレート、ポリエステルまたは
ポリエーテル樹脂、および脂肪族または芳香族ポリイソ
シアネートに基づいた２成分ポリウレタン塗料またはワ
ニス組成物。 ［００７２］ ３、焼付中にデブロックされるブロックポリイソシアネ
ートに基づいた単・−性塗料またはワニス組成物。 ［００７３］ ４、　（ポリ）ケチミンおよび脂肪族または芳香族ポリ
イソシアネートに基づいた２成分塗料またはワニス組成
物。 ［００７４］ ５、　（ポリ）ケチミンおよび不飽和アクリレート樹脂
またはポリアセトアセテート樹脂またはメチルアクリル
アミドグリコレートメチルエステルに基づいた２成分塗
料またはワニス組成物。 ［００７５］ ６、ポリアクリレートおよびポリエポキシドを含むカル
ボキシル基またはアミノ基に基づいた２成分塗料または
ワニス組成物。 ［００７６］ ７、アクリレート樹脂およびポリヒドロキシまたはポリ
アミノ成分を含む無水基に基づいな２成分塗料またはワ
ニス組成物。 ［００７７］ ８、　（ポリ）オキサゾリジン、及びアクリレート樹脂
または不飽和アクリレート樹脂、または脂肪族または芳
香族ポリイソシアネートを含む無水基に基づいた２成分
塗料またはワニス組成物。 ［００７８，］ ９、不飽和ポリアクリレートおよびポリマロネートに基
づいた２成分塗料またはワニス組成物。 ［００７９］ １０、エーテル化メラミン樹脂と組み合わせた熱可塑性
アクリレート樹脂、又は自己架橋性でないアクリレート
樹脂に基づいた熱可塑性ポリアクリレート塗料またはワ
ニス組成物。 ［００８０］ １１、シロキサン変成アクリレート樹脂に基づいた塗料
またはワニス系。 ［００８１］ １２、弗素変成アクリレート樹脂に基づいた塗料または
ワニス系。 塗料またはワニス組成物は、エチレン性二重結合を含み
、化学線によりまたは電子線で架橋された高分子量形態
に転換されるモノマーまたはオリゴマー化合物からなる
結合剤の場合、光硬化性組成物でもよい。 ［００８２］ 塗料またはワニス組成物は、本発明の安定剤が好ましく
は一番上の層に添加される場合に、単一層または二層系
として適用されうる。 塗料またはワニス組成物は、慣用の技術、例えばはけ塗
り、噴霧、塗装、浸漬または電気泳動により、基質（金
属、プラスチック、木材および類似のもの）に適用され
うる。 自動車（自動車ラッカー）に適用される塗料またはワニ
ス組成物が特に好ましい［００８３］ 本発明の光感受性有機材料が塗料またはワニス組成物で
あるとき、後者は好ましくは結合剤として非アルキッド
樹脂を含むであろう。 ［００８４］ 式（１）の化合物は、慣用の公知の方法で塗料またはワ
ニス組成物中に、他の光感受性有機材料を混入しうる。 その量は通常、有機材料に基づいて０．０１ないし５．
０重量％、好ましくは０．０２ないし３．０重量％であ
る。選択された紫外線吸収剤の量は材料の特性およびそ
の安定性を作り出す必要性に依存するだろう。 ［００８５］ 安定剤化合物の成分は有機材料に単独、又は混合物中に
添加できる。式（１）の化合物の添加およびさらに任意
の安定剤の添加は、好ましくは材料、例えば熱可塑性の
成形の前または間、にされるのが好ましい。しかしなが
ら、添加は重合中、または出発モノマーの重合前におこ
なわれる。 ［００８６］ 式（１）の化合物はそれ自体公知の方法で製造されうる
。例えば、次式（２）

【化６】 及び次式（３）

【化７】 Ｒｏ る化合物の混合物を加熱することにより、例えば式（１
）で表わされる化合物に添加しうるＲ　　−ＣＩまたは
ＲＢｒ　（Ｒ１はすでに与えられた意味を表わす）で表
わされる化合物で反応することによって次式（４）

【８
】 で表わされる中間体を得ることができる。 本発明は以下の実施例により詳細に説明され、特に言及
しないときは部およびパーセントは重量による。 ［００８７］ ［実施例］ 実施惧上二　１５．２　ｇのに２　ＣＯ２と一緒に２２
．８　ｇの１，３−ジヒドロキシキサントン（Ｇｒｏｖ
ｅｒ著、Ｊ、　Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ、　、　１９５５年
、３９８２により製造された）及び２１．２　ｇの１−
フロモオクタンを２５０ｍ１のメチルエチルケトンで１
５時間還流する。塩を冷却した反応混合物から濾過によ
り分離し、メチルエチルケトン溶液を真空下で蒸発によ
って濃縮する。ヘプタンからの残渣の再結晶で、融点９
８℃の１−ヒドロキシオクトキシキサントンを得る。 ［００８８］

【化９】 を表す化合物を得る。 ［００８９］ る。１．５ｇのテトラブチルアンモニウムフ゛ロミド、
２Ｏ．５ｇの２−エチルヘキシルグリシジルエーテル

【化１０】 で表わされる化合物を得る。融点は５６−５８℃である
。 ［００９０１ 使里尖施伝よ二　本発明の紫外線吸収剤は２層メタリッ
ク塗料で試験される。 以下の組成の透明なワニスが製造される。 Ｕｒａｃｒｏｎ　　（登録商標）　　２２６３ＸＢ（５
０７，）　　　　　　　　　５９．２部Ｃｙｍｅｌ　　
（登録商標）　３２７（９０Ｚ）　　　　　　　　　　
　　１１．６部Ｂａｙｓｉｌｏｎ　（登録商標）　　Ａ
（キシレン中ＩＺ）　　　　　　　１．０部ブチルグリ
コールアセテート　　　　　　　　　　　　５．５部キ
シレン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１９
．４部ブタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　３．３部１００、０部 上記の組成物に、１０部のキシレン中に溶解した実施例
１の化合物１部の溶液を添加する。 ［００９１］ この透明なワニス組成物をキシレン（１３部）　ブタノ
ール（６部）及びブチルグリコールアセテート（１部）
の混合物でスプレー可能な濃度に希釈し、準備されたア
ルミニウムシート（自動車用フィラーを充填したポリエ
ステル／セルロースアセテートブチレート／メラミン樹
脂に基づく銀メタリックプライマーラッカーで被覆され
たコイル）上に噴霧し、１３０度で３０分焼付ける。得
られた仕上げ物は４０ないし５０μｍの乾燥層厚さを持
つ。比較の目的のために、同様にして準備されたアルミ
ニウムシートは紫外線吸収剤を除去した上記の透明なワ
ニス組成物で塗装される。 ［００９２］ そのように得られた試料を屋外暴露させ、その後、光沢
保持力の試、験をする。 紫外線吸収剤なしの試料と較べて、安定された試料は明
らかに耐候性が良好であることを示す。結果は以下の表
１に示す。 表よ：　　ＤＩＮ６７５３０による屋外暴露後の光沢保
持性の評価（２Ｏ℃光沢）紫外線吸収剤　　　　０４０
０時間　８００時間　１２Ｏ０時間後の２Ｏ℃光沢 実施例１による 実施例２による 実施例３による 式（５）による 式（５）

【１１】 サイクル：８時間紫外線（ＵＶＢ−３１３）ＶＣＯＮ） ［００９３］ 使里実施伝至二　０．５部の次式（６）％式％

【化１２】 で表わされる化合物をさらに使用することを除いて、使
用実施例１の手順を繰り返す。結果を表２に示す。 表至上　ＤＩＮ６７５３０による屋外暴露後の光沢保持
性の評価（２Ｏ℃光沢）１紫外線吸収剤 ４００時間　８００時間 後の２Ｏ℃光沢 １２Ｏ０時間 実施例１による１部 ＋０．５部の（６） 実施例３による１部 ＋０．５部の（６） ７サ イ クル： ＶＤＡ法Ｃ （Ｘｅｎｏｔｅｓｔ　１２Ｏ０）

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】Ａ）次式（１） 【化１】 ▲数式、化学式、表等があります▼ ｛ＸはＯ、ＮＨ又はＣＨ＿２を表わし、Ｒ＿０は水素原
   子または式−（ＣＨ＿２）＿ｎＣＯ＿２Ｒ〔ｎが１また
   は２を表わし、Ｒが炭素原子数１ないし１８のアルキル
   基または−（ＣＨ＿２ＣＨ＿２Ｏ）＿ｍ−Ｈ（ｍが１な
   いし１２を表す）を表す〕を表わし、Ｒ＿１は炭素原子
   数１ないし１８のアルキル基またはヒロドキシル基によ
   って置換され、及び／または酸素原子によって中断され
   てもよい炭素原子数４ないし１８のアルキル基を表すか
   、または−ＣＯＲ＿４〔Ｒ＿４が炭素原子数２ないし１
   ２のアルキル基またはアルケニル基、▲数式、化学式、
   表等があります▼ または▲数式、化学式、表等があります▼ を表す〕を表すか、またはＲ＿１は▲数式、化学式、表
   等があります▼ または▲数式、化学式、表等があります▼ （Ｒ＿５が炭素原子数１ないし１２のアルキル基または
   炭素原子数２ないし１２のアルケニル基を表わし、ｙが
   １ないし１２を表わす）を表わし、そしてＲ＿２および
   Ｒ＿３はそれぞれ互いに独立して水素原子、炭素原子数
   １ないし１２のアルキル基、炭素原子数２ないし１２の
   アルケニル基、−ＯＲ＿１（Ｒ＿１が上記の意味を表す
   ）、または塩素原子を表わし、そしてＲ＿６が水素原子
   または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表す｝で表
   わされる化合物。
2. 【請求項２】Ｒ＿２およびＲ＿３が水素原子またはメチ
   ル基を表す請求項１記載の化合物。
3. 【請求項３】Ｒ＿１がヒロドキシル基によって置換され
   、及び／または酸素原子によって中断されてもよい炭素
   原子数４ないし１２のアルキル基を表すか、または−Ｃ
   ＯＲ＿４または▲数式、化学式、表等があります▼ 〔Ｒ＿４が炭素原子数４ないし８のアルキル基を表わし
   、Ｙが１ないし４を表わし、Ｒ＿５が炭素原子数１ない
   し４のアルキル基を表す〕を表す請求項１記載の化合物
   。
4. 【請求項４】Ｒ＿１が炭素原子数１ないし８のアルキル
   基を表す請求項３記載の化合物。
5. 【請求項５】Ｒ＿０が式−ＣＨ＿２ＣＨ＿２ＣＯ＿２Ｒ
   （Ｒが炭素原子数１ないし８のアルキル基または−（Ｃ
   Ｈ＿２ＣＨ＿２Ｏ）＿ｍ−Ｈを表わし、ｍが６ないし８
   を表す請求項１記載の化合物。
6. 【請求項６】次式（２）及び（３） 【化２】 ▲数式、化学式、表等があります▼ 【化３】 ▲数式、化学式、表等があります▼ （Ｒ＿０、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿６およびＸが請求項１
   の定義と同じ意味を表す）で表わされる化合物の混合物
   を加熱し、得られた次式（４）【化４】 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる中間体をＲ＿１−ＣｌまたはＲ＿１−Ｂｒ
   （Ｒ＿１が請求項１の定義と同じ意味を表す）で表わさ
   れる化合物と反応させ、式（１）で表わされる化合物に
   し、そして式（１）で表わされる化合物を単離すること
   からなる請求項１記載の式（１）で表わされる化合物の
   製造方法。
7. 【請求項７】紫外線吸収剤として少なくとも１個の式（
   １）（ＸがＯを表わす）で表わされる化合物を含み、そ
   して立体障害アミンまたはヒドロキシフェニルベンゾト
   リアジン誘導体を含まない光感受性有機材料。
8. 【請求項８】塗料またはワニス組成物または熱可塑性ポ
   リマーである請求項７記載の材料。
9. 【請求項９】紫外線照射に対して光感受性有機材料を安
   定させる方法に於いて、該材料に少なくとも１個の式（
   １）（ＸがＯを表わす）で表わされる化合物を含み、そ
   して立体障害アミンまたはヒドロキシフェニルベンゾト
   リアジン誘導体を含まない保護層を供給するか、または
   該材料中に、立体障害アミンまたはヒドロキシフェニル
   ベンゾトリアジン誘導体を含有させることなく、少なく
   とも１個の式（１）（ＸがＯを表わす）で表わされる化
   合物を混入することからなる方法。