JPH0725726B2 - 新規なヒドロキシルアミン誘導体、及び該誘導体を含有する安定化組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、新規なヒドロキシルアミン誘導体、有機物質
のための安定剤としてのそれらの使用方法、並びに熱
的、酸化及び／もしくは光誘導分解に対して、新規な安
定剤の有効量で安定化さた有機物質に関する。

フェノール系酸化防止剤は、ポリオレフィンのための非
常に有効な安定剤として長い間公知であり、並びにその
使用方法のために広い商業的成功を治めているが、フェ
ノール系酸化防止剤で安定化されたポリオレフィン組成
物は、長期間高められた温度で加熱することや、あるい
は天然ガスの燃焼生成物に対する暴露で変色しがちであ
る。上記のポリオレフィン組成物へ有機ホスフィットを
同時に添加することは、変色を軽減する一方、種々の重
大な問題を残している。同様にあるフェノール系酸化防
止剤及びヒンダードアミン光安定剤を含有するポリオレ
フィン組成物は、周囲温度でさえ長期間の貯蔵で変色し
がちである。

本発明のヒドロキシルアミンは、変色に対して有機物
質、とりわけフェノール系酸化防止剤を含有するポリオ
レフィンを保護するために特に有効である。

アメリカ特許第3,644,278号及び第3,778,464号は、ポリ
オレフィンを含有する炭化水素のための酸化防止安定剤
としてさまざまな構造の置換ヒドロキシルアミンの使用
方法を記述している。

アメリカ特許第3,408,422号は、貯蔵に際して早すぎる
ゲル化を防止するために不飽和ポリエステル組成物中の
選択されたヒドロキシルアミン誘導体の使用方法を開示
している。

アメリカ特許第3,926,909号は、光、スモッグもしくは
ガスヒュームへの暴露でポリウレタンの変色を防止する
ために安定剤として置換ヒドロキシルアミンの使用方法
を記述している。

アメリカ特許第4,242,224号は、高pH値でラテックス産
業で用いられるアミン系酸化防止及びオゾン亀裂防止乳
濁液中で起こるピンク変色は、ジアルキルヒドロキシル
アミンもしくはメルカプタン安定剤の使用により防止し
たりあるいは妨げたりすることができることを開示して
いる。

アメリカ特許第4,316,996号は、それ自体改良された色
及び色安定性を示すフェノール系酸化防止剤を生成する
ためにヒドキシルアミン誘導体及び置換オキシムの存在
下でフェノール系酸化防止剤を製造する方法に関する。

アメリカ特許第3,432,578号は、N,N−ジベンジルヒドロ
キシルアミンを包含するジアリールもしくはジアルアル
キルヒドロキシルアミン化合物の使用により紫外線の不
利な効果に対して安定化された共役ジエンポリマー組成
物に関する。

アメリカ特許第4,386,224号は、ノニルもしくはドデシ
ルフェノールのようなモノアルキルフェノールのための
色安定剤としてN,N−ジエチルヒドロキシルアミンの使
用方法を開示している。

本発明は、 次式（Ｉ）： 〔式中、 ｎは１、２、３もしくは４を表わし、； R₁は炭素原子数１ないし36のアルキル基を表わし、炭素
原子数５ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数７な
いし９のアルアルキル基または炭素原子数１ないし36の
アルキル基または−COOT₁（式中、T₁は炭素原子数１な
いし36のアルキル基、炭素原子数５ないし12のシクロア
ルキル基、炭素原子数７ないし９のアルアルキル基もし
くは炭素原子数１ないし36のアルキル基によって置換さ
れた該アルアルキル基を表わす）によって置換された該
アルアルキル基あるいは水素原子、アルカリ金属もしく
はアンモニウムカチオンを表わし、； ｎが１を表わすとき、R₂及びR₁は同一もしくは異なって
よく、並びに R₂は上記に定義したR₁と同じ意味を有するかまたは水素
原子、アルカリ金属もしくはアンモニウムカチオンを表
わし、； ｎが２を表わすとき、 R₂は炭素原子数２ないし12のアルキレン基、炭素原子数
６ないし10のシクロアルキレン基、炭素原子数６ないし
10のアリーレン基、炭素原子数８ないし10のアルキレン
アリーレンアルキレン基もしくは次式： またはアルカリ土類金属を表わし、 ｎが３を表わすとき、 R₂は炭素原子３ないし６のアルカントリイル基あるいは ｎが４を表わすとき、 R₂は炭素原子数４ないし６のアルカンテトライル基を表
わす〕で表わされる化合物に関する。

炭素原子数１ないし36のアルキル基として、R₁、R₂及び
T₁は、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、イ
ソブチル基、第三ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチ
ル−ヘキシル基、ノニル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−オク
タデシル基、エイコシル基、テトラコシル基、トリコン
チル基もしくはヘキサトリコンチル基である。炭素原子
数１ないし18のアルキル基が好ましい。

R₁、R₂及びT₁は炭素原子数５ないし12のシクロアルキル
基でもよく、例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル
基、シクロオクチル基もしくはシクロドデシル基であ
る。５ないし７の炭素原子を有するシクロアルキル基が
好ましい。特に好ましくはシクロヘキシル基である。シ
クロドデシル基もまた好ましい。

炭素原子数７ないし９のアルアルキル基もしくは炭素原
子数１ないし36のアルキル基によって置換されたアルア
ルキル基としてR₁、R₂及びT₁は、場合により炭素原子数
１ないし36のアルキル基、好ましくはメチル基によって
置換されたフェニル環であるとりわけ７ないし９の炭素
原子を有するフェニルアルキル基であってよい。例え
ば、ベンジル基、α−メチルベンジル基、α，α−ジメ
チルベンジル基、3,5−ジメチルベンジル基もしくはｐ
−ノニルベンジル基である。

T₁もしくはR₂がアルカリ金属であるとき、例えば、ナト
リウム、カリウムもしくはリチウムであってもよく、好
ましくはナトリウムもしくはカリウムである。

好ましいR₁はベンジル基または−COOT₁によって置換さ
れたベンジル基である。

式Ｉ中、ｎは１、２、３もしくは４である。

ｎが２を表わすとき、R₂は例えば、エチレン基、1,2−
プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘ
キサメチレン基、オクタメチレン基もしくはドデカメチ
レン基のような炭素原子数２ないし12のアルキレン基で
あってよい。好ましくはR₂は、炭素原子数２ないし８の
アルキレン基である。

R₂は例えば、シクロヘキシレン基のような炭素原子数６
ないし10のシクロアルキレン基であってよく、好ましく
は1,4−シクロヘキシレン基、あるいはデカヒドロナフ
タレン基である。

R₂は、例えばｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基のよ
うな炭素原子数６ないし10のアリーレン基であり、好ま
しくはｍ−もしくはｐ−フェニレン基または1,4−ナフ
チレン基である。

R₂は炭素原子数８ないし10のアルキレンアリーレンアル
キレン基であってもよく、例えばｐ、−キシリレン基も
しくはエチレン−ｐ−フェニレン−エチレン基である。
好ましくはR₂はｏ−キシリレン基もしくは R₂はまたアルカリ土類金属であることができ、例えばマ
グネシウム、カルシウム、ストロンチウムもしくはバリ
ウムであり、好ましくはマグネシウムもしくはカルシウ
ムである。

ｎが３を表わすとき、R₂はグリセリン基のような炭素原
子数３ないし６のアルカントリイル基；あるいは好まし
くは ｎが４であるとき、R₂は炭素原子数４ないし６のアルカ
ンテトライル基であることができ、例えば(-CH₂)₂Ｃ(CH
₂-)₂もしくは1,2,3,4−ブタンテトライル基である。

好ましくは、式Ｉ中、R₂が上記記載のT₁と同様の意味を
有する該化合物である。

更に好ましくは、式Ｉ中、ｎが１を表わし、並びにR₂は
炭素原子数１ないし18のアルキル基を表わす化合物であ
る。

特に好ましくは、式Ｉ中、ｎが２を表わし、並びにR₂は
炭素原子数２ないし８のアルキレン基を表わす化合物で
ある。

興味あるものは、式Ｉ中、ｎが４を表わし、並びにR₂が
(-CH₂)₂Ｃ(CH₂-)₂もしくは1,2,3,4−ブタンテトライル
基を表わす該化合物である。

好ましいものは、式Ｉ中、ｎが１、２もしくは４を表わ
し、；R₁は未置換もしくは−COOT₁（式中、T₁は水素原
子を表わす）によって置換されたベンジル基、炭素原子
数１ないし18のアルキル基、またはアルカリ金属を表わ
し、;nが１を表わすとき、R₂はT₁を表わし、;nが２を表
わすとき、R₂は炭素原子数２ないし12のアルキレン基を
表わし、；並びにｎが４を表わすとき、R₂は を表わす化合物である。

式Ｉで表わされる好ましい化合物の例は、N,N−ビス
（ｐ−メトキシカルボニルベンジル）ヒドロキシルアミ
ン、 N,N−ビス（ｐ−ｎ−オクタデシルオキシカルボニルベ
ンジル）ヒドロキシルアミン、 1,6、ヘキサメチレンビス（ｐ−Ｎ−ベンジル−Ｎ−ヒ
ドロキシアミノメチルベンゾエート）、ネオペンタンテ
トラリルテトラキス（ｐ−Ｎ、−ベンジル−Ｎ−ヒドロ
キシアミノメチルベンゾエート）、 N,N−ビス（ｐ−カルボキシベンジル）ヒドロキシクル
アミン及び N,N−ビス（ｐ−カルボキシベンジル）ヒドロキシルア
ミン一水素二カリウム塩である。

本発明のヒドロキシルアミンは一般に公知の方法と類似
して、例えば次式II: （式中、R₁は上記と同じ意味を表わす）で表わされるヒ
ドロキシルアミンを次式III: （式中、R₂及びｎは上記で定義した意味を表わし、及び
Ｘはハロゲン原子、好ましくは臭素原子を表わす）で表
わされる化合物とを酸受容体の存在下で反応させること
により製造される。

本発明のヒドロキシルアミン誘導体が遊離酸（T₁及び／
もしくはR₂は水素原子を表わす）であるとき、相当する
低級アルキルエステルのアルカリケン化を行ない、続い
て酸が遊離するまで酸性化することにより製造される。

式Ｉで表わされるアルカリ金属、アルカリ土類金属もし
くはアンモニウム塩は、適当な水酸化物で直接中和する
ことにより遊離酸から製造しうるし、もしR₂及び／もし
くはT₁がアルカリ金属であるとき、、アルカリ金属トリ
メチルシラノエートで複分解反応することにより相当す
る低級アルキルエステルから製造しうる。

式II及びIIIの中間体は大部分商品であり、またはそれ
は公知の方法で製造できる。

式Ｉで表わされる化合物は、広範な有機基材中で有効な
安定剤である。安定化されうる有機物質を以下に挙げ
る。

1.モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えば
８（所望により架橋結合できる）ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリイソブチレン、ポリメチルブテン−１、
ポリメチルペンテン−１、ポリイソプレンまたはポリブ
タジエン並びにシクロオレフィン例えばシクロペンタン
もしくはノボルネンのポリマー。

2.1）で述べたホモポリマーの混合物、例えば、ポリプ
ロピレンとポリイソブチレンとの混合物。

3.モノオレイン及びジオレフィン自体もしくは該オレフ
ィンと他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチ
レン／プロピレンコポリマー、プロピレン／ブテン−１
コポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エ
チレン／ブテン−１コポリマー、プロピレン／ブタジエ
ンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、
エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン
／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／ビニ
ルアセテートコポリマーもしくはエチレン／アクリル酸
コポリマー並びにそれらの塩（イオノマー）及びエチレ
ンとプロピレンとヘキサジエン、ジシクロペンタジエン
もしくはエチリデン−ノルボルネンのようなジエンとの
ターポリマー。

4.ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチレン）。

5.スチレンもしくはα−メチルスチレンとジエンもしく
はアクリル誘導体のコポリマー例えばスチレン／ブタジ
エンコポリマー、スチレン／アクリロニトリルコポリマ
ー、スチレン／エチルメタクリレートコポリマー、スチ
レン／ブタジエン／エチルアクリレートコポリマー、ス
チレン／アクリロニトリル／メチルアクリレートコポリ
マー；スチレンコポリマー及び他のポリマー、例えばポ
リアクリレート、ジエンポリマーもしくはエチレン／ポ
リプロピレン／ジエンターポリマーからの高耐衝撃性強
度混合物；並びにスチレンのブロックコポリマー、例え
ばスチレン／ブタジエン／スチレンブロックコポリマ
ー、スチレン／イソプレン、／スチレンブロックコポリ
マー、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレンブロッ
クコポリマーもしくはスチレン／エチレン／プロピレン
／スチレンブロックコポリマー。

6.スチレンのグラフトコポリマー、例えばスチレンのポ
リブタジエンへのグラフトポリマー、スチレンとアクリ
ロニトリルのポリブタジエンへのグラフトポリマー、ス
チレン及びアルキルアクリレートもしくはメタアクリレ
ートのポリブタジエンへのグラフトコポリマー、スチレ
ン及びアクリロニトリルのエチレン／プロピレン／ジエ
ンターポリマーへのグラフトコポリマー、スチレン及び
アクリロニトリルのアクリレート／ブタジエンコポリマ
ーへのグラフトコポリマー、並びに５）に列挙したコポ
リマーとの混合物、例えばABS−、MBS−、ASA−、もし
くはAES−ポリマーとして公知のコポリマー混合物。

7.ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩
素化ゴム、塩素化もしくはスルホ塩素化ポリエチレン、
エピクロロヒドリンホモー及びコポリマー、ハロゲン含
有ビニル化合物からのポリマー、例えば、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ弗化ビニル、ポリ弗化ビ
ニリデン、並びにそれらのコポリマー、例えば塩化ビニ
ル／塩化ビニリデンコポリマー、塩化ビニル／ビニルア
セテートコポリマーもしくは塩化ビニリデン／ビニルア
セテートコポリマー。

8.α，β−不飽和酸及びその誘導体から誘導されたポリ
マー、例えばポリアクリレート及びポリメタクリレー
ト、ポリアクリルアミド及びポリアクリロニトリル。

9.8）で列挙したモノマー自体もしくは他の不飽和モノ
マーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジ
エンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアクリレ
ートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアルキ
ルアクリレートコポリマーもしくはアクリロニトリル／
ハロゲン化ビニルコポリマーもしくはアクリロニトリル
／アルキルメタクリレート／ブタジエンターポリマー。

10.不飽和アルコール及びアミン、またはそれらのアシ
ル誘導体もしくはそれらのアセタールから誘導されたポ
リマー、例えばポリビニルアルコール、ポリビニルアセ
テート、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエ
ート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、
ポリアリルフタレートもしくはポリアリルーメラミン。

11.環状エーテルのホモポリマー及びコポリマー、例え
ばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド、
ポリプロピレンオキシドもしくはビス−グリシジルエー
テルとそれらのホモポリマー及びコポリマー。

12.ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン及びコ
モノマーとしてエチレンオキシドを含する該ポリオキシ
メチレン。

13.ポリフェニレンオキシド及びスルフィド、並びにポ
リスチレンとポリフェニレンオキシドの混合物。

14.一方の末端にヒドロキシル基及びもう一方に脂肪族
もしくは芳香族ポリイソシアネートを有するポリエーテ
ル、ポリエステルあるいはポリブタジエンから誘導され
るポリウレタン並びにその前駆物質（ポリイソシアネー
ト、ポリオールまたはプレポリマー）。

15.ジアミンとジカルボン酸とから、及び／またはアミ
ノカルボン酸または相当するラクトンから誘導されたポ
リアミド及びコポリアミド、例えばポリアミド４、ポリ
アミド６、ポリアミド6/6、ポリアミド6/10、ポリアミ
ド11、ポリアミド12、ポリ−2,4,4−トリメチルヘキサ
メチレンテレフタルアミドもしくはポリ−ｍ−フェニレ
ンイソフタルアミド、並びにポリエーテル、例えばポリ
エチレングリコール、ポリプロピレングリコールもしく
はポリテトラメチレングリコールとそれらのコポリマ
ー。

16.ポリ尿素、ポリイミド及びポリアミド−イミド。

17.ジカルボン酸とジアルコールとから、及び／または
ヒドロキシカルボン酸または相当するラクトンから誘導
されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレー
ト、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−1,4−ジメチ
ロール−シクロヘキサンテレフタレート、ポリ−〔2,2
−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン〕テレフタレ
ート及びポリヒドロキシベンゾエート、並びに末端にヒ
ドロキシ基を有するポリエーテルから誘導されたブロッ
ク−コポリエーテル−エステル。

18.ポリカーボネート及びポリエステル−カーボネー
ト。

19.ポリスルホン、ポリエーテルスルホン及びポリエー
テルケトン。

20.一方の成分としてアルデヒド及び他方の成分として
フェノル、尿素及びメラミンから誘導された架橋ポリマ
ー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／
ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン／ホルムアルデヒド
樹脂。

21.乾燥及び未乾燥アルキド樹脂。

22.飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコール及び
架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステルから誘
導された不飽和ポリエステル樹脂並びにそれらの燃焼性
の低いハロゲン含有変性物。

23.置換アクリルエステルから誘導された熱硬化性アク
リル樹脂、例えばエポキシ−アクリレート、ウレタン−
アクリレートもしくはポリエステル−アクリレート。

24.架橋剤としてマレイン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシ
アネートもしくはエポキシド樹脂と混合したアルキド樹
脂、ポリエステル樹脂もしくはアクリレート樹脂。

25.ポリエポキシド、例えばビス−グリシジルエーテル
もしくは脂環式ジエポキシドから誘導される架橋エポキ
シド樹脂。

26.天然ポリマー、例えばセルロース、天然ゴム、ゼラ
チン並びに重合同族方法で化学的に変性されたそれらの
誘導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
ス及び酪酸セルロース、もしくはセルロースエーテル、
例えばメチルセルロース。

27.上記に記述したポリマーの混合物、例えばPP/EPDM、
ポリアミド６−EPDMもしくはABS、PVC/ABS、PVC/MBS、P
C/ABS、PBTP/ABS。

28.精製モノマー化合物もしくはそのような化合物の混
合物である天然生成物及び合成有機物質、例えば鉱油、
動物及び植物脂肪、油並びにワックス、あるいは合成エ
ステル（例えばテレフタレート、アジペート、ホスフェ
ートもしくはトリメリテート）に基づいた油、脂肪及び
ワックス並びにまたポリマーに対して可塑剤もしくは紡
織糸油並びにそのような物質の水性乳濁液として用いて
もよい物質である、あらゆる重量比における鉱油と合成
エステルの混合物。

29.天然もしくは合成ゴムの水性乳濁液、例えば天然ラ
テックスもしくはカルボキシル化スチレン／ブタジエン
コポリマーのラテックス。

本発明はまた式Ｉで表わされる化合物の少なくとも１種
の有効安定量で安定化された酸化、熱的及び／もしくは
化学線分解を受けやすい有機物質からなる組成物に関す
る。

該組成物は、有機物質が例えばポリオレフィン、特にα
−オレフィンのホモポリマーもしくはコポリマーのよう
な合成ポリマーであるのが好ましい。

ポリオレフィン、スチレンポリマー及びポリアミドの安
定剤及びポリウレタンの安定化は特に重要で、並びに本
発明の化合物は、これに対してとりわけ適している。好
ましいポリマーの例は、高密度及び低密度ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、エチレン／プロピレンコポリマ
ー、ポリスチレン、スチレン／ブタジエン／アクリロニ
トリルターポリマー、ポリオレフィンの混合物もしくは
スチレンポリマーの混合物、並びにポリエーテルもしく
はポリエステルをベースとしたポリウレタンである。

式Ｉで表わされる本発明の化合物は、アクリロニトリル
／ブタジエン／スチレン（ABS）樹脂、耐衝撃性ポリス
チレン、ポリ（フェニレンオキシド）、ポリブタジエ
ン、ポリイソプレン、天然ゴム及び潤滑油からなる群か
ら選択された酸化、熱的もしくは光誘導分解を受けやす
い物質を安定化することにおいて、特に効果的である。

上記の項目の1,2及び３で記載した有機物質が興味ある
ものである。特に好ましいポリオレフィン基材は、ポリ
プロピレン、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレ
ン、高密度ポリエチレン、直鎖低密度ポリエチレン、ポ
リ（ブテン−１）、エチレン／ビニルアセテートコポリ
マー、エチレン／プロピレンコポリマー並びにエチレン
もしくはプロピレンと他のα−オレフィンとのコポリマ
ーである。最も好ましいポリオレフィン基材は、高密度
ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン／プロピレン
コポリマーまたはエチレンもしくはプロピレンと別のα
−オレフィンとのコポリマーである。

本発明のヒドロキシルアミン化合物は、たとえポリマー
を数回押出したとしても、ポリオレフィンを特に高温加
工の間色に関して比較的少ない変化で安定化する。

一般に、本発明の安定剤は、安定化組成物の約0.01から
５重量％または約0.05から５重量％で使用されるが、こ
れは特別な基材及び用途で変化する。有利な範囲は約0.
1ないし2.5重量％または約0.025ないし２重量％あるい
は約0.05ないし１重量％である。

本発明の安定剤は、慣用の方法により成形体製造前のい
かなる段階でも容易に有機物質に添加することができ
る。例えば、安定剤を乾燥粉末の形で有機物質と混合し
てもよく、あるいは、安定剤の懸濁液もしくは乳濁液
を、有機物質の溶液、懸濁あるいは乳濁液と混合しても
よい。

安定剤は、これらの化合物を含有するマスターバッチの
形態で、例えば2.5ないし25重量％の濃度で安定化すべ
きプラスチックスに添加することもできる。

安定化された物質は、ラッカー、フィラメント、フィル
ム、シート等の形態で施用することができる。

本発明の安定剤は、商品の形にそれらを二次成形する前
あるいはその間、有機物質に有利に配合してもよいが、
完成した商品に本発明の安定剤を局所施用により施用す
ることもまた可能である。このことは、例えば溶融紡糸
プロセスの間、紡糸仕上の方法によって本発明の安定剤
を繊維に局所施用する、繊維施用法で特に有用である。

本発明の安定化組成物は、場合により、以下に示すよう
な種々の慣用の添加剤の約0.05ないし約５重量％、好ま
しくは約0.1ないし約2.5重量％を含有してもよい。

I.酸化防止剤 I.1.アルキル化モノフェノール 例えば、2,6−ジ−第
三ブチル−４−メチル−フェノール、２−第三−ブチル
−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−４
−エチル−フェノール、2,6−ジ−第三−ブチル−４−
ｎ−ブチルフェノール、2,6−ジ−第三−ブチル−４−
イソブチルフェノール、2,6−ジシクロペンチル−４−
メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）
−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジオクタデシル−４
−メチルフェノール、2,4,6−トリシクロヘキシルフェ
ノール、2,6−ジ−第三−ブチル−４−メトキシメチル
フェノール。

I.2.アルキル化ヒドロキノン誘導体 例えば、2,6−ジ
−第三ブチル−４−メトキシフェノール、2,5−ジ−第
三ブチルヒドロキノン、2,5−ジ−第三アミルヒドロキ
ノン、2,6−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェ
ノール。

I.3.ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル例えば、2,
2′−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノー
ル）、2,2′−チオビス（４−オクチルフェノール）、
4,4′−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノ
ール）、4,4′−チオビス（６−第三ブチル２−メチル
フェノール）。

I.4.アルキリデンビスフェノール 例えば、2,2′−メ
チレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノー
ル）、2,2′−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エ
チルフェノール）、2,2′−メチレンビス〔４−メチル
−６（α−メチルシクロヘキシル）フェノール〕、2,
2′−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシル
フェノール）、2,2′−メチレンビス（６−ノニル−４
−メチルフェノール）、2,2′−メチレンビス（4,6−ジ
−第三ブチルフェノール）、2,2′−エチリデンビス
（4,6−ジ−第三ブチルフェノール）、2,2′−エチリデ
ンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノー
ル）、2,2′−メチレンビス〔６−（α−メチルベンジ
ル）−４−ノニルフェノール〕、2,2′−メチレンビス
〔６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェ
ノール〕、4,4′−メチレンビス（2,6−ジ−第三ブチル
フェノール）、4,4′−メチレンビス（６−第三ブチル
−２−メチルフェノール）、1,1−ビス（５−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、2,
6−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキ
シベンジル）−４−メチルフェノール、1,1,3−トリス
（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニ
ル）ブタン、1,1−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロ
キシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカ
プトブタン、エチレングリコールビス〔3,3−ビス
（３′−第三ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチ
レート〕、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５
−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス〔２−
（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチル
ベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル〕テ
レフタレート。

I.5.ベンジル化合物 例えば1,3,5−トリス（3,5−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−2,4,6−トリ
メチルベンゼン、ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル3,5−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセ
テート、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−2,6
−ジメチルベンジル）ジチオールテレフタレート、1,3,
5−トリス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル）イソシアヌレート、1,3,5−トリス（４−第三ブ
チル−３−ヒドロキシ−2,6、−ジメチルベンジル）イ
ソシアヌレート、ジオクタデシル3,5−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、モノエチル3,
5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネ
ートのカルシウム塩。

I.6.アシルアミノフェノール 例えば、４−ヒドロキシ
ラウリル酸のアニリド、４−ヒドロキシステアリン酸の
アニリド、2,4−ビス（オクチルメルカプト）−６−
（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−
ｓ−トリアジン、オクチルＮ−（3,5−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）カルバメート。

I.7.以下の様な一価または多価アルコールとβ−（3,5
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピ
オン酸とのエステル 例えば、メタノール、ジエチレン
グリコール、オクタデカノール、トリエチレングリコー
ル、1,6−ヘキサジオールペンタエリトリトール、ホオ
ペンチルグリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソ
シアヌレート、チオジエチレングリコール、N,N′−ビ
ス（ヒドロキシエチル）蓚酸ジアミド。

I.8.以下のような一価または多価アルコールとβ−（５
−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）
−プロピオン酸とのエステル例えば、メタノール、ジエ
チレングリコール、オクタデカノール、トリエチレング
リコール、1,6−ヘキサジオール、ペンタエリトリトー
ル、ホオペンチルグリコール、トリス（ヒドロキシエチ
ル）イソシアヌレート、チオジエチレングリコール、N,
N′−ビス（ヒドロキシエチル）蓚酸ジアミド。

I.9.β−（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオン酸のアミド 例えば、N,N′−ビス
（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロ
ピオニル）ヘキサメチレン−ジアミン、N,N′−ビス
（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル−プ
ロピオニル）トリエチレン−ジアミン、N,N′−ビス
（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロ
ピオニル）ヒドラジン。

II.UV吸収剤及び光安定剤 II.1.2−（２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾ
ール 例えば５′−メチル、３′,5′−ジ−第三ブチ
ル、５′−第三ブチル、５′−（1,1,3,3−テトラメチ
ルブチル）、５−クロロ−３′,5′−ジ−第三ブチル、
５−クロロ−３′−第三ブチル−５′−メチル、３′−
第二ブチル−５′−第三ブチル、４′−オクトキシ、
３′,5′−ジ−第三アミル及び３′,5′−ビス（α，α
−ジメチルベンジル）誘導体。

II.2.2−ヒドロキシベンゾフェノン 例えば４−ヒドロ
キシ、４−メトキシ、４−オクトキシ、４−デシルオキ
シ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、4,2′,
4′−トリヒドロキシ及び２′−ヒドロキシ−4,4′−ジ
メトキシ誘導体。

II.3.置換及び未置換安息香酸のエステル 例えば、４
−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチレ
ート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレ
ゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイル）−レ
ゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2,4−ジ−
第三ブチルフェニル3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンゾエート及びヘキサデシル3,5−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンゾエート。

II.4.アクリレート 例えば、エチルα−シアノ−β，
β−ジフェニルアクリレート、イソオクチルα−シアノ
−β，β−ジフェニルアクリレート、メチルα−カルボ
メトキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル
−ｐ−メトキシ−シンナメート、ブチルα−シアノ−β
−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチルα−カル
ボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート及びＮ−（β−
カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルイン
ドリン。

II.5.ニッケル化合物 例えば、ｎ−ブチルアミン、ト
リエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシルジエタ
ノールアミンのような付加配位子と、あるいは該配位子
を用いずに1:1もしくは1:2の錯体になるような2,2′−
チオビス〔４−（1,1,3,3−テトラメチルブチル）フェ
ノール〕のニッケル錯体、ニッケルジブチルジチオカル
バメート、４−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三ブチルベン
ジルホスホン酸モノアルキルエステル、例えばメチルも
しくはエチルエステルのニッケル塩、ケトキシム例え
ば、２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウンデシル
ケトンオキシムのニッケル錯体、付加配位子ともしくは
該配位子を用いない１−フェニル−４−ラウロイル−５
−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。

II.6.立体障害性アミン 例えば、ビス−（2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジル）セバケート、ビス−（1,2,2,6,
6−ペンタメチルピペリジル）セバケート、ビス（1,2,
2,6,6−ペンタメチルピペリジル）−ｎ−ブチル−3,5−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、
１−ヒドロキシエチル−2,2,6,6−テトラメチル−４−
ヒドロキシピペリジンとコハク酸の縮合生成物、N,N′
−ビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘ
キサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−2,6
−ジクロロ−1,3,5−ｓ−トリアジンの縮合生成物、ト
リス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）ニト
リロトリアセテート、テトラキス（2,2,6,6−テトラメ
チル−４−ピペリジル）−1,2,3,4−ブタンテトラカル
ボキシレート、1,1′−（1,2−エタンジイル）ビス（3,
3,5,5−テトラメチルピペラジノン）。

II.7.蓚酸ジアミド 例えば4,4′−ジオクチルオキシオ
キサアニリド、2,2′−ジオクチルオキシ−5,5′−ジ−
第三ブチルオキサアニリド、2,2−ジドデシルオキシ−
5,5′−ジ−第三ブチルオキサアニリド、２−エトキシ
−２′−エチルオキサアニリド、N,N′−ビス（３−ジ
メチルアミノプロピル）オキサルアミド、２−エトキシ
−５−第三ブチル−２′−エチルオキサアニリド及び２
−エトキシ−２′−エチル−5,4′−ジ−第三ブチルオ
キサアニリドとその混合物並びにオルト−及びパラ−メ
トキシ−ジ置換オキサアニリドの混合物、ｏ−及びｐ−
エトキシ−ジ置換オキサアニリドの混合物。

III.金属奪活剤 例えば、N,N′−ジフェニル蓚酸ジア
ミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ′−サリシロイルヒドラジ
ン、N,N′−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、N,N′−
ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル
プロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−
1,2,4−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）蓚酸ジヒ
ドラジド。

IV.ホスフィット及びオスホニット 例えば、トリフェ
ニルホスフット、ジフェニルアルキルホスフィット、フ
ェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニ
ル）ホスフィット、トリラウリルホスイット、トリオク
タデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリト
ールジホスフィット、トリス（2,4−ジ−第三ブチルフ
ェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリトリト
ールジホスフィット、ビス（2,4−ジ−第三ブチルフェ
ニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステ
アリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス（2,
4−ジ−第三ブチルフェニル）4,4′−ビフェニレンジホ
スホニット、3,9−ビス（2,6−ジ−第三ブチルフェノキ
シ）−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピ
ロ〔5.5〕ウンデカン。

V.過酸化物脱除剤 例えば、ラウリル、ステアリル、ミ
リスチルもしくはトリデシルエステルのようなβ−チオ
ジプロピオン酸エステル、メルカプトベンズイミダゾー
ルまたは２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、
ジブチルチオカルバメート亜鉛、ジオクタデシルジスル
フィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシ
ルメルカプト）プロピオネート。

VI.ポリアミド安定剤 例えば、ヨウ化物及び／もしく
はリン化合物と併せた銅塩並びに２価マグネシウム塩。

VII.塩基性補助安定剤 例えば、メラミン、ポリビニル
ピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレー
ト、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミ
ド、ポリウレタン、Caステアレート、Znステアレート、
Mgステアレート、Naリシノレエート及びＫパルミテート
のような高級脂肪酸のアルカリ金属塩並びにアルカリ土
類金属塩、アンチモンピロカテコレートもしくは亜鉛ピ
ロカテコレート。

VIII.造核剤 例えば４−第三ブチル安息香酸、アジピ
ン酸またはジフェニル酢酸。

IX.充填剤及び補強剤 例えば、炭酸カルシウム、ケイ
酸塩、ガラス繊維、アスベスト、タルク、カオリン、雲
母、硫酸バリウム、金属酸化物もしくは水酸化物、カー
ボンブラック、グラファイト。

X.他の添加剤 例えば、可塑剤、離型剤、顔料、蛍光増
白剤、難燃剤、帯電防止剤及び発泡剤。

本発明の組成物は、高められた温度での加熱、天然ガス
の燃焼生成物、ガンマ照射もしくは周囲温度で長期間貯
蔵への暴露に際して、分解及び／もしくは変色に対して
安定化される。

更に本発明は、式Ｉで表わされる化合物に加えて、また
慣用の添加剤、好ましくはフェノール系酸化防止剤、ヒ
ンダードアミン光安定剤、アルキル化ヒドロキシベンゾ
エート光安定剤、紫外線吸収剤、有機リン化合物、脂肪
酸の金属塩及び／もしくはチオ相乗剤を１種もしくはそ
れ以上の有効量を含む有機物質に関する。フェノール系
酸化防止剤もしくは脂肪酸のアルカリ金属塩もしくはそ
れらの混合物と併せたその混合物は、慣用の添加剤とし
て特に好ましい。特に上記の項目Ｉに記載されているフ
ェノール系酸化防止剤は、本発明の組成物において有用
である。好ましくは、ｎ−オクタデシル−3,5−ジ−第
三−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート；ネオ
ペンタン−テトライルテトラキス（3,5−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）；ジ−ｎ−オ
クタデシル3,5−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジルホスホネート;1,3,5−トリス（3,5−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート；チ
オジエチレンビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシヒドロシンナメート）;1,3,5−トリメチル−2,4,6
−トリス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル）ベンゼン;3,6−ジオキサオクタメチレン−ビス
（３−メチル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロ
シンナメート）;2,6−ジ−第三−ブチル−ｐ−クレゾー
ル;2,2′−エチリデン−ビス（4,6−ジ−第三ブチルフ
ェノール）;1,3,5−トリス（2,6−ジメチル−４−第三
ブチル−３−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート;
1,1,3−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第
三ブチルフェニル）ブタン;1,3,5−トリス〔２−（3,5
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナモイル
オキシ）エチル〕イソシアヌレート;3,5−ビス（3,5−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）メシトー
ル；ヘキサメチレン−ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４
−ヒドロキシヒドロシンナメート）;1−（3,5−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−3,5−ジ（オク
チルチオ）−ｓ−トリアジン;N,N′−ヘキサメチレン−
ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシ
ンナムアミド）；ビス（エチル−3,5−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジルホスホネート）カルシウム
塩；エチレンビス〔3,3−ビス（３−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）ブチレート〕；オクチル3,5−ジ
−第三−ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトア
セテート；ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シヒドロシンナモイル）ヒドラジン；及びN,N′−ビス
〔２−（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロ
シンナモイルオキシ）エチル〕オキサミドである。

最も好ましい具体例は、フェノール系酸化防止剤とし
て、ネオペンタンテトライルテトラキス（3,5−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）、ｎ−
オクタデシル−3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ヒドロシンナメート、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリ
ス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
ベンゼン、1,3,5−トリス（3,5−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、2,6−ジ−第
三ブチル−ｐ−クレゾールまたは2,2′−エチリデン−
ビス（4,6−ジ−第三ブチル−フェノール）を有するも
のである。

本発明の組成物が脂肪酸の金属塩を含有するとき、その
ような塩とは、高級脂肪酸のアルカリ金属、アルカリ土
類金属、亜鉛、カドミウムもしくはアルミニウム塩で、
例えばカルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マ
グネシウムベヘネート、ナトリウムリシノレエートもし
くはカリウムパルミテートであるのが好ましい。カルシ
ウムステアレートが特に好ましい。

本発明組成物が上記の項目IVに記載した有機リン化合物
を含有するのが好ましい。特に好ましくは、トリス〔2,
4−ジ−第三ブチルフェニル〕ホスフィットである。

上記の項目Ｖの過酸化物脱除剤として記載されているチ
オ相乗剤もまた、本発明の組成物中で有用である。好ま
しいものは、ジステアリルチオジプロピオネート及びジ
ラウリルチオジプロピオネートである。

本発明の組成物がヒンダードアミンを含有するとき、特
に好ましくは、項目II.6に記載したものである。

アルキル化ヒドロキシベンゾエート光吸収剤及び紫外線
吸収剤として、項目IIに記載された化合物が本発明の組
成物には好ましい。

特に本発明の組成物中で用いられる紫外線吸収剤は、２
−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−2H−ベン
ゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−3,5−ジ−第
三−アミルフェニル）−2H−ベンゾトリアゾール、２−
〔２−ヒドロキシ−3,5−ビス（α，α−ジメチルベン
ジル）フェニル〕−2H−ベンゾトリアゾール、２−（２
−ヒドロキシ−５−第三オクチルフェニル）−2H−ベン
ゾトリアゾール、２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシ
ベンゾフェノン、ビス（Ｏ−エチル3,5−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート）ニッケル
塩、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−（２−ヒ
ドロキシ−３−第三ブチル−５−メチルフェニル）−2H
−ベンゾトリアゾール、2,2′−チオビス（４−第三ブ
チルフェノール）とのニッケルブチルアミン錯体、２−
エトキシ−２′−エチルオキサアニリドもしくは２−エ
トキシ−２′−エチル−5,5′−ジ−第三ブチルオキサ
アニリドである。

以下の実施例は、説明のみを目的とし、いかなる方法に
おいても本発明の範囲の性質を限定するものではない。
（特に記載しなければ“％”は、“重量％”を意味す
る。） 実施例1:N,N−ビス（ｐ−メトキシカルボニルベンジ
ル）ヒドロキシルアミンの製造 塩化メチレン100ml中のα−ブロモ−ｐ−トルオイルク
ロリド19.5gの溶液をメタノール100ml中のトリエチルア
ミン15.7mlの溶液に添加する。反応混合物を室温で一晩
攪拌し、その後濃縮する。残留物をエーテルに溶解し、
水で洗浄して、エーテルを蒸発させると、中間体のｐ−
メトキシカルボニルベンジルブロミドを得る。

乾燥N,N−ジメチルホルムアミド（DMF）20ml中のヒドロ
キシルアミン塩酸塩1.11g及び無水炭酸ナトリウム6.78g
の攪拌した懸濁液に乾燥DMF30ml中のｐ−メトキシカル
ボニルベンジルブロミド7.49gの溶液を添加する。混合
物を24時間周囲温度で攪拌する。不溶性物質をろ過によ
り除去し、ろ液を濃縮する。上記の生成物が白色固体2.
8gとして分別液体クロマトグラフィーにより生じた残留
物から得られる。

融点129−131℃。

元素分析： 計算値C₁₈H₁₉NO₅:C65.6;H5.8;N4.3 測定値:C65.3;H5.7;N4.3. 実施例2:N,N−ビス（ｐ−ｎ−オクタデシルオキシカル
ボニルベンジル）ヒドロキシルアミンの製造 実施例１の手順を用いて、α−ブロモ−ｐ−トルオイル
クロリド19.5g、ｎ−オクタデカノール20.29g及びトリ
エチルアミン15.7mlから相当するｎ−オクタデシルエス
テル15.0gを生ずる。該エステルを、実施例１の方法に
より、乾燥DMF中でヒドロキシルアミン塩酸塩1.11g及び
無水炭酸ナトリウム6.78gとを反応させると、白色固体
として上記の生成物を得る。融点84−86℃。

元素分析： 計算値C₅₂H₈₇NO₅:C77.5;H10.9;N1.7 測定値:C77.8;H10.7;N1.9. 実施例3:1,6−ヘキサメチレンビス（ｐ−Ｎ−ベンジル
−Ｎ−ヒドロキシアミノメチルベンゾエート）の製造 1,6−ヘキサメチレンビス（ｐ−α−ブロモメチルベン
ゾエート）を実施例１の手順に従って、α−ブロモ−ｐ
−トルオイルクロリド16.30g、1,6−ヘキサメチレンジ
オール4.13g及びトリエチルアミン9.73mlを反応させる
ことにより得る。

ビス−ヘキサメチレンエステル4gを無水炭酸ナトリウム
1.66gの存在下で乾燥DMF26ml中のＮ−ベンジルヒドロキ
シルアミン1.92gと反応させる。室温で48時間攪拌した
後、上記の生成物を実施例１の方法により単離し精製す
ると白色固体4.0gを得る。融点113−115℃。

元素分析： 計算値C₃₆H₄₀N₂O₆:C72.5;H6.8;N4.7 測定値:C72.5;H6.6;N4.5. 実施例4:ネオペンタンテトライルテトラキス（ｐ−Ｎ−
ベンジル−Ｎ−ヒドロキシアミノメチルベンゾエート）
の製造 塩化メチレン100mlのペンタエリトリトール13.62g及び
トリエチルアミン70mlの攪拌混合物に、塩化メチレン15
0ml中のｐ−トルオイルクロリド64.9gの溶液を添加す
る。室温で８時間攪拌し、更に２時間還流した後、反応
混合物を濃縮し、残留物をエタノールと摩砕すると、ネ
オペンタンテトライルテトラキス（ｐ−メチルベンゾエ
ート）54.88gを得る。

四塩化炭素500ml中の上記で製造した中間体のエステ
ル、Ｎ−ブロモスクシンイミド66.5g及び過酸化ベンゾ
イル5gの混合物を太陽灯下で１時間照射する。

ろ過により形成したスクシンアミドの除去に続けて減圧
下で蒸発を行なうと、相当するネオペンタンテトライル
テトラキス（ｐ−α−ブロモメチルベンゾエート）81.5
gが残る。

上記で製造した臭化エステル9.38gを無水炭酸ナトリウ
ム4.30gの存在下で乾燥DMF30ml中のＮ−ベンジルヒドロ
キシルアミン5.0gと反応させる。上記の名称の化合物
を、実施例１の方法により単離し精製する。

実施例5:N,N−ビス（ｐ−カルボキシベンジル）ヒドロ
キシルアミンの製造 実施例１で製造したN,N−ビス（ｐ−メトキシカルボニ
ルベンジル）ヒドロキシルアミンを有機溶媒中で溶解
し、水酸化ナトリウム水溶液でケン化すると、鉱酸で酸
性化後上記の遊離酸化合物を得る。

実施例6:N,N−ビス（ｐ−カルボキシベンジン）ヒドロ
キシルアミン−水素二カリウム塩の製造 テトラヒドロフラン50ml中の実施例１で製造したN,N−
ビス（ｐ−メトキシカルボニルベンジル）ヒドロキシル
アミン6.58g及びトリメチルシラノエートカリウム塩5.1
3gのスラリーを室温で５時間攪拌する。生じた不溶性残
留物をろ過により取り除き、並びにイソプロパノール50
mlと共に摩砕すると、白色固体として上記の名称の化合
物5.9gを得る。融点250℃以上。

元素分析： 計算値C₁₆H₁₃NO₅K₂O:C48.6;H3.8;N3.5 測定値:C49.0;H3.5;N3.6 実施例7:260℃でのポリプロピレンの加工安定性 基材の配合は、未安定化ポリプロピレン（Profax 650
1,Hercules）100部とカルシウムステアレート0.10部か
らなる。試験安定剤は塩化メチレン中の溶液からポリプ
ロピレンに溶媒配合する。減圧下で蒸発により溶媒を除
去した後、安定化された樹脂配合物は、以下に記載する
押出条件下で直径2.54cmの押出機から100rpmで押し出
す。

押出し機部： シリンダー♯１ 232℃ シリンダー♯２ 246℃ シリンダー♯３ 260℃ ゲート♯１ 260℃ ゲート♯２ 260℃ ゲート♯３ 260℃ それぞれ１回、３回及び５回押出した後、樹脂ペレット
を193℃で3.2mmの厚さのブラックに圧縮成形し、試験片
の黄色指数（YI）をASTMD 1925に従って測定する。低YI
値は、黄色がより少ないことを示す。結果を表Ｉに示
す。

本発明の化合物は、フェノール系酸化防止剤を含有する
ポリプロピレン組成物中の色改良剤として重要な効果が
あるということが表Ｉ中のデーターから明らかである。

実施例8: 本発明の化合物は、ポリプロピレンもしくはポリエチレ
ンのようなポリオレフィンの加工の間に出くわすような
高温で保持するとき、揮発による損失に対して耐性を示
す。

下記の表に見られるように本発明の化合物が比較的不揮
発でありそれ故ポリオレフィンのための加工安定剤とし
て用いられるとき、揮発による損失に耐性を示すことは
本発明化合物を、10（℃）／分の速度で室温から500℃
までの間で、80％の圧縮において100ml窒素／分の流速
下で熱重量分析法スキャンの検査により証明される。

実施例9:ポリプロピレン繊維のガス変色に対する耐性 基材配合は未安定化ポリプロピレン（Profax6501,Her
cules社製）100部とカルシウムステアレート0.10部とか
らなる。種々の試験安定剤は、ポリプロピレンに溶媒配
合し、実施例７で記載したように押出し（押出は１
回）、次いでペレットとする。

得られた安定化樹脂ペレットは、260℃で繊維に紡糸
し、目視着色率数を60℃でガス退色に暴露前並びに暴露
の2,6及び24時間後に測定する。低い数値が低い黄色化
及び低い着色を示す。ガス退色の手順は、バーント ガ
ス ヒューム（Burnt Gas Fumes）による耐変色性、AAT
CC試験方法23の標準手順によりAATCCgas fume champer
（Drum Model No.8727）中で実施される。結果を表IIに
記載する。

配合物X:基材配合物＋2,4−ジクロロ−６−第三オクチ
ルアミノ−ｓ−トリアジン及び1,6−ビス〔2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジニルアミノ〕ヘキサメチレンの重縮
合生成物0.25重量％；ネオペンタテトライルテトラキス
（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナ
メート）0.05重量％及びトリス（2,4−ジ−第三ブチル
エェニル）ホスフット0.05重量％。

表II中で得られた結果から、本発明の化合物は、ガス退
色に関して存在している様々な他の安定剤を有するポリ
プロピレン繊維の変色を防止することがわかる。これら
は、フェノール系酸化防止剤と併せてヒンダードアミン
光安定剤を含有するポリプロピレン、並びに有機ホスフ
ィットを含有する。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０９Ｋ 15/18

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】次式（Ｉ）： 〔式中、 ｎは１、２、３もしくは４を表わし、； R₁は炭素原子数１ないし36のアルキル基、炭素原子数５
   ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数７ないし９の
   アルアルキル基または炭素原子数１ないし36のアルキル
   基または−COOT₁（式中、T₁は炭素原子数１ないし36の
   アルキル基、炭素原子数５ないし12のシクロアルキル
   基、炭素原子数７ないし９のアルアルキル基もしくは炭
   素原子数１ないし36のアルキル基によって置換された該
   アルアルキル基を表わす）によって置換された該アルア
   ルキル基あるいは水素原子、アルカリ金属もしくはアン
   モニウムカチオンを表わし、； ｎが１を表わすとき、R₂及びR₁は同一もしくは異なって
   よく、並びに R₂は上記に定義したR₁と同じ意味を有するかまたは水素
   原子、アルカリ金属もしくはアンモニウムカチオンを表
   わし、； ｎが２を表わすとき、 R₂は炭素原子数２ないし12のアルキレン基、炭素原子数
   ６ないし10のシクロアルキレン基、炭素原子数６ないし
   10のアリーレン基、炭素原子数８ないし10のアルキレン
   アリーレンアルキレン基もしくは次式： で表わされる基、またはアルカリ土類金属を表わし、 ｎが３を表わすとき、 R₂は炭素原子数３ないし６のアルカントリル基あるいは ｎが４を表わすとき、 R₂は炭素原子数４ないし６のアルカンテトライル基を表
   わす〕で表わされる化合物。
2. 【請求項２】R₂が特許請求の範囲第１項のT₁の意味を表
   わす特許請求の範囲第１項記載の化合物。
3. 【請求項３】ｎが１を表わし、並びにR₂が炭素原子数１
   ないし18のアルキル基を表わす特許請求の範囲第１項記
   載の化合物。
4. 【請求項４】ｎが２を表わし、並びにR₂が炭素原子数２
   ないし８のアルキレン基を表わす特許請求の範囲第１項
   記載の化合物。
5. 【請求項５】ｎが４を表わし、並びにR₂が (-CH₂)₂Ｃ(CH₂-)₂もしくは1,2,3,4−ブタンテトライル
   基を表わす特許請求の範囲第１項記載の化合物。
6. 【請求項６】R₁がベンジル基もしくは−COOT₁（式中、T
   ₁は特許請求の範囲第１項で定義した意味を表わす）に
   よって置換されたベンジル基を表わす特許請求の範囲第
   １項記載の化合物。
7. 【請求項７】ｎが１、２または４を表わし、R₁が未置換
   もしくは−COOT₁（式中、T₁は水素原子を表わす）によ
   って置換されたベンジル基またはアルカリ金属または炭
   素原子数１ないし18のアルキル基を表わし、;nが１を表
   わすとき、R₂はT₁と同じ意味を表わし、;nが２を表わす
   とき、R₂は炭素原子数２ないし12のアルキレン基を表わ
   し、；並びにｎが４を表わすとき、R₂は を表わす特許請求の範囲第１項記載の化合物。
8. 【請求項８】次式（Ｉ）： 〔式中、 ｎは１、２、３もしくは４を表わし、； R₁は炭素原子数１ないし36のアルキル基を表わし、炭素
   原子数５ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数７な
   いし９のアルアルキル基または炭素原子数１ないし36の
   アルキル基または−COOT₁（式中、T₁は炭素原子数１な
   いし36のアルキル基、炭素原子数５ないし12のシクロア
   ルキル基、炭素原子数７ないし９のアルアルキル基もし
   くは炭素原子数１ないし36のアルキル基によって置換さ
   れた該アルアルキル基を表わす）によって置換された該
   アルアルキル基あるいは水素原子、アルカリ金属もしく
   はアンモニウムカチオンを表わし、； ｎが１を表わすとき、R₂及びR₁は同一もしくは異なって
   よく、並びに R₂は上記に定義したR₁と同じ意味を有するかまたは水素
   原子、アルカリ金属もしくはアンモニウムカチオンを表
   わし、； ｎが２を表わすとき、 R₂は炭素原子数２ないし12のアルキレン基、炭素原子数
   ６ないし10のシクロアルキレン基、炭素原子数６ないし
   10のアリーレン基、炭素原子数８ないし10のアルキレン
   アリーレンアルキレン基もしくは次式： で表わされる基、 またはアルカリ土類金属を表わし、 ｎが３を表わすとき、 R₂は炭素原子数３ないし６のアルカントリイル基あるい
   は ｎが４を表わすとき、 R₂は炭素原子数４ないし６のアルカンテトライル基を表
   わす〕で表わされる化合物の少なくとも１種の有効安定
   量で安定化された、酸化、熱的及び／もしくは化学線分
   解を受けやすい有機物質からなる安定化組成物。
9. 【請求項９】有機物質が合成ポリマーである特許請求の
   範囲第８項記載の組成物。
10. 【請求項１０】有機物質がポリオレフィンである特許請
    求の範囲第８項記載の組成物。
11. 【請求項１１】次式（Ｉ）： 〔式中、 ｎは１、２、３もしくは４を表わし、； R₁は炭素原子数１ないし36のアルキル基を表わし、炭素
    原子数５ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数７な
    いし９のアルアルキル基または炭素原子数１ないし36の
    アルキル基または−COOT₁（式中、T₁は炭素原子数１な
    いし36のアルキル基、炭素原子数５ないし12のシクロア
    ルキル基、炭素原子数７ないし９のアルアルキル基もし
    くは炭素原子数１ないし36のアルキル基によって置換さ
    れた該アルアルキル基を表わす）によって置換された該
    アルアルキル基あるいは水素原子、アルカリ金属もしく
    はアンモニウムカチオンを表わし、； ｎが１を表わすとき、R₂及びR₁は同一もしくは異なって
    よく、並びに R₂は上記に定義したR₁と同じ意味を有するかまたは水素
    原子、アルカリ金属もしくはアンモニウムカチオンを表
    わし、； ｎが２を表わすとき、 R₂は炭素原子数２ないし12のアルキレン基、炭素原子数
    ６ないし10のシクロアルキレン基、炭素原子数６ないし
    10のアリーレン基、炭素原子数８ないし10のアルキレン
    アリーレンアルキレン基もしくは次式： またはアルカリ土類金属を表わし、 ｎが３を表わすとき、 R₂は炭素原子数３ないし６のアルカントリイル基あるい
    は ｎが４を表わすとき、 R₂は炭素原子数４ないし６のアルカンテトライル基を表
    わす〕で表わされる化合物の有効安定化量を有機物質に
    混入することによりなる酸化、熱的及び／もしくは化学
    線に対する有機物質の安定化方法。