JPH0798784B2 - 置換ベンジルヒドロキシルアミン及び安定剤としてのそれらの用途 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は新規なベンジルヒドロキシルアミン、有機材料
用安定剤としてのそれらの使用、及びその新規な安定剤
の有効量で酸化、熱及び／又は光誘導劣化に対して安定
化された有機材料に関する。

（従来の技術、発明が解決しようとする問題点） フェノール系抗酸化剤は長い間、非常に効果的なポリオ
レフィン用安定剤であることが知られ、またその使用の
ために相当な商業的成功を収めてきたけれども、フェノ
ール系抗酸化剤で安定化されたポリオレフィン組成物は
長期間高められた温度で加熱されると又は天然ガスの燃
焼生成物にさらされると変色する傾向がある。有機亜リ
ン酸塩をそのようなポリオレフィン組成物に付随的に加
えることは、変色を軽減するけれども重大な実用的問題
を残す。同様に或る種のフェノール系抗酸化剤及び立体
障害アミン系光安定剤を含むポリオレフィン組成物は、
周囲温度でさえ長時間貯蔵されると変色する傾向があ
る。

本ベンジンヒドロキシルアミンは有機材料、とりわけフ
ェノール系抗酸化剤を含んだポリオレフィンを変色から
保護するのに特に効果的である。

米国特許第3.644.278号及び同3.778.464号にはポリオレ
フィンを含む炭化水素化合物用の抗酸化的安定剤として
種々の構造の置換ヒドロキシルアミンの使用が開示され
ている。

米国特許第3.408.422号には、貯蔵における早期ゲル化
を防ぐために選択されたヒドロキシルアミン誘導体の不
飽和ポリエステル組成物への使用が開示されている。

米国特許第3.926.909号には、光、スモッグ又はガス煙
霧にさらされるポリウレタンの変色を防ぐために、安定
剤として置換ヒドロキシルアミンを使用することが開示
されている。

米国特許第4.242.224号には、ラテックス工業において
アミン系抗酸化剤及びオゾン亀裂防止剤分散液が高pH値
で使用されたときに起こるピンク汚染が、ジアルキルヒ
ドロキシルアミン系又はメルカプタン系安定剤の使用に
より防止又は抑制できることが開示されている。

米国特許第4.316.996号は、それ自身改良された色と色
の安定性を示すフェノール系抗酸化剤を得るためのヒド
ロキシルアミン誘導体及び置換オキシムの存在下でのフ
ェノール系抗酸化剤の製造方法に関するものである。

米国特許第3.432.578号は、N,N−ジベンジルヒドロキシ
ルアミンを含むジアリール−又はジアルアルキルヒドロ
キシルアミン化合物の使用によって紫外線の悪影響に対
して安定化された共役ジエンポリマーに関するものであ
る。

米国特許第4.386.224号には、ノニル−又はドデシルフ
ェノールのようなモノアルキルフェノール用の色調安定
剤として、N,N−ジエチルヒドロキシルアミンの使用に
ついて開示している。

（問題点を解決するための手段） 本発明は、次式I: 〔式中、 ｇは1,2又は３を表わし、 E₁は炭素原子数１ないし36のアルキル基、炭素原子数５
ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数７ないし９の
アルアルキル基或は該アルアルキル基が炭素原子数１な
いし36のアルキル基で又は−CON（E₄）（E₅）で置換さ
れた基を表わし、 E₄及びE₅は独立して水素原子、炭素原子数１ないし18の
アルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル
基、炭素原子数６ないし10のアリール基、炭素原子数７
ないし９のアルアルキル基、或は該アリール基又は該ア
ルアルキル基が炭素原子数１ないし36のアルキル基によ
り置換された基を表わすか、或は E₄及びE₅はそれが結合しているＮ−原子と一緒になって
ピロリジノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピペラジ
ノ基、Ｎ−メチルピペラジノ基又はホモピペリジノ基を
表わし、 ｇが１を表わすとき、E₂及びE₃は独立して水素原子、炭
素原子数１ないし18のアルキル基、炭素原子数５ないし
７のシクロアルキル基、炭素原子数６ないし10のアリー
ル基、炭素原子数７ないし９のアルアルキル基、或は該
アリール基または該アルアルキル基が炭素原子数１ない
し36のアルキル基で置換された基を表わすか、或はE₂及
びE₃はそれらが結合しているＮ−原子と一緒になってピ
ロリジノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピペラジノ
基、Ｎ−メチルピペラジノ基又はホモピペリジノ基を表
わし、 ｇが２を表わすとき、E₂は上記で定義した意味を表わ
し、そしてE₃は炭素原子数２ないし12のアルキレン基又
は炭素原子数６ないし10のアリーレン基を表わすか、或
はE₂及びE₃はそれらが結合しているＮ−原子と一緒にな
ってピペラジノ基を表わし、そして ｇが３を表わすとき、E₂及びE₃はそれらが結合している
Ｎ−原子と一緒になってヘキサヒドロ−1,3,5−トリア
ジニル基を表わす〕 で表わされる化合物に関する。

本発明はまた次式II: 〔式中、シアノ基は−CH₂−部分に対して、オルト−、
メタ−又はパラ−位にある〕 で表わされる化合物にも関する。

E₁の炭素原子数１ないし36のアルキル基としては例えば
メチル基、エチル基、イソプロピル基、イソブチル基、
第三ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル
基、ノニル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−オクタデシル基、
エイコシル基、テトラコシル基、トリコンチル基又はヘ
キサトリコンチル基が挙げられる。好ましくはE₁は炭素
原子数１ないし18のアルキル基である。

E₁の炭素原子数５ないし12のシクロアルキル基としては
例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオ
クチル基又はシクロドデシル基が挙げられる。炭素原子
数５ないし７のシクロアルキル基が好ましい。特に好ま
しいのはシクロヘキシル基である。シクロドデシル基も
また好ましい。

E₁、E₂、E₃、E₄及びE₅の炭素原子数７ないし９のアルア
ルキル基又は炭素原子数１ないし36のアルキル基で置換
された該アルアルキル基は特には所望によりフェニル環
が炭素原子数１ないし36のアルキル基好ましくはメチル
基で置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキ
ル基であってよい。例えばベンジル基、α−メチルベン
ジル基、α，α−ジメチルベンジル基、3,5−ジメチル
ベンジル基又はｐ−ノニルベンジル基が挙げられる。

E₁はベンジル基、又は−CON（E₄）（E₅）で置換された
ベンジル基であるのが好ましい。

E₂、E₃、E₄及びE₅の炭素原子数１ないし18のアルキル基
としては例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、
イソブチル基、第三ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エ
チルヘキシル基、ノニル基、ｎ−ドデシル基又はｎ−オ
クタデシル基が挙げられる。

E₂、E₃、E₄及びE₅の炭素原子数５ないし７のシクロアル
キル基としては、５ないし７の“−CH₂−”基を環中に
有するものが好ましく、例えばシクロペンチル基、シク
ロヘキシル基、又はシクロヘプチル基が挙げられる。

E₂、E₃、E₄及びE₅の炭素原子数６ないし10のアリール基
又は炭素原子数１ないし36のアルキル基で置換されたそ
のようなアリール基としては、例えば所望によりアルキ
ル基、好ましくは炭素原子数１ないし８のアルキル基、
特にはメチル基で置換されていてもよい、フェニル基又
はナフチル基が挙げられる。好ましい例としてはフェニ
ル基、トリル基、キシリル基、１−ナフチル基又は２−
ナフチル基が挙げられる。

E₃の炭素原子数２ないし12のアルキレン基としては、例
えばエチレン基、1,2−プロピレン基、トリメチレン
基、テトラメチエン基、ヘキサメチレン基、オクタメチ
レン基又はドデカメチレン基であってよい。好ましくは
E₃は炭素原子数２ないし８のアルキレン基である。

E₃の炭素原子数６ないし10のアリーレン基としては例え
ば０−,m−又はｐ−フェニレン基、好ましくはｍ−又は
ｐ−フェニレン基、又は1,4−ナフチレン基が挙げられ
る。

前記式Ｉ中、E₁がベンジル基又は−CON（E₄）（E₅）で
置換されたベンジル基を表わし、E₄及びE₅が独立して水
素原子又は炭素原子数１ないし18のアルキル基を表わ
し、ｇが１を表わすときE₂及びE₃が独立して水素原子又
は炭素原子数１ないし18のアルキル基を表わし、ｇが２
を表わすときE₂及びE₃がそれらが結合している窒素原子
と一緒になってピペラジノ環を形成し、そしてｇが３を
表わすときE₂及びE₃がそれらが結合している窒素原子と
一緒になってヘキサヒドロ−1,3,5−トリアジニル基を
表わす化合物が好ましい。

式Ｉで表わされる化合物の好適な例としてはN,N−ビス
〔ｐ−〔Ｎ′,N′−ビス（２−エチルヘキシル）アミノ
カルボニル〕ベンジル〕ヒドロキシルアミンが、そして
前記式IIで表わされる化合物の好適な例としてはN,N−
ビス（ｐ−シアノベンジル）ヒドロキシルアミンが挙げ
られる。

式Ｉで表わされる当該ベンジルヒドロキシルアミンは一
般的には公知方法に類似した方法で、例えば次式III: 〔式中、E₁は上記で定義した意味を表わす〕で表わされ
るヒドロキシルアミンと、次式IV: 〔式中、E₂、E₃及びｇは上記で定義した意味を表わし、
そしてＸはハロゲン原子、好ましくは臭素原子を表わ
す〕 で表わされる化合物とを酸受容体の存在下で反応させる
ことにより製造することができる。

前記式IIで表わされる化合物は例えば上記式IIIのヒド
ロキシルアミンと次式Ｖ 〔式中、Ｘはハロゲン原子、好ましくは臭素原子を表わ
す〕 で表わされる化合物とを酸受容体の存在下で反応させる
ことにより製造することができる。

式III、IV及びＶで表わされる中間体は多くは市販品目
であり或は公知方法により製造することができる。

式Ｉ及び式IIで表わされる化合物は広範な有機基質に効
果的な安定剤である。安定化することのできる有機材料
としては例えば次のものが含まれる。

1.モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えば
ポリエチレン（場合により架橋されたものでもよい）、
ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−１、
ポリメチルペンテン−１、ポリイソプレン又はポリブタ
ジエン、並びにポリシクロオレフィン例えばシクロペン
テン又はノルボルネンのポリマー。

2.1に記載したポリマーの混合物、例えば、ポリプロピ
レンのポリイソブチレンとの混合物。

3.モノオレフィン及びジオレフィンの互いの又は他のビ
ニルモノマーとの共重合体、例えばエチレン／プロピレ
ン、プロピレン／ブテン−１、プロピレン／イソブチレ
ン、エチレン／ブテン−１、プロピレン／ブタジエン、
イソブチレン／イソプレン、エチレン／アルキルアクリ
レート、エチレン／アルキルメタクリレート、エチレン
／酢酸ビニル又はエチレン／アクリル酸共重合体及びそ
れらの塩（イオノマー）及びエチレンのプロピレン及び
ジエン例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエン又は
エチリデン−ノルボルネンとの三元共重合体。

4.ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチレン）。

5.スチレン又はα−メチルスチレンのジエン又はアクリ
ル誘導体の共重合体、例えばスチレン／ブタジエン、ス
チレン／アクリロニトリル、スチレン／エチルメタクリ
レート、スチレン／ブタジエン／エチルアクリレート、
スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート；ス
チレン共重合体と他のポリマー、例えばポリアクリレー
ト、ジエンポリマ又はエチレン／プロピレン／ジエン三
元共重合体との耐高衝撃性混合物、及びスチレンのブロ
ックポリマー、例えばスチレン／ブタジエン／スチレ
ン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチ
レン／ブチレン／スチレン又はスチレン／エチレン／プ
ロピレン／スチレン。

6.スチレンのグラフト共重合体、例えばポリブタジエン
上のスチレン、ポリブタジエン上のスチレン及びアクリ
ロニトリル、ポリブタジエン上のスチレン及びアルキル
アクリレート若しくはメタクリレート、エチレン／ポリ
プロピレン／ジエン三元共重合体上のスチレン及びアク
リロニトリル、ポリアクリレート又はポリメタクリレー
ト上のスチレン及びアクリロニトリル、アクリレート／
ブタジエン共重合体上のスチレン及びアクリロニトリル
グラフト共重合体、並びにそれらの５に記載した共重合
体との混合物、例えばABS−、MBS−、ASA−又はAES−ポ
リマーとして知られた共重合体混合物。

7.ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩
素化ゴム、塩素化又はスルホクロル化ポリエチレン、エ
ピクロルヒドリンホモ−及びコーポリマー、ハロゲン含
有ビニル化合物からのポリマー、例えばポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ
化ビニリデン、並びにそれらの共重合体、例えば塩化ビ
ニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニル、又は
塩化ビニリデン／酢酸ビニル共重合体。

8.α，β−不飽和酸及びそれらの誘導体から誘導される
ポリマー、例えばポリアクリレート、及びポリメタクリ
レート、ポリアクリルアミド及びポリアクリロニトリ
ル。

9.8に記載したモノマーの互いの又は他の不飽和モノマ
ーとの共重合体例えばアクリロニトリル／ブタジエン、
アクリロニトリル／アルキルアクリルート、アクリロニ
トリル／アルコキシアルキルアクリレート又はアクリロ
ニトリル／ハロゲン化ビニル共重合体、又はアクリロニ
トリル／アルキルメタクリレート／ブタジエン三元共重
合体。

10.不飽和アルコール及びアミンから誘導されるポリマ
ー、又はそれらのアシル誘導体又はそれらのアセター
ル、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポ
リビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリ
ビニルマレート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフ
タレート又はポリアリル−メラミン。

11.環状エーテルのホモポリマー及びコーポリマー、例
えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシド又はそれらのビスグリシジ
ルエーテルとの共重合体。

12.ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン及びコ
ーモノマーとしてエチレンオキシドを含むポリオキシメ
チレン。

13.ポリフェニレンオキシド及びスルフィド、及びポリ
フェニレンオキシドのポリスチレンとの混合物。

14.一方の末端ヒドロキシ基を有するポリエーテル、ポ
リエステル又はポリブタジエン、と他方の脂肪族若しく
は芳香族ポリイソシアネートから誘導されるポリウレタ
ン、並びにそれらの前駆物質（ポリイソシアネート、ポ
リオール又はプレポリマー）。

15.ジアミン及びジカルボン酸から及び／又はアミノカ
ルボン酸又は相当するラクタムから誘導されるポリアミ
ド及びコーポリアミド、例えばポリアミド４、ポリアミ
ド６、ポリアミド6,6、ポリアミド6/10、ポリアミド1
1、ポリアミド12、ポリ−2,4,4−トリメチルヘキサメチ
レンテレフタルアミド又はポリ−ｍ−フェニレンイソフ
タルアミド、並びにそれらの、ポリエーテル例えばポリ
エチレングリコール、ポリプロピレングリコール又はポ
リテトラメチレングリコールとの共重合体。

16.ポリウレア、ポリイミド及びポリアミド−イミド。

17.ジカルボン酸およびジオールから、及び／又はヒド
ロキシカルボン酸又は相当するラクトンから誘導される
ポリエステル、例えば、ポリエチレンテレフタレート、
ポリブチレンテレフタレート、ポリ−1,4−ジメチロー
ルシクロヘキサンテレフタレート、ポリ−〔2,2−（４
−ヒドロキシフェニル）−プロパン〕テレフタレート及
びポリヒドロキシベンゾエート、並びに末端ヒドロキシ
基をもつポリエーテルから誘導されるブロックコーポリ
エーテル−エステル。

18.ポリカーボネート及びポリエステル−カーボネート 19.ポリスルホン、ポリエーテルスルホン及びポリエー
テルケトン。

20.一方のアルデヒドと、他方のフェノール、尿素又は
メラミンとから誘導される架橋ポリマー、例えば、フェ
ノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ホルムアルデヒ
ド樹脂及びメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。

21.乾性及び不乾性アルキド樹脂。

22.飽和及び不飽和ジカルボン酸の多価アルコールと
の、ビニル化合物を架橋剤とする、コポリエステルから
誘導される、不飽和ポリエステル樹脂並びにそのハロゲ
ン原子を含む難燃性の変性樹脂。

23.置換アクリル酸エステル、例えば、エポキシアクリ
レート、ウレタン−アクリレート又はポリエステル−ア
クリレートから誘導される熱硬化性アクリル樹脂。

24.架橋剤としてメラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシ
アネート又はエポキシ樹脂を混合したアルキド樹脂、ポ
リエステル樹脂及びアクリレート樹脂。

25.ポリエポキシド、例えば、ビス−グリシジルエーテ
ル又は脂環式ジエポキシドから誘導される架橋エポキシ
樹脂。

26.天然のポリマー、例えば、セルロース、天然ゴム、
ゼラチン及びそれらを重合同族体として化学変性した誘
導体、例えば、酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
ス、セルロースブチレート並びにセルロースエーテル、
例えばメチルセルロース。

27.上記のポリマーの混合物（ポリブレンド）、例えばP
P/EPDM,ポリアミド6/EPDM若しくはABS、PVC/EVA、PVC/A
BS、PVC/MBS、PC/ABS、PBTP/ABS。

28.純粋なモノマー化合物またはこれらの混合物である
天然および合成有機材料、例えば、鉱油、動物及び植物
脂肪、油及びワックス、又は合成エステル（例えば、フ
タレート、アジペート、ホスフェート又はトリメリテー
ト）をベースとする、油、ワックス及び脂肪、並びに適
当な重量比で混合された合成エステルと鉱油との混合
物、例えば繊維紡績油として使用されるもの、並びに上
記材料の水性エマルジョンとして使用される混合物。

29.天然又は合成ゴムの水性エマルジョン、例えば、天
然ゴムラテックス又はカルボキシル化スチレン／ブタジ
エンコポリマーのラテックス。

本発明はまた酸化、熱及び／又は化学線により劣化を被
り易い有機材料に、少なくとも上記式Ｉで表わされる化
合物の１種及び／又は上記式IIで表される化合物の１種
の安定化有効量で安定化してなる組成物に関する。

そのような組成物はその有機材料が合成ポリマー、例え
ばポリオレフィン、特にはα−オレフィンのホモポリマ
ー又はコポリマーであるものが好ましい。

ポリオレフィン、スチレンポリマー及びポリアミドの安
定化及びポリウレタンの安定化が特に重要であり、そし
て当該化合物はそのために著しく適している。好ましい
ポリマーの例としては高密度及び低密度ポリエチレン、
ポリプロピレン、エチレン／プロピレンコポリマー、ポ
リスチレン、スチレン／ブタジエン／アクリロニトリル
ターポリマー、ポリオレフィンの又はスチレンポリマー
の混合物、及びポリエーテル又はポリエステルを基にす
るポリウレタンが挙げられる。

式Ｉ及び式IIで表わされる本化合物は、酸化、熱又は光
誘導劣化を受けやすい有機材料であってアクリロニトリ
ル／ブタジレン／スチレン（ABS）樹脂、耐衝撃ポリス
チレン、ポリ（フェニレンオキシド）、ポリブタジエ
ン、ポリイソプレン、天然ゴム及び潤滑油から選択され
る有機材料の安定化に特に効果的である。

上述した種目1,2及び３に掲げた如き有機材料に重要で
ある。特に好ましいポリオレフィン基材はポリプロピレ
ン、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度
ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン、ポリ（ブテン
−１）、エチレン／ビニルアセテートコポリマー、エチ
レン／プロピレンコポリマー及びエチレンもしくはプロ
ピレンと他のα−オレフィンとのコポリマーである。

最も好ましいポリオレフィン基材はポリプロピレン、高
密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン／プロピ
レンコポリマーまたはエチレンもしくはプロピレンと他
のα−オレフィンとのコポリマーである。

本発明のベンジルヒドロキシルアミン化合物は、特には
高温加工中に、ポリオレフィンを、たとえ該ポリマーが
幾多の押出加工を被ろうとも比較的少い色の変化を伴っ
て安定化する。

一般に、本発明の式Ｉ及びIIで表わされる化合物は安定
化組成物の重量に対して約0.01から約５重量％又は約0.
05から５重量％で用いるが、これは特定の基材及び施用
方法により変るだろう。有利な範囲は、約0.1から約2.5
重量％、又は約0.025から２重量％、又は約0.05から約
１重量％である。

式Ｉ又はIIで表わされる安定剤は有機材料に慣用技術に
より成形品を製造する前又は製造中の都合のよいどの段
階でも容易に混合することができる。例えば該安定剤を
溶融物に混合するか又は有機材料に乾燥粉末の形で混合
してもよいし、又は安定剤の懸濁液又はエマルジョンを
有機材料の溶液、懸濁液又はエマルジョンと混合しても
よい。

本安定剤はまた安定化されるプラスチックに、該化合物
を例えば2.5ないし25重量％の濃度で含むマスターバッ
チの形で加えることもできる。

安定化された材料は、ラッカー、フィラメント、フィル
ム、シート等の形態で使用することができる。

本発明の安定剤は有機材料が成形物に２次加工される以
前又はその際中に有機材料に配合されるのが都合が良い
が、最終成形品に局所適用法で適用することもできる。
これは、本発明の安定剤を繊維に局部的に適用する、例
えば、溶融紡糸過程の紡糸仕上加工によって適用する繊
維適用について特に有用である。

本発明の安定化組成物はまた、所望により例えば下記の
如き種々の慣用添加剤を約0.05ないし約５重量％、好ま
しくは約0.1ないし約2.5重量％含んでもよい。

I.酸化防止剤 I.1.アルキル化モノフェノール 例えば、2,6−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノー
ル、２−第三ブチル−4,6−ジメチルフェノール、2,6−
ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、2,6−ジ−第
三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、2,6−ジ−第三
ブチル−４−イソブチルフェノール、2,6−ジシクロペ
ンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシク
ロヘキシル）−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジオク
タデシル−４−メチルフェノール、2,4,6−トリシクロ
ヘキシルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−４−メト
キシメチルフェノール。

I.2アルキル化ヒドロキノン 例えば、2,6−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノー
ル、2,5−ジ−第三ブチルヒドロキノン、2,5−ジ−第三
アミルヒドロキノン、2,6−ジフェニル−４−オクタデ
シルオキシフェノール。

I.3ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル 例えば、2,2′−チオ−ビス−（６−第三ブチル−４−
メチルフェノール）、2,2′−チオビス（４−オクチル
フェノール）、4,4′−チオビス（６−第三ブチル−３
−メチルフェノール）、4,4′−チオビス（６−第三ブ
チル−２−メチルフェノール）。

I.4アルキリデンビスフェノール 例えば2,2′−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メ
チルフェノール）、2,2′−メチレンビス（６−第三ブ
チル−４−エチルフェノール）、2,2′−メチレンビス
（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、2,
2′−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノー
ル）、2,2′−メチレンビス（4,6−ジ−第三−ブチルフ
ェノール）、2,2′−エチリデンビス（4,6−ジ−第三ブ
チルフェノール）、2,2′−エチリデンビス（６−第三
−ブチル−４−イソブチルフェノール）、2,2′−メチ
レンビス〔６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフ
ェノール〕、2,2′−メチレンビス〔６−（α，α−ジ
メチルベンジル）−４−ノニルフェノール〕、4,4′−
メチレンビス（2,6−ジ−第三ブチルフェノール）、4,
4′−メチレンビス（６−第三−ブチル−２−メチルフ
ェノール）、1,1−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロ
キシ−２−メチルフェニル）ブタン、2,6−ビス（３−
第三−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）
−４−メチルフェノール、1,1,3−トリス（５−第三−
ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタ
ン、1,1−ビス（５−第三−ブチル−４−ヒドロキシ−
２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブ
タン、エチレングリコールビス〔3,3−ビス（３′−第
三−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチラー
ト〕、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メ
チルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス〔２−
（３′−第三−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチ
ルベンジル）−６−第三−ブチル−４−メチルフェニ
ル〕テレフタレート。

I.5ベンジル化合物 例えば、1,3,5−トリス（3,5−ジ−第三−ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）−2,4,6−トリメチルベンゼン、
ビス（3,5−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）スルフィド、イソオクチル3,5−ジ−第三−ブチル
−４−ヒドロキシベンジル−メルカプトアセテート、ビ
ス（４−第三−ブチル−３−ヒドロキシ−2,6−ジメチ
ルベンジル）ジチオールテレフタレート、1,3,5−トリ
ス（3,5−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）イソシアヌレート、1,3,5−トリス（４−第三−ブ
チル−３−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル）イソ
シアヌレート、ジオクタデシル3,5−ジ−第三−ブチル
−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、モノエチル3,
5−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシベンジル−ホス
ホネートのカルシウム塩。

I.6.アシルアミノフェノール 例えば、４−ヒドロキシラウリル酸のアニリド、４−ヒ
ドロキシステアリン酸のアニリド、2,4−ビス（オクチ
ルメルカプト）−６−（3,5−ジ−第三−ブチル−４−
ヒドロキシアニリノ）−ｓ−トリアジン、オクチルＮ−
（3,5−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
カルバメート。

I.7.以下のような一価または多価アルコールとβ（3,5
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピ
オン酸とのエステル アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6−ヘ
キサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチル
グリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレ
ート、チオジエチレングリコール、N,N′−ビス（ヒド
ロキシエチル）蓚酸ジアミド。

I.8.以下のような一価または多価アルコールとβ−（５
−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）
−プロピオン酸とのエステル アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6−ヘ
キサンジオールペンタエリトリトール、ネオペンチルグ
リコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレー
ト、チオジエチレングリコール、N,N′−ビス（ヒドロ
キシエチル）蓚酸ジアミド。

I.9.β−（3,5−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロピオン酸のアミド 例えば、N,N′−ビス（3,5−ジ−第三−ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレン−ジア
ミン、N,N′−ビス（3,5−ジ−第三−ブチル−４−ヒド
ロキシフェニルプロピオニル）トリメチレン−ジアミ
ン、N,N′−ビス（3,5−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル）ヒドラジン。

II.紫外線吸収剤及び光安定剤 II.1.2−（２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾ
ール 例えば、５−メチル、３′,5′−ジ−第三−ブチル、５
−第三−ブチル、５′−（1,1,3,3−テトラメチルブチ
ル）、５−クロロ−３′,5′−ジ−第三−ブチル、５−
クロロ−３′−第三−ブチル−５′−メチル、３′−第
二−ブチル−５′−第三−ブチル、４′−オクトキシ、
３′,5′−ジ−第三−アミル及び３′,5′−ビス（α，
α−ジメチルベンジル）誘導体。

II.2.2−ヒドロキシベンゾフェノン 例えば、４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクトキ
シ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベン
ジルオキシ、4,2′,4′−トリヒドロキシ及び２′−ヒ
ドロキシ−4,4′−ジメトキシ誘導体。

II.3.置換もしくは未置換安息香酸のエステル 例えば、４−第三−ブチルフェニルサリチル酸エステ
ル、フェニルサリチル酸エステル、オクチルフェニルサ
リチル酸エステル、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス
（４−第三−ブチルベンゾイル）−レゾルシノール、ベ
ンゾイルレゾルシノール、2,4−ジ−第三−ブチルフェ
ニル3,5−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエ
ート及びヘキサデシル3,5−ジ−第三−ブチル−４−ヒ
ドロキシベンゾエート。

II.4.アクリレート 例えば、エチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリ
レート、イソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニル
アクリレート、メチルα−カルボメトキシ桂皮酸エステ
ル、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂
皮酸エステル、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メ
トキシ桂皮酸エステル、メチルα−カルボメトキシ−ｐ
−メトキシ−桂皮酸エステル及びＮ−（β−カルボメト
キシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。

II.5.ニッケル化合物 例えば、ニッケルと2,2′−チオビス〔４−（1,1,3,3−
テトラメチルブチル）フェノール〕の比が1:1もしくは
1:2の錯体、ｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミン
もしくはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンのよう
な付加配位子を有しているかもしくは有していない上記
のニッケル錯体、ニッケルジブチルジチオカルバメー
ト、４−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三−ブチルベンジル
ホスホン酸モノアルキルエステルのニッケル塩、たとえ
ばメチルもしくはエチルエステル、ニッケル塩、ケトキ
シムたとえば、２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウ
ンデシルケトンオキシムのニッケル錯体、付加配位子を
有しているかもしくは有していない１−フェニル−４−
ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯
体。

II.6.立体障害性アミン 例えばビス（2,2,6,6−テトラメチルピペリジルセバケ
ート、ビス（1,2,2,6,6−テトラメチルピペリジルセバ
ケート、ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル）
ｎ−ブチル−3,5−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルマロネート、１−ヒドロキシエチル−2,2,6,6
−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸
の縮合物、N,N′−ビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−
ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三−オク
チルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−ｓ−トリアジンの
縮合物、トリス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（2,2,6,6
−テトラメチル−４−ピペリジル）−1,2,3,4−ブタン
テトラカルボキシレート、1,1′−（1,2−エタンジイ
ル）ビス（3,3,5,5−テトラメチルピペラジノン）。

II.7.蓚酸ジアミド 例えば、4,4′−ジオクチルオキシオキサアニリド、2,
2′−ジオクチルオキシ−5,5′−ジ−第三−ブチルオキ
サアニリド、2,2′−ジドデシルオキシ−5,5′−ジ−第
三−ブチルオキサアニリド、２−エトキシ−２′−エチ
ルオキサアニリド、N,N′−ビス（３−ジメチルアミノ
プロピル）オキサルアミド、２−エトキシ−５−第三−
ブチル−２′−エチルオキシアニリド及び２−エトキシ
−２′−エチル−5,4′−ジ−第三−ブチルオキシアニ
リドとその混合物並びにｏ−及びｐ−メトキシ−ジ置換
オキサアニリドの混合物、ｏ−及びｐ−エトキシ−ジ置
換オキサアニリドの混合物。

III.金属不活性化剤 例えばオキサニリド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバ
シン酸−ビス−フェニルヒドラジド、ビス−ベンジリデ
ン−シュウ酸ジヒドラジド、N,N′−ジフェニル蓚酸ジ
アミド、Ｎ−サリチル−Ｎ′−サリチロイルヒドラジ
ン、N,N′−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、N,N′−
ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル
プロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−
1,2,4−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）蓚酸ジヒ
ドラジド。

IV.ホスフィットおよびホスホニット 例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフ
ィット、トリス（2,4−ジ−第三−ブチルフェニル）ホ
スフィット、ジイソデシルペンタエリトリトール、ジホ
スフィット、ビス（2,4−ジ−第三−ブチルフェニル）
ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリル
ソルビトールトリホスフィット、テトラキス（2,4−ジ
−第三−ブチルフェニル）4,4′−ジフェニレンジホス
ホニット、3,9−ビス（2,4−ジ−第三−ブチルフェノキ
シ）−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピ
ロ〔5.5〕ウンデカン。

V.過酸化物除去剤 例えば、ラウリル、ステアリル、ミリスチルもしくはト
リデシルエステルのようなβ−チオジプロピオン酸のエ
ステル、メルカプトベンズイミダゾールもしくは２−メ
ルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチルジ
チオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、ペン
タエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプ
ト）プロピオネート。

VI.ポリアミド安定剤 例えば、銅塩とヨウ化物及び／もしくはリン化合物並び
に２価マグネシウム塩との組み合わせ。

VII.塩基性補助安定剤 例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジ
アミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラ
ジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級
脂肪酸のアルカリ金属およびアルカリ土類金属塩例えば
Caステアレート、Znステアレート、Mgステアレート、Na
リシノレエートまたはＫパルミテート、アンチモンピロ
カテコレート及び亜鉛ピロカテコレート。

VIII.造核剤 例えば４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニ
ル酢酸。

IX.充填剤及び強化剤 例えば、炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アス
ベスト、タルク、カオリン、マイカ、硫酸バリウム、金
属酸化物、金属水酸化物、カーボンブラック、グラファ
イト。

X.他の添加剤 例えば、可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、増白剤、防炎
剤、帯電防止剤及び発泡剤。

本組成物は、高められた温度で加熱されたり天然ガスの
燃焼生成物やγ線照射にさらされたり又は周囲温度で長
期間貯蔵されることで起る劣化や変色に対して安定化さ
れる。

その上特には、本発明はまた式Ｉ及び／又は式IIで表わ
される化合物のほかに、１種又はそれ以上の慣用の添加
剤、好ましくはフェノール系抗酸化剤、立体障害アミン
系光安定剤、アルキル化ヒドロキシベンゾエート系光安
定剤、紫外線吸収剤、有機リン系化合物、脂肪酸の金属
塩及び／又はチオ相乗剤等の有効量を含む有機材料に関
する。慣用添加剤として、フェノール系抗酸化剤又はそ
の混合物を脂肪酸のアルカリ金属塩又はその混合物と併
用するのが特に好ましい。特には上記種目Ｉで掲げたフ
ェノール系抗酸化剤が当該組成物には有用である。好ま
しいものは次の通りである。

ｎ−オクタデシル3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シヒドロシンナメート、ネオペンタンテトライル テト
ラキス−（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ−ヒ
ドロシンナメート）、ジ−ｎ−オクタデシル3,5−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−ホスホネート、
1,3,5−トリス−（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル−イソシアヌレート、チオジエチレン ビス
−（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシン
ナメート）、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス−（3,
5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−ベン
ゼン、3.6−ジオキサオクタメチレンビス−（３−メチ
ル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメー
ト、2,6−ジ−第三ブチル−ｐ−クレゾール、2,2′−エ
チリデン−ビス−（4,6−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、1,3,5−トリス−（2,6−ジメチル−４−第三ブチ
ル−３−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、1,
1,3−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第
三ブチルフェニル）−ブタン、1,3,5−トリス−〔２−
（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナ
モイルオキシ）−エチル〕−イソシアヌレート、3,5−
ジ−（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）−メシトール、ヘキサメチレン ビス−（3,5−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）、
１−（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリ
ノ）−3,5−ジ（オクチルチオ）−ｓ−トリアジン、N,
N′−ヘキサメチレン ビス−（3,5−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシヒドロケイヒ酸アミド）、カルシウム
ビス−（Ｏ−エチル−3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンジルホスホネート）、エチレン ビス−〔3,
3−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−ブチ
レート〕オクチル3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルメルカプトアセテート、ビス−（3,5−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナモイル）−ヒ
ドラジド、及びN,N′−ビス−〔２−（3,5−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシヒドロシンナモイルオキシ）−エ
チル〕−オキサミド。

最も好ましい実施態様ではフェノール系酸化防止剤とし
て、ネオペンタンテトライル テトラキス−（3,5−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）、
ｎ−オクタデシル 3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシヒドロシンナメート、1,3,5トリメチル−2,4,6−ト
リス−（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）−ベンゼン、1,3,5−トリス−（3,5−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、2,
6−ジ−第三ブチル−ｐ−クレゾールもしくは2,2′−エ
チリデン−ビス−（4,6−ジ−第三ブチル−フェノー
ル）が挙げられる。

本発明の組成物が脂肪酸の金属塩を含有する場合、それ
らの塩は高級脂肪酸のアルカリ金属、アルカリ土類金
属、亜鉛、カドミウムもしくはアルミニウムの塩であ
り、例えばステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜
鉛、ベヘン酸マグネシウム、リシノール酸ナトリウムも
しくはパルミチン酸カリウムである。ステアリン酸カル
シウムが特に好ましい。

本発明の組成物が有機リン化合物を含有する場合、上記
種目IVに掲げたものが好ましい。特にはトリス〔2,4−
ジ−第三ブチルフェニル〕ホスフィットが好ましい。

過酸化物除去剤として上記種目Ｖに掲げたチオ相乗剤も
また本発明組成物に有用である。ジステアリル チオジ
プロピオネート及びジラウリル チオジプロピオネート
が好ましい。

本発明組成物が立体障害性アミンを含む場合、特には上
記種目II.6に掲げたものが好ましい。

アルキル化ヒドロキシベンゾエート系光安定剤及び紫外
線吸収剤としては、上記種目IIに掲げたものが本発明組
成物にとって好ましい。

特に本発明組成物中に用いられる紫外線吸収剤として
は、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−2H
−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−3,5−
ジ−第三アミルフェニル）−2H−ベンゾトリアゾール、
２−〔２−ヒドロキシ−3,5−ビス（α，α−ジメチル
ベンジル）フェニル〕−2H−ベンゾトリアゾール、２−
（２−ヒドロキシ−５−第三オクチルフェニル）−2H−
ベンゾトリアゾール、２−ヒドロキシ−４−オクチルオ
キシベンゾフェノン、ニッケル ビス（ｏ−エチル3,5
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスフォネ
ート、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−（２−
ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−メチルフェニル）−
2H−ベンゾトリアゾール、2,2′−チオビス（４−第三
ブチルフェノール）とのニッケルブチルアミン錯体、２
−エトキシ−２′−エチルオキサアニリド又は２−エト
キシ−２′−エチル−5,5′−ジ−第三ブチルオキサア
ニリドが挙げられる。

（実施例） 下記の実施例は説明の目的でのみ存在するものであり、
いかなる方法においても本発明の範囲を限定するもので
はない。

（％は特記しない限り、重量％を意味する） 実施例1:N,N−ビス〔ｐ−〔Ｎ′,N′−ビス（２−エチ
ルヘキシル）アミノカルボニル〕ベンジル〕−ヒドロキ
シルアミン メチレンクロライド100ml中にα−ブロモ−ｐ−トリオ
イルクロライド19.0gを溶かした溶液を、メチレンクロ
ライド100mlにトルエチルアミン16.0ml及びビス（２−
エチルヘキシル）アミン18.11gを溶解させた溶液に、０
〜５℃にて加える。その反応混合物を室温にて一夜攪拌
し、次いで濃厚な油状物に濃縮する。該油状物のトルエ
ンに溶解する部分をクーゲルロール（Kugelrohr）蒸留
により減圧下（180〜200℃/1.33mbar）で精製すること
により濃厚黄色油状物28.1gを得る。

該油状物27.52g、ヒドロキシルアミン塩酸塩2.15g及び
無水炭酸ナトリウム3.15gを乾燥N,N−ジメチルホルムア
ミド（DMF）100mlに入れた混合物を室温で一夜放置す
る。減圧により溶媒を除去して得られた残渣を分取液体
クロマトグラフィーで精製することにより標記生成物7.
66gが淡黄色油状物として得られる。

元素分析値（C₄₈H₈₁N₃O₃）： 理論値:C,77.1;H,10.9;N,5.6. 実測値:C,76.5;H,10.5;N,5.6. 実施例２−3: ビス（２−エチルヘキシル）アミンの代わりに等量のジ
メチルアミン又はジ−ｎ−オクタデシルアミンを用い、
実施例１の操作に従うとき、相当するN,N−ビス〔ｐ−
（Ｎ′,N′−ジメチルアミノカルボニル）ベンジル〕ヒ
ドロキシルアミン又はN,N−ビス〔ｐ−（Ｎ′,N′−ｎ
−オクタデシルアミノカルボニル）ベンジル〕ヒドロキ
シルアミンが得られる。

実施例４−5: ビス（２−エチルヘキシル）アミンの代わりに光学量論
的量のピペラジン又は該量のヘキサヒドロ−1,3,5−ト
リアジンを用い、そしてヒドロキシルアミン塩酸塩の代
わりに化学量論的量のＮ−ベンジルヒドロキシルアミン
を用いて実施例１の操作を行うとき、相当する1,4−ビ
ス〔ｐ−（Ｎ−ベンジル−Ｎ−ヒドロキシルアミノメチ
ル）−ベンゾイル〕ピペラジン又は1,3,5−トリス〔ｐ
−（Ｎ−ベンジル−Ｎ−ヒドロキシルアミノメチル）ベ
ンゾイル〕−ヘキサヒドロ−1,3,5−トリアジンが得ら
れる。

実施例6:N,N−ビス（ｐ−シアノベンジル）ヒドロキシ
ルアミン 乾燥N,N−ジメチルホルムアミド（DMF）50ml中に、α−
ブロモ−ｐ−シアノトルエン10.0g、ヒドロキシルアミ
ン塩酸塩1.77g及び無水炭酸ナトリウム10.6gを加えてな
る混合物を室温にて一夜放置する。次いで減圧下でDMF
溶媒を除去し、残渣をメチレンクロライド及び水の間で
分離する。有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、次いで真空蒸発により得られた固体残渣をエタ
ノールで粉状にして、標記化合物を白色固体として得
る。融点172〜175℃。

元素分析値（C₁₆H₁₃N₃O）： 理論値:C,72.7:H,5.0:N,15.9. 実測値:C,72.3;H,4.8;N,15.8. 実施例7:260℃におけるポリプロピレンの加工安定性 基材は未安定化ポリプロピレン〔Profax 6501,ハーキ
ュルス社（Hercules）〕100部とステアリン酸カルシウ
ム0.10部からなる。試験安定剤をポリプロピレンにメチ
レンクロライド溶液から溶剤配合する。減圧下で溶媒を
留去した後、安定化された樹脂配合物を下記の押出し条
件で直径2.54cmの押出し機から100rpmで押出す。

押出し位置 温度（℃） シリンダー＃１ 232 シリンダー＃２ 246 シリンダー＃３ 260 ゲート＃１ 260 ゲート＃２ 260 ゲート＃３ 260 １回目、３回目及び５回目の押出しの後、樹脂ペレット
を3.2mmの厚さのプラックに193℃で圧縮成形し、ASTM D
1925に従って試料の黄色度指数（YI）を測定する。低
い黄色度指数は黄変の度合いが少ないことを意味する。
結果を第Ｉ表に示す。

第１表のデータから、本実施例１の化合物はフェノール
系抗酸化剤を含むポリプロピレン組成物の色調改良剤と
して有意に効果的であることが判る。

実施例８ 実施例６の安定剤を用い、実施例７の操作に正確に従っ
て、ポリプロピレンの加工安定性を調べた第II表のデー
タから、フェノール系抗酸化剤を含むポリプロピレン組
成物中のシアノ基置換ベンジルヒドロキシルアミンの存
在は、フェノール系抗酸化剤の存在と連携して実質的に
着色を殆んど防止することが明らかである。

実施例９ 本発明化合物は、ポリプロピレン又はポリエチレンのよ
うなポリオレフィンの加工中に出くわす高温度に保たれ
ても、揮発による損失に対する耐損失性を示す。

80％圧の窒素ガス流（100ml/分）下で室温から500℃ま
で10℃／分の走査モードによる熱重量分析の観察によれ
ば、下記表に示すように本発明化合物は相対的に非揮発
物であり、このようにポリオレフィン用の加工安定剤と
して使用された時、揮発損失に抵抗する。

実施例10:ポリプロピレン繊維のガス退色の阻止 基材組成は不飽和ポリプロピレン〔商品名:Profax 650
1/ハーキュレス（Hercules）社製〕100部及びステアリ
ン酸カルシウム0.10部からなる。種々の試験用安定剤を
ポリプロピレンに溶媒配合し、実施例８に記したように
押出し（１回押出し）、そしてペレット化する。

得られた安定化樹脂ペレットを260℃にて繊維へと紡
ぎ、60℃でガス退色（gas fading）にさらす前、及びさ
らした2,6及び24時間後に外観色評点を付する。低い数
値は、より黄変が少なく及びより少い着色であることを
示す。ガス退色操作はAATCCガスヒューム チャンバー
（Drum Model No.8727）中で、AATCC試験方法23（燃焼
ガス煙への耐変色性）の標準操作に従って行なった。そ
の結果を第III表に示す。

組成X:基材組成＋2,4−ジクロロ−６−第三オクチルア
ミノ−ｓ−トリアジン及び1,6−ビス〔2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジニルアミノ〕ヘキサメチレンの重縮合生
成物0.25重量％；ネオペンタンテトライル テトラキス
（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナ
メート）0.05重量％及びトリス（2,4−ジ−第三ブチル
フェニル）ホスフィット0.05重量％。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｋ 5/16 ＫＡＸ ＫＥＵ Ｃ０８Ｌ 101/00

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】次式I: 〔式中、 ｇは1,2または３を表わし、 E₁は炭素原子数１ないし36のアルキル基、炭素原子数５
   ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数７ないし９の
   アルアルキル基あるいは該アルアルキル基が炭素原子数
   １ないし36のアルキル基によりまたは−CON（E₄）
   （E₅）により置換された基を表わし、 E₄およびE₅は独立して水素原子、炭素原子数１ないし18
   のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル
   基、炭素原子数６ないし10のアリール基、炭素原子数７
   ないし９のアルアルキル基、あるいは該アリール基また
   は該アルアルキル基が炭素原子数１ないし36のアルキル
   基により置換された基を表わすか、あるいは E₄およびE₅はそれらが結合しているＮ−原子と一緒にな
   ってピロリジノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピペ
   ラジノ基、Ｎ−メチルピペラジノ基またはホモピペリジ
   ノ基を表わし、 ｇが１を表わすとき、E₂およびE₃は独立して水素原子、
   炭素原子数１ないし18のアルキル基、炭素原子数５ない
   し７のシクロアルキル基、炭素原子数６ないし10のアリ
   ール基、炭素原子数７ないし９のアルアルキル基、ある
   いは該アリール基または該アルアルキル基が炭素原子数
   １ないし36のアルキル基により置換された基を表わす
   か、あるいはE₂およびE₃はそれらが結合しているＮ−原
   子と一緒になってピロリジノ基、ピペリジノ基、モルホ
   リノ基、ピペラジノ基、Ｎ−メチルピペラジノ基または
   ホモピペリジノ基を表わし、 ｇが２を表わすとき、E₂は上記で定義した意味を表わ
   し、そしてE₃は炭素原子数２ないし12のアルキレン基ま
   たは炭素原子数６ないし10のアリーレン基を表わすか、
   あるいはE₂およびE₃はそれらが結合しているＮ−原子と
   一緒になってピペラジノ基を表わし、そして ｇが３を表わすとき、E₂およびE₃はそれらが結合してい
   るＮ−原子と一緒になってヘキサヒドロ−1,3,5−トリ
   アジニル基を表わす。〕 で表わされる化合物。
2. 【請求項２】上記式Ｉ中、E₁が炭素原子数１ないし18の
   アルキル基を表わす特許請求の範囲第１項記載の化合
   物。
3. 【請求項３】上記式Ｉ中、E₁がベンジル基または−CON
   （E₄）（E₅）により置換されたベンジル基を表わし、こ
   こでE₄およびE₅は特許請求の範囲第１項で定義した意味
   を表わす特許請求の範囲第１項記載の化合物。
4. 【請求項４】上記式Ｉ中、E₁がベンジル基または−CON
   （E₄）（E₅）により置換されたベンジル基を表わし、E₄
   およびE₅が独立して水素原子または炭素原子数１ないし
   18のアルキル基を表わし、ｇが１を表わすとき、E₂およ
   びE₃が独立して水素原子または炭素原子数１ないし18の
   アルキル基を表わし、ｇが２を表わすとき、E₂およびE₃
   がそれらが結合しているＮ−原子と一緒になってピペラ
   ジノ基を表わし、ｇが３を表わすとき、E₂およびE₃がそ
   れらが結合しているＮ−原子と一緒になってヘキサヒド
   ロ−1,3,5−トリアジニル基を表わす特許請求の範囲第
   １項記載の化合物。
5. 【請求項５】酸化、熱および／または化学線により劣化
   を被り易い有機材料に、少なくとも一種の次式I: 〔式中、 ｇは1,2または３を表わし、 E₁は炭素原子数１ないし36のアルキル基、炭素原子数５
   ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数７ないし９の
   アルアルキル基あるいは該アルアルキル基が炭素原子数
   １ないし36のアルキル基によりまたは−CON（E₄）
   （E₅）により置換された基を表わし、 E₄およびE₅は独立して水素原子、炭素原子数１ないし18
   のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル
   基、炭素原子数６ないし10のアリール基、炭素原子数７
   ないし９のアルアルキル基、あるいは該アリール基また
   は該アルアルキル基が炭素原子数１ないし36のアルキル
   基により置換された基を表わすか、あるいは E₄およびE₅はそれらが結合しているＮ−原子と一緒にな
   ってピロリジノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピペ
   ラジノ基、Ｎ−メチルピペラジノ基またはホモピペリジ
   ノ基を表わし、 ｇが１を表わすとき、E₂およびE₃は独立して水素原子、
   炭素原子数１ないし18のアルキル基、炭素原子数５ない
   し７のシクロアルキル基、炭素原子数６ないし10のアリ
   ール基、炭素原子数７ないし９のアルアルキル基、ある
   いは該アリール基または該アルアルキル基が炭素原子数
   １ないし36のアルキル基により置換された基を表わす
   か、あるいはE₂およびE₃はそれらが結合しているＮ−原
   子と一緒になってピロリジノ基、ピペリジノ基、モルホ
   リノ基、ピペラジノ基、Ｎ−メチルピペラジノ基または
   ホモピペリジノ基を表わし、 ｇが２を表わすとき、E₂は上記で定義した意味を表わ
   し、そしてE₃は炭素原子数２ないし12のアルキレン基ま
   たは炭素原子数６ないし10のアリーレン基を表わすか、
   あるいはE₂およびE₃はそれらが結合しているＮ−原子と
   一緒になってピペラジノ基を表わし、そして ｇが３を表わすとき、E₂およびE₃はそれらが結合してい
   るＮ−原子と一緒になってヘキサヒドロ−1,3,5−トリ
   アジニル基を表わす。〕で表わされる化合物の安定化有
   効量で安定化してなる組成物。
6. 【請求項６】有機材料が合成ポリマーである特許請求の
   範囲第５項記載の組成物。
7. 【請求項７】有機材料がポリオレフィンである特許請求
   の範囲第５項記載の組成物。
8. 【請求項８】有機材料に、次式I: 〔式中、 ｇは1,2または３を表わし、 E₁は炭素原子数１ないし36のアルキル基、炭素原子数５
   ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数７ないし９の
   アルアルキル基あるいは該アルアルキル基が炭素原子数
   １ないし36のアルキル基によりまたは−CON（E₄）
   （E₅）により置換された基を表わし、 E₄およびE₅は独立して水素原子、炭素原子数１ないし18
   のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル
   基、炭素原子数６ないし10のアリール基、炭素原子数７
   ないし９のアルアルキル基、あるいは該アリール基また
   は該アルアルキル基が炭素原子数１ないし36のアルキル
   基により置換された基を表わすか、あるいは E₄およびE₅はそれらが結合しているＮ−原子と一緒にな
   ってピロリジノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピペ
   ラジノ基、Ｎ−メチルピペラジノ基またはホモピペリジ
   ノ基を表わし、 ｇが１を表わすとき、E₂およびE₃は独立して水素原子、
   炭素原子数１ないし18のアルキル基、炭素原子数５ない
   し７のシクロアルキル基、炭素原子数６ないし10のアリ
   ール基、炭素原子数７ないし９のアルアルキル基、ある
   いは該アリール基または該アルアルキル基が炭素原子数
   １ないし36のアルキル基により置換された基を表わす
   か、あるいはE₂およびE₃はそれらが結合しているＮ−原
   子と一緒になってピロリジノ基、ピペリジノ基、モルホ
   リノ基、ピペラジノ基、Ｎ−メチルピペラジノ基または
   ホモピペリジノ基を表わし、 ｇが２を表わすとき、E₂は上記で定義した意味を表わ
   し、そしてE₃は炭素原子数２ないし12のアルキレン基ま
   たは炭素原子数６ないし10のアリーレン基を表わすか、
   あるいはE₂およびE₃はそれらが結合しているＮ−原子と
   一緒になってピペラジノ基を表わし、そして ｇが３を表わすとき、E₂およびE₃はそれらが結合してい
   るＮ−原子と一緒になってヘキサヒドロ−1,3,5−トリ
   アジニル基を表わす。〕 で表わされる化合物の安定化有効量を混入することから
   なる、酸化、熱および／または化学線による劣化に対す
   る有機材料の安定化方法。