JP2533342B2 - 置換された１，３，４―オキサチアゾ―ル―２―オン安定剤 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、置換された1,3,4−オキサチアゾール−２
−オン、および該化合物よりなる酸化、熱および化学線
崩壊を受け易い有機材料のための安定剤に関する。

プラスチック及び樹脂のような有機重合物質は熱的、
酸化及び光分解を受けやすい。非常に多様な安定剤がさ
まざまな基材を安定させるために当業者に公知である。
それらの有効性は分解の原因及び安定させるべき基材に
より変化する。一般に、用途のいかなる一範囲に対して
も最も有効で、かつ最も経済的である安定剤を予想する
ことは困難である。例えば、揮発性を減少させる安定剤
有効性は、基剤分子中の結合切断を妨げることに依存す
る。ポリマー及びゴム中の脆化を限定し及び弾性を保持
することは、過度の架橋及び／もしくは鎖切断の防止を
要求する。変色防止は、基材もしくは安定剤中の新しい
発色団もしくは着色体を生じる反応を抑制することを要
求する。加工安定性及び不相溶性の問題点もまた考慮し
なければならない。

本発明者は今、本発明の（ヒドロキシフェニル）−1,
3,4−オキサチアゾール−２−オン誘導体が安定剤とし
て特に有効でかつ有用なものとする種々の所望の特性を
示すことを見い出した。該化合物は、弾性の保留および
架橋、ひび割れ、変色、臭気生成および滲出の抑制が基
礎的な要求条件である、ポリオレフィン、耐衝撃性ポリ
スチレン、ゴム例えばポリブタジエンおよびスチレン−
ブタジエンゴム、および他のエラストマーを保護するの
に優れた活性を示す。

式 で表わされる化合物は文献において種々の文脈内に記載
されている。これらは、アセチレンジカルボキシレート
との反応、合成樹脂の製造における中間体として、殺菌
剤として、メチルメタクリレートとスチレンの共重合体
において、種々の機構論研究および熱分析研究において
含まれる。Ｒ基は低級アルキル基、低級アルケニル基、
シクロヘキシル基、シクロアルキル基、エトキシカルボ
ニル基、フリル基、ナフチル基、フェニル基、フェノキ
シ基、および１またはそれ以上の低級アルキル基、ハロ
ゲン原子、トリフルオロアルキル基、ニトロ基、シアノ
基、メトキシ基またはビニル基で置換されたフェニル基
を含むものであった。主な文献には、Howe et al,J.Or
g.Chem.,43,3736−745（1978）;Muhlbauer et al,Briti
sh 1,079,348;Paton et al,Phosphorus and Sulfur,15,
137−42（1983）；およびBeck et al,Chem.Ber.,113,17
90−８（1980）が含まれる。フェノール置換体およびポ
リマー安定化活性については提案されていない。

本発明の第１の目的は広範囲の改良安定化性能特性を
示すある種の1,3,4−オキサチアゾール−２−オン誘導
体を提供することにある。

本発明の種々の目的および利点は、以下の記載より明
白となるであろう。

本発明の化合物は、次式 〔式中、 R₁およびR₂は独立して炭素原子数１ないし18のアルキル
基を表わし、Ｘは直接結合を表わし、そして ｎは０、１または２を表わす。〕に相当するものであ
る。

上記構造を有する化合物のうち、より好ましいもの
は、式中、R₁はフェニル環においてヒドロキシル基に対
しオルト位にあるものである。

また、より好ましい化合物は、式中、R₂もまたフェニ
ル環においてヒドロキシル基に対しオルト位にあるもの
である。

炭素原子数１ないし18のアルキル基のR₁およびR₂は、
例えば、メチル基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、第三
ブチル基、第三ペンチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ
−オクチル基、第三オクチル基、デシル基、ドデシル基
およびオクタデシル基を表わす。

R₁およびR₂は、より好ましくは独立して炭素原子数４
ないし８の第三アルキル基、とりわけ好ましくは第三ブ
チル基、第三ペンチル基および第三オクチル基を表わ
す。

特に好ましいものは、R₂が第三アルキル基を表わす場
合に、R₂がフェニル環においてヒドロキシル基に対しオ
ルト位にあるものである。

当該化合物は、適当に置換されたヒドロキシフェニル
ベンズアミド、アセトアミドまたはプロピオンアミドを
クロロカルボニル スルフェニルクロリドと溶媒中で、
所望の生成物を得るように反応させることによって製造
することができる。溶媒は芳香族炭化水素例えばベンゼ
ン、トルエン、キシレン、および同種のもの、または複
素環式エーテル例えばテトラヒドロフランであってよ
い。反応温度は25ないし100℃の範囲にある。硫黄結合
誘導体を製造するためには、反応体は、その後に所定の
溶媒中で所定の反応温度で反応される。適当に置換され
た硫黄含有アミドを含む。出発物質は、商品であるか、
または公知の方法により製造できる。

本発明の化合物は、プラスチック、ポリマー及び樹脂
のように酸化、熱及び／または化学線分解を受け易い有
機材料を安定化するのに特に効果的である。

上記化合物が特に有用である基材は、例えばポリエチ
レン及びポリプロピレンのようなポリオレフィン、耐衝
撃性ポリスチレンを包含するポリスチレン、ABS樹脂、S
BR、イソプレン並びに天然ゴム、コポリマーを含むポリ
エチレンテレフタレート及びポリブチレンテレフタレー
トを含むポリエステル、並びに鉱物油から誘導されるよ
うな潤滑油である。

安定化されうるポリマーは一般に下記のものである。

1. モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例え
ばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−
１、ポリメチルペンテン−１、ポリイソプレンまたはポ
リブタジエン並びにシクロオレフィン例えばシクロペン
タンもしくはノボルネンのポリマー、ポリエチレン（所
望により架橋重合できる）、例えば高密度ポリエチレン
（HDPE）、低密度ポリエチレン（LDPE）並びに線状低密
度ポリエチレン（LLDPE）。

2. １）で述べたポリマーの混合物、例えば、ポリプロ
ピレンとポリイソブチレン、ポリプロピレンとポリエチ
レンとの混合物（例えばPP/HDPE、PP/LDPE）並びにポリ
エチレンの異なった種類の混合物（例えばLDPE/HDP
E）。

3. モノオレイン及びジオレフィン自体もしくは該オレ
フィンと他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエ
チレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレ
ン（LLDPE）並びに低密度ポリエチレン（LDPE）とその
混合物、プロピレン／ブチン−１コポリマー、エチレン
／ヘキサンコポリマー、エチレン／エチルペンテンコポ
リマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オ
クテンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマ
ー、エチレン／ブテン−１コポリマー、プロピレン／ブ
タジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリ
マー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エ
チレン／アルキルメタアクリレートコポリマー、エチレ
ン／酢酸ビニルコポリマーもしくはエチレン／アクリル
酸コポリマー並びにそれらの塩（イオノマー）及びエチ
レンとプロピレンとヘキサジエン、ジシクロペンタジエ
ンもしくはエチリデン−ノルボルネンのようなジエンと
のターポリマー；並びに１）で述べたポリマーとのそれ
らの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピ
レン−コポリマー、LDPE/EVA、LDPE/EAA、LLDPE/EVA及
びLLDPE/EAA。

3a. 炭化水素樹脂（例えばC₅−C₉）及びそれらの水素
化変性物（例えば粘着剤）。

4. ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチレン）、ポ
リ−（α−メチルスチレン）。

5. スチレンもしくはα−メチルスチレンとジエンもし
くはアクリル誘導体のコポリマー例えばスチレン／ブタ
ジエンコポリマー、スチレン／アクリロニトリルコポリ
マー、スチレン／アルキルメタアクリレートコポリマ
ー、スチレン／マレイン酸無水物コポリマー、スチレン
／ブタジエン／エチルアクリレートコポリマー、スチレ
ン／アクリロニトリル／メチルアクリレートコポリマ
ー；スチレンコポリマー及び他のポリマー、例えばポリ
アクリレート、ジエンポリマーもしくはエチレン／ポリ
プロピレン／ジエンターポリマーからの高耐衝撃性強度
混合物；並びにスチレンのブロックコポリマー、例えば
スチレン／ブタジエン／スチレンブロックコポリマー、
スチレン／イソプレン／スチレンブロックコポリマー、
スチレン／エチレン／ブチレン／スチレンブロックコポ
リマーもしくはスチレン／エチレン／プロピレン／スチ
レンブロックコポリマー。

6. スチレンもしくはα−メチルスチレンのグラフトコ
ポリマー、例えばスチレンのポリブタジエンへのグラフ
トポリマー、スチレンのポリブタジエン−スチレンもし
くはポリブタジエン−アクリロニトリルへのグラフトコ
ポリマー；スチレンとアクリロニトリル（もしくはメタ
アクリロニトリル）のポリブタジエンへのグラフトコポ
リマー；スチレン及び無水マレイン酸もしくはマレイミ
ドのポリブタジエンへのグラフトコポリマー；スチレ
ン、アクリロニトリル及び無水マレイン酸もしくはマレ
イミドのポリブタジエンへのグラフトコポリマー；スチ
レン、アクリロニトリル及びメチルメタアクリレートの
ポリブタジエンへのグラフトコポリマー、スチレン及び
アルキルアクリレートもしくはメタアクリレートのポリ
ブタジエンへのグラフトコポリマー、スチレン及びアク
リロニトリルのエチレン／プロピレン／ジエンターポリ
マーへのグラフトコポリマー、スチレン及びアクリロニ
トリルのポリアクリレートもしくはポリメタアクリレー
トへのグラフトコポリマー、スチレン及びアクリロニト
リルのアクリレート／ブタジエンコポリマーへのグラフ
トコポリマー、並びに５）に列挙したコポリマーとの混
合物、例えばABS−、MBS−、ASA−、もしくはAES−ポリ
マーとして公知のコポリマー混合物。

7. ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、
塩素化ゴム、塩素化もしくはスルホ塩素化ポリエチレ
ン、エピクロロヒドリンホモー及びコポリマー、ハロゲ
ン含有ビニル化合物からのポリマー、例えば、ポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ弗化ビニル、ポリ弗
化ビニリデン、並びにそれらのコポリマー、例えば塩化
ビニル／塩化ビニリデンコポリマー、塩化ビニル／ビニ
ルアセテートコポリマーもしくは塩化ビニリデン／ビニ
ルアセテートコポリマー。

8. α，β−不飽和酸及びその誘導体から誘導されたポ
リマー、例えばポリアクリレート及びポリメタクリレー
ト、ポリアクリルアミド及びポリアクリロニトリル。

9. ８）で列挙したモノマー自体もしくは他の不飽和モ
ノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタ
ジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアクリ
レートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアル
キルアクリレートコポリマーもしくはアクリロニトリル
／ハロゲン化ビニルコポリマーもしくはアクリロニトリ
ル／アルキルメタクリレート／ブタジエンターポリマ
ー。

10. 不飽和アルコール及びアミン、またはそれらのア
ミン誘導体もしくはそれらのアセタールから誘導された
ポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリビニルア
セテート、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾ
エート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラー
ル、ポリアリルフタレートもしくはポリアリル−メラミ
ン、並びに１）に述べたオレフィンとそれらのコポリマ
ー。

11. 環状エーテルのホモポリマー及びコポリマー、例
えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシドもしくはビス−グリシジル
エーテルとそれらのコポリマー。

12. ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン及び
コモノマーとしてエチレンオキシドを含する該ポリオキ
シメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレートもし
くはMBSで変性されたポリアセタール。

13. ポリフェニレンオキシド及びスルフィド、並びに
ポリスチレンもしくはポリアミドとポリフェニレンオキ
シドの混合物。

14. 一方の末端にヒドロキシル基及びもう一方に脂肪
族もしくは芳香族ポリイソシアネートを有するポリエー
テル、ポリエステルあるいはポリブタジエンから誘導さ
れるポリウレタン並びにその前駆物質（ポリイソシアネ
ート、ポリオールまたはプレポリマー）。

15. ジアミンとジカルボン酸とから、及び／またはア
ミノカルボン酸または相当するラクトンから誘導された
ポリアミド及びコポリアミド、例えばポリアミド４、ポ
リアミド６、ポリアミド6/6、6/10、6/9、6/12及び4/
6、ポリアミド11、ポリアミド12、ｍ−キシレン、ジア
ミン及びアジピン酸の縮合により得られた芳香族ポリア
ミド；ヘキサメチレンジアミン及びイソフタル酸もしく
は／及びテレフタル酸から製造されたポリアミド並びに
所望により、例えばポリ−2,4,4−トリメチルヘキサメ
チレンテレフタルアミドもしくはポリ−ｍ−フェニレン
イソフタルアミド、のような変性剤としてのエラストマ
ー。更にポリオレフィン、オレフィンコポリマー、イオ
ノマーまたは化学的に結合されたもしくはグラフトされ
たエラストマーと、あるいは例えばポリエチレングリコ
ール、ポリプロピレングリコールもしくはポリテトラメ
チレングリコールのようなポリエーテルと前述したポリ
アミドとのコポリマー。EPDMもしくはABSで変性された
ポリアミドもしくはコポリアミド。加工工程で縮合され
たポリアミド（RIM−ポリアミド系）。

16. ポリ尿素、ポリイミド及びポリアミド−イミド。

17. ジカルボン酸とジアルコールとから、及び／また
はヒドロキシカルボン酸または相当するラクトンから誘
導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレ
ート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−1,4−ジメ
チロール−シクロヘキサンテレフタレート、ポリ−〔2,
2−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン〕テレフタ
レート及びポリヒドロキシベンゾエート、並びに末端に
ヒドロキシ基を有するポリエーテルから誘導されたブロ
ック−コポリエーテル−エステル。

18. ポリカーボネート及びポリエステル−カーボネー
ト。

19. ポリスルホン、ポリエーテルスルホン及びポリエ
ーテルケトン。

20. 一方の成分としてアルデヒド及び他方の成分とし
てフェノール、尿素及びメラミンから誘導された架橋ポ
リマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿
素／ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン／ホルムアルデ
ヒド樹脂。

21. 乾燥及び未乾燥アルキド樹脂。

22. 飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコール及
び架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステルから
誘導された不飽和ポリエステル樹脂並びにそれらの燃焼
性の低いハロゲン含有変性物。

23. 置換アクリルエステルから誘導された熱硬化性ア
クリル樹脂、例えばエポキシ−アクリレート、ウレタン
−アクリレートもしくはポリエステル−アクリレート。

24. 架橋剤としてメラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソ
シアネートもしくはエポキシド樹脂と混合したアルキド
樹脂、ポリエステル樹脂もしくはアクリレート樹脂。

25. ポリエポキシド、例えばビス−グリシジルエーテ
ルもしくは脂環式ジエポキシドから誘導される架橋エポ
キシド樹脂。

26. 天然ポリマー、例えばセルロース、天然ゴム、ゼ
ラチン並びに重合同族方法で化学的に変性されたそれら
の誘導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロ
ース及び酪酸セルロース、もしくはセルロースエーテ
ル、例えばメチルセルロース；ロジン及びそれらの誘導
体。

27. 上記に記述したポリマーの混合物、例えばPP/EPD
M、ポリアミド6/EPDMもしくはABS、PVC/EVA、PVC/ABS、
PVC/MBS、PC/ABS、PBTP/ABS、PC/ASA、PC/PBT、PVC/CP
E、PVC/アクリレート、POM/熱可塑性PUR、PC/熱可塑性P
UR、POM/アクリレート、POM/MBS、PPE/HIPS、PPE/PA6.6
及びコポリマー、PA/HDPE、PA/PP、PA/PPE。

28. 精製モノマー化合物もしくはそのような化合物の
混合物である天然生成物及び合成有機物質、例えば鉱
油、動物及び植物脂肪、油並びにワックス、あるいは合
成エステル（例えばテレフタレート、アジペート、ホス
フェートもしくはトリメリテート）に基づいた油、脂肪
及びワックス並びにまたポリマーに対して可塑剤もしく
は紡織紡糸油並びにそのような物質の水性乳濁液として
用いてもよい物質である、あらゆる重量比における鉱油
と合成エステルの混合物。

29. 天然もしくは合成ゴムの水性乳濁液、例えば天然
ラテックスもしくはカルボキシル化スチレン／ブタジエ
ンコポリマーのラテックス。

一般に、本発明の化合物は、安定化組成物の約0.01か
ら５重量％で使用されるが、これは特定の基材及び用途
で変化する。有利な範囲は約0.5ないし２重量％で、特
に0.1ないし１重量％である。

本発明の安定剤は、慣用の技術により成形体製造前に
いかなる段階でも容易に有機材料に混入することができ
る。例えば、安定剤を乾燥粉末の形で有機ポリマーと混
合してもよく、あるいは、安定剤の懸濁液もしくは乳濁
液を、有機ポリマーの溶液、懸濁液あるいは乳濁液と混
合してもよい。その結果得られる本発明の安定化ポリマ
ー組成物は、以下に示すような種々の慣用の添加剤を含
有してもよい。

1.酸化防止剤 1.1. アルキル化モノフェノール 例えば、2,6−ジ−
第三ブチル−４−メチル−フェノール、２−第三−ブチ
ル−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−
４−エチル−フェノール、2,6−ジ−第三ブチル−４−
ｎ−ブチルフェノール、2,6−ジ−第三−ブチル−４−
イソブチルフェノール、2,6−ジシクロペンチル−４−
メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）
−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジオクタデシル−４
−メチルフェノール、2,4,6−トリシクロヘキシルフェ
ノール、2,6−ジ−第三−ブチル−４−メトキシメチル
フェノール、2,6−ジ−ノニル−４−メチルフェノー
ル。

1.2. アルキル化ヒドロキノン誘導体 例えば、2,6−
ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、2,5−ジ−
第三ブチルヒドロキノン、2,5−ジ−第三アミルヒドロ
キノン、2,6−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフ
ェノール。

1.3. ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル例えば、
2,2′−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノ
ール）、2,2′−チオビス（４−オクチルフェノー
ル）、4,4′−チオビス（６−第三ブチル−３−メチル
フェノール）、4,4′−チオビス（６−第三ブチル２−
メチルフェノール）。

1.4. アルキリデンビスフェノール 例えば、2,2′−
メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノー
ル）、2,2′−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エ
チルフェノール）、2,2′−メチレンビス〔４−メチル
−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール〕、2,
2′−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシル
フェノール）、2,2′−メチレンビス（６−ノニル−４
−メチルフェノール）、2,2′−メチレンビス（4,6−ジ
−第三ブチルフェノール）、2,2′−エチリデンビス
（4,6−ジ−第三ブチルフェノール）、2,2′−エチリデ
ンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノー
ル）、2,2′−メチレンビス〔６−（α−メチルベンジ
ル）−４−ノニルフェノール〕、2,2′−メチレンビス
〔６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェ
ノール〕、4,4′−メチレンビス（2,6−ジ−第三ブチル
フェノール）、4,4′−メチレンビス（６−第三ブチル
−２−メチルフェノール）、1,1−ビス（５−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、2,
6−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキ
シベンジル）−４−メチルフェノール、1,1,3−トリス
（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニ
ル）ブタン、1,1−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロ
キシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカ
プトブタン、エチレングリコールビス〔3,3−ビス
（３′−第三ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチ
レート〕、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５
−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス〔２−
（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチル
ベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル〕テ
レフタレート。

1.5. ベンジル化合物 例えば1,3,5−トリス（3,5−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−2,4,6−ト
リメチルベンゼン、ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル3,5−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトア
セテート、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−2,
6−ジメチルベンジル）ジチオールテレフタレート、1,
3,5−トリス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）イソシアヌレート、1,3,5−トリス（４−第三
ブチル−３−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル）イ
ソシアヌレート、ジオクタデシル3,5−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、モノエチル3,
5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネ
ートのカルシウム塩。

1.6. アシルアミノフェノール 例えば、４−ヒドロキ
シラウリル酸のアニリド、４−ヒドロキシステアリン酸
のアニリド、2,4−ビス（オクチルメルカプト）−６−
（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−
ｓ−トリアジン、オクチルＮ−（3,5−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）カルバメート。

1.7. 以下の様な一価または多価アルコールとβ−（3,
5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロ
ピオン酸とのエステル 例えば、メタノール、ジエチレ
ングリコール、オクタデカノール、トリエチレングリコ
ール、1,6−ヘキサジオール、ペンタエリトリトール、
ネオペンチルグリコール、トリス（ヒドロキシエチル）
イソシアヌレート、チオジエチレングリコール、N,N′
−ビス（ヒドロキシエチル）蓚酸ジアミド。

1.8. 以下のような一価または多価アルコールとβ−
（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニ
ル）−プロピオン酸とのエステル 例えば、メタノー
ル、ジエチレングリコール、オクタデカノール、トリエ
チレングリコール、1,6−ヘキサジオール、ペンタエリ
トリトール、ネオペンチルグリコール、トリス（ヒドロ
キシエチル）イソシアヌレート、チオジエチレングリコ
ール、N,N′−ビス（ヒドロキシエチル）蓚酸ジアミ
ド。

1.9. 以下のような一価または多価アルコールとβ−
（3,5−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオン酸のエステル 例えばメタノール、ジエチレ
ングリコール、オクタデカノール、トリエチレングリコ
ール、1,6−ヘキサジオール、ペンタエリトリトール、
ネオペンチルグリコール、トリス（ヒドロキシエチル）
イソシアヌレート、チオジエチレングリコール、N,N′
−ビス（ヒドロキシエチル）蓚酸ジアミド。

1.10. β−（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロピオン酸のアミド 例えば、N,N′−ビス
（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロ
ピオニル）ヘキサメチレン−ジアミン、N,N′−ビス
（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル−プ
ロピオニル）トリエチレン−ジアミン、N,N′−ビス
（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロ
ピオニル）ヒドラジン。

2.UV吸収剤及び光安定剤 2.1. ２−（２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリア
ゾール 例えば５′−メチル、３′,5′−ジ−第三ブチ
ル、５′−第三ブチル、５′−（1,1,3,3−テトラメチ
ルブチル）、５−クロロ−３′,5′−ジ−第三ブチル、
５−クロロ−３′−第三ブチル−５′−メチル、３′−
第二ブチル−５′−第三ブチル、４′−オクトキシ、
３′,5′−ジ−第三アミル及び３′,5′−ビス（α，α
−ジメチルベンジル）誘導体。

2.2 ２−ヒドロキシベンゾフェノン 例えば４−ヒド
ロキシ、４−メトキシ、４−オクトキシ、４−デシルオ
キシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、4,
2′,4′−トリヒドロキシ及び２′−ヒドロキシ−4,4′
−ジメトキシ誘導体。

2.3. 置換及び未置換安息香酸のエステル 例えば、４
−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチレ
ート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレ
ゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイル）−レ
ゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2,4−ジ−
第三ブチルフェニル3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンゾエート及びヘキサデシル3,5−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンゾエート。

2.4. アクリレート 例えば、エチルα−シアノ−β，
β−ジフェニルアクリレート、イソオクチルα−シアノ
−β，β−ジフェニルアクリレート、メチルα−カルボ
メトキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル
−ｐ−メトキシ−シンナメート、ブチルα−シアノ−β
−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチルα−カル
ボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート及びＮ−（β−
カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルイン
ドリン。

2.5. ニッケル化合物 例えば、ｎ−ブチルアミン、ト
リエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシルジエタ
ノールアミンのような付加配位子と、あるいは該配位子
を用いずに1:1もしくは1:2の鎖体になるような2,2′−
チオビス〔４−（1,1,3,3−テトラメチルベチル）フェ
ノール〕のニッケル錯体、ニッケルジブチルジチオカル
バメート、４−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三ブチルベン
ジルホスホン酸モノアルキルエステル、例えばメチルも
しくはエチルエステルのニッケル塩、ケトキシム例え
ば、２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウンデシル
ケトンオキシムのニッケル錯体、付加配位子ともしくは
該配位子を用いない１−フェニル−４−ラウロイル−５
−ヒドロキシビラゾールのニッケル錯体。

2.6. 立体障害性アミン 例えば、ビス−（2,2,6,6−
テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス−（1,2,2,
6,6−ペンタメチルピペリジル）セバケート、ビス（1,
2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル）ｎ−ブチル−3,5−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、
１−ヒドロキシエチル−2,2,6,6−テトラメチル−４−
ヒドロキシピペリジンとコハク酸の縮合生成物、N,N′
−ビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘ
キサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−2,6
−ジクロロ−1,3,5−ｓ−トリアジンの縮合生成物、ト
リス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）ニト
リロトリアセテート、テトラキス（2,2,6,6−テトラメ
チル−４−ピペリジル）−1,2,3,4−ブタンテトラカル
ボキシレート、1,1′−（1,2−エタンジイル）ビス（3,
3,5,5−テトラメチルピペラジノン）。

2.7. 蓚酸ジアミド 例えば4,4′−ジオクチルオキシ
オキサアニリド、2,2′−ジオクチルオキシ−5,5′−第
三ブチルオキサアニリド、2,2′−ジドデシルオキシ−
5,5′−ジ−第三ブチルオキサアニリド、２−エトキシ
−２′−エチルオキサアニリド、N,N′−ビス（３−ジ
メチルアミノプロピル）オキサルアミド、２−エトキシ
−５−第三ブチル−２′−エチルオキサアニリド及び２
−エトキシ−２′−エチル−5,4′−ジ−第三ブチルオ
キサアニリドとその混合物並びにオルトー及びパラーメ
トキシ−ジ置換オキサアニリドの混合物、ｏ−及びｐ−
エトキシ−ジ−置換オキサアニリドの混合物。

3. 金属奪活剤 例えば、N,N′−ジフェニル蓚酸ジア
ミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ′−サリシロイルヒドラジ
ン、N,N′−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、N,N′−
ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル
プロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−
1,2,4−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）蓚酸ジヒ
ドラジド。

4. ホスフィット及びホスホニット 例えば、トリフェ
ニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、
フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェ
ニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリ
オクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリト
リトールジホスフィット、トリス（2,4−ジ−第三ブチ
ルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリト
リトールジホスフィット、ビス（2,4−ジ−第三ブチル
フェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリ
ステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス
（2,4−ジ−第三ブチルフェニル）4,4′−ビフェニレン
ジホスホニット、3,9−ビス（2,4−ジ−第三ブチルフェ
ノキシ）−2,4,8,10−テトラオキサー3,9−ジホスファ
スピロ〔5.5〕ウンデカン。

5. 過酸化物脱除剤 例えば、ラウリル、ステアリル、
ミリスチルもしくはトリデシルエステルのようなβ−チ
オジプロピオン酸のエステル、メルカプトベンズイミダ
ゾールまたは２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛
塩、ジブチルチオカルバメート亜鉛、ジオクタデシルジ
スルフイド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ド
デシルメルカプト）プロピオネート。

6. ポリアミド安定剤 例えば、ヨウ化物及び／もしく
はリン化合物と併せた銅塩並びに２価マグネシウム塩。

7. 塩基性補助安定剤 例えば、メラミン、ポリビニル
ピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレー
ト、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミ
ド、ポリウレタン、Caステアレート、Znステアレート、
Mgステアレート、Naリシノレエート及びＫパルミテート
のような高級脂肪酸のアルカリ金属塩並びにアルカリ土
類金属塩、アンチモンピロカテコレートもしくは亜鉛ピ
ロカテコレート。

8. 造核剤 例えば４−第三ブチル安息香酸、アジピン
酸またはジフェニル酢酸。

9. 充填剤及び補強剤 例えば、炭酸カルシウム、ケイ
酸塩、ガラス繊維、アスベスト、タルク、カオリン、曇
母、硫酸バリウム、金属酸化物もしくは水酸化物、カー
ボンブラック、グラファイト。

10. 他の添加剤 例えば、可塑剤、離型剤、乳化剤、
顔料、螢光増白剤、難燃剤、帯電防止剤および発泡剤。

次の実施例は本発明の好ましい実施態様を示す。

実施例 １ ５−〔２′−（４″−ヒドロキシ−３″,5″−ジ−第三
ブチルフェニル）エチル〕−1,3,4−オキサチアゾール
−２−オン トルエン150ml中の３−〔４′−ヒドロキシ−３′,
5′−ジ第三ブチルフェニル〕プロピオンアミド13.45g
の懸濁液を滴下して加えられるクロロカルボニル スル
フェニル クロリド20.22gと混合する。反応混合物を60
℃で20時間加熱した後、溶媒を減圧下で除去する。残留
物をヘプタンより再結晶して薄黄色の結晶固体として標
記化合物を得る。融点82−86℃。

分析 C₁₈H₂₅NO₃Sの計算値:C,64.4;H,7.5;N,4.2 実測値:C,64.4;H,7.2;N,4.2 実施例 ２ ５−〔４′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ第三ブチルフェ
ニル〕−1,3,4−オキサチアゾール−２−オン ４−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブチルベンズアミド3.0
3gおよびクロロカルボニルスルフェニル クロリド3.18
gを使用して実施例１の手順を繰り返す。トルエン：ヘ
プタン（1:1）からの再結晶により白色結晶固体として
標記化合物が与えられる。融点155−157℃。

分析 C₁₆H₂₁NO₃Sの計測値:C,62.5;H,6.9;N,4.6 実測値:C,62.9;H,7.0;N,4.7 実施例 ３ 所定の安定剤を含む粉砕ポリプロピレン試料の酸化安
定性（実施例４の手順参照）を0.635mm厚のプラークに
ついて強制通風炉中にて空気暴露することで測定する。
プラークは分解（例えばひび割れまたは褐色エッジ）の
最初の兆候を示したとき破損したと考えた。

従ってこれらデータは本発明化合物の優れた抗酸化活
性を示す。

実施例 ４ この実施例は本発明安定剤の光安定化有効性を示す。

未安定化ポリプロピレン粉末（Hercules Profax 650
1）を所定量の添加剤と完全に混合する。次いで混合さ
れた材料を二本ロールミルで182℃にて５分間混練し、
その後ロール機より安定化ポリプロピレンをシート分出
しそして冷却する。その後分出しポリプロピレンをピー
スに切断し油圧プレスで220℃、1.2×10⁶Paにて圧縮し
て0.127mmフィルムに成形する。試料を螢光直射日光／
暗光チャンバ中で破損するまで暴露する。破損は、暴露
フィルムについて赤外分光計により0.5カルボニル吸光
度に達するのに要する時間としてとられる。

本発明化合物はポリマー基材のための有効な光安定剤
である。

以上要約すると、本発明は有効な安定化活性を示す新
規化合物を提供することがわかる。上記の特許請求の範
囲によって定義されるような発明の範囲から離れること
なく、割合、操作及び材料に関して種々の変法を行って
もよい。

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】次式 〔式中、 R₁およびR₂は独立して炭素原子数１ないし18のアルキル
   基を表わし、Ｘは直接結合を表わし、そして ｎは０、１または２を表わす。〕で表わされる化合物。
2. 【請求項２】式中、R₁はフェニル環においてヒドロキシ
   ル基に対しオルト位にある特許請求の範囲第１項記載の
   化合物。
3. 【請求項３】式中、R₂もまたフェニル環においてヒドロ
   キシル基に対しオルト位にある特許請求の範囲第１項記
   載の化合物。
4. 【請求項４】式中、R₁およびR₂は独立して炭素原子数４
   ないし８の第三アルキル基を表わす特許請求の範囲第１
   項記載の化合物。
5. 【請求項５】次式 〔式中、 R₁およびR₂は独立して炭素原子数１ないし18のアルキル
   基を表わし、Ｘは直接結合を表わし、そして ｎは０、１または２を表わす。〕で表わされる化合物よ
   りなる、酸化、熱および化学線崩壊を受け易い有機材料
   のための安定剤。
6. 【請求項６】有機材料は合成ポリマーである特許請求の
   範囲第５項記載の安定剤。
7. 【請求項７】前記ポリマーは耐衝撃ポリスチレン、アク
   リロニトリル／ブタジエン／スチレン、スチレン／ブタ
   ジエンゴム、ポリエステルおよびポリ−α−オレフィン
   からなる群より選択される特許請求の範囲第５項記載の
   安定剤。