JP2533342B2 - 置換された１，３，４―オキサチアゾ―ル―２―オン安定剤 - Google Patents

置換された１，３，４―オキサチアゾ―ル―２―オン安定剤

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JP2533342B2
JP2533342B2 JP62313108A JP31310887A JP2533342B2 JP 2533342 B2 JP2533342 B2 JP 2533342B2 JP 62313108 A JP62313108 A JP 62313108A JP 31310887 A JP31310887 A JP 31310887A JP 2533342 B2 JP2533342 B2 JP 2533342B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、置換された1,3,4−オキサチアゾール−２
−オン、および該化合物よりなる酸化、熱および化学線
崩壊を受け易い有機材料のための安定剤に関する。
プラスチック及び樹脂のような有機重合物質は熱的、
酸化及び光分解を受けやすい。非常に多様な安定剤がさ
まざまな基材を安定させるために当業者に公知である。
それらの有効性は分解の原因及び安定させるべき基材に
より変化する。一般に、用途のいかなる一範囲に対して
も最も有効で、かつ最も経済的である安定剤を予想する
ことは困難である。例えば、揮発性を減少させる安定剤
有効性は、基剤分子中の結合切断を妨げることに依存す
る。ポリマー及びゴム中の脆化を限定し及び弾性を保持
することは、過度の架橋及び／もしくは鎖切断の防止を
要求する。変色防止は、基材もしくは安定剤中の新しい
発色団もしくは着色体を生じる反応を抑制することを要
求する。加工安定性及び不相溶性の問題点もまた考慮し
なければならない。
本発明者は今、本発明の（ヒドロキシフェニル）−1,
3,4−オキサチアゾール−２−オン誘導体が安定剤とし
て特に有効でかつ有用なものとする種々の所望の特性を
示すことを見い出した。該化合物は、弾性の保留および
架橋、ひび割れ、変色、臭気生成および滲出の抑制が基
礎的な要求条件である、ポリオレフィン、耐衝撃性ポリ
スチレン、ゴム例えばポリブタジエンおよびスチレン−
ブタジエンゴム、および他のエラストマーを保護するの
に優れた活性を示す。
式 で表わされる化合物は文献において種々の文脈内に記載
されている。これらは、アセチレンジカルボキシレート
との反応、合成樹脂の製造における中間体として、殺菌
剤として、メチルメタクリレートとスチレンの共重合体
において、種々の機構論研究および熱分析研究において
含まれる。Ｒ基は低級アルキル基、低級アルケニル基、
シクロヘキシル基、シクロアルキル基、エトキシカルボ
ニル基、フリル基、ナフチル基、フェニル基、フェノキ
シ基、および１またはそれ以上の低級アルキル基、ハロ
ゲン原子、トリフルオロアルキル基、ニトロ基、シアノ
基、メトキシ基またはビニル基で置換されたフェニル基
を含むものであった。主な文献には、Howe et al,J.Or
g.Chem.,43,3736−745（1978）;Muhlbauer et al,Briti
sh 1,079,348;Paton et al,Phosphorus and Sulfur,15,
137−42（1983）；およびBeck et al,Chem.Ber.,113,17
90−８（1980）が含まれる。フェノール置換体およびポ
リマー安定化活性については提案されていない。
本発明の第１の目的は広範囲の改良安定化性能特性を
示すある種の1,3,4−オキサチアゾール−２−オン誘導
体を提供することにある。
本発明の種々の目的および利点は、以下の記載より明
白となるであろう。
本発明の化合物は、次式 〔式中、 R1およびR2は独立して炭素原子数１ないし18のアルキル
基を表わし、Ｘは直接結合を表わし、そして ｎは０、１または２を表わす。〕に相当するものであ
る。
上記構造を有する化合物のうち、より好ましいもの
は、式中、R1はフェニル環においてヒドロキシル基に対
しオルト位にあるものである。
また、より好ましい化合物は、式中、R2もまたフェニ
ル環においてヒドロキシル基に対しオルト位にあるもの
である。
炭素原子数１ないし18のアルキル基のR1およびR2は、
例えば、メチル基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、第三
ブチル基、第三ペンチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ
−オクチル基、第三オクチル基、デシル基、ドデシル基
およびオクタデシル基を表わす。
R1およびR2は、より好ましくは独立して炭素原子数４
ないし８の第三アルキル基、とりわけ好ましくは第三ブ
チル基、第三ペンチル基および第三オクチル基を表わ
す。
特に好ましいものは、R2が第三アルキル基を表わす場
合に、R2がフェニル環においてヒドロキシル基に対しオ
ルト位にあるものである。
当該化合物は、適当に置換されたヒドロキシフェニル
ベンズアミド、アセトアミドまたはプロピオンアミドを
クロロカルボニル スルフェニルクロリドと溶媒中で、
所望の生成物を得るように反応させることによって製造
することができる。溶媒は芳香族炭化水素例えばベンゼ
ン、トルエン、キシレン、および同種のもの、または複
素環式エーテル例えばテトラヒドロフランであってよ
い。反応温度は25ないし100℃の範囲にある。硫黄結合
誘導体を製造するためには、反応体は、その後に所定の
溶媒中で所定の反応温度で反応される。適当に置換され
た硫黄含有アミドを含む。出発物質は、商品であるか、
または公知の方法により製造できる。
本発明の化合物は、プラスチック、ポリマー及び樹脂
のように酸化、熱及び／または化学線分解を受け易い有
機材料を安定化するのに特に効果的である。
上記化合物が特に有用である基材は、例えばポリエチ
レン及びポリプロピレンのようなポリオレフィン、耐衝
撃性ポリスチレンを包含するポリスチレン、ABS樹脂、S
BR、イソプレン並びに天然ゴム、コポリマーを含むポリ
エチレンテレフタレート及びポリブチレンテレフタレー
トを含むポリエステル、並びに鉱物油から誘導されるよ
うな潤滑油である。
安定化されうるポリマーは一般に下記のものである。
1. モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例え
ばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−
１、ポリメチルペンテン−１、ポリイソプレンまたはポ
リブタジエン並びにシクロオレフィン例えばシクロペン
タンもしくはノボルネンのポリマー、ポリエチレン（所
望により架橋重合できる）、例えば高密度ポリエチレン
（HDPE）、低密度ポリエチレン（LDPE）並びに線状低密
度ポリエチレン（LLDPE）。
2. １）で述べたポリマーの混合物、例えば、ポリプロ
ピレンとポリイソブチレン、ポリプロピレンとポリエチ
レンとの混合物（例えばPP/HDPE、PP/LDPE）並びにポリ
エチレンの異なった種類の混合物（例えばLDPE/HDP
E）。
3. モノオレイン及びジオレフィン自体もしくは該オレ
フィンと他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエ
チレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレ
ン（LLDPE）並びに低密度ポリエチレン（LDPE）とその
混合物、プロピレン／ブチン−１コポリマー、エチレン
／ヘキサンコポリマー、エチレン／エチルペンテンコポ
リマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オ
クテンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマ
ー、エチレン／ブテン−１コポリマー、プロピレン／ブ
タジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリ
マー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エ
チレン／アルキルメタアクリレートコポリマー、エチレ
ン／酢酸ビニルコポリマーもしくはエチレン／アクリル
酸コポリマー並びにそれらの塩（イオノマー）及びエチ
レンとプロピレンとヘキサジエン、ジシクロペンタジエ
ンもしくはエチリデン−ノルボルネンのようなジエンと
のターポリマー；並びに１）で述べたポリマーとのそれ
らの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピ
レン−コポリマー、LDPE/EVA、LDPE/EAA、LLDPE/EVA及
びLLDPE/EAA。
3a. 炭化水素樹脂（例えばC5−C9）及びそれらの水素
化変性物（例えば粘着剤）。
4. ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチレン）、ポ
リ−（α−メチルスチレン）。
5. スチレンもしくはα−メチルスチレンとジエンもし
くはアクリル誘導体のコポリマー例えばスチレン／ブタ
ジエンコポリマー、スチレン／アクリロニトリルコポリ
マー、スチレン／アルキルメタアクリレートコポリマ
ー、スチレン／マレイン酸無水物コポリマー、スチレン
／ブタジエン／エチルアクリレートコポリマー、スチレ
ン／アクリロニトリル／メチルアクリレートコポリマ
ー；スチレンコポリマー及び他のポリマー、例えばポリ
アクリレート、ジエンポリマーもしくはエチレン／ポリ
プロピレン／ジエンターポリマーからの高耐衝撃性強度
混合物；並びにスチレンのブロックコポリマー、例えば
スチレン／ブタジエン／スチレンブロックコポリマー、
スチレン／イソプレン／スチレンブロックコポリマー、
スチレン／エチレン／ブチレン／スチレンブロックコポ
リマーもしくはスチレン／エチレン／プロピレン／スチ
レンブロックコポリマー。
6. スチレンもしくはα−メチルスチレンのグラフトコ
ポリマー、例えばスチレンのポリブタジエンへのグラフ
トポリマー、スチレンのポリブタジエン−スチレンもし
くはポリブタジエン−アクリロニトリルへのグラフトコ
ポリマー；スチレンとアクリロニトリル（もしくはメタ
アクリロニトリル）のポリブタジエンへのグラフトコポ
リマー；スチレン及び無水マレイン酸もしくはマレイミ
ドのポリブタジエンへのグラフトコポリマー；スチレ
ン、アクリロニトリル及び無水マレイン酸もしくはマレ
イミドのポリブタジエンへのグラフトコポリマー；スチ
レン、アクリロニトリル及びメチルメタアクリレートの
ポリブタジエンへのグラフトコポリマー、スチレン及び
アルキルアクリレートもしくはメタアクリレートのポリ
ブタジエンへのグラフトコポリマー、スチレン及びアク
リロニトリルのエチレン／プロピレン／ジエンターポリ
マーへのグラフトコポリマー、スチレン及びアクリロニ
トリルのポリアクリレートもしくはポリメタアクリレー
トへのグラフトコポリマー、スチレン及びアクリロニト
リルのアクリレート／ブタジエンコポリマーへのグラフ
トコポリマー、並びに５）に列挙したコポリマーとの混
合物、例えばABS−、MBS−、ASA−、もしくはAES−ポリ
マーとして公知のコポリマー混合物。
7. ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、
塩素化ゴム、塩素化もしくはスルホ塩素化ポリエチレ
ン、エピクロロヒドリンホモー及びコポリマー、ハロゲ
ン含有ビニル化合物からのポリマー、例えば、ポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ弗化ビニル、ポリ弗
化ビニリデン、並びにそれらのコポリマー、例えば塩化
ビニル／塩化ビニリデンコポリマー、塩化ビニル／ビニ
ルアセテートコポリマーもしくは塩化ビニリデン／ビニ
ルアセテートコポリマー。
8. α，β−不飽和酸及びその誘導体から誘導されたポ
リマー、例えばポリアクリレート及びポリメタクリレー
ト、ポリアクリルアミド及びポリアクリロニトリル。
9. ８）で列挙したモノマー自体もしくは他の不飽和モ
ノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタ
ジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアクリ
レートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアル
キルアクリレートコポリマーもしくはアクリロニトリル
／ハロゲン化ビニルコポリマーもしくはアクリロニトリ
ル／アルキルメタクリレート／ブタジエンターポリマ
ー。
10. 不飽和アルコール及びアミン、またはそれらのア
ミン誘導体もしくはそれらのアセタールから誘導された
ポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリビニルア
セテート、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾ
エート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラー
ル、ポリアリルフタレートもしくはポリアリル−メラミ
ン、並びに１）に述べたオレフィンとそれらのコポリマ
ー。
11. 環状エーテルのホモポリマー及びコポリマー、例
えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシドもしくはビス−グリシジル
エーテルとそれらのコポリマー。
12. ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン及び
コモノマーとしてエチレンオキシドを含する該ポリオキ
シメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレートもし
くはMBSで変性されたポリアセタール。
13. ポリフェニレンオキシド及びスルフィド、並びに
ポリスチレンもしくはポリアミドとポリフェニレンオキ
シドの混合物。
14. 一方の末端にヒドロキシル基及びもう一方に脂肪
族もしくは芳香族ポリイソシアネートを有するポリエー
テル、ポリエステルあるいはポリブタジエンから誘導さ
れるポリウレタン並びにその前駆物質（ポリイソシアネ
ート、ポリオールまたはプレポリマー）。
15. ジアミンとジカルボン酸とから、及び／またはア
ミノカルボン酸または相当するラクトンから誘導された
ポリアミド及びコポリアミド、例えばポリアミド４、ポ
リアミド６、ポリアミド6/6、6/10、6/9、6/12及び4/
6、ポリアミド11、ポリアミド12、ｍ−キシレン、ジア
ミン及びアジピン酸の縮合により得られた芳香族ポリア
ミド；ヘキサメチレンジアミン及びイソフタル酸もしく
は／及びテレフタル酸から製造されたポリアミド並びに
所望により、例えばポリ−2,4,4−トリメチルヘキサメ
チレンテレフタルアミドもしくはポリ−ｍ−フェニレン
イソフタルアミド、のような変性剤としてのエラストマ
ー。更にポリオレフィン、オレフィンコポリマー、イオ
ノマーまたは化学的に結合されたもしくはグラフトされ
たエラストマーと、あるいは例えばポリエチレングリコ
ール、ポリプロピレングリコールもしくはポリテトラメ
チレングリコールのようなポリエーテルと前述したポリ
アミドとのコポリマー。EPDMもしくはABSで変性された
ポリアミドもしくはコポリアミド。加工工程で縮合され
たポリアミド（RIM−ポリアミド系）。
16. ポリ尿素、ポリイミド及びポリアミド−イミド。
17. ジカルボン酸とジアルコールとから、及び／また
はヒドロキシカルボン酸または相当するラクトンから誘
導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレ
ート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−1,4−ジメ
チロール−シクロヘキサンテレフタレート、ポリ−〔2,
2−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン〕テレフタ
レート及びポリヒドロキシベンゾエート、並びに末端に
ヒドロキシ基を有するポリエーテルから誘導されたブロ
ック−コポリエーテル−エステル。
18. ポリカーボネート及びポリエステル−カーボネー
ト。
19. ポリスルホン、ポリエーテルスルホン及びポリエ
ーテルケトン。
20. 一方の成分としてアルデヒド及び他方の成分とし
てフェノール、尿素及びメラミンから誘導された架橋ポ
リマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿
素／ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン／ホルムアルデ
ヒド樹脂。
21. 乾燥及び未乾燥アルキド樹脂。
22. 飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコール及
び架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステルから
誘導された不飽和ポリエステル樹脂並びにそれらの燃焼
性の低いハロゲン含有変性物。
23. 置換アクリルエステルから誘導された熱硬化性ア
クリル樹脂、例えばエポキシ−アクリレート、ウレタン
−アクリレートもしくはポリエステル−アクリレート。
24. 架橋剤としてメラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソ
シアネートもしくはエポキシド樹脂と混合したアルキド
樹脂、ポリエステル樹脂もしくはアクリレート樹脂。
25. ポリエポキシド、例えばビス−グリシジルエーテ
ルもしくは脂環式ジエポキシドから誘導される架橋エポ
キシド樹脂。
26. 天然ポリマー、例えばセルロース、天然ゴム、ゼ
ラチン並びに重合同族方法で化学的に変性されたそれら
の誘導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロ
ース及び酪酸セルロース、もしくはセルロースエーテ
ル、例えばメチルセルロース；ロジン及びそれらの誘導
体。
27. 上記に記述したポリマーの混合物、例えばPP/EPD
M、ポリアミド6/EPDMもしくはABS、PVC/EVA、PVC/ABS、
PVC/MBS、PC/ABS、PBTP/ABS、PC/ASA、PC/PBT、PVC/CP
E、PVC/アクリレート、POM/熱可塑性PUR、PC/熱可塑性P
UR、POM/アクリレート、POM/MBS、PPE/HIPS、PPE/PA6.6
及びコポリマー、PA/HDPE、PA/PP、PA/PPE。
28. 精製モノマー化合物もしくはそのような化合物の
混合物である天然生成物及び合成有機物質、例えば鉱
油、動物及び植物脂肪、油並びにワックス、あるいは合
成エステル（例えばテレフタレート、アジペート、ホス
フェートもしくはトリメリテート）に基づいた油、脂肪
及びワックス並びにまたポリマーに対して可塑剤もしく
は紡織紡糸油並びにそのような物質の水性乳濁液として
用いてもよい物質である、あらゆる重量比における鉱油
と合成エステルの混合物。
29. 天然もしくは合成ゴムの水性乳濁液、例えば天然
ラテックスもしくはカルボキシル化スチレン／ブタジエ
ンコポリマーのラテックス。
一般に、本発明の化合物は、安定化組成物の約0.01か
ら５重量％で使用されるが、これは特定の基材及び用途
で変化する。有利な範囲は約0.5ないし２重量％で、特
に0.1ないし１重量％である。
本発明の安定剤は、慣用の技術により成形体製造前に
いかなる段階でも容易に有機材料に混入することができ
る。例えば、安定剤を乾燥粉末の形で有機ポリマーと混
合してもよく、あるいは、安定剤の懸濁液もしくは乳濁
液を、有機ポリマーの溶液、懸濁液あるいは乳濁液と混
合してもよい。その結果得られる本発明の安定化ポリマ
ー組成物は、以下に示すような種々の慣用の添加剤を含
有してもよい。
1.酸化防止剤 1.1. アルキル化モノフェノール 例えば、2,6−ジ−
第三ブチル−４−メチル−フェノール、２−第三−ブチ
ル−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−
４−エチル−フェノール、2,6−ジ−第三ブチル−４−
ｎ−ブチルフェノール、2,6−ジ−第三−ブチル−４−
イソブチルフェノール、2,6−ジシクロペンチル−４−
メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）
−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジオクタデシル−４
−メチルフェノール、2,4,6−トリシクロヘキシルフェ
ノール、2,6−ジ−第三−ブチル−４−メトキシメチル
フェノール、2,6−ジ−ノニル−４−メチルフェノー
ル。
1.2. アルキル化ヒドロキノン誘導体 例えば、2,6−
ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、2,5−ジ−
第三ブチルヒドロキノン、2,5−ジ−第三アミルヒドロ
キノン、2,6−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフ
ェノール。
1.3. ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル例えば、
2,2′−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノ
ール）、2,2′−チオビス（４−オクチルフェノー
ル）、4,4′−チオビス（６−第三ブチル−３−メチル
フェノール）、4,4′−チオビス（６−第三ブチル２−
メチルフェノール）。
1.4. アルキリデンビスフェノール 例えば、2,2′−
メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノー
ル）、2,2′−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エ
チルフェノール）、2,2′−メチレンビス〔４−メチル
−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール〕、2,
2′−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシル
フェノール）、2,2′−メチレンビス（６−ノニル−４
−メチルフェノール）、2,2′−メチレンビス（4,6−ジ
−第三ブチルフェノール）、2,2′−エチリデンビス
（4,6−ジ−第三ブチルフェノール）、2,2′−エチリデ
ンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノー
ル）、2,2′−メチレンビス〔６−（α−メチルベンジ
ル）−４−ノニルフェノール〕、2,2′−メチレンビス
〔６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェ
ノール〕、4,4′−メチレンビス（2,6−ジ−第三ブチル
フェノール）、4,4′−メチレンビス（６−第三ブチル
−２−メチルフェノール）、1,1−ビス（５−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、2,
6−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキ
シベンジル）−４−メチルフェノール、1,1,3−トリス
（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニ
ル）ブタン、1,1−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロ
キシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカ
プトブタン、エチレングリコールビス〔3,3−ビス
（３′−第三ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチ
レート〕、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５
−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス〔２−
（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチル
ベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル〕テ
レフタレート。
1.5. ベンジル化合物 例えば1,3,5−トリス（3,5−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−2,4,6−ト
リメチルベンゼン、ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル3,5−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトア
セテート、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−2,
6−ジメチルベンジル）ジチオールテレフタレート、1,
3,5−トリス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）イソシアヌレート、1,3,5−トリス（４−第三
ブチル−３−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル）イ
ソシアヌレート、ジオクタデシル3,5−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、モノエチル3,
5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネ
ートのカルシウム塩。
1.6. アシルアミノフェノール 例えば、４−ヒドロキ
シラウリル酸のアニリド、４−ヒドロキシステアリン酸
のアニリド、2,4−ビス（オクチルメルカプト）−６−
（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−
ｓ−トリアジン、オクチルＮ−（3,5−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）カルバメート。
1.7. 以下の様な一価または多価アルコールとβ−（3,
5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロ
ピオン酸とのエステル 例えば、メタノール、ジエチレ
ングリコール、オクタデカノール、トリエチレングリコ
ール、1,6−ヘキサジオール、ペンタエリトリトール、
ネオペンチルグリコール、トリス（ヒドロキシエチル）
イソシアヌレート、チオジエチレングリコール、N,N′
−ビス（ヒドロキシエチル）蓚酸ジアミド。
1.8. 以下のような一価または多価アルコールとβ−
（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニ
ル）−プロピオン酸とのエステル 例えば、メタノー
ル、ジエチレングリコール、オクタデカノール、トリエ
チレングリコール、1,6−ヘキサジオール、ペンタエリ
トリトール、ネオペンチルグリコール、トリス（ヒドロ
キシエチル）イソシアヌレート、チオジエチレングリコ
ール、N,N′−ビス（ヒドロキシエチル）蓚酸ジアミ
ド。
1.9. 以下のような一価または多価アルコールとβ−
（3,5−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオン酸のエステル 例えばメタノール、ジエチレ
ングリコール、オクタデカノール、トリエチレングリコ
ール、1,6−ヘキサジオール、ペンタエリトリトール、
ネオペンチルグリコール、トリス（ヒドロキシエチル）
イソシアヌレート、チオジエチレングリコール、N,N′
−ビス（ヒドロキシエチル）蓚酸ジアミド。
1.10. β−（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロピオン酸のアミド 例えば、N,N′−ビス
（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロ
ピオニル）ヘキサメチレン−ジアミン、N,N′−ビス
（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル−プ
ロピオニル）トリエチレン−ジアミン、N,N′−ビス
（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロ
ピオニル）ヒドラジン。
2.UV吸収剤及び光安定剤 2.1. ２−（２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリア
ゾール 例えば５′−メチル、３′,5′−ジ−第三ブチ
ル、５′−第三ブチル、５′−（1,1,3,3−テトラメチ
ルブチル）、５−クロロ−３′,5′−ジ−第三ブチル、
５−クロロ−３′−第三ブチル−５′−メチル、３′−
第二ブチル−５′−第三ブチル、４′−オクトキシ、
３′,5′−ジ−第三アミル及び３′,5′−ビス（α，α
−ジメチルベンジル）誘導体。
2.2 ２−ヒドロキシベンゾフェノン 例えば４−ヒド
ロキシ、４−メトキシ、４−オクトキシ、４−デシルオ
キシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、4,
2′,4′−トリヒドロキシ及び２′−ヒドロキシ−4,4′
−ジメトキシ誘導体。
2.3. 置換及び未置換安息香酸のエステル 例えば、４
−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチレ
ート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレ
ゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイル）−レ
ゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2,4−ジ−
第三ブチルフェニル3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンゾエート及びヘキサデシル3,5−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンゾエート。
2.4. アクリレート 例えば、エチルα−シアノ−β，
β−ジフェニルアクリレート、イソオクチルα−シアノ
−β，β−ジフェニルアクリレート、メチルα−カルボ
メトキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル
−ｐ−メトキシ−シンナメート、ブチルα−シアノ−β
−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチルα−カル
ボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート及びＮ−（β−
カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルイン
ドリン。
2.5. ニッケル化合物 例えば、ｎ−ブチルアミン、ト
リエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシルジエタ
ノールアミンのような付加配位子と、あるいは該配位子
を用いずに1:1もしくは1:2の鎖体になるような2,2′−
チオビス〔４−（1,1,3,3−テトラメチルベチル）フェ
ノール〕のニッケル錯体、ニッケルジブチルジチオカル
バメート、４−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三ブチルベン
ジルホスホン酸モノアルキルエステル、例えばメチルも
しくはエチルエステルのニッケル塩、ケトキシム例え
ば、２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウンデシル
ケトンオキシムのニッケル錯体、付加配位子ともしくは
該配位子を用いない１−フェニル−４−ラウロイル−５
−ヒドロキシビラゾールのニッケル錯体。
2.6. 立体障害性アミン 例えば、ビス−（2,2,6,6−
テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス−（1,2,2,
6,6−ペンタメチルピペリジル）セバケート、ビス（1,
2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル）ｎ−ブチル−3,5−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、
１−ヒドロキシエチル−2,2,6,6−テトラメチル−４−
ヒドロキシピペリジンとコハク酸の縮合生成物、N,N′
−ビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘ
キサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−2,6
−ジクロロ−1,3,5−ｓ−トリアジンの縮合生成物、ト
リス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）ニト
リロトリアセテート、テトラキス（2,2,6,6−テトラメ
チル−４−ピペリジル）−1,2,3,4−ブタンテトラカル
ボキシレート、1,1′−（1,2−エタンジイル）ビス（3,
3,5,5−テトラメチルピペラジノン）。
2.7. 蓚酸ジアミド 例えば4,4′−ジオクチルオキシ
オキサアニリド、2,2′−ジオクチルオキシ−5,5′−第
三ブチルオキサアニリド、2,2′−ジドデシルオキシ−
5,5′−ジ−第三ブチルオキサアニリド、２−エトキシ
−２′−エチルオキサアニリド、N,N′−ビス（３−ジ
メチルアミノプロピル）オキサルアミド、２−エトキシ
−５−第三ブチル−２′−エチルオキサアニリド及び２
−エトキシ−２′−エチル−5,4′−ジ−第三ブチルオ
キサアニリドとその混合物並びにオルトー及びパラーメ
トキシ−ジ置換オキサアニリドの混合物、ｏ−及びｐ−
エトキシ−ジ−置換オキサアニリドの混合物。
3. 金属奪活剤 例えば、N,N′−ジフェニル蓚酸ジア
ミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ′−サリシロイルヒドラジ
ン、N,N′−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、N,N′−
ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル
プロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−
1,2,4−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）蓚酸ジヒ
ドラジド。
4. ホスフィット及びホスホニット 例えば、トリフェ
ニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、
フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェ
ニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリ
オクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリト
リトールジホスフィット、トリス（2,4−ジ−第三ブチ
ルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリト
リトールジホスフィット、ビス（2,4−ジ−第三ブチル
フェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリ
ステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス
（2,4−ジ−第三ブチルフェニル）4,4′−ビフェニレン
ジホスホニット、3,9−ビス（2,4−ジ−第三ブチルフェ
ノキシ）−2,4,8,10−テトラオキサー3,9−ジホスファ
スピロ〔5.5〕ウンデカン。
5. 過酸化物脱除剤 例えば、ラウリル、ステアリル、
ミリスチルもしくはトリデシルエステルのようなβ−チ
オジプロピオン酸のエステル、メルカプトベンズイミダ
ゾールまたは２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛
塩、ジブチルチオカルバメート亜鉛、ジオクタデシルジ
スルフイド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ド
デシルメルカプト）プロピオネート。
6. ポリアミド安定剤 例えば、ヨウ化物及び／もしく
はリン化合物と併せた銅塩並びに２価マグネシウム塩。
7. 塩基性補助安定剤 例えば、メラミン、ポリビニル
ピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレー
ト、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミ
ド、ポリウレタン、Caステアレート、Znステアレート、
Mgステアレート、Naリシノレエート及びＫパルミテート
のような高級脂肪酸のアルカリ金属塩並びにアルカリ土
類金属塩、アンチモンピロカテコレートもしくは亜鉛ピ
ロカテコレート。
8. 造核剤 例えば４−第三ブチル安息香酸、アジピン
酸またはジフェニル酢酸。
9. 充填剤及び補強剤 例えば、炭酸カルシウム、ケイ
酸塩、ガラス繊維、アスベスト、タルク、カオリン、曇
母、硫酸バリウム、金属酸化物もしくは水酸化物、カー
ボンブラック、グラファイト。
10. 他の添加剤 例えば、可塑剤、離型剤、乳化剤、
顔料、螢光増白剤、難燃剤、帯電防止剤および発泡剤。
次の実施例は本発明の好ましい実施態様を示す。
実施例 １ ５−〔２′−（４″−ヒドロキシ−３″,5″−ジ−第三
ブチルフェニル）エチル〕−1,3,4−オキサチアゾール
−２−オン トルエン150ml中の３−〔４′−ヒドロキシ−３′,
5′−ジ第三ブチルフェニル〕プロピオンアミド13.45g
の懸濁液を滴下して加えられるクロロカルボニル スル
フェニル クロリド20.22gと混合する。反応混合物を60
℃で20時間加熱した後、溶媒を減圧下で除去する。残留
物をヘプタンより再結晶して薄黄色の結晶固体として標
記化合物を得る。融点82−86℃。
分析 C18H25NO3Sの計算値:C,64.4;H,7.5;N,4.2 実測値:C,64.4;H,7.2;N,4.2 実施例 ２ ５−〔４′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ第三ブチルフェ
ニル〕−1,3,4−オキサチアゾール−２−オン ４−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブチルベンズアミド3.0
3gおよびクロロカルボニルスルフェニル クロリド3.18
gを使用して実施例１の手順を繰り返す。トルエン：ヘ
プタン（1:1）からの再結晶により白色結晶固体として
標記化合物が与えられる。融点155−157℃。
分析 C16H21NO3Sの計測値:C,62.5;H,6.9;N,4.6 実測値:C,62.9;H,7.0;N,4.7 実施例 ３ 所定の安定剤を含む粉砕ポリプロピレン試料の酸化安
定性（実施例４の手順参照）を0.635mm厚のプラークに
ついて強制通風炉中にて空気暴露することで測定する。
プラークは分解（例えばひび割れまたは褐色エッジ）の
最初の兆候を示したとき破損したと考えた。
従ってこれらデータは本発明化合物の優れた抗酸化活
性を示す。
実施例 ４ この実施例は本発明安定剤の光安定化有効性を示す。
未安定化ポリプロピレン粉末（Hercules Profax 650
1）を所定量の添加剤と完全に混合する。次いで混合さ
れた材料を二本ロールミルで182℃にて５分間混練し、
その後ロール機より安定化ポリプロピレンをシート分出
しそして冷却する。その後分出しポリプロピレンをピー
スに切断し油圧プレスで220℃、1.2×106Paにて圧縮し
て0.127mmフィルムに成形する。試料を螢光直射日光／
暗光チャンバ中で破損するまで暴露する。破損は、暴露
フィルムについて赤外分光計により0.5カルボニル吸光
度に達するのに要する時間としてとられる。
本発明化合物はポリマー基材のための有効な光安定剤
である。
以上要約すると、本発明は有効な安定化活性を示す新
規化合物を提供することがわかる。上記の特許請求の範
囲によって定義されるような発明の範囲から離れること
なく、割合、操作及び材料に関して種々の変法を行って
もよい。

Claims (7)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】次式 〔式中、 R1およびR2は独立して炭素原子数１ないし18のアルキル
    基を表わし、Ｘは直接結合を表わし、そして ｎは０、１または２を表わす。〕で表わされる化合物。
  2. 【請求項２】式中、R1はフェニル環においてヒドロキシ
    ル基に対しオルト位にある特許請求の範囲第１項記載の
    化合物。
  3. 【請求項３】式中、R2もまたフェニル環においてヒドロ
    キシル基に対しオルト位にある特許請求の範囲第１項記
    載の化合物。
  4. 【請求項４】式中、R1およびR2は独立して炭素原子数４
    ないし８の第三アルキル基を表わす特許請求の範囲第１
    項記載の化合物。
  5. 【請求項５】次式 〔式中、 R1およびR2は独立して炭素原子数１ないし18のアルキル
    基を表わし、Ｘは直接結合を表わし、そして ｎは０、１または２を表わす。〕で表わされる化合物よ
    りなる、酸化、熱および化学線崩壊を受け易い有機材料
    のための安定剤。
  6. 【請求項６】有機材料は合成ポリマーである特許請求の
    範囲第５項記載の安定剤。
  7. 【請求項７】前記ポリマーは耐衝撃ポリスチレン、アク
    リロニトリル／ブタジエン／スチレン、スチレン／ブタ
    ジエンゴム、ポリエステルおよびポリ−α−オレフィン
    からなる群より選択される特許請求の範囲第５項記載の
    安定剤。
JP62313108A 1986-12-10 1987-12-10 置換された１，３，４―オキサチアゾ―ル―２―オン安定剤 Expired - Lifetime JP2533342B2 (ja)

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CA1310971C (en) 1992-12-01
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