JPH02289544A - 低塩基度のヒンダードアミン部分を含むアゾ化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、同じ分子中に低塩基度とアゾ基とを合せて有
するヒンダードアミン元安定剤に関する。

（従来の技術） 、アクリルモノマーを、ヒンダードアミン光安定化性置
換基を有するペルオキシエステルを用いて重合開始する
ことは、ビー、エイ、キャライスＣＰ、　Ａ、　Ｃａ１
ｌａｉｓ　）外の、′ウォー　ター　Ｍ　−ン　アンド
　バイアー　ソリッドス　コーティング　シンボジウＡ
　（Ｗａｔｅｒｂｏｒｎｅ　ａｎｄ　ＨｉｇｈｅｒＳｏ
ｌｉｄｓ　Ｃｏａｔｉｎｇ　Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ　−，
１９８８年２月、ニエーオリンズ、で提出されそしてモ
ダン　ペイント　アンド　コーチインゲス（Ｍｏｄｅｒ
ｎＰａｉｎｔ　ａｎｄ　Ｃｏａｔｉｎｇｓ　）、　７　
Ｂ　（９）ｔ　４１頁（１９８８年）に公表された論文
に記載されている。

ヒンダードアミン部分を含む遊離基重合開始剤としての
ペルオキシドは欧州特許量ｆｉ２３３゜４７６号に記載
されている。

紫外線安定剤（ＵＶ吸収剤）と遊離基重合開始部分（ア
ゾ誘導体およびペルオキシド化合物）との組合せは米国
特許第４９５４２６９号：４，０４２゜７７３号：４，
０４５，４２６号；４，０４飄４２７号；４．０５へ７
１４号および４．１２９．５８６号に開示されている。

４．４′−アゾ−ビス（４−シアノ−２，２，４６−チ
トラメチルビペリンー４−イル）およヒ４．４′アゾ−
ビス（４−シアノ−１−オキシル−λ２、６．６−テト
ラメチルビベリジン−４−イル）はケミカルアブストラ
クト、７９．１０５０５１１）にプラスチック添加剤と
して開示されている。

（発明が解決しようとする課題） 本発明は、高塩基度を有するヒンダードアミンとペルオ
キシ基とを組み合せた従来技術の材料の欠点を克服する
。

高塩基度は熱硬化性樹脂に通常使用されている酸触媒を
中和することができ、従って硬化を阻止する。他の適用
において、多くのヒンダードアミンの高塩基度は、望ま
しくない錯形成と、酸化性硬化工程に触媒として使用さ
れる金属イオンの失活、並びにいくつかの顔料系との望
ましくない相互作用を引き起こし得る。

分子中のアゾ部分の熱分解は遊離基を形成する結果とな
り、該遊離基はエチレン性不飽和モノマーの遊離１基重
合の開始に使用できる。

他の適用は、安定剤を種々のポリマーを含む基材にグラ
フトすることを包含する。

これらの状況のいずれであっても、本願の光安定化性ヒ
ンダードアミン部分は基材に実質的に化学的に結合され
るようになり、そしてそれに付随して移行、しみ出し、
滲出、昇華、揮発又は保護すると指定される基材から物
理的に添加剤を除く傾向があるあらゆる過程に対して耐
性となる。

（課題を解決するための手段） 本発明は、同じ分子中に１代塩基度のヒンダードアミン
部分およびアゾ基を有する化合物であって、次式！： Ｅｌ　−Ｎ　＝　Ｎ　−Ｅｘ　　　　　　（１１（上記
式中、 Ｅ鳳は次式： 〔上記式中、 Ｒ１およびＲ８は独立して炭素原子数１ないし３６のア
ルキル基、炭素原子数５ないし１２の７クロアルキル基
、炭素原子数７ないし２０のアルアルキル基を表わすか
、或いは Ｒ１とＲ１とは一緒になって炭素原子数２ないし１０の
アルキレン基を表わすか、或いはＲ１およびＲ２の一方
は次式ＩＩ： で表わされる基を表わし： Ｙは−ＣＮ、−Ｎ、、−ＣＯＯＴｔ、−〇〇ＮＨ２、−
〇Ｔ１ζＳＴ、、−〇〇Ｈ又はＯＨを表わし； Ｇ１およびＧ−は独立して炭素原子数１ないし４のアル
キル基を表わすか、或いはＧ１と６とは一緒になってペ
ンタメチレン基を表わし：Ｘ゛は−０−−ＮＨ−ＮＴｓ
−又は次式：で表わされる基を表わし； ＴＦｉホルミル基、−０７，又は−〇〇０Ｔ２（ここで
Ｔｌは炭素原子数１ないし３６のアルキル基、炭素原子
数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数３ない
し１８のアルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシク
ロアルケニル基、炭素原子数７ないし１５のアルアルキ
ル基、炭素原子数７ないし１２の飽和又は不飽和の二環
式又は二環式炭化水素基、又は炭素原子数６ないし１０
のアリール基又はアルキル基で置換された該アリール基
を表わし、そして Ｔｌは炭素原子数１逢いし１８のアルキル基、炭素原子
数１ないし１８のアルコキシ基、フェニル基又はヒドロ
キシ、アルキル又はアルコキシで置換された該フェニル
基、又はアミノ基又はアルキル又はフェニルでモノ−又
はジ置換された該アミノ基を表わす）を表わす〕で表わ
される基であり：そして ＥｌはＥｌと同じ意味を有するか、或いＦｉＥｊは炭素
原子数１ないし３６のアルキル基、炭素原子数５ないし
１２のシクロアルキル基、又は炭素原子数７ないし２０
のアルアルキル基を表わすが、但しＥ、およびＲ２の一
方は が存在する基を含まなければならない）で表わされる化
合物に関する。

好ましくはＥｌとＲ２は同じである。

Ｇ１およびＧ３は好ましくは夫々メチル基である。

Ｒ１およびＲ３は好ましくは夫々炭素原子数１ないし４
のアルキル基、最も好ましくけメチル基である。

Ｒｔｅ：ｊ好ましくは式■（ここでれは２である）で表
わされる基である。

Ｙは好ましくは−ＣＮである。

Ｘは好ましくは一〇−−ＮＨ−又は Ｎ− 最も好ましくは一〇−又は−ＮＨ−である。

Ｔは好ましくはホルミル又は−〇Ｔ１であり、ここでＴ
、は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数
２ないし５のアルケニル基、プロノ（ルギル基、アルフ
ァーメチルベンジル基又はシクロヘキシル基である。

最も好ましくはＴ１はメチル、ヘプチル、オクチル、ノ
ニル又はシクロヘキシル基である。

好ましくはＴ２は炭素原子数１ないし１８のアルキル基
：最も好ましくは炭素原子数１ないし１２のアルキル基
である。

好ましい式１の化合物は、Ｅｌが基： （上記式中、Ｘは一〇−又は−ＮＨ−であり、セしてＴ
１は炭素原子数１ないし１２のアルキル基又はシクロヘ
キシル基である）であり；そしてＥ。

がＥ、と同じであるか、或いは第三ブチル基である化合
物である。

本出願は２．２．６．６−チトラアルキルビベリジン構
造を強調するが、本発明Ｆｉまた上記のテトラアルキル
ピペリジン部分の代りに下記のテトラアルキル置換ピペ
ラジン又はピペラジノン部分で置換された化合物にも関
する： （上記式中、ＭおよびＹは独立してメチレン又はカルボ
ニル基であり、好ましくけＭはメチレン基そしてＹはカ
ルボニル基である）。かかる化合物に適用され得る上記
の置換基は、環チク素原子上で置換するのに適した置換
基であることが理解される。

本願の化合物は当業界で公知の方法で製造できる。

本願化合物の製造に使用される中間体は一般に商業製品
である。

本発明はまた化学線の有害な影普に対して安定化きれた
組成物にも関し、該組成物け（ａ）ポリマー、および （ｂ）式ｌの化合物の有効安定化量 を含む。

本発明の化合物が特に有用となる基材はポリエチレンお
よびポリプロピレンのようなポリオレフィン：特に耐衝
撃性ポリスチレンを含む、ポリスチレン；ＡＢＳ樹脂；
例えばブタジェンゴム、ＥＰＭ％ＥＰＤＭ％ＳＢＲおよ
びニトリルゴムのようなエラストマーである。

一般に安定化され得るポリマーには下記が含まれる二 １、　モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、
例えばポリエチレン（随意に架橋されていてもよい）、
ポリプロピレン、ポリインブチレン、ポリブテン−１、
ポリメチルペンテン−１、ポリイソプレンまたはポリブ
タジェン、運ヒにシクロオレフィン例エバシクロペンテ
ンまたはノルボルネンのポリマー２．１）で述べたポリ
マーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレ
ンとの混合物。

五　モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニ
ルモノマ・−とのコポリマー、例えばエチレン／プロピ
レン、プロピレン／ブテン−１、プロピレン／イソブチ
レン、エチレン／ブテン−１、プロピレン／ブタジェン
、イソブチレン／インブレン、エチレン／アルキルアク
リレート、エチレン／アルキルメタクリレート、エチレ
ン／ピニルアセテートマタはエチレン／アクリル酸コポ
リマーおよびそれらの塩類（アイオノマー）、およびエ
チレンとプロピレンとジエン例えばヘキサジエン、ジシ
クロペンタジェンまたはエチリデン−ノルボルネンとの
ターポリマー ４　ポリスチレン、ボ＋Ｊ−（ｐ−メチルスチレン）。

５、　スチレンまたはメチルスチレンとジエンまたはア
クリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／フタジ
エン、スチレン／アクリロ＝　）　ＩＪル、スチレン／
エチルメタクリレート、スチレン／ブタジェン／エチル
アクリレート、スチレン／アクリロニトリル／メチルア
クリレート；スチレンコポリマーと別のポリマー例えば
ポリアクリレート、ジエンボｌＪマーマタハエチレン／
フロピレン／ジェンターポリマーからの高耐衝隼性混合
物；およびスチレンのブロックコポリマー、例えばスチ
レン／ブタジェン／スチレン、スチレン／イソプレン／
スチレン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレンま
たはスチレン／エチレン／プ、ロピレン／スチレン。

＆　スチレンのグラフトコポリマー、例えばボリプタジ
エンにスチレン、ポリブタジェンにスチレンおよびアク
リロニトリル、ポリブタジェンにスチレンおよびアルキ
ルアクリレートまたはメタアクリレート、エチレン／プ
ロピレン／ジェンターポリマーにスチレンおよびアクリ
ロニトリル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレー
トにスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート／
ブタジエンフボリマーにスチレｙおよびアクリロニトリ
ル、並びにこれらと５）に列挙したコポリマーとの混合
物、例えばＡＢＳ−１ＭＢＳ−１ＡＳＡ−またはＡＥＳ
−ポリマーとして知られているコポリマー混合物。

ｌ　ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、
塩素化ゴム、塩素化またはスルホ塩素化ポリエチレン、
エビクロロヒドリンホモ−およびコポリマー　ハロゲン
含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、・ポリ弗化ビニル、ポリ弗化
ビニリデン並びにこれらのコポリマー例えば塩化ビニル
／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニル、塩化ビニ
リデン／酢酸ビニルコポリマー　または弗化ビニル／ビ
ニルエーテルコポリマー ａ　α　β−不飽和酸およびその誘導体から誘導された
ポリマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタアク
リレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリｏ　＝
　トリル。

２　前記８）に挙げたモノマー相互のまたは他の不飽和
上ツマ−とのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブ
タジェン、アクリロニトリル／アルキルアクリレート、
アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレートま
たはアクリロニトリル／ハロゲン化ヒニルコホリマーま
たはアクリロニトリル／アルキルメタクリレート／ブタ
ジェンターポリマー １α　不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのア
シル誘導体またはそれらのアセタールから誘導されたポ
リマー、例えばポリビニルアルコール、ホｌＪ酢ｆｆｉ
ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエ
ート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、
ポリアリルフタレート、またはポリアリル−メラミン。

１１、　　ｍ状エーテルのホモポリマーおよびコポリマ
ー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオ
キシド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−
グリシジルエーテルとのコポリマー １２、　　ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン
、およびエチレンオキシドをコモノマーとして含むポリ
オキシメチレン。

１＆　ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド、並び
にポリフェニレンオキシドとポリスチレンとの混合物。

１４、　一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリ
エーテル、ポリエステルまたはポリブタジェンと他方の
成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとか
ら誘導されたポリウレタン、並び罠その前駆物質（ポリ
イノシアネート、ポリオールまたはプレポリマー）。

１＆　ジアミンおよびジカルボン酸および／またはアミ
ノカルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポ
リアミドおよびコポリアミド、例えばポリアミド４　ポ
リアミド６、ポリアミド６／６、ポリアミド６／１０．
ポリアミド１１、ポリアミド１２、ポリ−２，４，ａ−
トリメチルへキサメチレンテレフタルアミド、ポリ−ｐ
−７エニレンテレフタルアミドまたはポリ−ｍ−７ヱニ
レンイソフタルアミド、並びにこれらとポリエーテル、
例えばポリエチレンクリコール、ポリプロピレンクリコ
ールまたはポリテトラメチレングリコールとのコポリマ
ー １＆　ポリ尿素、ポリイミドおよびポリアミド−イミド
。

１Ｚ　　ジカルボン酸およびジオールおよび／またはヒ
ドロキシカルボン酸または相当するラクトンから誘導さ
れたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート
、ポリプチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチ
ロール−シクロヘキサンテレフタレート、ポリ−［２゜
２−−、二（，４−七（−トーゴＪキンフェニル）プロ
パン」テレフタレートおよびポリヒドロキシベンゾエー
ト、並びにヒドロキシ末端基を有するポリエーテルから
誘導されたブロックコポリエーテル−エステル。

１ａ　　ポリカーボネート。

１９　　ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポ
リエーテルケトン。

２０、　−万の成分としてアルデヒドおよび他方の成分
としてフェノール、尿素およびメラミンから誘導された
架橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹
脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン／ホル
ムアルデヒド樹脂。

２１、　　乾性および不乾性アルキド樹脂。

２２、飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコール
ドのコポリエステルおよび架橋剤としてのビニル化合物
から誘導された不飽和ポリエステル樹脂、並びに燃焼性
の低いそれらのハロゲン含有変性物。

２五　置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリ
レート、ウレタンアクリレートまたはシリコーン−アク
リレートから誘導された熱硬化性アクリル樹脂。

２４、　　メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリインシアネー
トまたはエポキシ樹脂を架橋剤として混合したアルキド
樹脂、ポリエステル樹脂またはアクリレート樹脂。

２５、　　ポリエポキシド、例えばビス−グリシジルエ
ーテル、まだは脂環式ジエボキシドから誘導された架橋
エポキシ樹脂。

２６−　　天然ｙｔ？’）マー、例えばセルロース、ゴ
ム、ゼラチン、およびこれらの化学的に変性させたポリ
マー同族体誘導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロースおよび酪酸セルロース、またはセルロース
エーテル、例、ｔはメチルセルロース。

２７、　　前述したポリマーの混合物、例えばＰＰ／Ｅ
ＰＤＭ、ポリアミド６／ＥＰＤＭまたけＡＢＳ。

ＰＶＣ／ＥＶＡ　、　　ＰＶＣ／ＡＢＳ　、ＰＶＣ／Ｍ
ＢＳ　。

ＰＣ／ＡＢＳ％　ＰＢＴＰ／ＡＢＳ　。

２ａ　　純粋単量体化合物またはその混合物である天然
および合成有機材料、例えば、鉱油、動物および植物脂
肪、オイルおよびワックスまたは合成エステル（例えば
、フタレート、アジペート、ホスフェートまたはトリメ
リテート）をベースとしたオイル、脂肪およびワックス
、並びに合成エステルと鉱油とのあらゆる重量比の混合
物（その材料はポリマー用の可塑剤またｆｉ繊維紡績油
として使用し得る）、並びにこのような材料の水性エマ
ルジツン。

２９、　　天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例
、ｔばカルボキシル化スチレン／ブタジェンコポリマー
の天然ラテックス。

３０、　　ポリシロキサン、例えば米国特許第４．２５
９４６７号に記載された、軟質、親水性ポリシロキサン
；および例えば米国特許第４．５５５，１４７号に記載
された硬質ポリオルガノシロキサン。

３１、　　不飽和アクリル、ポリアセトアセテート樹脂
又は不飽和アクリル樹脂と組合せたポリケチミン。該不
飽和アクリル樹脂にはウレタンアクリレート、ポリエー
テルアクリレート、不飽和側基を有するビニル又はアク
リルコポリマー、およびアクリル化メラミンが含まれる
。ポリケチミンは酸触媒の存在下でボリアビンとケトン
とから製造される。

３２、　　エチレン性不飽和モノマー又はオリゴマーお
よびポリ不飽和脂肪族オリゴマーを含む放射線硬化性組
成物。

３！Ｌ　　エポキシメラミン樹脂、例えばエポキ７官能
性同時エーテル化（ｃｏｅｔｈｅｒｉｆ　ｉｅｄ　）　
ハイソリッドメラミン樹脂、例えばＬＳＥ４１０３（モ
ンサント）、で架橋された光安定性エポキシ樹脂。

一般に本発明の化合物は安定化された組成物の約α０１
〜約５重量％の量で使用されるが、特定の基材および適
用により変化するであろう。

有利な範囲は約０．５〜約２重ｆ％、そして特にα１〜
約１重ｔチである。

本発明の安定剤は慣用法により成形品を製造する前の都
合のよい段階で有機ポリマーに容易に添加し得る０例え
ば、該安定剤は乾燥粉末の形体でポリマーと混合するか
、或いは該安定剤の＠濁液又は乳液をポリマーの溶液、
懸濁液又は乳液と混合してもよい、得られる本発明の安
定化ポリマー組成物は任意に攬々の慣用の添加剤、例え
ば下記のもの、をも含んでもよい。

例えは、２．６−ジー第三ブチル−４−メチルフェノー
ル、２−第三ブチル−４，６−シメチルフエノール、２
．６−ジー第三ブチル−４−エチルフェノール、２．６
−ジー第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２．６
−ジー第三ブチル−４−イン−ブチルフェノール、乙６
−ジーシクロペンチルー４−メチルフェノール、２−（
α−メチルシクロヘキシル）−４，６−シメチルフエノ
ール、２．６−シオクタデシルー４−メチルフェノール
、２．４．６−トＩＪ　＋　シクロヘキシルフェノール
、２．６−シー第三ブチル−４−メトキシメチルフェノ
ール。

例えば、２．６−ジー第三ブチル−４−メトキシフェノ
ール、２．５−ジー第三ブチル−ヒドロキノン、２．５
−ジー第三アミル−ヒドロキノン、および２．６−ジフ
ェニル−４−オクタデシルオキシフェノール。

例えば、２．２’−チオ−ビス（６−第三ブチル−４−
メチルフェノール）、２．２′−チオ−ビス（４−オク
チルフェノール）、４．４′−チオ−ビス（６−＠三ブ
チルー３−メチルフェノール）および４．４′−チオ−
ビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）。

１．４．　　アルキリテン−ビスフェノール例えば、２
．２′−メチレン−ビス＜６−第三ブチル−４−メチル
フェノール）、２．２′−メチレン−ビス（６−第三ブ
チル−４−エチルフェノール）、２．２′−メチレン−
ビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）
フェノール」、２．２′−メチレン−ビス（４−メチル
−６−シクロヘキジルフエノール）、２．２′−メチレ
ン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２．
２′−メチレン−ビス［６−（ａ−メチルベンジル）−
４−ノニルフェノールコ、２．２′−メチレン−ビス［
６−（α、α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノ
ール］、２．２′−メチレン−ビス（４，６−ジー第三
ブチルフェノール）、２．２−エチリデン−ビス（４，
６−ジー第三ブチルフェノール）、２．２′−エチリデ
ン−ビス（６−第三ブチル−４−イノブチルフェノール
）　、ａ、　ａｌ−メチレンービス（２，６−ジー第三
ブチルフェノール）、４．４′−メチレン−ビス（６−
＠三ツチル−２−メチルフェノール）、１．１−ビス（
５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル
）ブタン、２．６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル
−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、
１．１．５−トリス（５−第Ｅブチルー４−ヒドロキシ
ー２−メチルフェニル）−ブタン、１．１−ビス（５−
第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−
５−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコー
ル−ビス−［４３−ビス（３′−第三ブチル−４′−ヒ
ドロキシフェニル）−フチレート］、ジ（３−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペ
ンタジェン、ジ［２−（３’−第三ブチル−２′−ヒド
ロキシ−５′−メチ／Ｌ／ベンジル）−６−第三ブチル
−４−メチルフェニル］テレフタレート。

例えば、１．４５−）リス（４５−ジー第三ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）　−２，４，６−トリメチル°
ベンゼン、ビス（４５−ジー第三フチルー４−ヒドロキ
シベンジル）スルフィド、インオクチルへ５−ジー第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジルーメルカブトアセテ−
ト、ビス（４−第三プチル−３−ヒドロキシ−２，６−
シメチルベンジル）−ジチオールテレフタレート、１．
４５−　）リス（へ５−ジー　第三フチルー４−ヒドロ
キシベンジル）インシアヌレート、１．３５−１リス（
４−第三フチル−３−ヒドロキシ−２，６−シメチルベ
ンジル）インシアヌレート、ジオクタデシル３．５−シ
ーＷＥ三ブチルー４−ヒドロキシベンジルホスフェート
、モノエチルへ５−ジー第三フ゛チルー４＝ヒドロキシ
ベンジル−ホスフェート−のカルシウム塩。

１、＆　　アシルアミノフェノール 例えば、４−ヒドロキシラウリン酸アニリド、４−ヒド
ロキシステアリン酸アニリド、２．４−ビス−オクチル
メルカプト−６−（ＩＳ−ジー第三ブチル−４−ヒドロ
キシアニリノ）−Ｓ−トリアジン、およびオクチル−Ｎ
−（へ５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
−力ルバメート。

１、′１　　以下のよりな一価または多価アルコ−アル
コールノ例：メタノール、ジエチレングリコール、オク
タデカノール、トリエチレングリコール、１．６−ヘキ
サンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチルグ
リコール、トリス（ヒドロキシエチル）インシアスレー
ト、チオジエチレングリコール、ジ−ヒドロキシエチル
蓚酸ジアミド。

ステル アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレｙ　／　ｒ）　：ｙ−ル
、１．６−ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、
ネオペンチルグリコール、トリス（ヒドロキシエチル）
インシアヌレート、チオジエチレングリコール、ジ−ヒ
ドロキシエチル蓚酸ジアミド。

１．９．　　β−（４５−ジー第三ブチル−４−ヒ例え
ばＮ、Ｎ’−ジー（ムラ−ジー第三ブチルー４−ヒドロ
キシフェニルグロビオニル）−へキサメチレンジアミン
、Ｎ、Ｎ′−ジー（へ５−ジー第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、お
よびＮ、Ｎ’−ジー（ム５−ジー第三ブチルー４−ヒド
ロキシフェニルグロピオニル）ヒドラジ／。

例えば５′−メチル、３′、５′−ジー第三ブチル−５
′−第三ブチル−５’　−（１，１，工３−テトメチル
ブチル）−５−クロロ−５’、　　５’−ジー第三ブチ
ル−５−クロロ−３’−第三ブチル−５′−メチル−３
′−第二ブチル−５′−第三プチル−４′−オクトキシ
−ｓｌ、　　ｓ／−ジー第三アミル−ｓｌ、　　ｓｌ−
ビス（α、α−ジメチルベンジル）−３′−第三ブチル
−５’−（２−（オメガ−ヒドロキシ−オクタ−（エチ
レンオキシ）カルボニル−エチル）−３′−ドデシル−
５′−メチル−および６′−第三ブチル−５’−（２−
オクチルオキシカルボニル）エチル−およびドデシル化
５′−メチル誘導体。

２２、２−ヒドロキシベンゾフェノン 例えば４−ヒドロキシ−４−メトキシ−４−オクトキシ
−４−デシルオキシ−４−ドデシルオキシ−４−ベンジ
ルオキシ−４、２：　４’　−トリヒドロキシ−および
２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ誘導体。

２、五　任意に置換された安息香酸のエステル例えばフ
ェニルサリチレート、４−第三ステルフェニルサリチレ
ート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレ
ゾルシノーＡ／、ヒス（４−ｇＥフチルベンゾイル）−
レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、工５−ジ
ー第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸２．４−シー第
三７”チルフェニルエステルおヨヒヘキサデシルへ５−
ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。

２．４．　　アクリレート 例えばα−シアノ−β、β−ジフェニルアクリル酸エチ
ルエステル又はインオクチルエステル、α−カルボメト
キシ桂皮酸メチルエステル、α−シアノ−β−メチル−
ｐ−メトキシ−桂皮酸メチルエステル又はブチルエステ
ル、α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ桂皮酸メチルエ
ステル、およびＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノ
ビニル）−２−メチルインドリン。

２．５　ニッケル化合物 例えば２．２′−チオ−ビス−［４−（１，１，ｓ。

３−テトラメチルブチル）フェノールコのニッケル錯体
、例として１：１または１：２錯体、所望により付加配
位子、例えばｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミン
またｔｉＮ−シクロヘキシルージエタノールアミンヲ有
シてよい、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−
ヒドロキシ−４５−ジー第三ブチルベンジルホスホン酸
モノアルキルエステル、例えばメチル、エチルまたはブ
チルエステル、のニッケル塩、ケトオキシム、例えば２
−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウンデシルケトオ
キシム、のニッケル錯体、および９［望により付加配位
子を含んでよい１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒ
ドロキシ−ピラゾールのニッケル錯体。

２＆　立体障害性アミン 例エバ、ビス（２，２，４６−チトラメチルービペリジ
ル）セバケート、ビス（１，Ｌ２．４６−ペンタメチル
ピペリジル）−セバケート、ｎ−ブチル−４５−ジー第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−マロン酸−ビス（
１，２，２゜６１６−ペンタメチルピペリジル）エステ
ル、１−ヒドロキシエチル−２，Ｚ＆６−テトラメチル
−４−ヒドロΦシビペリジンとコハク酸との縮合物、Ｎ
、　Ｎ’−、（２，２，４６−チトラメチルビペリジル
）へキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−
２，６−ジクロロ−ｓ−トリアジンとの縮合物、トリス
（２，２４６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリ
ロトリアセテート、テトラキス（２，；＆６−チトラメ
チルー４−ピペリジル）　−１，２，Ａ　４−ブタンテ
トラカルボン酸、１．１’−（１，２−エタンジイル）
−ビス（Ａ４５．５−テトラメチルピペラジノン）。

２．１　　蓚酸ジアミド 例えば４．４′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、２
．２′−ジ−オクチルオキシ−５，５′−ジー第三ブチ
ルオキサニリド、２．２′−ジ−ドデシルオキシ−５，
５′−ジー第三ブチルオキサニリド、２−エトキシ−２
′−エチルオキサニリド、Ｎ、Ｎ’−ビス（３−ジメチ
ルアミンプロピル）オキサルアミド、２−エトキシ−５
−第三プチル−２′−エチルオキサニリド、およびこれ
と２−エトキシ−２′−エチル−Ｓ、　ａｔ−ジー第三
ブチル−オキサニリドとの混合物、およびオルト−およ
びパラ−メトキシ−および０−およびｐ−エトキシー二
置換オキサニリドの混合物。

２、ａ　　ヒドロキシフェニル−８−トリアジン例えば
、２．６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−４−
（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−Ｓ
−トリアジン：２゜６−ビス−（２，４−ジメチルフェ
ニル）−４−（２，４−ジメチルフェニル）−ｓ−トリ
アジン；２．４−ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル
）−６−（４−クロロフェニル）−３−トリアジン；２
．４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエ
トキシ）フェニル］−６−（４−クロロフェニル）−ｓ
−１リアジン；２．４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（
２−ヒドロキシエトキシ）フェニル」−６−フェニル−
３−トリアジン：２．４−ビス［２−ヒドロキシ−４−
（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−６−（２，’
４−ジメチルフェニル）−ｓ−トリアジン；２．４−ビ
ス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）
フェニル］−６−（４−ブロモフェニル）−ｓ−）リア
ジン；２．４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−アセ
トキシエトキシ）フェニル〕−６−（ａ−クロロフェニ
ル）−ｓ−）リアジン：２．４−ビス（２，４−ジヒド
ロキシフェニル）　−６−（２，４−ジメチルフェニル
）−ｓ−）リアジン。

例えばＮ、Ｎ’−ジフェニル蓚酸ジアミド、Ｎ−サリチ
ラルーＮ′−サリチロイルヒドラジ７、Ｎ、Ｎ’−とス
ーサリチロイルヒドラジン、Ｎ、Ｎ’−ビス（３，５−
ジー第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル
）ヒドラジン、５−サリチロイルアミノ−１，２，４−
）、リアゾール、ビス−ベンジリデン−落酸ジヒドラジ
ド。

例工ばトリフェニルホスフィツト、ジフェニルアルキル
ホスフィツト、フエニルジアルキルホスフィツト、ト１
７−（ノニルフェニル）ホスフィツト、トリラウリルホ
スフィツト、トリオクタデシルホスフィツト、ジーステ
アリルーペンタエリトリトールジホスフィット、トリス
（２，４−ジー第三ブチルフェニル）ホスフィツト、ジ
ーインデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ジ
ー（２，４−ジー第三ブチルフェニル）−ベジタエリト
リトールジホスフィット、トリステアリルソルビトール
トリホスフィツト、テトラキス−（２，４−シー第三ブ
チルフェニル）４．４’−ヒフェニレンジホスホニット
。

例えばβ−チオジプロピオン酸のエステ／Ｌ／。

例としてラウリルエステル、ステアリルエステル、ミリ
スチルエステルまたハトリゾシルエステル、メルカプト
ベンズイミダゾールまたは２−メルカプトベンズイミダ
ゾールノ亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジ
オクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテト
ラキス（β−ドデシルメルカプト）グロビオネート。

６、　ヒドロキシルアミン ＩＨＩＨＮ、Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ、
Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ、Ｎ−ジオクチル
ヒドロキシルアミン　Ｎ。

Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ、Ｎ−ジオクタ
デシルヒドロキシルアミン　Ｎ。

Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ。

Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデ
シルーＮ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプ
タデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、ハロ
’ｌ　７　化獣）Ｉ＆アミンから誘導されたＮ、Ｎ−ジ
アルキルヒドロキシルアミン。

ス　ポリアミド安定剤 例えば沃化物および／または燐化合物に結合した銅塩お
よび二価のマンガンの塩。

ａ　塩基性補助安定剤 例えばメラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジア
ミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジ
ン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂
肪酸のアルカリ金属およびアルカリ土類金Ｍｕ、例えば
ＣａミスデアレートＺｎステアレート、Ｍｇステアレー
ト、Ｎａリシル−ト、Ｋパルミテート、アンチモンビロ
力テコレートまたは亜鉛ビロカテコレート。

９　核剤 例えば４−第三ブチル安息香ば、アジピン酸、ジフェニ
ル酢酸。

１α　充填剤および強化剤 例えは炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、アスベス
ト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化
物および金属水酸化物、カーボンブラック、グラファイ
ト。

１１、　　その他の添加物 例えば可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤
、静電防止剤および発泡剤、およびジラウリルチオジプ
ロピオネート又はジステアリルチオジプロピオネートの
ようなチオ相乗剤。

特に興味あるのは、本発明化合物を周囲条件硬化および
酸触媒コーティング系を含む種々のコーティング系で利
用することである。特に、被膜の物理的結合性は高度に
維持されて、光沢の減少および黄変が著しく低減される
。重要な改良点に１１ＳＮ−アルキルヒンダードアミン
元安定剤でｌＬ面する硬化遅蝿が実質的にないこと：Ｎ
−アルキルヒンダードアミンをある種の着色コーティン
グ系に使用した場合に見られる凝集および分散物の不安
定化が実質的にないこと；およびａ膜とポリカーボネー
ト基材との間に接着減量がないこと、が含まれる。従っ
て、本発明は、本願化合物を任意に別の安定剤と一緒に
、下記の樹脂を基材とした周囲条件硬化性コーティング
を光、湿気および酸素の分解作用から安定化させるため
に使用することにも関する：アルキド樹脂；熱可塑性ア
クリル樹脂、アクリルアルキド；任意にケイ素、インシ
アネート、イソシアヌレート、ケチミン又はオキサゾリ
ジンで変性したアクリルアルキド又はポリエステル樹脂
；カルボン酸、無水カルボン酸、ポリアミン又はメルカ
プタンで架橋したエポキシ樹脂：および主知を反応基で
変性しそしてエポキシドで架橋したアクリルおよびポリ
エステル樹脂系。

更に、工業的利用においては、架橋性のアクリル、ポリ
エステル、ウレタン又はアルキド樹脂を基材にしたノ・
イノリッドのエナメルが追加のｔＲ１！！媒を用いて硬
化される。塩基性窒素基を含む光安定剤は一般にこの適
用においては決して満足ではない、ｒＩＲ触媒と光安定
剤との間で塩が形成されると塩の不適合又は不溶および
沈殿が生じ、そして硬化度が低減し、光保護作用が低下
し、そして耐湿性が低くなる。

これらの酸触媒焼付ラッカーは熱架橋性アクリル、ポリ
エステル、ポリウレタン、ポリアミド又はアルキド樹脂
を基材とする。本発明によって光、湿気および酸素に対
して安定化することができるアクリル樹脂ラッカーは、
例えば下記に記載されたアクリル／メラミン系を含む従
来のアクリル樹脂焼付ラッカー又は熱硬化性樹脂である
：　）１．　Ｋｉｔｔｅｔのル−ルプッヒ　デルラッケ
　ラント　ベジッヒツンゲン（’Ｌｅｈｒｂｕｃｈｄｅ
ｒ　Ｌａｃｋｅ　ｕｎｄ　Ｂｅｓｃｈｉｃｈｔｕｎｇｅ
ｎ　）　’、第１巻、２．７３５頁および７４２頁（ベ
ルリン、　Ｈ１７２年）　：　Ｈ，Ｗａｇｎｅｒおよび
Ｈ，Ｆ、　５ａｒｘ　による１ラツククンストハルゼ（
Ｌａｃｋｋｕｎｓｔ　ｈａｒｚｅ　）　”（１９７７年
）、２２９〜２３８ｊｊ　：およびＳ、　Ｐａｕｌの“
サーフェイス　コーチインゲス（ＳｕｒｆａｃｅＣｏａ
ｔｉｎｇｓ　）　：サイエンス　アンド　テクノロジー
　（Ｓｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ　
）　”’　（１９８５年）。

光および湿気の作用から安定化することができるポリエ
ステルラッカーは、例えばＨ，ＷａｇｎｅｒおよびＨ，
Ｆ、　５ａｒｘによる上記文献、８６〜９９頁に記載さ
れた慣用の焼付ラッカーである。

本発明によって光および湿気の作用から安定化すること
ができるアルキド樹脂ラッカーは、特に自動車の塗装（
自動車仕上はラッカー）に使用される慣用の焼付ラッカ
ーであり、例えばアルキド／メラミン樹脂およびアルキ
ド／アクリル／メラミン樹脂を基材とするラッカーがあ
る（　Ｈ，ＷａｇｎｅｒおよびＨｏＦ、　５ａｒｘ、の
上記文献、９９〜１２３頁砂照）。他の架橋剤にはグリ
コルリル（ｇｌｙｃｏｌｕｒｉｌ　）樹脂、ブロックト
インシアネート又はエポキシ樹脂が含まれる。

本発明に従って安定化される酸触媒焼付ラッカーは、金
属仕上げ塗装および固体陰影仕上げ（５ｏｌｉｄ　５ｈ
ａｄｅ　ｆｉｎｉｓｈｅｓ　）の両方、特に修整仕上げ
の場合、並びに棟々のコイル塗装用に適する。本発明に
従って安定化されるラッカーは慣用法により二つの方法
、即ち一回塗装法又は二回塗装法、により塗布するのが
好ましい。後者の方法においては、顔料官有ベースコー
トをまず塗布し、そして次にその上に透明ラッカーのカ
バーコートを塗布する。

本願の置換ヒンダードアミンは、任意のケイ素、インシ
アネート又はイソシアヌレートで変性されていてもよい
エポキシ、エポキシ−ポリエステル、ビニル、アルキド
、アクリルおよびポリエステル樹脂のような非酸＠媒熱
硬化樹脂中での使用に適用できることにも注意されたい
。

エポキシおよびエボキ°／−ポリエステル樹脂は酸、酸
無水物、アミン等のような慣用の架ａ剤で架橋される。

上記に対応して、エポキシドは、主鎖構造体上の反応基
の存在により変性された種々のアクリル又はポリエステ
ル樹脂系の架橋剤として利用し得る。

かかるコーティングで最大の光安定性を達成するために
、他の慣用の光安定剤を同時に使用するのが有利であろ
う。その例はベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、ア
クリル酸誘導体又はオキサニリド型の前述のＵＶ吸収剤
、又はアリール−５−）　ＩＪアジン又は金属含有光安
定剤、例えば有機ニッケル化合物、である。二面塗装系
においては、これらの追加の光安定剤を透明コートおよ
び／または着色ベースコートに添加することができる。

かかる組合せを採用した場合、全党安定剤の合計は、膜
形成−ｒ樹脂を基準にしてα２〜２０重量％、好ましく
は０５〜５重！−チである。

本願組成物の補助安定剤として特に重要なのは高分子量
且つ低揮発性のベンゾトリアゾール、例えば２−Ｌ２−
ヒドロキシ−３，５−ジ（アルファ、アルファージ−メ
チルベンジル）−フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾー
ル、２−（２−ヒドロキシーム５−ジー第三オクチルフ
ェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒド
ロキシ−３−アルファ、アルファージメチルベンジル−
ｓ　−第三オクチル−フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−第三オクチル−５
−アルファ、アルファージメチル−ベンジルフェニル）
−２）１−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒトａキシ
−４５−ジー第三アミルフェニル）−２）（−ベンゾト
リアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−
５−（２−（オメガ−ヒドロキシ−オクタ−（エチレン
オキシ）カルボニル）−エチルフェニル］−２８−ペン
ツトリアゾール、ドデシル化２−（２−ヒドロキシ−５
−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアソーＡ／、２
−［２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−（２−オク
チルオキシ−カルボニル）エチルフェニルロー２Ｈ−ベ
ンゾトリアゾール、および上記のベンゾトリアゾールの
夫々に対応する５−クロロ化合物、である。

最も好ましくは、本願組成物に有用なベンゾトリアゾー
ルは、２−［２−ヒドロキシ−４５−ジ（アルファ、ア
ルファージメチル−ベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベン
ゾトリアゾール、ドデシル化２−　（２−ヒドロキシ−
５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアソーＡ／、
２−［２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−（２−（
オメガ−ヒドロキシ−オクタ−（エチレンオキシ）カル
ボニル）−エチル７ｘニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾー
ル、２−［２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−（２
−オクチルオキシカルボニル）エチルフェニルＨ）　−
２Ｈ−ベンゾトリアソールおよび５−クロロ−２−［２
−ヒドロキシ−３−第三プチル−５−（２−オクチルオ
キシカルボニル）エチルフェニルロー２Ｈ−ベンゾトリ
アゾールである。

本願化合物は、フェノール系ｔｉｔ化防止剤、ヒンダー
ドアミン元安定剤、有轡リン化合物、紫外線吸収剤およ
びそれらの混合物から成る群力・ら選ばれる他の安定剤
と６１合せて使用した場廿、ポリオレフィン繊維、特に
ポリプロピレン繊維の安定剤として特に有効であること
も考慮づれ九い。

本発明の好ましい態様は、下記（ａｌ〜ｔｃｔを含む安
定化組成物に関する： （ａｌ　　熱架橋性アクリル、ポリエステル又はアルキ
ド樹脂を基材にした酸触媒熱硬化コーティング又はエナ
メル、 ｔｂｌ　　式ｌの化合物、および ＩＣ）　　ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、アク
リル酸誘導体、有機ニッケル化合物、アリール−Ｓ　−
トリアジンおよびオキサニリドかう成る群から選ばれた
紫外線吸収剤。

上記のエナメル又はコーティングが含むことができる他
の成分は酸化防止剤、例えば立体障害フェノール誘導体
の酸化防止剤ニリン化合物、例えばホスフィツト、ホス
フィン又はホスホニット；可塑剤；レベリング助剤；硬
化触媒；増粘剤；分散剤；又は゛接層促進剤である。

本発明の別の好ましい態様は、上記の成分１ａ）、ｌｂ
ｌおよび（Ｃ１を含み、更に成分１ｄｌとしてホスフィ
ツト又はホスホニットを含む安定化組成物である。

本願組成物中に便用されるホスフィツト又はホスホニッ
トのｔは、膜形成性樹脂を基準にしてα０５〜２重量％
、好ましくはα１〜１重量％である。二面塗装系におい
ては、これらの安定剤は透明コートおよび／またはベー
スコートに添加し得る。

典型的なホスフィツトおよびホスホニットにハトリフェ
ニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィツト、
フエニルジアルキルホスフィツト、トリー（ノニルフェ
ニル）ホスフィツト、トリラウリルホスフィツト、トリ
オクタデシルホスフィツト、ジーステアリルーペンタエ
リトリトールジホスフィット、トリス−（２，４−ジー
第三ブチルフェニル）ホスフィツト、ジーイソデジルペ
ンタエリトリトールジホスフィット、ジー（２４４−ジ
ー第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフ
ィット、トリステアリルーンルビトールトリホスフィッ
ト、テトラキス−（２，４−ジー第三ブチルフェニル）
−４，４’−ジーフェニルイレンジホスホニットが含ま
れる。

本発明はまた、式ｌの化合物の有効重合開始量の存在下
にて遊離基により重合することができるエチレン性不飽
和モノマーの１種又はそれ以上を重合することを特徴と
する、ポリマーの主鎖に化学的に結合したヒンダードア
ミン元安定剤部分を含む光安定性のホモ−又はコポリマ
ーの製造法に関する。

本発明Ｆｉまた、上記の方法により製造された安定化ポ
リマーに関する。

本発明はまた、化学線の有害な影響に対して安定化され
た組成物であって、上記の方法で製造された安定化ポリ
マーを含む組成物に関する。

式１の化合物により硬化することができる不飽和ポリエ
ステル樹脂は通常、不飽和ポリエステルおよび１種又は
それ以上の重合性モノマーｔｆｔｒ。不飽和ポリエステ
ルは、例えば少なくとも１撞のエチレン性不飽和ジー又
はポリカルボン酸、酸無水物、又は酸・・ライド、例え
ばマレイン酸、フマル酸、グルタコン酸、イタコン酸、
メサコン酸、シトラコン酸、アリルマロン酸、アリルス
クシン酸、テトラヒドロフタル酸等、を飽和又は不飽和
ジー又はポリオール、例エバエチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、１．２−
およヒ１゜３−プロパンジオール、１．２−１．３−お
よび１．４−ブタンジオール、２．２−ジメチル−１，
３−プロパンジオール、２．２−ジメチル−１，３−プ
ロパンジオール、２−ヒドロキシメチル−２−メチル−
１，５−プロパンジオール、２−ブテン−１，４−ジオ
ール、２．２．４−）ジメチル−１゜３−ベンタンジオ
ール、クリセロール、ペンタエリトリトール、マニトー
ル等、ｉｃチエステル化することにより得られる。かか
る多酸の混合物および／またはかかる多価アルコールの
混付物もまた便用し得る。該不飽和ジー又はポリカルボ
ン酸は部分的に飽和ポリカルボン酸、例工ばアジピン酸
、コ・・り酸、セバシン酸等、および／または芳香族ポ
リカルボン酸、例えばフタル酸、トリメリット酸、ピロ
メリット酸、イソフタル酸およびテレフタル酸、で置き
換えられてもよい。使用した＃Ｒはハロゲンのような基
で置換されていてもよい。かかる適したノ・ロゲン化酸
の例は、例えばテトラクロロフタル酸、５゜６−ジカル
ポキシー１．２．　Ａ　４．スフ−へキサクロロビシク
ロ［２，２，Ｉ　ＩＩへブタン等である。

不飽和ポリエステル樹脂の他の成分、即ち重合性モノマ
ー、は好ましくはエチレン性不飽和モノマー、例エバス
チレン、クロロスチレン、ビニルトルエン、ジビニルベ
ンゼン、アルファ−メチルスチレン、ジアリルマレエー
ト、ジアリルフタレート、ジブチルフマレート、アクリ
ロニトリル、トリアリルホスフェート、トリアリルシア
ヌレート、メチルアクリレート、メチルメタクリレート
、ｎ−ブチルメタクリレート、エチルアクリレート、２
−ヒドロキシエチルメタクリレート等、又はそれらの混
合物であり、それらは該ポリエステルと共重合性である
。

好ましい不飽和ポリエステル樹脂はポリエステル成分と
して１．２−プロピレングリコール（ポリアルコール）
、無水マレイン酸（不飽和ポリカルボン酸の無水物）お
よび無水フタル酸（芳香族ジカルボン酸の無水物）のエ
ステル化生成物、並びにモノマー成分としてスチレンを
含む。

本発明の実施に有用な他の不飽和ポリエステル樹脂は、
ビニルエステル樹脂成分と１種又はそれ以上の重合性モ
ノマー成分とから成る不飽和ビニルエステル樹脂である
。該ビニルエステル樹脂成分は、クロロエポキシド、例
えばエビクロロヒドリン、を適当権のグリコール、例え
ばビスフェノールＡ（２，２−ジー（４−ヒドロキシフ
ェニル）−プロパン）、と水酸化ナトリウムのような塩
基の存在下にて反応させて、エビクロロヒドリンから誘
導されたエポキシ末端基を有する縮合生成物を生成させ
ることにより製造できる。縮合生成物を重合性不飽和カ
ルボン酸と酸性又は塩基性触媒の存在下又は非存在下に
て引き続き反応きせると、ビニルエステル末端樹脂成分
が形成される。通常、スチレンを重合性モノマー成分と
して添加して、不飽和ビニルエステル樹脂の製造を完了
させる。

硬化工程においては、約２０Ｃ′〜２００℃の温度、お
よび硬化性不飽和ポリエステル樹脂の約［１０５〜５重
量％以上の量のアゾ重合開始剤が通常使用される。上記
の不飽和ポリエステル樹脂に種々の材料、例えばイオウ
、ガラス繊維、カーボンブラック、シリカ、金属ケイ酸
塩、粘土、金属炭酸塩、酸化防止剤、熱および光安定剤
、増感剤、染料、顔料、促進剤、酸化亜鉛のような金属
酸化物、発泡剤等を充填することができる。

本発明のヒンダードアεンーアゾ化合物は、エチレン性
不飽和七ツマー又にそれらの混合物の、適当な温度およ
び圧力での重合又は共重合に、遊離基重合開始剤として
有用である。該化合物は従来の等温重合法においてだけ
でなく、２洩又はそれ以上の昇温工程を用いる方法又は
連続昇温を用いる方法においても有用である。

エチレン性不飽和モノマーには次のものが含まれるニオ
レフイン、例えばエチレン、プロピレン、スチレン、ア
ルファーメチルスチレン、クロロスチレン、［化ビニル
ベンジル、ビニルトルエン、ビニルピリジン、ジビニル
ベンゼン；ジオレフィン、例えば１．３−）゛タジエン
、インブレンおよびクロロプレン；ビニルエステル、例
えハ酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ラウリン酸ビニ
ル、安息香酸ビニル又は炭酸ジピニル：不飽和ニトリル
、例えばアクリロニトリルおよびメタクリロニトリル；
アクリル酸、メタクリル酸およびそれらのエステルおよ
びアミド；例、ｔ　ハメチル、エチル、ｎ−ブチルおよ
び２−エチルへキシルアクリレートおよびメタクリレー
トおよびアクリルアミドおよびメタクリルアミド；無水
マレイン酸；マレイミドおよびそのＮ−１１換誘導体、
例えばｎ−７エニルマレイミド；マレイン酸およびフマ
ル酸、およびそれらのエステル；ビニルハロおよびビニ
リデンハロ化合物、例えば塩化ビニル、弗化ビニル、塩
化ビニリデンおよび弗化ビニリデン；ペル・・ロオレフ
ィ”　、Ｎ　エｔｆ　ｙドラフルオロエチレン、ヘキサ
フルオロプロピレンおよびクロロトリフルオロエチレン
：ビニルエーテル、ｆｌＪｔばメチルビニルエーテル、
エチルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル；ア
リルエステル、ｆｌＬｔばアリルアセテート、アリルベ
ンゾエート、ジアリルフタレート、アリルエチルカーボ
ネート、トリアリルホスフェート、トリアリルシアヌレ
ート、ジアリルフマレート、ジアリルスクシネート、お
よびジアリルカーボネート；アクロレイン：メチルビニ
ルケトン；およびそれらの混合物。

従来の重合法文は昇温重合法においては、３０゜〜２５
０℃、好ましくは４０°〜２００℃の温度、およびモノ
マーを基準にしてアゾ重合開始剤會α００５〜３重量％
、好ましおけ１１０１〜１重量％が通常用いられている
。トルエンのような溶媒を使用し得る場合は、重合は溶
液中で行うことができる。塊重せ法、溶液重合法、懸濁
重付法、又は乳液重合法を使用し得る。本発明のヒンダ
ードアミン−アゾ化合物は、これらのビニル重合法にお
いて単独で又は他のペルオキシドおよびアゾ重合開始剤
と共に使用し得る。

本発明のヒンダードアミン−アゾ重合開始剤化合′４１
ＩＪＦｉ、モノマーをエラストマー（ゴム）、例えばポ
リブタジェン、スチレン−ブタジェン−スチレントリブ
ロックコポリマー、エチレンープロピレンージエンター
ボリマー等、の主鎖にグラフト重合を開始させて高耐衝
撃性ポリマ１９例えば高耐衝撃性ポリスチレン、を製造
するのにも有用である。本願組成物は、少量のゴムを用
いて、多量のゴムおよび従来の重合開始剤系を用いて製
造された高耐衝撃性ポリマーに匹敵する耐衝撃性を有す
る高耐衝撃性ポリマーを製造するのにも有用である。上
記のビニル重合条件、重合開始剤量および１５重量％ま
でのゴム（モノマーを基準とする）を高耐衝撃性ポリマ
ーの製造に使用し得る。

エチレン性不飽和コモノマーはＵＶ吸収性部分、例えば
ヒドロキシフェニル置換したベンゾトリアゾール又１ｄ
　ｓ　−トリアジン、ヒドロキシ置換ベンゾフェノン、
オキサニリド又はアルファーシアノシンナメート又はヒ
ンダードアミン光安定化部分をも含み得る。かかるエチ
レン性不飽和ＵＶ吸収剤は、本願に参考として含ませる
多くの米国特許に記載されている。

アクリル化ベンゾトリアゾールは米国特許第４．４１ム
０９５：４，７１４２Ｓ４：４，７Ｂへ０６３および４
．８（１２５４号に記載されている。アクリロキシアル
キルベンゾトリアゾールは米国％許第４．２６０．７６
８号に記載されている。ビニル置換ベンゾトリアゾール
は米国特許第４５０＆８８２号に記載されている。エチ
レン性不飽和ベンゾトリアゾールは米国特許第４４９１
３９号に記載されている。アクリル化ベンゾフェノンは
米国特許第４．３１０，６５０号に記載されている。

本願安定剤の更に別の好まＬ７い組合せは、ポリプロピ
レン繊維をガス退色から保護するために、６の項で前に
述べたよりなＮ−１１１換ヒドロキシルアミンと組合せ
ることである。

下記の例は例示のためにのみ提示されたもので、本発明
の本質および範囲をいかなる方法でも制限するものでな
いと解釈されたい。

（実施例） 例１ ジー（１−メトキシ−λ２．４６−チトラメチルピベリ
ジンー４−イル）４．４’−アゾビス（４−シアノバレ
レート） テトラヒドロフラン２０ａｌ中の４．４′−アゾビス（
４−シアノバレレート酸）（２，８グラム）の攪拌懸濁
液に塩化オキサリル２．１ｄを添加する。室温にて３時
間攪拌した後、溶媒および過剰の塩化オキサリルを減圧
下で除去する。形成した酸クロリドをトルエン中に溶解
し、次に０℃の塩化メチレン２０ｄ中の１−メトキシ−
４−ヒドロキシ−２，２，６，６−チトラメチルビペリ
ジン（Ａ５１ｆ）およびピリジン２．Ｏｄの攪拌溶液中
に添加する。室温にて１時間攪拌した後、反応混合物を
濃縮しそして残留物を液体クロマトグラフィーで精製し
て、標題化合物をシスおよびトランス異性体の混合物と
して得る。

分析：　Ｃｓ＊ＨｓａＮａＯａの 計算値：　Ｃ，６２，１：Ｈ，ａ８；Ｎ、　１１実側値
：　Ｃ，６ｔａ：Ｈ，？、０；Ｎ、　１５３例２〜１４ 例１の一般的手順を用いて、下記式の化合物Ｕｌｉｓ　
シＨ。

Ｘ −〇− ＮＨ− 一〇− ＮＨ− 一〇− ＮＨ− 一〇− ＮＨ− ＮＨ− シクロへキシルオキシ シクロヘキシルオキシ オクチルオキシ オクチルオキシ ヒドロキシル メトキシ メトキシ ヘプチルオキシ ホルミル ヘプチルオキシ （ＴはＴの欄におけるもの と同一である） シクロへキシルオキシ を製造する。

ＮＨ− ＮＨ− 一〇− ＮＨ− 一〇− 一〇− 一〇− 一〇− 一〇− シクロへキシルオキシ ノニルオキシ ヘプチルオキ７ ノニルオキシ オクチルオキシ オクタデシルオキシ アリルオキシ ヒドロキシ ホルミル ヘプチルオキシ 例１の一投的手順を用いて、下記式の化合物例２７〜３
４ 米国特許第２，７１１，４０５　号に記載された一般的
方法に従って、１−ヒドロカルビルオキシ−Ｚ　２．６
．．６−テトラメチル−４−ピペリドンシアノヒドリン
をアンモニアと反応させて対応するアルファーアミノニ
トリルを生成させる。アルファーアミノ；トリルを仄亜
塩素醒ナトリウムで１０’Ｃ以下の温度にて酸化して、
下記の構造の対応するビス−アゾ化合物を得る。

メトキシ シクロヘキシルオキシ オクチルオキシ オクタデシルオキシ アリルオキシ ヒドロキシ ３３　　　　　　　　　ホルミル ３４　　　　　　　　　ノニルオキシ 例３５ ジー（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメ
チルビペリジン−４−イル）　４．　ａ／−アソービテ
トラヒドロフラン１５−中の４．４′−アゾビス（４−
シアノバレリアン酸ン（α７７ｖ）および４−ヒドロキ
シ−１−オクチルオキシ−２゜２．４６”−テトラメチ
ルピペリジン１．５５９の溶液に、ジシクロへキシルカ
ルボジイミド１．１６２を室温にて添加する。反応混合
物を一夜攪拌しり後、追加のジシクロへキシルカルボジ
イミドｌ１３ｔおよびジメチルアミノピリジンα２２を
添加し、そして反応混合物を室温にて更に８時間攪拌す
る。粗製反応混合物を酢酸α５　ｍｌを添加することに
より冷まし、沈殿した尿素を濾過により除去する。Ｆ液
を減圧下で濃縮しそして残留物をシリカゲルフラッシュ
カラムクロマトグラフィー（ヘキサン：アセトン＝３０
：１の浴出液）により精製して、標題化合物１．３ｔを
透明油として得る。

分析：Ｃ４ａＨｍＮａＯｓの 計算値：Ｃ，６ｚｓ；ｉｔ、ｆα２：Ｎ、１α３実側値
：Ｃ，６７，８；）ｌ、　１α４：Ｎ、１α２例３６ Ｎ、Ｎ’−ジ（１−シクロヘキシルオキシ−２，２゜へ
６−テトラメチルビペリジン−４−イル）−アセトニト
リル１５１中の４．４′−アゾビス（４−シアノバレリ
アンｅＲ）Ｃα７７？ンおよび４−アミノ−１−シクロ
ヘキシルオキシ−２゜２．４６−チトラメチルビペリジ
ン１．４４９の溶液ニジシクロへキシルカルボジイミド
１．１６　ｆを加える。反応混合物を８時間室温で攪拌
した後、反応混合物を酢酸［１５ｍ１を用いて冷まし、
沈殿した尿素を濾過により除去する。Ｐ液をシリカゲル
フラッシェ力ラムクロマトグラフィーにより精製して、
標題化合物を白色固体として得る。

例３７ ポリプロピレンの光安定化 この例は本願安定剤の光安定化有効性を例示する。

ｎ−オクタデシル４５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキ
シヒドロシンナメートα２重量％を用いて安定化したポ
リプロピレン粉末（Ｉ・イモント　プロファックス（Ｈ
ｉｍｏｎｔ　Ｐｒｏｆａｘ　）　６５０１　）を指示量
の添加剤と十分にブレンドする。ブレンド材料を仄に二
本ロール機上で１８２℃にて５分間練り、その後安定化
ポリプロピレンを該ロール機からシート化しそして放冷
する。圧延ポリプロピレンを次に片に切断し、そして油
圧プレス上、２５０℃およびｊ、２　Ｘ　１　ｏ’ｐａ
で（Ｌ１２７ｍフィルムに圧縮成形する。試験片を螢光
太陽光／ｉｌｌ光（ＦＳ／ＢＬ）室中で破損するまで露
光する。破損は、露光フィルムの赤外分光分析によりカ
ルボニル吸収度α５に達するまでに要する時間である。

ＦＳ／ＢＬテスト結果 なし　　　　　　　　　　　　　３４０例１の生成物α
１重量％　　　　　　　１７００本願化合物はポリ（塩
化ビニル）およびＡＢＳ樹脂中で有効な安定剤でもある
；そして本願の重合開始剤を使用して製造したノ１イソ
リッド熱硬化アクリル系コーティング樹脂は、透明おヨ
ヒペースコート／透明コートの両方の適用において顕著
な耐久性および耐候性を示す。

例３Ｂ アクリル酸ブチル２５％、メタクリル酸ブチル２７チ、
アクリル酸２−とドロキシエチル３０チ、スチレンｔｓ
ｔｓおよびアクリル１１１５％（全てのチ値は重量部で
ある）から成るモノマー組成物１００ｔおよび例３５で
裂遺した重合開始剤１．６４　ｔを還流キシレン中で重
合して。

ポリマーに化学的に結合し九Ｎ−０Ｔ、置換ヒンダード
アミン部分を有する安定化アクリルポリオニルポリマー
を生成する。

例３９ ハイソリッド熱硬化アクリル樹脂エナメルの安定化 例５８で製造した安定化アクリルポリオールコポリマー
を熱硬化アクリルエナメルの配合に使用する。

アクリル−メラミン配合物は上述したアクリルポリオー
ルコポリマー７０部、メラミン〔サイメル（Ｃｙｍｅｌ
　）　３０５．アメリカンシアナミド〕１８ｓ１スルホ
ン酸触媒α５１部〔サイキャット（Ｃｙｃａｔ　）　６
００．７０％ＤＤＢＳＡ、　　アメリカンツアナミド〕
、流動化助剤（ｐ−Ｃ４５１，５０％固形分フルオロカ
ーボン、３Ｍ）α６部およびメチルアミルケト７８８部
を含む（全ての値は重量部）。

市販のエポキシ下塗した１α１６３Ｘ５（Ｌ４ａｍハネ
ル（アドバンスト　コーチインゲス　テクノロジー製の
ユニプライム）に銀金属色ベースコートを約α０２５ｗ
ｍ厚にスプ、レー塗布し、そして３分間空気乾燥する。

安定化した熱硬化アクリル樹脂エナメルを次に下塗した
パネル上に約α０４９Ｍの厚さまでスプレー掛けする。

１５分間空気乾燥した後、塗装７−トを１２１℃にて３
０分間暁成する。

空調室で１週間貯蔵した後、塗装パネルをテスト法ＡＳ
ＴＭＧ−５３／７７　ｉｃ［りてＱＵＶｇ光装置内で耐
候性テストに付す。このテストで、試料に５０℃の湿っ
た雰囲気中で４時間そして次に７０℃でＵＶ光の下に８
時間の禰返しサイクル中で耐候性テスト１行う。パネル
ｄＱＵＶ中で１５００時間露光する。パネルの２０″光
沢値を露光の前および後に沖」定する。

安定化パネルの光沢の減ｔは非安定化対照パネルのそれ
よりもかなり少ない。

特許出願人　チバーガイギー　アクチェンゲゼルシャフ
ト

Claims (18)

【特許請求の範囲】
1. （１）同じ分子中に低塩基度のヒンダードアミン部分お
   よびアゾ基を有し、次式 I ： Ｅ＿１−Ｎ＝Ｎ−Ｅ＿２（ I ） ｛上記式中、 Ｅ＿１は次式： ▲数式、化学式、表等があります▼、又は▲数式、化学
   式、表等があります▼ 〔上記式中、 Ｒ＿１およびＲ＿２は独立して炭素原子数１ないし３６
   のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキ
   ル基、炭素原子数７ないし２０のアルアルキル基を表わ
   すか、或いは Ｒ＿１とＲ＿２とは一緒になって炭素原子数２ないし１
   ０のアルキレン基を表わすか、或いは Ｒ＿１およびＲ＿２の一方は次式II： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） で表わされる基を表わし； Ｙは−ＣＮ、−Ｎ＿３、−ＣＯＯＴ＿１、−ＣＯＮＨ＿
   ２、−ＯＴ＿１、−ＳＴ＿１、−ＯＯＨ又はＯＨを表わ
   し； Ｇ＿１およびＧ＿２は独立して炭素原子数１ないし４の
   アルキル基を表わすか、或いはＧ＿１とＧ＿２とは一緒
   になってペンタメチレン基を表わし；Ｘは−Ｏ−、−Ｎ
   Ｈ−、−ＮＴ＿１−又は次式：▲数式、化学式、表等が
   あります▼ で表わされる基を表わし； Ｔはホルミル基、−ＯＴ＿１又は−ＯＣＯＴ＿２（ここ
   でＴ＿１は炭素原子数１ないし３６のアルキル基、炭素
   原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数３
   ないし１８のアルケニル基、炭素原子数５ないし１２の
   シクロアルケニル基、炭素原子数７ないし１５のアルア
   ルキル基、炭素原子数７ないし１２の飽和又は不飽和の
   二環式又は三環式炭化水素基、又は炭素原子数６ないし
   １０のアリール基又はアルキル基で置換された該アリー
   ル基を表わし、そして Ｔ＿２は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原
   子数１ないし１８のアルコキシ基、フェニル基又はヒド
   ロキシ、アルキル又はアルコキシで置換された該フェニ
   ル基、又はアミノ基又はアルキル又はフェニルでモノ−
   又はジ置換された該アミノ基を表わす）を表わす〕で表
   わされる基であり；そして Ｅ＿２はＥ＿１と同じ意味を有するか、或いはＥ＿２は
   炭素原子数１ないし３６のアルキル基、炭素原子数５な
   いし１２のシクロアルキル基、又は炭素塩子数７ないし
   ２０のアルアルキル基を表わすが、但しＥ＿１およびＥ
   ＿２の一方は▲数式、化学式、表等があります▼部分 が存在する基を含まなければならない｝で表わされる化
   合物。
2. （２）Ｅ＿１とＥ＿２とが同じである請求項１記載の化
   合物。
3. （３）Ｇ＿１およびＧ＿２が夫々メチル基である請求項
   １記載の化合物。
4. （４）Ｒ＿１およびＲ＿２が夫々炭素原子数１ないし４
   のアルキル基である請求項１記載の化合物。
5. （５）Ｒ＿１およびＲ＿２が夫々メチル基である請求項
   ４記載の化合物。
6. （６）Ｙが−ＣＮである請求項１記載の化合物。
7. （７）Ｘが−Ｏ−、−ＮＨ−又は次式： ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる基である請求項１記載の化合物。
8. （８）Ｘが−Ｏ−又は−ＮＨ−基である請求項７記載の
   化合物。
9. （９）Ｔがホルミル又は−ＯＴ＿１基であり、ここでＴ
   ＿１が炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子
   数２ないし５のアルケニル基、プロパルギル基、アルフ
   ァ−メチルベンジル基又はシクロヘキシル基である請求
   項１記載の化合物。
10. （１０）Ｅ＿１が次式： ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる基であり、ここでＸが−Ｏ−又は−ＮＨ−
    でありそしてＴ＿１が炭素原子数１ないし１２のアルキ
    ル基又はシクロヘキシル基であり；そしてＥ＿２がＥ＿
    １と同じであるか、或いは第三ブチル基である、請求項
    １記載の式 I で表わされる化合物。
11. （１１）請求項１記載の化合物の有効重合開始量の存在
    下にて遊離基により重合することができるエチレン性不
    飽和モノマーの１種又はそれ以上を重合することを特徴
    とする、ポリマーの主鎖に化学的に結合したヒンダード
    アミン光安定剤部分を含む光安定性のホモ−又はコポリ
    マーの製造法。
12. （１２）請求項１１記載の方法により製造された、化学
    線の有害な影響に対して安定化されたポリマー。
13. （１３）請求項１１記載の方法により製造された安定化
    ポリマーを含む、化学線の有害な影響に対して安定化さ
    れた組成物。
14. （１４）（ａ）ポリマー、および （ｂ）請求項１記載の化合物の有効安定化量、を含む、
    化学線の有害な影響に対して安定化された組成物。
15. （１５）上記のポリマーがポリオレフィンである請求項
    １４記載の組成物。
16. （１６）上記のポリマーがアルキッド、アクリル、アク
    リル−アルキッド、ポリエステル、エポキシド、ウレタ
    ン、ポリアミド、ビニル又はエポキシ−ポリエステル樹
    脂を基材にしたコーティング系である請求項１４記載の
    組成物。
17. （１７）紫外線吸収剤又は追加の光安定剤を含む請求項
    １６記載の組成物。
18. （１８）成分（ｂ）が成分（ａ）にグラフトされている
    請求項１４記載の組成物。