JPS60215673A - 新規なピペラジノン誘導体及び該化合物により安定化された有機材料 - Google Patents
新規なピペラジノン誘導体及び該化合物により安定化された有機材料Info
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
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- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
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- C08K5/3442—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having two nitrogen atoms in the ring
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07D241/00—Heterocyclic compounds containing 1,4-diazine or hydrogenated 1,4-diazine rings
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- C07D241/08—Heterocyclic compounds containing 1,4-diazine or hydrogenated 1,4-diazine rings not condensed with other rings having one or two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with oxygen atoms directly attached to ring carbon atoms
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は有機材料、特に肩概ポリマーの光及び熱安定剤
として有用な、置換された4−アシル−2−ピペラジノ
7基を含有する化合物、並びに該化合物で安定化された
組成物に関する。
として有用な、置換された4−アシル−2−ピペラジノ
7基を含有する化合物、並びに該化合物で安定化された
組成物に関する。
2.2,6.6−テトラ置換ピペラジノンを有する立体
障害性アミンは南機材料の元安定剤として以前から知ら
れており、それ目体重要な産業的意義を達成してきた。
障害性アミンは南機材料の元安定剤として以前から知ら
れており、それ目体重要な産業的意義を達成してきた。
その様な立体障害性アミンは、例えばH,J’、Hel
Ier及びH,R,Bla−ttmannによるPu
re & Appl ied Chemistry第6
6巻、第141〜161頁(1975年)に詳細に記載
されている。
Ier及びH,R,Bla−ttmannによるPu
re & Appl ied Chemistry第6
6巻、第141〜161頁(1975年)に詳細に記載
されている。
元部解性プラスチックの紫外線安定剤として有用な置換
された2−ピペラジノ/が合衆国特許第4190571
号、第4292240号及び第4298737号に記載
されている。これらの特許に記載されている化合物は全
て強塩基性を供与する第二または第三アミノ基を含有し
ているため、ある種の施用目的には適当でない。合衆国
特許第419057N号には、その他にN−カルボキシ
化合物(ウレタン)も記載されているが、該化合物の製
造方法及び該化合物が有する性質については示唆されて
いない。
された2−ピペラジノ/が合衆国特許第4190571
号、第4292240号及び第4298737号に記載
されている。これらの特許に記載されている化合物は全
て強塩基性を供与する第二または第三アミノ基を含有し
ているため、ある種の施用目的には適当でない。合衆国
特許第419057N号には、その他にN−カルボキシ
化合物(ウレタン)も記載されているが、該化合物の製
造方法及び該化合物が有する性質については示唆されて
いない。
アシル化されたピペラジン型の立体障害性アミンが合衆
国特許第4046757号及び第4066615号に記
載されている。
国特許第4046757号及び第4066615号に記
載されている。
本発明において、4−アシル−2−ピペラジノン部分を
含有し、有機ポリマーの安定化に更に改良された新規化
合物が見出された。
含有し、有機ポリマーの安定化に更に改良された新規化
合物が見出された。
本発明の化合物は次式1:
〔式中、几1及びft2は各々独立に炭素原子数1ない
し12のアルキル基、炭素原子数5ないし12の7クロ
アルキル基、炭素原子数2ないし14のアルケニル基ま
たは炭素原子数7ないし15のアルアルキル基を表わす
か、またはR1と凡2は一緒になって炭素原子数4ない
し6のアルキレフ基を表わし、 几、は炭素原子数1ないし12のアルカノイル基、炭素
原子数5ないし8のアルカノイル基またはベノゾイル基
を表わし、 R4及びR5は各々独立に凡1及びR2と同じ意味を表
わし、 R6及びR7は各々独立にR,及びR2と同じ意味を表
わすか、または水素原子を表わし、gFilまたは2を
表わし、 gが1を表わす場合、Eは水素原子、炭素原子数1ない
し24のアルキル基、炭素原子数2ないし14のアルケ
ニル基、炭素原子数7ないし15のアルアルキル基、炭
素原子数7ないし15のアルキルアルアルキル基、炭素
原子数1ないし12のヒドロキシアルキル基、炭素原子
数2ないし24のアルカノイルオキシアルキル基、炭素
原子数4ないし21のアルゲニルオキシアルキル基また
は炭素原子数8ないし18のべ/ジイルオキシアルキル
基を表ワシ、gが2を表わす場合、Eは直釦または分枝
鎖の炭素原子数2ないし10のアルキレン基を表わす〕
で表わされる。
し12のアルキル基、炭素原子数5ないし12の7クロ
アルキル基、炭素原子数2ないし14のアルケニル基ま
たは炭素原子数7ないし15のアルアルキル基を表わす
か、またはR1と凡2は一緒になって炭素原子数4ない
し6のアルキレフ基を表わし、 几、は炭素原子数1ないし12のアルカノイル基、炭素
原子数5ないし8のアルカノイル基またはベノゾイル基
を表わし、 R4及びR5は各々独立に凡1及びR2と同じ意味を表
わし、 R6及びR7は各々独立にR,及びR2と同じ意味を表
わすか、または水素原子を表わし、gFilまたは2を
表わし、 gが1を表わす場合、Eは水素原子、炭素原子数1ない
し24のアルキル基、炭素原子数2ないし14のアルケ
ニル基、炭素原子数7ないし15のアルアルキル基、炭
素原子数7ないし15のアルキルアルアルキル基、炭素
原子数1ないし12のヒドロキシアルキル基、炭素原子
数2ないし24のアルカノイルオキシアルキル基、炭素
原子数4ないし21のアルゲニルオキシアルキル基また
は炭素原子数8ないし18のべ/ジイルオキシアルキル
基を表ワシ、gが2を表わす場合、Eは直釦または分枝
鎖の炭素原子数2ないし10のアルキレン基を表わす〕
で表わされる。
R6及び几7は好ましくは水素原子である。
アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルア
ルキル基、またはアルキルアルアルキル基としてのRI
、几2.R4,R5,几6として、例えばメチル基、エ
チル基、インプロピル基、第ニブチル基、n−アミル基
、2−エチルヘキシル基、n−デシル基、n−ドデシル
基、ビニル基、アリル基、ブテニル基、クロチル基、オ
クテニル基、ドデセニル基、シクロペ;’ f /’
基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロドデ
シル基、ヘンシル基、4−メチルベンジル基、4−プチ
ルベ/ジル基、4−オクチルペ/ジル基または2−フェ
ニルエチル基が挙げられる。
ルキル基、またはアルキルアルアルキル基としてのRI
、几2.R4,R5,几6として、例えばメチル基、エ
チル基、インプロピル基、第ニブチル基、n−アミル基
、2−エチルヘキシル基、n−デシル基、n−ドデシル
基、ビニル基、アリル基、ブテニル基、クロチル基、オ
クテニル基、ドデセニル基、シクロペ;’ f /’
基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロドデ
シル基、ヘンシル基、4−メチルベンジル基、4−プチ
ルベ/ジル基、4−オクチルペ/ジル基または2−フェ
ニルエチル基が挙げられる。
R1,几2.R4及びB5は好ましくは各々独立に炭素
原子数1ないし4のアルキル基、アリル基、シクロヘキ
シル基またはべ/ジル基、特にメチル基を表わす。
原子数1ないし4のアルキル基、アリル基、シクロヘキ
シル基またはべ/ジル基、特にメチル基を表わす。
アルカノイル基としてのR,は、例えばホルミル基、ア
セチル基、プロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル
基、カプロイル基、デカノイル基またはラウロイル基を
表わし得る。アルケノイル基としてのR3は例えばアク
リロイル基、メタクリロイル基、ヘキセノイル基または
オフテノイル基を表わし得る。f(+3は好ましくは炭
素原子数2ないし8のアルカノイル基、炭素原子数6な
いし4のアルケノイル基またはベンゾイル基、特にアセ
チル基、プロピオニル基、アクリロイル基またはべ/ジ
イル基を表わす。
セチル基、プロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル
基、カプロイル基、デカノイル基またはラウロイル基を
表わし得る。アルケノイル基としてのR3は例えばアク
リロイル基、メタクリロイル基、ヘキセノイル基または
オフテノイル基を表わし得る。f(+3は好ましくは炭
素原子数2ないし8のアルカノイル基、炭素原子数6な
いし4のアルケノイル基またはベンゾイル基、特にアセ
チル基、プロピオニル基、アクリロイル基またはべ/ジ
イル基を表わす。
R1とR2,几、とR6並びに几、とR7が各々−緒に
なって炭素原子数4ないし6のアルキレフ基を表わす場
合、例えばテトラ−、ベンター、またはヘキサメチレフ
基を表わし得る。
なって炭素原子数4ないし6のアルキレフ基を表わす場
合、例えばテトラ−、ベンター、またはヘキサメチレフ
基を表わし得る。
アルキル基としてのEは例えばメチル基、エチル基、イ
ノプロピル基、n−アミル基、2−エチルヘキシル基、
n−デシル基、n−ドデシル基、n−ヘキサデシル基、
n−オクタデシル基、エイコシル基またはテトラコシル
基ヲ表わし得る。アルケニル基としてのEは例えばビニ
ル基、アリル基、ブテニル基、オクテニル基またはドデ
セニル基でアル。
ノプロピル基、n−アミル基、2−エチルヘキシル基、
n−デシル基、n−ドデシル基、n−ヘキサデシル基、
n−オクタデシル基、エイコシル基またはテトラコシル
基ヲ表わし得る。アルケニル基としてのEは例えばビニ
ル基、アリル基、ブテニル基、オクテニル基またはドデ
セニル基でアル。
アルアルキル基またはアルキルアルアルキル基としての
Eは例えばベンジル基、4−メチルベンジル基、4−ブ
チルベンジル基、4−オクチルベンジル基マたは2−フ
ェニルエチル基であり得る。
Eは例えばベンジル基、4−メチルベンジル基、4−ブ
チルベンジル基、4−オクチルベンジル基マたは2−フ
ェニルエチル基であり得る。
ヒドロキシアルキル基、アルカノイルオキシアルキル基
、アルケノイルオキシアルキル基tタハペンゾイルオキ
シアルキル基としてのEi例えばヒドロキシメチル基、
2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシアルキル基、
6−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシブチル基、2
−ヒドロキシドデシル基、ホルミルオキシメチル基、ア
セトキシメチル基、2−アセトキシエチル基、2−ブチ
ロイルオキシエチル基、2−オクタノイルオキシエチル
基、2−ドデカノイルオキシエチル基、3−エイコサノ
イルオキシグロビル基、アクリロイルオキシメチル基、
2−アクリロイルオキシメチル基、2−メタクリロイル
オキシエチル基、2−メタクリロイルオキシエチル基、
2−オレイルオキシエチル基、ベンゾイルオキシメチル
基、2−ベンゾイルオキシエチル基または3−ペノゾイ
ルオキシブロピル基であり得る。
、アルケノイルオキシアルキル基tタハペンゾイルオキ
シアルキル基としてのEi例えばヒドロキシメチル基、
2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシアルキル基、
6−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシブチル基、2
−ヒドロキシドデシル基、ホルミルオキシメチル基、ア
セトキシメチル基、2−アセトキシエチル基、2−ブチ
ロイルオキシエチル基、2−オクタノイルオキシエチル
基、2−ドデカノイルオキシエチル基、3−エイコサノ
イルオキシグロビル基、アクリロイルオキシメチル基、
2−アクリロイルオキシメチル基、2−メタクリロイル
オキシエチル基、2−メタクリロイルオキシエチル基、
2−オレイルオキシエチル基、ベンゾイルオキシメチル
基、2−ベンゾイルオキシエチル基または3−ペノゾイ
ルオキシブロピル基であり得る。
gが1′lt表わす場合、Eは好ましくは炭素原子数1
ないし12のアルキル基、アリル基、ベンジル基、炭素
原子数2ないし3のヒドロキシアルキル基、炭素原子数
4ないし14のアルカノイルオキシアルキル基、炭素原
子数5ないし7のアルケノイルオキシアルキル基または
炭素原子数9ないし11のベンゾイルオキシアルキル基
である。
ないし12のアルキル基、アリル基、ベンジル基、炭素
原子数2ないし3のヒドロキシアルキル基、炭素原子数
4ないし14のアルカノイルオキシアルキル基、炭素原
子数5ないし7のアルケノイルオキシアルキル基または
炭素原子数9ないし11のベンゾイルオキシアルキル基
である。
アルキレフ基としてのEは例えば1.2−エチレン基、
1.2−プロピレン基、トリー、テトラ−、ベンター、
ヘキサ−、オクタ−またはドデカメチレフ基であシ得る
。gが2を表わす場合、Eは好ましくはエチレン基であ
る。
1.2−プロピレン基、トリー、テトラ−、ベンター、
ヘキサ−、オクタ−またはドデカメチレフ基であシ得る
。gが2を表わす場合、Eは好ましくはエチレン基であ
る。
式Iの化合物は次式■、
(式中、R1,R,、I(4,R5,R6,R7,E
、 gは前記の意味を表わす) で表わされる対応する未置換ピペラジノンのN−アシル
化によシ製造される。このN−アシル化は公知の第二ア
ミ/のN−アンル化方法、例えば次式’(Rs)gOで
表わされるカルボン酸無水物または次式’ Rm −H
alで表わされるカルボ/酸ハロゲン化物(式中、Rs
は前記の意味を表わし、Halはハロゲン原子、特に塩
素原子または臭素原子を表わす)による置換により行な
われる。不飽和カルボン酸基としてのR3はβ−ハロゲ
ンカルボン酸基からハロゲン化水素を脱離することによ
り得られる。
、 gは前記の意味を表わす) で表わされる対応する未置換ピペラジノンのN−アシル
化によシ製造される。このN−アシル化は公知の第二ア
ミ/のN−アンル化方法、例えば次式’(Rs)gOで
表わされるカルボン酸無水物または次式’ Rm −H
alで表わされるカルボ/酸ハロゲン化物(式中、Rs
は前記の意味を表わし、Halはハロゲン原子、特に塩
素原子または臭素原子を表わす)による置換により行な
われる。不飽和カルボン酸基としてのR3はβ−ハロゲ
ンカルボン酸基からハロゲン化水素を脱離することによ
り得られる。
式■の中間体は合衆国特許第4190571 号に記載
された方法によって、例えばポリアミンとシアンヒドリ
ンとの反応によって製造され得る。
された方法によって、例えばポリアミンとシアンヒドリ
ンとの反応によって製造され得る。
式Iの化合物は有機ポリマーに有効な安定剤である。有
機ポリマーの例を下記に示す。
機ポリマーの例を下記に示す。
1、 モノオレフィ/及びジオレフィンのポリマー、例
えば所望によシ架橋結合できるポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリインプレ/、ポリブテン−1,ポリメチル
ベ/テン−1、ポリインプレ/またはポリブタジエ/、
ならびにシクロオレフィン例えばシクロペンテンもしく
はノルボルネンのポリマー。
えば所望によシ架橋結合できるポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリインプレ/、ポリブテン−1,ポリメチル
ベ/テン−1、ポリインプレ/またはポリブタジエ/、
ならびにシクロオレフィン例えばシクロペンテンもしく
はノルボルネンのポリマー。
2.1)で述べたポリマーの混合物、例えばポリマaビ
レ/とポリインプレ/との混合物。
レ/とポリインプレ/との混合物。
五 モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニ
ルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン/プロピレ
ンコポリマー、プロピレン/ブテン−1コポリマー、プ
ロピレン/インブチレンコポリマー、エチレン/ブテン
−1コポリマー、プロビレ//ブタジェンコポリマー、
インブチレン/イソプレンコポリマー、エチレン/アル
キルアクリレートコポリマー、エチレン/アルキルメタ
アクリレートコポリマー、エチレン/ビニルアセテート
コポリマーまたはエチレン/アクリル酸コポリマー及び
それらの塩類(アイオノマー)並びにエチレンとプロピ
レン及びジエ/例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジ
ェンまたはエチリデンノルボルネ/とのターポリマー。
ルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン/プロピレ
ンコポリマー、プロピレン/ブテン−1コポリマー、プ
ロピレン/インブチレンコポリマー、エチレン/ブテン
−1コポリマー、プロビレ//ブタジェンコポリマー、
インブチレン/イソプレンコポリマー、エチレン/アル
キルアクリレートコポリマー、エチレン/アルキルメタ
アクリレートコポリマー、エチレン/ビニルアセテート
コポリマーまたはエチレン/アクリル酸コポリマー及び
それらの塩類(アイオノマー)並びにエチレンとプロピ
レン及びジエ/例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジ
ェンまたはエチリデンノルボルネ/とのターポリマー。
4、 ポリスチレン、ポリ−(p−メチルスチレン)。
5、 スチレ/またはα−メチルスチレ/とジエンまた
はアクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン/ブ
タジェン、スチレン/アクリロニトリル、スチレン/ア
ルキルメタアクリレート、スチレン/無水マレイン酸、
スチレン/アクリロニトリル/メチルアクリレート;ス
チレンコポリマーと他のポリマー例えばポリアクリレー
ト、ジエンポリマー、またはエチレン/フロビレ//ジ
エ/ターポリマーとからの高耐衝馨性混合物;及びスチ
レンのブロックコポリマー例えばスチレ//ブタジェン
/スチレ/、スチレ//インプレ//スチレン、スチレ
ン/エチレン/ブチレノ/スチレンまたはスチレ//エ
チレン/プロビレ//スチレ/。
はアクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン/ブ
タジェン、スチレン/アクリロニトリル、スチレン/ア
ルキルメタアクリレート、スチレン/無水マレイン酸、
スチレン/アクリロニトリル/メチルアクリレート;ス
チレンコポリマーと他のポリマー例えばポリアクリレー
ト、ジエンポリマー、またはエチレン/フロビレ//ジ
エ/ターポリマーとからの高耐衝馨性混合物;及びスチ
レンのブロックコポリマー例えばスチレ//ブタジェン
/スチレ/、スチレ//インプレ//スチレン、スチレ
ン/エチレン/ブチレノ/スチレンまたはスチレ//エ
チレン/プロビレ//スチレ/。
6 スチレンのグラフトコポリマー、例えばスチレ/と
ポリブタジェン、スチレン及びアクリロニトリルとポリ
ブタジェン、スチレン及びマレイン酸無水物とポリブタ
ジェン、スチレン及びアクリル酸アルキルまたはメタク
リル酸アルキルとポリブタジェン、スチレン及びアクリ
ロニトリルトエチレンープロピレン−ジェノターポリマ
ー、スチレン及びアクリロニトリルとポリアルキルアク
リレートまたはポリアルキルメタクリレート、スチレ/
及びアクリロニトリルとアクリレート−ブタジェノコポ
リマーのようなグラフトコポリマー、及びこれらと5)
に列挙したコポリマーとの混合物、例えばAB8.MB
8゜ASAiたはAE8ポリマーとして知られている混
合物。
ポリブタジェン、スチレン及びアクリロニトリルとポリ
ブタジェン、スチレン及びマレイン酸無水物とポリブタ
ジェン、スチレン及びアクリル酸アルキルまたはメタク
リル酸アルキルとポリブタジェン、スチレン及びアクリ
ロニトリルトエチレンープロピレン−ジェノターポリマ
ー、スチレン及びアクリロニトリルとポリアルキルアク
リレートまたはポリアルキルメタクリレート、スチレ/
及びアクリロニトリルとアクリレート−ブタジェノコポ
リマーのようなグラフトコポリマー、及びこれらと5)
に列挙したコポリマーとの混合物、例えばAB8.MB
8゜ASAiたはAE8ポリマーとして知られている混
合物。
l ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、
塩素化ゴム、塩素化若しくはクロロスルホ/化ポリエチ
レン、エピクロルヒドリン本モー及び−コポリマー、特
にハロゲン含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリゾ/、ポリ弗化ビニル、
ポリ弗化ビニリデン及びこれらのコポリマー、例えば塩
化ビニル/塩化ビニリデン、塩化ビニル/酢酸ビニルま
たは塩化ビニリデン/酢酸ビニルコポリマー。
塩素化ゴム、塩素化若しくはクロロスルホ/化ポリエチ
レン、エピクロルヒドリン本モー及び−コポリマー、特
にハロゲン含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリゾ/、ポリ弗化ビニル、
ポリ弗化ビニリデン及びこれらのコポリマー、例えば塩
化ビニル/塩化ビニリデン、塩化ビニル/酢酸ビニルま
たは塩化ビニリデン/酢酸ビニルコポリマー。
a α、β−不飽和酸及びその誘導体から訪導されたポ
リマー、例えばポリアクリレート及びポリメタクリレー
ト、ポリアクリルアミド及ヒポリアクリロニトリル。
リマー、例えばポリアクリレート及びポリメタクリレー
ト、ポリアクリルアミド及ヒポリアクリロニトリル。
9 前記8)に挙げた七ツマー相互のまたは他の不飽和
モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル/ブ
タジェンコポリマー、アクリロニトリル/アルキルアク
リレートコポリマー、アクリルニトリル/アルコキシア
クリレートコポリマー、アクリロニトリル/ハロゲン化
ビニルコポリマーまたはアクリロニトリル/アルキルメ
タクリレート/ブタジェノターポリマー。
モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル/ブ
タジェンコポリマー、アクリロニトリル/アルキルアク
リレートコポリマー、アクリルニトリル/アルコキシア
クリレートコポリマー、アクリロニトリル/ハロゲン化
ビニルコポリマーまたはアクリロニトリル/アルキルメ
タクリレート/ブタジェノターポリマー。
10、不飽和アルコール及びアミン並びにそのアシル誘
導体またはアセタールから誘導されたポリマー、例えば
ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルス
テアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレ
エート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレート
、ポリアリルメラミン。
導体またはアセタールから誘導されたポリマー、例えば
ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルス
テアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレ
エート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレート
、ポリアリルメラミン。
11、JJl状エーテルのホモポリマー及びコポリマー
、例えばポリアルキレ/グリコール、ポリエチレンオキ
シド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−グ
リシジルエーテルとのコポリマー。
、例えばポリアルキレ/グリコール、ポリエチレンオキ
シド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−グ
リシジルエーテルとのコポリマー。
1z ポリアセタール、例えばポリオキ7メチレ/、及
びコモノマーとしてエチレンオキシドを含むポリオキシ
メチレン。
びコモノマーとしてエチレンオキシドを含むポリオキシ
メチレン。
1& ポリフェニレンオキシド及びスルフィド並びにこ
れらとスチレンポリマーとの混合物。
れらとスチレンポリマーとの混合物。
14、一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエ
ーテル、ポリエステル及びポリブタジエ/と他方の成分
として脂肪族または芳香族ポリインシアネートとから誘
導されたポリウレタン及びその前駆物質。
ーテル、ポリエステル及びポリブタジエ/と他方の成分
として脂肪族または芳香族ポリインシアネートとから誘
導されたポリウレタン及びその前駆物質。
15、ジアミン及びジカルボン酸及び/またはアミノカ
ルボ/酸または相当するラクタムから誘導されたポリア
ミド及びコポリアミド、例えばポリアミド4、ポリアミ
ド6、ボリアばドロ/6、ポリアミド6/10、ポリア
ミド11、ポリアミド12、ポリ−2,4,4−トリメ
チルへキサメチレンテレフタルアミド、ポリ−m−フェ
ニレンイソフタルアミド、及びこれらとポリエーテル、
例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコ
ールまたはポリテトラメチレングリコールとのブロック
−コポリマー。
ルボ/酸または相当するラクタムから誘導されたポリア
ミド及びコポリアミド、例えばポリアミド4、ポリアミ
ド6、ボリアばドロ/6、ポリアミド6/10、ポリア
ミド11、ポリアミド12、ポリ−2,4,4−トリメ
チルへキサメチレンテレフタルアミド、ポリ−m−フェ
ニレンイソフタルアミド、及びこれらとポリエーテル、
例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコ
ールまたはポリテトラメチレングリコールとのブロック
−コポリマー。
16、ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド/イミド及び
ポリペ/ダイミダゾール。
ポリペ/ダイミダゾール。
1Z ジカルボン酸とジオールから、及び/またはヒド
ロキシカルボ/lRまたは相当するラフトノから誘導さ
れたポリエステル、例えばボリエテレノテレフタレート
、ポリブチレンテレフタL’ −)及ヒホIJ −1,
4−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリ
ヒドロキシベンゾエート及び更にヒドロキシ末端基を有
するポリエーテルから誘導されたブロックポリエーテル
エステル。
ロキシカルボ/lRまたは相当するラフトノから誘導さ
れたポリエステル、例えばボリエテレノテレフタレート
、ポリブチレンテレフタL’ −)及ヒホIJ −1,
4−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリ
ヒドロキシベンゾエート及び更にヒドロキシ末端基を有
するポリエーテルから誘導されたブロックポリエーテル
エステル。
1a ポリカーボネート及びポリエステルカーボネート
。
。
19、ポリスルホノ、ポリエーテルスルホン及ヒポリエ
ーテルケト/。
ーテルケト/。
20、一方の成分としてアルデヒド及び他方の成分とし
てフェノール、尿素及びメラミンから誘導された架橋ポ
リマー、例えばフェノール−ホルムアルデヒド樹脂、尿
素−ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン−ホルムアルデ
ヒド樹脂。
てフェノール、尿素及びメラミンから誘導された架橋ポ
リマー、例えばフェノール−ホルムアルデヒド樹脂、尿
素−ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン−ホルムアルデ
ヒド樹脂。
21、乾性及び不乾性アルキド樹脂。
2z飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコール及び
架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステルから誘
導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性の低いノ
・ロゲン含有変性物。
架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステルから誘
導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性の低いノ
・ロゲン含有変性物。
26、直換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリ
レート、ウレタン/アクリレートまたはポリエステル/
アクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。
レート、ウレタン/アクリレートまたはポリエステル/
アクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。
24、メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネ−1ま
たはエポキシ樹脂で架橋されたアルキド樹脂、ポリエス
テル樹脂及びアクリレート樹脂。
たはエポキシ樹脂で架橋されたアルキド樹脂、ポリエス
テル樹脂及びアクリレート樹脂。
25 ポリエポキシド、例えばビス−グリシジルエーテ
ル、または脂環式ジエボキシドから誘導された架橋エポ
キシ樹脂。
ル、または脂環式ジエボキシドから誘導された架橋エポ
キシ樹脂。
26、天然ポリマー、例えばセルロース、天然ゴム、ゼ
ラチン、並びにこれらの化学的に変性された重合同族体
a導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
ス及U酪eセルo−/!、、及びセルロースエーテル、
例えばメチルセルロース。
ラチン、並びにこれらの化学的に変性された重合同族体
a導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
ス及U酪eセルo−/!、、及びセルロースエーテル、
例えばメチルセルロース。
2Z 前述したポリマーの混合物(ポリブレンド例えば
PP/BPDM、ポリアミド6/EPDM −またtd
ABS%PVC/EVA、 PVC/’ABS、 P
’VC/MBS、PC/ABS、PBTP/ABS0 式1の化合物は焼付ラッカーの結合剤としてよく使用さ
れる熱架橋性アクリルまたはアルキド樹脂への使用にお
いて特に重要である。式■の化合物は安定化されるポリ
マーに対して0,05ないし5重量%、好1しくは0.
1ないし2.5重f1%の濃度でポリマーに添加される
。安定剤はまた、例えば安定剤を2.5ないし25重量
%の濃度で含有するマスターバッチとしても添加され得
る。、 式Iの安定剤は当該分野において慣用の方法により容易
にポリマーに添加できる。該安定剤はポリマーの製造ま
たは成形加工のいかなる段階でも例えば粉末、溶液もし
くは懸濁液の形で混合することにより添加され得る。
PP/BPDM、ポリアミド6/EPDM −またtd
ABS%PVC/EVA、 PVC/’ABS、 P
’VC/MBS、PC/ABS、PBTP/ABS0 式1の化合物は焼付ラッカーの結合剤としてよく使用さ
れる熱架橋性アクリルまたはアルキド樹脂への使用にお
いて特に重要である。式■の化合物は安定化されるポリ
マーに対して0,05ないし5重量%、好1しくは0.
1ないし2.5重f1%の濃度でポリマーに添加される
。安定剤はまた、例えば安定剤を2.5ないし25重量
%の濃度で含有するマスターバッチとしても添加され得
る。、 式Iの安定剤は当該分野において慣用の方法により容易
にポリマーに添加できる。該安定剤はポリマーの製造ま
たは成形加工のいかなる段階でも例えば粉末、溶液もし
くは懸濁液の形で混合することにより添加され得る。
式lの化合物の#1かにポリマーに他の安定剤または他
の添加剤を添加することもできる。例)、 として下記
の安定剤を挙げることができる:2 、 b−シー第三
”1チル−4−メチルフェノール、2−第三ブチル−4
,6−シメチルフエノール、2.6−ジー第三ブチル−
4−エチルフェノール、2.6−ジー第三フチルー4−
n−ブチルフェノール、2.6−シーlX三ブfルー4
− i−ブチルフェノール、2゜6−シーシクロベンチ
ルー4−メチルフェノール、2−(α−メチルシクロヘ
キシル)=4.6−シメチルフエノール、2.6−シー
オクタテンルー4−メチルフェノール、2゜4 、6−
) IJ−シクロヘキシルフェノールおよび2.6−
ジー第三ブチル−4−メトキシメチルフェノール。
の添加剤を添加することもできる。例)、 として下記
の安定剤を挙げることができる:2 、 b−シー第三
”1チル−4−メチルフェノール、2−第三ブチル−4
,6−シメチルフエノール、2.6−ジー第三ブチル−
4−エチルフェノール、2.6−ジー第三フチルー4−
n−ブチルフェノール、2.6−シーlX三ブfルー4
− i−ブチルフェノール、2゜6−シーシクロベンチ
ルー4−メチルフェノール、2−(α−メチルシクロヘ
キシル)=4.6−シメチルフエノール、2.6−シー
オクタテンルー4−メチルフェノール、2゜4 、6−
) IJ−シクロヘキシルフェノールおよび2.6−
ジー第三ブチル−4−メトキシメチルフェノール。
1.2.アルキル化ヒドロキシ/
2.6−ジー第三ブチル−4−メトキシフェノール、2
.5−ジー第三ブチルヒドロキシ/、2.5−ジー第三
アミルヒドロキノンおよび2.6−ジフェニル−4−オ
クタデシルオキシフェノール。
.5−ジー第三ブチルヒドロキシ/、2.5−ジー第三
アミルヒドロキノンおよび2.6−ジフェニル−4−オ
クタデシルオキシフェノール。
1.3.ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル2.2
′−チオ−ビス−(6−第三ブチル−4−メチルフェノ
ール)、2.2′−チオ−ビス−(4−オクチルフェノ
ール)、4.4’−チオ−ビス−(6−第三ブチル−5
−メチルフェノール)および4.4′−チオ−ビス−(
6−IJ三−7’チル−2−メチルフェノール)。
′−チオ−ビス−(6−第三ブチル−4−メチルフェノ
ール)、2.2′−チオ−ビス−(4−オクチルフェノ
ール)、4.4’−チオ−ビス−(6−第三ブチル−5
−メチルフェノール)および4.4′−チオ−ビス−(
6−IJ三−7’チル−2−メチルフェノール)。
1.4.アルキリゾ/−ビスフェノール2.2′−メチ
レン−ビス−(6−第三ブチル−4−メチルフェノール
)、2.2′−メチレ/−ビス−C6−第三ブチル−4
−エチルフェノール)、2.2′−メチレ/−ビス−〔
4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキシル)−フェ
ノール〕、2.2′〜メチレ/−ビス−(4−メチル−
6−シクロヘキジルフエノール)、2,2′−メチレン
−ビス(6−ノニル−4−メチルフェノール、2 、2
’−メチレ/−ビス−(4,6−ジー第三ブチルフェノ
ール)、2.2′−エチリデン−ビス−(4,6−ジー
第三ブチルフェノール)、2゜2′−エチリデン−ビス
−(6−第三ブチル−4−インブチルフェノール)、2
.2′−メチレ/−ビス−[6−(α−メチルベンジル
)−4−ノニルフェノール〕、2.2′−メチレン−ビ
ス−[6−(α、α−ジメチルベ/ジル)−4−ノニル
フェノール〕、4.4′−メチレン−ビス−(2,6−
ジー第三ブチルフェノール)、4.4′−メチレ/−ビ
ス−(6−第三ブチル−2−メチルフェノール)、1゜
1−ビ、1.−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2
−メチルフェニル)−ブタ/、2,6−ジー(3−第三
ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−4−
メチルフェノール、1,1.3−)リス−(5−第三ブ
チル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−ブタ7
% 1,1−ビス−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ
−2−メチルフェニル)−3−n−ドデンルメルカブト
ブタン、エチレングリコール−ビス−〔3,3−ビス−
(3′−第三フチル−4′−ヒドロキシフェニル)−フ
チレート〕、ジー(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−
5−メチルフェニル)−ジシクロベ/タジエンおよびジ
ー(2−(3’−第三ブチル−2′−ヒドロキシ−5′
−メチルベンジル)−6−第三ブチルー4−メチルフェ
ニル〕テレフタレート。
レン−ビス−(6−第三ブチル−4−メチルフェノール
)、2.2′−メチレ/−ビス−C6−第三ブチル−4
−エチルフェノール)、2.2′−メチレ/−ビス−〔
4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキシル)−フェ
ノール〕、2.2′〜メチレ/−ビス−(4−メチル−
6−シクロヘキジルフエノール)、2,2′−メチレン
−ビス(6−ノニル−4−メチルフェノール、2 、2
’−メチレ/−ビス−(4,6−ジー第三ブチルフェノ
ール)、2.2′−エチリデン−ビス−(4,6−ジー
第三ブチルフェノール)、2゜2′−エチリデン−ビス
−(6−第三ブチル−4−インブチルフェノール)、2
.2′−メチレ/−ビス−[6−(α−メチルベンジル
)−4−ノニルフェノール〕、2.2′−メチレン−ビ
ス−[6−(α、α−ジメチルベ/ジル)−4−ノニル
フェノール〕、4.4′−メチレン−ビス−(2,6−
ジー第三ブチルフェノール)、4.4′−メチレ/−ビ
ス−(6−第三ブチル−2−メチルフェノール)、1゜
1−ビ、1.−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2
−メチルフェニル)−ブタ/、2,6−ジー(3−第三
ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−4−
メチルフェノール、1,1.3−)リス−(5−第三ブ
チル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−ブタ7
% 1,1−ビス−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ
−2−メチルフェニル)−3−n−ドデンルメルカブト
ブタン、エチレングリコール−ビス−〔3,3−ビス−
(3′−第三フチル−4′−ヒドロキシフェニル)−フ
チレート〕、ジー(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−
5−メチルフェニル)−ジシクロベ/タジエンおよびジ
ー(2−(3’−第三ブチル−2′−ヒドロキシ−5′
−メチルベンジル)−6−第三ブチルー4−メチルフェ
ニル〕テレフタレート。
−」、−λ−さ−〈−ジールー1仁合物1.3.5−)
ジー(6,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)−2,4,6−ドリメチルベ/ゼ/、ジー(3,5
−ジー第三フチルー4−ヒドロキシベンジル)スルフィ
ド、インオクチル5.5−ジー第三ブチル−4−ヒドロ
キシベンジルメルカプトアセテート、ビス−(4−第三
ブチル−6−ヒドロキシ−2,6−シメチルベ/ジル)
−ジチオールテレフタレート、1,3.5−)リス−(
5,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イ
ンシアヌレート、1,3.5−トリス−(4−第三プチ
ル−5−ヒドロキシ−2,6−シメチルベンジル)イン
シアヌレート、ジオクタデシル5.5−ジー第三ブチル
−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、およびモノエ
チル6.5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル
−ホスホネートのカルシウム塩。
ジー(6,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)−2,4,6−ドリメチルベ/ゼ/、ジー(3,5
−ジー第三フチルー4−ヒドロキシベンジル)スルフィ
ド、インオクチル5.5−ジー第三ブチル−4−ヒドロ
キシベンジルメルカプトアセテート、ビス−(4−第三
ブチル−6−ヒドロキシ−2,6−シメチルベ/ジル)
−ジチオールテレフタレート、1,3.5−)リス−(
5,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イ
ンシアヌレート、1,3.5−トリス−(4−第三プチ
ル−5−ヒドロキシ−2,6−シメチルベンジル)イン
シアヌレート、ジオクタデシル5.5−ジー第三ブチル
−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、およびモノエ
チル6.5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル
−ホスホネートのカルシウム塩。
1.6.アシルアミノフェノール
4−ヒドロキシラウリル酸アニリド、4−ヒドロキシス
テアリン酸アニリド、2.4−ピスーオクチルメルカブ
ト−6−(5,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシア
ニリノ)−5−トリアジンおよびN−(3,5−ジー第
三フチルーヒドロキシフェニル)−力ルバミン酸オクチ
ルエステル。
テアリン酸アニリド、2.4−ピスーオクチルメルカブ
ト−6−(5,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシア
ニリノ)−5−トリアジンおよびN−(3,5−ジー第
三フチルーヒドロキシフェニル)−力ルバミン酸オクチ
ルエステル。
アルコールの例、メタノール、オクタデカ/−ル、1.
6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、チオ
ジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ
チレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス−ヒ
ドロキシエチルインシアヌレートおよびジーヒドロキシ
エチルオキサル酸アミド。
6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、チオ
ジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ
チレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス−ヒ
ドロキシエチルインシアヌレートおよびジーヒドロキシ
エチルオキサル酸アミド。
1、a以下のような一価または多価アルコールとβ−(
5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル
)−プロピオン酸トジエステル アルコールの例:メタノール、オクタデカ/−ル、1.
6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、チオ
ジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ
チレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス−ヒ
ドロキシエチルインシアヌレートおよびジーヒドロキシ
エチルオキサル酸ジアミド。
5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル
)−プロピオン酸トジエステル アルコールの例:メタノール、オクタデカ/−ル、1.
6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、チオ
ジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ
チレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス−ヒ
ドロキシエチルインシアヌレートおよびジーヒドロキシ
エチルオキサル酸ジアミド。
ドロキシフェニル)−プロピオン酸のアミド例えばN
、 N’−ジー(5,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル)−へキサメチレンジアミン
、N、N’−ジー(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒド
ロキシフェニルプロピオニル)−トリメチレンジアミ/
およびN−N’−ジー(3,5−ジー第三ブチル−4−
ヒドロキシフェニルプロピオニル)−ヒドラジン。
、 N’−ジー(5,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル)−へキサメチレンジアミン
、N、N’−ジー(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒド
ロキシフェニルプロピオニル)−トリメチレンジアミ/
およびN−N’−ジー(3,5−ジー第三ブチル−4−
ヒドロキシフェニルプロピオニル)−ヒドラジン。
2、UV吸収剤および光安定剤
例えば5′−メチル、sl、51−ジー第三ブチル、5
′−第三ブチル、5’−(1,1,3゜3−テトラメチ
ルブチル)、5−り* ルー6′う5′−ジー第三ブチ
ル、5−クロル−3′−第三ブチル−5′−メチル、3
′−第二ブチル−5′−第三ブチル、4′−オクトキシ
、sl、51−ジー第三アミルおよびsl、sl−ビス
−(α。
′−第三ブチル、5’−(1,1,3゜3−テトラメチ
ルブチル)、5−り* ルー6′う5′−ジー第三ブチ
ル、5−クロル−3′−第三ブチル−5′−メチル、3
′−第二ブチル−5′−第三ブチル、4′−オクトキシ
、sl、51−ジー第三アミルおよびsl、sl−ビス
−(α。
α−ジメチルベンジル)誘導体。
Z2−2−ヒドロキシベンゾフェノ/
例えば4−ヒドロキシ、4−メトキシ、4−オクトキ7
.4−デシルオキシ、4−ドデシルオキシ、4−べ/ジ
ルオキシ、4.2’。
.4−デシルオキシ、4−ドデシルオキシ、4−べ/ジ
ルオキシ、4.2’。
4’−)リヒドロキシおよび2′−ヒドロキシ−4,4
′−ジメトキシ誘導体。
′−ジメトキシ誘導体。
2!、五場合により置換された安息香酸のエステル
例えば4−第三ブチルフェニルせリチレート、フェニル
サリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベン
ゾイルレゾルシノール、ビス−(4−第三ブチルベンゾ
イル)−レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノールお
よび2,4−ジー第三ブチルフェニル6゜5−ジー第三
ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート。
サリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベン
ゾイルレゾルシノール、ビス−(4−第三ブチルベンゾ
イル)−レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノールお
よび2,4−ジー第三ブチルフェニル6゜5−ジー第三
ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート。
2.4.アクリレート
例えばエチルまたはイノオクチルα−シアノ−β、β−
ジフェニルアクリレート、メチルα−カルボメトキシシ
ンナメート、メチルまたはブチルα−シアノ−β−メチ
ル−p −メトキシシンナメート、メチルα−カルボメ
トキシ−p−メトキシシンナメートおよびN−(β−カ
ルボメトキシ−β−シアンビニル)−2−メチルインド
リン。
ジフェニルアクリレート、メチルα−カルボメトキシシ
ンナメート、メチルまたはブチルα−シアノ−β−メチ
ル−p −メトキシシンナメート、メチルα−カルボメ
トキシ−p−メトキシシンナメートおよびN−(β−カ
ルボメトキシ−β−シアンビニル)−2−メチルインド
リン。
2.5.ニッケル化合物
例えば2.2′−チオ−ビス−(4−(1゜1.3.3
−テトラメチルブチル)−フェノール〕のニッケル錯体
、例として1:1または1.2@体(所望により付加配
位子例えばn−プチルアミ/、トリエタノールアミンま
たuN−シクロへキシルジエタノールアミンヲ有してよ
い)、4−ヒドロキシ−3,5−ジーg三フチルベンジ
ルホスホン酸モノアルキルエステル例えばメチルまたは
エチルエステルのニッケル塩、ケトオキシム例えば2−
ヒドロキシ−4−メチルフェニルラフデシルケトオキシ
ムのニッケル錯体および所望によシ付加配位子を含んで
よい1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロキシピ
ラゾールのニッケル錯体。
−テトラメチルブチル)−フェノール〕のニッケル錯体
、例として1:1または1.2@体(所望により付加配
位子例えばn−プチルアミ/、トリエタノールアミンま
たuN−シクロへキシルジエタノールアミンヲ有してよ
い)、4−ヒドロキシ−3,5−ジーg三フチルベンジ
ルホスホン酸モノアルキルエステル例えばメチルまたは
エチルエステルのニッケル塩、ケトオキシム例えば2−
ヒドロキシ−4−メチルフェニルラフデシルケトオキシ
ムのニッケル錯体および所望によシ付加配位子を含んで
よい1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロキシピ
ラゾールのニッケル錯体。
2.6立体障害アミ/
ビス−(2,2,6,6−チトラメチルービベリジル)
−セバケート、ビス−(1,2゜2.6.6−ペンタメ
チルピペリジル)−セバケート、n−ブチル−6,5−
ジー第三ブチ/L/ −4−ヒドロキシベンジル−マロ
ン酸−ビス(1,2,2,6,6−ベ/タメチルピペリ
シル)−エステル、1−ヒドロキシエチル−2,2,6
,6−テトラメチル−4−ヒドロキノピペリジンとコハ
ク酸との縮合物、N。
−セバケート、ビス−(1,2゜2.6.6−ペンタメ
チルピペリジル)−セバケート、n−ブチル−6,5−
ジー第三ブチ/L/ −4−ヒドロキシベンジル−マロ
ン酸−ビス(1,2,2,6,6−ベ/タメチルピペリ
シル)−エステル、1−ヒドロキシエチル−2,2,6
,6−テトラメチル−4−ヒドロキノピペリジンとコハ
ク酸との縮合物、N。
N’−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル)−へキサメチレンジアミ/と4−第三オクチルアミ
ノ−2,6−ジクロル−1゜5.5−s−トリアジ/と
の縮合物、トリス−(2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピペリジル)−ニトリロトリアセテート、テトラキ
ス−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル
)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボ/酸、1.1
’−(1,2−エタンジイル)−ビスー(3,3,5,
5−テトラメチル−ピペラジノ/)。
ル)−へキサメチレンジアミ/と4−第三オクチルアミ
ノ−2,6−ジクロル−1゜5.5−s−トリアジ/と
の縮合物、トリス−(2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピペリジル)−ニトリロトリアセテート、テトラキ
ス−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル
)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボ/酸、1.1
’−(1,2−エタンジイル)−ビスー(3,3,5,
5−テトラメチル−ピペラジノ/)。
2、Zシュウ酸ジアミド
例えば4.4′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、2
.2′−ジ−オクチルオー1i−シー5゜5′−ジー第
三ブチルオキサニリド、2 、2’−ジ−ドデシルオキ
シ−5,5′−ジー第三ブチルオキサニリド、2−エト
キシ−2′−エチルオキサニリド、N 、 N’−ビス
−(3−ジメチルアミンプロピル)−オキサミド、2−
エトキシ−5−第三ブチル−2′−エチルオキサニリド
およびこれと2−エトキシ−2′−エチル−5,4’−
ジー第三ブチル−オキサニリドとの混合物、ならびにオ
ルト−メトキシおよびパラーメトキシニ・置換オキサニ
リドの混合物および0−エトキシおよびp−エトキシニ
置換オキサニリドの混合物。
.2′−ジ−オクチルオー1i−シー5゜5′−ジー第
三ブチルオキサニリド、2 、2’−ジ−ドデシルオキ
シ−5,5′−ジー第三ブチルオキサニリド、2−エト
キシ−2′−エチルオキサニリド、N 、 N’−ビス
−(3−ジメチルアミンプロピル)−オキサミド、2−
エトキシ−5−第三ブチル−2′−エチルオキサニリド
およびこれと2−エトキシ−2′−エチル−5,4’−
ジー第三ブチル−オキサニリドとの混合物、ならびにオ
ルト−メトキシおよびパラーメトキシニ・置換オキサニ
リドの混合物および0−エトキシおよびp−エトキシニ
置換オキサニリドの混合物。
五 金属不活性化剤
例えばN、N’−ジフェニルオキサミド、N−サリチラ
ールーN′−サリチロイルヒドラジン、N、N’−ビス
サリチロイルヒドラジ/、N 、 N’−ビス(3,5
−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル)−ヒドラジン、3−サリチロイルアミノ−1,2,
4−)リアゾールおよびビス−ベンジリデンシュウ酸ジ
ヒドラジド。
ールーN′−サリチロイルヒドラジン、N、N’−ビス
サリチロイルヒドラジ/、N 、 N’−ビス(3,5
−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル)−ヒドラジン、3−サリチロイルアミノ−1,2,
4−)リアゾールおよびビス−ベンジリデンシュウ酸ジ
ヒドラジド。
4、 ホスフィツトおよびホスホニイイ−j、。
例えはトリフェニルホスフィツト、ジフェニルアルキル
ホスフィツト、フェニルジアルキルホスフィツト、トリ
ー(ノニルフェニル)ホスフィツト、トリラウリルホス
フィツト、トリオクタデシルホスフィツト、ジステアリ
ル−ぺ/クエリトリトールジホスフィット、トリス−(
2,4−ジー第三ブチルフェニル)ホスフィツト、ジイ
ノデシルーぺ/タエリトリトールジホスフィット、ジー
(2,4−ジー第三ブチルフェニル)−ベンタエリトリ
トールジホスフィット、トリステアリルーンルビトール
トリホスフィットおよびテトラキス−(2、4−ジー第
三ブチルフェニル)4゜4′−ビフエニレ/−ジホスホ
ニイット。
ホスフィツト、フェニルジアルキルホスフィツト、トリ
ー(ノニルフェニル)ホスフィツト、トリラウリルホス
フィツト、トリオクタデシルホスフィツト、ジステアリ
ル−ぺ/クエリトリトールジホスフィット、トリス−(
2,4−ジー第三ブチルフェニル)ホスフィツト、ジイ
ノデシルーぺ/タエリトリトールジホスフィット、ジー
(2,4−ジー第三ブチルフェニル)−ベンタエリトリ
トールジホスフィット、トリステアリルーンルビトール
トリホスフィットおよびテトラキス−(2、4−ジー第
三ブチルフェニル)4゜4′−ビフエニレ/−ジホスホ
ニイット。
5、 過酸化物を分解する化合物
例えばβ−チオ−ジプロピオン酸のエステル、例として
ラウリルエステル、ステアリルエステル、ミリスチルエ
ステルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンゾイ
ミダゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾールの亜鉛
塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデシル
ジスルフィドおよびペンタエリトリトール−テトラキス
−(β−ドデシルメルカプト)−プロピオネート。
ラウリルエステル、ステアリルエステル、ミリスチルエ
ステルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンゾイ
ミダゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾールの亜鉛
塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデシル
ジスルフィドおよびペンタエリトリトール−テトラキス
−(β−ドデシルメルカプト)−プロピオネート。
& ポリアミド安定剤
例えばヨウ化物および/またはり/化合物と二価のマン
ガンの塩との混合物。
ガンの塩との混合物。
l 塩基性補助安定剤
例えばメラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアノジア
ミド、トリアリルシアヌレート、尿素−導体、ヒドラジ
ン誘導体、アミン、ポリアミド、ボリウレタノならびに
高級脂肪酸のアルカリ金属およびアルカリ土類金属塩例
えばCaステアレート、Znステアレート、Mgステア
レート、Naリンル−ト、Kパルミテート、アンチモ/
ビロカテコレートまたはスズピロヵテコレート。
ミド、トリアリルシアヌレート、尿素−導体、ヒドラジ
ン誘導体、アミン、ポリアミド、ボリウレタノならびに
高級脂肪酸のアルカリ金属およびアルカリ土類金属塩例
えばCaステアレート、Znステアレート、Mgステア
レート、Naリンル−ト、Kパルミテート、アンチモ/
ビロカテコレートまたはスズピロヵテコレート。
a 核 剤
例えば4−第三ブチル安息香酸、アジピン酸またはジフ
ェニル酢酸。
ェニル酢酸。
9 充填剤及び強化剤
例えば炭酸カルシウム、珪酸、ガラス繊維、アスベスト
、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物
及び金属水酸化物、カーボンブラック、黒鉛。
、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物
及び金属水酸化物、カーボンブラック、黒鉛。
その他の添加剤として、可塑剤、潤滑剤、充填剤、ガラ
ス繊維、顔料、光沢剤、難燃剤、静電防止剤を添加する
こともできる。
ス繊維、顔料、光沢剤、難燃剤、静電防止剤を添加する
こともできる。
下記の実施例において本発明をさらに詳細に説明するが
、これは本発明を限定するものではない。実施例中温度
は摂氏で表記する。
、これは本発明を限定するものではない。実施例中温度
は摂氏で表記する。
実施例1:1,1’−エチレン−ビス(4−アセチル−
3,3,5,5−テトラメチル−2−ピベノンノ/)の
製造 合衆国特許第4.19(1,571号の実施例6Eに記
載された方法によt) N 、 N’−ビス(2−アミ
ノ−2−メチルプロピル)−エチレンジアミンとアセト
ンシアンヒドリンから製造された1゜1′−エチレン−
ビス(3,3,5,5−テトラメチル−2−ピペラジノ
ン)31.5g(n、1モル)を無水酢酸102g、(
1,0モル)中に溶解する。
3,3,5,5−テトラメチル−2−ピベノンノ/)の
製造 合衆国特許第4.19(1,571号の実施例6Eに記
載された方法によt) N 、 N’−ビス(2−アミ
ノ−2−メチルプロピル)−エチレンジアミンとアセト
ンシアンヒドリンから製造された1゜1′−エチレン−
ビス(3,3,5,5−テトラメチル−2−ピペラジノ
ン)31.5g(n、1モル)を無水酢酸102g、(
1,0モル)中に溶解する。
濃硫酸を3滴滴下した後、その溶液を160℃で4時間
加熱し、その後室温に冷却する。反応混合物にメチレン
クロライド200dを加えた後、水、続いて炭酸水素す
) IJウム溶液で洗浄する。溶液を硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧下で蒸発させる。残渣をトルエンから再
結晶して、融点180〜183℃(170℃で半融)の
標記化合物304gを得る。
加熱し、その後室温に冷却する。反応混合物にメチレン
クロライド200dを加えた後、水、続いて炭酸水素す
) IJウム溶液で洗浄する。溶液を硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧下で蒸発させる。残渣をトルエンから再
結晶して、融点180〜183℃(170℃で半融)の
標記化合物304gを得る。
元素分析値(CuHssN40n )
計算値:C62,554H9,06CI)N13.26
%実測値 C62,61H9,0易 N1&40%NM
Bスペクトルによシ構造が確認された。
%実測値 C62,61H9,0易 N1&40%NM
Bスペクトルによシ構造が確認された。
実施例2:1.t’−エチレン−ビス(4−プロピオニ
ル−3,S、5.5−テトラメチル−2−ピペラジノ/
)の製造 実施例1と同様の方法により、無水酢酸の代わりに当量
の無水プロピオン酸を用いて上記の化合物を得る。ヘプ
タン/トルエン混液から再結晶した生成物の融点は13
5ないし137℃である。
ル−3,S、5.5−テトラメチル−2−ピペラジノ/
)の製造 実施例1と同様の方法により、無水酢酸の代わりに当量
の無水プロピオン酸を用いて上記の化合物を得る。ヘプ
タン/トルエン混液から再結晶した生成物の融点は13
5ないし137℃である。
元素分析値(024842N404 )計算値 C64
,o易 H9,4% N12.4%実測値:C64,2
% H9,6% N12.5%実施例3:1,1’−エ
チレン−ビス(4−アクリロイル−3,3,5,5−テ
トラメチル−2−ピペラジノ/)の製造 実施例1と同様に製造された1、1′−エチレン−ビス
(5,5,5,5−テトラメチル−2−ピペラジノ7)
25g([1,074モル)及びトリエチルアミ73t
4g(131モル)il、2−ジクロロエタン200m
に溶解した溶液t o、 ℃に冷却する。この溶液に、
0℃に冷却しながら30分以内に2−クロロプロピオニ
ルクロライド19.2g(115モル)を添加する。こ
の反応混合物をはじめに口ないし5℃で2時間攪拌し、
更に2時間加熱還流する。生じたトリエチルアミン塩酸
塩を沢去し、f液を1N塩酸、続いて水、最後にブライ
ンで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去
し、残渣をヘプタン/クロロホルム混液から再結晶する
。得られた生成物の融点は149な1.−、し150℃
である。
,o易 H9,4% N12.4%実測値:C64,2
% H9,6% N12.5%実施例3:1,1’−エ
チレン−ビス(4−アクリロイル−3,3,5,5−テ
トラメチル−2−ピペラジノ/)の製造 実施例1と同様に製造された1、1′−エチレン−ビス
(5,5,5,5−テトラメチル−2−ピペラジノ7)
25g([1,074モル)及びトリエチルアミ73t
4g(131モル)il、2−ジクロロエタン200m
に溶解した溶液t o、 ℃に冷却する。この溶液に、
0℃に冷却しながら30分以内に2−クロロプロピオニ
ルクロライド19.2g(115モル)を添加する。こ
の反応混合物をはじめに口ないし5℃で2時間攪拌し、
更に2時間加熱還流する。生じたトリエチルアミン塩酸
塩を沢去し、f液を1N塩酸、続いて水、最後にブライ
ンで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去
し、残渣をヘプタン/クロロホルム混液から再結晶する
。得られた生成物の融点は149な1.−、し150℃
である。
元素分析値(0241(38N404 )計算値:C6
4,5% HEL6優 N12.5%実B111 値:
064.7% H&6% N 12.4qbNM几−
スベクトルにより構造が確認された。
4,5% HEL6優 N12.5%実B111 値:
064.7% H&6% N 12.4qbNM几−
スベクトルにより構造が確認された。
実施例4:熱硬化性アクリル樹脂の安定化ラッカーとし
て車の塗装に使用される熱硬化性アクリル樹脂をベース
とした焼付ラッカーを第1表に挙げた安定剤で安定化す
る。安定化された塗料はあらかじめプライマーで下塗シ
した金属板に66μmの厚さに@霧される。 試験板は
122℃で60分間焼付される。
て車の塗装に使用される熱硬化性アクリル樹脂をベース
とした焼付ラッカーを第1表に挙げた安定剤で安定化す
る。安定化された塗料はあらかじめプライマーで下塗シ
した金属板に66μmの厚さに@霧される。 試験板は
122℃で60分間焼付される。
この試験片を23℃、相対湿度50%で6週間貯蔵した
後、QUV装置により促進耐候試験を行なう。この試験
は70℃、1時間の紫外線照射と50℃、4時間の山状
潅水を交互に行なうことにより実施される( A8TM
Gs3/77)。
後、QUV装置により促進耐候試験を行なう。この試験
は70℃、1時間の紫外線照射と50℃、4時間の山状
潅水を交互に行なうことにより実施される( A8TM
Gs3/77)。
本試験は合計750時間続けられる。
耐候試験前及び後における試験片の20″−光沢度をA
8TM D−523により測定し、表面のDI (画像
鮮明度)をASTML)−16により測定する。これら
の値の試験後への保持率(%)を第1表に示す。
8TM D−523により測定し、表面のDI (画像
鮮明度)をASTML)−16により測定する。これら
の値の試験後への保持率(%)を第1表に示す。
第1表
実施例5:酸硬化性焼付ラッカーへの使用熱硬化性のア
クリル樹脂70%とメラミン樹脂30%をベースとした
酸硬化性の焼付ラッカーを硬化触媒としてのp−トルエ
ンスルホ7酸[lL1重量循及び第2表に挙げた安定剤
2重量飴と混合する。比較試験として立体障害性ピペリ
ジノ誘導体をベースとする慣用の光安定剤を使用する。
クリル樹脂70%とメラミン樹脂30%をベースとした
酸硬化性の焼付ラッカーを硬化触媒としてのp−トルエ
ンスルホ7酸[lL1重量循及び第2表に挙げた安定剤
2重量飴と混合する。比較試験として立体障害性ピペリ
ジノ誘導体をベースとする慣用の光安定剤を使用する。
試験用塗料を鉄板に塗り、121℃で60分間焼結する
。室温で1週間貯蔵した後の塗料被膜の硬度をヌープ法
(A8TMB−788)により測定する。更に塗料の全
体的な外観を肉眼で評価する。
。室温で1週間貯蔵した後の塗料被膜の硬度をヌープ法
(A8TMB−788)により測定する。更に塗料の全
体的な外観を肉眼で評価する。
第2表
、)ジー(2,2,6,6−テトラメチルビベリジン−
4−イル)−セバケート 本発明の安定剤は酸性塗料に溶解し、その結果優れた硬
度を有し、鮮明な外観を有する塗料を供する。比較試験
用塗料では酸性触媒との相互反応が起り、その結果、結
合剤の硬化が不充分になり、曇りが生ずる。
4−イル)−セバケート 本発明の安定剤は酸性塗料に溶解し、その結果優れた硬
度を有し、鮮明な外観を有する塗料を供する。比較試験
用塗料では酸性触媒との相互反応が起り、その結果、結
合剤の硬化が不充分になり、曇りが生ずる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1) 次式■: 〔式中、几、及びR1は各々独立に炭素原子数1ないし
12のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロア
ルキル基、炭素原子数2ないし14のアルケニル基また
は炭素原子数7ないし15のアルアルキル基を表わすか
、またはR1とR2は一緒になって炭素原子数4ないし
6のアルキレフ基を表わし、 R3は炭素原子数1ないし12のアルカノイル基、炭素
原子数3ないし8のアルケノイル基またはベンゾイル基
を表わし、 R4及びR5は各々独立にR1及び几、と同じ意味を表
わし、 几6及びR7は各々独立にR,及び′fL2と同じ意味
を表わすか、または水素原子を表わし、gは1または2
を表わし、 gが1を表わす場合、Eは水素原子、炭素原子数1ない
し24のアルキル基、炭素原子数2ないし14のアルケ
ニル基、炭素原子数7ないし15のアルアルキル基、炭
素原子数7ないし15のアルキルアルアルキル基、炭素
原子数1ないし12のヒドロキシアルキル基、炭素原子
数2ないし24のアルカノイルオキシアルキル基、炭素
原子数4ないし21のアルケニルオキシアルキル基また
は炭素原子数8ないし1Bのベンゾイルオキシアルキル
基を表わし、gが2を表わす場合、Eは直鎖または分枝
鎖の炭素原子数2ないし10のアルキレン基を表わす〕
で表わされる化合物。 (2)上記式I中、R1,R鵞、 R4及びR5が各々
独立に炭素原子数1ないし4のアルキル基、アリル基、
シクロヘキシル基またはベンジル基を表わす特許請求の
範囲第1項記載の化合物。 (3) 上記式I中、R,、R2,R,及びR5がメチ
ル基を表わす特許請求の範囲第2項記載の化合物。 (4)上記式1中、R6及び′fL7が水素原子を表わ
す特許請求の範囲第1項記載の化合物。 (5)上記式I中、R3が炭素原子数2ないし8のプル
カメイル基、炭素原子数3ないし4のアルケノイル基ま
たはベンゾイル基を表わす特許請求の範囲第1項記載の
化合物。 (6)上記式I中、几3がアセチル基、プロピオニル基
、アクリロイル基またはべ/ジイル基を表わす特許請求
の範囲第5項記載の化合物。 (7)上記式■中、gが1を表し、セしてEが炭素原子
数1ないし12のアルキル基、アリル基、ベンジル基、
炭素原子数2ないし3のヒドロキシアルキル基、炭素原
子数4ないし14のアルカノイルオキシアルキル基、炭
素原子数5ないし7のアルケノイルオキシアルキル基ま
たは炭素原子数9ないし11のべ/ジイルオキシアルキ
ル基を表わす特許請求の範囲第1項記載の化合物。 (8)上記式I中、gが2を表わし、そしてEがエチレ
ン基を表わす特許請求の範囲第1項記載の化合物。 (9)1.i’−エチレン−ビス(4−アセチル−3,
3,5,5−テトラメチル−2−ピペラジノ/)である
特許請求の範囲第1項記載の化合物。 α01,1’−エチレンービス(4−7’ロビオニル−
5,3,5,5−テトラメチル−2−ピペリドン)であ
る特許請求の範囲第1項記載の化合物。 αp 1゜1′−エチレン−ビス(4−アクリロイル−
3,3,5,5−テトラメチル−2−ピペラジノ/)で
ある特許請求の範囲第1項記載の化合物。 (2)有機ポリマー及び該ポリマーに対してα05ない
し5重量%の 〔式中、R2及びR2は各々独立に炭素原子数1ないし
12のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロア
ルキル基、炭素原子数2ないし14のアルケニル基また
は炭素原子数7ないし15のアルアルキル基を表わすか
、またはBJlとIt、t′i−緒になって炭素原子数
4ないし6のアルキレン基を表わし2、 R3は炭素原子数1ないし12のアルカノイル基、炭素
原子数5ないし8のアルケノイル基またはベンゾイル基
を表わし、 R4及びR5は各々独立にR,及びR2と同じ意味を表
わし、 R6及びR7は各々独立にR,及びR3と同じ意味を表
わすか、または水素原子を表わし、gは1または2を表
わし、 gが1を表わす場合、Eは水素原子、炭素原子数1ない
し24のアルキル基、炭素原子数2ないし14のアルケ
ニル基、炭素原子数7ないし15のアルアルキル基、炭
素原子数7ないし15のアルキルアルアルキル基、炭素
原子数1ないし12のヒドロキシアルキル基、炭素原子
数2ないし24のアルカノイルオキシアルキル基、炭素
原子数4ないし21のアルケニルオキシアルキル基また
は炭素原子数8ないし18のベノゾイルオキシアルキル
基を表わし、gが2を表わす場合、Eは直鎖または分枝
鎖の炭素原子数2ないし10のアルキレン基を表わす〕
で表わされる化合物を含有する光分解に対し、て安定化
された有機ポリマー組成物。 (至)有機ポリマーが熱硬化性のアクリル樹脂または熱
硬化性アクリル樹脂をベースとした焼付ラッカーである
特許請求の範囲第12項記載の組成物。 α小 安定剤として1,1′−エチレン−ビス(4−ア
クリロイル−5,5,5,5−テトラメチル−2−ピペ
ラジノ/)を含有する特許請求の範囲第12項記載の組
成物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US588462 | 1984-03-12 | ||
US06/588,462 US4650870A (en) | 1984-03-12 | 1984-03-12 | Substituted piperazinone light stabilizers |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60215673A true JPS60215673A (ja) | 1985-10-29 |
Family
ID=24353945
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60049198A Pending JPS60215673A (ja) | 1984-03-12 | 1985-03-12 | 新規なピペラジノン誘導体及び該化合物により安定化された有機材料 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4650870A (ja) |
EP (1) | EP0157734A1 (ja) |
JP (1) | JPS60215673A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11152404A (ja) * | 1997-09-02 | 1999-06-08 | General Electric Co <Ge> | ヒンダードアミン光安定剤および紫外線吸収剤を含むポリカーボネート組成物 |
JPH11172095A (ja) * | 1997-08-27 | 1999-06-29 | General Electric Co <Ge> | ヒンダードアミン光安定剤を含むポリカーボネート組成物 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4780495A (en) * | 1986-07-21 | 1988-10-25 | The B. F. Goodrich Company | N-(substituted)-α-(3,5-dialkyl-4-hydroxyphenyl)-α,α-disubstituted acetamides, and composition stabilized therewith |
US6031033A (en) * | 1997-11-25 | 2000-02-29 | General Electric Company | Polycarbonate compositions comprising hindered amine light stabilizers and polyethers |
US5990208A (en) * | 1997-12-15 | 1999-11-23 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Stabilization of polycarbonate/ABS blends with mixtures of hindered amines and UV absorbers |
GB2344103B (en) * | 1998-11-24 | 2003-04-16 | Ciba Sc Holding Ag | Piperazinone derivatives |
US20070238814A1 (en) * | 2006-04-10 | 2007-10-11 | Basf Corporation | Method of making coating compositions |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4066615A (en) * | 1971-06-05 | 1978-01-03 | Sankyo Company Limited | Polymer compositions containing piperidine derivatives as stabilizers |
US4046737A (en) * | 1971-11-30 | 1977-09-06 | Ciba-Geigy Corporation | Piperidine derivatives |
CA1007642A (en) * | 1972-05-01 | 1977-03-29 | John J. Luzzi | Acylated derivatives of substituted piperazines and polymeric compositions stabilized thereby |
DE2606819A1 (de) * | 1976-02-20 | 1977-09-01 | Hoechst Ag | 14-substituierte 7,15-diazadispiro- eckige klammer auf 5.1.5.3 eckige klammer zu -hexadecane als uv-stabilisatoren |
US4190571A (en) * | 1977-09-21 | 1980-02-26 | The B. F. Goodrich Company | Substituted 2-keto-1,4-diazacycloalkanes and UV-light-stabilized compositions containing them |
US4292240A (en) * | 1977-09-21 | 1981-09-29 | The B. F. Goodrich Company | 2-Keto-1,4-diazacycloalkanes |
US4298737A (en) * | 1978-12-26 | 1981-11-03 | The B. F. Goodrich Company | Piperdinyl substituted 1,4-diaza-2-cycloalkanones and derivatives thereof |
DE3176368D1 (en) * | 1980-11-10 | 1987-09-24 | Ciba Geigy Ag | Light stabilization of acid catalysed storing enamels |
-
1984
- 1984-03-12 US US06/588,462 patent/US4650870A/en not_active Expired - Fee Related
-
1985
- 1985-03-06 EP EP85810097A patent/EP0157734A1/de not_active Withdrawn
- 1985-03-12 JP JP60049198A patent/JPS60215673A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11172095A (ja) * | 1997-08-27 | 1999-06-29 | General Electric Co <Ge> | ヒンダードアミン光安定剤を含むポリカーボネート組成物 |
JPH11152404A (ja) * | 1997-09-02 | 1999-06-08 | General Electric Co <Ge> | ヒンダードアミン光安定剤および紫外線吸収剤を含むポリカーボネート組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4650870A (en) | 1987-03-17 |
EP0157734A1 (de) | 1985-10-09 |
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