JPS61165397A - ペンタエリスリトールジホスフイツト類、その製造方法及びその安定化剤としての使用 - Google Patents

ペンタエリスリトールジホスフイツト類、その製造方法及びその安定化剤としての使用

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JPS61165397A
JPS61165397A JP29181885A JP29181885A JPS61165397A JP S61165397 A JPS61165397 A JP S61165397A JP 29181885 A JP29181885 A JP 29181885A JP 29181885 A JP29181885 A JP 29181885A JP S61165397 A JPS61165397 A JP S61165397A
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    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
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    • C07F9/6564—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、合成ポリマー等の劣化を受けやすい有機物質
の安定化剤に関するものである。
（従来の技術） プラスチックや樹脂のような有機重合物質は熱、酸化及
び光による劣化を受けやすい。基体の相違ごとくそれを
安定化するため忙多数の安定化剤がその技術分野におい
て知られている。
それらの効果はその劣化の原因及び安定化される基体に
よって変わる。一般的に、どの安定化剤が１つの利用分
野にとって最も効果的で、また最も経済的であろうかと
予測することは困難である。例えば、揮発性を減するた
めの安定化剤の効果はその基質分子中の結合切断を防止
することによるのかもしれない。ポリマーやゴムにおい
て脆化度を限定すること及び弾性を維持することは過剰
交差結合及び／又は鎖切断の防止が求められるだろう。
変色の予防には基体あるいは安定化剤中に新たな発色団
や包体を生成するような反応の防止が求められるだろう
。加工処理安定性及び不相溶性の問題もまた考えるべき
である。
種々のペンタエリスリトールジホスフィット系安定化剤
が先行技術文献に開示されている。
ビス（フェニル）ペンタエリスリトールジホスフィット
類は初期特許、例えば米国特許第２．８４ス４４３号及
び英国特許１，１８０，３９８号の明細書中に開示され
ている。そのようなジホスフィット類の概要は米国特許
第４．３０２４８３　、及び４．５０５，８６６号明細
書中に見い出すことができ、その中には種々のビス（ア
ルキル）−１（フェニル）−及ヒ（アルキルフェニル）
−ペンタエリスリトール　ジホスフィット類が開示され
ている。
米国特許第４，１８０，４９８号明細書にはビス（エス
テル置換フェニル）ペンタエリスＩＪ　）−ルシホスフ
ィット類を包括的に開示し、クレームしている。該エス
テル基は”　−（Ａ）ｑ−ＣＯＯＲａ　’と表記される
もので、式中、Ａは炭素原子数１ないし３のアルキレン
基、ｑは０又は１の数、そしてＲ４は炭素原子数１ない
し２４のアルキル基、フェニル基又はアルキル置換フェ
ニル基ヲ表わす。そのような化合物は特定して例示され
ておらず、最も近い例示化合物としてモノエステル化合
物類がある。これら化合物類は、熱、酸化及び紫外線に
よシ劣化を受けやすい有機物質を安定化できることが記
載されている。そのような活性はモノエステル類につい
て示されているが、抗酸化活性、安定化剤が長く存在す
ることによる活性の持続期間、及び加水分解安定性とい
う点に関してはよシ効果的な性能が商業的要請から求め
られている。
従って、本発明の第一の目的は、広範囲な安定化性能特
性を示す、選ばれた糧類のビス（エステル置換フェニル
）ペンタエリスリトールジホスフィット類を確認し、提
供することである。
さらに進めた目的としては先行技術文献中で特定して例
示されたジホスフィット類ノ、予想外に性能特性が改善
されたその樵の化合物を提供することである。
他の目的は有効で効果的な、本発明化合物を含ム、ペン
タエリストールジホスフィット類の製造方法を提供する
ことである。
本発明の様々な他の目的及び利点は以下の記載により明
らかになるであろう。
（発明の構成） 今となって驚ろくべきことに、炭素原子数１或いは１２
ないし１８のエステル置換基を有するビス（エステル置
換フェニル）ヘンタエリスＩＪ　）−ル　ジホスフィッ
ト類は広範囲に及ぶ基質中において安定化剤として特に
有効で有用となる種々の望ましい性質を示すということ
が判った。第一の意義はこれら化合物は種々の基質中で
優れた抗酸化活性を示し、その基質中で長く存在するこ
とによってより長期間の有効性を備え、又高められた加
水分解安定性を示す。後者の性質は、商業的化学製品に
おいてしばしばみられる高温、高湿貯蔵という見地に立
てば最も意味があるものである。それは米国特許第４゜
１８０．４９８号明細書で開示されたモノエステル類の
性能特性を改良した、本発明範囲の化合物において特に
顕著である。
また、ペンタエリスリトール　ジホスフィット類を製造
するための適当なアルコール又はフェノールと３．９−
ジクロロ−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−
ジホスファスピロ（５，５）ウンデカンとの反応中に、
モノ又はポリアルキレングリコールエーテル錯化剤の触
媒量を存在させると改良された製造方法となることが判
った。このように成生物の収量は、フェノールがフェル
レートアニオンに変化し、フェルレートアニオンの高め
られた反応活性に起因して増加する。この手法によって
、該製法は又オルト位のアルキル基によって高度に立体
障害を受けているフェノール性化合物類の反応のために
容易に利用できる。
本発明に係る化合物は次式： 〔式中、 Ｒ１及び島は独立して炭素原子数１ないし８の低級アル
キル基、 Ｒ３は−Ａ　−ＣＯＯＲ４基、 Ａは直接結合、メチレン基又はエチレン基、そして Ｒ４はメチル基又は炭素原子数１２ないし１８・　のア
ルキル基を表わす〕 で表わされる。
Ｒｓ及びＲｓ基はｎ−ブチル基、第ニブチル基、第三ブ
チル基、第三ペンチｙ基、２−エチルヘキシル基、ｎ−
オクチル基及び第三オクチル基のような炭素原子数４な
いし８の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基が好ましい。
特に好ましい基は第三ブチル基、第三ペンチル基及び第
三オクチル基である。
Ａはエチレン基が好ましく、セしてＲ４はメチル基、ド
デシル基及びオクタデシル基が好ましい。
本発明の化合物は、好ましくは適当な２．６−ジ置換フ
ェノールと３．９−ジクロロ−２，４，８゜１０−テト
ラオキサ−３，９−ジホスフォスビロ（Ｓ、Ｓ）ウンデ
カンとの反応により製造される。
しかしながらこの製法では、テトラヒドロフランのよう
な極性中性溶媒の存在下でフェノールがフェルレートア
ニオンとして反応するときでさえ中程度の収率しか得ら
れないという事がわかっている。フェノール性基が第三
アルキル基のような２つのオルト位アルキル基により高
度に立体障害を受けているときはよシ以上の効果がさら
に求められる。
従って、一般的なペンタエリスリトールジホスフィット
類及び特に本発明のジホスフィット類の改良された製造
方法を提供することは本発明の更に別の特徴であり、そ
れによって上記反応剤は、フェルレートアニオンをより
活性化し、そしてその対抗イオンを錯体化させるであろ
うモノ又はポリアルキレングリコールエーテル触媒の少
なくとも効果的触媒活性量の存在下で反応させられる。
このように該反応は次の反応式： 〔式中、 ｚｈアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルアル
キル基、アルキルアリール基又は、アルカノイル基置換
アリール基、或いはこれらの基が水酸基、アルコキシ基
又は）・ロゲンにより置されている基を表わし、 Ｍは水素原子又はアルカリ金属もしくはアルカリ土類金
属を表わし、アルカリ金属であることが好ましい〕 で表わされる。
次式： 〔式中、２はアルキル基、アルケニル基、アリール基、
アラルキル基、アルキルアリール基又はアルカノイル基
置換アリール基、或いはこれらの基が水酸基、アルコキ
シ基又はハロゲンにより置されている基を表わす〕 で表わされるペンタエリスリトールジホスフィットの製
造のための本発明に係る製造方法は、次式： 〔式中、Ｍは水素原子又はアルカリ金属もしくはアルカ
リ土類金属を表わす〕 で表わされる化合物と、３，９−ジクロロ−２，４゜８
．１０−テトラオキサ−３，９−ジホスファスピロ（Ｓ
、Ｓ）−ウンデカンとを溶媒及び強塩基の存在下反応さ
せて製造する方法において、モノ又はポリアルキレング
リコールエーテル触媒の触媒活性量を存在させて該反応
を促進させることからなる。
了り−ル基としては例えばフェニル基又はナフチル基で
あり、フェニル基が好ましい。アルキル基としては例え
ば炭素原子ａ１ないし２２、特に炭素原子数１ないし１
８のものが挙げられる。アルケニル基としては好ましく
は炭素原子数２ないし１Ｂのものが挙げられる。好まし
いアラルキル基はベンジル基である。アルカノイル基の
例として式：　−Ａ　−ＣＯＯＲ４で表わされるような
ものである。アルコキシ基としては例えば炭素原子数１
ないし４のアルコキシ基である。
式：　ｚ−ｏｎで表わされる化合物は、好ましくは次式
： 〔式中、 Ｒ１及びＲｓは独立して炭素原子数１ないし８の低級ア
ルキル基、 Ｒ３は−Ａ　−Ｃ００Ｒ４ Ａは直接結合、メチレン基又はエチレン基、そして Ｒ４はメチル基又は炭素原子数１２ないし１８のアルキ
ル基を表わす〕 で表わされる化合物である。
本発明の化合物に加えて、製造することのできる典型的
な化合物として、ジフェニルベンタエリスリトールジホ
スフィット、ジーｐ−トリルペンタエリスリトールジホ
スフィット、メチル　ステアリル　ベンタエリスリトー
ルジホスフィット、ジー２．４−キシレニル　ペンタエ
リスリトール　ジホスファイト、ジー第三ブチルフェニ
ル　ベンタエリスリトールジホスフィット、メチル　オ
レイル　ベンタエリスリトールジホスフィット、ジメチ
ル　ペンタエリスリトールジホスフィット、ジエチル　
ペンタエリスリトールジホスフィット、フェニル　ｐ−
／ニルフェニル　ペンタエリスリトールジホスフィット
、ジヘキシル　ペンタエリスリトールジホスフィット、
ジシクロへキシル　ベンタエリスリトールジホスフィッ
ト、フェニル　０−ドデシルフェニルペンタエリスリト
ールジホスフィット、ジデシル　ベンタエリスリトール
ジホスフィット、ジイソデシル　ベンタエリスリトール
ジホスフィット、メチル　エイコサニル　ベンタエリス
リトールジホスフィット、メチルオクチル　ペンタエリ
スリトールジホスフィット、ジー２−クロロエチル　ペ
ンタエリスリトールジホスフィット、フェニル−２，４
−ジ（ノニル）フェニルペ／タエリスリトールジホスフ
ィット、ジー２−クロロプロピル　ペンタエリスリトー
ルジホスフィット、ジー（４−クロロフェニル）ペンタ
エリスリトールジホスフィット、ジ（３−クロロフェニ
ル）ペンタエリスリトールジホスフィット、ジ（２−ク
ロロフェニル）ペンタエリスリトールジホスフィット、
ジアリル　ペンタエリスリトールジホスフィッド、ジ（
２−ｆセニル）ペンタエリスリトールジホスフィット及
びジー（２，４−ジ−ブチルフェニル）ペンタエリスリ
トールジホスフィットが挙げられる。
ジクロロ反応剤の製法は公知技術であり、一般的にペン
タエリスリトールと三塩化燐を１：２ないし１：３のモ
ル比で不活性非極性溶媒中、そして所望によりアミド触
媒の存在下に反応させて進められる。代表的な溶媒とし
てはベンゼン、トルエン、キシレン及び同類体のような
芳香族炭化水素類が挙げられ、また代表的なアミドとし
てはジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド及び
１−メチル−２−ピロリジノンが挙げられる。
本発明による製造は、Ｚ−ＯＭ反応剤の溶液を作り、強
塩基及びモノ又はポリアルキレ／グリコールをそこに加
え、該溶液を室温に保つか又は該溶液を最高温度約４０
ないし６０℃まで加熱し、ジクロロペンタエリスリトー
ルジホスファイトを一般的に溶液形態（単離物質とする
必要がない）で加え、その反応を一般的に１ないし１６
時間、約２５ないし５０℃の温度で行い、そして生成物
を単離することによシ進められる。
それらの反応剤は一般的におおよそ化学量論的な量を存
在させる。グリコールエーテル触媒はフェノール性反応
剤に対して１ないし３０モルチの範囲で、好ましくは５
ないし２ｏモルチ存在させる。
好適な触媒としては、例えば次式：　　。
Ｒｓ　（ＯＣＲ（ＣＨ２）ｎ　ＣＨｚ　＋ｒｎ　ＯＲｔ
〔式中、 Ｒｓ、　Ｒ＠及びＲ７は独立して水素原子又は炭素原子
数１ないし８の低級アルキル基を表わすが、但し、Ｒｓ
及びＲｔが供に水素原子であることはなく、 ｎは０．１又は２の数、そして ｍは１ないし９、好ましくは２ないし５の数を表わす〕 で表わされる七ノー及びポリ−アルキレングリコールエ
ーテル類である。
好適なモノ又はポリアルキレングリコール類としては、
エチレングリコールモノエテルエーテル、エチレングリ
コールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチ
ルエーテル、トリエチレンクリコールジブチルエーテル
、トリフロビレングリコールジメチルエーテル、テトラ
エチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレン
グリコールジエチルエーテル及ヒヘンタエチレングリコ
ールモノエチルエーテルが挙げられる。対抗イオンがナ
トリウムイオンやカリウムイオンである時は、トリエチ
レングリコールジメチルエーテル及びテトラエチレング
リコールジメチルエーテルが好ましい。
強塩基は、上記した如く、フェノールを７エンレートイ
オンに変えるため好ましく用いられる。金属及びアンモ
ニウムの水酸化物、水素化物及びアミド類を用いてよい
。しかしながら水酸化物系塩基類は、該フェノールがエ
ステル基のケン化によってフ二ル一トアニオンが生成す
るような、加水分解性エステル基を有している場合には
使用することができない。加水分解を受けやすい場合に
は水素化ナトリウムが特に有用であることが判明した。
使用できる溶媒として、ベンゼン、トルエン、キシレン
及び同類体のような芳香族炭化水素類又はテトラヒドロ
フランのような複素環式エーテルが挙げられる。
本発明化合物は潤滑油や循環油等の如き鉱物油及び合成
油に加えて、プラスチック、ポリマー及び樹脂のような
有機物質の安定化に特に効果的である。
本発明化合物が特に有用であるような基体はポリエチレ
ン及びポリプロピレンのようなポリオレフィン類、特に
耐衝撃ポリスチレンを含むポリスチレン、ＡＢＳ樹脂、
例えばブタジェンゴム、ＥＰＭ、ＥＰＤＭ％　ＳＢＲ，
及びニトリルゴムのような高分子弾性物質である。
一般的に安定され得るポリマー １、　モノまたはジオレフィンから誘導されるポリマー
、例えばポリエチレン（場合によ］架橋シてもよい）、
ポリプロピレン、ポリインブチレン、ポリブテン−１、
ポリメチルペンテン−１、ポリインブレンもしくはポリ
ブタジェン、並びにシクロオレフィン例えばシクロペン
タンもしくはノルボルネンのポリマー。
λ　１）で示したポリマーの混合物、例えばポリプロピ
レンおよびポリインブチレンの混合物。
五　モノ−およびジ−オレフィン同士または他のビニル
モノマーとのコポリマー、たとえば、エチレン／プロピ
レン、フロピレン／ブテン−１，７’ロピレン／インブ
チレン、エチレン／ブテン−１、プロピレン／ブタジェ
ン、インブチレン／イソプレン、エチレン／アルキルア
クリレート、エチレン／アルキルメタクリレート、エチ
レン／ビニルアセテートまたはエチレン／アクリル酸コ
ポリマーおよびそれらの塩（イオノマー）ならびにエチ
レンとプロピレンおよびジエン、たとえばヘキサジエン
、ジシクロペンタジェンまたはエチリデンノルボルネン
とのターポリマー。
４、　ポリスチレン及びポリ−（ｐ−メチルスチレン）
。
５　スチレンマタハα−メチルスチレントシエンまたは
アクリル誘導体とのコポリマー、たとえばスチレン／ブ
タジェン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／エ
チルメタクリレート、スチレン／フタジエン／エチルア
クリレート、スチレン／アクリロニトリル／メチルアク
リレート；スチレンコポリマーと他のポリマー、たとえ
ば、ポリアクリレート、ジエンポリマーまたはエチレン
／プロピレン／ジェンターポリマーから得られる耐衝撃
性樹脂混合物：さらにまたスチレンのブロックコポリマ
ー、たとえば、スチレン／ブタジェン／スチレン、スチ
レン／インプレン／スチレン、スチレン／エチレン／ブ
チレン／スチレンまタハスチレン／エチレン／フロピレ
ン／スチレン。
＆　スチレンのグラフトコポリマー、たとえば、スチレ
ンの結合したポリブタジェン、スチレンおよびアクリロ
ニトリルの結合したポリブタジェン、スチレン及びアル
キルアクリレート又はメタクリレートの結合したポリブ
タジェン、スチレンおよびアクリロニトリルの結合シタ
エチレン／プロピレン／ジエンターボリマー、スチレン
およびアクリロニトリルの結合したポリアルキルアクリ
レートもしくはポリメタクリレート、スチレンおよびア
クリロニトリルの結合したアクリレート／ブタジェンコ
ポリマー、およびこれらと５）に挙げたコポリマーとの
混合物、たとえば、ＡＢＳ。
ＭＢＳ、ＡＳＡもしくはＡＥＳポリマーとして知られる
コポリマー混合物。
ｌ　ハロゲン含有ポリマー、たとえばポリクロロプレン
、塩素化ゴム、塩素化もしくはクロロスルホン化ポリエ
チレン、エビクロロヒドリンのホモ及びコポリマー、ハ
ロゲン含有ビニル化合物から得られるポリマー、たとえ
ば、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化
ビニル、ボリフフ化ビニリデン：ならびにこれらのコポ
リマー、たとえば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビ
ニル／酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン／酢酸ビニルコ
ポリマー。
＆　α、β−不飽和酸およびその、誘導体から誘導され
るポリマー、たとえばポリアクリレートおよびポリメタ
クリレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニ
トリル。
９、　８）に挙げた七ツマー同士のコポリマーまたは８
）に挙げたモノマーと他の不飽和上ツマ−とのコポリマ
ー、たとえば、アクリロニトリル／ブタジェン、アクリ
ロニトリル／アルキルアクリレート、アクリロニトリル
／アルコキシアルキルアクリレート、またはアクリロニ
トリル／ハロゲン化ビニルコボリマーマタはアクリロニ
トリル／アルキルメタクリレート／ブタジェンターポリ
マー。
１α　不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのア
シル誘導体またはそれらのアセタールから誘導されるポ
リマー、たとえばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリステアリン醸ビニル、ポリビニルベンゾエート
、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリ
アリルフタレートまたはポリアリルメラミ　　ン　。
１１、　９状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー
、たとえばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオ
キシド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−
グリシジルエーテルとのコポリマー。
１２、　　ポリアセタール、たとえばポリオキシメチレ
ンおよびコモノマートシてエチレンオキシドを含有する
ようなポリオキシメチレン。
１五　ポリフェニレンオキシドおよびポリフェニレンス
ルフィド、並びにポリフェニレンオキシドとボリスチＶ
ンの混合物。
１４　一方の末端水酸基を有するポリエーテル、ポリエ
ステル及びポリブタジェンと、他方の脂肪族または芳香
族ポリイソシアネートとから誘導されるポリウレタン、
並びにそれらの前駆物質（ポリインシアナート、ポリオ
ールまたはプレポリマー）。
１５　　ジアミンおよびジカルボン酸から、および／ま
たはアミノカルボン酸もしくは相当するラクタムから誘
導されるポリアミドおよびコポリアミド、たとえばポリ
アミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、ポリアミ
ド６／１０、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ポリ−
２，４，４−）リメチルへキサメチレンテレフタルアミ
ドまたはポリ−ｍ−フェニレンインフタルアミド、並び
にこれらとポリエーテル、たとえば、ポリエチレングリ
コール、ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメ
チレングリコールとのコポリマー。
１＆　ポリ尿素、ポリイミドおよびポリアミド−イミド
。
１７、　　ジカルボン酸およびジオールから、および／
またはヒドロキシカルボン酸または相当するラクトンか
ら誘導されるポリエステル、たとえば、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１
，４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポ
リ−（２，２−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン
〕テレフタレートおよびポリヒドロキシベンゾエート、
ならびに末端水酸基をもつポリエーテルから誘導される
ブロック−コポリエーテル−エステル。
１＆　ポリカーボネート。
琢　ポリスルホン、ポリエーテル−スルホン並びにポリ
エーテルケトン。
２１一方のアルデヒドと、他方のフェノール、尿素また
はメラミンとから誘導される架橋ポリマー、たとえば、
フェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ホルムアル
デヒド樹脂およびメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。
２１、　　乾性および不乾性アルキド樹脂。
２λ　飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコール
との、ビニル化合物を架橋剤とする、コポリエステルか
ら誘導される、不飽和ポリエステ赤樹脂ならびにそのハ
ロゲン原子を含む難燃性の変性樹脂。
２五　置換アクリル酸エステル、たとえば、エポキシア
クリレート、ウレタン−アクリレートまたはポリエステ
ル−アクリレートから誘導される熱硬化性アクリル樹脂
。
２４、　　メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリインシアネー
トまたはエポキシ樹脂で架橋されたアルキド樹脂、ポリ
エステル樹脂およびアクリレート樹脂。
２巳　ポリエポキシド、たとえば、ビス−グリシジルエ
ーテルまたは脂環式ジエボキシドから誘導される架橋エ
ポキシ樹脂。
２＆　天然のポリマー、たとえば、セルロース、天然ゴ
ム、ゼラチンおよびそれらを重合同族体として化学変性
した誘導体、たとえば、酢酸セルロース、プロピオン酸
セルロース、セＡ１０−スフチレート並ヒにセルロース
エーテル、たど、ｔｉｆメチルセルロース。
２Ｚ　　上記のポリマーの混合物、例えばＰＰ／ＥＰＤ
Ｍ。
ポ１３７　ミド６　／　ＥＰＤＭ　４しく　ｉ　ＡＢＳ
　、　ＰＶＣ／ＥＶＡ％ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢ
Ｓ、ＰＣ／ＡＢＳ。
ＰＢＴＰ／ＡＢＳ　０ ２ａ　　純粋な七ツマー化合物またはこれらの混合物で
ある天然および合成有機材料、たとえば、鉱油、動物お
よび植物脂肪、油およびフックス、または合成エステル
（たとえば、フタレート、アジペート、ホスフェートま
たはトリメリテート）をベースとする、油、脂肪および
ワックスならびに適当な重量比で混合された合成エステ
ルと鉱油との混合物、たとえばポリマーの成形剤として
或いは繊維紡績油として使扇されるもの、ならびに上記
材料の水性エマルジ四ンとして使用される混合物。
２９、　　天然または合成ゴムの水性エマルジ冒ン、た
とえば、天然ゴムラテ、ツクスまたはカルボキシル化ス
チレン／ブタジェンコポリマーのラテックス。
基体や利用法により変わるけれども一般に本発明の安定
化剤は安定化組成物に対しく１０１ないし５重量％用い
られる。好適な範囲としては約ＣＬ５ないし約”Ｉｔｓ
特には（１０）ないし約１チである。
当該発明の安定化剤は、形状のある物品に成形する前の
都合の良い段階で、常法により有機ポリマー中にすぐ混
合してよい。例えば該安定化剤は乾燥粉末形でポリマー
中に混合するか、あるいは該安定化剤の懸濁液あるいは
乳化液をポリマーの溶液、懸濁液あるいは乳化液と混合
してよい。本発明の安定化ポリマー組成物はまた所望に
より種々の慣用の添加物を含んでよく、例えば次の通り
である。
例えば、２，６−ジー第三ブチル−４−メチルフェノー
ル、２−第三ブチル−４，６−シメチルフエノール、２
．６−ジー第三ブチル−４−エチルフェノール、２．６
−ジー第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２．６
−ジー第三ブチル−４−イソブチルフェノール、２．６
−ジ−シクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（
α−メチルンクロヘキシル）−４゜６−シメチルフエノ
ール、２．６−ジ−オクタデシル−４−メチルフェノー
ル、２．４．６−トリシクロヘキシルフェノール、２．
６−ジー第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール。
１．２　　アルキル化されたヒドロキノン例えば、２．
６−ジー第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５
−ジー第三ブチルヒドロキノン、２．５−ジー第三アミ
ルヒドロキノン、２．６−ジフェニル−４−オクタデシ
ルオキシフェノール。
一チル 例えば、２．２′−チオ−ビス−（６−第三ブチル−４
−メチルフェノール）、２，２′−チオ−ビス−（４−
オクチルフェノール）、４゜４′−チオ−ビス−（６−
第三ブチル−５−メチルフェノール）及び４．４′−チ
オ−ビス−（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）
。
１．４　　アルキリデン−ビスフェノール例えば、２．
２′−メチレン−ビス−（６−第三ブチル−４−メチル
フェノール）、２．２’−メチレン−ビス（６−第三ブ
チル−４−エチルフェノール）、２．２’−メチレン−
ビス−〔４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル
）−フェノール〕、２．２′−メチレン−ビス−（４−
メチル−６−シクロヘキジルフエノール）、２．２′−
メチレン−ビス−（６−ノニル−４−メチルフェノール
）、２．２′−メチレン−ビス−〔６−（ａ−メチルベ
ンジル）−４−ノニルフェノール〕、２．２′−メチレ
ン−ビス−〔６−（Ｑ、α−ジメチルベンジル）−４−
ノニルフェノール〕、２．２′−メチレン−ビス−（４
，６−ジー第三ブチルフェノール）、２．２′−エチリ
デン−ビス−４，６−ジー第三ブチルフェノール、２．
２’−エチリデン−ビス−（６−第三ブチル−４〜イン
ブチルフエノール）、４，４′−メチレン−ビス−（２
，６−ジー第三ブチルフェノール）、４．４’−メチレ
ン−ビス−（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）
、１．１−ビス−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−
２−メチルフェニル−ブタン）、２．６−ジー（３−第
三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４
−メチルフェノール、１，１．３−）リス−（５−第三
ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−ブタ
ン、１．１−ビス−（５−第三プチル−４−ヒドロキシ
−２−メチルフェニル）−３−ｎ　−）’ｆシルメルカ
プトブタン、エチレングリコールビス−〔３，３−ビス
−（３′−第三プチル−４′−ヒドロキシフェニル）−
フチレート〕、ジー（３−第三プチル−４−ヒドロキシ
−５−メチルフェニル）−ジシクロペンタジェン、また
はジー（２−（５’−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−
５′−メチル−ベンジル）−６−第三ブチル−４−メチ
ル−フェニル〕テ゛レフタレート。
１．５　　ベンジル化合物 例えば、１．５．５−　）リ−（３，５−ジー第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４゜６−ドリメチ
ルベンゼン、ジー（３，５−ジー第三フチルー４−ヒド
ロキシベンジル）スルフィド、３．５−ジー第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジル−メルカプト酢酸インオクチ
ルエステル、ビス−（４−ｇ三ブチル−！−ヒ）”＊ｄ
Ｐ’／−２，６−シメチルペンジル）−ジチオールテレ
フタレート、１，３．５−）リス−（５゜５−ジー第三
ブチル−４−ヒドロキシベンシル）インシアヌレート、
１，３．５−）リス−（４−第三プチル−３−ヒドロキ
シ−２，６−シメチルペンジル）インシアヌレ−）、３
．５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホ
ン酸ジオクタデシルエステル、３．５−−／　−第三フ
チルー４−ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエチルエ
ステル、それらのカルシウム塩。
１．６　　アシルアミノフェノール 例えば、４−ヒドロキシ−ラウリル酸アニリド、４−ヒ
ドロキシ−ステアリン酸アニリド、２．４−ビス−オク
チルメルカプト−６−（３，５−１三ブチル−４−ヒド
ロキシアニリノ）−３−トリアジン、オクチルＮ−＜５
．５−シー第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−カ
ルバメート。
ロキシフェニル）プロピオン酸と１価ま例えばメタノー
ル、オクタデカノール、１゜６−ヘキサンジオール、ネ
オペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジ
エチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタ
エリスリトール、トリス−ヒドロキシエチルインシアヌ
レート、ジヒドロキシエチルシェラ酸ジアミドとのエス
テル。
例えばメタノール、ジエチレングリコール、オクタデカ
ノール、トリエチレングリコール、１．６−ヘキサンジ
オール、ペンタエリスリトール、ネオペンチルグリコー
ル、トリスヒドロキシエチルイソシアヌレート、チオジ
エチレンクリコール、ジヒドロキシエチルシェラ酸ジア
ミドとのエステル。
ロキシフェニル）プロピオン酸のアミド例えばＮ、　Ｎ
−ジー（５，５−ジー第三ブチル−４−ヒ）’ロキシフ
ェニルプロビオニル）へキサメチレンジアミン、Ｎ、　
Ｎ’−ジー（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、Ｎ、　
Ｎ’−ジー（５，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル）ヒドラジン。
例えば５′−メチル−１３ｚ５′−ジー第三ブチル−１
５′−第三ブチル−１５’−（１，１，３，３、−テト
ラメチルブチル）−１５−クロロ−３′。
５′−ジー第三ブチル−１５−クロｃｚ　−５’−第三
ブチル−５′−メチル−１３′−第二ブチル−５′−第
三プチル−１４′−オクトキシ−３？　５／−ジー第三
アミル−１３／、　５／−ビス−（α、α−ジメチルベ
ンジル）−誘導体。
２．２２−ヒドロキシベンゾフェノンの誘導体例えば４
−ヒドロキシ−１４−メトキシ−１４−オクトキシ−１
４−デシルオキシ−１４−ドテシルオキシ−１４−ベン
ジルオキシ−１４，２−４′−トリヒドロキシ−および
２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ−誘導体。
２．３　　置換および非置換安息香酸エステル例えばフ
ェニルサリチレート、４−第三ブチル−フェニルサリチ
レート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイル
レゾルシノール、ビス−（ａ−第三ブチルペンソイル）
−レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、３．５
−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸２，４−ジ
ー第三ブチル−フェニルエステルおよび３．５−ジー第
三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシルエステ
ル。
ｚ４　アクリレート 例ＬｄＱ−シアノーβ、β−ジフェニル−アクリル酸エ
チルエステル又はインオクチルエステル、α−カルボメ
トキシ−シンナミル酸メチルエステル、ａ−シアノ−β
−メチル−ｐ−メ）キシーシンナミル酸メチルエステル
又はブチルエステル、α−カルボメトキシ−ｐ−７１ト
キシーシンナミル酸メチルエステルＮ−（β−カルボメ
トキシ−β−シアノビニル）−２−メチル−インドリン
。
ｚ５　ニッケル化合物 例えば２．２′−チオ−ビス−（４−（１，１，３３−
テトラメチルブチル）フェノール〕の、所望によりｎ−
ブチルアミン、トリエタノールアミン１７１Ｎ−シクロ
ヘキシル−ジェタノールアミンのような他の配位子を含
んでいてもよい１：１錯体または１：２錯体、ニッケル
ジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロキシ−３，５
−ジー第三ブチルベンジルホスホン駿のモノアルキルエ
ステル例えばメチル、エチルまたはブチルエステルのニ
ッケル塩、ケトキシムのニッケル錯体例えば２−ヒドロ
キシ−４−メチルーフ二二ルウンデシルケトンオキシム
のニッケル錯体、所望によシ他の配位子を含んでいても
よい１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシ−
ピラゾールのニッケル錯体。
２．６　　立体障害アミン 例えばビス−（２，２，６，６−チトラメチルペリジル
）セバケート、ビス−（１，２，礼６゜６−ペンタメチ
ルピペリジル）七ノくケート、ｎ−ブチル−３，５−ジ
ー第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−マロン酸ビス
−（１，２，２゜６６−ペンタメチルピペリジル）エス
テル、１−ヒドロキシエチル−２，２，！、　６−テト
ラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコノ−り酸との
縮合生成物、Ｎ、　Ｎ’−（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）−へキサメチレンジアミンおよ
び４−第三オクチルアミノ−２６−ジクロロ−１，３，
５−ｓ−トリアジンとの縮合生成物、トリス−（２，２
，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロト
リアセテート、テトラキス−（２，２，６，ｌｓ−テト
ラメチル−４−ピペリジル）　−１，２，３゜４−ブタ
ンテトラカルボン酸、１．１’−（１，２−エタンジイ
ル）−ビス−（３，３，５，５−テトラメチルピペラジ
ノン）。
２．７　　シ二つ酸ジアミド 例えば４．４′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、２
．２′−ジオクチルオキシ−５，５′−ジー第三ブチル
ーオキサニＩＪド　ｚ、　２／−ジ−ドデシルオキシ−
５，５′−ジー第三ブチルオキサニリド、２−エトキシ
−２′−エチルオキサニリド、Ｎ、　Ｎ’−ビス−（３
−ジメチルアミンプロピル）−シュウ酸ジアミド、２−
エトキシ−５−第三ブチル−２′−エチルオキサニリド
およびこれと２−エトキシ−２−エチル−５，４−ジー
第三ブチルオキサニリドとの混合物、オルト−およびパ
ラ−エトキシｍ＝置換オキサニリドの混合物並びにオル
ト−およびノくジーエトキシー二置換オキサニリドの混
合物。
五　金属不活性化剤 例えハＮ、Ｎ’−ジフェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−サ
リチラルーＮ′−サリチロイルヒドラジン、Ｎ、　Ｎ’
−ビス−サリチロイルヒドラジン、Ｎ、　Ｎ’−ビス−
（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプ
ロピオニル）−ヒドラジン、５−サリチロイルアミノ−
１，２，４−トリアゾール、ビスーペンジリデンーシエ
ウ酸ジヒドラジド。
４、　ホスフィ２ツトおよびホスホナイト例えばトリフ
ェニルホスフィツト、ジフェニルアルキルホスフィツト
、フェニルジアルキルホスフィツト、トリ（ノニルフェ
ニル）ホスフィツト、トリラウリルホスフィツト、トリ
オクタデシルホスフィツト、ジステアリルーペンタエリ
トリトールジホスフィット、トリス−（２，４−ジー第
三ブチルフェニル）ホスフィツト、ジイソデシルペンタ
エｌ　）　＋３トールジホスフイツト、ジー（２，４−
ジー第三ブチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホ
スフィット、トリステアリル−・ソルビトールトリホス
フィツト、テトラキス−（２，４−ジー第三ブチルフェ
ニル）−４，４’−ビフエニレンジホスホナイト。
５　過酸化物分解化合物 例えばβ−チチオジプロピオ／酸のエステル、例として
はラウリル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシル
エステル、メルカプトベンズイミダゾールまたは２−メ
ルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオ
カルバミン酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペン
タエリトリトールテトラキス−（β−ドデシルメルカプ
ト）プロピオネート。
＆　ポリアミド安定剤 例えばヨウ化物および／または燐化合物と共に用いる銅
塩および２価マンガンの塩。
ｌ　塩基性補助安定剤 例えばメラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジア
ミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジ
ン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂
肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例え
ばステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステア
リン酸マグネシウム、リシノール酸ナトリウムおよびパ
ルミチン酸カリウム、ピロカテコールアンチモンまたは
ピロカテコール亜鉛。
ａ　造核剤 例えば４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸およびジフ
ェニル酢酸。
例えば炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、石綿、タ
ルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物およ
び金属水酸化物、カーボンブラック、黒鉛。
１α　他の添化剤 例えば可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、防炎加
工剤、静電防止剤、発泡剤およびジラウリルチオジプロ
ピオネートまたはジラウリルチオジプロピオネートのよ
うなイオウ系協力剤。
〔実施例〕
以下の実施例は本発明の具体例を示すものである。これ
らの実施例において、数値は別に特記しない限りは重量
比を示す。
牟臭椿栂÷ 実施例１：　ビス（２，６−ジー第三ブチル−４−オク
タデシルオキシカルボニルエ チル−フェニル）ペンタエリスリト ール　ジホスファイト Ａ）３．９−ジクロロ−２，４，８，１０−テトラオキ
ｆ−５，９−ジホスファスピロ（Ｓ、Ｓ）ウンデカン（
４） 乾燥させた反応フラスコにペンタエリスリトール７、１
　ｙ　（ｃＬ０５１モＡ／　）、トルエン７０ｄ及びジ
メチルホルムアミドＱ、、５６９に攪拌しながら入れた
。その後、三塩化燐１１Ｌ３ｊｌ（（１０）３３モル）
を攪拌スラリー中に滴下して加えた。該反応混合物を、
２５〜６０℃で５５時間、攪拌加熱し、その時、該反応
は発生する塩酸の量で示される如く実質的に終了してい
た。過剰の三塩化燐、塩酸、及び約４５ｄのトルエンを
減圧（１，５ないし３０ｍＨ９）　して取り除いた。
Ｂ）　　ｎ−オクタデシル　３．５−ジー第三ブチル−
４−ヒドロキシヒドロシンナメートのナトリウム塩のト
ルエン分散液 トルエン７５ｄ入りフラスコに水素化ナトリウム４４５
Ｆ（（１１１モル）及びテトラエチレングリコールジメ
チルエーテル４０ｊｊ（（ＬＯ２。
モル）を入れた。その後、１５〜２０℃で乾燥トルエン
８０＋ｗＪ中にｎ−オクタデシル　３．５−シー第三フ
チルーヒドロキシヒドロシンナメー）５Ａ１ｐ溶かした
溶液を３５分間かけて加えた。反応温度を１５分間にわ
たシ４０℃に上げ、そしてさらに１．５時間放置した。
それから該トルエン分散液を冷却した。
Ｃ）最終生成物 反応中間体囚を反応中間体（Ｂ）に５〜１０℃にて２０
分間にわたり滴下して加えた。反応混合物を室温で２時
間攪拌し、酢酸１．６５Ｆで酸性化し、そして冷水５０
−で３回洗浄した。
分離した有機溶媒層を硫酸ナトリウムで乾燥し、単離し
た残渣をインプロパツール４０〇−に溶解し、氷水槽中
で結晶化させた。該含結晶スラリーを濾過し、濾滓を冷
インパノールで洗浄した。５〜１０＋ｗＨｇで４時間、
５０〜６０℃にて乾燥した後、白色結晶粉末４５ｐを得
た（融点８６〜８９℃）。
実施例２　ビス−（２，６−ジー第三ブチル−４−メト
キシカルポニルエチルーフエニ ル）−ペンタエリスリトール　ジホス ファイト 本実施例の生成物は、実施例１のオクタデシル同族体を
メチル３．５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロ
シンナメートに換えたほかは実施例１と同様の方法によ
り製造した。本実施例の生成物は融点２３５〜２４０℃
の白色結晶として単離された。
実施例３　ビス−（２，６−ジー第三ブチル−４−ｎ−
ドデシルオキシカルボニルエチ ル−フェニル）−ペンタエリスリトー ルジホスフィット 本実施例の生成物は、実施例１のオクタデシル同族体を
ｎ−ドデシル　３．５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキ
シヒドロシンナメートに換え九ほかは実施例１と同様の
方法によシ製造した。
本実施例の生成物はアセトニトリルから結晶化させるこ
とにより、融点７８〜８１℃の白色結晶生成物として単
離された。
実施例４　ビス（２，６−ジー第三ブチル−４−オクタ
デシルオキシカルボニル−フェ ニル）−ペンタエリスリトール　ジホ スフィット 本実施例の生成物は、実施例１のｎ−オクタデシル化合
物をｎ−オクタデシル　３．５−ジー第三フチルー４−
ヒドロキシベンゾエートニ換えたほかは、実施例１と同
様の方法にょシ製造した。該生成物は融点８４〜９９℃
の白色結晶として単離された。
実施例５　ビス（２，６−ジー第三ブチル−４−メトキ
シカルボニル−フェニル）ペン タエリスリトール　ジホスフィット 本実施例の生成物は、実施例１のｎ−オクタデシル化合
物をメチル　３．５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンゾエートに換えたほかは、実施例１と同様の方法に
よシ製造した。該生成物は融点２２５〜２２９℃の白色
結晶として単離された。
実施例６　２−（２，６−ジー第三ブチル−４−オクタ
デシルオキシカルボニルエチル −７エノキシ）５．５−ジメチル−１，３゜２−ジオキ
サホスフォリナン（先行技 術） 実施例１Ｃと同様の方法により、２−クロロ−５，５−
ジメチル−１，５，２−ジオキサホスフォリナンの等モ
ル量（（ＬＯ７モル）をｎ−オクタデシル　３．５−ジ
ー第三ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナメートの
ナトリウム塩のトルエン分散液（実施例１９）に加えた
。この場合、１０Ｃにて攪拌できる反応混合物とするた
めに、さらにトルエン７０ａｕを追加しそれからそれを
室温で一夜反応させた。酢酸で酸性化し、また小量の不
溶物質を除いて清澄化した後、減圧蒸留により溶媒を除
去し、該粗残渣をアセトンから２度再結晶させることに
より、融点８０〜８２℃の白色結晶を得た。
実施例７　２−（２，６−ジー第三ブチル−４−メトキ
シカルボニルエチル−フェノキ シ）・５．５−ジメチル−１，５，２−ジオキサホスホ
リナン（先行技術） 本実施例の生成物は、実施例６で用いられたオクタデシ
ル同族体をメチル　３，５−ジー第三ブチル−４−ヒド
ロキシヒドロシンナメートに換え九他は、実施例６の生
成物を得たときと同様の方法により製造した。本実施例
の生成物は融点１３４〜１３６℃の白色結晶として単離
された。
実施例８　２−（２，６−ジー第三ブチル−４−ｎ−オ
クタデシルオキシカルボニルエ チル−フェノキシ）　−１，３，２−ジオキサホスホラ
ン（先行技術） 本実施例の化合物は、２−クロロ−１，３，２−ジオキ
サホスホランとｎ−オクタデシル　３゜５−シーツｇ三
ツチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナメートのナトリ
ウム塩のトルエン分散液（実施例１Ｂ）を反応させるこ
とにより、実施例１の製法と同様の方法によりｇ造した
。アセトンから再結晶した後、本実施例の化合物を融点
５４〜５６℃６白色結晶として単離した。
実施例９ 銅與皿に換えてアルミニウム製皿を用い、アメリカ材料
試験協会（ＡＳＴＭ　）の規格試験Ｄ−５８９５−８０
により、酸化誘導時間（ｏｘｉｄａｔｉｖｅｉｎｄｕｃ
ｔｉｏｎ　ｔｉｍｅ　）を測定した。
未安定化ポリプロピレン粉末〔ハーキエレス（Ｈｅｒｃ
ｕｌｅｒｓ　）社製、商品名「プｃｔ　７７クス６５０
１（ｐｒ’ｆａ！　’５”）Ｊ　）　を橿ｋ（Ｄ’）＊
ｘフ４　ｙ　）類［１５重量パーセントと充分に混合し
、ＤＳＣ基準に適合するデエボン（Ｄｕｐｏｎｔ　）社
製Ｒ−９０型熱分析計を用い、酸素ガス流量５０ｄ／分
の酸素雰囲気中、温度２００℃に上げた状態でＡＳＴＭ
　Ｄ−３８９５−８０試験により酸化安定性を試験した
。
損傷に至る時間を酸化誘導時間によって測定した。試験
結果を次表に示す。
この結果は、本発明化合物により酸化安定性が改良され
たことを示している。
実施例１０ 安定化剤の被験物１０′ｍｇを開口白金ボードに置き、
窒素ガス雰囲気下、各被験物の１０チ重量減少に至る温
度（℃）をデーボン（Ｄｕｐｏｎｔ　）　社製９５１型
熱重量分析計を用いて測定した。
本発明の化合物は該試験においても再び優位性を示した
。
実施例１１ 指定した添加剤により変性した下記に指示した基本配合
剤６０りをグラベンダー中に加え１８０℃で混合するこ
とによって基体の酸化安定性を更に測定した。トルクの
増加する時間を劣化時間とし、より高い数がより良い性
能を有するものとして記録した。試験データを次表に示
す。
塩化ポリビニル樹脂　　　　　１０１１０部メタクリル
酸／エステル加工用助剤　　　　　２．０アクリル性衝
撃調整剤　　　　　　　　　ＺＯステアリン酸カルシウ
ム　　　　　　　１８ポリエチレンワツクス　　　　　
　　　（１２パラフインワツクス　　　　　　　　　　
１．０錫メルカプチド　　　　　　　　　　　２．０実
施例１２ 加水分解安定性を薄層クロマトグラフィー及び赤外分光
学を適切なものとして応用することにより測定した。被
験物２００Ｍ９を計りベトリ皿に入れ相対湿度８０％の
雰囲気中に室温（ｃａ２５℃）でさらした。約０．５な
いし１ｔＩＩの重量増加が観察された時、被験物を取り
出し、四塩化炭素中に１％の濃度で溶かし、該安定化剤
の残存量を薄層クロマトグラフィー及び赤外分光学的に
測定することによって試験した。
本発明の化合物はこのように商業上の安定化剤化合物と
して、さらに重要な分野においても優位性を示す。
要約すれば本発明は新規な製造方法並びに効果的安定化
活性を示す新規化合物を提供するものであることがわか
る。特許請求の範囲で定義したような本発明の範囲から
逸脱することなしに調整量、手順及び物質は変更するこ
とができる。
特許出願人　チバーガイギー　アクチェンゲゼルシャフ
ト

Claims (23)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）次式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、 Ｒ＿１及びＲ＿２は独立して炭素原子数１ないし８の低
    級アルキル基、 Ｒ＿３は−Ａ−ＣＯＯＲ＿４基、 Ａは直接結合、メチレン基又はエチレン基 そして Ｒ＿４はメチル基又は炭素原子数１２ないし１８のアル
    キル基を表わす〕で表わされる化合物。
  2. （２）Ｒ＿１及びＲ＿２が炭素原子数４ないし８のアル
    キル基である特許請求の範囲第１項記載の化合物。
  3. （３）Ｒ＿１及びＲ＿２が第三ブチル基、第三ペンチル
    基又は第三オクチル基である特許請求の範囲第２項記載
    の化合物。
  4. （４）Ａがエチレン基である特許請求の範囲第１項記載
    の化合物。
  5. （５）Ｒ＿４がメチル基である特許請求の範囲第１項記
    載の化合物。
  6. （６）Ｒ＿４が炭素原子数１２ないし１８のアルキル基
    である特許請求の範囲第１項記載の化合物。
  7. （７）Ｒ＿４がドデシル基又はオクタデシル基である特
    許請求の範囲第６項記載の化合物。
  8. （８）ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−オクタデシル
    オキシカルボニルエチル−フェニル）ペンタエリスリト
    ールジホスフィットである特許請求の範囲第７項記載の
    化合物。
  9. （９）ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−メトキシカル
    ボニルエチル−フェニル）ペンタエリスリトールジホス
    フィットである特許請求の範囲第５項記載の化合物。
  10. （１０）ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−ｎ−ドデシ
    ルオキシカルボニルエチル−フェニル）ペンタエリスリ
    トールジホスフィットである 特許請求の範囲第７項記載の化合物。
  11. （１１）ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−オクタデシ
    ルオキシカルボニル−フェニル）−ペンタエリスリトー
    ルジホスフィットである特許請求の範囲第７項記載の化
    合物。
  12. （１２）ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−メトキシカ
    ルボニル−フェニル）−ペンタエリスリトールジホスフ
    ィットである特許請求の範囲第５項記載の化合物。
  13. （１３）次式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、 Ｒ＿１及びＲ＿２は独立して炭素原子数１ないし８の低
    級アルキル基、 Ｒ＿３は−Ａ−ＣＯＯＲ＿４基、 Ａは直接結合、メチレン基又はエチレン基、そして Ｒ＿４はメチル基又は炭素原子数１２ないし１８のアル
    キル基を表わす〕 で表わされる化合物の安定化有効量用いて安定化された
    、酸化、熱及び光による劣化を受けやすい有機物質から
    なる組成物。
  14. （１４）有機物質が合成ポリマーである特許請求の範囲
    第１３項記載の組成物。
  15. （１５）前記合成ポリマーがポリオレフィンホモポリマ
    ー又はコポリマーである特許請求の範囲第１４項記載の
    組成物。
  16. （１６）更にフェノール性抗酸化剤を含む特許請求の範
    囲第１３項記載の組成物。
  17. （１７）酸化、熱及び光による劣化を受けやすい有機物
    質に、次式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、 Ｒ＿１及びＲ＿２は独立して炭素原子数１ないし８の低
    級アルキル基、 Ｒ＿３は−Ａ−ＣＯＯＲ＿４基、 Ａは直接結合、メチレン基又はエチレン基、そして、 Ｒ＿４はメチル基又は炭素原子数１２ないし１８のアル
    キル基を表わす〕 で表わされる化合物の安定化有効量配合することを特徴
    とする該有機物質の安定化方法。
  18. （１８）次式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｚはアルキル基、アルケニル基、アリール基、
    アルアルキル基、アルキルアリール基又はアルカノイル
    基置換アリール基、或いはこれらの基が水酸基、アルコ
    キシ基又はハロゲンにより置換されている基を表わす〕
    で表わされるペンタエリスリトールジホスフィットを、
    次式： Ｚ−ＯＭ 〔式中、Ｍは水素原子又はアルカリ金属もしくはアルカ
    リ土類金属を表わす〕 で表わされる化合物と、３，９−ジクロロ−２，４，８
    ，１０−テトラオキサ−３，９−ジホスファスピロ〔５
    ，５〕−ウンデカンとを溶媒及び強塩基の存在下反応さ
    せて製造する方法において、モノ又はポリアルキレング
    リコールエーテル触媒の触媒活性量を存在させて該反応
    を促進させる製造方法。
  19. （１９）上記モノ又はポリアルキレングリコール触媒が
    次式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、 Ｒ＿５、Ｒ＿６及びＲ＿７は独立して水素原子又は炭素
    原子数１ないし８の低級アルキル基を表わすが、但し、
    Ｒ＿５及びＲ＿７が供に水素原子であることはなく、 ｎは０、１又は２の数、そしてｍは１ないし９の数を表
    わす〕 で表わされる化合物である特許請求の範囲第１８項記載
    の方法。
  20. （２０）前記ポリアルキレングリコールエーテルが、ト
    リエチレングリコールジメチルエーテル又はテトラエチ
    レングリコールジメチルエーテルである特許請求の範囲
    第１９項記載の方法。
  21. （２１）式：Ｚ−ＯＭで表わされる化合物が次式：▲数
    式、化学式、表等があります▼ 〔式中、 Ｒ＿１及びＲ＿２は独立して炭素原子数１ないし８の低
    級アルキル基、 Ｒ＿３は−Ａ−ＣＯＯＲ＿４、 Ａは直接結合、メチレン基又はエチレン基、そして Ｒ＿４はメチル基又は炭素原子数１２ないし１８のアル
    キル基を表わす〕 で表わされる化合物である特許請求の範囲第１８項記載
    の方法。
  22. （２２）式：Ｚ−ＯＭで表わされる化合物がｎ−オクタ
    デシル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシ
    ンナメートである特許請求の範囲第２１項記載の方法。
  23. （２３）前記触媒をフェノール性反応体に対して、ない
    し３０モル％の濃度で存在させる特許請求の範囲第１８
    項記載の方法。
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Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62223290A (ja) * 1986-03-26 1987-10-01 Adeka Argus Chem Co Ltd 有機ホスフアイト組成物
JPS63112655A (ja) * 1986-10-29 1988-05-17 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 滞留熱安定性に優れた熱可塑性樹脂組成物
JPS63159470A (ja) * 1986-12-23 1988-07-02 Idemitsu Petrochem Co Ltd ポリアリ−レンスルフイド樹脂組成物
JPS63186750A (ja) * 1987-01-27 1988-08-02 Sumitomo Chem Co Ltd 難燃性スチレン系樹脂組成物
JPS63284244A (ja) * 1987-05-18 1988-11-21 Idemitsu Kosan Co Ltd 熱安定性ポリスチレン系樹脂組成物
JPS649252A (en) * 1987-07-01 1989-01-12 Adeka Argus Chemical Co Ltd Radiation-resistant polyolefin composition
JPH01182350A (ja) * 1988-01-14 1989-07-20 Idemitsu Kosan Co Ltd ポリスチレン系樹脂組成物
JPH0218439A (ja) * 1988-07-06 1990-01-22 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 熱可塑性樹脂組成物
JPH0224304A (ja) * 1988-07-13 1990-01-26 Shin Etsu Chem Co Ltd 塩化ビニル系樹脂の製造方法
JPH02163159A (ja) * 1988-12-16 1990-06-22 Toray Philips Petorooriamu Kk ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物
JPH05117525A (ja) * 1991-10-24 1993-05-14 Mitsui Petrochem Ind Ltd 熱可塑性樹脂組成物およびその用途
JP2004506643A (ja) * 2000-08-11 2004-03-04 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ ヒンダードホスファイトの製造方法
JP4822651B2 (ja) * 2000-09-29 2011-11-24 ケムチュア コーポレイション フェノール金属塩の製造方法

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6436634A (en) * 1987-07-30 1989-02-07 Adeka Argus Chemical Co Ltd Polyolefin composition
US5103035A (en) * 1990-04-05 1992-04-07 Ethyl Corporation Process for preparing bis(alkylphenyl)pentaerythritol diphosphites
US5132426A (en) * 1990-08-23 1992-07-21 Ciba-Geigy Corporation Substituted 3,7,9-trioxa-1-aza-2,8-diphosphaspiro(4,5)decanes and stabilized compositions
GB2252325A (en) * 1991-01-31 1992-08-05 Ciba Geigy Ag Stabilised polyolefin

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4180498A (en) * 1976-07-30 1979-12-25 Ciba-Geigy Corporation Hindered phenyl phosphites

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2847443A (en) * 1956-05-02 1958-08-12 Shea Chemical Corp Pentaerythritol products
JPS56152863A (en) * 1980-04-28 1981-11-26 Adeka Argus Chem Co Ltd Synthetic resin composition

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4180498A (en) * 1976-07-30 1979-12-25 Ciba-Geigy Corporation Hindered phenyl phosphites

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62223290A (ja) * 1986-03-26 1987-10-01 Adeka Argus Chem Co Ltd 有機ホスフアイト組成物
JPS63112655A (ja) * 1986-10-29 1988-05-17 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 滞留熱安定性に優れた熱可塑性樹脂組成物
JPS63159470A (ja) * 1986-12-23 1988-07-02 Idemitsu Petrochem Co Ltd ポリアリ−レンスルフイド樹脂組成物
JPS63186750A (ja) * 1987-01-27 1988-08-02 Sumitomo Chem Co Ltd 難燃性スチレン系樹脂組成物
JPS63284244A (ja) * 1987-05-18 1988-11-21 Idemitsu Kosan Co Ltd 熱安定性ポリスチレン系樹脂組成物
JPS649252A (en) * 1987-07-01 1989-01-12 Adeka Argus Chemical Co Ltd Radiation-resistant polyolefin composition
JPH01182350A (ja) * 1988-01-14 1989-07-20 Idemitsu Kosan Co Ltd ポリスチレン系樹脂組成物
JPH0218439A (ja) * 1988-07-06 1990-01-22 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 熱可塑性樹脂組成物
JPH0224304A (ja) * 1988-07-13 1990-01-26 Shin Etsu Chem Co Ltd 塩化ビニル系樹脂の製造方法
JPH02163159A (ja) * 1988-12-16 1990-06-22 Toray Philips Petorooriamu Kk ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物
JPH05117525A (ja) * 1991-10-24 1993-05-14 Mitsui Petrochem Ind Ltd 熱可塑性樹脂組成物およびその用途
JP2004506643A (ja) * 2000-08-11 2004-03-04 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ ヒンダードホスファイトの製造方法
JP4822651B2 (ja) * 2000-09-29 2011-11-24 ケムチュア コーポレイション フェノール金属塩の製造方法

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