JPH0655750B2 - ペンタエリスリトールジホスフイツト類、その製造方法及びその安定化剤としての使用 - Google Patents

ペンタエリスリトールジホスフイツト類、その製造方法及びその安定化剤としての使用

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JPH0655750B2
JPH0655750B2 JP60291818A JP29181885A JPH0655750B2 JP H0655750 B2 JPH0655750 B2 JP H0655750B2 JP 60291818 A JP60291818 A JP 60291818A JP 29181885 A JP29181885 A JP 29181885A JP H0655750 B2 JPH0655750 B2 JP H0655750B2
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デー．スピヴアツク ジヨン
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    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
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Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、合成ポリマー等の劣化を受けやすい有機物質
の安定化剤に関するものである。
（従来の技術） プラスチックや樹脂のような有機重合物質は熱、酸化及
び光による劣化を受けやすい。基体の相違ごとにそれを
安定化するために多数の安定化剤がその技術分野におい
て知られている。それらの効果はその劣化の原因及び安
定化される基体によって変わる。一般的に、どの安定化
剤が１つの利用分野にとって最も効果的で、また最も経
済的であろうかと予測することは困難である。例えば、
揮発性を減ずるための安定化剤の効果はその基質分子中
の結合切断を防止することによるのかもしれない。ポリ
マーやゴムにおいて脆化度を限定すること及び弾性を維
持することは過剰交差結合及び／又は鎖切断の防止が求
められるだろう。変色の予防には基体あるいは安定化剤
中に新たな発色団や色体を生成するような反応の防止が
求められるだろう。加工処理安定性及び不相溶性の問題
もまた考えるべきである。
種々のペンタエリスリトールジホスフィット系安定化剤
が先行技術文献に開示されている。ビス（フェニル）ペ
ンタエリスリトールジホスフィット類は初期特許、例え
ば米国特許第2,847,443号及び英国特許1,180,398号の明
細書中に開示されている。そのようなジホスフィット類
の概要は米国特許第4,302,383、及び4,305,866号明細書
中に見い出すことができ、その中には種々のビス（アル
キル）−、（フェニル）−及び（アルキルフェニル）−
ペンタエリスリトール ジホスフィット類が開示されて
いる。
米国特許第4,180,498号明細書にはビス（エステル置換
フェニル）ペンタエリスリトール ジホスフィット類を
包括的に開示し、クレームしている。該エステル基は
“−(A)ｑ−COOR4”と表記されるもので、式中、Ａは炭
素原子数１ないし３のアルキレン基、ｑは０又は１の
数、そしてＲ４は炭素原子数１ないし２４のアルキル
基、フェニル基又はアルキル置換フェニル基を表わす。
そのような化合物は特定して例示されておらず、最も近
い例示化合物としてモノエステル化合物類がある。これ
ら化合物類は、熱、酸化及び紫外線により劣化を受けや
すい有機物質を安定化できることが記載されている。そ
のような活性はモノエステル類について示されている
が、抗酸化活性、安定化剤が長く存在することによる活
性の持続期間、及び加水分解安定性という点に関しては
より効果的な性能が商業的要請から求められている。
従って、本発明の第一の目的は、広範囲な安定化性能特
性を示す、選ばれた種類のビス（エステル置換フェニ
ル）ペンタエリスリトール ジホスフィット類を確認
し、提供することである。
さらに進めた目的としては先行技術文献中で特定して例
示されたジホスフィット類の、予想外に性能特性が改善
されたその種の化合物を提供することである。
他の目的は有効で効果的な、本発明化合物を含む、ペン
タエリストールジホスフィット類の製造方法を提供する
ことである。
本発明の様々な他の目的及び利点は以下の記載により明
らかになるであろう。
（発明の構成） 今となって驚ろくべきことに、炭素原子数１或いは１２
ないし１８のエステル置換基を有するビス（エステル置
換フェニル）ペンタエリスリトール ジホスフィット類
は広範囲に及ぶ基質中において安定化剤として特に有効
で有用となる種々の望ましい性質を示すということが判
った。第一の意義はこれら化合物は種々の基質中で優れ
た抗酸化活性を示し、その基質中で長く存在することに
よってより長期間の有効性を備え、又高められた加水分
解安定性を示す。後者の性質は、商業的化学製品におい
てしばしばみられる高温、高湿貯蔵という見地に立てば
最も意味があるものである。それは米国特許第4,180,49
8号明細書で開示されたモノエステル類の性能特性を改
良した、本発明範囲の化合物において特に顕著である。
また、ペンタエリスリトール ジホスフィット類を製造
するための適当なアルコール又はフェノールと３，９−
ジクロロ−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−
ジホスファスピロ〔５，５〕ウンデカンとの反応中に、
モノ又はポリアルキレングリコールエーテル錯化剤の触
媒量を存在させると改良された製造方法となることが判
った。このように成生物の収量は、フェノールがフェノ
レートアニオンに変化し、フェノレートアニオンの高め
られた反応活性に起因して増加する。この手法によっ
て、該製法は又オルト位のアルキル基によって高度に立
体障害を受けているフェノール性化合物類の反応のため
に容易に利用できる。
本発明に係る化合物は次式： 〔式中、 Ｒ１及びＲ２基は独立して炭素原子数１ないし８の低級
アルキル基、 Ｒ３は−Ａ−COOR4基、 Ａは直接結合、メチレン基又はエチレン基、そして Ｒ４はメチル基又は炭素原子数１２ないし１８のアルキ
ル基を表わす〕 で表わされる。
Ｒ１及びＲ２基はｎ−ブチル基、第二ブチル基、第三ブ
チル基、第三ペンチン基、２−エチルヘキシル基、ｎ−
オクチル基及び第三オクチル基のような炭素原子数４な
いし８の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基が好ましい。
特に好ましい基は第三ブチル基、第三ペンチル基及び第
三オクチル基である。
Ａはエチレン基が好ましく、そしてＲ４はメチル基、ド
デシル基及びオクタデシル基が好ましい。
本発明の化合物は、好ましくは適当な２，６−ジ置換フ
ェノールと３，９−ジクロロ−２，４，８，１０−テト
ラオキサ−３，９−ジホスフォスピロ〔５，５〕ウンデ
カンとの反応により製造される。
しかしながらこの製法では、テトラヒドロフランのよう
な極性中性溶媒の存在下でフェノールがフェノレートア
ニオンとして反応するときでさえ中程度の収率しか得ら
れないという事がわかっている。フェノール性基が第三
アルキル基のような２つのオルト位アルキル基により高
度に立体障害を受けているときはより以上の効果がさら
に求められる。
従って、一般的なペンタエリスリトールジホスフィット
類及び特に本発明のジホスフィット類の改良された製造
方法を提供することは本発明の更に別の特徴であり、そ
れによって上記反応剤は、フェノレートアニオンをより
活性化し、そしてその対抗イオンを錯体化させるであろ
うモノ又はポリアルキレングリコールエーテル触媒の少
なくとも効果的触媒活性量の存在下で反応させられる。
このように該反応は次の反応式： 〔式中、 Ｚはアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルアル
キル基、アルキルアリール基又はアルカノイル基置換ア
リール基、或いはこれらの基が水酸基、アルコキシ基又
はハロゲンにより置されている基を表わし、 Ｍは水素原子又はアルカリ金属もしくはアルカリ土類金
属を表わし、アルカリ金属であることが好ましい〕 で表わされる。
次式： 〔式中、Ｚはアルキル基、アルケニル基、アリール基、
アラルキル基、アルキルアリール基又はアルカノイル基
置換アリール基、或いはこれらの基が水酸基、アルコキ
シ基又はハロゲンにより置されている基を表わす〕 で表わされるペンタエリスリトールジホスフィットの製
造のための本発明に係る製造方法は、次式： Ｚ−ＯＭ 〔式中、Ｍは水素原子又はアルカリ金属もしくはアルカ
リ土類金属を表わす〕 で表わされる化合物と、３，９−ジクロロ−２，４，
８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホスファスピロ
〔５，５〕−ウンデカンとを溶媒及び強塩基の存在下反
応させて製造する方法において、モノ又はポリアルキレ
ングリコールエーテル触媒の触媒活性量を存在させて該
反応を促進させることからなる。
アリール基としては例えばフェニル基又はナフチル基で
あり、フェニル基が好ましい。アルキル基としては例え
ば炭素原子数１ないし２２、特に炭素原子数１ないし１
８のものが挙げられる。アルケニル基としては好ましく
は炭素原子数２ないし１８のものが挙げられる。好まし
いアラルキル基はベンジル基である。アルカノイル基の
例として式：−Ａ−COOR4で表わされるようなものであ
る。アルコキシ基としては例えば炭素原子数１ないし４
のアルコキシ基である。
式：Ｚ−ＯＨで表わされる化合物は、好ましくは次式： 〔式中、 Ｒ１及びＲ２は独立して炭素原子数１ないし８の低級ア
ルキル基、 Ｒ３は−Ａ−COOR4 Ａは直接結合、メチレン基又はエチレン基、 そして Ｒ４はメチル基又は炭素原子数１２ないし１８のアルキ
ル基を表わす〕 で表わされる化合物である。
本発明の化合物に加えて、製造することのできる典型的
な化合物として、ジフェニルペンタエリスリトールジホ
スフィット、ジ−ｐ−トリルペンタエリスリトールジホ
スフィット、メチル ステアリル ペンタエリスリトー
ルジホスフィット、ジ−２，４−キシレニル ペンタエ
リスリトール ジホスフィット、ジ−第三ブチルフェニ
ル ペンタエリスリトールジホスフィット、メチル オ
レイル ペンタエリスリトールジホスフィット、ジメチ
ル ペンタエリスリトールジホスフィット、ジエチル
ペンタエリスリトールジホスフィット、フェニル ｐ−
ノニルフェニル ペンタエリスリトールジホスフィッ
ト、ジヘキシル ペンタエリスリトールジホスフィッ
ト、ジシクロヘキシル ペンタエリスリトールジホスフ
ィット、フェニル ｏ−ドデシルフェニルペンタエリス
リトールジホスフィット、ジデシル ペンタエリスリト
ールジホスフィット、ジイソデシル ペンタエリスリト
ールジホスフィット、メチル エイコサニル ペンタエ
リスリトールジホスフィット、メチル オクチル ペン
タエリスリトールジホスフィット、ジ−２−クロロエチ
ル ペンタエリスリトールジホスフィット、フェニル−
２，４−ジ（ノニル）フェニルペンタエリスリトールジ
ホスフィット、ジ−２−クロロプロピル ペンタエリス
リトールジホスフィット、ジ−（４−クロロフェニル）
ペンタエリスリトールジホスフィット、ジ（３−クロロ
フェニル）ペンタエリスリトールジホスフィット、ジ
（２−クロロフェニル）ペンタエリスリトールジホスフ
ィット、ジアリル ペンタエリスリトールジホスフィッ
ト、ジ（２−デセニル）ペンタエリスリトールジホスフ
ィット及びジ−（２，４−ジ−ブチルフェニル）ペンタ
エリスリトールジホスフィットが挙げられる。
ジクロロ反応剤の製法は公知技術であり、一般的にペン
タエリスリトールと三塩化燐を１：２ないし１：３のモ
ル比で不活性非極性溶媒中、そして所望によりアミド触
媒の存在下に反応させて進められる。代表的な溶媒とし
てはベンゼン、トルエン、キシレン及び同類体のような
芳香族炭化水素類が挙げられ、また代表的なアミドとし
てはジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド及び
１−メチル−２−ピロリジノンが挙げられる。
本発明による製造は、Ｚ−ＯＭ反応剤の溶液を作り、強
塩基及びモノ又はポリアルキレングリコールをそこに加
え、該溶液を室温に保つか又は該溶液を最高温度約４０
ないし６０℃まで加熱し、ジクロロペンタエリスリトー
ルジホスファイトを一般的に溶液形態（単離物質とする
必要がない）で加え、その反応を一般的に１ないし１６
時間、約２５ないし５０℃の温度て行い、そして生成物
を単離することにより進められる。
それらの反応剤は一般的におおよそ化学量論的な量を存
在させる。グリコールエーテル触媒はフェノール性反応
剤に対して１ないし３０モル％の範囲で、好ましくは５
ないし２０モル％存在させる。
好適な触媒としては、例えば次式： 〔式中、 Ｒ５，Ｒ６及びＲ７は独立して水素原子又は炭素原子数
１ないし８の低級アルキル基を表わすが、但し、Ｒ５及
びＲ７が供に水素原子であることはなく、 ｎは０，１又は２の数、そして ｍは１ないし９、好ましくは２ないし５の数を表わす〕 で表わされるモノ−及びポリ−アルキレングリコールエ
ーテル類である。
好適なモノ又はポリアルキレングリコール類としては、
エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリ
コールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチ
ルエーテル、トリエチレングリコールジブチルエーテ
ル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、テト
ラエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレ
ングリコールジエチルエーテル及びペンタエチレングリ
コールモノエチルエーテルが挙げられる。対抗イオンが
ナトリウムイオンやカリウムイオンである時は、トリエ
チレングリコールジメチルエーテル及びテトラエチレン
グリコールジメチルエーテルが好ましい。
強塩基は、上記した如く、フェノールをフェノレートイ
オンに変えるため好ましく用いられる。金属及びアンモ
ニウムの水酸化物、水素化物及びアミド類を用いてよ
い。しかしながら水酸化物系塩基類は、該フェノールが
エステル基のケン化によってフェノレートアニオンが生
成するような、加水分解性エステル基を有している場合
には使用することができない。加水分解を受けやすい場
合には水素化ナトリウムが特に有用であることが判明し
た。
使用できる溶媒として、ベンゼン、トルエン、キシレン
及び同類体のような芳香族炭化水素類又はテトラヒドロ
フランのような複素環式エーテルが挙げられる。
本発明化合物は潤滑油や循環油等の如き鉱物油及び合成
油に加えて、プラスチック、ポリマー及び樹脂のような
有機物質の安定化に特に効果的である。
本発明化合物が特に有用であるような基体はポリエチレ
ン及びポリプロピレンのようなポリオレフィン類、特に
耐衝撃ポリスチレンを含むポリスチレン、ABS樹脂、例
えばブタジエンゴム、EPM、EPDM、SBR、及びニトリルゴ
ムのような高分子弾性物質である。
一般的に安定され得るポリマー １．モノまたはジオレフィンから誘導されるポリマー、
例えばポリエチレン（場合により架橋してもよい）、ポ
リプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−１、ポ
リメチルペンテン−１、ポリイソプレンもしくはポリブ
タジエン、並びにシクロオレフィン例えばシクロペンタ
ンもしくはノルボルネンのポリマー。
２．１）で示したポリマーの混合物、例えばポリプロピ
レンおよびポリイソブチレンの混合物。
３．モノ−およびジ−オレフィン同士または他のビニル
モノマーとのコポリマー、たとえば、エチレン／プロピ
レン、プロピレン／ブテン−１、プロピレン／イソブチ
レン、エチレン／ブテン−１、プロピレン／ブタジエ
ン、イソブチレン／イソプレン、エチレン／アルキルア
クリレート、エチレン／アルキルメタクリレート、エチ
レン／ビニルアセテートまたはエチレン／アクリル酸コ
ポリマーおよびそれらの塩（イオノマー）ならびにエチ
レンとプロピレンおよびジエン、たとえばヘキサジエ
ン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデンノルボルネ
ンとのターポリマー。
４．ポリスチレン及びポリ−（ｐ−メチルスチレン）。
５．スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたは
アクリル誘導体とのコポリマー、たとえばスチレン／ブ
タジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／エ
チルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／エチルア
クリレート、スチレン／アクリロニトリル／メチルアク
リレート；スチレンコポリマーと他のポリマー、たとえ
ば、ポリアクリレート、ジエンポリマーまたはエチレン
／プロピレン／ジエンターポリマーから得られる耐衝撃
性樹脂混合物；さらにまたスチレンのブロックコポリマ
ー、たとえば、スチレン／ブタジエン／スチレン、スチ
レン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレン／ブ
チレン／スチレンまたはスチレン／エチレン／プロピレ
ン／スチレン。
６．スチレンのグラフトコポリマー、たとえば、スチレ
ンの結合したポリブタジエン、スチレンおよびアクリロ
ニトリルの結合したポリプタジエン、スチレン及びアル
キルアクリレート又はメタクリレートの結合したポリブ
タジエン、スチレン及びアクリロニトリルの結合したエ
チレン／プロピレン／ジエンターポリマー、スチレンお
よびアクリロニトリルの結合したポリアルキルアクリレ
ートもしくはポリメタクリレート、スチレンおよびアク
リロニトリルの結合したアクリレート／ブタジエンコポ
リマー、およびこれらと５）に挙げたコポリマーとの混
合物、たとえば、ABS，MBS，ASAもしくはAESポリマーと
して知られるコポリマー混合物。
７．ハロゲン含有ポリマー、たとえばポリクロロプレ
ン、塩素化ゴム、塩素化もしくはクロロスルホン化ポリ
エチレン、エピクロロヒドリンのホモ及びコポリマー、
ハロゲン含有ビニル化合物から得られるポリマー、たと
えば、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ
化ビニル、ポリフッ化ビニリデン；ならびにこれらのコ
ポリマー、たとえば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化
ビニル／酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン／酢酸ビニル
コポリマー。
８．α，β−不飽和酸およびその誘導体から誘導される
ポリマー、たとえばポリアクリレートおよびポリメタク
リレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニト
リル。
９．８）に挙げたモノマー同士のコポリマーまたは８）
に挙げたモノマーと他の不飽和モノマーとのコポリマ
ー、たとえば、アクリロニトリル／ブタジエン、アクリ
ロニトリル／アルキルアクリレート、アクリロニトリル
／アルコキシアルキルアクリレート、またはアクリロニ
トリル／ハロゲン化ビニルコポリマーまたはアクリロニ
トリル／アルキルメタクリレート／ブタジエンターポリ
マー。
10.不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのアシ
ル誘導体またはそれらのアセタールから誘導されるポリ
マー、たとえばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリステアリン酸ビニル、ポリビニルベンゾエー
ト、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポ
リアリルフタレートまたはポリアリルメラミン。
11.環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、た
とえばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−グリ
シジルエーテルとのコポリマー。
12.ポリアセタール、たとえばポリオキシメチレンおよ
びコモノマーとしてエレンオキシドを含有するようなポ
リオキシメチレン。
13.ポリフェニレンオキシドおよびポリフェニレンスル
フィド、並びにポリフェニレンオキシドとポリスチレン
の混合物。
14.一方の末端水酸基を有するポリエーテル、ポリエス
テル及びポリブタジエンと、他方の脂肪族または芳香族
ポリイソシアネートとから誘導されるポリウレタン、並
びにそれらの前駆物質（ポリイソシアナート、ポリオー
ルまたはプレポリマー）。
15.ジアミンおよびジカルボン酸から、および／または
アミノカルボン酸もしくは相当するラクタムから誘導さ
れるポリアミドおよびコポリアミド、たとえばポリアミ
ド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、ポリアミド６
／１０、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ポリ−２，
４，４−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミドま
たはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド、並びにこ
れらとポリエーテル、たとえば、ポリエチレングリコー
ル、ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメチレ
ングリコールとのコポリマー。
16.ポリ尿素、ポリイミドおよびポリアミド−イミド。
17.ジカルボン酸およびジオールから、および／または
ヒドロキシカルボン酸または相当するラクトンから誘導
されるポリエストル、たとえば、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−
ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリ−
〔２，２−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン〕テ
レフタレートおよびポリヒドロキシベンゾエート、なら
びに末端水酸基をもつポリエーテルから誘導されるブロ
ック−コポリエーテル−エステル。
18.ポリカーボネート。
19.ポリスルホン、ポリエーテル−スルホン並びにポリ
エーテルケトン。
20.一方のアルデヒドと、他方のフェノール、尿素また
はメラミンとから誘導される架橋ポリマー、たとえば、
フェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ホルムアル
デヒド樹脂およびメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。
21.乾性および不乾性アルキド樹脂。
22.飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコールと
の、ビニル化合物を架橋剤とする、コポリエステルから
誘導される、不飽和ポリエステル樹脂ならびにそのハロ
ゲン原子を含む難燃性の変性樹脂。
23.置換アクリル酸エステル、たとえば、エポキシアク
リレート、ウレタン−アクリレートまたはポリエステル
−アクリレートから誘導される熱硬化性アクリル樹脂。
24.メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネートまた
はエポキシ樹脂が架橋されたアルキド樹脂、ポリエステ
ル樹脂およびアクリレート樹脂。
25.ポリエポキシド、たとえば、ビス−グリシジルエー
テルまたは脂環式ジエポキシドから誘導される架橋エポ
キシ樹脂。
26.天然のポリマー、たとえば、セルロース、天然ゴ
ム、ゼラチンおよびそれらを重合同族体として化学変性
した誘導体、たとえば、酢酸セルロース、プロピオン酸
セルロース、セルロースブチレート並びにセルロースエ
ーテル、たとえばメチルセルロース。
27.上記のポリマーの混合物、例えばPP／EPDM，ポリア
ミド６／EPDMもしくはABS、PVC／EVA、PVC／ABS、PVC／
MBS、PC／ABS、PBTP／ABS。
28.純粋なモノマー化合物またはこれらの混合物である
天然および合成有機材料、たとえば、鉱油、動物および
植物脂肪、油およびワックス、または合成エステル（た
とえば、フタレート、アジペート、ホスフェートまたは
トリメリテート）をベースとする、油、脂肪およびワッ
クスならびに適当な重量比で混合された合成エステルと
鉱油との混合物、たとえばポリマーの成形剤として或い
は繊維紡績油として使用されるもの、ならびに上記材料
の水性エマルジョンとして使用される混合物。
29.天然または合成ゴムの水性エマルジョン、たとえ
ば、天然ゴムラテックスまたはカルボキシル化スチレン
／ブタジエンコポリマーのラテックス。
基体や利用法により変わるけれども一般に本発明の安定
化剤は安定化組成物に対し0.01ないし５重量％用いられ
る。好適な範囲とては約0.5ないし約２％、特には0.1な
いし約１％である。
当該発明の安定化剤は、形状のある物品に成形する前の
都合の良い段階で、常法により有機ポリマー中にすぐ混
合してよい。例えば該安定化剤は乾燥粉末形でポリマー
中に混合するか、あるいは該安定化剤の懸濁液あるいは
乳化液をポリマーの溶液、懸濁液あるいは乳化液と混合
してよい。本発明の安定化ポリマー組成物はまた所望に
より種々の慣用の添加物を含んでよく、例えば次の通り
である。
１．酸化防止剤 １．１ アルキル化された１価フェノール 例えば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノー
ル、２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、２，
６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，
６−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、２，
６−ジ−シクロペンチル−４−メチルフェノール、２−
（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェ
ノール、２，６−ジ−オクタデシル−４−メチルフェノ
ール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノー
ル。
１．２ アルキル化されたヒドロキノン 例えば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノ
ール、２，５−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−
ジ−第三アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４
−オクタデシルオキシフェノール。
１．３ ヒドロキシル化されたチオジフェニルエーテル 例えば、２，２′−チオ−ビス−（６−第三ブチル−４
−メチルフェノール）、２，２′−チオ−ビス−（４−
オクチルフェノール）、４，４′−チオ−ビス−（６−
第三ブチル−３−メチルフェノール）及び４，４′−チ
オ−ビス−（６−第三ブチル−２−メチルフェノー
ル）。
１．４ アルキリデン−ビスフェノール 例えば、２，２′−メチレン−ビス−（６−第三ブチル
−４−メチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス
（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′
−メチレン−ビス−〔４−メチル−６−（α−メチルシ
クロヘキシル）−フェノール〕、２，２′−メチレン−
ビス−（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス−（６−ノニル−４−
メチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス−〔６
−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール〕、
２，２′−メチレン−ビス−〔６−（α，α−ジメチル
ベンジル）−４−ノニルフェノール〕、２，２′−メチ
レン−ビス−（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、
２，２′−エチリデン−ビス−４，６−ジ−第三ブチル
フェノール、２，２′−エチリデン−ビス−（６−第三
ブチル−４−イソブチルフェノール）、４，４′−メチ
レン−ビス−（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、
４，４′−メチレン−ビス−（６−第三ブチル−２−メ
チルフェノール）、１，１−ビス−（５−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル−ブタン）、２，
６−ジ−（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキ
シベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−ト
リス−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル
フェニル）−ブタン、１，１−ビス−（５−第三ブチル
−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ド
デシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス−
〔３，３−ビス−（３′−第三ブチル−４′−ヒドロキ
シフェニル）−ブチレート〕、ジ−（３−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−ジシクロペン
タジエン、またはジ−〔２−（３′−第三ブチル−２′
−ヒドロキシ−５′−メチル−ベンジル）−６−第三ブ
チル−４−メチル−フェニル〕テレフタレート。
１．５ ベンジル化合物 例えば、１，３，５−トリ−（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチル
ベンゼン、ジ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）スルフィド、３，５−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシベンジル−メルカプト酢酸イソオクチル
エステル、ビス−（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−
２，６−ジメチルベンジル）−ジチオールテレフタレー
ト、１，３，５−トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，
５−トリス−（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，
６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸ジオ
クタデシルエステル、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジルホスホン酸モノエチルエステル、それ
らのカルシウム塩。
１．６ アシルアミノフェノール 例えば、４−ヒドロキシ−ラウリル酸アニリド、４−ヒ
ドロキシ−ステアリン酸アニリド、２，４−ビス−オク
チルメルカプト−６−（３，５−第三ブチル−４−ヒド
ロキシアニリノ）−ｓ−トリアジン、オクチルＮ−
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
−カルバメート。
１．７ β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シルフェニル）プロピオン酸と１価または多価アルコー
ルとのエステル 例えばメタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサ
ンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレン
グリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリ
コール、ペンタエリスリトール、トリス−ヒドロキシエ
チルイソシアヌレート、ジヒドロキシエチルシュウ酸ジ
アミドとのエステル。
１．８ β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−
メチルフェニル）プロピオン酸の１価または多価アルコ
ールとのエステル 例えばメタノール、ジエチレングリコール、オクタデカ
ノール、トリエチレングリコール、１，６−ヘキサンジ
オール、ペンタエリスリトール、ネオペンチルグリコー
ル、トリスヒドロキシエチルイソシアヌレート、チオジ
エチレングリコール、ジヒドロキシエチルシュウ酸ジア
ミドとのエステル。
１．９ β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオン酸のアミド例えばＮ，Ｎ−ジ−
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプ
ロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジ−
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプ
ロピオニル）トリメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジ−
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプ
ロピオニル）ヒドラジン。
２．紫外線吸収剤および光安定剤 ２．１ ２−（２′−ヒドロキシフェニル）−ベンズト
リアゾールの誘導体 例えば５′−メチル−、３′，５′−ジ−第三ブチル
−、５′−第三ブチル−、５′−（１，１，３，３−テ
トラメチルブチル）−、５−クロロ−３′，５′−ジ−
第三ブチル−、５−クロロ−３′−第三ブチル−５′−
メチル−、３′−第二ブチル−５′−第三ブチル−、
４′−オクトキシ−、３′，５′−ジ−第三アミル−、
３′，５′−ビス−（α，α−ジメチルベンジル）−誘
導体。
２．２ ２−ヒドロキシベンゾフェノンの誘導体 例えば４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクト
キシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、
４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒドロキ
シ−および２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ−
誘導体。
２．３ 置換および非置換安息香酸エステル 例えばフェニルサリチレート、４−第三ブチル−フェニ
ルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベ
ンゾイルレゾルシノール、ビス−（４−第三ブチルベン
ゾイル）−レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノー
ル、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸
２，４−ジ−第三ブチル−フェニルエステルおよび３，
５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデ
シルエステル。
２．４ アクリレート 例えばα−シアノ−β，β−ジフェニル−アクリル酸エ
チルエステル又はイソオクチルエステル、α−カルボメ
トキシ−シンナミル酸メチルエステル、α−シアノ−β
−メチル−ｐ−メトキシ−シンナミル酸メチルエステル
又はブチルエステル、α−カルボメトキシ−ｐ−メトキ
シ−シンナミル酸メチルエステルＮ−（β−カルボメト
キシ−β−シアノビニル）−２−メチル−インドリン。
２．５ ニッケル化合物 例えば２，２′−チオ−ビス−〔４−（１，１，３３−
テトラメチルブチル）フェノール〕の、所望によりｎ−
ブチルアミン、トリエタノールアミンまたはＮ−シクロ
ヘキシル−ジエタノールアミンのような他の配位子を含
んでいてもよい１：１錯体または１：２錯体、ニッケル
ジブチルジオチカルバメート、４−ヒドロキシ−３，５
−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸のモノアルキルエ
ステル例えばメチル、エチルまたはブチルエステルのニ
ッケル塩、ケトキシムのニッケル錯体例えば２−ヒドロ
キシ−４−メチル−フェニルウンデシルケトンオキシム
のニッケル錯体、所望により他の配位子を含んでいても
よい１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシ−
ピラゾールのニッケル錯体。
２．６ 立体障害アミン 例えばビス−（２，２，６，６−テトラメチルペリジ
ル）セバケート、ビス−（１，２，２，６，６−ペンタ
メチルピペリジル）セバケート、ｎ−ブチル−３，５−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−マロン酸ビ
ス−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）
エステル、１−ヒドロキシエチル−２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との
縮合生成物、Ｎ，Ｎ′−（２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジル）−ヘキサメチレンジアミンおよび
４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，
５−ｓ−トリアジンとの縮合生成物、トリス−（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロ
トリアセテート、テトラキス−（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタン
テトラカルボン酸、１，１′−（１，２−エタンジイ
ル）−ビス−（３，３，５，５−テトラメチルピペラジ
ノン）。
２．７ シュウ酸ジアミド 例えば４，４′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、
２，２′−ジオクチルオキシ−５，５′−ジ−第三ブチ
ル−オキサニリド、２，２′−ジ−ドデシルオキシ−
５，５′−ジ−第三ブチルオキサニリド、２−エトキシ
−２′−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ′−ビス−（３−
ジメチルアミノプロピル）−シュウ酸ジアミド、２−エ
トキシ−５−第三ブチル−２′−エチルオキサニリドお
よびこれと２−エトキシ−２−エチル−５，４−ジ−第
三ブチルオキサニリドとの混合物、オルト−およびパラ
−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物並びにオルト
−およびパラ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合
物。
３． 金属不活性化剤 例えばＮ，Ｎ′−ジフェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−サ
リチラル−Ｎ′−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−
ビス−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス−
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプ
ロピオニル）−ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−
１，２，４−トリアゾール、ビス−ベンジリデン−シュ
ウ酸ジヒドラジド。
４． ホスフィットおよびホスホナイト 例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフ
ィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリル
−ペンタエリトリトールジホスフィット、トリス−
（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジ
イソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ジ−
（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）−ペンタエリトリ
トールジホスフィット、トリステアリル−ソルビトール
トリホスフィット、テトラキス−（２，４−ジ−第三ブ
チルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイ
ト。
５．過酸化物分解化合物 例えばβ−チオ−ジプロピオン酸のエステル、例として
はラウリル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシル
エステル、メルカプトベンズイミダゾールまたは２−メ
ルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオ
カルバミン酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペン
タエリトリトールテトラキス−（β−ドデシルメルカプ
ト）プロピオネート。
６．ポリアミド安定剤 例えばヨウ化物および／または燐化合物と共に用いる銅
塩および２価マンガンの塩。
７．塩基性補助安定剤 例えばメラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジア
ミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジ
ン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂
肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例え
ばステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステア
リン酸マグネシウム、リシノール酸ナトリウムおよびパ
ルミチン酸カリウム、ピロカテコールアンチモンまたは
ピロカテコール亜鉛。
８．造核剤 例えば４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸およびジフ
ェニル酢酸。
９．充填剤および補強剤 例えば炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、石綿、タ
ルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物およ
び金属水酸化物、カーボンブラック、黒鉛。
10.他の添加剤 例えば可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、防炎加
工剤、静電防止剤、発泡剤およびジラウリルチオジプロ
ピオネートまたはジステアリルチオジプロピオネートの
ようなイオウ系協力剤。
〔実施例〕
以下の実施例は本発明の具体例を示すものである。これ
らの実施例において、数値は別に特記しない限りは重量
比を示す。
実施例１：ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−オクタ
デシルオキシカルボニルエチル−フェニル）ペンタエリ
スリトール ジホスファイト Ａ）３，９−ジクロロ−２，４，８，１０−テトラオキ
サ−３，９−ジホスファスピロ〔５，５〕ウンデカン
(4) 乾燥させた反応フラスコにペンタエリスリトール７．１
ｇ（0.051モル）、トルエン７０ｍ及びジメチルホル
ムアミド0.36gを攪拌しながら入れた。その後、三塩化
燐18.3g（0.133モル）を攪拌スラリー中に滴下して加え
た。該反応混合物を、２５〜６０℃で５．５時間、攪拌
加熱し、その時、該反応は発生する塩酸の量で示される
如く実質的に終了していた。過剰の三塩化燐、塩酸、及
び約４５ｍのトルエンを減圧（１５ないし３０mmHg）
して取り除いた。
Ｂ）ｎ−オクタデシル ３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシヒドロシンナメートのナトリウム塩のトルエ
ン分散液 トルエン７５ｍ入りフラスコに水素化ナトリウム4.45
g（0.11モル）及びテトラエチレングリコールジメチル
エーテル４．０ｇ（0.02モル）を入れた。その後、１５
〜２０℃で乾燥トルエン８０ｍ中にｎ−オクタデシル
３，５−ジ−第三ブチル−ヒドロキシヒドロシンナメー
ト53.1g溶かした溶液を３５分間かけて加えた。反応温
度を１５分間にわたり４０℃に上げ、そしてさらに１．
５時間放置した。それから該トルエン分散液を冷却し
た。
Ｃ）最終生成物 反応中間体(A)を反応中間体(B)に５〜１０℃にて２０分
間にわたり滴下して加えた。反応混合物を室温で２時間
攪拌し、酢酸１．６ｇで酸性化し、そして冷水５０ｍ
で３回洗浄した。分離した有機溶媒層を硫酸ナトリウム
で乾燥し、単離した残渣をイソプロパノール400ｍに
溶解し、氷水槽中で結晶化させた。該含結晶スラリーを
濾過し、濾滓を冷イソパノールで洗浄した。５〜１０mm
Hgで４時間、５０〜６０℃にて乾燥した後、白色結晶粉
末４５ｇを得た（融点８６〜８９℃）。
実施例２ ビス−（２，６−ジ−第三ブチル−４−メト
キシカルボニルエチル−フェニル）−ペンタエリスリト
ール ジホスフィット 本実施例の生成物は、実施例１のオクタデシル同族体を
メチル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロ
シンナメートに換えたほかは実施例１と同様の方法によ
り製造した。本実施例の生成物は融点235〜240℃の白色
結晶として単離された。
実施例３ ビス−（２，６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−
ドデシルオキシカルボニルエチル−フェニル）−ペンタ
エリスリトールジホスフィット 本実施例の生成物は、実施例１のオクタデシル同族体を
ｎ−ドデシル ３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シヒドロシンナメートに換えたほかは実施例１と同様の
方法により製造した。本実施例の生成物はアセトニトリ
ルから結晶化させることにより、融点７８〜８１℃の白
色結晶生成物として単離された。
実施例４ ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−オクタ
デシルオキシカルボニル−フェニル）−ペンタエリスリ
トール ジホスフィット 本実施例の生成物は、実施例１のｎ−オクタデシル化合
物をｎ−オクタデシル ３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシベンゾエートに換えたほかは、実施例１と同
様の方法により製造した。該生成物は融点８４〜９９℃
の白色結晶として単離された。
実施例５ ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキ
シカルボニル−フェニル）ペンタエリスリトール ジホ
スフィット 本実施例の生成物は、実施例１のｎ−オクタデシル化合
物をメチル ３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンゾエートに換えたほかは、実施例１と同様の方法に
より製造した。該生成物は融点225〜229℃の白色結晶と
して単離された。
実施例６ （比較例）２−（２，６−ジ−第三ブチル−
４−オクタデシルオキシカルボニルエチル−フェノキ
シ）５，５−ジメチル−１，３，２−ジオキサホスフォ
リナン（先行技術） 実施例１Ｃと同様の方法により、２−クロロ−５，５−
ジメチル−１，３，２−ジオキサホスフォリナンの等モ
ル量（0.07モル）をｎ−オクタデシル ３，５−ジ−打
算ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナメートのナト
リウム塩のトルエン分散液（実施例１Ｂ）に加えた。こ
の場合、さらにトルエン７０ｍを追加してそれからそ
れを室温で一夜反応させた。酢酸で酸性化し、また小量
の不溶物質を除いて清澄化した後、減圧蒸留により溶媒
を除去し、該粗残渣をアセトンから２度再結晶させるこ
とにより、融点８０〜８２℃の白色結晶を得た。
実施例７ 比較例２−（２，６−ジ−第三ブチル−４−
メトキシカルボニルエチル−フェノキシ）５，５−ジメ
チル−１，３，２−ジオキサホスホリナン（先行技術） 本実施例の生成物は、実施例６で用いられたオクタデシ
ル同族体をメチル ３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシヒドロシンナメートに換えた他は、実施例６の生
成物を得たときと同様の方法により製造した。本実施例
の生成物は融点134〜136℃の白色結晶として単離され
た。
実施例８ 比較例２−（２，６−ジ−第三ブチル−４−
ｎ−オクタデシルオキシカルボニルエチル−フェノキ
シ）−１，３，２−ジオキサスホラン（先行技術） 本実施例の化合物は、２−クロロ−１，３，２−ジオキ
サホスホランとｎ−オクタデシル ３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナメートのナトリウ
ム塩のトルエン分散液（実施例１Ｂ）を反応させること
により、実施例１の製法と同様の方法により製造した。
アセトンから再結晶した後、本実施例の化合物を融点５
４〜５６℃の白色結晶として単離した。
実施例９ 銅製皿に換えてアルミニウム製皿を用い、アメリカ材料
試験協会（ASTM）の規格試験Ｄ−3895-80により、酸化
誘導時間（oxidative induction time）を測定した。
未安定化ポリプロピレン粉末〔ハーキュレス（Herculer
s）社製、商品名「プロファクス6501（profax 650
1）」〕を種々のジホスフィット類０．３重量パーセン
トと充分に混合し、DSC基準に適合するデュポン（Dupon
t）社製Ｒ−９０型熱分析計を用い、酸素ガス流量５０
ｍ／分の酸素雰囲気中、温度200℃に上げた状態でAST
M D-3895-80試験により酸化安定性を試験した。損傷に
至る時間を酸化誘導時間によって測定した。試験結果を
次表に示す。
この結果は、本発明化合物により酸化安定性が改良され
たことを示している。
実施例１０ 安定化剤の被験物１０mgを開口白金ボードに置き、窒素
ガス雰囲気下、各被験物の１０％重量減少に至る温度
（℃）をデュポン（Dupont）社製951型熱重量分析計を
用いて測定した。
本発明の化合物は該試験においても再び優位性を示し
た。
実施例１１ 指定した添加剤により変性し下記に指示した基本配合剤
６０ｇをブラベンダー中に加え180℃で混合することに
よって基体の酸化安定性を更に測定した。トルクの増加
する時間を劣化時間とし、より高い数がより良い性能を
有するものとして記録した。試験データを次表に示す。
実施例１２ 加水分解安定性を薄層クロマトグラフィー及び赤外分光
学を適切なものとして応用することにより測定した。被
験物200mgを計りペトリ皿に入れ相対湿度８０％の雰囲
気中に室温（ca２５℃）でさらした。約０．５ないし１
％の重量増加が観察された時、被験物を取り出し、四塩
化炭素中に１％の濃度て溶かし、該安定化剤の残存量を
薄層クロマトグラフィー及び赤外分光学的に測定するこ
とによって試験した。
本発明の化合物はこのように商業上の安定化剤化合物と
して、さらに重要な分野においても優位性を示す。
要約すれば本発明は新規な製造方法並びに効果的安定化
活性を示す新規化合物を提供するものであることがわか
る。特許請求の範囲で定義したような本発明の範囲から
逸脱することなしに調整量、手順及び物質は変更するこ
とができる。

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】次式： 〔式中、 Ｒ１及びＲ２は独立して炭素原子数１ないし８の低級ア
    ルキル基、 Ｒ３は−Ａ−COOR4基、 Ａは直接結合、メチレン基又はエチレン基そして Ｒ４はメチル基又は炭素原子数１２ないし１８のアルキ
    ル基を表わす〕 で表わされる化合物。
  2. 【請求項２】Ｒ１及びＲ２が炭素原子数４ないし８のア
    ルキル基である特許請求の範囲第１項記載の化合物。
  3. 【請求項３】Ｒ１及びＲ２が第三ブチル基、第三ペンチ
    ル基又は第三オクチル基である特許請求の範囲第２項記
    載の化合物。
  4. 【請求項４】Ａがエチレン基である特許請求の範囲第１
    項記載の化合物。
  5. 【請求項５】Ｒ４がメチル基である特許請求の範囲第１
    項記載の化合物。
  6. 【請求項６】Ｒ４が炭素原子数１２ないし１８のアルキ
    ル基である特許請求の範囲第１項記載の化合物。
  7. 【請求項７】Ｒ４がドデシル基又はオクタデシル基であ
    る特許請求の範囲第６項記載の化合物。
  8. 【請求項８】次式： 〔式中、 Ｒ１及びＲ２は独立して炭素原子数１ないし８の低級ア
    ルキル基、 Ｒ３は−Ａ−COOR4基、 Ａは直接結合、メチレン基又はエチレン基、そして Ｒ４はメチル基又は炭素原子数１２ないし１８のアルキ
    ル基を表わす〕 で表わされる化合物の安定化有効量用いて安定化され
    た、酸化、熱及び光による劣化を受けやすい有機物質か
    らなる組成物。
  9. 【請求項９】有機物質が合成ポリマーである特許請求の
    範囲第８項記載の組成物。
  10. 【請求項１０】前記合成ポリマーがポリオレフィンホモ
    ポリマー又はコポリマーである特許請求の範囲第９項記
    載の組成物。
  11. 【請求項１１】更にフェノール性抗酸化剤を含む特許請
    求の範囲第８項記載の組成物。
  12. 【請求項１２】次式： 〔式中、Ｚはアルキル基、アルケニル基、アリール基、
    アルアルキル基、アルキルアリール基又はアルカノイル
    基置換アリール基、或いはこれらの基が水酸基、アルコ
    キシ基又はハロゲンにより置換されている基を表わす〕
    で表わされるペンタエリスリトールジホスフィットを、
    次式： Ｚ−ＯＭ 〔式中、Ｍは水素原子又はアルカリ金属もしくはアルカ
    リ土類金属を表わす〕 で表わされる化合物と、３，９−ジクロロ−２，４，
    ８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホスファスピロ
    〔５，５〕−ウンデカンとを溶媒及び強塩基の存在下反
    応させて製造する方法において、モノ又はポリアルキレ
    ングリコールエーテル触媒の触媒活性量を存在させて該
    反応を促進させる製造方法。
  13. 【請求項１３】上記モノ又はポリアルキレングリコール
    触媒が次式： 〔式中、 Ｒ５，Ｒ６及びＲ７は独立して水素原子又は炭素原子数
    １ないし８の低級アルキル基を表わすが、但し、Ｒ５及
    びＲ７が供に水素原子であることはなく、 ｎは０，１又は２の数、そして ｍは１ないし９の数を表わす〕 で表わされる化合物である特許請求の範囲第１２項記載
    の方法。
  14. 【請求項１４】前記ポリアルキレングリコールエーテル
    が、トリエチレングリコールジメチルエーテル又はテト
    ラエチレングリコールジメチルエーテルである特許請求
    の範囲第１３項記載の方法。
  15. 【請求項１５】式：Ｚ−ＯＭで表わされる化合物が次
    式： 〔式中、 Ｒ１及びＲ２は独立して炭素原子数１ないし８の低級ア
    ルキル基、 Ｒ３は−Ａ−COOR4、 Ａは直接結合、メチレン基又はエチレン基、そして Ｒ４はメチル基又は炭素原子数１２ないし１８のアルキ
    ル基を表わす〕 で表わされる化合物である特許請求の範囲第１２項記載
    の方法。
  16. 【請求項１６】式：Ｚ−ＯＭで表わされる化合物がｎ−
    オクタデシル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシヒ
    ドロシンナメートである特許請求の範囲第１５項記載の
    方法。
  17. 【請求項１７】前記触媒をフェノール性反応体に対して
    １ないし３０モル％の濃度で存在させる特許請求の範囲
    第１２項記載の方法。
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