JPS61155366A - 置換(4−ヒドロキシフエニルチオアルキル)誘導体 - Google Patents

置換(4−ヒドロキシフエニルチオアルキル)誘導体

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JPS61155366A
JPS61155366A JP60264705A JP26470585A JPS61155366A JP S61155366 A JPS61155366 A JP S61155366A JP 60264705 A JP60264705 A JP 60264705A JP 26470585 A JP26470585 A JP 26470585A JP S61155366 A JPS61155366 A JP S61155366A
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JP
Japan
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group
carbon atoms
formula
alkyl group
phenyl
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JP60264705A
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English (en)
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ジヨン デノン スピヴアツク
ラマナサン ラヴイチヤンドラン
ステフアン ダニエル パストー
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Novartis AG
Original Assignee
Ciba Geigy AG
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 プラスチックや樹脂のような有機重合物質は、熱、酸化
及び光による劣化を受けやすい。基体の相違ごとにそれ
を安定化するために多数の安定化剤がその技術分野にお
いて知られている。
それらの効果はその劣化の原因及び安定化される基体に
よって変わる。一般的に、どの安定化剤が1つの利用分
野にとって最も効果的で、また最も経済的であろうかと
予測することは困難である。例えば、揮発性を減するた
めの安定化剤の効果はその基質分子中の結合切断を防止
することによるのかもしれない。ポリマーやゴムにおい
て脆化度を限定すること及び弾性を維持することは過剰
交差結合及び/又は鎖切断の防止が求められるだろう。
変色の予防には基体あるいは安定化剤中に新たな発色団
や包体を生成するような反応の防止が求められるだろう
。加工処理安定性及び不相溶性の問題もまた考えるべき
である。
今になって本発明の(ヒドロキシフェニルチオアルキル
)誘導体は、それらが安定化剤として特に効果的で有用
的となるような種々の望ましい特性を示すことが確認さ
れた。該化合物は高耐衝撃性ポリスチレン、ポリブタジ
ェンやスチレン−ブタジェンゴムの如きゴム類、及び弾
性の維持と交差結合、亀裂、変色、発臭及び滲出の防止
が基本的に求められている他のエラストマー類の保護に
おいて優れた活性を示す。
種々のフェニルチオイミド化合物類が先行技術文献に開
示されている。結合する基の性質及び立体障害フェノニ
ル基をもたない点で当該化合物類とは構造的に区別され
る置換フタルイミド類が米国特許4,124,575号
明a書に開示されている。これらの化合物は植物生長調
節剤として記されている。米国特許4,456.176
号明細書には結合する基の性質及び置換型式において構
造的に区別できる(ヒドロキシフェニルチオ)イミド安
定化剤が開示されている。ケミカルアブストラクツ(C
bemical  Abstracts )85巻、1
31539d(1976)及びケミカルアブスト977
84巻、8?841e(1976)には架橋員中にイオ
ウ原子のないこれに匹適する環式イミド抗酸化剤が開示
されている。
改良された安定化特性を広範囲に示す一群のイミド、ヒ
ダントイン及びイミダゾリトン誘導体を提供することが
本発明の第一の目的である。
本発明の様々な他の目的及び利点は以下の記載により明
らかになるであろう。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の化合物は式: 〔式中、 R1及びR3は独立して水素原子、炭素原子数1ないし
18のアルキル基、炭素原子数5ないし6のシクロアル
キル基、フェニル基又は炭素原子数1ないし12のアル
キル基で置換された)ェニル基を表わし、 R3及びR4は独立して水素1京子、炭素原子数1ない
し18のアルキル基、炭素原子数5ないし6のシクロア
ルキル基、フェニル基、炭素原予電 は−緒になってシクロアルキル基、アリール基あるいは
5ないし7員環の複索環構造を形成することができ、 Aは炭素原子数1ないし18のアルキレン基を表わし、 Xは炭*原子又は窒素原子を表わし、 Yは一〇H2−基又は−〇−基を表わし、そしてZはA
又は直接結合を表わす。〕 で表わされる。
上記構造式における好ましい化合物はR1がフェニル環
上の水酸基に対してオルト位にあるものである。
R1及びR3基はn−ブチル基、第二級ブチル基、第3
級ブチル基、第3級ペンチル基、2−エチルヘキシル基
、n−オクチル基及び第三級オクチル基のような炭素ぶ
子数4ないし8の直鎖あるいは分枝アルキル基が好まし
い。第三ブチル基、第三ペンチル基及び第三オクチル基
が特に好ましい。また特にR8が第三級アルキル基であ
る場合には、水酸基に対してオルト位にあることが特に
好ましい。ベンジル基、α−メチルベンジル基及びα、
α−ジメチルベンジル基もまた好ましい。
R1及びR1の定義中のフェニル上の置換基は炭素原子
数1ないし12の、好ましくは炭素原子数1ないし8の
アルキル基である。
R3及びR4は好ましくは水素原子炭素原子数8ないし
18のアルキル基又はヒドロキシフェニルチオ基である
。好ましい環構造として炭素原子数5ないし6のシクロ
アルキル環、ピロリジン環、ピペリジン環、及びフェニ
ル環である。
Aは式 〔式中、几及び烏は独立して水素原子、炭素原子数1な
いし12のアルキル基又はアリール基基にはフェニル基
、トリル基、メシチル基、キシリル基、1−及び2−ナ
フチル基が含まれる。
Zは好ましくは直接結合または前記した低級アルキレン
基が好ましい。
望む生成物を得るに当り、本発明の誘導体は適当に置換
されたイミド、ヒダントイン又はイミダゾリトンを所望
により溶媒中、アルキル置換ヒドロキシベンゼンチオー
ルと反応させることにより祷ることができる。その溶媒
はベンセン、トルエン、キシレン、その他同様物のよう
な芳香族炭化水素又はテトラヒドロフランのようなa素
環式エーテルであり得る。反応温度範曲は口ないし70
℃である。本発明化合物を製造するための好ましい方法
として、イミド、ヒダントイン又はイミダゾリトンをチ
オールと、トリエチルアミンやピリジンを含む第三級ア
ミン又は水酸化アルカリのようなプロトン受容体の存在
下、反応させることを含む。本発明の安定化剤を製造す
るために必要な出発物質は市販品目であるか又は公知方
法により製造することができる。例えば環式イミドを製
造するための製造方法は、ハーグリーヴニス(Harg
reaves)、プリッチャード(Pritchard
)及びディプ(Days)らによるケミカル レビュー
ズ(ChemicalReviews) 70巻、45
9〜469(1970)中に記載されている。
本発明化合物は潤滑油や循環油等の如き鉱物油及び合成
油に加えて、プラスチック、ポリマー及び樹脂のような
有機物質の安定化に特に効果的である。
本発明化合物が特に有用であるような基体はポリエチレ
ン及びポリプロピレンのようなポリオレフィン類、特に
衡撃ポリスチレンを含むボリスチレン、ABSI脂、例
えばブタジェンゴム、EPM、EPDM、SBR,及び
ニトリルゴムのような高分子弾性物質である。
一般的に安定され倚るポリマー 1、 モノまたはジオレフィンから誘導されるポリマー
、例えばポリエチレン(場合により架橋してもよい)、
ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−1、
ポリメチルペンテン−1、ポリイソプレンもしくはポリ
ブタジェン、並びにシクロオレフィン例えばシクロペン
タンもしくはノルボルネンのポリマー。
2−1)で示したポリマーの混合物、例えばポリプロピ
レンおよびポリイソブチレンの混合物。
五 モノ−およびジ−オレフィン同士または他のビニル
モノマーとのコポリマー、たとえば、エチレン/プロピ
レン、フロピレン/ブテン−1、プロピレン/イソブチ
レン、エチレン/ブテン−1、プロピレン/ブタジェン
、イソブチレン/イソプレン、エチレン/アルキルアク
リレート、エチレン/アルキルメタクリレート、エチレ
ン/ビニルアセテートマたはエチレン/アクリル酸コポ
リマーおよびそれらの塩(イオノマー)ならびにエチレ
ンとプロピレンおよびジエン、たとえばヘキサジエン、
ジシクロペンタジェンまたはエチリデンノルボルネンと
のターポリマー。
4、 ポリスチレン及びポリ−(p−メチルスチレン)
5、 スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまた
はアクリル誘導体とのコポリマー、たとえばスチレン/
ブタジェン、スチレン/アクリロニトリル、スチレン/
エチルメタノ1ル−ト、スチレン/ブタジェン/エチル
アクリレート、スチレン/アクリロニトリル/メチルア
クリレート;スチレンコポリマート専他のポリマー、た
とえば、ポリアクリレート、ジエンポリマーまたはエチ
レン/フロピレン/ジェンターポリマーから得られる耐
gR軍性樹脂混合物;さらにまたスチレンのブロックコ
ポリマー、たとえば、スチレン/ブタジェン/スチレン
、スチレン/イソプレン/スチレン、スチレン/エチレ
ン−ブチレン/スチレンまたはスチレン/エチレン−プ
ロピレン/スチレン。
& スチレンのグラフトコポリマー、たとえば、スチレ
ンの結合したポリブタジェン、スチレンおよびアクリロ
ニトリルの結合したポリブタジェン、スチレン及びアル
キルアクリレート又はメタクリレートの結合したポリブ
タジェン、スチレンおよびアクリロニトリルの結合した
エチレン/プロピレン/ジェンターポリマー、スチレン
およびアクリロニトリルの結合したポリアルキルアクリ
レートもしくはポリメタクリレート、スチレンおよびア
クリロニトリルの結合したアクリレート/ブタジェンコ
ポリマー、およびこれらと5)に挙げたコポリマーとの
混合物、たとえば、ABS。
MBS、ASA もしくはAESポリマーとして昶られ
るコポリマー混合物。
l ハロゲン含有ポリマー、たとえばポリクロロプレン
〜塩素化ゴム、塩素化もしくはクロロスルホン化ポリエ
チレン、エビクロロヒドリンのホモ及びコポリマー、ハ
ロゲン含有ビニル化合物から祷られるポリマー、たとえ
ば、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化
ビニル、ポリフッ化ビニリデン;ならびにこれらのコポ
リマー、たとえば塩化ビニル/塩化ビニリデン、塩化ビ
ニル/酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン/酢酸ビニルコ
ポリマー。
8、 α、β−不飽和酸およびその誘導体から誘導され
るポリマー、たとえばポリアクリレートおよびポリメタ
クリレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニ
トリル。
9.8)に挙げたモノマー同士のコポリマーまたは8)
に挙げた七ツマ−と他の不飽才ロモノマーとのコポリマ
ー、たとえば、゛rクリロニトリル/ブタジェン、アク
リロニトリル/アルキルアクリレート、アクリロニトリ
ル/アルコキシアルキルアクリレート、またはアクリロ
ニトリル/ハロゲン化ビニルコボリマーマタはアクリロ
ニトリル/アルキルメタクリレート/ブタジェンターポ
リマー。
1α 不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのア
シル誘導体またはそれらのアセタールから誘導されるポ
リマー、たとえばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリステアリン酸ヒニル、ポリビニルベンゾエート
、ポリヒニルマレエート、ポリビニルフチラーノζポリ
アリルフタレートまたはポリアリルメラミン。
11、環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、
たとえばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキ
シド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−グ
リシジルエーテルとのコポリマー。
12、  ポリアセタール、たとえばポリオキシメチレ
ンおよびコモノマーとしてエチレンオキシドを含有する
ようなポリオキシメチレン。
13、  ポリフェニレンオキシドおよびポリフェニレ
ンスルフィド、並びにポリフェニレンオキシドとポリス
チレンの混合物。
14、 −万の末端水酸基を有するポリエーテル、ポリ
エステル及びポリブタジェンと、他方の脂肪族または芳
香族ポリイソシアネートとから誘導されるポリウレタン
、並びにそれらの前駆物質(ポリイソシアナート、ポリ
オールまたはプレポリマー)。
15、  ジアミンおよびジカルボン酸から、および/
またはアミノカルボン酸モしくは相当スルラクタギから
誘導されるポリアミドおよびコポリアミド、たとえばポ
リアミド4、ポリアミド6、ポリアミド6/6、ポリア
ミド6/10、ポリアミド11、ポリアミド12、ポリ
−2,4,4−トリメチルへキサメチレンテレフタルア
ミドまたはポリ−m−フェニレンイソフタルアミド、並
びにこれらとポリエーテル、たとえば、ポリエチレング
リコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテトラ
メチレングリコールとのコポリマー。
1& ポリ尿素、ポリイミドおよびポリアセタール ミ
 ド。
1z  ジカルボン酸およびジオールから、および/ま
たはヒドロキシカルボン酸または相当するラクトンから
誘導されるポリエステル、たとえば、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−1,
4−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリ
−(2t2−(’−ヒドロキシフェニル)−プロパン〕
テレフタレートおよびポリヒドロキシベンゾエート、な
らびに末端水酸基をもつポリエーテルから誘導されるブ
ロック−コポリエーテル−エステル。
1& ポリカーボネート。
19、  ポリスルホン、ポリエーテル−スルホン並び
にポリエーテルケトン。
2α −万のアルデヒドと、他方のフェノール、尿素ま
たはメラミンとから誘導される架橋ポリマー、たとえば
、フェノール/ホルムアルデヒド樹脂、尿″Ig/ホル
ムアルデヒド樹脂およびメラミン/ホルムアルデヒド樹
脂。
21、  乾性および不乾性アルキド樹脂。
22、  飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコ
ールとの、ビニル化合物を架橋剤とする、コポリエステ
ルから誘導される、不飽和ポリエステル樹脂ならびにそ
のハロゲン原子を含む難燃性の変性樹脂。
2五 置換アクリル酸エステル、たとえは、エポキシア
クリレート、ウレタン−アクリレートまたはポリエステ
ル−アクリレートから誘導される熱硬化性アクリル樹脂
24、  メラミン樹脂、原木樹脂、ポリイソシアネー
トまたはエポキシ樹脂で架橋されたアルキド樹脂、ポリ
エステル樹脂およびアクリレート樹脂。
25、  ポリエポキシド、たとえば、ビス−グリシま
n ジルエーテi脂環式ジエボキシドから誘導される架橋エ
ポキシ樹脂。
2& 天然のポリマー、たとえば、セルロース、天然ゴ
ム、ゼラチンおよびそれらを重合同族体として化学変性
した誘導体、たとえば、酢酸セルロース、プロピオン酸
セルロース、セルロースブチレート並びにセルロースエ
ーテル、タトエはメチルセルロース。
2Z  上記のポリマーの混合物、例えばP P/EP
DM 。
ポリアミド6/EPDMもしくはABS%PVC/EV
A、PVC/ABS、PVC/MBS、PC/ABS。
PBTP/ABS0 28、純粋なモノマー化合物またはこれらの混合物であ
る天然および甘酸有機材料、たとえば、鉱油、動物およ
び植物脂肪、油およびワックス、または合成エステル(
たとえば、フタレート、アジペート、ホスフェートまた
はトリメリテート)をベースとする、油、脂肪右よびワ
ックスならびに過当な重量比で混合された合成エステル
と鉱油との混合物、たとえばポリマ〜の成形剤として或
いは繊維紡績油として使用されるもの、ならびに上記材
料の水性エマルジョンとして使用される混せ物。
29、  天然または合成コムの水性エマルジョン、た
とえば、天然ゴムラテックスまたはカルボキシル化スチ
レン/ブタジェンコポリマーのラテックス。
基体や利用法により変わるけれども一般に本発明の安定
化剤は安定化組成物に対しα01ないし5重量%用いら
れる。好適な範囲としては約α5ないし約2%、特には
α1ないし約1%である。
当該発明の安定化剤は、形状のある物品に成形する前の
都会の良い段階で、常法により有機ポリマー中にすぐ混
合してよい。例えば該安定化剤は乾燥粉床形でポリマー
中に混合するか、あるいは該安定化剤の懸濁液あるいは
乳化液をポリマーの溶液、懸濁液あるいは乳化液と混合
してよい。本発明の安定化ポリマー組成物はまた所望に
より種々の慣用の株加物を含んでよく、例えば次の逼り
である。
例えば、2,6−ジー第三ブチル−4−メチルフェノー
ル、2−@三ブチルー4,6−シメチルフエノール、2
,6−ジー第三ブチル−4−エチルフェノール、2,6
−ジー第三ブチル−4−n−プチルフェ/−ル、2,6
−ジー第三ブチル−4−イソブチルフエ/−ル、2,6
−シーシクロペンチル−4−メチルフェノール、2−(
α−メチルシクロヘキシル) −’t6−シメチルフエ
ノール、2,6−ジ−オクタデシル−4−メチルフェノ
ール、2.4.6−トリシクロヘキシルフエノール、2
,6−ジー第三ブチル−4−メトキシメチルフェノール
例えば、2.6−ジー第三ブチル−4−メトキシフェノ
ール、2,5−ジー第三ブチルヒドロキノン、2,5−
ジー第三アミルヒドロキノン、2,6−ジフェニル−4
−オクタデシルオキシフェノール。
1.3  ヒドロキシル化されたチオジフェニルエーテ
ル 例えば、2,2′−チオ−ビス−(6−第三ブチル−4
−メチルフェノール)、2,2′−チオ一ビスー(4−
オクチルフェノール)、4,4−チオ−ビス−(6−第
三ブチル−5−メチルフェノール)及び4,4′−チオ
−ビス−(6−第三ブチル−2−メチルフェノール)。
例えば、2,2′−メチレン−ビス−(6−第三ブチル
−4−メチルフェノール)、2.2−メチレン−ビス(
6−第三ブチル−4−エチルフェノール)、2.2’−
メチレン−ビス−〔4−メチル−6−(α−メチルシク
ロヘキシル)−フェノール〕、2,2′−メチレン−ビ
ス−(4−メチル−6−シクロヘキジルフエノール)、
2,2′−メチレン−ビス−(6−ノニル−4−メチル
フェノール)、2,2−メチレン−ビス−(6−(α−
メチルベンジル)−4−ノニルフェノール〕、2.l−
メチレン−ビス−(6−(α、α−ジメチルベンジル)
−4−ノニルフェノール)、22’−メチレン−ビス−
(4?6−ジー第三ブチルフエノール)、2.2−エチ
リデン−ビス−4,6−ジー第三ブチルフェノール、2
,2−エナリデシービスー(6−第三ブチルー4−イソ
ブチルフェノール)、4,4′−メチレン−ビス−(2
,6−ジー絹三ブチルフエノール)、4?”−メチレン
−ビス−(6−第三ブチル−2−メチルフェノール)、
1,1−ビス−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2
−メチルフェニル −ブタン)、2.6−ジー(5−第
三ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−4
−メチルフェノール、1,1.3− トリス−(5−J
三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−ブ
タン、1,1−ビス−(5−第三ブチル−4−ヒドロキ
シ−2−メチルフェニル)−3−n−ドデシルメルカプ
トブタン、エチレングリコールビス−〔5,3−ビス−
(6′−第三ブチル−7−ヒドロキシフェニル)−フチ
レート〕、ジー(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5
−メチルフェニル)−シシクロペソタジエン、またはジ
ー1: 2−(3’−第三ブチルー2−ヒドロキンー5
′−メチル−ベンジル)−6−第三ブチル−4−メチル
−フェニル〕テレフタレート。
1.5  ベンジル化合物 例えば、1,3.5− トリー(3,5−ジー第三ブチ
ル−4−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチ
ルベンゼンージー(5,S−シー第三フチルー4−ヒド
ロキシベンジル)スルフィド、5,5−ジー第三ブチル
−4−ヒドロキシベンジル−メルカプト酢酸インオクチ
ルエステル、ビス−(4−第三ブチル−5−ヒドロキシ
−2,6−シメチルベンジル)−ジチオールテレフタレ
ート、135− トリス−(5゜5−ジー第三ブチル−
4−ヒドロキシベンジル)インシアヌレート、  1,
5.5− トリス−(4−第三ブチル−5−ヒドロキシ
−2,6−シメチルベンジル)インシアヌレート、3.
5−シー第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル−燐酸ジ
オクタデシルエステル、6,5−ジー第三ブチル−4−
ヒドロキシベンジル燐酸モノエチルエステル、それらの
カルシr7ム[。
例えば、4−ヒドロキシ−ラウリル酸アニリド、4−ヒ
ドロキシ−ステアリン酸アニリド、2,4−ビス−オク
チルメルカプト−6−(3,5−5g三ジブチル−4−
ヒドロキシアニリノ−s−トリアジン、オクチルN −
(5,5−シー第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)
−力ルバメート。
例エバメタノール、オクタデカノール、16−ヘキサン
ジオール、ネオペンチルグリコール、千オシエチレング
リコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコ
ール、ペンタエリスリトール、トリスーヒドロキシエ 
、チルイソシアヌレート、ジヒドロキシエチルシュウ葭
ジアミドとのエステル。
−3−メチルフェニル)プロピオン酸の例えばメタノー
ル、ジエチレングリコール、オクタデカノール、トリエ
チレングリコール、1.6−ヘキサンジオール、ペンタ
エリスリトール、ネオペンチルグリコール、トリスヒド
ロキシエチルイソシアヌレート、チオジエチレングリコ
ール、ジヒドロキシエチルシュウ酸ジアミドとのエステ
ル。
1.9  β−(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル)プロピオン酸のアミドN、 N−ジー(
3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロ
ピオニル)へキサメチレンジアミン、N、N−ジー(3
,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピ
オニル)トリメチレンジアミン、N、rJ’−ジー(3
,s−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピ
オニル)ヒドラジン。
Z 紫外線吸収剤および光安定剤 ズトIlアゾールの誘導体 一1□□1 例えば5−メチル−13,5−ジー第三ブチル−15′
−第三ブチル−、ダー(1,1,3,5−テトラメチル
フチル)−15−クロロ−615!−ジー第三ブチル−
15−クロロ−3−:A三ブチルー5−メチル−1i−
第二ブチル−5′−第三ブチル−、イーオクトキシ−1
5′、5′−ジー第三アミル−15,5−ビス−(α、
α−ジメチルベンジル)−誘導体。
2.22−ヒドロキシベンゾフェノンの誘導体例えば4
−ヒドロキシ−14−メトキシ−14−オクトキシ−1
4−デシルオキシ〜、4−ドデシルオキシ−14−ベン
ジルオキシ−14、2,4−トリヒドロキシ−および2
−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシ−誘導体。
2、− 、!−軍−1−獣よpq−京11(24虜−譚
−ニス−オル例えばフェニルサリチレート、4−第三ブ
チルーフェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチ
レート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス−(4−第
三ブチルベンゾイル)−レゾルシノール、ベンゾイルレ
ゾルシノール、2,4−ジー第三ブチル−フェニル5,
5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸2゜4−
ジー第三ブチル−フェニルエステルおよび3,5−ジー
第三ブチル−4−ヒドロキシ安息香量ヘキサデシルエス
テル。
例えばα−シアノ−β9.y−ジフェニル−アクリル酸
エチルエステル又はインオクチルエステル、α−カルボ
メトキシ−シンナミル酸メチルエステル、α−シアノ−
β−メチル−p−メトキシ−シンナミル酸メチルエステ
ル又はブチルエステル、α−カルボメトキシ−p−メト
キシ−シンナミル酸メチルエステルN−(β−カルボメ
トキシ−β−シアンビニル)−2−メチル−インドリン
例えば2,2′−チオ−ビス−(4−(1,1,!13
−テトラメチルブチル)フェノール〕の、所望によりn
−ブチルアミン、トリエタノールアミンまたはN−シク
ロヘキシル−ジェタノールアミンのような他の配位子を
含んでいてもよい1:1″fi体または1:2錯体、ニ
ッケルジブチルジチオカルバメート、4−ヒドロキシ−
5,5−ジー第三ブチルベンジルホスホン酸のモノアル
キルエステル例えばメチル、エチルまたはブチルエステ
ルのニッケル塩、ケトキシムのニッケル錯体例えば2−
ヒドロキシ−4−メチル−フェニルウンデシルケトンオ
キシムのニッケル錯体、所望により他の配位子を含んで
いてもよい1−フェニル−4−ラウロイル〜5−ヒドロ
キシ−ピラゾールのニッケル錯体。
例えばビス−(2v2t6p6−チトラメチルペリジル
)セバケート、ビス−(1,2,2,6,6−ペンタメ
チルピペリジル)セパ1r−)、n−ブチル−3,5−
ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル−マロン酸ビ
ス−(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)
エステル、1−ヒドロキシエチル−2t2t6t6−テ
トラメチル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との
縮合生成物、N、N −(2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジル)−へキサメチレンシアミンおよび
4−第三オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,
5−s−トリアジンとの縮合生成物、トリス−(2,2
,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ニトリロト
リアセテート、テトラキス−(2,296,6−テトラ
メチル−4−ピベIlジル) −1,2,5,4−ブタ
ンテトラカルボン酸、1.1− (1,2−エタンジイ
ル)−ビス−(5,3,5,5−テトラメチルピペラジ
ノン)。
例えば4,4′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、2
,2−ジオクチルオキシ−5,5−ジー第三ブチル−オ
キサニリド、2.グージ−ドデシルオキシ−5,5′−
ジー第三ブチルオキサニリド、2−エトキシ−2−エチ
ルオキサニリド、N、N−ビス−(6−ジメチルアミノ
プロピル)−シュウ酸ジアミド、2−エトキシ−5−第
三ブチル−2−エチルオキサニリドおよびこれと2−エ
トキシ−2−エチル−5,4−ジー第三ブチルオキサニ
リドとの混合物、オルト−忘よびパラ−エトキシm=置
換オキサニリドの混合物並びにオルト−およびパラ−エ
トキシー二置換オキサニ+1ドの混合物。
例えばNN’−ジフェニルシュウ酸ジアミド、N−サリ
チラルーダーサリチロイルヒドラジン、NN−とスーサ
リチロイルヒドラジン、N、N’−ビス−(5,5−ジ
ー第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)
−ヒドラジン、3−サリチロイルアミノ−1,2,4−
トリアゾール、ビス−ベンジリデン−シュウ酸ジヒドラ
ジド。
4、 ホスフィツトおよびホスホナイト例えばトリフェ
ニルホスフィツト、ジフェニルアルキルホスフィツト、
フェニルジアルキルホスフィツト、トリ(ノニルフェニ
ル)ホスフィツト、トリラウリルホスフィツト、トリオ
クタデシルホスフィツト、ジステアリルーペンタエリト
リトールジホスフィット、トリス−(2,4−ジー第三
ブチルフェニル)ホスフィツト、ジイソデシルベンタエ
リトリトールジホスフィット、ジー(2,4−ジー第三
ブチルフェニル)−ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、トリステアリル−ソルビトールトリホスフィツト、
テトラキス−(2,4−ジー第三ブチルフェニル)−4
,4’−ビフェニレンジホスホナイト。
例えばβ−チオ−ジプロピオン酸のエステル、例として
はラウリル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシル
エステル、メルカプトベンズイミダゾールまたは2−メ
ルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオ
カルバミン酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペン
タエリトリトールテトラキス−Q−ドデシルメルカプト
)プロピオネート。
6 ポリアミド安定剤 例えばヨウ化物および/または燐化合物と共に用いる銅
塩および2価マンガンの塩。
例えばメラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジア
ミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジ
ン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂
肪酸のアルカリ金域塩およびアルカリ土類金属塩、例え
ばステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステア
リン酸マグネシウム、リシノール酸ナトリウムおよびバ
ルミチン酸カリウム、ピロカテコールアンチモンまたは
ピロカテコール錫。
& 造核剤 例えば4−第三ブチル安息香酸、アジピン酸およびジフ
ェニル酢酸。
ρ 充填剤および補強剤 例えば炭飲カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、石綿、タ
ルク、カオリン、雲母、@酸バリウム、金属酸化物およ
び金属水酸化物、カーボンブラック、燕鉛。
例えば可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、防炎加
工剤、静電防止剤、発泡剤およびジラウリルチオジプロ
ピオネートまたはジステアリルチオジプロピオネートの
ようなイオウ系協力剤。
〔実施例〕
以下の実施例は本発明の具体例を示すものである。これ
らの実施例において、数値は別に特記しない限りは重量
比を示す。
実施例1 3.5−ジ第三ブチルー4−ヒドロキシベンゼンチオー
ル12.19F及び水酸化カリウム5,50 fを50
−のアセトン中に溶解させた溶液及び水2rnノを反応
容器に入れ0℃にてN−(クロロメチル)フタルイミド
1 (LOf!と混合した。1時間攪拌後、比表生成物
を濾過し、酢酸エチル−ヘキサンで再結晶させて生成物
14.9fを得た。融点151へ153℃。
元素分析 CzsHxrNOsS 計算値 C69,5,H&?、  N五5冥測値 C6
9,5,H7,0,N 五6実施例2 3−メチル−4−ヒドロキシ−5−第三ブチルベンゼン
チオール&46P、水酸化カリウム1.721及びN−
(クロロメチル)フタルイミド&43?を用いて実施例
1の操作を繰り返した。酢酸エチル−ヘプタンから再結
晶により融点114S116℃の生成物ZIFを得た。
元素分析 CxoHxxNOsS 計算値 C67,6,H&O,N五9 実測値 C67,7,H5,9,N五9実施例3 ジフェニルチオメチル)−2−ドデセン−2−イル−コ
ハク酸イミド 0〜5℃にてN−(ヒドロキシメチル)−2−ドデセン
−2−イルコハク酸イミド10Fを50rrJメチレン
クロライド中に溶解した溶液、トリエチルアミン7、1
 rrd、続けてメタンスルホニルクロライドL9rd
を容器に入れた。1時間攪攪後、溶媒を留去して祷られ
た粗メシレートをアセトン50m1に溶解し、3,5−
ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベンゼンチオール8.
05P及び水酸化ナトリウム1.55fをsomlのア
セトンに溶解させた溶液及び水10m1からなる溶液で
処理した。8時間攪拌後、その混合物を濃縮し、該残留
物をメチレンクロライドと水の混液で分配抽出した。そ
の有機抽出層を水で況浄し、塩水乾燥(M2SO4)シ
、蒸発させて粗生成物を傅た。平衡カラムクロマトグラ
フィー(シリカゲル、5:1−ヘプタン:酢酸エチル)
により純生成物9.5 fを得た。融点55〜55℃元
素分析 C5xHa*N0sS 計算値 C72,2,H9,6,N17実測値 C72
,0,H?、1.N2.6実施例4 3−(!1,5−ジー第三ブチルー4−ヒドロキシ−7
−壬−ニノ叶1−オーイ、−チル)−一一−巨−1灸−
二−ソfチーと11り゛ントイン N−(ヒドロキシメチル) −S、S−ジメチルヒダン
トイン1021 メタンスルホニルクロライド5.!1
8 ml、 トリエチルアミン1五22 ml、 5.
5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベンゼンチオール
15.07f及び水酸化ナトリウム2.53S’を用い
て実施例5の操作を繰り返した。粗生成物を酢酸エチル
−ヘキサンから再結晶し白色固形物15.2Fを得た。
融点160〜162℃元素分析 CnHs。N、03S 計算値 C6五5.  H8,0,N7.4実測値 C
6&8.  )l 8.0.  N 7.4実施例5 三フチルー4−ヒドロキシフェニルチオ)コハク酸イミ
ド N−(ヒドロキシメチル)−2−(5,5−ジーg三ツ
チル−4−ヒドロキシフェニルチオ)−コハク酸イミド
1αOf、メタンスルホニルクロライド2.55m1.
  トリ二チルアミ:/ 5.72mA!%3゜5−ジ
ー第三ブチル−4−ヒドロキシベンゼンチオール&52
fおよび水酸化ナトリウム1.09 tを用いて実施例
5の操作を繰り返した。平衡力ラムグロマトグラフィー
(SiO2,5: 1 =へブタン:酢酸エチル)によ
り白色固形生成物7.09Fを得た。融点138514
0℃ 元素分析 Cs5HatNO4Ss 計算値 C67,7,HELl、N2.4実測値 C6
77、)l 7.9.  N 2.2実施例6 リドン 1.3−ビス(ヒドロキシメチル)−2−イミダシリン
5.65?ならびに3,5−ジー第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンゼンチオール11.92rヲ100m7のメ
チルアルコールにとかした溶液を無水塩酸で処理した。
反応混合物を冷却し、生成物をメチルアルコールから再
結晶し白色固形物11.43S’を得た。融点1755
176℃元素分析 Cs5Hs。N*0sSz 計算値 C67,5,HFl、6.  N 4.8分析
値 C67,3,H&7.  N4.8実施例7 安定化されていないポリプロピレン粉末〔バーキュレス
 プロファクス6501 (Hercule 5Pro
fax 6501 ) )と指示量の添加物を混ぜあわ
せた。該混合物を182℃で5分間、二本ロールミル上
で粉砕し、その後安定化させたポリプロピレンを該ミル
からシート状にし冷却する。その粉砕ポリプロピレンを
小片に切断し、220℃及び175 psi(1,2X
i O’Pa)にて25 miJ厚板に水圧プレス機を
用いて圧縮成形した。該サンプルを劣化するまで蛍光太
陽光曙光室(fluorescentsunlight
/black  light  Chamber)に曝
した。
劣化度は赤外分光スペクトルにより露光フィルム上にカ
ルボニル吸収がα5に達するまでに要する時間で表わす
な   し                    
 100実施例1      (L2       1
90実施例2   12     220 実施例5    (L 2     220実施例4 
  12     250 実施例5    [12290 これらのデータは当該化合物の効果的安定化活性を示し
ている。
要約すれば、本発明は効果的安定化活性を示す新規化合
物を提供するものと見られる。特許請求の範囲で限定し
たような本発明の範囲から離れることなしに調整量、手
順及び物質は変化させることができる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ( I )次式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、 R_1及びR_2は独立して水素原子、炭素原子数1な
    いし18のアルキル基、炭素原子数5ないし6のシクロ
    アルキル基、フェニル基又は炭素原子数、ないし12の
    アルキル基で置換されたフェニル基を表わし、 R_3及びR_4は独立して水素原子、炭素原子数4な
    いし18のアルキル基、炭素原子数5ないし6のシクロ
    アルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし12のア
    ルキル基で置換されたフェニル基、又は▲数式、化学式
    、表等があります▼基を 表わすか又は一緒になってシクロアルキル基、アリール
    基あるいは5ないし7員環の複素環構造を形成すること
    ができ、 Aは炭素原子数1ないし18のアルキレン 基を表わし、 Xは炭素原子又は窒素原子を表わし、 Yは−CH_2−基又は▲数式、化学式、表等がありま
    す▼基を表わし、そして ZはA又は直接結合を表わす〕 で表わされる化合物。 (2)R_1がフェニル環上の水酸基に対し、オルト位
    にある特許請求の範囲第1項記載の化合物。 (3)R_1が炭素原子数4ないし8のアルキル基であ
    る特許請求の範囲第1項記載の化合物。 (4)R_1が第三ブチル基、第三ペンチル基又は第三
    オクチル基である特許請求の範囲第3項記載の化合物。 (5)R_2もまたフェニル環上の水酸基に対してオル
    ト位にある特許請求の範囲第1項記載の化合物。 (6)R_2が炭素原子数4ないし8の第三級アルキル
    基である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 (7)Aが次式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_5及びR_6は独立して水素原子、炭素原
    子数1ないし12のアルキル基またはアリール基を表わ
    す〕 で表わされる特許請求の範囲第1項記載の化合物。 (8)Xが炭素原子である特許請求の範囲第1項記載の
    化合物。 (9)Xが窒素原子である特許請求の範囲第1項記載の
    化合物。 (10)Yが▲数式、化学式、表等があります▼である
    特許請求の範囲第1項記載の化合物。 (11)次式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、 R_1及びR_2は独立して水素原子、炭素原子数1な
    いし18のアルキル基、炭素原子数5ないし6のシクロ
    アルキル基、フェニル基又は炭素原子数1ないし12の
    アルキル基で置換されたフェニル基を表わし、 R_3及びR_4は独立して水素原子、炭素原子数1な
    いし18のアルキル基、炭素原子数5ないし6のシクロ
    アルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし12のア
    ルキル基で置換されたフェニル基、又は▲数式、化学式
    、表等があります▼基を 表わすか又は一緒になってシクロアルキル基、アリール
    基あるいは5ないし7員環の複素環構造を形成すること
    ができ、 Aは炭素原子数1ないし18のアルキレン 基を表す)し、 Xは炭素原子又は窒素原子を表わし、 Yは−CH_2−基又は▲数式、化学式、表等がありま
    す▼基を表わし、そして ZはA又は直接結合を表わす〕 で表わされる化合物の安定化有効量用いて安定化された
    、酸化、熱及び光による劣化を受けやすい有機物質から
    なる組成物。 (12)有機物質が合成ポリマーである特許請求の範囲
    第44項記載の組成物。 (13)前記合成ポリマーがポリオレフィンホモポリマ
    ー又はコポリマーである特許請求の範囲第11項記載の
    組成物。 (14)前記合成ポリマーがスチレンホモポリマー、コ
    ポリマー又はターポリマーである特許請求の範囲第12
    項記載の組成物。 (15)酸化、熱及び光による劣化を受けやすい有機物
    質に、次式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、 R_1及びR_2は独立して水素原子、炭素原子数1な
    いし18のアルキル基、炭素原子数5ないし6のシクロ
    アルキル基、フェニル基又は炭素原子数1ないし12の
    アルキル基で置換されたフェニル基を表わし、 R_3及びR_4は独立して水素原子、炭素原子数1な
    いし18のアルキル基、炭素原子数5ないし6のシクロ
    アルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし12のア
    ルキル基で置換されたフェニル基、又は▲数式、化学式
    、表等があります▼基を 表わすか又は一緒になつてシクロアルキル基、アリール
    基あるいは5ないし7員環の複素環構造を形成すること
    ができ、 Aは炭素原子数1ないし18のアルキレン 基を表わし、 Xは炭素原子又は窒素原子を表わし、 Yは−CH_2−基又は▲数式、化学式、表等がありま
    す▼基を表わし、そして ZはA又は直接結合を表わす〕 で表わされる化合物の安定化有効量配合することを特徴
    とする該有機物質の安定化方法。
JP60264705A 1984-11-23 1985-11-25 置換(4−ヒドロキシフエニルチオアルキル)誘導体 Pending JPS61155366A (ja)

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