JPS61180794A - 置換ジベンゾジオキサホスフエピン及びジオキサホスホシン並びに該化合物を含有する安定化有機材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は置換ジペンゾジオキサホスフェピン及びジオキ
サホスホシン並びに該化合物を含有する安定化有機材料
に関するものである。

（従来の技術） プラスチック、樹脂のような有機高分子物質や潤滑油及
び鉱油は、熱的、酸化及び光劣化を受けやすい。各種の
基体を安定化するための非常に多くの種類の安定化剤が
当技術分野で公知である。それらの効果は劣化の原因、
及び安定化された基体くよって変化する。本研究の間に
長期間たいへん有効な酸化防止剤である安定化剤は、比
較的不十分な加工安定化剤であって、短時間であるが比
較的高温である熱的劣化に対して基体を安定化させるこ
とが必要であることが発見された。多くの安定化剤は基
体と比較的不相溶性で、そのため生産物の使用中、問題
を引き起こしたシ安定化剤の性能を減少させる。安定化
剤の中には、あまシに揮発性であるか、又は熱的に不安
定であるか、加水分解に不安定であるために市販の安定
化剤として実用的でないものもある◎本発明のホスファ
イトは、先行技術のホスファイトと比較すれば、所望の
性質の通常見慣れない組み合わせを持っており、それが
これらのニルホスファイト及び２，２′−メチレン−ビ
ス−（ジアルキルフェニル）フェニルホスファイトを開
示している（ケミカルアブストラクト、第６８巻、第１
２５９７Ｑ頁（１９６８）、ケミカルアブストラクト、
第７３巻、第１５６５７Ａ頁（１９７０）、ケミカルア
ブストラクト、第７５巻、第１３０２４２Ｑ頁（１９７
１）及びソビエト連邦特許第５７＆５Ｂ９号、第４２９
．０７０号及び第４４ａ、ｓｑｏ号）０　更に、アルカ
ノールアミンホスファイトは、アメリカ特許第２，８４
１，６０７号及び第４．３１＆８４５号に開示されてい
る。アメリカ特許第４８５２５９５号は、トリス−（３
゜５−ジー第三１チル−４−ヒドロキシフェニルチオ）
ホスフィンを開示している。これらの化合物は、種々の
高分子の安定化剤と指摘されている。

化学文献は、第三アミン酸スキャベンジャ−の存在下で
のアルキルメルカプタンとホスホロクロリダイトとの反
応をも記載している〔シアーナル　オブ　へテロサイク
リック　ケミストリー（Ｊ−Ｈｅｔ、　Ｃｈｅｍ、　）
第２０巻、第１５１１頁（１９８５）　）。アメリカ特
許第４．１９４１１７号はチオ置換基を有する種々のア
ルキル化１，１′−ビフェニル−２，２′−ジイルホス
ファイトを製造するためのチオールとの同様の反応を記
載している。これらのホスファイトは構造上本発明化合
物と異なっている。更に、該ホスファイトは高温加工中
の高分子鎖の切断並びに変色を防止するにもポリオレフ
ィンや他の基体の加工安定化剤として特により有効であ
る。

（発明が解決しようとする問題点） 従って、本発明の主なる目的は、以前に公知のホスファ
イト化合物と比較すれば、改善された加工安定化性能を
示すビア゛エニル環状ホスファイト化合物を提供するこ
とである。

（問題点を解決するための手段） 本発明の他の多くの目的と利点は１次の記載から明らか
になる。

本発明の化合物は次式： 〔式中、Ｒ及びＲ１は独立して水素原子、炭素原子数１
ないし１Ｂのアルキル基、炭素原子数５ないし６のシク
ロアルキル基、７エエル基、炭素原子数１ないし１８の
アルキル置換フェニル基、炭素原子数７ないし９のアル
アルキル基、又は炭素原子数１ないし１２のアルキル置
換の該アルアルキル基を表わし、 Ｚ及びｚｌは独立して水素原子、炭素原子数１ないし１
８のアルキル基、炭素原子数５ないし６の７クコアルキ
ル基、フェニル基、炭素原子数１ないし１Ｂのアルキル
置換フェニル基を表わし、及び Ｘは直接結合、硫黄原子又は炭素原子数１ないし１２の
アルキリデン基を表わす〕に対応する。

上記構造の範囲内で好ましい化合物は式Ｉにおいて２及
びＺｌがフェニル基の各々においてホスファイト酸素に
対してオルト位にある化合物である。

Ｒ，Ｒ’、２及びｚｌの基は、好ましくはｎ−ブチル、
！４ニブチル、第三ブチル、第三ペンチル、２−エチル
ヘキシル、ｎ−オクチル及び第三オクチルのような炭素
原子数４ないし８を有する直鎖又は分娃鎖アルキルであ
る。第三ブチル、第三ペンチル及び第三オクチルの基が
特に好ましい。特にＲ１が第三アルキル基であれば　Ｂ
１基が水酸基に対してオルト位にあることが特に好まし
い。

Ｒ１は水素原子又は炭素原子数１ないし１８のアルキル
基でもよいが、好ましくは、直鎖または分山支鎖のいず
れかである炭素原子数１ないし８のアルキル基である。

特に好ましいのは、炭素原子数４ないし８の第三アルキ
ル基である。

Ｒ及びＷ基がアルアルキルである時は、該基はベンジル
基％ａ−メチルベンジル基又はａ。

ａ−ジメチルベンジル基を表わす。置換フェニルはたと
えばトリル基、メシチル基、又はキシリル基でもよい。

Ｘは好ましくは直接結合もしくは次式：Ｃ式中、Ｗ及び
Ｒ３は独立して、水素原子、フェニル基、又は全炭素原
子数が１２を越えないことを前提として、炭素原子数１
ないし７のアルキル基を表わす〕で表わされる低級アル
キリデン基である。

本発明のホスファイトは、アルキル化２，２′−ビス−
フェノール又はアル中ル化２，２′−アルキリデン又は
チオ−ビス−フェノールを溶媒中で三塩化燐と反応させ
て対応するホスホロクロリジットを得て、これを順次ア
ルカリ金属アルコラード又はフェノラートと反応させて
所望の生成物とすることによって製造される。溶媒は、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族が好ましい。

室温から反応媒体の還流温度までの反応温度が一般的に
用いられる。

本発明の化合物を調整する他の方法はホスホロクロリジ
ットを、所望によシ例えばトリエチルアミン又はピリジ
ンのような第三アミンプロトン受容体の存在下で適当な
アルコール又はフェノールと反応させる事を含んでいる
。

これらのホスファイトを調製するために必要な出発物質
は市販品であるか、又は公知の方法で調製することがで
きる。

本発明の化合物は、九とえば潤滑油循環油のような鉱物
流体又は合成流体に加えてプラスチック、高分子及び樹
脂のような有機物質を安定化するのに有効である。

本発明の化合物が特に有用である基体は、ポリエチレン
及びポリプロピレンのようなポリオレフアン；特に耐衝
撃ポリスチレンを含むポリスチレン；ＡＢ８樹脂；　例
えばブタジェンゴム、ＥＤＭ、ＥＰＤＭ、ＳＢＲ，及び
ニトリルゴムのようなエラストマーである。

一般に安定化され得る高分子は次の通りである： ｔ　モノオレフィン及びジオレフィンの高分子、たとえ
ば（場合によっては架橋され得る）ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリイソブチレン、ポリブチ／−１、ポリ
メチル−ペンテン−１，ポリイソプレン又はポリブタジ
ェン、並びにたとえばシクロペンテン又はノルボルネン
のようなシクロオレフィンの高分子。

２−１）に列挙した高分子あ混合物、たとえばポリプロ
ピレンとポリイソブチレンの混合物・＆　モノオレフィ
ン及びジオレフィン相互または他のビニルモノマーとの
コーポリマー、たトエハエチレン／フロピレン、フロピ
レン／ブテン−１，プロピレン／イソブチレン、エチレ
ン／ブテン−１，プロピレン／ブタジェン、イソブチレ
ン／イソプレン、エチレン／アルキルアクリレート、エ
チレン／アルキルメタアクリレート、エチレン／ビニル
アセテート又はエチレン／アクリル酸コーポリマー及び
それらの塩（アイオノマー）及び、プロピレン及びヘキ
ナジエン、ジシクロペンタジェン又はエチリデン−ノル
ボルネンのようなジエンとエチレンとのターポリマー。

表　ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチレン） 翫　スチレン又はメチルスチレンとジエン又はアクリル
誘導体とのコーポリマー、例えば、エチレン／フタジエ
ン、スチレン／アクリロニトリル、ステシン／エチルメ
タアクリレート、スチレン／ブタジェン／エチル／アク
リレート、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリ
レート：スチレンコーポリマー及ヒ他のポリマー、たと
えば、ポリアクリレート、ジエンポリマー、又ハエチレ
ン／プロピレン／ジェンターポリマーからの高衝撃強度
の混合物：スチレンのブロックコーポリマー、たと、ｔ
ば、スチレン／フタジエン／スチレン、スチレン／イソ
プレン／スチレン、スチレン／エチレン／ブチレン／ス
チレン、又はスチレン／エチレン／フロピレン／スチレ
ン。

＆　エチレンのグラフトコーポリマー、例えばポリブタ
ジェンにエチレン、ポリブタジェンにエチレン及びアク
リロニトリル、ポリブタジェンにスチレン及びアルキル
アクリレート又は、メタアクリレート、エチレン／プロ
ピレン／ジェンターポリマーにスチレン及ヒアクリロニ
トリル、ポリアクリレート又はポリメタアクリレートに
スチレン及びアクリロニトリル、アクリレート／ブタジ
ェンコーポリマーにスチレン及びアクリロニトリル、並
びにこれらと５）に列挙したコーポリマーとの混合物、
例えばＡＢＳ、ＭＢ８．ＡＳＡ、ＡＥｆ９ポリマーとし
て知られているコーポリマー混合物。

ｌ　ハロゲン原子を含有する高分子、例えばポリクロロ
プレン、塩素化ゴム、塩素化又はスルホ塩素化ポリエチ
レン、エビクロロヒドリンホモ−及ヒコーポリＹ−、ハ
ロゲン原子金含有するビニル化合物からの高分子、たと
えば、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ
化ビニル、ポリ７ツ化ビニリデン、並びＫそれらのコー
ポリマー、たとえば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化
ビニル／ビニルアセテート又は塩化ビニリデン／ビニル
アセテートコーポリｉ１− ０ｌＬ、７−不飽和酸及びその誘導体から誘導されたポ
リマー、例えば、ポリアクリレート及びポリメタアクリ
レート、ポリアクリルアミド及びポリアクリロニトリル
＠ ！　前記８）に列挙し九モノマー相互または他の不飽和
上ツマ−とのコーポリマー、例えば、アクリロニトリル
／ブタジェン、アクリロニトリル／アルキルアクリレー
ト、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレー
ト又は７り！Ｊロニトリル／ハロゲン化化工ニルコーポ
リマー又はアクリロニトリル／アルキルメタアクリレー
ト／ブタジェンターポリマー。

１α　不飽和アルコール及びアミンまたはそれらのアシ
ル誘導体、またはアセタールから誘導されたポリマー、
例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセテート
、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、
ポリビニルマレエート、ホリヒニルフチラール、ポリア
リル７タレート、又はポリアリル−メラミン。

１を環状エーテルのホモポリマー及びコーポリマー、例
えば、ポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシド、又はそれらとビス−グリ
シジルエーテルとのコーポリマー。

１２−　ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン、
コーポリマーとしてエチレンオキシドを含有するポリオ
キシメチレン。

１五　酸化及び硫化ポリフェニレン、及び酸化ポリフェ
ニレンとポリスチレンとの混合物。

抹一方の成分としてヒドロキシル末端基を有するポリエ
ーテル、ポリエステル又はポリブタジェンと、他方の成
分として、脂肪族または芳香族ポリイソシアネートから
誘導されたポリウレタン及びその前駆物質（ポリイソシ
アネート、ポリオール、又はプレポリマー）憾　ジアミ
ン及びジカルボン酸及び／又はアミノカルボン酸又は対
応するラクタムから誘導されたポリアミド及びコーポリ
アミド、例えばポリアミド４．ポリアミド６、ポリアミ
ド６／６．ポリアンド６／１０、ポリアミド１１、ポリ
アミド１２、ポリ−２，４，４−）リメチルへキサメチ
レンテレ７タルアミド又はポリ−ｍ−７ｚ二レン　イソ
７タルアミド、並びにポリエーテル、例えばポリエチレ
ングリ；−ル、ポリプロピレングリコール又はポリテト
ラメチソングリコールとのそれらのコーポリマー。

１＆　ポリ尿素、ポリイミド及びポリアミドーイミ　　
ド　。

１ｚ　　ジカルボン酸及びジオール及び／又はヒドロキ
シカルボン酸又は相応するラクトンから誘導されるポリ
エステル、例えばポリ二ｆＬ／ンテレフタレート、ポリ
ブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチロール
−シクロヘキサンテレフタレート、ポリ−（２，２−（
４−ヒドロキシフェニル）−プロパン）テレフーＶ−ト
及びポリヒドロキシベンゾエート並びに末１水酸基を有
するポリエーテルから誘導されるブロック−コーポリエ
ーテル−エステル。

１ａ　　ポリカーボネート◎ １９、ポリスルフォーン、ポリエーテルスルフォーン及
びポリエーテルケトン。

２α　一方の成分としてアルデヒド、他方の成分として
７エノール、尿素及びメラミンから誘導された架橋ポリ
マー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素
／ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン／ホルムアルデヒ
ド樹脂。

２１、乾性及び非乾性アルキド樹脂。

２ｚ　飽和及び不飽和のジカルボン酸と多価アルコール
及び架橋剤、並びにそれらの燃焼性の低いハロゲノ含有
改質剤としてのビニル化合物から誘導された不飽和ポリ
エステル樹脂。

２五　置換アクリル酸エステルから誘導される熱碩化性
アクリル樹脂、例えばエポキシ−アクリレート、ウレタ
ンアクリレート又はポリエステルアクリレート。

２４−　架橋剤としてメラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイ
ソシアネートまたはエポキシ樹脂を用いて混合されてい
るアルキド樹脂、ポリエステル樹脂又はアクリレート樹
脂。

２＆　例えば、ビス−グリシジルエーテル又は環状脂肪
族ジエボキシドのようなポリエポキシドから誘導される
架橋エポキシ樹脂。

２瓜　天然高分子、たとえばセルロース、ゴム、ゼ２チ
／、並びにこれらのポリマー同族体として化学的に改質
された誘導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セ
ルロース、酪酸セルロース、及ヒセルロースエーテル、
例、ｔはメチルセルロース。

２ｚ　　上記に列挙した高分子の混合物、例えばＰＰ／
ＥＰＤＭ、　　ポリアミド６／ＥＰＤＭ又はＡＢＳ１Ｐ
ＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ
／ＡＢ３％ＰＢＴＰ／ＡＢ　Ｓ　。

２ａ　　純モノマー化合物又はそれらの化合物の混合物
である天然に産する及び合成有機物質。

例えば、鉱油、動物油及び植物油、油及びワックス、油
類、（例えば、フタル酸エステル、アジピン酸エステル
、ホスフェート又はトリメリット酸エステルのような）
合成エステルに基づいた油及びワックス、及び２合成エ
ステルと鉱油とのいかなる重量比にある混合物。

該物質は高分子の可塑剤、繊維紡糸油、並びにそのよう
な物質の水性乳濁液として用いられる＠ ２９　　天然又は合成ゴムの水性乳濁液、例えば天然ラ
テックス又はカルボキシル化スチＶン／ブタジェンコー
ポリマーのラテックス。

一般に、本発明の安定化剤は安定化される組成物の約Ｃ
ＬＯ１ないし約５！ｉｔ％で使用される、がしかしこの
ことは特別の基体及び施用で変化する０都合のよい範囲
は約（Ｌ５ないし約２チであり、特にα１ないし約１俤
である。

本発明の安定化剤は、成形された製品の製造よシ前の好
都合ないかなる段階においても慣用の技術によって有機
高分子中に練込まれる。例えば安定化剤は乾燥粉末状の
高分子と混合され。

又は安定化剤の懸濁液または乳濁液を高分子の溶液、懸
濁液または乳濁液と混合してもよい。

本発明の安定化された高分子組成物は、所望により次の
ような棟々の慣用の添加剤もま次含む：１、　酸化防止
剤 １．１．　　アルキル化モノフェノール、たとえば：２
．６−ジー第三ブチル−４−メチルフェノール ２−第三プチル−４，６−シメチルフエノール ２．６−ジー第三ブチル−４−エチルフェノール ２．６−ジー第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール ２．６−ジー第三ブチル−４−ｉ−ブチルフェノール ２．６−ジ−シクロペンチル−４−メチルフェノール ２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−シメチル
フエノール ２．６−ジ−オクタデシル−４−メチルフェノール ２．４．６−　）ジーシクロヘキシルフェノール ２．６−ジー第三ブチル−４−メトキシメチルフェノー
ル０ １．２．　　アルキル化ヒドロキノン、たとえば：２．
６−ジー第三ブチル−４−メトキシフェノール ２．５−ジー第三ブチル−ヒドロキノン２．５−ジー第
三アミル−ヒドロキノン２．６−ジフェニル−４−オク
タデシルオキシフェノール １、Ｓ　　ヒドロキシル化チオジ７工二−ルエーテル、
たとえば： ２．２−チオ−ビス−（６−第三ブチル−４−メチルフ
ェノール） ２．２−チオ−ビス−（４−オクチルフェノールン ４．４−チオ−ビス−（６−第三ブチル−５−メチルフ
ェノール） ４．４−チオ−ビス−（６−第三ブチル−２−メチルフ
ェノール） １．４．　　アルキリデン−ビスフェノール、たとえば
： ２．２−メチレン−ビス−（６−第三ブチル−４−メチ
ルフェノール） ２．２−メチレン−ビス−（６−第三ブチル−４−エチ
ルフェノール） ２．２−メチレン−ビス−〔４−メチル−６−（α−メ
チルシクロヘキシル）−フェノール〕 ２．２−メチレン−ビス−（４−メチル−−６−シクロ
ヘキジルフエノール） ２、″、２−メチレン−ビス−（６−ノニル−４−メチ
ルフェノール） ２．２−メチレン−ビス−〔６−（α−メチルベンジル
）−４−ノニルフェノール〕 ２．２−メチレン−ビス−〔６−（α、α−ジメチルベ
ンジル）−４−ノニルフェノール〕２．２−メチレン−
ビス−（４，６−ジー第三ブチルフェノール） ２．２−エチリデン−ビス−（４，６−ジー第三ブチル
フェノール） ２．２−エチリデン−ビス−（６−第三ブチル−４−イ
ソブチルフェノール） ４．４−メチレン−ビス−（２，６−ジー第ミプチルフ
エノール） ４．４−メチレン−ビス−（６−第三ブチル−２−メチ
ルフェノール） １．１−ビス−（５−第三プチル−４−ヒドロキシ−２
−メチルフェニル）−ブタン２，６−ジー（３−第三ブ
チル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メ
ｆルフェノール １．１．３−　）リス−（５−第三プチル−４−ヒドロ
キシ−２−メチルフェニル）−ブタン １．１−ビス−（５−第三プチル−４−ヒドロキシ−２
−メチルフェニル）−３−ｎ−）”デシルメルカプトブ
タン エチレンクリコール−ビス−（３，３−ビスル）−ブチ
レート ジー（３−第三プチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフ
ェニル）−ジシクロペンタジェン −Ｓ−メ＋ルーベンジル）　−６−第三フチルー４−メ
チルフェニルクーテレフタレート。

１．５．　　ベンジル化合物、たとえば：１．３．５−
）ジー（６，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル）　−２＋’＋６−ドリメチルベンゼンージー（３
，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−ス
ルフィド６．５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル−メルカプト−酢酸インオクチルエステル ビス−（４−第三プチル−３−ヒドロキシ−２，６−シ
メチルベンジル）ジチオール−テレフタレート １．３．５−）リス−（６，５−ジー第三ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート １．３．５−）リス−（４−第三プチル−３−ヒドロキ
シ−２，６−シメチルペ／ジル）−イソシアヌレート ５．５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシペ／ジル−燐
酸−ジオクタデシルエステル３．５−ジー第三ブチル゛
−４−ヒドロキシベンジル−燐酸−七ノエチルエステル
カルタウム塩 １．４アシルアミノフエノール、たとえば＝４−ヒドロ
キシ−ラウリン酸アニリド ４−ヒドロキシ−ステアリン酸アニリド２．４−とスー
オクチルメルカブト−６−（３，５−第三プチル−４−
ヒドロキシアニリノ）−ｓ−）リアジン オクチル−Ｎ−（５，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）−カルバミネート１．７．　　β−（３
，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロ
ピオン酸と１価もしくは多価のアルコール、たとえば、
メタノール。

オクタデカノール、１．６−ヘキサンジオール。

ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、
ジエチレングリコール、トリエチレンクリコール、ペン
タジェン！Ｊ　）　−ルｓ　トリス−ヒドロキシエチル
イソシアヌレート。

ジ−ヒドロキシエチル蓚酸ジアミドとのエステル。

１、　ａ　　β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−
３−メチルフェニル］プロピオン酸と１価もしくは多価
アルコール、たとえば、メタノール、オクタデカノール
、１．６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール
、チオジエチレングリコール、ジエチレンクリコール、
トリエチレングリコール、ペンタエリスリトーＡ／、）
！Ｊスス−ドロキシエチルイソシアヌレート、ジ−ヒド
ロキシエチル蓚酸ジアミドとのエステル。

１．９．　　β−（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）−プロピオン酸のアミド、たとえば： Ｎ、ｄ−ジー（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニルグロピオニル）−へキサメチレンジアミン Ｎ、イージー（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニルプロビオニルンートリメチレンジアミン Ｎ、Ｎ’−ジー（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニルグロピオニル）−ヒドラジン ２　紫外線吸収剤及び光安定化剤 ２−１．　２−（２’−ヒドロキシフェニル）ペンスト
・　リアゾール、例えば、５′−メチル−３，５′−ジ
ー第三ブチル、５′−第三ブチル、５’−（１゜１．５
．３−テトラメチルブチル）−２５−クロロ−３′、５
′−ジー第三ブチル、５−クロロ−３−第三プチル−５
′−メチル、３′−第二プチル−５′−第三ブチル、４
−オクトキシ、３，５−ジー第三アミル　、／、５／−
ビス−（α、α−ジメチルベンジル）−誘導体。

２．２．　２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン例えば、４
−ヒドロキシ−１４−メトキシ−％４−オクトキシー１
４−デシルオキシ−，４−ドデシルオキシ−１４−ベン
ジル−オキシ、４゜２／、　４／−ト、、ヒドロキシ及
び２−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体０ ２．５　　所望により、置換されてもよい安息香酸のエ
ステル、たとえば、サリチル酸フェニル、サリチル酸−
４−第三ブチルフェニル、、サリチル酸オクチルフェニ
ル、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス−（４１Ｅ三ブ
チルベンゾイル２−レゾルシノール、ベンゾイルレゾル
シノール、３．５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシ安
息香酸２，４−ジー第三ブチル−フェニルエステル及び
５．５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ヘキ
サデシルエステル。

２．４．　　アクリレート、たとえば、α−シアノ−β
、β−ジフェニルアクリル酸エチルエステルモジくはイ
ソオクチルエステル、α−カルボメトキシ−桂皮酸メチ
ルエステル、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−
桂皮酸メチルエステルモジくハフチルエステル、α−カ
ルポメトキシーｐ−メトキシ−桂皮酸メチルエステル、
Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノ−ビニル）−２
−メチル−インドリン０２１　　ニッケル化合物、たと
えば２．２−チオ−ビス−（４−（１，１，３，３−テ
トラメチルブチル）−フェノール〕のニッケル錯体１例
えば、所望により更にｎ−ブチルアミン、トリエタノー
ルアミンまたはＮ−シクロヘキシル−ジ−エタノールア
ミンのような配位子をもつ１：１または１：２錯体、ニ
ッケルジチオカルバメート、メチル基、エチル基もしく
はブチルエステルのような４−ヒドロキシ−５゜５−ジ
ー第三ブチルベンジルホスホン酸モノアルキルエステル
のニッケル塩、２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニル
ウンデシルケトキシムのよりなケトキシムのニッケル錯
体。

所望によシ付加的配位子を有する１　−７二ニルー４−
ラウロイルー５−ヒドロキシ−ヒラゾールのニッケル錯
体０ ２．６　　立体障害アミン、例えば、ビス−（２，２゜
６．６−ケトラメチルピペリジル）−セパケート、ビス
−（１，２，２，６，６−ベンタメチルビヘリジルンー
セバケート、ｎ−ブチル−３，５−シ第三７”チル−４
−ヒドロキシベンジルマロン酸ビス−（１，２，２，６
，６−ベンタメチルピペリジルンエステル、１−ヒドロ
キシエチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒド
ロキシ−ピペリジンと琥珀酸との縮合生成物。

Ｎ、Ｎ’−（２，２，６，６−チトラメチルビペリジル
）−へキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ
−２，６−ジクロロ−１，３，５−ｓ−）リアジンとの
縮合生成物、トリス−（２，２，６，６−チトラメチル
ビペリジル）−二トリロトリアセテート、テトラキス−
（２゜２．６．６−テトラメチル−４−ピペリジル］−
１，２，３，４−ブタン−テトラカルボン酸、１．１（
１，２−エタンジイル）−ビス−（３゜３．５．５−テ
トラメチルピペラジノン２２．１　　蓚酸ジアミド、例
えば、４，４−ジ−オクチルオキシ−オキサニリド、２
．２−ジ−オクチルオキシ−５，５−ジー第三ブチル−
オキサニリド、２，２−ジ−ドデシルオキシ−５，５−
ジー第三ブチル〜オキサニリド、２−エトキシ−２′−
エチル−オキサニリド％Ｎ、Ｎ’−ビス（３−ジメチル
アミノプロピル１−オキサニリド、２−エトキシ−５−
第三ブチ〃−２−エチルオキサニリド及びそれと２−エ
トキシ−２′−エチルー５．４−ジー第三ブチルオキサ
ニリドとの混合物及び、オルト−及びノ（ジーメトキシ
ー二置換オキサニリドの混合物並びＫｏ−及びｐ−エト
キシー二置換オキサニリドの混合物〇 五　金属不活性化剤１例えば、Ｎ、心ジフェニル蓚酸ジ
アミド、Ｎ−プリチラル−Ｎ−サリチロイルヒドラジン
、Ｎ、Ｎ’−ビス−サルチロイルヒドラジン、　Ｎ　、
　Ｎ’−ビス−（６，５−ジーｉＩ三級フチルー４−ヒ
ドローキシフェニルグロビオニル）ヒドラジン、３−サ
リチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス−
ベンジリデン−蓚酸ジヒドラジド。

４、　ホスファイト及びホスホナイト、例えば、トリフ
ェニルホスファイト、ジフェニルアルキルホスファイト
、フェニルジアルキルホスファイト、トリー（ノニルフ
ェニル）ホスファイト、トリラウリルホスファイト、ト
リオクタデシルホスファイト、ジ−ステアリル−ペンタ
エリスリトールジホスファイト、トリス−（２，４−ジ
ー第三ブチルフェニル）ホスファイト、ジ−イソデシル
ペンタエリスリトールジホスファイト、ジー（２１４−
ジー第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホス
ファイト、トリスステアリル−ソルビットトリホスファ
イト、テトラキス−（２，４−ジー　ｇ三７’チルフェ
ニル）−４，４−ジフェニリレンジホスファイト０ ＆　過酸化物をこわす化合物、例えば、β−チオジプロ
ピオン酸のエステル、例えば、ラウリル、ステアリル、
ミリスチルもしくはトリデシルエステル、メルカプト−
ベンズイミダゾールもしくは２−メルカプトベンズイミ
ダゾールの亜鉛塩、ジブチルージチオカルドミン酸亜鉛
、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリスリトール
−テトラキス−（β−ドデシルメルカプト）−プロピオ
ネート。

＆　ポリアミド安定剤１例えば、ヨウ化物及び／又は燐
化合物及び二価のマンガン塩と組み合わせた銅塩 Ｚ　塩基性補助安定剤１例えば、メラミン、ポリビニル
ピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレー
ト、尿素誘導体、ヒドラジン銹導体、アミン、ポリアミ
ド、ポリウレタン、例えばステアリン酸カルシウム、ス
テアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム。

リシノール酸ナトリウム、及びバルミチン酸カリウムの
ような高級脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金
属塩、アンチモンビロカテコラートまたは亜鉛ビロカテ
コラート。

ａ　成核剤１例えば、４−第三プチル−安息香酸、アジ
ピン酸、ジフェニル酢ｅ１２゜２　充填剤及び補強剤１
例えば、炭酸カルシウム′、珪酸塩、ガラス繊維、アス
ベスト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属
酸化物及び水酸化物、カーボンブラック、グラフアイド
ロ １１ＩＬ他の添加剤１例えば、可塑剤、潤滑油、乳化剤
、顔料、光学的光沢剤、防炎剤、帯電防止剤１発泡剤及
びジラウリルチオジプロピオネート又はジステアリルチ
オジチオグロビオネートのようなチオ相乗剤〇 （実施例） 下記の実施例は１本発明の実施態様を説明する。これら
の実施例中では特記しない限シ部は重量部を示す０ 実施例１ 窒素下火炎乾燥したフラスコ内にて乾燥トルエン１００
ｓｄ中に＆８７ｆの三塩化燐を、５℃を越えない温度に
て、乾燥トルエン８０−中に２１、２７　ｆの２−２−
メチレン−ビス−（４，６−ジー第三ブチルフェノール
）及び１（Ｌ１２Ｆのトリエチルアミンを含む溶液で処
理する０反応は室温で８時間攪拌してその後゛５℃にま
で冷却する。その後１１．９２Ｆの２，６−ジー第三プ
チル−４−メルカプトフェニル及び５．１ｆのトリエチ
ルアミンを含む溶液を添加して反応混合物を室温でさら
に８時間攪拌する。混合物を濾過して１戸液を減圧下で
濃縮するＯ残留物をトルエン／ヘプタンから再結晶する
と、融点＝２８０ないし２８２℃の白色結晶性生成物を
得る。

元素分析 計算値（Ｃ４３Ｈ６３ＰＯ３８）　：Ｃ，７４，７３：
）］　、　？、　２１゜実測値：ｃ、　７５．０　：）
（、９，５゜実施例２ 窒素下火炎乾燥したフラスコ内にて、乾燥トルエン５〇
−中に２．２ｔの三塩化燐を５℃を越えない温度にて、
乾燥トルエン４０−中に１α２７ｔの３．３，５．５−
テトラ−第三ブチル−ビフェニル−２，２′−ジオール
及び６．７９−のトリエチルアミンを含む溶液で処理す
る。その後乾燥トルエン１〇−中に５．９６　ｆの２．
６−ジー第三ブチル−４−メルカプト−フェノール及び
工４８−のトリエチルアミンを含む溶液を添加して。

反応混合物を室温でさらに１５時・間攪拌するＯ混合物
を濾過して、Ｆ液を減圧下で濃縮するＯ残留物をシリカ
ゲル上でエチルアセテート・ヘプタン（１ニア）を用い
てクロマトにかけると。

白色泡状の生成物を得る。

元素分析 計算値（Ｃ４，Ｈ６１０３ＰＳ）　：Ｃ，７４，５１：
Ｈ，？、１　ｏ。

実測値：　Ｃ，７４，５：Ｈ，９，４゜実施例５ ステアリン酸カルシウム　１１０部 ＊ハイモント（Ｈｉｍｏｎｔ）、ＵＳＡ＠のプロファッ
クス（Ｐｒｏｆａｘ）　６５０１゜ 安定剤を、塩化メチレン中の溶液としてポリプロピレン
に溶媒配合し、減圧下で溶媒を蒸発した後に、樹脂を次
の押し出し条件で押し出すＯ温　　　度　　（ｑ 一番目のシリンダー　　２３２ 二番目のシリンダー　　２４６ 三番目のシリンダー　　２６０ 一番目の押出ダイ　　　２６〇 二番目の押出ダイ　　　２６〇 三番目の押出ダイ　　　２６０ 毎分回転数　　　　　　１００ 押し出し中、内部押出圧力を圧力変換器を用いて測定し
た０一番目、三番目及び三番目の各々の押出の後に、樹
脂ペレットを１９３℃で厚さ五２簡のブラック（平板）
に圧縮成形する。

試料黄色度指数（Ｙ、１．　）　ｔ−ＡＳＴＭＤ　１９
２５−６３Ｔにより測定する。結果を次表に表示する０
、／′’ 押出温度　−２６０℃ 添加剤　　１３５１３５ な　　　し　　　　　　８９１７．５　８２６５　　７
３９５　４．３　　　ｉｔ　　　１４実施例ｔ　　（：
Ｌ１ｔ４１１３１０　１０６７５５　ｊＤ１５ｒＪ　ａ
ｎ　１α９１１．３実施例２　α１％　１０４４０　１
０２２２５　９７１５５５　７．６　　ａ３酸化防止剤
Ａ＊α１％　　１０００５　９７８７．５　９１３５７
．２　　ｉｌ、７　１ａ３＊ネオペンチルテトライル　
テトラキス〔５−（５，５−ジー第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）グロパノエート〕 これらのデータは本発明の化合物によって与えられる有
効な加工安定性を証明している〇実施例４ 未安定化ポリプロピレン粉末（ハーキ瓢しスプロファッ
クｘ　（Ｈｅｒｃｕｌｅｓ　ｐｒｏｆａｘ　）　６５０
１　）を指定された量の添加剤と共によく混和する。

その後混合物を２本ロールミルにて１８２℃で５分間混
練した後、安定化したポリプロピレンを、ロール機から
圧延して冷やす◎その後圧延したポリプロピレンを小片
に切断し、そして油圧プレスにより２２０℃、１．２　
Ｘ　１０’Ｐａで圧縮成形して厚さ１６３ｆｉのブラッ
ク（平板）とする。

試料を破損するまで蛍光性の太陽光／暗黒光呈・で暴露
する。露光したフィルムの赤外線分光によるカルボニル
吸収が１５に達するのに必要な時間で破損を表わす な　　　し　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１
００実施例１　　　　［１２４００ 実施例２　　　α２　　　　３６０ これらのデータはさらに本化合物の有効な安定化活性を
示している。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）次式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ及びＲ＾１は独立して水素原子、炭素原子数
   １ないし１８のアルキル基、炭素原子数５ないし６のシ
   クロアルキル基、フェニル基、炭素原子数１ないし１８
   のアルキル置換フェニル基、炭素原子数７ないし９のア
   ルアルキル基、または炭素原子数、ないし１２のアルキ
   ル置換の該アルアルキル基を表わし、Ｚ及びＺ＾１は独
   立して水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基
   、炭素原子数５ないし６のシクロアルキル基、フェニル
   基、又は炭素原子数１ないし１８のアルキル置換フェニ
   ル基を表わし、そして Ｘは直接結合、硫黄原子又は炭素原子数１ ないし１２のアルキリデン基を表わす〕で表わされる化
   合物。 ２）Ｚ及びＺ＾１は各々のフェニル環において、ホスフ
   ァイト酸素原子に対してオルト位にある特許請求の範囲
   第１項記載の化合物。 ３）Ｒ＾１がヒドロキシル基に対してオルト位にある特
   許請求の範囲第１項記載の化合物。 ４）Ｒ、Ｒ＾１、Ｚ及びＺ＾１が炭素原子数４ないし８
   のアルキル基である特許請求の範囲第１項記載の化合物
   。 ５）Ｒ、Ｒ＾１、Ｚ及びＺ＾１が炭素原子数４ないし８
   の第５アルキル基である特許請求の範囲第４項記載の化
   合物。 ６）Ｒ、Ｒ＾１、Ｚ及びＺ＾１が第３ブチル基、第三ペ
   ンチル基、第三オクチル基である特許請求の範囲第３項
   記載の化合物。 ７）Ｘが直接結合もしくは次式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾２及びＲ＾３は独立して水素原子、フェニ
   ル基、または全炭素原子数が１２を越えないことを前提
   として炭素原子数１ないし７のアルキル基を表わす〕で
   表わされるアルキリデン基を表わす特許請求の範囲第１
   項記載の化合物。 ８）２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−６−〔３
   ′，５′−ジ−第三ブチル−４′−ヒドロキシフェニル
   チオ〕−１２Ｈ−ジベンゾ〔ｄ，ｇ〕〔１，３，２〕ジ
   オキサホスホシンである特許請求の範囲第１項記載の化
   合物。 ９）２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−６−〔３
   ′，５′−ジ−第三ブチル−４′−ヒドロキシフェニル
   チオ〕−ジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１，３，２〕ジオキサホ
   スフェピンである特許請求の範囲第１項記載の化合物。 １０）次式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ及びＲ＾１は独立して水素原子、炭素原子数
   １ないし１８のアルキル基、炭素原子数５ないし６のシ
   クロアルキル基、フェニル基、炭素原子数１ないし１８
   のアルキル置換フェニル基、炭素原子数７ないし９のア
   ルアルキル基、または炭素原子数１ないし１２のアルキ
   ル置換の該アルアルキル基を表わし、Ｚ及びＺ＾１は独
   立して水素原子、炭素原子数４ないし１８のアルキル基
   、炭素原子数５ないし６のシクロアルキル基、フェニル
   基、又は炭素原子数１ないし１８のアルキル置換フェニ
   ル基を表わし、そして Ｘは直接結合、硫黄原子又は炭素原子数１ ないし１２のアルキリデン基を表わす〕で表わされる化
   合物の安定化有効量により安定化された酸化、熱的、及
   び化学作用劣化を受ける有機物質からなる材料組成物。 １１）有機物質が合成ポリマーである特許請求の範囲第
   １０項記載の組成物。 １２）該高分子がポリオレフィン、耐衝撃ポリスチレン
   、ＡＢＳ樹脂、ブタジエンゴム、ＥＰＭ、ＥＰＤＭ、Ｓ
   ＢＲ及びニトリルゴムからなる群から選ばれる特許請求
   の範囲第１１項記載の組成物。