JP2860588B2 - ビス（１―ヒドロカルビルオキシ―２，２，６，６―テトラメチルピペリジン―４―イル）アミン誘導体および安定化組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、化学線の悪影響からポリマーを保護するた
めの有効な安定剤であるビス（１−ヒドロカルビルオキ
シ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イル）ア
ミン誘導体および安定化組成物に関する。

〔従来の技術・発明が解決しようとする課題〕

本発明の化合物は、本願の優先権主張の基礎となる米
国特許出願第326849号の同時継続出願である米国特許出
願第259950号に記載された１−ヒドロカルビルオキシ誘
導体とは異なる構造を有する。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、次式： （式中、 ｎは１ないし４を表し、 R₁およびR₂は独立して炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基を表すか、またはR₁およびR₂は一緒になってペンタ
メチレン基を表し、 Ｅは炭素原子数１ないし18のアルキル基、炭素原子数
５ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数２ないし18
のアルケニル基、炭素原子数５ないし12のシクロアルケ
ニル基、炭素原子数７ないし15のアルアルキル基、炭素
原子数７ないし12の飽和もしくは不飽和二環式もしくは
三環式炭化水素の基、または炭素原子数６ないし10のア
リール基もしくはアルキル基により置換された前記アリ
ール基を表し、 Ｔは原子価ｎの基を表し、そして ｎが１であるとき、Ｔは水素原子、炭素原子数２ない
し20のアルカノイル基、炭素原子数６ないし13のシクロ
アルカノイル基、炭素原子数７ないし11のアロイル基、
炭素原子数８ないし16のアルアルカノイル基、置換され
たカルバモイル基または炭素原子数２ないし20のアルコ
キシカルボニル基を表し、 ｎが２であるとき、Ｔは−CO−基、脂肪族、環状脂肪
族、芳香脂肪族または芳香族ジカルボン酸の２価のアシ
ル基、ジカルバミン酸の２価のアシル基または混合され
たカルボン酸／カルバミン酸の２価のアシル基を表し、 ｎが３であるとき、Ｔは脂肪族、環状脂肪族、芳香脂
肪族または芳香族トリカルボン酸の３価のアシル基を表
し、 ｎが４であるとき、Ｔは脂肪族、環状脂肪族または芳
香族テトラカルボン酸の４価のアシル基を表す。） で表される化合物に関する。

好ましくは、ｎは２ないし４である。

R₁およびR₂は好ましくは各々メチル基である。

Ｅは好ましくは炭素原子数１ないし12のアルキル基、
シクロヘキシル基またはアルファメチルベンジル基であ
る。最も好ましくはＥはメチル基、ヘプチル基、オクチ
ル基、ノニル基またはシクロヘキシル基である。

ｎが２であるとき、Ｔは炭素原子数２ないし10のアル
カンジオイル基またはヘキサメチレンジカルバモイル基
が好ましく、最も好ましくはオキサリル基、スクシニル
基またはセバコイル基である。

ｎが４であるとき、Ｔは1,2,3,4−ブタンテトラカル
ボキソイル基、1,2,3,4−ブテ−２−エン−テトラカル
ボキソイル基、1,2,3,5−ペンタンテトラカルボキソイ
ル基または1,2,4,5−ペンタンテトラカルボキソイル基
が好ましく、最も好ましくは1,2,3,4−ブタンテトラカ
ルボキソイル基である。

Ｎ−メトキシピペリジン部分は、上記米国特許出願第
259950号に記載されているように、適当なＮ−オキシル
前駆体とジ−第三ブチルパーオキシドの熱分解により生
成されるメチル基との、不活性溶媒例えばクロロベンゼ
ン中での反応により合成される。

米国特許第4665185号は、立体障害性アミンの過酸化
水素および金属酸化物触媒での酸化、続く接触水素添加
によるＮ−ヒドロキシピペリジンの製造を教示してい
る。立体障害性アミンの過酸化水素および金属酸化物触
媒での酸化によるＮ−ヒドロキシピペリジンは接触水素
添加により続けられている。Ｎ−ヒギロキシ化合物は水
素化ナトリウムおよびヨウ化アルキルとの反応によりア
ルキル化される。

Ｎ−ヒドロカルビル化合物の好ましい製造方法は、炭
化水素溶液の、特に例えばシクロヘキサン、ヘプタン、
オクタン、ノナンまたはエチルベンゼンのような炭化水
素との熱反応、立体障害性アミンまたはそのＮ−オキシ
ル誘導体の第三ブチルヒドロパーオキシドおよび金属酸
化物触媒との熱反応を包含する。EP-A-309402参照。

本発明の化合物は２つの一般的な合成経路により製造
される。ビス（2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４
−イル）アミンを、酸クロライドまたはイソシアネート
と反応させ、そしてＮ−ヒドロカルビルオキシ基を上記
の好ましい方法により導入する。

また、Ｎ−ヒドロカルビルオキシ部分は、最初に導入
され、次に酸クロライドまたはイソシアネートと反応さ
せてもよい。ビス（１−ヒドロカルビルオキシ−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミンは、４
−オキソ−１−ヒドロカルビルオキシピペリジンの４−
アミノ−１−ヒドロカルビルオキシピペリジンとの還元
アミノ化により製造される。

本発明の化合物の製造において有用な中間体は広く市
販されている。

本発明は2,2,6,6−テトラアルキルピペリジン構造を
強調しているけれども、本発明は以下のテトラアルキル
置換されたピペラジンまたはピペラジノン部分が上記テ
トラアルキルピペリジン部分の代わりに使用されている
化合物にも関する： 式中、ＭおよびＹは独立してメチレン基またはカルボ
ニル基を表し、好ましくはＭはメチレン基を表し、そし
てＹはカルボニル基を表す。そのような化合物に適用可
能な同定された置換基は環窒素原子上での置換に適当で
あるものであることが理解される。

本発明の化合物が特に有用である基材は、ポリオレフ
ィン例えばポリエチレンおよびポリプロピレン、ポリス
チレン特に耐衝撃性ポリスチレン、ABS樹脂、エラスト
マー例えばブタジエンゴム、EPM、EPDM、SBRおよびニト
リルゴムである。

安定化され得るポリマーは一般に以下のものを包含す
る： 1.モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例え
ば（所望により架橋結合できる）ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−１、ポリメ
チルペンテン−１、ポリイソプレンまたはポリブタジエ
ン、並びにシクロオレフィン例えばシクロペンテンまた
はノルボルネンのポリマー。

2.1.に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロピレ
ンとポリイソブチレンとの混合物。

3.モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニル
モノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレ
ン、プロピレン／ブテン−１、プロピレン／イソブチレ
ン、エチレン／ブテン−１、プロピレン／ブタジエン、
イソブチレン／イソプレン、エチレン／アルキルアクリ
レート、エチレン／アルキルメタクリレート、エチレン
／ビニルアセテートまたはエチレン／アクリル酸コポリ
マーおよびそれらの塩類（アイオノマー）、およびエチ
レンとプロピレンとジエン例えばヘキサジエン、ジシク
ロペンタジエンまたはエチリデン−ノルボルネンとのタ
ーポリマー。

4.ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチレン）。

5.スチレンまたはメチルスチレンとジエンまたはアクリ
ル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／ブタジエ
ン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／メチルメ
タクリレート、スチレン／ブタジエン／エチルアクリレ
ート、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレー
ト；スチレンコポリマーと別のポリマー、例えばポリア
クリレート、ジエンポリマーまたはエチレン／プロピレ
ン／ジエンターポリマーからの高耐衝撃性混合物；およ
びスチレンのブロックポリマー例えばスチレン／ブタジ
エン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、ス
チレン／エチレン／ブチレン／スチレンまたはスチレン
／エチレン／プロピレン／スチレン。

6.スチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブタジエ
ンにスチレン、ポリブタジエンにスチレンおよびアクリ
ロニトリル、ポリブタジエンにスチレンおよびアルキル
アクリレートまたはメタアクリレート、エチレン／プロ
ピレン／ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロ
ニトリル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレート
にスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート／ブ
タジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリ
ル、並びにこれらと5.に列挙したコポリマーとの混合
物、例えばABS−MBS−、ASA−またはAES−ポリマーとし
て知られているコポリマー混合物。

7.ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩
素化ゴム、塩素化またはクロロスルホンポリエチレン、
エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、ハロゲン
含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ
化ビニリデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩化ビ
ニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニル、塩化
ビリニリデン／酢酸ビニルコポリマーまたはフッ化ビニ
ル／ビニルエーテルコポリマー。

8.α，β−不飽和酸およびその誘導体から誘導されたポ
リマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタアクリ
レート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニトリ
ル。

9.前項8.に挙げたモノマー相互のまたは他の不飽和モノ
マーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジ
エン、アクリロニトリル／アルキルアクリレート、アク
リロニトリル／アルコキシアルキルアクリレートまたは
アクリロニトリル／ハロゲン化ビニルコポリマーまたは
アクリロニトリル／アルキルメタアクリレート／ブタジ
エンターポリマー。

10.不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのアシ
ル誘導体またはそれらのアセタールから誘導されたポリ
マー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、
ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポ
リビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリ
ルフタレートまたはポリアリルメラミン。

11.環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、例
えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−グリ
シジルエーテルとのコポリマー。

12.ポリアセタール、例えばポリオキシメチレンおよび
エチレンオキシドをコモノマーとして含むポリオキシメ
チレン。

13.ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド並びにポ
リフェニレンオキシドとポリスチレンとの混合物。

14.一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエー
テル、ポリエステルまたはポリブタジエンと他方の成分
として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとから誘
導されたポリウレタン並びにその前駆体（ポリイソシア
ネート、ポリオールまたはプレポリマー）。

15.ジアミンおよびジカルボン酸および／またはアミノ
カルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポリ
アミドおよびコポリアミド。例えばポリアミド４、ポリ
アミド６、ポリアミド6/6、ポリアミド6/10、ポリアミ
ド11、ポリアミド12、ポリ−2,4,4−トリメチルヘキサ
メチレンテレフタルアミドまたはポリ−ｍ−フェニレン
イソフタルアミド、並びにこれらとポリエーテル、例え
ばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール
またはポリテトラメチレングリコールとのコポリマー。

16.ポリ尿素、ポリイミドおよびポリアミドイミド。

17.ジカルボン酸およびジオールおよび／またはヒドロ
キシカルボン酸または相当するラクトンから誘導された
ポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポ
リブチレンテレフタレート、ポリ−1,4−ジメチロール
−シクロヘキサンテレフタレートおよびポリヒドロキシ
ベンゾエート並びにヒドロキシ末端基を含有するポリエ
ーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエステ
ル。

18.ポリカーボネート。

19.ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリエ
ーテルケトン。

20.一方の成分としてアルデヒドおよび他方の成分とし
てフェノール、尿素およびメラミンから誘導された架橋
ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、
尿素／ホルムアルデシド樹脂およびメラミン／ホルムア
ルデヒド樹脂。

21.乾性および不乾性アルキド樹脂。

22.飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコールお
よび架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステルか
ら誘導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性の低
いそれらのハロゲン含有変性物。

23.置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリレ
ート、ウレタン−アクリレートまたはシリコーンアクリ
レートから誘導された熱硬化性アクリル樹脂。

24.架橋剤としてメラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシ
アネートまたはエポキシ樹脂と混合されたアルキド樹
脂、ポリエステル樹脂またはアクリレート樹脂。

25.ポリエポキシド、例えばビス−グリシジルエーテ
ル、または脂環式ジエポキシドから誘導された架橋エポ
キシ樹脂。

26.天然ポリマー、例えばセルロース、ゴム、ゼラチン
およびこれらの化学的に変性させた重合同族体誘導体、
例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースおよび
酪酸セルロースまたはセルロースエーテル例えばメチル
セルロース。

27.前記したポリマーの混合物、例えばPP/EPDM、ポリア
ミド6/EPDMまたはABS、PVC/EVA、PVC/ABS、PVC/MBS、PC
/ABS、PBTP/ABS。

28.純単量体化合物またはその化合物の混合物である天
然および合成有機材料、例えば鉱油、動物および植物脂
肪、オイルおよびワックスまたは合成エステル（例えば
フタレート、アジペート、ホスフェートまたはトリメリ
テート）をベースとした上記オイル、脂肪およびワック
ス、並びに適当な重量比で混合された合成エステルと鉱
油との混合物で、その材料はポリアミドのための可塑剤
として、繊維紡績油として、並びにこのような材料の水
性エマルジョンとして使用され得る。

29.天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例えばカ
ルボキシル化スチレン／ブタジエンコポリマーの天然ラ
テックス。

30.ポリシロキサン、例えば米国特許第4259476号に記載
された軟質親水性ポリシロキサン、および例えば米国特
許第4355147号に記載された硬質ポリオルガノシロキサ
ン。

31.不飽和アクリルポリアセトアセテート樹脂または不
飽和アクリル樹脂と組み合わせたポリケチミン。不飽和
アクリル樹脂はペンダント不飽和基を有するウレタンア
クリレート、ポリエーテルアクリレート、ビニルまたは
アクリルコポリマーおよびアクリル化メラミンを包含す
る。ポリケチミンは酸触媒の存在下でポリアミンとケト
ンとから製造される。

32.エチレン性不飽和モノマーまたはオリゴマーおよび
多不飽和脂肪族オリゴマーを含有する放射線硬化性組成
物。

33.エポキシメラミン樹脂、例えばエポキシ官能性共エ
ーテル化ハイソリッドメラミン樹脂、例えばLSE4103
（モノサント社製）により架橋された光安定性エポキシ
樹脂。

一般に、本発明の化合物は安定化される組成物の約0.
01ないし約５重量％使用されるが、しかしこれは特定の
基材および施用で変化するであろう。有利な範囲は約0.
5ないし約２％、そして特に0.1ないし約１％である。

本発明の安定剤は、有機ポリマー中に、当該分野で慣
用の方法により成形の前のあらゆる段階で容易に混入さ
れ得る。例えば該安定剤は乾燥粉末の形態でポリマーと
混合されてもよく、また安定剤の懸濁液またはエマルジ
ョンは、ポリマーの溶液、懸濁液またはエマルジョンと
混合されてもよい。本発明の生成した安定化ポリマー組
成物は、以下に示すような種々の慣用の添加剤を所望に
より添加することもできる。

1.酸化防止剤 1.1 アルキル化モノフェノール、例えば 2.6−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、 ２−第三ブチル−4,6−ジメチルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、 2,6−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、 ２−（α−メチルシクロヘキシル）−4,6−ジメチル
フェノール、 2,6−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、 2,4,6−トリシクロヘキシルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノー
ル。

1.2 アルキル化ハイドロキノン、例えば 2,6−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、 2,5−ジ−第三ブチルハイドロキノン、 2,5−ジ−第三アミルハイドロキノン、 2,6−ジ−フェニル−４−オクタデシルオキシフェノ
ール。

1.3 ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル例えば、 2,2′−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェ
ノール）、 2,2′−チオビス（４−オクチルフェノール）、 4,4′−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェ
ノール）、 4,4′−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェ
ノール）。

1.4 アルキリデンビスフェノール、例えば 2,2′−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチル
フェノール）、 2,2′−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチル
フェノール）、 2,2′−メチレンビス〔４−メチル−６−（α−メチ
ルシクロヘキシル）フェノール〕、 2,2′−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキ
シルフェノール）、 2,2′−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェ
ノール）、 2,2′−メチレンビス〔６−（α−メチルベンジル）
４−ノニルフェノール〕、 2,2′−メチレンビス〔６−（α，α−ジメチルベン
ジル）−４−ノニルフェノール〕、 2,2′−メチレンビス（4,6−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、 2,2′−エチリデンビス（4,6−ジ−第三ブチルフェノ
ール）、 2,2′−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソ
ブチルフェノール）、 4,4′−メチレンビス（2,6−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、 4,4′−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチル
フェノール）、 1,1−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−
メチルフェニル）ブタン、 2,6−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒド
ロキシベンジル）−４−メチルフェノール、 1,1,3−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−
２−メチルフェニル）ブタン、 1,1−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−
メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタ
ン、 エチレングリコールビス〔3,3−ビス（３′−第三ブ
チル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート〕、 ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチル
フェニル）ジシクロペンタジエン、 ビス〔２−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−
５′−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチル
フェニル〕テレフタレート。

1.5 ベンジル化合物、例えば 1,3,5−トリス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル）−2,4,6−トリメチルベンゼン、 ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）スルフィド、 イソオクチル3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルメルカプトアセテート、 ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−2,6−ジメ
チルベンジル）ジチオールテレフタレート、 1,3,5−トリス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルイソシアヌレート、 1,3,5−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−
2,6−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、 ジオクタデシル3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルホスホネート、 モノエチル3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジルホスホネートのカルシウム塩。

1.6 アシルアミノフェニノール、例えば ラウリン酸４−ヒドロキシアニリド、 ステアリン酸４−ヒドロキシアニリド、 2,4−ビス（オクチルメルカプト）−６−（3,5−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−ｓ−トリアジ
ン、 オクチルＮ−（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）−カルバメート。

1.7 β−（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオン酸の以下の一価または多価アルコール
とのエステル、 アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコー
ル、オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6
−ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペン
チルグリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシア
ヌレート、チオジエチレングリコール、N,N′−ビス
（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド。

1.8 β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メ
チルフェニル）プロピオン酸の以下の一価または多価ア
ルコールとのエステル、 アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコー
ル、オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6
−ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペン
チルグリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシア
ヌレート、チオジエンチレングリコール、N,N′−ビス
（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド。

1.9 β−（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオン酸のアミド、例えば N,N′−ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、 N,N′−ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、 N,N′−ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル）ヒドラジン。

2.紫外線吸収剤および光安定剤 2.1 ２−（２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリア
ゾール、例えば、 ５′メチル−、３′,5′−ジ−第三ブチル−、５′−
第三ブチル−、５′−（1,1,3,3−テトラメチルブチ
ル）−、５−クロロ−３′,5′−ジ−第三ブチル−、５
−クロロ−３′−第三ブチル−５′−メチル−、３′−
第二ブチル−５′−第三ブチル、４′−オクトキシ、
３′,5′−ジ−第三アミル−、３′,5′−ビス（α，α
−ジメチルベンジル）−、３′−第三ブチル−５′−２
−（ω−ヒドロキシ−オクタ−（エチレンオキシ）−カ
ルボニルエチル）−、３′−ドデシル−５′−メチル
−、および３′−第三ブチル−５′−（２−オクチルオ
キシカルボニル）−エチル、およびドデシル化−５′−
メチル−誘導体。

2.2 ２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン、例えば ４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクトキシ
−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−
ベンジルオキシ−、4,2′,4′−トリヒドロキシ−およ
び２′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシ誘導体。

2.3 置換されたおよび非置換安息香酸のエステル、例
えば フェニルサリチレート、 ４−第三ブチルフェニルサリチレート、 オクチルフェニルサリチレート、 ジベンゾイルレゾルシノール、 ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、 ベンゾイルレゾルシノール、 ３、５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸2,
4−ジ−第三ブチルフェニルエステル、および3,5−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシルエス
テル。

2.4 アクリレート、例えば α−シアノ−β，β−ジフェニル−アクリル酸 エチ
ルエステル、 α−シアノ−β，β−ジフェニル−アクリル酸 イソ
オクチルエステル、 α−カルボメトキシ−桂皮酸メチルエステル、 α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸メチ
ルエステル、 α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸ブチ
ルエステル、 α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ桂皮酸メチルエス
テル、および Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２
−メチルインドリン。

2.5 ニッケル化合物、例えば 2,2′−チオビス−〔４−（1,1,3,3−テトラメチルブ
チル）−フェノール〕のニッケル錯体、例えば1:1また
は1:2錯体であって、所望によりｎ−ブチルアミン、ト
リエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシル−ジ−
エタノールアミンのような他の配位子を伴うもの、ニッ
ケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロキシ−3,
5−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノアルキルエ
ステル、例えばメチル、エチルもしくはブチルエステル
のニッケル塩、２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニル
ウンデシルケトキシムのようなケトキシムのニッケル錯
体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシ−
ピラゾールのニッケル錯体であって、所望により他の配
位子を伴うもの。

2.6 立体障害性アミン、例えば ビス（2,2,6,6−テトラメチルピペリジル）セバケー
ト、 ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル）セバケ
ート、 ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル）ｎ−ブ
チル−3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル
マロネート、 １−ヒドロキシエチル−2,2,6,6−テトラメチル−４
−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、 N,N′−ビス（2,2,6,6−テトラメチルピペリジン）ヘ
キサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−2,6
−ジクロロ−ｓ−トリアジンとの縮合生成物、 トリス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）
ニトリロトリアセテート、 テトラキス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）−1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸、 1,1′−（1,2−エタンジイル）−ビス（3,3,5,5−テ
トラメチルピペリジノン）。

2.7 シュウ酸ジアミド、例えば 4,4′−ジ−オクチル−オキシオキサニリド、 2,2′−ジ−オクチルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチル
オキサニリド、 2,2′−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチル
オキサニリド、 ２−エトキシ−２′−エチルオキサニリド、 N,N′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル−オキサ
ルアミド、 ２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−エチルオキサ
ニリドおよび該化合物と２−エトキシ−２′−エチル−
5,4′−ジ−第三ブチル−オキサニリドとの混合物、 オルト−およびパラ−メトキシ−二置換オキサニリド
の混合物、および ｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合
物。

2.8 ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジン、例えば 2,6−ビス（2,4−ジメチルフェニル）−４−（２−ヒ
ドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−ｓ−トリア
ジン、 2,6−ビス（2,4−ジメチルフェニル）−４−（2,4−
ジヒドロキシフェニル）−ｓ−トリアジン、 2,4−ビス−（2,4−ジヒドロキシフェニル）−６−
（４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、 2,4−ビス〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ
エトキシ）フェニル〕−６−（４−クロロフェニル）−
ｓ−トリアジン、 2,4−ビス−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキ
シエトキシ）フェニル〕−６−フェニル−ｓ−トリアジ
ン、 2,4−ビス−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキ
シエトキシ）フェニル〕−６−（2,4−ジメチルフェニ
ル）−ｓ−トリアジン、 2,4−ビス−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキ
シエトキシ）フェニル〕−６−（４−ブロモフェニル）
−ｓ−トリアジン、 2,4−ビス−〔２−ヒドロキシ−４−（２−アセトキ
シエトキシ）フェニル〕−６−（４−クロロフェニル）
−ｓ−トリアジン、 2,4−ビス−（2,4−ジヒドロキシフェニル）−６−
（2,4−ジメチルフェニル）−ｓ−トリアジン。

3.金属不活性化剤、例えば N,N′−ジフェニルシュウ酸ジアミド、 Ｎ−サリチラル−Ｎ′−サリチロイルヒドラジン、 N,N′−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、 N,N′−ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル）ヒドラジン、 ３−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリアゾール、 ビス（ベンジリデン）シュウ酸ジヒドラジン。

4.ホスフィットおよびホスホナイト、例えば トリフェニルホスフィット、 ジフェニルアルキルホスフィット、 フェニルジアルキルホスフィット、 トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、 トリラウリルホスフィット、 トリオクタデシルホスフィット、 ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、 トリス（2,4−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィッ
ト、 ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、 ビス（2,4−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリト
リトールジホスフィット、 トリステアリルソルビトールトリホスフィット、 テトラキス（2,4−ジ−第三ブチルフェニル） 4,4′−ビフェニリレンジホスホナイト。

5.過酸化物を破壊する化合物、例えば β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリ
ル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステ
ル、 メルカプトベンズイミダゾール、または ２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、 ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、 ジオクタデシルジスルフィド、 ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメル
カプト）プロピオネート。

6.ヒドロキシルアミン、例えば N,N−ジベンジルヒドロキシルアミン、 N,N−ジエチルヒドロキシルアミン、 N,N−ジオクチルヒドロキシルアミン、 N,N−ジラウリルヒドロキシルアミン、 N,N−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、 N,N−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、 N,N−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、 Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルア
ミン、 Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルア
ミン、 水素化タロウアミンから誘導されるN,N−ジアルキル
ヒドロキシルアミン、 7.ポリアミド安定剤、例えば ヨウ化物および／またはリン化合物と組合せた銅塩、
および二価マンガンの塩。

8.塩基性補助安定剤、例えば メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミ
ン、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン
誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、 高級脂肪族のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属
塩、例えばCaステアレート、Znステアレート、Mgステア
レート、NaリシノレートおよびＫパルミテート、 ピロカテコール酸アンチモン、または ピロカテコール酸亜鉛。

9.核剤、例えば ４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、 ジフェニル酢酸。

10.充填剤および強化剤、例えば 炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベス
ト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化
物および水酸化物、カーボンブラック、グラファイト。

11.その他の添加剤、例えば 可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤、静
電防止剤、発泡剤およびチオ相乗剤例えばジラウリルチ
オジプロピオネートまたはジステアリルチオジプロピオ
ネート。

室温硬化されおよび酸触媒されるコーティング系を含
む種々のコーティング系における本発明の誘導体の利用
が特に興味深い。特に、コーティングの物理的結合性
は、光沢の損失および黄変における顕著な低下の提示が
高程度に維持される。重要な改良は、Ｎ−アルキル立体
障害性アミン光安定剤で発生する硬化遅延が実質的にな
いこと;N−アルキル立体障害性アミンが着色されたコー
ティング系に利用される場合に見られるフロキュレーシ
ョンおよび分散不安定性が実質的にないこと、コーティ
ングとポリカーボネート基材との間の接着損失がないこ
と、を包含する。従って、本発明はまた、本発明の化合
物を、場合によりその他の安定剤と一緒に、アルキド樹
脂；熱可塑性アクリル樹脂；アクリルアルキド；シリコ
ン、イソシアネート、イソシアヌレート、ケチミンまた
はオキサゾリジンで変性されてもよいアクリルアルキド
またはポリエステル樹脂；およびカルボン酸、無水物、
ポリアミンまたはメルカプタンで架橋されたエポキシ樹
脂；および骨格において反応性基で変性され、そしてエ
ポキシで架橋されたアクリルおよびポリエステル樹脂系
をベースとする室温硬化性コーティングを光、湿気およ
び酸素の劣化作用に対して安定化するために使用するこ
とにも関する。

さらに、それらの工業用の使用において、架橋可能な
アクリル、ポリエステル、ウレタンまたはアルキド樹脂
をベースとする高い固形含量を有するエナメルは別の酸
触媒で硬化される。塩基性窒素基を有する光安定剤は一
般に本発明において十分なものではない。酸触媒と光安
定剤との間の塩の生成は、該塩の不適合性または不溶性
および沈澱並びに硬化の低下した程度および低下した光
保護作用および低い湿分耐性を導く。

これらの酸触媒された焼付けラッカーは熱架橋性アク
リル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミドまたは
アルキド樹脂をベースとしている。本発明に従って光、
湿気および酸素に対して安定化され得るアクリル樹脂ラ
ッカーは、例えばH.Kittel′ｓ“Lehrbuch der Lacke u
nd Beschichtungen",Vol.1 Par 2,735および742頁（ベ
ルリン,1972年），“Lackkunstharze"H.WagnerおよびH.
F.Sarx著,229-238頁，およびS.Paul′ｓ著“Surface Co
atings:Science and Technology"（1985）に記載されて
いるアクリル／メラミン系を包含する慣用のアクリル樹
脂焼付けラッカーまたは熱硬化性樹脂である。

光および湿気の作用に対して安定化され得るポリエス
テルラッカーは例えばH.WagnerおよびH.F.Sarxの上掲書
86-99頁に記載されている慣用の焼付けラッカーであ
る。

本発明に従って光および湿気の作用に対して安定化さ
れ得るアルキド樹脂ラッカーは特に自動車塗装に使用さ
れる慣用の焼付けラッカー（自動車仕上げラッカー）で
あり、例えばアルキド／メラミン樹脂およびアルキド／
アクリル／メラミン樹脂をベースとするラッカーである
（H.WagnerおよびH.F.Sarx著の上掲書99-123頁参照）。
その他の架橋剤はグリコールウリル樹脂、ブロックされ
たイソシアネートまたはエポキシ樹脂を包含する。

本発明に従って安定化される酸触媒された焼付けラッ
カーは金属仕上げ塗装および固体シェード仕上げの両方
に、特に修正仕上げ、並びに種々のコイルコーティング
の場合に適当である。本発明に従って安定化されるラッ
カーは、シングルコート法またはツーコート法の２方法
のいずれかによる慣用の方法で塗装されるのが好まし
い。後者の方法において、顔料含有ベースコートがまず
最初に塗布され、そして次にその上に透明ラッカーのカ
バーコートを塗布する。

本発明の置換された立体障害性アミンは酸触媒されて
いない熱硬化性樹脂、例えばシリコーン、イソシアネー
トまたはイソシアヌレートで変性されてもよいエポキ
シ、エポキシポリエステル、ビニル、アルキド、アクリ
ルおよびポリエステル樹脂中への使用に適用可能であ
る。エポキシおよびエポキシポリエステル樹脂は慣用の
架橋剤例えば酸、酸無水物、アミン等で架橋される。

また、エポキシは主鎖上の反応性基の存在により変性
された種々のアクリルまたはポリエステル樹脂系のため
の架橋剤として利用され得る。

そのようなコーティングにおいて最大の光安定性を達
成するために、その他の慣用の光安定剤の同時使用が有
利であり得る。例はベンゾフェノン、ベンゾトリアゾー
ル、アクリル酸誘導体またはオキサニリドタイプ、また
はアリール−ｓ−トリアジンまたは金属含有光安定剤例
えば有機ニッケル化合物の上記紫外線吸収剤である。ツ
ーコート系において、これらのその他の光安定剤はクリ
アコートおよび／または着色されたベースコートに添加
され得る。

そのような組合せが使用される場合には、全体の光安
定剤の合計は、フィルム形成性樹脂に基づいて0.2ない
し20重量％、好ましくは0.5ないし５重量％である。

上記のピペリジン化合物と組み合わせた本発明の組成
物において使用され得る紫外線吸収剤の異なる類の例
は、European Polymer Journal Supplement,1969,105-1
32頁のH.J.Hellerによる文献に引用されている。これら
の類はフェニルサリチレート、ｏ−ヒドロキシベンゾフ
ェノン、ヒドロキシキサントン、ベンゾキサゾール、ベ
ンズイミダゾール、オキサジアゾール、トリアゾール、
ピリミジン、キナゾリン、ｓ−トリアジン、ヒドロキシ
フェニル−ベンゾトリアゾール、α−シアノアクリレー
トおよびベンゾエートを包含する。

特別重要な紫外線吸収剤は以下のものである： （ａ）２−（２′−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリ
アゾール例えば５′−メチル−、３′,5′−ジ−第三ブ
チル−、５′−第三ブチル−、５′−ジ−（1,1,3,3−
テトラメチルブチル）−、５−クロロ−３′,5′−ジ−
第三ブチル−、５−クロロ−３′−第三ブチル−５′−
メチル−、３′−第二ブチル−５′−第三ブチル−、
４′−オクトキシ−、および３′,5′−ジ−第三アミル
誘導体。

（ｂ）２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン例えば４−ヒド
ロキシ−、４−メトキシ−、４−オクトキシ−、４−デ
シルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−ベンジルオ
キシ−、4,2′,4′−トリヒドロキシおよび２′−ヒド
ロキシ−4,4′−ジメトキシ誘導体。

（ｃ）アクリレート例えばα−シアノ−β，β−ジフェ
ニルアクリル酸エチルエステルまたはイソクチルエステ
ル、α−カルボメトキシ桂皮酸メチルエステル、α−シ
アノ−β−メチル−ｐ−メトキシ桂皮酸メチルエステル
またはブチルエステル、α−カルボメトキシ−ｐ−メト
キシ桂皮酸メチルエステル、Ｎ−（β−カルボメトキシ
−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。

（ｄ）ニッケル化合物例えば2,2′−チオビス−〔４−
（1,1,3,3−テトラメチルブチル）−フェノール〕のニ
ッケル錯体、例えば1:1または1:2錯体であって、所望に
よりｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミンもしくは
Ｎ−シクロヘキシル−ジ−エタノールアミンのような他
の配位子を伴うもの、ニッケルジブチルジチオカルバメ
ート、４−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三ブチルベンジル
ホスホン酸モノアルキルエステル、例えばメチル、エチ
ルもしくはブチルエステルのニッケル塩、２−ヒドロキ
シ−４−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのよう
なケトキシムのニッケル錯体、１−フェニル−４−ラウ
ロイル−５−ヒドロキシ−ピラゾールのニッケル錯体で
あって、所望により他の配位子を伴うもの。

（ｅ）シュウ酸ジアミド例えば 4,4′−ジ−オクチル−オキシオキサニリド、 2,2′−ジ−オクチルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチル
オキサニリド、 2,2′−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチル
オキサイニリド、 ２−エトキシ−２′−エチルオキサニリド、 N,N′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）−オキ
サルアミド、 ２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−エチルオキサ
ニリドおよび該化合物と２−エトキシ−２′−エチル−
5,4′−ジ−第三ブチルオキサニリドとの混合物、 オルトーおよびパラ−メトキシ−二置換オキサニリド
の混合物、および ｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合
物。

（ｆ）ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジン例えば2,6
−ビス（2,4−ジメチルフェニル）−４−（２−ヒドロ
キシ−４−オクチルオキシフェニル）−ｓ−トリアジン
または相当する４−（2,4−ジヒドロキシフェニル）誘
導体。

高分子量で低揮発性のベンゾトリアゾール例えば２−
〔２−ヒドロキシ−3,5−ジ（α，α−ジメチルベンジ
ル）フェニル〕−2H−ベンゾトリアゾール、２−（２−
ヒドロキシ−3,5−ジ−第三オクチルフェニル）−2H−
ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−α，
α−ジメチルベンジル−５−第三オクチルフェニル）−
2H−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−
第三オクチル−５−α，α−ジメチルベンジルフェニ
ル）−2H−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ
−3,5−第三アミルフェニル）−2H−ベンゾトリアゾー
ル、２−〔２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−（２
−ω−ヒドロキシ−オクタ−（エチレンオキシ）カルボ
ニル）−エチルフェニル〕−2H−ベンゾトリアゾール、
ドデシル化２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）−2H−ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ
−３−第三ブチル−５−（２−オクチルオキシカルボニ
ル）−エチルフェニル〕−2H−ベンゾトリアゾールおよ
び上記のベンゾトリアゾールの各々に相当する５−クロ
ロ化合物が本発明の組成物においてとくに貴重である。

本発明の組成物に有用なベンゾトリアゾールとしては
２−〔２−ヒドロキシ−3,5−ジ（α，α−ジメチルベ
ンジル）フェニル〕−2H−ベンゾトリアゾール、ドデシ
ル化２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−2H
−ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３−第
三ブチル−５−（２−ω−ヒドロキシ−オクタ−（エチ
レンオキシ）カルボニル）−エチルフェニル〕−2H−ベ
ンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３−第三ブ
チル−５−（２−オクチルオキシカルボニル）−エチル
フェニル〕−2H−ベンゾトリアゾールおよび５−クロロ
−２−〔２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−（２−
オクチルオキシカルボニル）−エチルフェニル〕−2H−
ベンゾトリアゾールが最も好ましい。

本発明の化合物が、フェノール系酸化防止剤、立体障
害性アミン光安定剤、有機リン化合物、紫外線吸収剤お
よびそれらの混合物からなる群から選択されるその他の
安定剤と組み合わせて使用される場合、ポリオレフィン
ファイバー、特にポリプロピレンファイバーの安定剤と
してとりわけ有効であろうこともまた期待される。

本発明の好ましい実施態様は、 （ａ）熱架橋性アクリル、ポリエステルまたはアルキド
樹脂をベースとする酸触媒された熱硬化性コーティング
またはエナメル、 （ｂ）NOE置換された2,2,6,6−テトラアルキルピペリジ
ン化合物、および （ｃ）ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、アクリル
酸誘導体、有機ニッケル化合物、アリール−ｓ−トリア
ジンおよびオキサニリドからなる群から選択される紫外
線吸収剤、 からなる安定化された組成物に関する。

エナメルまたはコーティングが含有し得るその他の成
分は酸化防止剤、例えば立体障害性フェノール誘導体、
リン化合物例えばホスフィット、ホスフィンまたはホス
ホナイト、可塑剤、レベル補助剤、硬化触媒、増粘剤、
分散剤または接着促進剤である。

本発明のその他の好ましい実施態様は、上記（ａ）、
（ｂ）および（ｃ）の成分の他にさらに成分（ｄ）とし
てホスフィットまたはホスホナイトを含有する安定化さ
れた組成物である。

本発明の組成物において使用されるホスフィットまた
はホスホナイト（ｄ）の量は、フィルム形成性樹脂に基
づいて0.05ないし２重量％、好ましくは0.1ないし１重
量％である。ツーコート系において、これらの安定剤は
クリアコートおよび／またはベースコートに添加されて
もよい。

典型的なホスフィットおよびホスホナイトはトリフェ
ニルホスフィット、 ジフェニルアルキルホスフィット、 フェニルジアルキルホスフィット、 トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、 トリラウリルホスフィット、 トリオクタデシルホスフィット、 ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、 トリス（2,4−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィッ
ト、 ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、 ビス（2,4−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリト
リトールジホスフィット、 トリステアリルソルビトールトリホスフィット、 テトラキス（2,4−ジ−第三ブチルフェニル） 4,4′−ビフェニリレンジホスホナイト を包含する。

酸触媒された熱硬化性エナメルは、最終使用者におい
て適当に機能するために、安定化されなければならな
い。使用される安定剤は、硬化に付随する遅延と酸触媒
で安定化された塩基性アミンの沈澱とを防止するため
に、場合により紫外線吸収剤例えばベンゾトリアゾー
ル、ベンゾフェノン、置換ｓ−トリアジン、フェニルベ
ンゾエートまたはオキサニリドと組み合わせた、立体障
害性アミン、好ましくはＮ−原子が不活性ブロック基に
より置換されたものである。

安定剤は硬化されたエナメルにより、長い耐久性（20
°光沢、画像の鮮明性、クラッキングまたはチョーキン
グにより測定されるようなもの）の維持を与えるために
必要とされ；安定剤は硬化を遅延させてはいけない（12
1℃での自動仕上げのための通常の焼付けおよび82℃で
のより低い焼付け修復，硬度、接着性、溶媒耐性および
湿分耐性により測定されるようなもの）；エナメルは硬
化して黄変すべきでなく、そしてさらに光への暴露での
変色は最低限にされなければならない；安定剤はコーテ
ィングにおいて通常使用される有機溶媒、例えばメチル
アミルケトン、キシレン、ｎ−ヘキシルアセテート、ア
ルコール等中に溶解しなければならない。

Ｎ原子がＯ置換部分で置換された本発明の立体障害性
アミン光安定剤は、これらの要求の各々を満たし、そし
て単独でまたは紫外線吸収剤と組み合わせて、硬化され
酸触媒された熱硬化性エナメルに対して顕著な光安定化
保護を付与する。

本発明の安定剤のさらに他の好ましい組合せは、ガス
褪色からポリプロピレンファイバーを保護するためのヒ
ドロキシルアミンとの組合せである。

〔実施例・発明の効果〕

以下の実施例は説明のためのものであって、本発明の
範囲をなんら限定するものではない。

実施例１ N,N,N′,N′−テトラキス（１−オクチルオキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバカミ
ド 70％水性第三ブチルヒドロパーオキシド68.0g（528ミ
リモル）、ｎ−オクタン225mlおよび塩化ナトリウム10g
の混合物を分液ロート中で揺動させる。有機相を分離す
る。第三ブチルヒドロパーオキシド/n−オクタンの溶液
の1/2をN,N,N′,N′−テトラキス（2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−４−イル）セバカミド25.0g（33ミリ
モル）および三酸化モリブデン0.3gに添加する。混合物
を還流下で１時間加熱する。水をディーン−スタークト
ラップに集める。第三ブチルヒドロパーオキシド/n−オ
クタンの溶液の残りを次に還流している赤色混合物に２
時間かけて添加する。添加終了後、赤色を消すために、
混合物を還流してもう４時間加熱する。濾過により固体
を除去し、そして濾液を減圧下で蒸発させる。粗生成物
を溶出液としてヘプタン：酢酸エチル＝4:1を用いて短
いシリカゲルカラムに通すと、表題化合物22.2g（収率5
3％）がガラスとして得られる。

分析結果 C₇₈H₁₅₂N₆O₆に対する計算値： C 73.8;H 12.1;N 6.6 実験値： C 73.8;H 12.1;N 6.5 実施例２ N,N,N′,N′−テトラキス（１−シクロヘキシルオキ
シ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イル）セ
バカミド N,N,N′,N′−テトラキス（2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン−４−イル）ゼバカミド35.0g（46ミリモ
ル）、90％第三ブチルヒドロパーオキシド74.0g（739ミ
リモル）、三酸化モリブデン0.4gおよびシクロヘキサン
250mlの混合物をフィッシャー−ポーター圧力ビン中140
-150℃で５時間加熱する。赤色反応混合物を新たな90％
第三ブチルヒドロパーオキシド19.0g、三酸化モリブデ
ン0.2gおよびシクロヘキサン50mlで処理する。混合物を
次に150℃で３時間加熱して、赤色を消失させる。濾過
により固体を除去し、そして濾液を減圧下で蒸発させ
る。残渣を溶出液としてヘプタン：酢酸エチル＝4:1を
用いてシリカゲルカラムに通すと、表題化合物28.3g
（収率53％）が融点129-133℃の白色固体として得られ
る。

分析結果 C₇₀H₁₂₈N₆O₆に対する計算値： C 73.1;H 11.2;N 7.3 実験値： C 72.7;H 11.6;N 7.3 実施例３ N,N,N′,N′−テトラキス（１−シクロヘキシルオキ
シ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イル）ス
クシンアミド N,N,N′,N′−テトラキス（2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン−４−イル）スクシンアミド7.5g（11ミリモ
ル）、90％第三ブチルヒドロパーオキシド22.3g（223ミ
リモル）、三酸化モリブデン0.15gおよびシクロヘキサ
ン100mlの混合物をフィッシャー−ポーター圧力ビン中1
50-160℃で５時間加熱する。有機混合物を新たな90％第
三ブチルヒドロパーオキシド7.0g、三酸化モリブデン0.
1gおよびシクロヘキサン40mlで処理する。反応混合物を
150-160℃で３時間加熱して、赤色を消失させる。反応
混合物をクロロホルム200mlで希釈し、そして濾過す
る。濾液を減圧下で蒸発させて、温かい塩化メチレンに
溶解する固体を得る。塩化メチレン溶液を濾過し、そし
てイソプロピルアルコールを添加しながら徐々に蒸発さ
せ、生成物の晶出を誘導する。表題化合物は白色固体と
して得られ、これは8.3gの収量（収率70％）であり、28
1-282℃で分解して融解する。

分析結果 C₆₄H₁₁₆N₆O₆に対する計算値： C 72.1;H 11.0;N 7.9 実験値： C 71.7;H 11.0;N 7.8 実施例４ N,N,N′,N′−テトラキス（１−シクロヘキシルオキ
シ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イル）オ
キサミド 70％水性第三ブチルヒドロパーオキシド32.3g（251ミ
リモル）、シクロヘキサン150mlおよび飽和塩化ナトリ
ウム100mlの混合物を分液ロート中で揺動させ、相に分
離し、そして有機相を無水の硫酸マグネシウムで乾燥さ
せることにより、第三ブチルヒドロパーオキシドのシク
ロヘキサン中の無水溶液を製造する。

N,N,N′,N′−テトラキス（2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン−４−イル）オキサミド8.1g（12.6ミリモ
ル）、三酸化モリブデン0.3g、および上で製造した無水
の第三ブチルヒドロパーオキシド／シクロヘキサン溶液
の混合物をフィッシャー−ポーター圧力ビン中で３時間
加熱する（浴温150-160℃）。固体を濾過により除去
し、そして濾液を減圧下で蒸発させて固体を得る。イソ
プロピルアルコール：塩化メチレン＝2:1からの再結晶
により、表題化合物9.8g（収率75％）が融点278℃（分
解）の白色固体として得られる。

分析結果 C₆₂H₁₁₂N₆O₆に対する計算値： C 71.8;H 10.9;N 8.1 実験値： C 71.3;H 10.6;N 7.9 実施例５ N,N,N′,N′−テトラキス（１−オクチルオキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イル）オキサミ
ド 表題化合物はN,N,N′,N′−テトラキス（2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−４−イル）オキサミドとｎ−オ
クタンとから、実施例４の操作に従って製造される。

実施例６ N,N′−ビス〔ジ（１−オクチルオキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−４−イル）アミノカルボニル〕
−1,6−ヘキサンジアミン 表題化合物はビス（１−オクチルオキシ−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン−４−イル）アミンとヘキサメ
チレンジイソシアネートとの反応により製造される。

実施例７ １−〔N,N−ジ（１−オクチルオキシ−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−４−イル）ウレイド−メチル〕−
５−〔N,N−ジ（１−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−４−イル）ウレイド〕−1,3,3−ト
リメチルシクロヘキサン 表題化合物はビス（１−オクチルオキシ−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン−４−イル）アミンと５−イソ
シアナト−１−（イソシアナトメチル）1,3,3−トリメ
チルシクロヘキサン（またはイソホロンジイソシアネー
ト）との反応により製造される。

実施例８ Ｎ′,N″−1,6−ヘキサンジイル−N,N,N,N−テト
ラキス（１−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−４−イル）ビス尿素 塩化メチレン30ml中のヘキサメチレンジイソシアネー
ト3.5g（20.8ミリモル）の溶液を塩化メチレン50ml中の
ビス（１−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−４−イル）アミン11.7g（23,3ミリモ
ル）の溶液に10分間かけて添加する。反応混合物を次に
還流して30分間加熱する。溶媒を蒸発させ、そして残渣
をシリカゲル上（ヘプタン：酢酸エチル＝2:1）でのフ
ラッシュクロマトグラフィー、次いで塩化メチレン／メ
タノールからの再結晶により精製すると、表題化合物6.
9g（収率51％）が融点138-141℃の白色固体として得ら
れる。

により精製する。

分析結果 C₆₈H₁₂₆N₈O₆・H₂Oに対する計算値： C 69.8;H 11.0;N 9.6 実験値： C 69.8;H 10.8;N 9.2 実施例９ ポリプロピレンの光安定化 本実施例は本発明の安定剤の光安定化作用を説明す
る。

ｎ−オクタデシル3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシヒドロシンナメート0.2重量％で安定化されたポリ
プロピレン粉末（Himont Profax 6501）を示された量の
添加剤と十分に混合する。混合された材料を次に２本ロ
ールミル上182℃で５分間粉砕し、その後安定化された
ポリプロピレンをミルから出してシートとし、そして冷
却する。粉砕されたポリプロピレンを次に小片に切断
し、そして液圧プレス上で0.127mmに250℃および1.2×1
0⁶Paで圧縮成形する。試料を蛍光太陽光／ブラックライ
トチャンバーに破損するまで暴露する。破損は暴露され
たフィルムの赤外線スペクトル法によるカルボニル吸収
が0.5に達するまで要する時間として表される。

実施例10 パネル10.16cm×30.48cm〔アドバンスト・コーティン
グ・テクノロジー（Advanced Coating Technology）製
のユニプライム（Uniprime）〕にまず市販のシルバーメ
タリックベースコートを0.015-0.02mmの膜厚にスプレー
被覆し、その上に市販のハイソリッド熱硬化性アクリル
メラミンクリアコートを膜厚0.05mmにスプレー塗布（ウ
エット・オン・ウエット）することにより、ベースコー
ト／クリアコートエナメルを製造する。被覆されたパネ
ルを次に121℃で30分間焼き付ける。空調室で１週間貯
蔵後、これらの被覆されたパネルを次に、FS-40バルブ
を用い、ASTM G-53/77に従って、QUV暴露装置内で耐候
試験を行う。

20°光沢がQUV暴露の期間後に測定され、その結果を
下に示す。

実施例11 市販の白色アクリルポリウレタン再仕上げエナメル
は、２％紫外線吸収剤および２％の本発明の化合物で安
定化される（全ての％は重量％）。この材料を市販のエ
ポキシプライマーが下塗りされた鋼パネル上に厚さ約0.
06mmにスプレー塗布する。空調室での１ヶ月間貯蔵後、
これらの被覆されたパネルを次に、キセノンアークウエ
ザロメータ内で耐候試験を行う。

20°光沢値がキセノンアークウエザロメータ暴露後に
測定され、その結果を下に示す。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０８Ｌ 67/00 Ｃ０８Ｌ 67/00 75/04 75/04 77/00 77/00 Ｃ０９Ｋ 3/00 １０４ Ｃ０９Ｋ 3/00 １０４Ｂ (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) C07D 211/94 ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ) ＣＡ（ＳＴＮ)

Claims (14)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】次式： （式中、 ｎは１ないし４を表し、 R₁およびR₂は独立して炭素原子数１ないし４のアルキル
   基を表すか、またはR₁およびR₂は一緒になってペンタメ
   チレン基を表し、 Ｅは炭素原子数１ないし18のアルキル基、炭素原子数５
   ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数２ないし18の
   アルケニル基、炭素原子数５ないし12のシクロアルケニ
   ル基、炭素原子数７ないし15のアルアルキル基、炭素原
   子数７ないし12の飽和もしくは不飽和二環式もしくは三
   環式炭化水素の基、または炭素原子数６ないし10のアリ
   ール基もしくはアルキル基により置換された前記アリー
   ル基を表し、 Ｔは原子価ｎの基を表し、そして ｎが１であるとき、Ｔは水素原子、炭素原子数２ないし
   20のアルカノイル基、炭素原子数６ないし13のシクロア
   ルカノイル基、炭素原子数７ないし11のアロイル基、炭
   素原子数８ないし16のアルアルカノイル基、置換された
   カルバモイル基または炭素原子数２ないし20のアルコキ
   シカルボニル基を表し、 ｎが２であるとき、Ｔは−CO−基、脂肪族、環状脂肪
   族、芳香脂肪族または芳香族ジカルボン酸の２価のアシ
   ル基、ジカルバミン酸の２価のアシル基または混合され
   たカルボン酸／カルバミン酸の２価のアシル基を表し、 ｎが３であるとき、Ｔは脂肪族、環状脂肪族、芳香脂肪
   族または芳香族トリカルボン酸の３価のアシル基を表
   し、そして ｎが４であるとき、Ｔは脂肪族、環状脂肪族または芳香
   族テトラカルボン酸の４価のアシル基を表す。） で表される化合物。
2. 【請求項２】上記式中、ｎが２ないし４を表す請求項１
   記載の化合物。
3. 【請求項３】上記式中、ｎが２または４を表す請求項２
   記載の化合物。
4. 【請求項４】上記式中、R₁およびR₂が各々メチル基を表
   す請求項１記載の化合物。
5. 【請求項５】上記式中、Ｅが炭素原子数１ないし12のア
   ルキル基、シクロヘキシル基またはアルファメチルベン
   ジル基を表す請求項１記載の化合物。
6. 【請求項６】上記式中、Ｅがメチル基、ヘプチル基、オ
   クチル基、ノニル基またはシクロヘキシル基を表す請求
   項５記載の化合物。
7. 【請求項７】上記式中、ｎが２であるとき、Ｔが炭素原
   子数２ないし10のアルカンジオイル基またはヘキサメチ
   レンジカルバモイル基を表す請求項１記載の化合物。
8. 【請求項８】上記式中、Ｔがオキサリル基、スクシニル
   基またはセバコイル基を表す請求項７記載の化合物。
9. 【請求項９】上記式中、ｎが４であるとき、Ｔが1,2,3,
   4−ブタンテトラカルボキソイル基、1,2,3,4−ブテ−２
   −エン−テトラカルボキソイル基、1,2,3,5−ペンタン
   テトラカルボキソイル基または1,2,4,5−ペンタンテト
   ラカルボキソイル基を表す請求項１記載の化合物。
10. 【請求項１０】上記式中、Ｔが1,2,3,4−ブタンテトラ
    カルボキソイル基を表す請求項９記載の化合物。
11. 【請求項１１】（ａ）化学線の劣化作用に曝されている
    ポリマー、および （ｂ）有効安定化量の請求項１記載の化合物からなる安
    定化された組成物。
12. 【請求項１２】ポリマーがポリオレフィン、特にポリプ
    ロピレンである請求項11記載の組成物。
13. 【請求項１３】ポリマーが、アルキド、アクリル、アク
    リル−アルキド、ポリエステル、エポキシド、ウレタ
    ン、ポリアミド、ビニルまたはエポキシ−ポリエステル
    樹脂に基づいたコーティング系である請求項11記載の組
    成物。
14. 【請求項１４】紫外線吸収剤またはその他の光安定剤を
    含有する請求項11記載の組成物。