JP2860586B2 - ポリ(1―ヒドロカルビルオキシ―2,2,6,6―テトラメチルピペリジン)化合物及び該化合物により安定化された有機ポリマー組成物 - Google Patents
ポリ(1―ヒドロカルビルオキシ―2,2,6,6―テトラメチルピペリジン)化合物及び該化合物により安定化された有機ポリマー組成物Info
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3412—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having one nitrogen atom in the ring
- C08K5/3432—Six-membered rings
- C08K5/3435—Piperidines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D211/00—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
- C07D211/92—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with a hetero atom directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D211/94—Oxygen atom, e.g. piperidine N-oxide
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はポリ置換そして低重合のN−ヒドロカルビル
オキシ封鎖アミン並びに化学線の有害作用に対して安定
化された上記アミンを含有するポリマー組成物に関する
ものである。
オキシ封鎖アミン並びに化学線の有害作用に対して安定
化された上記アミンを含有するポリマー組成物に関する
ものである。
(従来の技術) モノマー状N−ヒドロカルビルオキシ封鎖アミンにつ
いては欧州特許公開第309402号公報に記載されている。
いては欧州特許公開第309402号公報に記載されている。
ビス(N−オキシピペリジン)とパラキシレンとのコ
ポリマーについては、日本国特許公開昭54-42000号公
報;ティー.フジタ(T.Fujita)その他、ジャーナル
オブ ポリマー サイエンス(J.Poly Sci)、ポリマー
ケミストリ(Poly Chem.)版,18,549(1980)及び2
0,1639(1982);及びジャーナル オブ ポリマー サ
イエンス,ポリマー レター(Poly Letter)版,16,51
5(1978);17,353(1979)及び19,609(1981)に報告
されている。
ポリマーについては、日本国特許公開昭54-42000号公
報;ティー.フジタ(T.Fujita)その他、ジャーナル
オブ ポリマー サイエンス(J.Poly Sci)、ポリマー
ケミストリ(Poly Chem.)版,18,549(1980)及び2
0,1639(1982);及びジャーナル オブ ポリマー サ
イエンス,ポリマー レター(Poly Letter)版,16,51
5(1978);17,353(1979)及び19,609(1981)に報告
されている。
(発明が解決しようとする課題及び課題を解決するため
の手段) 本発明の封鎖アミンと飽和もしくは不飽和脂肪族炭化
水素から選造されたポリ置換そして低重合のN−ヒドロ
カルボキシ誘導体は、従来の技術において記載されず、
または示唆されてない。
の手段) 本発明の封鎖アミンと飽和もしくは不飽和脂肪族炭化
水素から選造されたポリ置換そして低重合のN−ヒドロ
カルボキシ誘導体は、従来の技術において記載されず、
または示唆されてない。
本発明は次式IまたはII: (式中、mは2ないし10を表わし、nは1ないし5を
表わし、 R1及びR2は独立して炭素原子数1ないし4のアルキル
基を表わし、またはR1及びR2は一緒になってペンタメチ
レン基を表わし、 Lは炭素原子数1ないし18のアルカンもしくはアルケ
ンのm価の基、炭素原子数5ないし12のシクロアルカン
またはシクロアルケンのm価の基、飽和または不飽和の
炭素原子数7ないし12の二環式もしくは三環式の炭化水
素のm価の基、または炭素原子数6ないし15のアリール
炭化水素、アルキル置換アリール炭化水素またはアルア
ルキル炭化水素のm価の基を表わし、但しN−O基は必
ずしもLにおける同一の炭素原子に接続することを必要
とせず、 で表わされる基からなる群から選ばれた有機部分を表
わし、 上記の式中、R3は脂肪族、環式脂肪族、不飽和脂肪族
または芳香族のカルボキシル基を除いたカルボン酸基を
表わし、 R4は脂肪族、環式脂肪族の、または不飽和脂肪族のヒ
ドロキシル基を除いたアルコール基を表わし、 R5は水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基ま
たは で表わされる基を表わし、式中L1はLの意味の1価の基
を表わし、 pは0ないし10を表わし、qは2ないし4を表わし、 R6は水素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル
基を表わし、 R7は水素原子または-CH2CH2COOC12H25を表わし、 Dは炭素原子数1ないし18のアルカンまたはアルケン
の2価の基、炭素原子数5ないし12の環式アルカンまた
は環式アルケンの2価の基または飽和または不飽和の炭
素原子数7ないし12の二環式もしくは三環式炭化水素の
2価の基を表わし、但しN−O基は必ずしもDにおける
同一の炭素原子に接続することを必要とせず、 Eは炭素原子数1ないし18のアルカンまたはアルケン
の1価の基、炭素原子数5ないし12の環式アルカンまた
は環式アルケンの1価の基または飽和もしくは不飽和の
炭素原子数7ないし12の二環式もしくは三環式炭化水素
の1価の基を表わし、 で表わされる基からなる群から選ばれた有機の結合成分
を表わし、式中、 R8は直接結合または脂肪族、環式脂肪族、不飽和脂肪
族の、または芳香族の2個のカルボキシル基を除いたジ
カルボン酸の2価の基を表わし R9は脂肪族、環式脂肪族、または不飽和脂肪族の2個
のヒドロキシル基を除いたジオール基を表わし、 R10は−O−または−NR5−を表わし、そして R11は脂肪族または芳香族の4価の基を表わす。)で
表わされるポリ(1−ヒドロカルビルオキシ−2,2,6,6
−テトラアルキルピペリジン)化合物に関するものであ
る。
表わし、 R1及びR2は独立して炭素原子数1ないし4のアルキル
基を表わし、またはR1及びR2は一緒になってペンタメチ
レン基を表わし、 Lは炭素原子数1ないし18のアルカンもしくはアルケ
ンのm価の基、炭素原子数5ないし12のシクロアルカン
またはシクロアルケンのm価の基、飽和または不飽和の
炭素原子数7ないし12の二環式もしくは三環式の炭化水
素のm価の基、または炭素原子数6ないし15のアリール
炭化水素、アルキル置換アリール炭化水素またはアルア
ルキル炭化水素のm価の基を表わし、但しN−O基は必
ずしもLにおける同一の炭素原子に接続することを必要
とせず、 で表わされる基からなる群から選ばれた有機部分を表
わし、 上記の式中、R3は脂肪族、環式脂肪族、不飽和脂肪族
または芳香族のカルボキシル基を除いたカルボン酸基を
表わし、 R4は脂肪族、環式脂肪族の、または不飽和脂肪族のヒ
ドロキシル基を除いたアルコール基を表わし、 R5は水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基ま
たは で表わされる基を表わし、式中L1はLの意味の1価の基
を表わし、 pは0ないし10を表わし、qは2ないし4を表わし、 R6は水素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル
基を表わし、 R7は水素原子または-CH2CH2COOC12H25を表わし、 Dは炭素原子数1ないし18のアルカンまたはアルケン
の2価の基、炭素原子数5ないし12の環式アルカンまた
は環式アルケンの2価の基または飽和または不飽和の炭
素原子数7ないし12の二環式もしくは三環式炭化水素の
2価の基を表わし、但しN−O基は必ずしもDにおける
同一の炭素原子に接続することを必要とせず、 Eは炭素原子数1ないし18のアルカンまたはアルケン
の1価の基、炭素原子数5ないし12の環式アルカンまた
は環式アルケンの1価の基または飽和もしくは不飽和の
炭素原子数7ないし12の二環式もしくは三環式炭化水素
の1価の基を表わし、 で表わされる基からなる群から選ばれた有機の結合成分
を表わし、式中、 R8は直接結合または脂肪族、環式脂肪族、不飽和脂肪
族の、または芳香族の2個のカルボキシル基を除いたジ
カルボン酸の2価の基を表わし R9は脂肪族、環式脂肪族、または不飽和脂肪族の2個
のヒドロキシル基を除いたジオール基を表わし、 R10は−O−または−NR5−を表わし、そして R11は脂肪族または芳香族の4価の基を表わす。)で
表わされるポリ(1−ヒドロカルビルオキシ−2,2,6,6
−テトラアルキルピペリジン)化合物に関するものであ
る。
式Iにおいてはmは2ないし4、特に2を表わすこと
が好ましい。
が好ましい。
式IIにおいてはnは1または2を表わすことが好まし
い。
い。
R1及びR2は各々メチル基を表わすものが好ましい。
式IにおいてLはn−オクタン、n−ヘプタンまたは
シクロヘキサンのm価の基を表わすものが好ましい。
シクロヘキサンのm価の基を表わすものが好ましい。
式Iにおいて好ましくは、TはR3-COO-(式中、R3は
フェニル基、ビニル基または炭素原子数1ないし17のア
ルキル基を表わし、最も好ましくはヘプタデシル基を表
わす。)で表わされる基を表わし、または式Iにおいて
Tは好ましくはR3-CONR5-(式中、R5は水素原子を表わ
し、そしてR3はビニル基を表わす。)で表わされる基を
表わし、またはTは次式: (式中、R6はドデシル基を表わす。)で表わされる基
を表わす。
フェニル基、ビニル基または炭素原子数1ないし17のア
ルキル基を表わし、最も好ましくはヘプタデシル基を表
わす。)で表わされる基を表わし、または式Iにおいて
Tは好ましくはR3-CONR5-(式中、R5は水素原子を表わ
し、そしてR3はビニル基を表わす。)で表わされる基を
表わし、またはTは次式: (式中、R6はドデシル基を表わす。)で表わされる基
を表わす。
式IIにおいてDは好ましくはn−オクタン、n−ヘプ
タンまたはシクロヘキサンの2価の基を表わす。
タンまたはシクロヘキサンの2価の基を表わす。
式IIにおいて、Eは好ましくはオクチル基、ヘプチル
基またはシクロヘキシル基を表わす。
基またはシクロヘキシル基を表わす。
式IIにおいて、Gは好ましくは-OCO-R8-COO-(式中、
R8は炭素原子数2ないし8、最も好ましくは2または8
のアルキレン基、またはフェニレン基を表わす。)で表
わされる基を表わし、或は、 式IIにおいてGは好ましくは-NR5-CO-R8CONR5-(式
中、R5は水素原子またはブチル基を表わし、そしてR8は
直接結合または炭素原子数2ないし8のアルキレン基、
最も好ましくは直接結合、エチレン基またはオクタメチ
レン基を表わす。)で表わされる基を表わし、或は で表わされる基を表わす。
R8は炭素原子数2ないし8、最も好ましくは2または8
のアルキレン基、またはフェニレン基を表わす。)で表
わされる基を表わし、或は、 式IIにおいてGは好ましくは-NR5-CO-R8CONR5-(式
中、R5は水素原子またはブチル基を表わし、そしてR8は
直接結合または炭素原子数2ないし8のアルキレン基、
最も好ましくは直接結合、エチレン基またはオクタメチ
レン基を表わす。)で表わされる基を表わし、或は で表わされる基を表わす。
封鎖アミンのモノマー状N−ヒドロカルビルオキシ誘
導体は各種の合成経路によって製造することができる。
これらは下記の方法を包含する: a.トリ−n−ブチル錫水素化物の存在下におけるN−オ
キシル化合物とハロゲン化アルキルとの反応〔アール.
エル.キニー(R.L.Kinney)その他、ジャーナル オブ
アメリカン ケミカル ソサエティー(J.Am.Chem.So
c.)100,7902(1978)〕; b.N−ヒドロキシ化合物とハロゲン化アルキル及びn−
ブチルリチウムまたは水素化ナトリウムとの反応〔ティ
ー.クルマダ(T.Kurumada)その他、ジャーナル オブ
ポリマー サイエンス(J.Poly Sci.)、ポリマー
ケミストリ(Poly Chem.)版,22,27(1984)及び23,14
77(1985)〕; c.N−オキシル化合物、炭化水素、及びジ−第三ブチル
過酸化物の溶液の光分解〔ディー.ダブリュ.グラタン
(D,W,Gratian)その他、ポリマー デグラード アン
ド スタビリティー(Polym.Degrad & Stability),1
979,69〕; d.N−オキシル化合物、炭化水素及び第三ブチル過酸エ
ステルの溶液の熱分解〔エー.ジェー.ベックウィス
(A,J,Beckwith)、ジャーナル オブ オルガニック
ケミストリ(J.Org.Chem.)53,1632(1988)〕; e.酸素雰囲気中におけるN−オキシル化合物、炭化水素
及び第三ブチルヒドロパーオキシドの溶液の光分解〔テ
ィー クルマダ(T.Kurumada)その他、ジャーナル オ
ブ ポリマー サイエンス(J.Polym.Sci)、ポリマー
ケミストリ(Polym.Chem.)版,23,1477(1985)〕;
及び f.封鎖アミンまたはN−オキシル封鎖アミン、炭化水
素、第三ブチルヒドロパーオキシド及び酸化金属触媒の
溶液の熱分解(欧州特許公開第309402号公報)。
導体は各種の合成経路によって製造することができる。
これらは下記の方法を包含する: a.トリ−n−ブチル錫水素化物の存在下におけるN−オ
キシル化合物とハロゲン化アルキルとの反応〔アール.
エル.キニー(R.L.Kinney)その他、ジャーナル オブ
アメリカン ケミカル ソサエティー(J.Am.Chem.So
c.)100,7902(1978)〕; b.N−ヒドロキシ化合物とハロゲン化アルキル及びn−
ブチルリチウムまたは水素化ナトリウムとの反応〔ティ
ー.クルマダ(T.Kurumada)その他、ジャーナル オブ
ポリマー サイエンス(J.Poly Sci.)、ポリマー
ケミストリ(Poly Chem.)版,22,27(1984)及び23,14
77(1985)〕; c.N−オキシル化合物、炭化水素、及びジ−第三ブチル
過酸化物の溶液の光分解〔ディー.ダブリュ.グラタン
(D,W,Gratian)その他、ポリマー デグラード アン
ド スタビリティー(Polym.Degrad & Stability),1
979,69〕; d.N−オキシル化合物、炭化水素及び第三ブチル過酸エ
ステルの溶液の熱分解〔エー.ジェー.ベックウィス
(A,J,Beckwith)、ジャーナル オブ オルガニック
ケミストリ(J.Org.Chem.)53,1632(1988)〕; e.酸素雰囲気中におけるN−オキシル化合物、炭化水素
及び第三ブチルヒドロパーオキシドの溶液の光分解〔テ
ィー クルマダ(T.Kurumada)その他、ジャーナル オ
ブ ポリマー サイエンス(J.Polym.Sci)、ポリマー
ケミストリ(Polym.Chem.)版,23,1477(1985)〕;
及び f.封鎖アミンまたはN−オキシル封鎖アミン、炭化水
素、第三ブチルヒドロパーオキシド及び酸化金属触媒の
溶液の熱分解(欧州特許公開第309402号公報)。
本発明のオリゴマー状化合物は上記のモノマーN−ヒ
ドロカルビルオキシ化合物の製造方法の変法によって製
造することができる。
ドロカルビルオキシ化合物の製造方法の変法によって製
造することができる。
例えば式Iで表わされる化合物はN−オキシルまたは
N−ヒドロキシ封鎖アミンとポリハロアルカンとの反応
によって製造することができる。
N−ヒドロキシ封鎖アミンとポリハロアルカンとの反応
によって製造することができる。
式Iで表わされる化合物は、N−オキシル封鎖アミン
を過酸化物またはヒドロパーオキシドの分解から生じた
n価の炭化水素基と、引抜き可能の水素原子を有する炭
化水素の存在下でカップリングさせることにより最も有
利に製造することができる。
を過酸化物またはヒドロパーオキシドの分解から生じた
n価の炭化水素基と、引抜き可能の水素原子を有する炭
化水素の存在下でカップリングさせることにより最も有
利に製造することができる。
炭化水素に対するN−オキシル封鎖アミンの比率は、
モノマー状N−ヒドロカルビルオキシ化合物の生成、ま
たは本発明ポリ置換N−ヒドロカルビルオキシ化合物の
生成を助けるように調整することができるが、殆んど常
にモノマー状及びポリ置換N−ヒドロカルビルオキシ化
合物の混合物が得られる。これらの混合物はカラムクロ
マトグラフィにより容易に、モノマー状及びポリ置換N
−ヒドロカルビルオキシ化合物に分離することができ
る。
モノマー状N−ヒドロカルビルオキシ化合物の生成、ま
たは本発明ポリ置換N−ヒドロカルビルオキシ化合物の
生成を助けるように調整することができるが、殆んど常
にモノマー状及びポリ置換N−ヒドロカルビルオキシ化
合物の混合物が得られる。これらの混合物はカラムクロ
マトグラフィにより容易に、モノマー状及びポリ置換N
−ヒドロカルビルオキシ化合物に分離することができ
る。
かくして後の方法を用いて本発明化合物を製造すると
きは基Lの構造を特定することができるが、本発明化合
物をヒドロパーオキシドまたは過酸化物と一緒に、N−
オキシル化合物と炭化水素を用いて製造するときは、基
Lは異性構造混合物を表わす。
きは基Lの構造を特定することができるが、本発明化合
物をヒドロパーオキシドまたは過酸化物と一緒に、N−
オキシル化合物と炭化水素を用いて製造するときは、基
Lは異性構造混合物を表わす。
式IIで表わされる化合物はビス(N−オキシル)化合
物を、過酸化物またはヒドロパーオキシドの分解から発
生した炭化水素基と、引抜き可能の水素原子を有する炭
化水素溶媒の存在下で反応させることにより合成するこ
とができる。
物を、過酸化物またはヒドロパーオキシドの分解から発
生した炭化水素基と、引抜き可能の水素原子を有する炭
化水素溶媒の存在下で反応させることにより合成するこ
とができる。
溶媒の濃度が十分に低い場合には、2個のN−オキシ
ル分子が同じ溶媒分子と反応することができるが、殆ん
ど常にモノマー状及びオリゴマーN−ヒドロカルビルオ
キシ化合物の混合物が得られる。これらの混合物はカラ
ムクロマトグラフィにより、容易にモノマー状及びオリ
ゴマー状N−ヒドロカルビルオキシ化合物に分離するこ
とができる。
ル分子が同じ溶媒分子と反応することができるが、殆ん
ど常にモノマー状及びオリゴマーN−ヒドロカルビルオ
キシ化合物の混合物が得られる。これらの混合物はカラ
ムクロマトグラフィにより、容易にモノマー状及びオリ
ゴマー状N−ヒドロカルビルオキシ化合物に分離するこ
とができる。
ビス(N−オキシル)封鎖アミンを、さらにトリブチ
ル錫水素化物及び脂肪族ジハライドと反応させ、式IIで
表わされるオリゴマー製品を得ることができる。ビス
(N−ヒドロキシ)封鎖アミンを、適当な塩基と脂肪族
ジハロゲン化物、好ましくは二沃化物とを用いてアルキ
ル化することができる。これらの方法は異なる分子量の
オリゴマー混合物を与えるものと期待される。いかなる
末端ハロゲン化N−ヒドロカルビルオキシ基も、トリブ
チル錫水素化物により、標準的方法を用いて減少させる
ことができる。
ル錫水素化物及び脂肪族ジハライドと反応させ、式IIで
表わされるオリゴマー製品を得ることができる。ビス
(N−ヒドロキシ)封鎖アミンを、適当な塩基と脂肪族
ジハロゲン化物、好ましくは二沃化物とを用いてアルキ
ル化することができる。これらの方法は異なる分子量の
オリゴマー混合物を与えるものと期待される。いかなる
末端ハロゲン化N−ヒドロカルビルオキシ基も、トリブ
チル錫水素化物により、標準的方法を用いて減少させる
ことができる。
特定の分子量を有する式IIで表わされるオリゴマー
は、1個のN−ヒドロカルビルオキシ基または−ブリッ
ジと1個のN−オキシル官能基またはN−ヒドロキシ官
能基とを有する二官能性封鎖アミン中間体を製造するこ
とによって合成することができる。これらの中間体は先
の章で論じた脂肪族ジハロゲン化物の化学を用いてカッ
プリングさせることができる。
は、1個のN−ヒドロカルビルオキシ基または−ブリッ
ジと1個のN−オキシル官能基またはN−ヒドロキシ官
能基とを有する二官能性封鎖アミン中間体を製造するこ
とによって合成することができる。これらの中間体は先
の章で論じた脂肪族ジハロゲン化物の化学を用いてカッ
プリングさせることができる。
本出願では2,2,6,6−テトラアルキルピペリジン構造
を強調しているけれども、本発明はまた、下記のテトラ
アルキル置換ピペラジンまたはピペラジノン成分: (式中、M及びYは独立にメチレン基またはカルボニ
ル基を表わし、そして好ましくはMはメチレン基を表わ
し、Yはカルボニル基を表わす。)が上記のテトラアル
キルピペリジン部分と置換した化合物に関するものであ
る。このような化合物に使用できると確認された置換基
は、リング窒素原子における置換に適するものであるこ
とがわかる。
を強調しているけれども、本発明はまた、下記のテトラ
アルキル置換ピペラジンまたはピペラジノン成分: (式中、M及びYは独立にメチレン基またはカルボニ
ル基を表わし、そして好ましくはMはメチレン基を表わ
し、Yはカルボニル基を表わす。)が上記のテトラアル
キルピペリジン部分と置換した化合物に関するものであ
る。このような化合物に使用できると確認された置換基
は、リング窒素原子における置換に適するものであるこ
とがわかる。
本発明の化合物が特に有用な基地はポリエチレン及び
ポリプロピレンのようなポリオレフィン;特に耐衝撃ポ
リスチレンを包含するポリスチレン;ABS樹脂;エラスト
マー、例えばブタジエンゴム、EPM、EPDM、SBR及びニト
リルゴムである。
ポリプロピレンのようなポリオレフィン;特に耐衝撃ポ
リスチレンを包含するポリスチレン;ABS樹脂;エラスト
マー、例えばブタジエンゴム、EPM、EPDM、SBR及びニト
リルゴムである。
一般に安定化され得るポリマーは次のものを包含す
る。
る。
1.モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えば
所望により架橋結合できるポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリイソブチレン、ポリブテン−1、ポリメチルペ
ンテン−1、ポリイソプレンまたはポリブタジエン、並
びにシクロオレフィン例えばシクロペンテンまたはノル
ボルネンのポリマー。
所望により架橋結合できるポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリイソブチレン、ポリブテン−1、ポリメチルペ
ンテン−1、ポリイソプレンまたはポリブタジエン、並
びにシクロオレフィン例えばシクロペンテンまたはノル
ボルネンのポリマー。
2. 1)で述べたポリマーの混合物、例えばポリプロピ
レンとポリイソブチレンとの混合物。
レンとポリイソブチレンとの混合物。
3.モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニル
モノマーとのコポリマー、例えばエチレン/プロピレ
ン、プロピレン/ブテン−1、プロピレン/イソブチレ
ン、エチレン/ブテン−1、プロピレン/ブタジエン、
イソブチレン/イソプレン、エチレン/アルキルアクリ
レート、エチレン/アルキルメタクリレート、エチレン
/ビニルアセテートまたはエチレン/アクリル酸コポリ
マー及びそれらの塩類(アイオノマー)、及びエチレン
とプロピレンとジエン例えばヘキサジエン、ジシクロペ
ンタジエンまたはエチリデン/ノルボルネンとのターポ
リマー。
モノマーとのコポリマー、例えばエチレン/プロピレ
ン、プロピレン/ブテン−1、プロピレン/イソブチレ
ン、エチレン/ブテン−1、プロピレン/ブタジエン、
イソブチレン/イソプレン、エチレン/アルキルアクリ
レート、エチレン/アルキルメタクリレート、エチレン
/ビニルアセテートまたはエチレン/アクリル酸コポリ
マー及びそれらの塩類(アイオノマー)、及びエチレン
とプロピレンとジエン例えばヘキサジエン、ジシクロペ
ンタジエンまたはエチリデン/ノルボルネンとのターポ
リマー。
4.ポリスチレン、ポリ−(p−メチルスチレン)。
5.スチレンまたはメチルスチレンとジエンまたはアクリ
ル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン/ブタジエ
ン、スチレン/アクリロニトリル、スチレン/エチルメ
タアクリレート、スチレン/ブタジエン/エチルアクリ
レート、スチレン/アクリロニトリル/メチルアクリレ
ート;スチレンコポリマーと別のポリマー、例えばポリ
アクリレート、ジエンポリマー、またはエチレン/プロ
ピレン/ジエンターポリマーからの高耐衝撃性混合物;
及びスチレンのブロックコポリマー例えばスチレン/ブ
タジエン/スチレン、スチレン/イソプレン/スチレ
ン、スチレン/エチレン/ブチレン/スチレンまたはス
チレン/エチレン/プロピレン/スチレン。
ル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン/ブタジエ
ン、スチレン/アクリロニトリル、スチレン/エチルメ
タアクリレート、スチレン/ブタジエン/エチルアクリ
レート、スチレン/アクリロニトリル/メチルアクリレ
ート;スチレンコポリマーと別のポリマー、例えばポリ
アクリレート、ジエンポリマー、またはエチレン/プロ
ピレン/ジエンターポリマーからの高耐衝撃性混合物;
及びスチレンのブロックコポリマー例えばスチレン/ブ
タジエン/スチレン、スチレン/イソプレン/スチレ
ン、スチレン/エチレン/ブチレン/スチレンまたはス
チレン/エチレン/プロピレン/スチレン。
6.スチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブタジエ
ンにスチレン、ポリブタジエンにスチレン及びアクリロ
ニトリル、ポリブタジエンにスチレン及びアルキルアク
リレートまたはメタアクリレート、エチレン/プロピレ
ン/ジエンターポリマーにスチレン及びアクリロニトリ
ル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレートにスチ
レン及びアクリロニトリル、アクリレート/ブタジエン
コポリマーにスチレン及びアクリロニトリル、並びにこ
れらと5)に列挙したコポリマーとの混合物、例えばAB
S−,MBS−,ASA−またはAES−ポリマーとして知られてい
るコポリマー混合物。
ンにスチレン、ポリブタジエンにスチレン及びアクリロ
ニトリル、ポリブタジエンにスチレン及びアルキルアク
リレートまたはメタアクリレート、エチレン/プロピレ
ン/ジエンターポリマーにスチレン及びアクリロニトリ
ル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレートにスチ
レン及びアクリロニトリル、アクリレート/ブタジエン
コポリマーにスチレン及びアクリロニトリル、並びにこ
れらと5)に列挙したコポリマーとの混合物、例えばAB
S−,MBS−,ASA−またはAES−ポリマーとして知られてい
るコポリマー混合物。
7.ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩
素化ゴム、塩素化またはクロロスルホン化ポリエチレ
ン、エピクロロヒドリンホモ−及びコポリマー、ハロゲ
ン含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ弗化ビニル、ポリ弗化
ビニリデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩化ビニ
ル/塩化ビニリデン、塩化ビニル/酢酸ビニル/塩化ビ
ニリデン/酢酸ビニルコポリマーまたは弗化ビニル/ビ
ニルエーテルコポリマー。
素化ゴム、塩素化またはクロロスルホン化ポリエチレ
ン、エピクロロヒドリンホモ−及びコポリマー、ハロゲ
ン含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ弗化ビニル、ポリ弗化
ビニリデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩化ビニ
ル/塩化ビニリデン、塩化ビニル/酢酸ビニル/塩化ビ
ニリデン/酢酸ビニルコポリマーまたは弗化ビニル/ビ
ニルエーテルコポリマー。
8.α,β−不飽和酸及びその誘導体から誘導されたポリ
マー、例えばポリアクリレート及びポリメタアクリレー
ト、ポリアクリルアミド及びポリアクリロニトリル。
マー、例えばポリアクリレート及びポリメタアクリレー
ト、ポリアクリルアミド及びポリアクリロニトリル。
9.前記8)に挙げたモノマー相互のまたは他の不飽和モ
ノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル/ブタ
ジエン、アクリロニトリル/アルキルアクリレート、ア
クリロニトリル/アルコキシアルキルアクリレートまた
はアクリロニトリル/ハロゲン化ビニルコポリマーまた
はアクリロニトリル/アルキルメタアクリレート/ブタ
ジエンターポリマー。
ノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル/ブタ
ジエン、アクリロニトリル/アルキルアクリレート、ア
クリロニトリル/アルコキシアルキルアクリレートまた
はアクリロニトリル/ハロゲン化ビニルコポリマーまた
はアクリロニトリル/アルキルメタアクリレート/ブタ
ジエンターポリマー。
10.不飽和アルコール及びアミンまたはそれらのアシル
誘導体またはそれらのアセタールから誘導されたポリマ
ー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポ
リビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリ
ビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリル
フタレート、またはポリアリル−メラミン。
誘導体またはそれらのアセタールから誘導されたポリマ
ー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポ
リビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリ
ビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリル
フタレート、またはポリアリル−メラミン。
11.環状エーテルのホモポリマー及びコポリマー、例え
ばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド、
ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−グリシジ
ルエーテルとのコポリマー。
ばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド、
ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−グリシジ
ルエーテルとのコポリマー。
12.ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン、及び
エチレンオキシドをコモノマーとして含むポリオキシメ
チレン。
エチレンオキシドをコモノマーとして含むポリオキシメ
チレン。
13.ポリフェニレンオキシド及びスルフィド並びにポリ
フェニレンオキシドとポリスチレンとの混合物。
フェニレンオキシドとポリスチレンとの混合物。
14.一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエー
テル、ポリエステルまたはポリブタジエンと他方の成分
として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとから誘
導されたポリウレタン並びにその前駆物質(ポリイソシ
アネート、ポリオールまたはプレポリマー)。
テル、ポリエステルまたはポリブタジエンと他方の成分
として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとから誘
導されたポリウレタン並びにその前駆物質(ポリイソシ
アネート、ポリオールまたはプレポリマー)。
15.ジアミン及びジカルボン酸及び/またはアミノカル
ボン酸または相当するラクタムから誘導されたポリアミ
ド及びコポリアミド。例えばポリアミド4、ポリアミド
6、ポリアミド6/6、6/10、ポリアミド11、ポリアミド1
2、ポリ−2,4,4−トリメチルヘキサメチレンテレフタル
アミド、ポリ−p−フェニレンテレフタルアミドまたは
ポリ−m−フェニレンイソフタルアミド並びにそれらと
ポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプ
ロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコー
ルとのコポリマー。
ボン酸または相当するラクタムから誘導されたポリアミ
ド及びコポリアミド。例えばポリアミド4、ポリアミド
6、ポリアミド6/6、6/10、ポリアミド11、ポリアミド1
2、ポリ−2,4,4−トリメチルヘキサメチレンテレフタル
アミド、ポリ−p−フェニレンテレフタルアミドまたは
ポリ−m−フェニレンイソフタルアミド並びにそれらと
ポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプ
ロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコー
ルとのコポリマー。
16.ポリ尿素、ポリイミド及びポリアミド−イミド。
17.ジカルボン酸及びジオール及び/またはヒドロキシ
カルボン酸または相当するラクトンから誘導されたポリ
エステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブ
チレンテレフタレート、ポリ−1,4−ジメチロール−シ
クロヘキサンテレフタレート、ポリ−〔2,2−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)プロパン〕テレフタレート及び
ポリヒドロキシベンゾエート並びにヒドロキシ末端基を
有するポリエーテルから誘導されたブロックコポリエー
テルエステル。
カルボン酸または相当するラクトンから誘導されたポリ
エステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブ
チレンテレフタレート、ポリ−1,4−ジメチロール−シ
クロヘキサンテレフタレート、ポリ−〔2,2−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)プロパン〕テレフタレート及び
ポリヒドロキシベンゾエート並びにヒドロキシ末端基を
有するポリエーテルから誘導されたブロックコポリエー
テルエステル。
18.ポリカーボネート。
19.ポリスルホン、ポリエーテルスルホン及びポリエー
テルケトン。
テルケトン。
20.一方の成分としてアルデヒド及び他方の成分として
フェノール、尿素及びメラミンから誘導された架橋ポリ
マー、例えばフェノール/ホルムアルデヒド樹脂、尿素
/ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン/ホルムアルデヒ
ド樹脂。
フェノール、尿素及びメラミンから誘導された架橋ポリ
マー、例えばフェノール/ホルムアルデヒド樹脂、尿素
/ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン/ホルムアルデヒ
ド樹脂。
21.乾性及び不乾性アルキド樹脂。
22.飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコール及び
架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステルから誘
導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性の低いそ
れらのハロゲン含有変性物。
架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステルから誘
導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性の低いそ
れらのハロゲン含有変性物。
23.置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリレ
ート、ウレタン−アクリレートまたはシリコーン−アク
リレートから誘導された熱硬化性アクリル樹脂。
ート、ウレタン−アクリレートまたはシリコーン−アク
リレートから誘導された熱硬化性アクリル樹脂。
24.メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネートまた
はエポキシ樹脂を架橋剤として添加したアルキド樹脂、
ポリエステル樹脂またはアクリレート樹脂。
はエポキシ樹脂を架橋剤として添加したアルキド樹脂、
ポリエステル樹脂またはアクリレート樹脂。
25.ポリエポキシド、例えばビス−グリシジルエーテ
ル、または脂環式ジエポキシドから誘導された架橋エポ
キシ樹脂。
ル、または脂環式ジエポキシドから誘導された架橋エポ
キシ樹脂。
26.天然ポリマー、例えばセルロース、ゴム、ゼラチ
ン、及びこれらの化学的に変性させた重合同族体誘導
体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース及
び酪酸セルロース、またはセルロースエーテル、例えば
メチルセルロース。
ン、及びこれらの化学的に変性させた重合同族体誘導
体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース及
び酪酸セルロース、またはセルロースエーテル、例えば
メチルセルロース。
27.前述したポリマーの混合物、例えばPP/EPDM、ポリア
ミド6/EPDMまたはABS、PVC/EVA、PVC/ABS、PVC/MBS、PC
/ABS、PBTP/ABS、 28.純単量体化合物またはその混合物からなる天然及び
合成有機材料、例えば、鉱油、動物及び植物脂肪、オイ
ル及びワックスまたは合成エステル(例えば、フタレー
ト、アジペート、ホスフェートまたはトリメリテート)
をベースとした上記オイル、脂肪及び石ケン、並びに合
成エステルの適当な重量比で混合された鉱油との混合物
で、その材料はポリマーのための可塑剤または繊維紡績
油として並びにこのような材料の水性エマルジョンとし
て使用され得る。
ミド6/EPDMまたはABS、PVC/EVA、PVC/ABS、PVC/MBS、PC
/ABS、PBTP/ABS、 28.純単量体化合物またはその混合物からなる天然及び
合成有機材料、例えば、鉱油、動物及び植物脂肪、オイ
ル及びワックスまたは合成エステル(例えば、フタレー
ト、アジペート、ホスフェートまたはトリメリテート)
をベースとした上記オイル、脂肪及び石ケン、並びに合
成エステルの適当な重量比で混合された鉱油との混合物
で、その材料はポリマーのための可塑剤または繊維紡績
油として並びにこのような材料の水性エマルジョンとし
て使用され得る。
29.天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例えばカ
ルボキシル化スチレン/ブタジエンコポリマーの天然ラ
テックス。
ルボキシル化スチレン/ブタジエンコポリマーの天然ラ
テックス。
30.ポリシロキサン、例えば米国特許第4,259,467号に記
載された軟質の親水性ポリシロキサン;及び例えば米国
特許第4,355,147号に記載された硬質ポリオルガノシロ
キサン。
載された軟質の親水性ポリシロキサン;及び例えば米国
特許第4,355,147号に記載された硬質ポリオルガノシロ
キサン。
31.不飽和アクリルポリアセトアセテート樹脂と、また
は不飽和アクリル樹脂と組合せたポリケトイミン。不飽
和アクリル樹脂はウレタンアクリレート、ポリエーテル
アクリレート、不飽和側基を有するビニルもしくはアク
リルコポリマー及びアクリル化メラミン。ポリケトイミ
ンは酸触媒の存在下でポリアミンとケトンから製造され
る。
は不飽和アクリル樹脂と組合せたポリケトイミン。不飽
和アクリル樹脂はウレタンアクリレート、ポリエーテル
アクリレート、不飽和側基を有するビニルもしくはアク
リルコポリマー及びアクリル化メラミン。ポリケトイミ
ンは酸触媒の存在下でポリアミンとケトンから製造され
る。
32.エチレン不飽和モノマーまたはオリゴマー及びポリ
不飽和脂肪族オリゴマーを含有する放射線硬化組成物。
不飽和脂肪族オリゴマーを含有する放射線硬化組成物。
33.エポキシメラミン、例えばエルエスイー(LSE)4103
(モンサント)のようなエポキシ官能性の、共エーテル
化された高ソリッドメラミンにより架橋結合された光安
定性エポキシ樹脂。
(モンサント)のようなエポキシ官能性の、共エーテル
化された高ソリッドメラミンにより架橋結合された光安
定性エポキシ樹脂。
特定の基地と施用法により変るけれども、一般に安定
化すべき材料の重量に対して本発明化合物を約0.01ない
し約5重量%用いる。有利な範囲は約0.5ないし約2
%、そして特に0.1ないし約1%である。
化すべき材料の重量に対して本発明化合物を約0.01ない
し約5重量%用いる。有利な範囲は約0.5ないし約2
%、そして特に0.1ないし約1%である。
本発明の安定剤は、有機ポリマーからの造型品の製造
に先立つ有利な段階ならいつでも、慣用技術によって上
記ポリマーに容易に配合することができる。例えば安定
剤を乾燥粉末の形でポリマーと混合することができ、あ
るいは、安定剤の懸濁液または乳化液をポリマーの溶
液、懸濁液または乳化液と混合できる。その結果安定化
された本発明のポリマー組成物は、所望により、下記の
ような各種の慣用の添加物をも含有することができる。
に先立つ有利な段階ならいつでも、慣用技術によって上
記ポリマーに容易に配合することができる。例えば安定
剤を乾燥粉末の形でポリマーと混合することができ、あ
るいは、安定剤の懸濁液または乳化液をポリマーの溶
液、懸濁液または乳化液と混合できる。その結果安定化
された本発明のポリマー組成物は、所望により、下記の
ような各種の慣用の添加物をも含有することができる。
1.酸化防止剤 1.1.アルキル化モノフェノール 例えば、2,6−ジ−第三ブチル−4−メチルフェノー
ル、2−第三ブチル−4,6−ジメチルフェノール、2,6−
ジ−第三ブチル−4−エチルフェノール、2,6−ジ−第
三ブチル−4−n−ブチルフェノール、2,6−ジ−第三
ブチル−4−イソ−ブチルフェノール、2,6−ジ−シク
ロペンチル−4−メチルフェノール、2−(α−メチル
シクロヘキシル)−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ
オクタデシル−4−メチルフェノール、2,4,6−トリシ
クロヘキシルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−4−
メトキシメチルフェノール。
ル、2−第三ブチル−4,6−ジメチルフェノール、2,6−
ジ−第三ブチル−4−エチルフェノール、2,6−ジ−第
三ブチル−4−n−ブチルフェノール、2,6−ジ−第三
ブチル−4−イソ−ブチルフェノール、2,6−ジ−シク
ロペンチル−4−メチルフェノール、2−(α−メチル
シクロヘキシル)−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ
オクタデシル−4−メチルフェノール、2,4,6−トリシ
クロヘキシルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−4−
メトキシメチルフェノール。
1.2.アルキル化ヒドロキノン 例えば、2,6−ジ−第三ブチル−4−メトキシフェノ
ール、2,5−ジ−第三ブチルヒドロキノン、2,5−ジ−第
三アミルヒドロキノン、2,6−ジフェニル−4−オクタ
デシルオキシフェノール。
ール、2,5−ジ−第三ブチルヒドロキノン、2,5−ジ−第
三アミルヒドロキノン、2,6−ジフェニル−4−オクタ
デシルオキシフェノール。
1.3.ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル 例えば、2,2′−チオビス(6−第三ブチル−4−メ
チルフェノール)、2,2′−チオビス(4−オクチルフ
ェノール)、4,4′−チオビス(6−第三ブチル−3−
メチルフェノール)、4,4′−チオビス(6−第三ブチ
ル−2−メチルフェノール)。
チルフェノール)、2,2′−チオビス(4−オクチルフ
ェノール)、4,4′−チオビス(6−第三ブチル−3−
メチルフェノール)、4,4′−チオビス(6−第三ブチ
ル−2−メチルフェノール)。
1.4.アルキリデンビスフェノール 例えば、2,2′−メチレンビス(6−第三ブチル−4
−メチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(6−第
三ブチル−4−エチルフェノール)、2,2′−メチレン
ビス〔4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキシル)
フェノール〕、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6
−シクロヘキシルフェノール)、2,2′−メチレンビス
(6−ノニル−4−メチルフェノール)、2,2′−メチ
レン−ビス−〔6−(α−メチルベンジル)−4−ノニ
ルフェノール〕、2,2′−メチレン−ビス−〔6−
(α,α′−ジメチルベンジル)−4−ノニルフェノー
ル〕、2,2′−メチレンビス(4,6−ジ−第三ブチルフェ
ノール)、2,2−エチリデンビス(4,6−ジ−第三ブチル
フェノール)、2,2′−エチリデンビス(6−第三ブチ
ル−4−イソブチルフェノール)、4,4′−メチレンビ
ス(2,6−ジ−第三ブチルフェノール)、4,4′−メチレ
ンビス(6−第三ブチル−2−メチルフェノール)、1,
1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチ
ルフェニル)ブタン、2,6−ビス(3−第三ブチル−5
−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフェ
ノール、1,1,3−トリス(5−第三ブチル−4−ヒドロ
キシ−2−メチルフェニル)−ブタン、1,1−ビス(5
−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)
−3−n−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコ
ール−ビス−〔3,3−ビス(3′−第三ブチル−4′−
ヒドロキシフェニル)−ブチレート〕、ビス(3−第三
ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ジシク
ロペンタジエン、ビス〔2−(3′−第三ブチル−2′
ヒドロキシ−5′−メチルベンジル)−6−第三ブチル
−4−メチルフェニル〕テレフタレート。
−メチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(6−第
三ブチル−4−エチルフェノール)、2,2′−メチレン
ビス〔4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキシル)
フェノール〕、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6
−シクロヘキシルフェノール)、2,2′−メチレンビス
(6−ノニル−4−メチルフェノール)、2,2′−メチ
レン−ビス−〔6−(α−メチルベンジル)−4−ノニ
ルフェノール〕、2,2′−メチレン−ビス−〔6−
(α,α′−ジメチルベンジル)−4−ノニルフェノー
ル〕、2,2′−メチレンビス(4,6−ジ−第三ブチルフェ
ノール)、2,2−エチリデンビス(4,6−ジ−第三ブチル
フェノール)、2,2′−エチリデンビス(6−第三ブチ
ル−4−イソブチルフェノール)、4,4′−メチレンビ
ス(2,6−ジ−第三ブチルフェノール)、4,4′−メチレ
ンビス(6−第三ブチル−2−メチルフェノール)、1,
1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチ
ルフェニル)ブタン、2,6−ビス(3−第三ブチル−5
−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフェ
ノール、1,1,3−トリス(5−第三ブチル−4−ヒドロ
キシ−2−メチルフェニル)−ブタン、1,1−ビス(5
−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)
−3−n−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコ
ール−ビス−〔3,3−ビス(3′−第三ブチル−4′−
ヒドロキシフェニル)−ブチレート〕、ビス(3−第三
ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ジシク
ロペンタジエン、ビス〔2−(3′−第三ブチル−2′
ヒドロキシ−5′−メチルベンジル)−6−第三ブチル
−4−メチルフェニル〕テレフタレート。
1.5.ベンジル化合物 例えば、1,3,5−トリス(3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼン、
ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)スルフイド、イソオクチル3,5−ジ−第三ブチル−
4−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート、ビス
(4−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベ
ンジル)−ジチオールテレフタレート、1,3,5−トリス
(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イ
ソシアヌレート、1,3,5−トリス(4−第三ブチル−3
−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)イソシアヌレ
ート、ジオクタデシル3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンジルホスホネート、モノエチル3,5−ジ−第
三ブチル−4−ヒドロキシベンジル−ホスホネートのカ
ルシウム塩。
ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼン、
ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)スルフイド、イソオクチル3,5−ジ−第三ブチル−
4−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート、ビス
(4−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベ
ンジル)−ジチオールテレフタレート、1,3,5−トリス
(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イ
ソシアヌレート、1,3,5−トリス(4−第三ブチル−3
−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)イソシアヌレ
ート、ジオクタデシル3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンジルホスホネート、モノエチル3,5−ジ−第
三ブチル−4−ヒドロキシベンジル−ホスホネートのカ
ルシウム塩。
1.6.アシルアミノフェノール 例えば、ラウリル酸4−ヒドロキシアニリド、ステア
リン酸4−ヒドロキシアニリド、2,4−ビス(オクチル
メルカプト)−6−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
ロキシアニリノ)−s−トリアジン、N−(3,5−ジ−
第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−カルバミン酸
オクチルエステル。
リン酸4−ヒドロキシアニリド、2,4−ビス(オクチル
メルカプト)−6−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
ロキシアニリノ)−s−トリアジン、N−(3,5−ジ−
第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−カルバミン酸
オクチルエステル。
1.7.以下のような一価または多価アルコールとβ−(3,
5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピ
オン酸とのエステル アルコールの例:メタノール、ジエチレングリコー
ル、オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6
−ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペン
チルグリコール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシア
ヌレート、チオジエチレングリコール、N,N′−ビス
(ヒドロキシエチル)蓚酸ジアミド。
5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピ
オン酸とのエステル アルコールの例:メタノール、ジエチレングリコー
ル、オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6
−ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペン
チルグリコール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシア
ヌレート、チオジエチレングリコール、N,N′−ビス
(ヒドロキシエチル)蓚酸ジアミド。
1.8.以下のような一価または多価アルコールとβ−(5
−第三ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)
プロピオン酸とのエステル アルコールの例:メタノール、ジエチレングリコー
ル、オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6
−ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペン
チルグリコール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシア
ヌレート、チオジエチレングリコール、N,N′−ビス
(ヒドロキシエチル)蓚酸ジアミド。
−第三ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)
プロピオン酸とのエステル アルコールの例:メタノール、ジエチレングリコー
ル、オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6
−ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペン
チルグリコール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシア
ヌレート、チオジエチレングリコール、N,N′−ビス
(ヒドロキシエチル)蓚酸ジアミド。
1.9.β−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロピオン酸のアミド 例えばN,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
ロキシフェニルプロピオニル)−ヘキサメチレンジアミ
ン、N,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキ
シフェニルプロピオニル)トリメチレンジアミン、N,
N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニルプロピオニル)ヒドラジン。
ニル)プロピオン酸のアミド 例えばN,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
ロキシフェニルプロピオニル)−ヘキサメチレンジアミ
ン、N,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキ
シフェニルプロピオニル)トリメチレンジアミン、N,
N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニルプロピオニル)ヒドラジン。
2.紫外線吸収剤及び光安定剤 2.1. 2−(2′−ヒドロキシフェニル)−ベンゾトリ
アゾール 例えば5′−メチル、3′5′−ジ−第三ブチル、
5′−第三ブチル、5′−(1,1,3,3−テトメチルブチ
ル)、5−クロロ−3′,5′−ジ−第三ブチル、5−ク
ロロ−3′−第三ブチル−5′−メチル、3′−第二ブ
チル−5′−第三ブチル、4′−オクトキシ、3′,5′
−ジ−第三アミル、3′,5′−ビス(α,α−ジメチル
ベンジル)、3′−第三ブチル−5′−〔2−(オメガ
−ヒドロキシ)−オクタ−(エチレンオキシ)カルボニ
ル−エチル〕−、3′−ドデシル−5′−メチル−、及
び3′−第三ブチル−5′−(2−オクチルオキシカル
ボニル)エチル−、及びドデシル化−5′−メチル誘導
体。
アゾール 例えば5′−メチル、3′5′−ジ−第三ブチル、
5′−第三ブチル、5′−(1,1,3,3−テトメチルブチ
ル)、5−クロロ−3′,5′−ジ−第三ブチル、5−ク
ロロ−3′−第三ブチル−5′−メチル、3′−第二ブ
チル−5′−第三ブチル、4′−オクトキシ、3′,5′
−ジ−第三アミル、3′,5′−ビス(α,α−ジメチル
ベンジル)、3′−第三ブチル−5′−〔2−(オメガ
−ヒドロキシ)−オクタ−(エチレンオキシ)カルボニ
ル−エチル〕−、3′−ドデシル−5′−メチル−、及
び3′−第三ブチル−5′−(2−オクチルオキシカル
ボニル)エチル−、及びドデシル化−5′−メチル誘導
体。
2.2. 2−ヒドロキシベンゾフェノン 例えば4−ヒドロキシ、4−メトキシ、4−オクトキ
シ、4−デシルオキシ、4−ドデシルオキシ、4−ベン
ジルオキシ、4,2′,4′−トリヒドロキシ及び2′−ヒ
ドロキシ−4,4′−ジメトキシ誘導体。
シ、4−デシルオキシ、4−ドデシルオキシ、4−ベン
ジルオキシ、4,2′,4′−トリヒドロキシ及び2′−ヒ
ドロキシ−4,4′−ジメトキシ誘導体。
2.3.置換及び非置換安息香酸のエステル 例えばフェニルサリチレート、4−第三ブチルフェニ
ルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベ
ンゾイルレゾルシノール、ビス(4−第三ブチルベンゾ
イル)−レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、
3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸、2,4−
ジ−第三ブチルフェニルエステル及び3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシルエステル。
ルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベ
ンゾイルレゾルシノール、ビス(4−第三ブチルベンゾ
イル)−レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、
3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸、2,4−
ジ−第三ブチルフェニルエステル及び3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシルエステル。
2.4.アクリレート 例えばα−シアノ−β,β−ジフェニルアクリル酸エ
チルエステルまたはイソオクチルエステル,α−カルボ
メトキシシンナミン酸メチルエステル、α−シアノ−β
−エチル−p−メトキシ−シンナミン酸メチルエステル
またはブチルエステル,α−カルボメトキシ−p−メト
キシシンナミン酸メチルエステル、N−(β−カルボメ
トキシ−β−シアノビニル)−2−メチルインドリン。
チルエステルまたはイソオクチルエステル,α−カルボ
メトキシシンナミン酸メチルエステル、α−シアノ−β
−エチル−p−メトキシ−シンナミン酸メチルエステル
またはブチルエステル,α−カルボメトキシ−p−メト
キシシンナミン酸メチルエステル、N−(β−カルボメ
トキシ−β−シアノビニル)−2−メチルインドリン。
2.5.ニッケル化合物 例えば2,2′−チオ−ビス−〔4−(1,1,3,3−テトラ
メチルブチル)フェノール〕のニッケル錯体、例えば所
望によりn−ブチルアミン、トリエタノールアミンまた
はN−シクロヘキシル−ジエタノールアミンのような付
加配位子を有する1:1または1:2錯体、ニッケルジブチル
ジチオカルバメート、4−ヒドキシ−3,5−ジ−第三ブ
チルベンジルホスホン酸モノアルキルエステル例えばメ
チルエチルまたはブチルエステルのニッケル塩、ケトオ
キシム例えば2−ヒドロキシ−4−メチルフェニルウン
デシルケトオキシムのニッケル錯体及び所望により付加
配位子を含んでよい1−フェニル−4−ラウロイル−5
−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。
メチルブチル)フェノール〕のニッケル錯体、例えば所
望によりn−ブチルアミン、トリエタノールアミンまた
はN−シクロヘキシル−ジエタノールアミンのような付
加配位子を有する1:1または1:2錯体、ニッケルジブチル
ジチオカルバメート、4−ヒドキシ−3,5−ジ−第三ブ
チルベンジルホスホン酸モノアルキルエステル例えばメ
チルエチルまたはブチルエステルのニッケル塩、ケトオ
キシム例えば2−ヒドロキシ−4−メチルフェニルウン
デシルケトオキシムのニッケル錯体及び所望により付加
配位子を含んでよい1−フェニル−4−ラウロイル−5
−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。
2.6.立体障害性アミン 例えば、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジ
ル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペ
リジル)−セバケート、n−ブチル−3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシベンジル−マロン酸−ビス(1,2,
2,6,6−ペンタメチルピペリジル)エステル、1−ヒド
ロキシエチル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキ
シピペリジンとコハク酸との縮合物、N,N′−ビス(2,
2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレ
ンジアミンと4−第三オクチルアミノ−2,6−ジクロロ
−1,3,5−トリアジンとの縮合物、トリス(2,2,6,6−テ
トラメチル−4−ピペリジル)ニトリロトリアセテー
ト、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリ
ジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸、1,1′−
(1,2−エタンジイル)−ビス(3,3,5,5−テトラメチル
−ピペラジノン)。
ル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペ
リジル)−セバケート、n−ブチル−3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシベンジル−マロン酸−ビス(1,2,
2,6,6−ペンタメチルピペリジル)エステル、1−ヒド
ロキシエチル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキ
シピペリジンとコハク酸との縮合物、N,N′−ビス(2,
2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレ
ンジアミンと4−第三オクチルアミノ−2,6−ジクロロ
−1,3,5−トリアジンとの縮合物、トリス(2,2,6,6−テ
トラメチル−4−ピペリジル)ニトリロトリアセテー
ト、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリ
ジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸、1,1′−
(1,2−エタンジイル)−ビス(3,3,5,5−テトラメチル
−ピペラジノン)。
2.7.蓚酸ジアミド 例えば4,4′−ジオクチルオキシオキサニリド、2,2′
−ジオクチルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチルオキサニ
リド、2,2′−ジドデシルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチ
ルオキサニリド、2−エトキシ−2′−エチルオキサニ
リド、N,N′−ビス(3−ジメチルアミノプロピル)オ
キサルアミド、2−エトキシ−5−第三ブチル−2′−
エチルオキサニリド、及びこれと2−エトキシ−2′−
エチル−5,4′−ジ−第三ブチル−オキサニリドとの混
合物、及びオルト−メトキシ及びパラ−メトキシ二置換
オキサニリドの混合物及びo−エトキシ及びp−エトキ
シ二置換オキサニリドの混合物。
−ジオクチルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチルオキサニ
リド、2,2′−ジドデシルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチ
ルオキサニリド、2−エトキシ−2′−エチルオキサニ
リド、N,N′−ビス(3−ジメチルアミノプロピル)オ
キサルアミド、2−エトキシ−5−第三ブチル−2′−
エチルオキサニリド、及びこれと2−エトキシ−2′−
エチル−5,4′−ジ−第三ブチル−オキサニリドとの混
合物、及びオルト−メトキシ及びパラ−メトキシ二置換
オキサニリドの混合物及びo−エトキシ及びp−エトキ
シ二置換オキサニリドの混合物。
2.8.ヒドロキシフェニル−s−トリアジン 例えば2,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−4−
(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−s
−トリアジン;2,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)
−4−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−s−トリアジ
ン;2,4−ビス(2,4−ジヒドロキシフェニル)−6−
(4−クロロフェニル)−s−トリアジン;2,4−ビス
〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシエトキシ)フ
ェニル〕−6−(4−クロロフェニル)−s−トリアジ
ン;2,4−ビス〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ
エトキシ)フェニル〕−6−フェニル−s−トリアジ
ン;2,4−ビス〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ
エトキシ)フェニル〕−6−(2,4−ジメチルフェニ
ル)−s−トリアジン;2,4−ビス〔2−ヒドロキシ−4
−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル〕−6−(4−
ブロモフェニル)−s−トリアジン;2,4−ビス〔2−ヒ
ドロキシ−4−(2−アセトキシエトキシ)フェニル〕
−6−(4−クロロフェニル)−s−トリアジン、2,4
−ビス(2,4−ジヒドロキシフエニル)−6−(2,4−ジ
メチルフェニル)−s−トリアジン。
(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−s
−トリアジン;2,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)
−4−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−s−トリアジ
ン;2,4−ビス(2,4−ジヒドロキシフェニル)−6−
(4−クロロフェニル)−s−トリアジン;2,4−ビス
〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシエトキシ)フ
ェニル〕−6−(4−クロロフェニル)−s−トリアジ
ン;2,4−ビス〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ
エトキシ)フェニル〕−6−フェニル−s−トリアジ
ン;2,4−ビス〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ
エトキシ)フェニル〕−6−(2,4−ジメチルフェニ
ル)−s−トリアジン;2,4−ビス〔2−ヒドロキシ−4
−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル〕−6−(4−
ブロモフェニル)−s−トリアジン;2,4−ビス〔2−ヒ
ドロキシ−4−(2−アセトキシエトキシ)フェニル〕
−6−(4−クロロフェニル)−s−トリアジン、2,4
−ビス(2,4−ジヒドロキシフエニル)−6−(2,4−ジ
メチルフェニル)−s−トリアジン。
3.金属不活性化剤 例えばN,N′−ジフェニル蓚酸ジアミド、N−サリチ
ラル−N′−サリチロイルヒドラジン、N,N′−ビス
(サリチロイル)ヒドラジン、N、N′−ビス(3,5−
ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル)ヒドラジン、3−サリチロイルアミノ−1,2,4−ト
リアゾール、ビス(ベンジリデン)蓚酸ジヒドラジド。
ラル−N′−サリチロイルヒドラジン、N,N′−ビス
(サリチロイル)ヒドラジン、N、N′−ビス(3,5−
ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル)ヒドラジン、3−サリチロイルアミノ−1,2,4−ト
リアゾール、ビス(ベンジリデン)蓚酸ジヒドラジド。
4.ホスフィット及びホスホニィット 例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキ
ルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、ト
リス(ノニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホ
スフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステア
リル−ペンタエリトリトールジホスフィット、トリス
(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)ホスフィット、ジイ
ソデシル−ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス
(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)−ペンタエリトリト
ールジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリ
ホスフィット、テトラキス−(2,4−ジ−第三ブチルフ
ェニル)4,4′−ビフェニレン−ジホスホニット。
ルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、ト
リス(ノニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホ
スフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステア
リル−ペンタエリトリトールジホスフィット、トリス
(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)ホスフィット、ジイ
ソデシル−ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス
(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)−ペンタエリトリト
ールジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリ
ホスフィット、テトラキス−(2,4−ジ−第三ブチルフ
ェニル)4,4′−ビフェニレン−ジホスホニット。
5.過酸化物を破壊する化合物 例えばβ−チオジプロピオン酸のエステル、例として
ラウリルエステル、ステアリルエステル、ミリスチルエ
ステルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズイ
ミダゾールまたは2−メルカプトベンズイミダゾールの
亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデ
シルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス
(β−ドデシルメルカプト)プロピオネート。
ラウリルエステル、ステアリルエステル、ミリスチルエ
ステルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズイ
ミダゾールまたは2−メルカプトベンズイミダゾールの
亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデ
シルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス
(β−ドデシルメルカプト)プロピオネート。
6.ヒドロキシルアミン 例えばN,N−ジベンジルヒドロキシルアミン、N,N−ジ
エチルヒドロキシルアミン、N,N−ジオクチルヒドロキ
シルアミン、N,N−ジラウリルヒドロキシルアミン、N,N
−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、N,N−ジヘキサ
デシルヒドロキシルアミン、N−N−ジオクタデシルヒ
ドロキシルアミン、N−ヘキサデシル−N−オクタデシ
ルヒドロキシルアミン、N−ヘプタデシル−N−オクタ
デシルヒドロキシルアミン、水素化牛脂アミンから導か
れたN,N−ジアルキルヒドロキシルアミン。
エチルヒドロキシルアミン、N,N−ジオクチルヒドロキ
シルアミン、N,N−ジラウリルヒドロキシルアミン、N,N
−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、N,N−ジヘキサ
デシルヒドロキシルアミン、N−N−ジオクタデシルヒ
ドロキシルアミン、N−ヘキサデシル−N−オクタデシ
ルヒドロキシルアミン、N−ヘプタデシル−N−オクタ
デシルヒドロキシルアミン、水素化牛脂アミンから導か
れたN,N−ジアルキルヒドロキシルアミン。
7.ポリアミド安定剤 例えば沃化物及び/または燐化合物と組合せた銅塩及
び二価のマンガンの塩。
び二価のマンガンの塩。
8.塩基性補助安定剤 例えばメラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジ
アミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラ
ジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級
脂肪酸のアルカリ金属及びアルカリ土類金属塩例えばCa
ステアレート、Znステアレート、Mgステアレート、Naリ
シノレート、Kパルミテート、アンチモンピロカテコレ
ートまたは亜鉛ピロカテコレート。
アミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラ
ジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級
脂肪酸のアルカリ金属及びアルカリ土類金属塩例えばCa
ステアレート、Znステアレート、Mgステアレート、Naリ
シノレート、Kパルミテート、アンチモンピロカテコレ
ートまたは亜鉛ピロカテコレート。
9.核剤 例えば4−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェ
ニル酢酸。
ニル酢酸。
10.充填剤及び強化剤 例えば炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、アスベ
スト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸
化物及び金属水酸化物、カーボンブラック、黒鉛。
スト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸
化物及び金属水酸化物、カーボンブラック、黒鉛。
11.その他の添加物 例えば可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃
剤、静電防止剤、発泡剤及びジラウリルチオジプロピオ
ネートまたはジステアリルチオジプロピオネートのよう
なチオ相乗剤。
剤、静電防止剤、発泡剤及びジラウリルチオジプロピオ
ネートまたはジステアリルチオジプロピオネートのよう
なチオ相乗剤。
特に興味のあるのは本発明誘導体の、室温硬化及び酸
触媒塗料組成物を包含する各種の塗料組成物における利
用である。特に光沢の喪失と黄変を著しく減少させるこ
とにより塗料の物理的保全性が高度に維持される。重要
な改善は、N−アルキル封鎖アミン光安定剤で遭遇する
硬化遅延が実質的になくなること;ある種の顔料入り塗
料組成物にN−アルキル封鎖アミンを用いたときにみら
れる凝集と分散性の不安定化が実質的になくなること、
そして塗料とポリカーボネート基地との間の接着力の喪
失がなくなることを包含している。従って本発明はま
た、本発明化合物を所望により他の安定剤と一緒に、ア
ルキッド樹脂;熱可塑性アクリル樹脂;アクリルアルキ
ッド樹脂;所望によりシリコーン、イソシアネート、イ
ソシアヌレート、ケトイミンまたはオキサゾリジンによ
り変性されたアクリルアルキッドもしくはポリエステル
樹脂;及びカルボン酸、無水物、ポリアミンまたはメル
カプタンにより架橋結合されたエポキシ樹脂;及び主鎖
中の反応基により変性され、そしてエポキシドにより架
橋結合されたアクリル及びポリエステル樹脂組成物;を
ベースとする室温硬化塗料を、光、水分及び酸素の崩壊
効果に対して安定化するために使用する方法に関するも
のでもある。
触媒塗料組成物を包含する各種の塗料組成物における利
用である。特に光沢の喪失と黄変を著しく減少させるこ
とにより塗料の物理的保全性が高度に維持される。重要
な改善は、N−アルキル封鎖アミン光安定剤で遭遇する
硬化遅延が実質的になくなること;ある種の顔料入り塗
料組成物にN−アルキル封鎖アミンを用いたときにみら
れる凝集と分散性の不安定化が実質的になくなること、
そして塗料とポリカーボネート基地との間の接着力の喪
失がなくなることを包含している。従って本発明はま
た、本発明化合物を所望により他の安定剤と一緒に、ア
ルキッド樹脂;熱可塑性アクリル樹脂;アクリルアルキ
ッド樹脂;所望によりシリコーン、イソシアネート、イ
ソシアヌレート、ケトイミンまたはオキサゾリジンによ
り変性されたアクリルアルキッドもしくはポリエステル
樹脂;及びカルボン酸、無水物、ポリアミンまたはメル
カプタンにより架橋結合されたエポキシ樹脂;及び主鎖
中の反応基により変性され、そしてエポキシドにより架
橋結合されたアクリル及びポリエステル樹脂組成物;を
ベースとする室温硬化塗料を、光、水分及び酸素の崩壊
効果に対して安定化するために使用する方法に関するも
のでもある。
さらに、その工業的利用においては、架橋結合性アク
リル、−ポリエステル、−ウレタンまたは−アルキッド
樹脂をベースとする高固形分のエナメルが付加酸触媒に
よって硬化する。塩基性窒素基を含有する光安定剤は一
般にこの使用方法ではこれほど満足ではない。酸触媒と
光安定剤の間に塩が生成すると、塩の非相溶性または不
溶性及び沈澱の原因となり、硬化度の減少及び光保護作
用の低下及び水分に対する乏しい抵抗性の原因となる。
リル、−ポリエステル、−ウレタンまたは−アルキッド
樹脂をベースとする高固形分のエナメルが付加酸触媒に
よって硬化する。塩基性窒素基を含有する光安定剤は一
般にこの使用方法ではこれほど満足ではない。酸触媒と
光安定剤の間に塩が生成すると、塩の非相溶性または不
溶性及び沈澱の原因となり、硬化度の減少及び光保護作
用の低下及び水分に対する乏しい抵抗性の原因となる。
これらの酸触媒焼付けラッカーは熱架橋結合性のアク
リル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミドまたは
アルキッド樹脂をベースとしている。本発明により、
光、水分及び酸素に対して安定化され得るアクリル樹脂
ラッカーは、慣用的なアクリル樹脂焼付けラッカーまた
は例えばエッチ.キッテル′ス(H.Kittel′s)“レー
ルブック デア ラッケウント ベジヒツンゲン(Lehr
buch der Lacke und Beschichtungen)”第1巻、第2
章、p735及び742(ベルリン1972)、エッチ.ワグナー
(H.Wagner)及びエッチ.エフ.サルクス(H.F.Sarx)
による“ラック クンスツハルッエ(Lack Kunstharz
e)”(1977)p229-238及びパウル′ス(Paul′s)
“サーフェス コーティングス(Surface Coatings):
サイエンス アンド テクノロジ(Science and Techno
logy)”(1985)に記載されているアクリル/メラミン
組成物を包含する熱硬化性樹脂である。
リル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミドまたは
アルキッド樹脂をベースとしている。本発明により、
光、水分及び酸素に対して安定化され得るアクリル樹脂
ラッカーは、慣用的なアクリル樹脂焼付けラッカーまた
は例えばエッチ.キッテル′ス(H.Kittel′s)“レー
ルブック デア ラッケウント ベジヒツンゲン(Lehr
buch der Lacke und Beschichtungen)”第1巻、第2
章、p735及び742(ベルリン1972)、エッチ.ワグナー
(H.Wagner)及びエッチ.エフ.サルクス(H.F.Sarx)
による“ラック クンスツハルッエ(Lack Kunstharz
e)”(1977)p229-238及びパウル′ス(Paul′s)
“サーフェス コーティングス(Surface Coatings):
サイエンス アンド テクノロジ(Science and Techno
logy)”(1985)に記載されているアクリル/メラミン
組成物を包含する熱硬化性樹脂である。
光と水分の作用に対して安定化され得るポリエステル
ラッカーは例えば先に引用したエッチ.ワグナー及びエ
ツチ.エフ.サルクスp86-99に記載された慣用的焼付け
ラッカーである。
ラッカーは例えば先に引用したエッチ.ワグナー及びエ
ツチ.エフ.サルクスp86-99に記載された慣用的焼付け
ラッカーである。
本発明に従って光と水分に対して安定化され得るアル
キット樹脂は特に自動車塗装用に用いられる慣用的焼付
けラッカー(自動車上塗りラッカー)、例えばアルキッ
ド/メラミン樹脂及びアルキッド/アクリル/メラミン
樹脂をベースとするラッカーである(エッチ.ワグナー
及びエッチ.エフ.サルクス、p99-123参照)。他の架
橋結合剤にグリコルリル樹脂、ブロックトイソシアネー
トまたはエポキシ樹脂が包含される。
キット樹脂は特に自動車塗装用に用いられる慣用的焼付
けラッカー(自動車上塗りラッカー)、例えばアルキッ
ド/メラミン樹脂及びアルキッド/アクリル/メラミン
樹脂をベースとするラッカーである(エッチ.ワグナー
及びエッチ.エフ.サルクス、p99-123参照)。他の架
橋結合剤にグリコルリル樹脂、ブロックトイソシアネー
トまたはエポキシ樹脂が包含される。
本発明に従って安定化される酸触媒焼付けラッカーは
金属上塗り塗装及び特に修正上塗りの場合のソリッドシ
ェード上塗りの双方、並びに各種コイルの塗装用に適し
ている。本発明に従って安定化されるラッカーは一段塗
装法または二段塗装法のいずれかによる2種類の方法に
より、慣用的手段で施用されるのが好ましい。後の方法
では、まず顔料含有ベース塗料を施用し、そして次に、
その上に透明ラッカーの被覆塗料が施用される。
金属上塗り塗装及び特に修正上塗りの場合のソリッドシ
ェード上塗りの双方、並びに各種コイルの塗装用に適し
ている。本発明に従って安定化されるラッカーは一段塗
装法または二段塗装法のいずれかによる2種類の方法に
より、慣用的手段で施用されるのが好ましい。後の方法
では、まず顔料含有ベース塗料を施用し、そして次に、
その上に透明ラッカーの被覆塗料が施用される。
本発明の置換封鎖アミンは非酸触媒熱硬化樹脂、例え
ばエポキシ、エポキシ−ポリエステル、ビニル、アルキ
ッド、アクリル及び好ましくはシリコン、イソシアネー
トまたはイソシアヌレートによって変性されたポリエス
テル樹脂のために使用されることにも注意すべきであ
る。エポキシ及びエポキシ−ポリエステル樹脂は慣用的
架橋結合剤、例えば酸、酸無水物、アミンその他同種の
ものによって架橋結合される。
ばエポキシ、エポキシ−ポリエステル、ビニル、アルキ
ッド、アクリル及び好ましくはシリコン、イソシアネー
トまたはイソシアヌレートによって変性されたポリエス
テル樹脂のために使用されることにも注意すべきであ
る。エポキシ及びエポキシ−ポリエステル樹脂は慣用的
架橋結合剤、例えば酸、酸無水物、アミンその他同種の
ものによって架橋結合される。
それに相当してエポキシドは主鎖構造における反応基
の存在によって変性された各種のアクリルまたはポリエ
ステル樹脂組成物のための架橋結合剤として利用するこ
とができる。
の存在によって変性された各種のアクリルまたはポリエ
ステル樹脂組成物のための架橋結合剤として利用するこ
とができる。
このような塗料で最高の光安定性に到達するために
は、他の慣用的光安定剤の同時使用が有利であり得る。
その例は、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、アク
リル酸誘導体、またはオキサニリドタイプの紫外線吸収
剤、またはアリール−s−トリアジンまたは金属含有光
安定剤、例えば有機ニッケル化合物である。二段塗装組
成物においては、これらの付加光安定剤を透明塗装及び
/または顔料入りベース塗料に加えることができる。
は、他の慣用的光安定剤の同時使用が有利であり得る。
その例は、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、アク
リル酸誘導体、またはオキサニリドタイプの紫外線吸収
剤、またはアリール−s−トリアジンまたは金属含有光
安定剤、例えば有機ニッケル化合物である。二段塗装組
成物においては、これらの付加光安定剤を透明塗装及び
/または顔料入りベース塗料に加えることができる。
もしこのような組合せが用いられるなら、すべての光
安定剤の総量はフイルム形成樹脂に対して0.2ないし20
重量%好ましくは0.5ないし5重量%である。
安定剤の総量はフイルム形成樹脂に対して0.2ないし20
重量%好ましくは0.5ないし5重量%である。
前記のピペリジン化合物と共に用いることのできる異
なる分類の紫外線吸収剤の例はヨーロッピアン ポリマ
ー ジャーナル(European Polymer Journal)の補足
版、1969,p105-132のエッチ.ジェー.ヘラー(H.J.Hel
ler)による論文中で参照される。これらの分類はフェ
ニルサリチレート、o−ヒドロキシベンゾフェノン、ヒ
ドロキシキサントン、ベンズオキサゾール、ベンズイミ
ダゾール、オキサジアゾール、トリアゾール、ピリミジ
ン、キナゾリン、s−トリアジン、ヒドロキシフェニル
−ベンゾトリアゾール、アルファ−シアノアクリレート
及びベンゾエートを包含する。
なる分類の紫外線吸収剤の例はヨーロッピアン ポリマ
ー ジャーナル(European Polymer Journal)の補足
版、1969,p105-132のエッチ.ジェー.ヘラー(H.J.Hel
ler)による論文中で参照される。これらの分類はフェ
ニルサリチレート、o−ヒドロキシベンゾフェノン、ヒ
ドロキシキサントン、ベンズオキサゾール、ベンズイミ
ダゾール、オキサジアゾール、トリアゾール、ピリミジ
ン、キナゾリン、s−トリアジン、ヒドロキシフェニル
−ベンゾトリアゾール、アルファ−シアノアクリレート
及びベンゾエートを包含する。
特別重要な紫外線吸収剤のタイプは以下のものであ
る。
る。
(a)2−(2′−ヒドロキシフェニル)−ベンゾトリ
アゾール、例えば5′−メチル−、3′,5′−ジ−第三
ブチル−、5′−第三ブチル、5′−(1,1,3,3−テト
ラメチルブチル)−、5−クロロ−3′,5′−ジ−第三
ブチル−、5−クロロ−3′−第三ブチル−5′−メチ
ル、3′−第二ブチル−5′−第三ブチル−、4′−オ
クトキシ−、及び3′,5′−ジ−第三アミル誘導体。
アゾール、例えば5′−メチル−、3′,5′−ジ−第三
ブチル−、5′−第三ブチル、5′−(1,1,3,3−テト
ラメチルブチル)−、5−クロロ−3′,5′−ジ−第三
ブチル−、5−クロロ−3′−第三ブチル−5′−メチ
ル、3′−第二ブチル−5′−第三ブチル−、4′−オ
クトキシ−、及び3′,5′−ジ−第三アミル誘導体。
(b)2−ヒドロキシ−ベンゾフェノン、例えば、4−
ヒドロキシ−、4−メトキシ、4−オクトキシ−、4−
デシルオキシ、4−ドデシルオキシ−、4−ベンジルオ
キシ、4,2′,4′−トリヒドロキシ−及び2′−ヒドロ
キシ−4,4′−ジメトキシ誘導体。
ヒドロキシ−、4−メトキシ、4−オクトキシ−、4−
デシルオキシ、4−ドデシルオキシ−、4−ベンジルオ
キシ、4,2′,4′−トリヒドロキシ−及び2′−ヒドロ
キシ−4,4′−ジメトキシ誘導体。
(c)アクリレート、例えば、アルファ−シアノ−β,
β−ジフェニルアクリル酸エチルエステルまたはイソオ
クチルエステル、α−カルボメトキシ−シンナミン酸メ
チルエステル、アルファ−シアノ−β−メチル−p−メ
トキシ−シンナミン酸メチルエステルまたはブチルエス
テル、アルファ−カルボメトキシ−p−メトキシ−シン
ナミン酸メチルエステル、N(β−カルボメトキシ−β
−シアノビニル)−2−メチル−インドリン。
β−ジフェニルアクリル酸エチルエステルまたはイソオ
クチルエステル、α−カルボメトキシ−シンナミン酸メ
チルエステル、アルファ−シアノ−β−メチル−p−メ
トキシ−シンナミン酸メチルエステルまたはブチルエス
テル、アルファ−カルボメトキシ−p−メトキシ−シン
ナミン酸メチルエステル、N(β−カルボメトキシ−β
−シアノビニル)−2−メチル−インドリン。
(d)ニッケル化合物、例えば、2,2′−チオビス−
〔4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−フェノー
ル〕のニッケル錯体、例えば所望により、n−ブチルア
ミン、トリエタノールアミンまたはN−シクロヘキシル
−ジエタノールアミンのような付加配位子を有する1:1
または1:2錯体、ニッケルジブチルジチオカーバメー
ト、4−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三ブチルベンジルホ
スホン酸モノアルキルエステル、例えばメチル、エチル
またはブチルエステルのニッケル塩、ケトオキシム例え
ば2−ヒドロキシ−4−メチルフェニルウンデシルケト
オキシムのニッケル錯体及び所望により付加配位子を含
んでよい1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロキ
シピラゾールのニッケル錯体。
〔4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−フェノー
ル〕のニッケル錯体、例えば所望により、n−ブチルア
ミン、トリエタノールアミンまたはN−シクロヘキシル
−ジエタノールアミンのような付加配位子を有する1:1
または1:2錯体、ニッケルジブチルジチオカーバメー
ト、4−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三ブチルベンジルホ
スホン酸モノアルキルエステル、例えばメチル、エチル
またはブチルエステルのニッケル塩、ケトオキシム例え
ば2−ヒドロキシ−4−メチルフェニルウンデシルケト
オキシムのニッケル錯体及び所望により付加配位子を含
んでよい1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロキ
シピラゾールのニッケル錯体。
(e)蓚酸ジアミド、例えば4,4′−ジオクチルオキシ
オキサニリド、2,2′−ジオクチルオキシ−5,5′−ジ−
第三ブチルオキサニリド、2−エトキシ−2′−エチル
オキサニリド、N,N′−ビス(3−ジメチルアミノプロ
ピル)オキサルアミド、2−エトキシ−5−第三ブチル
−2′−エチルオキサニリド及びこれと2−エトキシ−
2′−エチル−5,4′−ジ−第三ブチル−オキサニリド
との混合物、及びオルト−メトキシ及びパラ−メトキシ
二置換オキサニリドの混合物及びo−エトキシ及び−p
−エトキシ二置換オキサニリドの混合物。
オキサニリド、2,2′−ジオクチルオキシ−5,5′−ジ−
第三ブチルオキサニリド、2−エトキシ−2′−エチル
オキサニリド、N,N′−ビス(3−ジメチルアミノプロ
ピル)オキサルアミド、2−エトキシ−5−第三ブチル
−2′−エチルオキサニリド及びこれと2−エトキシ−
2′−エチル−5,4′−ジ−第三ブチル−オキサニリド
との混合物、及びオルト−メトキシ及びパラ−メトキシ
二置換オキサニリドの混合物及びo−エトキシ及び−p
−エトキシ二置換オキサニリドの混合物。
(f)ヒドロキシフェニル−s−トリアジン、例えば2,
6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−4−(2−ヒド
ロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−s−トリアジ
ンまたは相当する4−(2,4−ヒドロキシフェニル)誘
導体。
6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−4−(2−ヒド
ロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−s−トリアジ
ンまたは相当する4−(2,4−ヒドロキシフェニル)誘
導体。
本組成物において特に価値のあるのは高分子量そして
低揮発性のベンゾトリアゾール、例えば2−〔2−ヒド
ロキシ−3,5−ジ(アルファ,アルファ−ジメチルベン
ジル)−フェニル〕−2H−ベンゾトリアゾール、2−
(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三オクチルフェニル)
−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−3
−アルファ,アルファ−ジメチルベンジル−5−第三オ
クチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2
−ヒドロキシ−3−第三オクチル−5−アルファ,アル
ファ−ジメチルベンニルフェニル)−2H−ベンゾトリア
ゾール、2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三アミル
フェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−〔2−ヒド
ロキシ−3−第三ブチル−5−(2−(オメガ−ヒドロ
キシ−オクタ−(エチレンオキシ)カルボニル)−エチ
ルフェニル〕−2H−ベンゾトリアゾール、ドデシル化2
−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−2H−ベン
ゾトリアゾール、2−〔2−ヒドロキシ−3−第三ブチ
ル−5−(2−オクチルオキシカルボニル)エチルフェ
ニル〕−2H−ベンゾトリアゾール及び上に挙げたベンゾ
トリアゾールの各々に対応する5−クロロ化合物であ
る。
低揮発性のベンゾトリアゾール、例えば2−〔2−ヒド
ロキシ−3,5−ジ(アルファ,アルファ−ジメチルベン
ジル)−フェニル〕−2H−ベンゾトリアゾール、2−
(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三オクチルフェニル)
−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−3
−アルファ,アルファ−ジメチルベンジル−5−第三オ
クチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2
−ヒドロキシ−3−第三オクチル−5−アルファ,アル
ファ−ジメチルベンニルフェニル)−2H−ベンゾトリア
ゾール、2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三アミル
フェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−〔2−ヒド
ロキシ−3−第三ブチル−5−(2−(オメガ−ヒドロ
キシ−オクタ−(エチレンオキシ)カルボニル)−エチ
ルフェニル〕−2H−ベンゾトリアゾール、ドデシル化2
−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−2H−ベン
ゾトリアゾール、2−〔2−ヒドロキシ−3−第三ブチ
ル−5−(2−オクチルオキシカルボニル)エチルフェ
ニル〕−2H−ベンゾトリアゾール及び上に挙げたベンゾ
トリアゾールの各々に対応する5−クロロ化合物であ
る。
本組成物において有用なベンゾトリアゾールで最も好
ましいものは2−〔2−ヒドロキシ−3,5−ジ(アルフ
ァノアルファ−ジメチル−ベンジル)フェニル〕−2H−
ベンゾトリアゾール、ドデシル化2−(2−ヒドロキシ
−5−メチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2
−〔2−ヒドロキシ−3−第三ブチル−5−(2−(オ
メガ−ヒドロキシ−オクタ−(エチレンオキシ)カルボ
ニル)−エチルフェニル〕−2H−ベンゾトリアゾール、
2−〔2−ヒドロキシ−3−第三ブチル−5−(2−オ
クチルオキシカルボニル)エチルフェニル〕−2H−ベン
ゾトリアゾール及び5−クロロ−2−〔2−ヒドロキシ
−3−第三ブチル−5−(2−オクチルオキシカルボニ
ル)エチルフェニル〕−2H−ベンゾトリアゾールであ
る。
ましいものは2−〔2−ヒドロキシ−3,5−ジ(アルフ
ァノアルファ−ジメチル−ベンジル)フェニル〕−2H−
ベンゾトリアゾール、ドデシル化2−(2−ヒドロキシ
−5−メチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2
−〔2−ヒドロキシ−3−第三ブチル−5−(2−(オ
メガ−ヒドロキシ−オクタ−(エチレンオキシ)カルボ
ニル)−エチルフェニル〕−2H−ベンゾトリアゾール、
2−〔2−ヒドロキシ−3−第三ブチル−5−(2−オ
クチルオキシカルボニル)エチルフェニル〕−2H−ベン
ゾトリアゾール及び5−クロロ−2−〔2−ヒドロキシ
−3−第三ブチル−5−(2−オクチルオキシカルボニ
ル)エチルフェニル〕−2H−ベンゾトリアゾールであ
る。
本化合物がポリオレフィン繊維、特にポリプロピレン
繊維のための安定剤として特に有効なことも期待され
る。
繊維のための安定剤として特に有効なことも期待され
る。
本発明の好ましい実施態様は、 (a)熱架橋結合性アクリル、ポリエステルまたはアル
キッド樹脂をベースとする酸触媒熱硬化塗料またはエナ
メル、 (b)式IまたはIIで表わされる化合物、及び (c)ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、アクリル
酸誘導体、有機ニッケル化合物、アリール−s−トリア
ジン及びオキサニリドから成る群から選ばれた紫外線吸
収剤から成る安定化組成物に関するものである。
キッド樹脂をベースとする酸触媒熱硬化塗料またはエナ
メル、 (b)式IまたはIIで表わされる化合物、及び (c)ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、アクリル
酸誘導体、有機ニッケル化合物、アリール−s−トリア
ジン及びオキサニリドから成る群から選ばれた紫外線吸
収剤から成る安定化組成物に関するものである。
そのほか、エナメルまたは塗料が含有することのでき
る成分は酸化防止剤、例えば立体障害フェノール誘導体
の酸化防止剤、燐化合物、例えばホスフィット、ホスフ
ィンまたはホスホニット、可塑剤、レベリング補助剤、
硬化触媒、増粘剤、分散剤または接着促進剤である。
る成分は酸化防止剤、例えば立体障害フェノール誘導体
の酸化防止剤、燐化合物、例えばホスフィット、ホスフ
ィンまたはホスホニット、可塑剤、レベリング補助剤、
硬化触媒、増粘剤、分散剤または接着促進剤である。
本発明の他の好ましい態様は付加的に成分(d)とし
てホスフィットまたはホスホニットを含有する上記の成
分(a),(b)及び(c)を含有する安定化組成物で
ある。
てホスフィットまたはホスホニットを含有する上記の成
分(a),(b)及び(c)を含有する安定化組成物で
ある。
本発明組成物において用いられるホスフィットまたは
ホスホニット(d)の量は、フィルム形成樹脂を基準と
して0.05ないし2重量%、好ましくは0.1ないし1重量
%である。二段塗装系においてはこれらの安定剤を透明
塗料及び/または下塗塗料に加えることができる。
ホスホニット(d)の量は、フィルム形成樹脂を基準と
して0.05ないし2重量%、好ましくは0.1ないし1重量
%である。二段塗装系においてはこれらの安定剤を透明
塗料及び/または下塗塗料に加えることができる。
代表的なホスフィット及びホスホニットはトリフェニ
ルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フ
ェニルジアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホ
スフィット、トリ−(ノニルフェニル)ホスフィット、
トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィ
ット、ジ−ステアリル−ペンタエリスリトールジホスフ
ィット、トリス−(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)ホ
スフィット、ジイソデシルペンタエリスリトールジホス
フィット、トリステアリル−ソルビトールトリホスフィ
ット、テトラキス−(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)
−4,4′−ジフェニレンジホスホニットを包含する。
ルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フ
ェニルジアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホ
スフィット、トリ−(ノニルフェニル)ホスフィット、
トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィ
ット、ジ−ステアリル−ペンタエリスリトールジホスフ
ィット、トリス−(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)ホ
スフィット、ジイソデシルペンタエリスリトールジホス
フィット、トリステアリル−ソルビトールトリホスフィ
ット、テトラキス−(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)
−4,4′−ジフェニレンジホスホニットを包含する。
安定剤は硬化エナメルに、20°光沢、映像の鮮明度、
亀裂またはチョーキングによって測られるような耐久性
をより高度に保全するために必要とされる;安定剤は、
121℃での自動車の仕上塗料の通常の焼付けや、82℃で
の低温焼付け修理において、硬度、接着力、耐溶媒性及
び耐湿性により測られるような硬化を遅らせてはなら
ず、硬化の際にエナメルが黄変してはならず、そしてさ
らに露光による変色が最少限でなければならない;安定
剤は通常、塗装で用いられる有機溶媒、例えば、メチル
アミルケトン、キシレン、n−ヘキシルアセテート、ア
ルコールその他類似のものに溶解しなければならない。
亀裂またはチョーキングによって測られるような耐久性
をより高度に保全するために必要とされる;安定剤は、
121℃での自動車の仕上塗料の通常の焼付けや、82℃で
の低温焼付け修理において、硬度、接着力、耐溶媒性及
び耐湿性により測られるような硬化を遅らせてはなら
ず、硬化の際にエナメルが黄変してはならず、そしてさ
らに露光による変色が最少限でなければならない;安定
剤は通常、塗装で用いられる有機溶媒、例えば、メチル
アミルケトン、キシレン、n−ヘキシルアセテート、ア
ルコールその他類似のものに溶解しなければならない。
O−置換成分によりN−原子の上で置換されている本
発明の封鎖アミン光安定剤はこれらの要求の各々を満た
し、単独で、または紫外線吸収剤と組合せて、硬化した
酸触媒熱硬化エナメルに著しい光安定化保護効果を与え
る。
発明の封鎖アミン光安定剤はこれらの要求の各々を満た
し、単独で、または紫外線吸収剤と組合せて、硬化した
酸触媒熱硬化エナメルに著しい光安定化保護効果を与え
る。
本発明安定剤についての、なお別の好ましい組合せは
ガス退色からポリプロピレン繊維を保護するためのヒド
ロキシルアミンとの組合せである。
ガス退色からポリプロピレン繊維を保護するためのヒド
ロキシルアミンとの組合せである。
(実施例及び発明の効果) 下記の実施例は、単に説明の目的のために提供される
ものであって、何等、本発明の性質または範囲を制限す
るものではない。
ものであって、何等、本発明の性質または範囲を制限す
るものではない。
実施例1A 4−ベンゾイルオキシ−1−(2−シクロヘ
キセン−1−イルオキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン 4−ベンゾイルオキシ−1−オキシル−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン33.6g(122ミリモル)、ジ−第三
ブチルパーオキシド23.0g(157ミリモル)及びシクロヘ
キサン70mlの溶液を、フィッシャーポーター耐圧壜にお
いて、138℃で6.5時間加熱する。反応混合物をシリカゲ
ル(200:1ヘプタン:エチルアセテート)上でフラッシ
ュ クロマトグラフィにより精製し、表題の化合物35.1
g(81%収率)を無色の油状物として得る。
キセン−1−イルオキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン 4−ベンゾイルオキシ−1−オキシル−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン33.6g(122ミリモル)、ジ−第三
ブチルパーオキシド23.0g(157ミリモル)及びシクロヘ
キサン70mlの溶液を、フィッシャーポーター耐圧壜にお
いて、138℃で6.5時間加熱する。反応混合物をシリカゲ
ル(200:1ヘプタン:エチルアセテート)上でフラッシ
ュ クロマトグラフィにより精製し、表題の化合物35.1
g(81%収率)を無色の油状物として得る。
分析値: 計算値(C22H31NO3):C,73.9;H,8.7;N,3.9. 実測値:C,73.7;H,8.8;N,3.9。
実施例1B 1,4−ビス(4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン−1−イルオキシ)−2−シ
クロヘキセン 実施例1Aで製造された化合物43.6g(122ミリモル)、
4−ベンゾイルオキシ−1−オキシル−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン40.5g(147ミリモル)、ジ−第三ブ
チルパーオキシド17.8g(122ミリモル)及び1,2−ジク
ロロベンゼン50mlの混合物をフィッシャーポーター耐圧
壜において135℃で5.5時間加熱する。粗反応混合物をシ
リカゲル(ヘキサン;次に100:3ヘプタン:エチルアセ
テート)上でフラッシュ クロマトグラフィにより精製
し、表題の化合物4.0gを融点140〜142℃の白色固体とし
て得る。
−テトラメチルピペリジン−1−イルオキシ)−2−シ
クロヘキセン 実施例1Aで製造された化合物43.6g(122ミリモル)、
4−ベンゾイルオキシ−1−オキシル−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン40.5g(147ミリモル)、ジ−第三ブ
チルパーオキシド17.8g(122ミリモル)及び1,2−ジク
ロロベンゼン50mlの混合物をフィッシャーポーター耐圧
壜において135℃で5.5時間加熱する。粗反応混合物をシ
リカゲル(ヘキサン;次に100:3ヘプタン:エチルアセ
テート)上でフラッシュ クロマトグラフィにより精製
し、表題の化合物4.0gを融点140〜142℃の白色固体とし
て得る。
分析値: 計算値(C38H52N2O6):C,72.1;H,8.3;N,4.4. 実測値:C,72.0;H,8.5;N,4.3. 実施例2 1,4−ビス(4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン−1−イルオキシ)−シクロ
ヘキサン 実施例1Bで製造した1,4−ビス(4−ベンゾイルオキ
シ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−イルオキ
シ)−2−シクロヘキサンの接触的水素化によって表題
の化合物を得る。
−テトラメチルピペリジン−1−イルオキシ)−シクロ
ヘキサン 実施例1Bで製造した1,4−ビス(4−ベンゾイルオキ
シ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−イルオキ
シ)−2−シクロヘキサンの接触的水素化によって表題
の化合物を得る。
実施例3 ビス(4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−1−イルオキシ)オクタン 4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン55.3g(0.2モル)、三酸化モリブデン2.8g及びn
−オクタン250mlの混合物を120℃に加熱する。第三ブチ
ルヒドロパーオキシドの70%水溶液90.2g(0.7モル)を
熱反応混合物に滴下する。共沸蒸溜によって水分を除
き、ジーン−スタルク(Dean-Stark)トラップに集め
る。中間物のN−オキシル化合物の赤色が消失するまで
反応混合物を還流加熱する。過によって固形物を除
き、液を真空濃縮して油状物を得る。シリカゲル(10
0:3ヘプタン:エチルアセテート)上のフラッシュクロ
マトグラフィにより油状物を精製し、4−ベンゾイルオ
キシ−4−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジンをオクチルオキシ異性体の混合物として得る。
さらに50:3ヘプタン:エチルアセテートによりクロマト
グラフィカラムを溶離し、表題の化合物をオクタンジイ
ル異性体の混合物として得る。
トラメチルピペリジン−1−イルオキシ)オクタン 4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン55.3g(0.2モル)、三酸化モリブデン2.8g及びn
−オクタン250mlの混合物を120℃に加熱する。第三ブチ
ルヒドロパーオキシドの70%水溶液90.2g(0.7モル)を
熱反応混合物に滴下する。共沸蒸溜によって水分を除
き、ジーン−スタルク(Dean-Stark)トラップに集め
る。中間物のN−オキシル化合物の赤色が消失するまで
反応混合物を還流加熱する。過によって固形物を除
き、液を真空濃縮して油状物を得る。シリカゲル(10
0:3ヘプタン:エチルアセテート)上のフラッシュクロ
マトグラフィにより油状物を精製し、4−ベンゾイルオ
キシ−4−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジンをオクチルオキシ異性体の混合物として得る。
さらに50:3ヘプタン:エチルアセテートによりクロマト
グラフィカラムを溶離し、表題の化合物をオクタンジイ
ル異性体の混合物として得る。
実施例4 ビス(4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−1−イルオキシ)オクタン 実施例3で製造された化合物の塩基性加水分解(エタ
ノール中の水酸化カリウム)により表題の化合物を製造
する。
チルピペリジン−1−イルオキシ)オクタン 実施例3で製造された化合物の塩基性加水分解(エタ
ノール中の水酸化カリウム)により表題の化合物を製造
する。
実施例5 1,8−ビス(4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン−1−イルオキシ)オクタン この反応は窒素気流中で行なわれる。4−ベンゾイル
オキシ−1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン66.5g(241ミリモル)、1,8−ジイオドオクタン20.
1g(54.9ミリモル)及びクロロベンゼン160mlの溶液に
トリブチル錫水素化物32.1g(110ミリモル)を3時間か
けて滴下する。トリブチル錫水素化物の添加を始める前
に溶液を10℃に予備冷却する。滴下中、反応混合物を20
℃以下に保ち、そして次に室温で17時間攪拌する。赤色
の反応混合物をシリカゲル(ヘプタン、次に100:3ヘプ
タン:エチルアセテート)のカラムに通す。所望の製品
を含有している部分を濃縮し、26.5gの粗製固形物を得
る。粗製固形物の溶液をアンモニア水で洗浄することに
よりトリブチル錫沃化物を除く。フラッシュ クロマト
グラフィ(20:1ヘプタン:エチルアセテート)による最
後の精製で標記の化合物10.6gを融点106-108℃の白色固
体として得る。実施例3で製造した化合物と対照的に表
題の化合物はたゞ一種のオクタンジイル異性体から成っ
ている。
−テトラメチルピペリジン−1−イルオキシ)オクタン この反応は窒素気流中で行なわれる。4−ベンゾイル
オキシ−1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン66.5g(241ミリモル)、1,8−ジイオドオクタン20.
1g(54.9ミリモル)及びクロロベンゼン160mlの溶液に
トリブチル錫水素化物32.1g(110ミリモル)を3時間か
けて滴下する。トリブチル錫水素化物の添加を始める前
に溶液を10℃に予備冷却する。滴下中、反応混合物を20
℃以下に保ち、そして次に室温で17時間攪拌する。赤色
の反応混合物をシリカゲル(ヘプタン、次に100:3ヘプ
タン:エチルアセテート)のカラムに通す。所望の製品
を含有している部分を濃縮し、26.5gの粗製固形物を得
る。粗製固形物の溶液をアンモニア水で洗浄することに
よりトリブチル錫沃化物を除く。フラッシュ クロマト
グラフィ(20:1ヘプタン:エチルアセテート)による最
後の精製で標記の化合物10.6gを融点106-108℃の白色固
体として得る。実施例3で製造した化合物と対照的に表
題の化合物はたゞ一種のオクタンジイル異性体から成っ
ている。
分析値: 計算値(C40H60N2O6):C,72.3;H,9.1;N,4.2. 実測値:C,72.4;H,9.4;N,4.0. 実施例6A ビス(4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−1−イルオキシ)−ヘプタン ヘプタンジイル異性体の混合物からなる表題の化合物
を実施例3の手続きに従い、オクタンをヘプタンに置換
えることによって製造する。
トラメチルピペリジン−1−イルオキシ)−ヘプタン ヘプタンジイル異性体の混合物からなる表題の化合物
を実施例3の手続きに従い、オクタンをヘプタンに置換
えることによって製造する。
実施例6B ビス(4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−1−イルオキシ)ヘプタン 実施例6Aで製造した化合物の塩基性加水分解(エタノ
ール中の水酸化カリウム)により表題の化合物を製造す
る。
チルピペリジン−1−イルオキシ)ヘプタン 実施例6Aで製造した化合物の塩基性加水分解(エタノ
ール中の水酸化カリウム)により表題の化合物を製造す
る。
実施例7A ビス(4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−1−イルオキシ)−シクロヘキ
サン シクロヘキサンジイル異性体の混合物から成る表題の
化合物を、実施例3の手続きに従い、オクタンをシクロ
ヘキサンに置換えることによって製造する。
トラメチルピペリジン−1−イルオキシ)−シクロヘキ
サン シクロヘキサンジイル異性体の混合物から成る表題の
化合物を、実施例3の手続きに従い、オクタンをシクロ
ヘキサンに置換えることによって製造する。
実施例7B ビス(4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−1−イルオキシ)シクロヘキサン 実施例7Aで製造した化合物の塩基性加水分解(エタノ
ール中の水酸化カリウム)により表題の化合物を製造す
る。
チルピペリジン−1−イルオキシ)シクロヘキサン 実施例7Aで製造した化合物の塩基性加水分解(エタノ
ール中の水酸化カリウム)により表題の化合物を製造す
る。
実施例8 ビス〔4−(ドデシルサクシンイミド−1−
イル)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−イル
オキシ〕オクタン オクタンジイル異性体の混合物から成る表題の化合物
を、実施例3の手続きに従い、4−ベンゾイルオキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジンを4−(3−ドデシ
ルサクシンイミド−1−イル)−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジンに置換えることによって製造する。
イル)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−イル
オキシ〕オクタン オクタンジイル異性体の混合物から成る表題の化合物
を、実施例3の手続きに従い、4−ベンゾイルオキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジンを4−(3−ドデシ
ルサクシンイミド−1−イル)−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジンに置換えることによって製造する。
実施例9 オクタンジイルビス〔N−(2−エトキシカ
ルボニルメトキシ)フェニル〕−N′−(1−オキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)オササ
ミド〕 コクタンジイル異性体の混合物である表題の化合物
を、実施例3の手続きに従い、4−ベンゾイル−オキシ
−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンをN−〔2−(エ
トキシカルボニルメトキシ)フェニル〕−N′−(2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)オキサミド
に置換えることによって製造する。
ルボニルメトキシ)フェニル〕−N′−(1−オキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)オササ
ミド〕 コクタンジイル異性体の混合物である表題の化合物
を、実施例3の手続きに従い、4−ベンゾイル−オキシ
−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンをN−〔2−(エ
トキシカルボニルメトキシ)フェニル〕−N′−(2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)オキサミド
に置換えることによって製造する。
実施例10A ビス(4−アセトアミド−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−1−イルオキシ)オクタン オクタンジイル異性体の混合物である表題の化合物
を、実施例3の手続きに従い、4−ベンゾイルオキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジンを4−アセトアミド
−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンに置換えることに
よって製造する。
メチルピペリジン−1−イルオキシ)オクタン オクタンジイル異性体の混合物である表題の化合物
を、実施例3の手続きに従い、4−ベンゾイルオキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジンを4−アセトアミド
−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンに置換えることに
よって製造する。
実施例10B ビス(4−アミノ−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−1−イルオキシ)オクタン 実施例10Aにおいて製造された化合物の酸加水分解(3
N塩酸を用いて還流)によって表題の化合物を製造す
る。
ピペリジン−1−イルオキシ)オクタン 実施例10Aにおいて製造された化合物の酸加水分解(3
N塩酸を用いて還流)によって表題の化合物を製造す
る。
実施例11 オクタンジイルビス(メチル1−オキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イルセバケート オクタンジイル異性体の混合物からなる表題の化合物
を実施例3の手続きに従い、4−ベンゾイルオキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジンをメチル−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−4−イルセバケートに置換える
ことによって製造する。
2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イルセバケート オクタンジイル異性体の混合物からなる表題の化合物
を実施例3の手続きに従い、4−ベンゾイルオキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジンをメチル−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−4−イルセバケートに置換える
ことによって製造する。
実施例12 ビス−及びトリス−(4−ベンゾイルオキシ
−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−イルオキ
シ)オクタデカン 4−ベンゾイルオキシ−1−オキシル−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン80ミリモル、90%第三ブチルヒド
ロパーオキシド250ミリモル、オクタデカン125g及び三
酸化モリブデン5ミリモルの混合物を、N−オキシル化
合物の赤色がこれ以上見えなくなる迄、耐圧壜中で140
℃で加熱する。反応混合物をフラッシュ クロマトグラ
フィにより精製する。
−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−イルオキ
シ)オクタデカン 4−ベンゾイルオキシ−1−オキシル−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン80ミリモル、90%第三ブチルヒド
ロパーオキシド250ミリモル、オクタデカン125g及び三
酸化モリブデン5ミリモルの混合物を、N−オキシル化
合物の赤色がこれ以上見えなくなる迄、耐圧壜中で140
℃で加熱する。反応混合物をフラッシュ クロマトグラ
フィにより精製する。
実施例13 1,4−ビス(4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン−1−イルオキシ)−1,2,3,
4−−テトラヒドロナフタレン 4−ベンゾイルオキシ−1−オキシル−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン80ミリモル、90%第三ブチルヒド
ロパーオキシド300ミルモル、三酸化モリブデン5ミリ
モル及び1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン(テトラリ
ン)80モルの混合物を、N−オキシル出発物質の赤色が
これ以上見えなくなる迄、耐圧壜中で135℃で加熱す
る。精製反応混合物をフラッシュ クロマトグラフイに
より精製し、表題の化合物を得る。
−テトラメチルピペリジン−1−イルオキシ)−1,2,3,
4−−テトラヒドロナフタレン 4−ベンゾイルオキシ−1−オキシル−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン80ミリモル、90%第三ブチルヒド
ロパーオキシド300ミルモル、三酸化モリブデン5ミリ
モル及び1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン(テトラリ
ン)80モルの混合物を、N−オキシル出発物質の赤色が
これ以上見えなくなる迄、耐圧壜中で135℃で加熱す
る。精製反応混合物をフラッシュ クロマトグラフイに
より精製し、表題の化合物を得る。
実施例14 1,4−ビス(4−オクタデカノイルオキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−イルオキシ)
ブタン 1−ヒドロキシ−4−オクタデカノイルオキシ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジンのテトラヒドロフラン溶
液を水素化ナトリウムと反応させ、次に0.5モル当量の
1,4−ジブロモブタンと同応させることによって表題の
化合物を製造する。
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−イルオキシ)
ブタン 1−ヒドロキシ−4−オクタデカノイルオキシ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジンのテトラヒドロフラン溶
液を水素化ナトリウムと反応させ、次に0.5モル当量の
1,4−ジブロモブタンと同応させることによって表題の
化合物を製造する。
実施例15 1,10−ビス(4−ベンジルオキシ−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン−1−イルオキシ)−デカン 実施例5の手続きに従い4−ベンジルオキシ−1−オ
キシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンと1,10−ジ
イオドデカンから表題の化合物を製造する。
−テトラメチルピペリジン−1−イルオキシ)−デカン 実施例5の手続きに従い4−ベンジルオキシ−1−オ
キシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンと1,10−ジ
イオドデカンから表題の化合物を製造する。
実施例16 ビス(4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−1−イルオキシ)−メタン 窒素気流中で反応を行なう。4−ベンゾイルオキシ−
1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン40.0g
(145ミルモル)、沃化メチレン(ジイオドメタン)9.0
g(33.6ミルモル)及びクロロベンゼン75mlの10℃に予
備冷却した溶液に水素化トリブチル錫20.0g(68.7ミル
モル)を2.75時間かけて滴下する。添加中に反応温度が
27℃に達する。添加が完了した後赤色の混合物を室温で
27時間攪拌する。次に反応混合物をシリカゲル(ヘプタ
ン、次に100:3ヘプタン:エチルアセテート)に通す。
所望の製品を含有する部分を濃縮し粗製の固形物を得
る。粗製固形物の溶液をアンモニア水で洗浄することに
より沃化トリブチル錫を除く。シリカゲル(100:3ヘプ
タン:エチルアセテート)でのフラッシュ クロマトグ
ラフィによる最後の精製とその後のヘプタンからの再結
晶化により、表題の化合物4.8gを融点126-127℃の白色
固体として得る。
トラメチルピペリジン−1−イルオキシ)−メタン 窒素気流中で反応を行なう。4−ベンゾイルオキシ−
1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン40.0g
(145ミルモル)、沃化メチレン(ジイオドメタン)9.0
g(33.6ミルモル)及びクロロベンゼン75mlの10℃に予
備冷却した溶液に水素化トリブチル錫20.0g(68.7ミル
モル)を2.75時間かけて滴下する。添加中に反応温度が
27℃に達する。添加が完了した後赤色の混合物を室温で
27時間攪拌する。次に反応混合物をシリカゲル(ヘプタ
ン、次に100:3ヘプタン:エチルアセテート)に通す。
所望の製品を含有する部分を濃縮し粗製の固形物を得
る。粗製固形物の溶液をアンモニア水で洗浄することに
より沃化トリブチル錫を除く。シリカゲル(100:3ヘプ
タン:エチルアセテート)でのフラッシュ クロマトグ
ラフィによる最後の精製とその後のヘプタンからの再結
晶化により、表題の化合物4.8gを融点126-127℃の白色
固体として得る。
分析値: 計算値(C33H46N2O6):C,69.9;H,8.2;N,4.9. 実測値:C,70.0;H,8.2;N,5.0. 実施例17A ビス(4−アセトアミド−2,2,6,6−テトラ
メチルピペラジン−1−イルオキシ)シクロオクタン 実施例10Aの手続きに従い、シクロオクタンジイル異
性体の混合物から成る表題の化合物を4−アセトアミド
−2,2,6,6−テトラメチルピリジンとシクロオクタンか
ら製造する。
メチルピペラジン−1−イルオキシ)シクロオクタン 実施例10Aの手続きに従い、シクロオクタンジイル異
性体の混合物から成る表題の化合物を4−アセトアミド
−2,2,6,6−テトラメチルピリジンとシクロオクタンか
ら製造する。
実施例17B ビス(4−アミノ−2,2,6,6−テトラメチル
ピリジン−1−イルオキシ)シクロオクタン 実施例17Aで製造した化合物の3N塩酸中における還流
下、加水分解により表題の化合物を製造する。
ピリジン−1−イルオキシ)シクロオクタン 実施例17Aで製造した化合物の3N塩酸中における還流
下、加水分解により表題の化合物を製造する。
実施例18 ビス−及びトリス(4−ベンゾイルオキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピリジン−1−イルオキシ)−
デカヒドロナフタレンの混合物 実施例12の手続きに従い、オクタデカンをデカヒドロ
ナフタレン(デカリン)に置換えることにより表題の混
合物を製造する。
2,2,6,6−テトラメチルピリジン−1−イルオキシ)−
デカヒドロナフタレンの混合物 実施例12の手続きに従い、オクタデカンをデカヒドロ
ナフタレン(デカリン)に置換えることにより表題の混
合物を製造する。
実施例19 ビス(4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−1−イルオキシ)−メチルシク
ロヘキサン 実施例3の手続きに従い、メチルシクロヘキサンジイ
ル異性体の混合物から成る表題の化合物を4−ベンゾイ
ル−オキシ−1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジンとメチルシクロヘキサンから製造する。
トラメチルピペリジン−1−イルオキシ)−メチルシク
ロヘキサン 実施例3の手続きに従い、メチルシクロヘキサンジイ
ル異性体の混合物から成る表題の化合物を4−ベンゾイ
ル−オキシ−1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジンとメチルシクロヘキサンから製造する。
実施例20 ビス(4−アクリロイルオキシ−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン−1−イルオキシ)−オクタン 実施例4で製造した化合物とアクリロイルクロリドと
の反応により表題の化合物を製造する。
テトラメチルピペリジン−1−イルオキシ)−オクタン 実施例4で製造した化合物とアクリロイルクロリドと
の反応により表題の化合物を製造する。
実施例21 2,2−ビス(4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン−1−オキシ)−プロパン 実施例16の手続きに従い、表題の化合物を4−ベンゾ
イルオキシ−1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジンと2,2−ジグロモプロパンから製造する。
−テトラメチルピペリジン−1−オキシ)−プロパン 実施例16の手続きに従い、表題の化合物を4−ベンゾ
イルオキシ−1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジンと2,2−ジグロモプロパンから製造する。
実施例22 シクロヘキサンジイル ビス〔(1−シクロ
ヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
4−イル)(1−オキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−4−イル)セバケート〕 ジ−(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イ
ル)セバケート20.0g(41.6ミリモル)、t−ブチルヒ
ドロパーオキシドの70%水溶液43g(334ミリモル)、三
酸化モリブデン1.3g(9.0ミリモル)、及びシクロヘキ
サン125mlの混合物を2.3時間還流加熱する。水分をジー
ン−スタルク トラップに集める。赤色の反応混合物を
冷却し、そしてフィッシャー−ポーター(Fischer-Port
er)壜に移す。フラスコを十分にすゝぐために新しいシ
クロヘキサン25mlを用い、そしてすゝぎ液を耐圧壜に加
える。耐圧壜を140℃の油浴に3時間浸漬し、無色の反
応混合物を室温に冷却して過する。液を水90ml中の
硫化ナトリウム10gと共に2時間攪拌し、未反応のヒド
ロパーオキシドを分解し、次にエチルアセテート200ml
と水100mlにより稀釈する。有機相を10%硫化ナトリウ
ム水溶液100ml、水100ml、飽和食塩水100mlで洗滌し、
次に硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして減圧濃縮す
る。フラッシュ クロマトグラフィ(シリカゲル、50:1
ヘプタン:エチルアセテート)により粗製物を精製しジ
−(1−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン−4−)セバケート17.8g(63%収率)を
融点56-9℃の白色固体として得る。次に10:1ヘプタン:
エチルアセテートによりカラムを溶離し、表題の化合物
をシクロヘキサンジイル異性体の混合物として得る。
ヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
4−イル)(1−オキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−4−イル)セバケート〕 ジ−(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イ
ル)セバケート20.0g(41.6ミリモル)、t−ブチルヒ
ドロパーオキシドの70%水溶液43g(334ミリモル)、三
酸化モリブデン1.3g(9.0ミリモル)、及びシクロヘキ
サン125mlの混合物を2.3時間還流加熱する。水分をジー
ン−スタルク トラップに集める。赤色の反応混合物を
冷却し、そしてフィッシャー−ポーター(Fischer-Port
er)壜に移す。フラスコを十分にすゝぐために新しいシ
クロヘキサン25mlを用い、そしてすゝぎ液を耐圧壜に加
える。耐圧壜を140℃の油浴に3時間浸漬し、無色の反
応混合物を室温に冷却して過する。液を水90ml中の
硫化ナトリウム10gと共に2時間攪拌し、未反応のヒド
ロパーオキシドを分解し、次にエチルアセテート200ml
と水100mlにより稀釈する。有機相を10%硫化ナトリウ
ム水溶液100ml、水100ml、飽和食塩水100mlで洗滌し、
次に硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして減圧濃縮す
る。フラッシュ クロマトグラフィ(シリカゲル、50:1
ヘプタン:エチルアセテート)により粗製物を精製しジ
−(1−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン−4−)セバケート17.8g(63%収率)を
融点56-9℃の白色固体として得る。次に10:1ヘプタン:
エチルアセテートによりカラムを溶離し、表題の化合物
をシクロヘキサンジイル異性体の混合物として得る。
実施例23 ヘプタンジイル ビス〔(1−ヘプチルオキ
シ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)
(1−オキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4
−イル)セバケート〕 ジ−(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イ
ル)セバケート35.0g(72.8ミルモル)、t−ブチルヒ
ドロパーオキシド90%水溶液58.3g(582ミルモル)、三
酸化モリブデン2.0g及びヘプタン250mlの混合物をフィ
ッシャー−ポーター壜中で140℃で加熱する。時折りの
排気により圧力を40-50psiに維持する。7時間後に加熱
を中断する。t−ブチルヒドロパーオキシド90%水溶液
20.0gを追加して反応混合物を140℃で1時間加熱する。
この時迄に反応混合物は無色に近くなる。反応混合物を
冷却して過して触媒を除く。有機相を分離し、硫酸マ
グネシウム上で乾燥し、そして全容100mlに濃縮する。
溶液をシリカゲルに通し、ヘプタンで溶離する。溶液を
蒸発し、ジ−(1−ヘプチルオキシ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−4−イル)セバケート36.9g(72%
収率)を無色に近い油状物として得る。次に10:1ヘプタ
ン:エチルアセテートによるカラムの溶離により、表題
の化合物をヘプタンジイル異性体の混合物として得る。
シ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)
(1−オキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4
−イル)セバケート〕 ジ−(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イ
ル)セバケート35.0g(72.8ミルモル)、t−ブチルヒ
ドロパーオキシド90%水溶液58.3g(582ミルモル)、三
酸化モリブデン2.0g及びヘプタン250mlの混合物をフィ
ッシャー−ポーター壜中で140℃で加熱する。時折りの
排気により圧力を40-50psiに維持する。7時間後に加熱
を中断する。t−ブチルヒドロパーオキシド90%水溶液
20.0gを追加して反応混合物を140℃で1時間加熱する。
この時迄に反応混合物は無色に近くなる。反応混合物を
冷却して過して触媒を除く。有機相を分離し、硫酸マ
グネシウム上で乾燥し、そして全容100mlに濃縮する。
溶液をシリカゲルに通し、ヘプタンで溶離する。溶液を
蒸発し、ジ−(1−ヘプチルオキシ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−4−イル)セバケート36.9g(72%
収率)を無色に近い油状物として得る。次に10:1ヘプタ
ン:エチルアセテートによるカラムの溶離により、表題
の化合物をヘプタンジイル異性体の混合物として得る。
実施例24 オクタンジイル ビス〔(1−オクチルオキ
シ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)
(1−オキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4
−イル)セバケート〕 ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イ
ル)セバケート75.4g(0.157モル)、三酸化モリブデン
1.25g(8.7ミリモル)及び115℃に加熱されたn−オク
タン570mlの混合物にt−ブチルヒドロパーオキシド70
%水溶液140g(1.09モル)を、窒素気流中で6時間かけ
て加える。添加の間に反応混合物の還流をつゞける。水
分をジーン−スタルク トラップに集める。添加完了
後、赤色の反応混合物を7時間還流(95-97℃)加熱
し、赤色を抜く。過によって三酸化モリブデンを除
く。黄色の液を活性炭(DARCO)15gと共に室温で30分
間攪拌し、黄色の一部を除き、そして次に減圧濃縮す
る。粗製品をシリカゲル(100:3ヘプタン:エチルアセ
テート)上でフラッシュ クロマトグフラフィにより精
製し、ジ(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン−4−イル)セバケート92.9g(80%収
率)を無色の油状物として得る。次に10:1ヘプタン:エ
チルアセテートによりカラムを溶離し、表題の化合物を
オクタンジイル異性体の混合物として得る。
シ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)
(1−オキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4
−イル)セバケート〕 ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イ
ル)セバケート75.4g(0.157モル)、三酸化モリブデン
1.25g(8.7ミリモル)及び115℃に加熱されたn−オク
タン570mlの混合物にt−ブチルヒドロパーオキシド70
%水溶液140g(1.09モル)を、窒素気流中で6時間かけ
て加える。添加の間に反応混合物の還流をつゞける。水
分をジーン−スタルク トラップに集める。添加完了
後、赤色の反応混合物を7時間還流(95-97℃)加熱
し、赤色を抜く。過によって三酸化モリブデンを除
く。黄色の液を活性炭(DARCO)15gと共に室温で30分
間攪拌し、黄色の一部を除き、そして次に減圧濃縮す
る。粗製品をシリカゲル(100:3ヘプタン:エチルアセ
テート)上でフラッシュ クロマトグフラフィにより精
製し、ジ(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン−4−イル)セバケート92.9g(80%収
率)を無色の油状物として得る。次に10:1ヘプタン:エ
チルアセテートによりカラムを溶離し、表題の化合物を
オクタンジイル異性体の混合物として得る。
分析値: 計算値(C80H150N4O12):C,70.7;H,11.1;N,4.1. 実測値:C,69.8;H,11.5;N,4.1. 実施例25 シクロヘキサンジイル ビス〔(1−シクロ
ヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジニル
−4−イル)(1−オキシ−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン−4−イル)サクシネート〕 第三ブチルヒドロパーオキシド70%水溶液103.9g(80
7ミリモル)シクロヘキサン(200ml)及び塩化ナトリウ
ム15gの2相混合物を分液漏斗中で振盪する。有機相を
硫酸マグネシウム上で乾燥し、過してビス(2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン−4−イル)サクシネート40
g(101ミリモル)に加える。三酸化モリブデン2.0gを加
えて、混合物を1時間還流加熱する。水分をジーン−ス
タルク トラップに集める。次に全反応混合物をフィッ
シャー−ポーター耐圧壜に移して140℃で6時間加熱す
る。追加の第三ブチルヒドロパーオキシド90%水溶液1
0.1g(101ミリモル)を加えて、さらに1時間加熱を続
ける。無色の反応混合物を過、濃縮してヘプタン200m
lは溶解する。ヘプタン溶液を溶離液としてのヘプタン
とともにシリカゲルのカラムに通し、ビス(1−シクロ
ヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
4−イル)サクシネート41.2g(69%収率)を融点122〜
126℃の白色固体として得る。さらにカラムを10:1ヘプ
タン:エチルアセテートにより溶離すると表題の化合物
をシクロヘキサンジイル異性体の混合物として得る。
ヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジニル
−4−イル)(1−オキシ−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン−4−イル)サクシネート〕 第三ブチルヒドロパーオキシド70%水溶液103.9g(80
7ミリモル)シクロヘキサン(200ml)及び塩化ナトリウ
ム15gの2相混合物を分液漏斗中で振盪する。有機相を
硫酸マグネシウム上で乾燥し、過してビス(2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン−4−イル)サクシネート40
g(101ミリモル)に加える。三酸化モリブデン2.0gを加
えて、混合物を1時間還流加熱する。水分をジーン−ス
タルク トラップに集める。次に全反応混合物をフィッ
シャー−ポーター耐圧壜に移して140℃で6時間加熱す
る。追加の第三ブチルヒドロパーオキシド90%水溶液1
0.1g(101ミリモル)を加えて、さらに1時間加熱を続
ける。無色の反応混合物を過、濃縮してヘプタン200m
lは溶解する。ヘプタン溶液を溶離液としてのヘプタン
とともにシリカゲルのカラムに通し、ビス(1−シクロ
ヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
4−イル)サクシネート41.2g(69%収率)を融点122〜
126℃の白色固体として得る。さらにカラムを10:1ヘプ
タン:エチルアセテートにより溶離すると表題の化合物
をシクロヘキサンジイル異性体の混合物として得る。
実施例26 ビス(1−オキシ−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−4−イル)セバケート及びオクタンジイル
のオリゴマー n−オクタン200mlを用いて実施例24の手続きを繰返
すと、2ないし5個のビス(1−オキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−4−イル)セバケート成分を含
有するオリゴマーの混合物を得る。
ピペリジン−4−イル)セバケート及びオクタンジイル
のオリゴマー n−オクタン200mlを用いて実施例24の手続きを繰返
すと、2ないし5個のビス(1−オキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−4−イル)セバケート成分を含
有するオリゴマーの混合物を得る。
実施例27 ビス(1−オキシ−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−4−イル)セバケート及びヘプタンジイル
のオリゴマー ヘプタン80mlを用いて実施例23の手続きを繰返すと、
2ないし5個のビス(1−オキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−4−イル)セバケート成分を含有する
オリゴマーの混合物を得る。
ピペリジン−4−イル)セバケート及びヘプタンジイル
のオリゴマー ヘプタン80mlを用いて実施例23の手続きを繰返すと、
2ないし5個のビス(1−オキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−4−イル)セバケート成分を含有する
オリゴマーの混合物を得る。
実施例28 ビス(1−オキシ−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−4−イル)セバケート及びヘプタンジイル
のオリゴマー シクロヘキサン40mlを用いて実施例22の手続きを繰返
すと、2ないし5個のビス(1−オキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−4−イル)セバケート成分を含
有するオリゴマーの混合物を得る。
ピペリジン−4−イル)セバケート及びヘプタンジイル
のオリゴマー シクロヘキサン40mlを用いて実施例22の手続きを繰返
すと、2ないし5個のビス(1−オキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−4−イル)セバケート成分を含
有するオリゴマーの混合物を得る。
実施例29 ビス(1−オキシ−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−4−イル)サクシネート及びシクロヘキサ
ンジイルのオリゴマー シクロヘキサン75mlを用いて実施例25の手続きを繰返
すと、2ないし5個のビス(1−オキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−4−イル)サクシネート成分を
含有するオロゴマーの混合物を得る。
ピペリジン−4−イル)サクシネート及びシクロヘキサ
ンジイルのオリゴマー シクロヘキサン75mlを用いて実施例25の手続きを繰返
すと、2ないし5個のビス(1−オキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−4−イル)サクシネート成分を
含有するオロゴマーの混合物を得る。
実施例30 シクロヘキサンジイル ビス〔N,N′−ジブ
チル−N−(1−シクロヘキシルオキシ2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−4−イル)−N′−(1−オキシ
−2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジン−ピペリジン−
4−イル)オキサミド〕 実施例25の手続きに従い、ビス(2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−4−イル)サクシネートをN,N′−ジ
ブチル−N,N′−ジ(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−4−イル)オキサミドに置換えることにより表題の化
合物を製造する。
チル−N−(1−シクロヘキシルオキシ2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−4−イル)−N′−(1−オキシ
−2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジン−ピペリジン−
4−イル)オキサミド〕 実施例25の手続きに従い、ビス(2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−4−イル)サクシネートをN,N′−ジ
ブチル−N,N′−ジ(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−4−イル)オキサミドに置換えることにより表題の化
合物を製造する。
実施例31 ビス〔2−((1−オキシ−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−4−イル)アミノカルボニル)メ
トキシ〕オキサニリド及びオクタンジイルのオリゴマー 実施例26の手続きに従い、ビス(2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−4−イル)セバケートをビス〔2−
((2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)ア
ミノカルボニル)メトキシ〕オキサニリドに置換えるこ
とによりオリゴマーの混合物を得る。
ラメチルピペリジン−4−イル)アミノカルボニル)メ
トキシ〕オキサニリド及びオクタンジイルのオリゴマー 実施例26の手続きに従い、ビス(2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−4−イル)セバケートをビス〔2−
((2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)ア
ミノカルボニル)メトキシ〕オキサニリドに置換えるこ
とによりオリゴマーの混合物を得る。
実施例32 3,15−ジイルビス(オキシ)−2,2,4,4,14,1
4,16,16−オクタメチル−7,11,18,21−テトラオキサ−
3,15−ジアザトリスピロ〔5.2.2.5.2〕−ヘネイコサン
のオリゴマー及び1,4−ブタンジイル テトラヒドロフラン中、3,15−ジイル−ビス(ヒドロ
キシ)−2,2,4,4,14,14,16,16−オクタメチル−7,11,1
8,21−テトラオキサ−3,15−ジアザトリスピロ〔5.2.2.
5。2.2〕ヘネイコサン100ミリモルの溶液に過剰の水素
化ナトリウムを加える。この溶液にテトラヒドロフラン
中、1,4−ジイオドブタン125モルの溶液を滴下する。ア
ルキル化反応が完了した後、末端N−(4−イオドブチ
ルオキシ)残留物を減少させるために、反応混合物をト
リブチル錫水素化物と触媒量の2,2′−アゾビス(2−
メチル−プロピオニトリル)によって処理する。
4,16,16−オクタメチル−7,11,18,21−テトラオキサ−
3,15−ジアザトリスピロ〔5.2.2.5.2〕−ヘネイコサン
のオリゴマー及び1,4−ブタンジイル テトラヒドロフラン中、3,15−ジイル−ビス(ヒドロ
キシ)−2,2,4,4,14,14,16,16−オクタメチル−7,11,1
8,21−テトラオキサ−3,15−ジアザトリスピロ〔5.2.2.
5。2.2〕ヘネイコサン100ミリモルの溶液に過剰の水素
化ナトリウムを加える。この溶液にテトラヒドロフラン
中、1,4−ジイオドブタン125モルの溶液を滴下する。ア
ルキル化反応が完了した後、末端N−(4−イオドブチ
ルオキシ)残留物を減少させるために、反応混合物をト
リブチル錫水素化物と触媒量の2,2′−アゾビス(2−
メチル−プロピオニトリル)によって処理する。
実施例33 ビス(1−オキシ−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−4−イル)イソフタレートのオリゴマー及
び1,8−オクタンジイル クロロベンゼン中、ビス(1−オキシル−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン−4−イル)イソフタレート17
5ミリモル及び1,8−ジイオドオクタン100ミリモルの溶
液にトリブチル水素化物200ミリモルを滴下する。粗製
反応混合物を、溶媒を除くための溶離液としてのヘキサ
ンと共にシリカゲルのカラムに通す。さらにヘキサン:
エチルアセテートにより溶離して、オリゴマーの混合物
としての製品を得る。
ピペリジン−4−イル)イソフタレートのオリゴマー及
び1,8−オクタンジイル クロロベンゼン中、ビス(1−オキシル−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン−4−イル)イソフタレート17
5ミリモル及び1,8−ジイオドオクタン100ミリモルの溶
液にトリブチル水素化物200ミリモルを滴下する。粗製
反応混合物を、溶媒を除くための溶離液としてのヘキサ
ンと共にシリカゲルのカラムに通す。さらにヘキサン:
エチルアセテートにより溶離して、オリゴマーの混合物
としての製品を得る。
実施例34A 1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン−4−イル 1−オキシル−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−4−イル セバケート 第三ブチルヒドロパーオキシドの70%水溶液80.0g
(0.621モル)を、あらかじめ125℃に加熱されたビス
(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)セバ
ケート60.4g(0.125モル)三酸化モリブデン1.8g及びn
−オクタン620mlの混合物に窒素気流中で5時間かけて
加える。添加中は、反応混合物の還流をつゞける。水分
をジーン−スタルク トラップに集める。添加が完了し
た後、2時間、赤色の反応混合物を加熱還流する。固形
物を過によって除き、赤色の液を減圧濃縮する。濃
縮液をシリカゲル(20:1次に10:1ヘプタン:エチルアセ
テート)上のフラッシュクロマトグラフィにより精製
し、表題の化合物26.4gを赤色油状物として得る。
ルピペリジン−4−イル 1−オキシル−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−4−イル セバケート 第三ブチルヒドロパーオキシドの70%水溶液80.0g
(0.621モル)を、あらかじめ125℃に加熱されたビス
(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)セバ
ケート60.4g(0.125モル)三酸化モリブデン1.8g及びn
−オクタン620mlの混合物に窒素気流中で5時間かけて
加える。添加中は、反応混合物の還流をつゞける。水分
をジーン−スタルク トラップに集める。添加が完了し
た後、2時間、赤色の反応混合物を加熱還流する。固形
物を過によって除き、赤色の液を減圧濃縮する。濃
縮液をシリカゲル(20:1次に10:1ヘプタン:エチルアセ
テート)上のフラッシュクロマトグラフィにより精製
し、表題の化合物26.4gを赤色油状物として得る。
実施例34B 1,8−オクタンジイルビス〔(1−オクチル
オキシ2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)
(1−オキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4
−イル)セバケート〕 実施例34Aで生成した化合物26.4g(42.1モル)、1,8
−ジイオドオクタン3.6g(9.8ミリモル)及びクロロベ
ンゼン50mlから成る溶液を窒素気流中で10℃に冷却す
る。トリブチル錫水素化物7.0g(24.1ミリモル)を冷却
した溶液に45分かけて滴下する。次に反応混合物を室温
で16時間攪拌し、そして最後にシリカゲルのカラムに注
ぐ。ヘプタン、100:3ヘプタン:エチルアセテート、そ
して50:3ヘプタン:エチルアセテートにより、カラムを
連続的に溶離する。粗生成物を含有する部分を合併して
蒸発すると油状物を得、トリブチル錫沃化物を除くため
にアンモニア水で洗浄する。シリカゲル(50:3ヘプタ
ン:エチレンアセテート)上でのフラッシュクロマトグ
ラフィによる最後の精製により表題の化合物3.0gを無色
の油状物として得る。
オキシ2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)
(1−オキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4
−イル)セバケート〕 実施例34Aで生成した化合物26.4g(42.1モル)、1,8
−ジイオドオクタン3.6g(9.8ミリモル)及びクロロベ
ンゼン50mlから成る溶液を窒素気流中で10℃に冷却す
る。トリブチル錫水素化物7.0g(24.1ミリモル)を冷却
した溶液に45分かけて滴下する。次に反応混合物を室温
で16時間攪拌し、そして最後にシリカゲルのカラムに注
ぐ。ヘプタン、100:3ヘプタン:エチルアセテート、そ
して50:3ヘプタン:エチルアセテートにより、カラムを
連続的に溶離する。粗生成物を含有する部分を合併して
蒸発すると油状物を得、トリブチル錫沃化物を除くため
にアンモニア水で洗浄する。シリカゲル(50:3ヘプタ
ン:エチレンアセテート)上でのフラッシュクロマトグ
ラフィによる最後の精製により表題の化合物3.0gを無色
の油状物として得る。
分析値: 計算値(C80H150N4O12):C,70.7;H,11.1;N,4.1. 実測値:C,71.0;H,11.7;N,3.9. 実施例35A 4−ヒドロキシ−1−オクチルオキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン クロロベンゼン中の4−ヒドロキシ−1−オキシル−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジンと1−イオドオクタ
ンとの溶液に、トリブチル錫水素化物を窒素気流中で滴
下することにより表題の化合物を製造する。
2,6,6−テトラメチルピペリジン クロロベンゼン中の4−ヒドロキシ−1−オキシル−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジンと1−イオドオクタ
ンとの溶液に、トリブチル錫水素化物を窒素気流中で滴
下することにより表題の化合物を製造する。
実施例35B 1−オクチル−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−4−イル 1−オキシル−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−4−イル イソフタレート 実施例35Aで製造された化合物、4−ヒドロキシ−1
−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、トリ
エチルアミン及びメチレンクロリドの混合物にイソフタ
ロイルジクロリドを滴下する。通常の方法で反応混合物
の処理を進め、シリカゲル上のフラッシュクロマトグラ
フィにより精製し、表題の化合物を得る。
リジン−4−イル 1−オキシル−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−4−イル イソフタレート 実施例35Aで製造された化合物、4−ヒドロキシ−1
−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、トリ
エチルアミン及びメチレンクロリドの混合物にイソフタ
ロイルジクロリドを滴下する。通常の方法で反応混合物
の処理を進め、シリカゲル上のフラッシュクロマトグラ
フィにより精製し、表題の化合物を得る。
実施例35C 1,8−オクタンジイルビス〔(1−オクチル
オキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イ
ル)(1−オキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−4−イル)イソフタレート〕 1,8−ジイオドオクタンと実施例14Bで製造された化合
物とのクロロベンゼン溶液にトリブチル錫水素化物を加
える。フラッシュクロマトグラフィにより精製すると1
−(8−イオドオクチルオキシ)−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−4−イル イソフタレートと表題の化
合物を得る。
オキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イ
ル)(1−オキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−4−イル)イソフタレート〕 1,8−ジイオドオクタンと実施例14Bで製造された化合
物とのクロロベンゼン溶液にトリブチル錫水素化物を加
える。フラッシュクロマトグラフィにより精製すると1
−(8−イオドオクチルオキシ)−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−4−イル イソフタレートと表題の化
合物を得る。
実施例35Cの表題の化合物の構造は次式A: (式中、nは1を表わし;Gはイソフタレート基を表わ
し;Tは1,8−オクタンジイル基を表わし、そしてE1及びE
2は双方ともオクチル基を表わす。)が参照となる。
し;Tは1,8−オクタンジイル基を表わし、そしてE1及びE
2は双方ともオクチル基を表わす。)が参照となる。
実施例36A (1−〔8−(4−ヒドロキシ−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン−1−イルオキシ)〕−オクチ
ルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イ
ル)(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン−4−イル)イソフタレート 4−ヒドロキシ−1−オキシル−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジンと実施例35Cで遊離された1−(8−イ
オドオクチルオキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン−4−イル1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−4−イル イソフタレートとを含有
するクロロベンゼン溶液にトリブチル錫水素化物を加え
ることにより表題の化合物を製造する。
テトラメチルピペリジン−1−イルオキシ)〕−オクチ
ルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イ
ル)(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン−4−イル)イソフタレート 4−ヒドロキシ−1−オキシル−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジンと実施例35Cで遊離された1−(8−イ
オドオクチルオキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン−4−イル1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−4−イル イソフタレートとを含有
するクロロベンゼン溶液にトリブチル錫水素化物を加え
ることにより表題の化合物を製造する。
実施例36B 式Aで表わされ、式中のnが2を表わし、
Gがイソフタレート基を表わし、Tがオクタンジイル基
を表わし、そしてE1及びE2が各々オクチル基を表わす化
合物 イソフタロイルジクロリドと、トリエチルアミン、メ
チレンクロリド及び実施例36Aで製造された化合物から
成る混合物との反応により表題の化合物を製造する。
Gがイソフタレート基を表わし、Tがオクタンジイル基
を表わし、そしてE1及びE2が各々オクチル基を表わす化
合物 イソフタロイルジクロリドと、トリエチルアミン、メ
チレンクロリド及び実施例36Aで製造された化合物から
成る混合物との反応により表題の化合物を製造する。
実施例37A 1−メトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−4−イル 1−オキシル−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−4−イルセバケート 4−ヒドロキシ−1−メトキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン、4−ヒドロキシル−1−オキシル−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン、トリエチルアミン及
びメチレンクロリドの混合物にセバコイルクロリドを加
える。通常の方法によって反応混合物の処理を進め、そ
してシリカゲル上のフラッシュクロマトグラフィにより
精製し、表題の化合物を得る。
リジン−4−イル 1−オキシル−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−4−イルセバケート 4−ヒドロキシ−1−メトキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン、4−ヒドロキシル−1−オキシル−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン、トリエチルアミン及
びメチレンクロリドの混合物にセバコイルクロリドを加
える。通常の方法によって反応混合物の処理を進め、そ
してシリカゲル上のフラッシュクロマトグラフィにより
精製し、表題の化合物を得る。
実施例37B メチレンビス(1−メトキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−4−イルセバケート ジイオドメタンと実施例37Aで製造された化合物との
クロロベンゼン溶液にトリブチル錫水素化物を加えるこ
とにより、表題の化合物を製造する。
トラメチルピペリジン−4−イルセバケート ジイオドメタンと実施例37Aで製造された化合物との
クロロベンゼン溶液にトリブチル錫水素化物を加えるこ
とにより、表題の化合物を製造する。
実施例38A 式Aで表わされ、式中のnが1を表わし、
Gがイソフタレート基を表わし、Tがオクタンジイル基
を表わし、E1がオクチル基を表わし、そしてE2がオキシ
ル基を表わす化合物 4−ヒドロキシ−1−オキシル−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン、実施例36Aで製造された化合物、トリ
エチルアミン及びメチレンクロリドの混合物にイソフタ
ロイルジクロリドを加える。通常の方法で反応混合物の
処理を進め、シリカゲル上のフラッシュクロマトグラフ
ィにより精製すると表題の化合物を得る。
Gがイソフタレート基を表わし、Tがオクタンジイル基
を表わし、E1がオクチル基を表わし、そしてE2がオキシ
ル基を表わす化合物 4−ヒドロキシ−1−オキシル−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン、実施例36Aで製造された化合物、トリ
エチルアミン及びメチレンクロリドの混合物にイソフタ
ロイルジクロリドを加える。通常の方法で反応混合物の
処理を進め、シリカゲル上のフラッシュクロマトグラフ
ィにより精製すると表題の化合物を得る。
実施例38B 式Aで表わされ、式中のnが3を表わし、
Gがイソフタレート基を表わし、Tがオクタンジイル基
を表わし、E1及びE2の双方がオクチル基を表わす化合物 1,8−ジイオドオクタンと実施例36Aで製造されたN−
オキシル化合物のクロロベンゼン溶液にトリブチル錫水
素化物を加える。フラッシュクロマトグラフィにより精
製すると表題の化合物を得る。
Gがイソフタレート基を表わし、Tがオクタンジイル基
を表わし、E1及びE2の双方がオクチル基を表わす化合物 1,8−ジイオドオクタンと実施例36Aで製造されたN−
オキシル化合物のクロロベンゼン溶液にトリブチル錫水
素化物を加える。フラッシュクロマトグラフィにより精
製すると表題の化合物を得る。
反応混合物から分離した副生物は式Aで表わされ、式
中のnが1を表わし、Gがイソフタレート基を表わし、
Tがオクタンジイル基を表わし、E1がオクチル基を表わ
し、そしてE2が-(CH2)7CH2I基を表わす化合物である。
中のnが1を表わし、Gがイソフタレート基を表わし、
Tがオクタンジイル基を表わし、E1がオクチル基を表わ
し、そしてE2が-(CH2)7CH2I基を表わす化合物である。
実施例39 式Aで表わされ、式中のnが4を表わし、G
がイソフタレート基を表わし、Tがオクタンジイル基を
表わし、そしてE1及びE2がオクチル基を表わす化合物 ビス(1−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−4−イル)イソフタレートを水素化ナトリウム
と反応させ、次に実施例3Bで分離された副生物で、式A
にて表わされ、式中のnが1を表わし、Gがイソフタレ
ート基を表わし、Tがオクタンジイル基を表わし、E1が
オクチル基を表わし、そしてE2が-(CH2)7CH2Iを表わす
化合物と反応させることによって製造される表題の化合
物。
がイソフタレート基を表わし、Tがオクタンジイル基を
表わし、そしてE1及びE2がオクチル基を表わす化合物 ビス(1−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−4−イル)イソフタレートを水素化ナトリウム
と反応させ、次に実施例3Bで分離された副生物で、式A
にて表わされ、式中のnが1を表わし、Gがイソフタレ
ート基を表わし、Tがオクタンジイル基を表わし、E1が
オクチル基を表わし、そしてE2が-(CH2)7CH2Iを表わす
化合物と反応させることによって製造される表題の化合
物。
実施例40 ポリプロピレンの光安定化 この実施例により本発明安定剤の光安定化効果を説明
する。
する。
安定化されてないポリプロピレン粉末〔ハーキュレス
プロファックス(Hercules Profax)6501〕を0.2重量
%の式IまたはIIで表わされる化合物と十分に混合す
る。次に、混合した材料を2本−ロール練り機において
182℃で5分間練り、その後で安定化したポリプロピレ
ンを練り機から圧延してシートとし放置冷却する。次に
練られたポリプロピレンをカットして小片とし、そして
220℃で1.2×106Paの油圧プレスで圧縮成形し0.127mmの
フィルムにする。サンプルを暗光室で螢光太陽光線に破
壊まで曝す。露光されたフィルムにおける赤外分光によ
り、0.5カルボニル吸収に達したときを破壊とする。
プロファックス(Hercules Profax)6501〕を0.2重量
%の式IまたはIIで表わされる化合物と十分に混合す
る。次に、混合した材料を2本−ロール練り機において
182℃で5分間練り、その後で安定化したポリプロピレ
ンを練り機から圧延してシートとし放置冷却する。次に
練られたポリプロピレンをカットして小片とし、そして
220℃で1.2×106Paの油圧プレスで圧縮成形し0.127mmの
フィルムにする。サンプルを暗光室で螢光太陽光線に破
壊まで曝す。露光されたフィルムにおける赤外分光によ
り、0.5カルボニル吸収に達したときを破壊とする。
実施例1,2及び3の化合物の各々がポリプロピレンを
化学線の劣化効果から保護するための光安定剤として有
効である。
化学線の劣化効果から保護するための光安定剤として有
効である。
実施例41 ハイソリッド熱硬化アクリル樹脂エナメルの
安定化 2−ヒドロキシエチルアクリレート、ブチルアクリレ
ート、メチルメタアクリレート、スチレン及びアクリル
酸のコポリマーより成る70重量%のバインダーと、酸触
媒としてのp−トルエンスルホン酸、ジノニルナフタレ
ンジスルホン酸またはドデシルベンゼンスルホン酸の存
在する30重量%のメラミン樹脂をベースとする熱硬化ア
クリルエナメルを樹脂固体をベースとして2重量%のベ
ンゾトリアゾール紫外線吸収剤と有効安定化量の試験封
鎖アミン光安定剤を含有するように配合する。
安定化 2−ヒドロキシエチルアクリレート、ブチルアクリレ
ート、メチルメタアクリレート、スチレン及びアクリル
酸のコポリマーより成る70重量%のバインダーと、酸触
媒としてのp−トルエンスルホン酸、ジノニルナフタレ
ンジスルホン酸またはドデシルベンゼンスルホン酸の存
在する30重量%のメラミン樹脂をベースとする熱硬化ア
クリルエナメルを樹脂固体をベースとして2重量%のベ
ンゾトリアゾール紫外線吸収剤と有効安定化量の試験封
鎖アミン光安定剤を含有するように配合する。
市販のエポキシ下塗りの10.16cm×30.48cmパネル〔ア
ドバンスト コーティングス テクノロジー(Advanced
Coatengs Technology)からのユニプリム(Unipri
m)〕をシルバー メタリック下塗り塗料で約0.023mmの
厚さにスプレー塗装し、そして3分間空気乾燥する。次
に下塗りされたパネルに安定化された熱硬化アクリル樹
脂エナメルを約0.049mmの厚さにスプレー塗装する。15
分の空気乾燥後、塗装したシートを121℃で30分間焼付
ける。
ドバンスト コーティングス テクノロジー(Advanced
Coatengs Technology)からのユニプリム(Unipri
m)〕をシルバー メタリック下塗り塗料で約0.023mmの
厚さにスプレー塗装し、そして3分間空気乾燥する。次
に下塗りされたパネルに安定化された熱硬化アクリル樹
脂エナメルを約0.049mmの厚さにスプレー塗装する。15
分の空気乾燥後、塗装したシートを121℃で30分間焼付
ける。
空調室に1週間貯蔵した後、塗装したパネルを試験法
ASTMG-53/77により、QUV曝露装置における耐侯試験にか
ける。この試験においては、サンプルは50℃の湿り大気
中に4時間、そして次に紫外線下に70℃で8時間の繰返
しサイクルで耐侯試験される。パネルはQUV中に1500時
間曝される。曝露の前後にパネルの20°光沢度を測定す
る。
ASTMG-53/77により、QUV曝露装置における耐侯試験にか
ける。この試験においては、サンプルは50℃の湿り大気
中に4時間、そして次に紫外線下に70℃で8時間の繰返
しサイクルで耐侯試験される。パネルはQUV中に1500時
間曝される。曝露の前後にパネルの20°光沢度を測定す
る。
安定化されたパネルの光沢の喪失は安定化されてない
対照パネルのそれよりもかなり少ない。
対照パネルのそれよりもかなり少ない。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C09K 3/00 104 C09K 3/00 104B (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07D 211/94 C07D 401/14 C07D 493/22 REGISTRY(STN) CA(STN)
Claims (16)
- 【請求項1】次式IまたはII: (式中、mは2ないし10を表わし、nは1ないし5を表
わし、 R1及びR2は独立して炭素原子数1ないし4のアルキル基
を表わし、またはR1及びR2は一緒になってペンタメチレ
ン基を表わし、 Lは炭素原子数1ないし18のアルカンもしくはアルケン
のm価の基、炭素原子数5ないし12のシクロアルカンま
たはシクロアルケンのm価の基、飽和または不飽和の炭
素原子数7ないし12の二環式もしくは三環式の炭化水素
のm価の基、または炭素原子数6ないし15のアリール炭
化水素、アルキル置換アリール炭化水素またはアルアル
キル炭化水素のm価の基を表わし、但しN−O基は必ず
しもLにおける同一の炭素原子に接続することを必要と
せず、 で表わされる基からなる群から選ばれた有機部分を表わ
し、 上記の式中、R3は脂肪族、環式脂肪族、不飽和脂肪族ま
たは芳香族のカルボキシル基を除いたカルボン酸基を表
わし、 R4は脂肪族、環式脂肪族の、または不飽和脂肪族のヒド
ロキシル基を除いたアルコール基を表わし、 R5は水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基また
は で表わされる基を表わし、式中L1はLの意味の1価の基
を表わし、 pは0ないし10を表わし、qは2ないし4を表わし、 R6は水素原子または炭素原子数1ないし18のアルキル基
を表わし、 R7は水素原子または-CH2CH2COOC12H25を表わし、 Dは炭素原子数1ないし18のアルカンまたはアルケンの
2価の基、炭素原子数5ないし12の環式アルカンまたは
環式アルケンの2価の基または飽和または不飽和の炭素
原子数7ないし12の二環式もしくは三環式炭化水素の2
価の基を表わし、但しN−O基は必ずしもDにおける同
一の炭素原子に接続することを必要とせず、 Eは炭素原子数1ないし18のアルカンまたはアルケンの
1価の基、炭素原子数5ないし12の環式アルカンまたは
環式アルケンの1価の基または飽和もしくは不飽和の炭
素原子数7ないし12の二環式もしくは三環式炭化水素の
1価の基を表わし、 で表わされる基からなる群から選ばれた有機の結合成分
を表わし、式中、 R8は直接結合または脂肪族、環式脂肪族、不飽和脂肪族
の、または芳香族の2個のカルボキシル基を除いたジカ
ルボン酸の2価の基を表わし、 R9は脂肪族、環式脂肪族、または不飽和脂肪族の2個の
ヒドロキシル基を除いたジオールの2価の基を表わし、 R10は−O−または−NR5−を表わし、そして R11は脂肪族または芳香族の4価の基を表わす。)で表
わされるポリ−(1−ヒドロカルビルオキシ−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン)化合物。 - 【請求項2】式Iにおいて、mが2ないし4を表わす請
求項(1)に記載の化合物。 - 【請求項3】式Iにおいてmが2を表わす請求項(2)
に記載の化合物。 - 【請求項4】式IIにおいてnが1または2を表わす請求
項(1)に記載の化合物。 - 【請求項5】式IまたはIIにおいて、R1及びR2が各々メ
チル基を表わす請求項(1)に記載の化合物。 - 【請求項6】式IにおいてLがn−オクタン、n−ヘプ
タンまたはシクロヘキサンからのm価の基を表わす請求
項(1)に記載の化合物。 - 【請求項7】式IにおいてTがR3-COO-で表わされる基
を表わし、R3が炭素原子数1ないし17のフェニル基、ビ
ニル基またはアルキル基を表わす請求項(1)に記載の
化合物。 - 【請求項8】式IにおいてR3がヘプタデシル基を表わす
請求項(7)に記載の化合物。 - 【請求項9】式IにおいてTがR3-CONR5-で表わされる
基を表わし、R5が水素原子を表わし、そしてR3がビニル
基を表わす請求項(1)に記載の化合物。 - 【請求項10】式IにおいてTが、 で表わされる基を表わし、R6がドデシル基を表わす請求
項(1)に記載の化合物。 - 【請求項11】式IIにおいてGが-OCO-R8-COO-で表わさ
れる基を表わし、R8が炭素原子数2ないし8のアルキレ
ン基またはフェニレン基を表わす請求項(1)に記載の
化合物。 - 【請求項12】R8がエチレン基またはオクタメチレン基
を表わす請求項(11)に記載の化合物。 - 【請求項13】(a)化学光線の悪影響により劣化しや
すい有機ポリマー、及び (b)安定化量の請求項(1)に記載の式IまたはIIで
表わされる化合物から成る安定化された有機ポリマー組
成物。 - 【請求項14】有機ポリマーがポリオレフィン、特にポ
リプロピレンである請求項(13)に記載の組成物。 - 【請求項15】有機ポリマーがアルキッド、アクリル、
アクリルアルキッド、ポリエステル、エポキシ、ウレタ
ン、ポリアミド、ビニルまたはエポキシ−ポリエステル
樹脂をベースとする塗料組成物である請求項(13)に記
載の組成物。 - 【請求項16】紫外線吸収剤または付加的光安定剤を含
有する請求項(15)に記載の組成物。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US32670389A | 1989-03-21 | 1989-03-21 | |
US32670489A | 1989-03-21 | 1989-03-21 | |
US326703 | 1989-03-21 | ||
US326704 | 1989-03-21 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02289546A JPH02289546A (ja) | 1990-11-29 |
JP2860586B2 true JP2860586B2 (ja) | 1999-02-24 |
Family
ID=26985523
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2071749A Expired - Fee Related JP2860586B2 (ja) | 1989-03-21 | 1990-03-20 | ポリ(1―ヒドロカルビルオキシ―2,2,6,6―テトラメチルピペリジン)化合物及び該化合物により安定化された有機ポリマー組成物 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0389421B1 (ja) |
JP (1) | JP2860586B2 (ja) |
CA (1) | CA2012495C (ja) |
DE (1) | DE69008402T2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5214085A (en) * | 1992-02-03 | 1993-05-25 | General Electric Company | Abrasion-resistant coating compositions with improved weatherability |
WO1995025139A1 (fr) * | 1994-03-16 | 1995-09-21 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Composition de resine de reticulation |
CN1168759C (zh) * | 1999-09-15 | 2004-09-29 | 西巴特殊化学品控股有限公司 | 对纸浆具有高亲和力的聚合物稳定剂 |
DE10161863A1 (de) * | 2001-12-14 | 2003-07-03 | Basf Ag | Stabilisatorzusammensetzung II |
EP3608360A1 (en) * | 2018-08-08 | 2020-02-12 | Sabo S.p.A. | N-alkoxy amine based stabilizer combinations |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4191829A (en) * | 1975-06-30 | 1980-03-04 | Ciba-Geigy Corporation | Hindered piperidine carboxylic acids and metal salts thereof |
BE855350A (fr) * | 1977-06-03 | 1977-12-05 | Argus Chem | Esters tetracarboxyliques de 2,2,6,6-tetramethyl-4-ol-piperidine |
EP0224720A1 (en) * | 1985-11-01 | 1987-06-10 | The B.F. GOODRICH Company | Oligomeric light stabilizers with substituted piperidine ends |
IT1215462B (it) * | 1987-05-07 | 1990-02-14 | Ciba Geigy Spa | Composti piperidinici utilizzabili come stabilizzanti alla luce, al calore e all'ossidazione per polimeri sintetici. |
DE3724222A1 (de) * | 1987-07-22 | 1989-02-02 | Huels Chemische Werke Ag | Lichtstabilisatoren |
-
1990
- 1990-03-13 DE DE1990608402 patent/DE69008402T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-03-13 EP EP19900810189 patent/EP0389421B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-03-19 CA CA 2012495 patent/CA2012495C/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-03-20 JP JP2071749A patent/JP2860586B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA2012495A1 (en) | 1990-09-21 |
EP0389421B1 (en) | 1994-04-27 |
DE69008402D1 (de) | 1994-06-01 |
JPH02289546A (ja) | 1990-11-29 |
EP0389421A1 (en) | 1990-09-26 |
CA2012495C (en) | 2000-02-08 |
DE69008402T2 (de) | 1994-08-25 |
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