JPH02289546A - ポリ（１―ヒドロカルビルオキシ―２，２，６，６―テトラメチルピペリジン）化合物及び該化合物により安定化された有機ポリマー組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はポリ置換そして低重合のＮ−ヒドロカルビルオ
キシ封鎖アミン並びに化学線の有害作用に対して安定化
され穴上記アミンを含有するポリマー組成物に関するも
のである。

（従来の技術） モノマー状Ｎ−ヒドロカルビルオキシ封鎖アミンについ
ては欧州特許公開第３０９４０２号公報に記載されてい
る。

ビス（Ｎ−オキシピペリジンつとパラキシレンとのコポ
リマーについては、日本国特許公開昭５４−４２０００
号公報；ティー、フジタ（Ｔ。

ｐｕｊｊｔａ）その他、ジャーナル　オプ　ポリマーサ
イエンス（Ｊ、　Ｐｏ１ｙ　８ｃｉ　）、ポリマー　ケ
ミス）　ＩＪ　（Ｐｏ１ｙ　Ｃ’ｈｅｍ、　）版、　１
８．５４９（１９８０）及び２０．　ｊ６３９（１９８
２）　　；及びジャーナル　オプホリマー　サイエンス
、ポリマー　レター（Ｐｏ１ｙ　Ｌｅｔ’ｔｅｒ　）版
、　１６．５１５（１９７Ｂ）；　１７゜５５３（１９
７９）及び１９．６０９（１９８１）に報告されている
。

（発明が解決しようとする課題及び課題を解決するため
の手段） 本発明の封鎖アミンと飽和もしくは不飽和脂肪族炭化水
素から選造されたポリ置換そして低重合のＮ−ヒドロカ
ルボキシ誘導体は、従来の技術において記載されず、ま
たは示唆されてない。

本発明は次式Ｉまたはｒｉ： １２のシクロアルカンまたはシクロアルケンのｍ価の基
、飽和または不飽和の炭素原子数７ないし１２の二環式
もしくは三環式の炭化水素のｍ価の基、または炭素原子
数６ないし１５のアリール炭化水素、アルキル置換アリ
ール炭化水素またはアルアルキル炭化水素のｍ価の基を
表わし、但しＮ−０基は必ずしもＬにおける同一の炭素
原子に接続することを必要とせず、Ｔ　＃ｉＲ，，−Ｃ
ＯＯ−，Ｒ，４−ＯＣＯ−、Ｒ，−ＣＯＮＲ，。

（式中、ｍは２ないし１０を表わし、ｎは１ないし５を
表わし、 Ｒ１及びＲ２は独立して炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基を表わし、またはＲ１及びＲ２は一緒になってペン
タメチレン基を表わし、Ｌは炭素原子数１ないし１８の
ナルカンもしくはアルクンのｍ価の基、炭素原子数５な
いしＲ４０ＣＯ（ＣＨ２）ｑＮＨ−、Ｒ４０ＣＯ（ＣＨ
，）ｐＣＯＯ−で表わされる基からなる群から選ばれ九
有機部分を表わし、 上記の式中、Ｒｓ　Ｆｉ脂肪族、環式脂肪族、不飽和脂
肪族または芳香族のカルボキシル基を除いたカルボン酸
基を表わし、 Ｒ４は脂肪族、環式脂肪族の、または不飽和脂肪族のヒ
ドロキシル基を除いたアルコール基ｔ−表わし、 Ｒ５は水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキ表わし
、式中ＬｌはＬの意味の１価の基を表わし、ｐは口ない
し１０を表わし、ｑは２ないし４を表わし、 Ｒ６は水素原子または炭素原子数１ないし１８のアルキ
ル基を表わし、 Ｒ１は水素原子または−ＣＨ，ＣＨ２Ｃ００Ｃ，、Ｉ−
１，、を表わし、 Ｄは炭素原子数１ないし１８のアルカンま九はアルケン
の２価の基、炭素原子数５ないし１２の環式アルカンま
たは環式アルケンの２価の基または飽和または不飽和の
炭素原子数７ないし１２の二環式もしくは三環式炭化水
素の２価の基を表わし、但しＮ−０基は必ずしもＤにお
ける同一の炭素原子に接続することを必要とぜず、 Ｅは炭素原子数１ないし１８のアルカンまたはアルケン
の１価の基、炭素原子数５ないし１２の環式アルカンま
たは環式アルケンの１価の基または飽和もしくは不飽和
の炭素原子数７ないし１２の二環式もしくは三環式炭化
水素の１価の基を表わし、 ０は一０ＣＯ−Ｒ，−ＣＯＯ−−Ｃ００−Ｒ，−ＯＣＯ
−群から選ばれた有機の結合成分を表わし、式中、鳥は
直接結合または脂肪族、環式脂肪族、不飽和脂肪族の、
′！！たは芳香族の２個のカルボキシル基を除いたジカ
ルボン酸の２価の基を表わし 鳥は脂肪族、環式脂肪族、または不飽和脂肪族の２個の
ヒドロキシル基を除いたジオール基を表わし、 Ｒｌｏは一〇−または−ＮＲ，−を表わし、そしてＲ■
は脂肪族または芳香族の４価の基を表わｉ）で表わされ
るポリ（１−ヒドロカルビルオキシ−２，２，６，６−
テトラアルキルビペリジン）化合物に関するものである
。

式Ｉにおいてはｍは２ないし４、特に２を表わすことが
好ましい。

式■においてはｎは１″または２を表わすことが好まし
い。

Ｒ１及びＲ２は各々メチル基を表わすものが好ましい。

式ＩにおいてＬはｎ−オクタン、ｎ−へブタンまたはシ
クロヘキサンのｍ価の基を表わすものが好ましい。

式Ｉにおいて好ましくは、ＴはＲ３−ｅｏｏ−（式中、
几３はフェニル基、ビニル基または炭素原子数１ないし
１７のアルキル基を表わし、最も好ましくはヘプタデシ
ル基を表わす。）で表わされる基を表わし、または式■
においてＴは好ましくは馬−ＣＯＮＲ，−（式中、Ｒ５
は水素原子を表わし、そしてＲ３はビニル基を表わす。

）で表わされる基を表わし、またはＴは次式： そしてＲ８は直接結合または炭素原子数２ないし８のア
ルキレン基、最も好ましくは直接結合、エチレン基また
はオクタメチレン基を表わす。）で表わされる基を表わ
し、或は （式中、Ｒ６はドデシル基を表わす。）で表わされる基
を表わす。

式■においてＤは好ましくはｎ−オクタン、ｎ−へブタ
ンまたはシクロヘキサンの２価の基を表わす。

式ＩＩにおいて、Ｅは好ましくはオクチル基、ヘプチル
基またはシクロヘキシル基を表わす。

式Ｉにおいて、Ｇは好ましくは一０ＣＯ−ＲＩＩ−ＣＯ
Ｏ−（式中、Ｒ８は炭素原子数２ないし８、最も好まし
くは２または８のアルキレン基、またはフェニレン基を
表わす。）で表わされる基を表わし、或は、 式■においてＧは好ましくは−ＮしＣ０−ＲｒＣＯＮＲ
ｒ（式中、ＲＩＩは水素原子′！たはブチル基を表わし
、封鎖アミンのモノマー状Ｎ−ヒドロカルビルオキシ誘
導体は名種の合成経路によって製造することができる。

これらは下記の方法を包含する： ａ、）ソーｎ−ブチル錫水素化物の存在下におけるＮ−
オキシル化合物とハロゲン化アルキルとの反応〔アール
、エル、キニー（Ｒ，Ｌ。

Ｋｉｎｎｅｙ）その他、ジャーナル　オブ　アメリカン
　ケミカル　ソサエティー（Ｊ　、　Ａｍ、　Ｃｈｅｍ
。

８０Ｃ，）１００．７９０２（１９７８））：ｂ、Ｎ−
ヒドロキシ化合物とハロゲン化アルキル及びｎ−ブチル
リチウムまたは水素化ナトリウムとの反応〔ティー、ク
ルマダ（Ｔ、Ｋｕｒｕ−ｍａｄａ　）その他、ジャーナ
ル　オブ　ボリマーサイエンス（Ｊ、　Ｐｏ１ｙ　Ｓｃ
ｉ、　）、ポリマー　ケミストリ（Ｐｏ１ｙ　Ｃｈｅｍ
、　）版、　２２．　２７（１９８４）及び２３、１４
７７（１９８５））　； ｃ、Ｎ−オキシル化合物、炭化水素、及びジー第三ブチ
ル過酸化物の溶液の光分解〔デイ−１”７”ｌ）ｈ、グ
ー）　ｐ　ｙ　（Ｄ、　Ｗ、　Ｇｒａｔｉａｎ　）その
他、ポリマー　デグラード　アンド　スタビリテイ−（
Ｐｏｌｙｍ、　Ｄｅｇｒａｄ　　＆　５ｔａｂｉｌｉｔ
ｙ）、　１９７９　。

６９〕； ｄ、Ｎ−オキシル化合物、炭化水素及び第三ブチル過酸
エステルの溶液の熱分解（ニー、ジェー　ペックライス
（Ａ、　Ｊ、　Ｂｅｃｋｗｉｔｈ　）、ジャーナル　オ
プ　オルガニック　ケミストリ（Ｊ。

Ｏｒｇ、　Ｃｈｅｍ、　）　５３．１６３２（１９８８
）　）　；ｅ、酸素雰囲気中におけるＮ−オキシル化合
物、炭化水素及び第三ブチルヒドロパーオキシドの溶液
の光分解〔ティー　クルマダ（Ｔ、Ｋｕ−ｒｕｍａｄａ
　）その他、ジャーナル　オプ　ポリマーサイエンス（
Ｊ　、　Ｐｏｌｙｍ、　８ｃｉ　）　、ポリマーケミス
トリ（Ｐｏｌｙｍ、Ｃｈｅｍ、　）版、２３．１４７７
（１９８５）　）　；及び ｆ、封鎖アミンまたはＮ−オキシル封鎖アミン、炭化水
素、第三ブチルヒドロパーオキシド−及び酸化金利触媒
の溶液の熱分解（欧州特許公開第３０９４０２号公報）
。

本発明のオリゴマー状化合物は上記のモノマーＮ−ヒト
四カルビルオキシ化合物の製造方法の変法によりで製造
することができる。

例えば式１で表わされる化合物はＮ−オキシルまたはＮ
−ヒドロキシ封鎖アミンとポリハロアルカンとの反応に
よって製造することができる。

式Ｉで表わされる化合物は、Ｎ−オキシル封鎖アミンを
過酸化物またはヒドロパーオキシドの分解から生じたｎ
価の炭化水素基と、引抜き可能の水素原子を有する炭化
水素の存在下でカップリングさせることによシ最も有利
に製造することができる。

炭化水素に対するＮ−オキシル封鎖アミンの比率ハ、モ
ノマー状Ｎ−ヒドロカルビルオキシ化合物の生成、また
は本発明ポリ置換Ｎ−ヒドロカルビルオキシ化合物の生
成を助けるように調整することができるが、殆んど常に
モノマー状及びポリ置換Ｎ−ヒドロカルビルオキシ化合
物の混合物が得られる。これらの混合物はカラムクロマ
トグラフィによシ容易に、モノマー状及びポリ置換Ｎ−
ヒドロカルビルオキシ化合物に分離することができる。

かくして後の方法を用いて本発明化合物を製造するとき
は基りの構造を特定することができるが、本発明化合物
をヒトセパ−オキシドまたは過酸化物と一緒に、Ｎ−オ
キシル化合物と炭化水素を用いて製造するときは、基Ｉ
ＩＪ％性構造混合物を表わす。

弐■で表わされる化合物はビス（Ｎ−オキシル）化合物
を、過酸化物またはヒドロパーオキシドの分解から発生
した炭化水素基と、引抜き可能の水素原子を有する炭化
水素溶媒の存在下で反応させることによし合成すること
ができる。

溶媒の濃度が十分に低い場合には、２個のＮ−オキシル
分子が同じ溶媒分子と反♂することができるが、殆んど
常にモノマー状及びオリゴ−ｒ　−Ｎ−ヒドロカルビル
オキシ化合物の混合物が得られる。これらの混合物はカ
ラムクロマトグラフィによシ、容易にモノマー状及びオ
リゴマー状Ｎ−ヒドロカルビルオキシ化合物に分離する
ことができる。

ビス（Ｎ−オキシル）封鎖アミンを、さらにトリブチル
錫水素化物及び脂肪族シバライドと反応させ、式■で褒
わされるオリゴマー製品を得ることができる。ビス（Ｎ
−ヒドロキシ）封鎖アミンを、適当な塩基と脂肪族ジノ
・ロゲン化物、好ましズは二沃化物とを用いてアルキル
化することができる。これらの方法は異なる分子量のオ
リゴマー混合物を与えるものと期待される。いかなる末
端ハロゲン化Ｎ−ヒドロカルビルオキシ基も、トリブチ
ル錫水素化物によ）、標準的方法を用いて減少させるこ
とができる。

特定の分子量を有する式■で表わされるオリゴマーは、
１個のＮ−ヒドロカルビルオキシ基または−ブリッジと
１個のＮ−オキシル官能基１ｌ−ｔＮ−ヒドロキシ官能
基とを有する二官能性封鎖アミン中間体を製造すること
Ｋよって合成することができる。これらの中間体は先の
章で論じた脂肪族ジハロゲン化物の化学を用いてカップ
リングさせることができる。

本出願では２．２．６．６−テトラアルキルビペリジン
構造を強調しているけれども、本発明は′１次、下記の
テトラアルキル置換ピペラジンまたはピペラジノン成分
： （式中、Ｍ及びＹは独立にメチレン基またはカルボニル
基を表わし、そして好ましくはＭはメチレン基を表わし
、Ｙはカルボニル基を表わす。）が上記のテトラアルキ
ルピペリジン部分と置換し良化合物に関するものである
。このような化合物に使用できると確認された置換基は
、リング窒素原子における置換に適するものであること
がわかる。

本発明の化合物が特に有用な基地はポリエチレン及びポ
リプロピレンのようなポリオレフィン；特に耐衝撃ポリ
スチレンを包含するポリスチレン；ＡＢＳ樹脂；エラス
トマー　例えばブタジェンゴム、ＥＰＭＳＥＰＤＭ、　
ＳＢＲ及びニトリルゴムである。

一般に安定化され得るポリマーは次のものを包含する。

１、　モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー　例
えば所望によシ架橋結合できるポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−１、ポリメチ
ルペンテン−１、ポリインプレンま九はポリブタジェン
、並びにシクロオレフィン例えばシクロペンテ／または
ノルボルネンのポリマー ２．１）で述べたポリマーの混合物、例えばポリプロピ
レンとポリイソブチレ／との混合物。

五　モノオレフ・インとジオレフィン相互まタハ他のビ
ニルモノマーとのコポリマー　例えばエチレン／プロピ
レン、プロピレン／ブテン−１、プロピレン／イソブチ
レン、エチレン／ブテン−１、プロピレン／ブタジェン
、インブチレン／イソプレン、エチレン／アルキルメク
リレート、エチレン／アルキルメタクリレート、エチレ
ン／ビニルアセテートまたはエチレン／アクリル酸コポ
リマー及びそれらの塩類（アイオノマー）、及ヒエチレ
ンとプロピレン／ブテン例えばヘキサジエン、ジシクロ
ペンタジェンマタはエチリデン／ノルボルネンとのター
ポリマー４、　ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチ
レン〕。

５、　スチレンまたはメチルスチレンとジエンまたはア
クリル誘導体とのコポリマー　例えばスチレン／フタジ
エン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／エチル
メタアクリレート、ステｌノン／フタジエン／エチルア
クリレート、スチレン／アクリロ゛ニトリル／メチルア
クリレート；スチレンコポリマーと別のポリマー　例え
ばポリアクリレート、ジエンポリマー　またはエチレン
／プロピレン／ジェンターポリマーからの高耐衝撃性混
合物；及びスチレンのブロックコポリマー例えばスチレ
ン／ブタジェン／スチレン、スチレン／イソプレン／ス
チレン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレンまタ
ハスチレン／エチレン／プロピレン／スチレン。

＆　スチレンのグラ７トコボリマー　例えばポリブタジ
ェンにスチレン、ポリブタジェンにスチレン及びアクリ
ロニトリル、ポリブタジェンにスチレン及びアルキルア
クリレートまたはメタアクリレート、エチレン／プロピ
レン／ジェンターポリマーにスチレン及びアクリロニト
リル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレートにス
チレン及びアクリロニトリル、アクリレート／ブタジェ
ンコポリマーにスチレン及びアクリロニトリル、並びに
これらと５）に列挙したコポリマーとの混合物、例えば
ＡＢＳ−、ＭＢ８−Ａ８Ａ−またはＡｇ３−ポリマーと
して知られているコポリマー混合物。

Ｚ　ハロゲン含有ポリマー　例えばポリクロロプレン、
塩素化ゴム、塩素化またはクロロスルホン化ポリエチレ
ン、エビクロロヒドリンホモ−及びコポリマー　ハロゲ
ン含有ビニル化合物からのポリマー　例えばポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリゾ／、ポリ弗化ビニル、ポリ弗化
ビニリデン並びにこれらのコポリマー　例えば塩化ビニ
ル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢醗ビニル／塩化ビ
ニリデン／酢酸ビニルコポリマー１九は弗化ビニル／ビ
ニルエーテルコポリマ＆　α、β−不飽和酸及びその誘
導体から誘導されたポリマー　例えばポリアクリレート
及びポリメタアクリレート、ポリアクリルアミド及びポ
リアクリロニトリル。

２　前記８）に挙げたモノマー相互のまたは他の不飽和
モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブ
タジェン、アクリロニトリル／アルキルアクリレート、
アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレートま
九はアクリロニトリル／ハロゲン化ビニルコポリマー−
１りｔｉアクリロニトリル／アルキルメタアクリレート
／ブタジェンターポリ１− １α不飽和アルコール及びアミンまたはそれらのアシル
誘導体またはそれらのアセタールから誘導されたポリマ
ー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポ
リビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリ
ビニルマレエート、ポリビニルブチ２−ル、ポリアリル
フタレート、またはポリアリル−メラミン。

１ｔ　　環状エーテルのホモポリマー及びコポリマー　
例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−グリ
シジルエーテルとのコポリマー １２、ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン、及
びエチレンオキシドをコモノマーとして含むポリオキシ
メチレン。

１五　ポリフェニレンオキシド及びスルフィド並びにポ
リフェニレンオキシドとポリスチレンとの混合物。

１４、一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエ
ーテル、ポリエステルまたはポリブタジェンと他方の成
分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとから
誘導され良ポリウレタン並びＫその前駆物質（ポリイソ
シアネート、ポリオールまたはプレポリマー）。

１５、ジアミン及びジカルボン酸及び／ｌたはアミノカ
ルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポリア
ミド及びコポリアミド。例えばポリアミド４、ポリアミ
ド６、ポリアミド６／６．６／１０、ポリアミド１１、
ポリアミド１２、ポリ−２，４，４−）リメテルへキサ
メチレンテレフタルアミド、ポリ−ｐ−７エニレンテレ
７タルアミドまたはポリ−ｍ−７エニレンイソ７タルア
ミド並びにそれらとポリエーテル、例えばポリエチレン
グリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテト
ラメチレングリコールとのコポリマー １＆　ポリ尿素、ポリイミド及びポリアミドーイミ　　
ド。

１７、ジカルボン酸及びジオール及び／またはヒドロキ
シカルボン酸ま喪は相当するラクトンから誘導されたポ
リエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリ
ブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチロール
−シクロヘキサンテレフタレート、ポリ−（２，２−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンツテレフタレー
ト及びポリヒドロキシベンゾエート並ヒにヒドロキシ末
端基を有するポリエーテルから誘導されたブロックコポ
リエーテルエステル。

１＆　ポリカーボネート。

１９　　ポリスチレン、ポリエーテルスルホン及びポリ
エーテルケトン。

２α一方の成分としてアルデヒド及び他方の成分として
フェノール、尿素及びメラミンから誘導された架橋ポリ
マー　例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素
／ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン／ホルムアルデヒ
ド樹脂。

２ｔ　　乾性及び不乾性アルキド樹脂。

２２、飽和及び不飽和ジカルボン醗と多価アルコール及
び架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステルから
！Ｓ２＃された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性の
低いそれらのハロゲン含有変性物。

２五　置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリ
レート、ウレタン−アクリレートまたはシリコーン−ア
クリレートから誘導された熱硬化性アクリル樹脂。

２４、メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネートま
たはエポキシ樹脂を架橋剤として添加したアルキド樹脂
、ポリエステル樹脂またはアクリレート樹脂。

２５、ポリエポキシド、例えばとスーブリシジルエーテ
ル、または脂環式ジェボキシドから誘導された架橋エポ
キシ樹脂。

２＆天然ｙＮリマー　例えばセルロース、ゴム、ゼラチ
ン、及びこれらの化学的に変性させた重合同族体誘導体
、例えば酢酸セルロース、プロピオン醗セルロース及び
酪醗セルロース、また’ｎ　セ／Ｉ／　ＣＩ−スエーテ
ル、例エバメチルセルロース。

２Ｚ　　前述したポリマーの混合物、例えばＰＰ／ＥＰ
ＤＭ、　ボ！ｊ　７ミ）”６／ＥＰＤＭ−ｆｉ７’（ｄ
ＡＢ８１ＰＶＣ／ＢＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／Ｍ
Ｂ８．ＰＣ／ＡＢＳ。

ＰＢＴＰ／ＡＢＳ。

２８、純単量体化合物またはその混合物からなる天然及
び合成有機材料、例えば、鉱油、動物及び植物脂肪、オ
イル及びワックスまたは合成エステル（例えば、フタレ
ート、アジペート、ホスフェートまたはトリメリテート
）をベースとした上記オイル、脂肪及び石ケン、並びに
合成エステルの適当な重量比で混合された鉱油との混合
物で、その材料はポリマーのための可塑剤または繊維紡
績油として並びにこのような材料の水性エマルジョンと
して使用され得る。

２９　　天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例え
ばカルボキシル化スチレン／ブタジェンコポリマーの天
然ラテックス。

３α　ポリシロキサン、例えば米国特許第４．２５９，
４６７号に記載された軟質の親水性ポリシロキサン；及
び例えば米国特許第４．３５５，１４７号に記載された
硬質ポリオルガノシロキサン。

３１　　不飽和アクリルポリアセトアセテート樹脂と、
または不飽和アクリル樹脂と組合せたポリケトイミ／。

不飽和アクリル樹脂はウレタンアクリレート、ポリエー
テルアクリレート、不飽和側基を有するビニルもしくは
アクリルコポリマー及びアクリル化メラミン。ポリケト
イミンは醗触媒の存在下でポリアミンとケトンから製造
される。

３２、エチＶン不飽和モノマーまたはオリゴマー及びポ
リ不飽和脂肪族オリゴマーを含有する放射線硬化組成物
。

３３、エポキシメラミン、例、ｔばエルニスイー（ＬＳ
Ｅ）４１０３（モンサント）のようなエポキシ官能性の
、共エーテル化された高ソリッドメラミンによシ架橋結
合された光安定性エポキシ樹脂。

時定の基地と施用法によシ変るけれども、−般に安定化
すべき材料の重量に対して本発明化合物を約α（１０）
ないし約５重量％用いる。有利な範囲は約０，５ないし
約２％、そして特にα１ないし約１％である。

本発明の安定剤は、有機ポリマーからの造型品の製造に
先立つ有利な段階ならいつでも、慣用技術によって上記
ポリマーに容易に配合することができる。例えば安定剤
を乾燥粉末の形でポリマーと混合することができ、ある
いは、安定剤の懸濁液ま九は乳化液をポリマーの溶液、
懸濁液または乳化液と混合できる。その結果安定化され
た本発明のポリマー組成物は、所望により、下記゛のよ
うな名種の慣用の添加物をも含有することができる。

１、　酸化防止剤 例えば、２，６−ジー第三ブチル−４−メチルフェノー
ル、２−第三ブチル−４，６−シメチルフエノール、２
，６−ジー第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６
−ジー第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６
−ジー第三ブチル−４−イソ−ブチルフェノール、２，
６−ジ−シクロベンチルー４−メチルフェノール％２−
（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−シメチルフエ
ノール、２．６−シオクタデシルー４−メチルフェノー
ル、２，４．６−ドリシクロヘキシルフエノール、２．
６−ジー第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール。

１．２．アルキル化ヒドロキノン 例えば、２．６−ジー第三ブチル−４−メトキシフェノ
ール、２．５−ジー第三ブチルヒドロキノン、２，５−
ジー第三７ミルヒドロキノン、２゜６−ジフェニル−４
−オグタデシルオキシフェノール。

１、五　　ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル例え
ば、２．２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチル
フェノール）、２．２’−チオビス（４−オクチルフェ
ノール）％４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−
メチルフェノール）、４．４′−チオビス（６−第三ブ
チル−２−メチルフェノール）。

１．４．アルキリテンビスフェノール 例えば、２．２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４
−メチルフェノール）％２．２’−）ｆレンビス（６−
第三プ＋ルー４−エチルフェノール）、２．２′　−メ
チレンビス〔４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキ
シル）フェノール）、２．２’−メチレンビス（４−メ
チル−６−シクロヘキジルフエノール）、２，２′−メ
チレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２
，２′−メチレン−ビス−（６−（α−メチルベンジル
）−４−ノニルフェノール〕、２，２′−メチレン−ビ
ス−〔６−（α、α’−’）メｆルペンジ’Ｌ）−ａ−
ノニルフェノール〕、２，２′−メチレンビス（４，６
−ジー第三ブチルフェノール）、２．２−エチリデンビ
ス（４，６−ジー第三ブチルフェノール）、２．２’−
エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェ
ノール）、４．４’−メチレンビス（２，６−ジー第三
ブチルフェノール）％４．４’−メ＋レンビス（６−第
三ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５
−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）
ブタン、２．６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−
２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１
゜１．３−トリス（５−第三プチル−４−ヒドロキシ−
２−メチルフェニル）−ブタン、１，１−ビス（５−第
三プチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３
−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコール
−ビス−（３，３−ビス（３’　−第三ブチル−４１−
ヒドロキシル化　ニル）−ブチレート〕、ビス（３−第
三プチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシ
クロペンタジェン、ビス（２−（３’−１７Ｅ三”：ｊ
ｆｋ−２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６
−第三ブチル−４−メチルフェニル〕テレフタレート。

１、！Ｌベンジル化合物 例えば、１，３．５−トリス（３，５−ジー第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−ドリメチル
ベンゼン、ビス（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）スルフィド、インオクチル３，５−ジー
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテ
ート、ビス（４−第三プチル−５−ヒドロキシ−２，６
−ジメチルペンジル）−シチオールテレフタレー）、１
，３゜５−トリス（５，５−ジー第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリ
ス（４−第三プチル−５−ヒドロキシ−２，６−ジメチ
ルペンジル）インシアヌレート、ジオクタデシル３，５
−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネー
ト、モノエチル５゜５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル−ホスホネートのカルシウム塩。

例えば、ラウリル酸４−ヒドロキシアニリド、ステアリ
ン酸４−ヒドロキシアニリド、２．４−ビス（オクチル
メルカプト）−６−（５，５−ジー第三ブチル−４−ヒ
ドロキシアニリノ）−Ｓ−トリアジン、Ｎ−（３，５−
ジー第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−カルバミ
ン酸オクチルエステル。

アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、１．６−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、チオジエチレンクリコール、Ｎ、Ｎ’−ビス（
ヒドロキシエチル）蓚酸ジアミド。

アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、１．６−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、チオジエチレングリコール、Ｎ、Ｎ’−ビス（
ヒドロキシエチル）蓚酸ジアミド。

例えばＮ　、　Ｎ’〜ビス（３，５−ジー第三ブチル−
４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−へキサメチレ
ンジアミン、　Ｎ、Ｎ’−ビス（３，５−ジー第三プｆ
ルー４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレ
ンジアミン、Ｎ、Ｎ’−ビス（３，５−ジーｇ三ツチル
−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。

例えば５′−メチル、３’５’−ジー第三ブチル、５′
−第三ブチル、５’−（１，１，３，３−テトメチルプ
チル）、５−クロロ−５’　、　５’−ジー第三ブチル
、５−クロロ−３′−第三プチル−５′−メチル、３′
−第二プチル−５′−第三ブチル、４′−オクトキシ、
３’、５’−ジー第三アミル、！’、５’ビス（α、α
−ジメチルベンジル）、３’−第三プチル−５’−（２
−（オメガ−ヒドロキシ）−オクター（エチレンオキシ
）カルボニル−エチル〕−３′−ドデシルー５′−メチ
ル−及び３′−第三ブチル−５’−（２−オクチルオキ
シカルボニル）エチル−１及びドデシル化−５’−メチ
ル誘導体。

２．２．　２−ヒドロキシベンゾフェノン例えば４−ヒ
ドロキシ、４−メトキシ、４−オクトキシ、４−デシル
オキシ、４−ドブフルオキシ、４−ベンジルオキシ、４
　、２’　、　４’−トリヒドロキシ及び２′−ヒドロ
ヤシ−４，４′−ジメトキシ誘導体。

！：ｙ＠＠退−ぴ声−用臭一＃＊Ｏ：−ヱテル例えばフ
ェニルサリチレート、４−第三ブチルフェニルサリチレ
ート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレ
ゾルシノール、と／＜　（４−第Ｅ７’チルベンゾイル
）−レゾルシノール、ペンソイルレゾルシノール、３，
５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸、２，４
−ジー第三ブチルフェニルエステル及びｓ、５−ジー第
三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシルエステ
ル。

２．４．アクリレート 例エバα−シアノーβ、β−ジフェニルアクリル酸エチ
ルエステルまたはイソオクチルエステル、α−カルボメ
トキシシンナミン酸メチルエスブチ、α−シアノ−β−
メチル−ｐ−メトキシ−シンナミン酸メチルエステルま
たはブチルエステル、α−カルボメトキシ−ｐ−メトキ
シシンナミン酸メチルエステル、Ｎ−（β−カルボメト
キシ−β−シアンビニル）−２−メチルインドリン。

２．５　ニッケル化合物 例えば２，２′−チオ−ビス−（ａ　−（１，１，ｓ。

３−テトラメチルブチル）フェノール〕のニッケル錯体
、例えば所望によ１）ｎ−ブチルアミン、トリエタノー
ルアミンまたはＮ−シクロヘキシル−ジェタノールアミ
ンのような付加配位子を有する１：１または１：２錯体
、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロキ
シ−５゜５−ジー第三ブチルベンジルホスホン酸モノア
ルキルエステル例えばメチルエチルまたはブチルエステ
ルのニッケル塩、ケトオキシム例、ｔ　ハク−ヒドロキ
シ−４−メチルフェニルウンデシルケトオキシムのニッ
ケル錯体及び所望によシ付加配位子を含んでよい１−７
ヱニルー４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールの
ニッケル錯体。

２６、立体障害性アミン 例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチルーピベリ
ジル）セバケート、ビス（１，２，２，６゜６−ペンタ
メチルピペリジル）−セバケート、ｎ−ブチル−３，５
−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−マロン酸
−ビス（１，２，２゜６．６−ペンタメチルピペリジル
）エステル、１−ヒドロキシエチル−２，２，６，６−
テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸と
の縮合物、Ｎ　、　Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テト
ラメテルー４−ピペリジル）へキサメチレンジアミンと
４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，
５−トリアジンとの縮合物、トリス（２゜２．６．６−
テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテー
ト、テトラキス（２，２，６ローテトラメチルー４−ピ
ペリジル）　−１，２゜３．４−ブタンテトラカルボン
酸、１．１’−（１゜２−エタンジイル）−ビス（３，
３，５，５−テトラメチル−ピペラジノン）。

１７、　蓚酸ジアミド 例えば４，４′−ジオクチルオキシオキサニリド、２，
２′−ジオクチルオキシ−５，５１−ジー第三ブチルオ
キサニリド、２．２’−ジドデシルオキシ−５、５’−
ジー第三ブチルオキサニリド、２−エトキシ−２１−エ
チルオキサニリド、Ｎ、Ｎ’　−ビス（３−ジメチルア
ミノプロピル）オキサルアミド、２−エトキシ−５＝第
三ブチル−２′−エチルオキサニリド、及びこれと２−
エトキシ−２′−エチル−５，４′−ジー第三ブチル−
オキサニリドとの混合物、及びオルト−メトキシ及びパ
ラーメトキシニ置換オキサニリドの混合物及び〇−エト
キシ及びｐ−エトキシニ置換オキサニリドの混合物。

２、ａ　　ヒドロキシフェニル−５−）リアジン例えば
２，６−ビス−（２，４−ジメチル７エ二ル）−４−（
２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−３−
トリアジン；２，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニ
ル）−４−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−ｓ−ト
リアジン；λ４−ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル
）−６−（４−クロロフェニル）−３−トリアジン；２
．４−ビス〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエ
トキシ）フェニル］−６−（４−クロロフェニル）−ｓ
−トリアジン；２，４−ビス〔２−ヒドロキシ−４−（
２−ヒドロキシエトキシ）フェニルツー６−フェニル−
Ｓ−）リアジン；２．４−ビス〔２−ヒドロキシ−４−
（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）　−６−（２，
４−ジメチルフェニル）−３−トリアジン；２．４−ビ
ス〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ〕
フェニル］−６−（４〜ブロモフエニル）−ｓ−）リア
ジン；２，４−ビス〔２−ヒドロキシ−４−（２−７セ
トキシエトキシ）フェニル］−６−（４−クロロフェニ
ル）−ｓ−）リアジン、２，４−ビス（２，４−ジヒド
ロキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）
−ｇ−トリアジン。

五　金属不活性化剤 例えばＮ　、　Ｎ’−ジフェニル蓚酸ジアミド、Ｎ−サ
リチラルーＮ′−サリチロイルヒドラジン、Ｎ　、　Ｎ
’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ、Ｎ’ビス（
３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロ
ピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，
２，４−）リアゾール、ビス（ベンジリデン）蓚酸ジヒ
ドラジド。

４、　ホスフィツト及びホスホニ　ット例エバトリフェ
ニルホスフィツト、ジフェニルアルキルホスフィツト、
フエニルジアルキルホスフィノド、トリス（ノニルフェ
ニル）ホスフィツト、トリラウリルホスフィツト、トリ
オクタデシルホスフィツト、ジステアリルーペンタエリ
トリトールジホスフィット、トリス（２゜４−ジー第三
ブチルフェニル）ホスフィノド、ジイソデシルーペンタ
エリトリトールジホスフィソト、ヒス（２，４−ジー第
三ブチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィ
ット、トリステアリルノルビトールトリホスフィット、
テトラキス−（２，４−ジー第三ブチルフェニル）４．
４′−ビフエニレンージホスホニット。

五　過酸化物を破壊する化合物 例えばβ−チオジプロピオン酸のエステル、例としてラ
ウリルエステル、ステアリルエステル、ミリスチルエス
テルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミ
ダゾールまたは２−メルカプトベンズイミダゾールの亜
鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデシ
ルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β
−ドデシルメルカプト）グロピオネート。

＆　ヒドロキシルアミン 例え［Ｎ、Ｎ−ジベンジルヒドロキンルアミン、Ｎ、Ｎ
−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ。

Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ、Ｎ−ジラウリ
ルヒドロキシルアミン、Ｎ、Ｎ−ジオクタデシルヒドロ
キシルアミン％ＮｌＮ−ジヘキサデシルヒドロキシルア
ミン、ＮｌＮ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ
−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン
、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルア
ミン、水素化牛脂アミンから導かれたＮ、Ｎ−ジアルキ
ルヒドロキシルアミン。

ｌ　ポリアミド安定剤 例えば沃化物及び／または燐化合物と組合せた銅塩及び
二価のマンガンの塩。

例えばメラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジア
ミド、トリアリルシアヌレート、尿素訪導体、ヒドラジ
ン誘導体、アミン、ポリアミド°、ポリウレタン、高級
脂肪酸のアルカリ金属及びアルカリ土類金属塩例えばＣ
ａステアレート、Ｚｎステアレート、Ｍｇステアレート
、Ｎａリシル−ト、Ｋパルミテート、アンチモンピロカ
テコレートまたは亜鉛ビロカテコレート。

９　核剤 例えば４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニ
ル酢酸。

１α充填剤及び強化剤 例えば炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、アスベス
ト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化
物及び金属水酸化物、カーボンブラック、黒鉛。

１１、その他の添加物 例えば可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤
、静電防止剤、発泡剤及びジラウリルチオジグロピオネ
ートまたはジステアリルチオジグロビオネートのような
チオ相乗剤。

特に興味のあるのは本発明誘導体の、室温硬化及び酸触
媒塗料組成物を包含する各種の塗料組成物における利用
である。特に光沢の喪失と黄変を著しく減少させること
により塗料の物理的保全性が高度に維持される。重要な
改善は、Ｎ−アルキル封鎖アミン光安定剤で遭遇する硬
化遅延が実質的になくなること；ある糧の顔料入シ塗料
組成物にＮ−アルキル封鎖アミンを用いたときにみられ
る凝集と分散性の不安定化が実質的になくなること、そ
して塗料とポリカーボネート基地との間の接着力の喪失
がなくなることを包含している。従って本発明はまた、
本発明化合物を所望によシ他の安定剤と一緒に、アルキ
ッド樹脂；熱可塑性アクリル樹脂ニアクリルアルキッド
樹脂；所望によシシリコーン、イソシアネート、インシ
アヌレート、ケトイミンまたはオキサゾリジンにより変
性されたアクリルアルキッドもしくはポリエステル樹脂
；及びカルボン酸、無水物、ポリアミンまたはメルカプ
タンによシ架橋結合されたエポキシ樹脂；及び主鎖中の
反応基によシ変性され、そしてエポキシドによシ架橋結
合されたアクリル及びポリエステル樹脂組成物；をペー
スとする室温硬化塗料を、光、水分及び酸素の崩壊効果
に対して安定化するために使用する方法に関するもので
もある。

さらに、その工業的利用においては、架橋結合性アクリ
ル、−ポリエステル、−ウレタンまたは−アルキッド樹
脂をベースとする高固形分のエナメルが付加酸触媒によ
って硬化する。塩基性窒素基を含有する光安定剤は一般
にこの使用方法ではこれほど満足ではない。酸触媒と光
安定剤の間に塩が生成すると、塩の非相溶性または不溶
性及び沈澱の原因となり、硬化度の減少及び光保護作用
の低下及び水分岐対する乏しい抵抗性の原因となる。

これらの酸触媒焼付はラッカーは熱架橋結合性のアクリ
ル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミドまたはア
ルキッド樹脂をペースとしている。本発明によシ、光、
水分及び酸素に対して安定化され得るアクリル樹脂ラッ
カーは、慣用的なアクリル樹脂焼付はラッカーまたは例
えばエッチ、キッテ＃’ス（Ｈ，Ｋｉｔｔｅｌ’ｓ　）
″レールブック　デア　ラッケウント　ペジヒツンゲン
（Ｌｅｈｒｂｕｃｈ　ｄｅｒ　Ｌａｃｋｅ　ｕｎｄ　Ｂ
ｅｓｃｈｉｃｈｔｕｎｇｅｎ　）”第１巻、第２章、ｐ
７３５及び７４２（ベルリン１９７２）、エッチ、ワグ
ナ−（Ｈ，Ｗａｇｎｅｒ　）及びエッチ、エフ、サルク
ス（Ｈ，Ｆ、　８ａｒｘ）による１ラツク　クンスツハ
ルツエ（Ｌａｃｋ　Ｋｕｎｓｔｈａｒｚｅ　）”（１９
７７）ｐ２２９−２３８及びパウル’ｘ　（Ｐａｕｌ’
ｓ　）　’サーフェスコーチインゲス（Ｓｕｒｆａｃｅ
　Ｃｏａｔｉｎｇｓ）　：サイエンス　アンド　テクノ
ロジ（５ｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈ−ｎｏｌｏｇ
ｙ）’　（１９８５）に記載されているアクリル／メラ
ミン組成物を包含する熱硬化性樹脂である。

光と水分の作用に対して安定化され得るポリエステルラ
ッカーは例えば先に引用したエッチ。

ワグナ−及びエッチ、エフ、サルクスｐ８６−９９に記
載された慣用的焼付はラッカーである。

本発明に従って光と水分に対して安定化され得るアルキ
ッド樹脂は特に自動車塗装用に用いられる慣用的焼付は
ラッカー（自動車上塗シラツカ−）、例えばアルキッド
／メラミン樹脂及びアルキッド／アクリル／メラミン樹
脂をベースとするラッカーである（エッチ、ワグナ−及
びエッチ、エフ、サルクスｂ　　ｐ９９−１２５参照）
。

他の架橋結合剤にクリコルリル樹脂、ブロックトイソシ
アネートまたはエポキシ樹脂が包含される。

本発明に従って安定化される酸触媒焼付はラッカーは金
属上塗シ塗装及び特に修正上塗シの場合のソリッドシェ
ード上塗シの双方、並びに各種コイルの塗装用に適して
いる。本発明に従って安定化されるラッカーは一段塗装
法または二段塗装法のいずれかによる２種類の方法によ
シ、慣用的手段で施用されるのが好ましい。後の方法で
は、まず顔料含有ベース塗料を施用し、そして次に、そ
の上に透明ラッカーの被覆塗料が施用される。

本°発明の置換封鎖アミンは非酸触媒熱硬化樹脂、例え
ばエポキシ、エポキシ−ポリエステル、ビニル、アルキ
ッド、アクリル及び好ましくはシリコン、インシアネー
トまたはインシアヌレートによって変性されたポリエス
テルｓｔｍｏ　タめに使用されることにも注意すべきで
ある。エポキシ及びエポキシ−ポリエステル樹脂は慣用
的架橋結合剤、例えば酸、酸無水物、アミンその他同程
のものによって架橋結合される。

それ罠相当してエポキシドは主鎖構造における反応基の
存在によって変性された各種のアクリルまたはポリエス
テル樹脂組成物のための架橋結合剤として利用すること
ができる。

このような塗料で最高の光安定性に到達するためには、
他の慣用的光安定剤の同時使用が有利であり得る。その
例は、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、アクリル
酸訪導体、またはオキサニリドタイプの紫外線吸収剤、
またはアリール−５−）リアジンまたは金属含有光安定
剤、例えば有機ニッケル化合物である。二段塗装組成物
においては、これらの付加光安定剤を透明塗装及び／ｌ
たは顔料人シペース塗料に加えることができる。

もしこのような組合せが用いられるなら、すべての光安
定剤の総量はフィルム形成樹脂に対してα２ないし２０
重量％好ましくは０．５ないし５１五量チである。

前記のピペリジン化合物と共に用いることのできる異な
る分類の紫外線吸収剤の例はヨーロッピアン　ポリマー
　ジャーナル（ＥｕｒｏｐｅａｎＰｏｌｙｍｅｒ　Ｊｏ
ｕｒｎａｌ　）の補足板、　　１９６９．ｐｊ０５−１
３２（ｆ）　ｘ　ッｆ　、ジｘ　−、ヘラ−（Ｈ，Ｊ、
　Ｈｅ１ｌｅｒ　）による論文中で参照される。これら
の分類はフェニルサリチレート、０−ヒドロキシベンゾ
フェノン、ヒドロキシキサントン、ベンズオキサゾール
、ベンズイミダゾール、オキサジアゾール、トリアゾー
ル、ピリミジン、キナゾリン、Ｓ−トリアジン、ヒドロ
キシフェニル−ベンゾトリアゾール、アルファーシアノ
アクリレート及びベンゾエートを包含する。

特別重要な紫外線吸収剤のタイプは以下のものである。

（ａ）　　２−　（２’−ヒドロキシフェニル）−ベン
ゾトリアゾール、例えば５′−メチル−１３’　、　５
’−ジー第三ブチル−５′−第三ブチル、５’−（１，
１゜５．３−テトラメチルブチル）−５−クロロ−５’
　、　５’−ジー第三ブチル−５−クロロ−３′−第三
ブチル−５′−メチル、３′−第二プチル−５′−第三
プチル−１４′−オクトキシ−及び３′。

５′−ジー第三アミル誘導体。

■）　２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン、？ＩＬｔｉｉ
’、４−ヒドロキシ−４−メトキシ、４−オクトキシ−
４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ−４−べ／ジル
オキシ、４　、２’　、　４’　−トリヒドロキシ−及
び２′−ヒドロキシ−４，４′　　−ジメトキシ誘導体
。

（Ｃ）　　アクリレート、例えば、アルファーシアノ−
β、β−ジフェニルアクリル酸エチルエステルまたはイ
ソオクチルエステル、α−カルボメトキシ−シンナミン
酸メチルエステル、アルファーシアノ−β−メチル−ｐ
−メトキシ−シンナミン酸メチルエステルまたはブチル
エステル、アルファーカルボメトキシ−ｐ−メトキシ−
シンナミン酸メチルエステル、Ｎ−（β−カルボメトキ
シ−β−シアンビニル）−２−メチル−インドリン。

（ｄ）　　ニッケル化合物、例えば、２．２’−チオビ
ス−（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−
フェノール〕のニッケル錯体、例えば所望によシ、ｎ−
ブチルアミン、トリエタノールアミンまたｉＮ−シクロ
ヘキシル−ジェタノールアミンのよりな付加配位子を有
する１：１または１：２錯体、ニッケルジブチルジチオ
カーバメート、４−ヒドロキシ−６，５−ジー第三ブチ
ルベンジルホスホン酸モノアルキルエステル、例えばメ
チル、エチルまたはブチルエステルのニッケル塩、ケト
オキシム例えば２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウ
ンデシルケトオキシムのニッケル錯体及び所望により付
加配位子を含んでよい１−７エニルー４−２ウロイル−
５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。

（ｅ）　　蓚酸ジアミド、例えば４，４′−ジオクチル
オキシオキサニリド、２．２’−ジオクチルオキシ−５
，５′−ジー第三ブチルオキサニリド、２−エトキシ−
２′−エチルオキサニリド、Ｎ、Ｎ’−ビス（３−ジメ
チルアミンプロピル）オキサルアミド、２−エトキシ−
５−第三プチル−２′−エチルオキサニリド及びこれと
２−エトキシ−２′−エテル−５，４′−ジー第三ブチ
ル−オキサニリドとの混合物、及びオルト−メトキシ及
びバラメトキシニ置換オキサニリドの混合物及び〇−エ
トキシ及び−ｐ−エトキシニ置換オキサニリドの混合物
。

（ｆ）　　・ヒドロキシフェニル−５−トリアジン、例
えば２．６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−４
−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−
ｓ−トリアジンまたは相当する４−（２，４−ヒドロキ
シフェニル）誘導体。

本組成物において特に価値のあるのは高分子量そして低
揮発性のベンゾトリアゾール、例えば２−〔２−ヒドロ
キシ−３，５−ジ（アルファ。

アルファージメチルベンジル）−フェニル）−２Ｈ−ベ
ンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３゜ｓ−シ
ーｊｌＥ三オクチルフェニル）−２Ｈ−ペンツトリアゾ
ール、２−（２−ヒドロキシ−３−アルファ。

アルファージメチルベンジル−５−＠三オクチルフェニ
ル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキ
シ−３−第三オクチル−５−アルファ、アルファージメ
チルベンジルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、
２−（２−ヒドロキシ−３１５−ジー第三アミルフェニ
ル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキ
シ−３−第三ブチル−５−（２−（オメガ−ヒドロキシ
−オクタ−（エチレンオキシ）カルボニル）−エチルフ
ェニルクー２Ｈ−ベンゾトリアゾール、ドデシル化２−
（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベン
ゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ３−第三プチル
−５−（２−オクチルオキシカルボニル）エチルフェニ
ル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール及び上に挙げたベンゾ
トリアゾールの各々に対応する５−クロロ化合物である
。

本組成物において有用なベンゾ）　ＩＪアゾールで最も
好ましいものは２−〔２−ヒドロキシ−３，５−ジ（ア
ルファノアルファージメチルーペンジル）フェニル）−
２Ｈ−ベンゾトリアゾール、ドデシル化２−（２−ヒド
ロキシ−５−メチルフェニル）−２）１−ベンゾトリア
ゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３−第三プチル−５−
（２−（オメガ−ヒドロキシτオクタ−（エチレンオキ
シ）カルボニル）−エチルフェニルクー２Ｈ−ベンゾト
リアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−
５−（２−オクチルオキシカルボニル〕エチルフェニル
）−２）１−ベンゾトリアゾール及び５−クロロ−２−
〔２−ヒトＣＩＩＰシー３−第三プチル−５−（２−オ
クチルオキシカルボニル）エチルフェニルクー２Ｈ−ベ
ンゾトリアゾールである。

本化合物がポリオレフィン繊維、特にポリプロピレン繊
維のための安定剤として特に有効なことも期待される。

本発明の好ましい実施態様は、 （ａ）　　熱架橋結合性アクリル、ポリエステルま友は
アルキッド樹脂金ベースとする酸触媒熱硬化塗料ま次は
エナメル、 Φ）　式ｌまたは■で表わされる化合物、及び（Ｃ）　
　ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、アクリル酸誘
導体、有機ニッケル化合物、アリール−５−）リアジン
及びオキサニリドから成る群から選ばれた紫外線吸収剤
から成る安定化組成物に関するものである。

そのほか、エナメルまたは塗料が含有することのできる
成分は酸化防止剤、例えば立体障害フェノール訪導体の
酸化防止剤、燐化合物、例えばホスフィツト、ホスフィ
ンま九ハホスホニット、可塑剤、レベリング補助剤、硬
化触媒、増粘剤、分散剤または接着促進剤である。

本発明の他の好ましい態様は付加的に成分（ｄ）として
ホスフィツトまたはホスホニットを含有する上記の成分
（ａ）、Φ）及び（Ｃ）を含有する安定化組成物である
。

本発明組成物において用いられるホスフィツトまたはホ
スホニット（ｄ）の量は、フィルム形成樹脂を基準とし
てｎ、ｏｓないし２重量係、好ましくＦｉ（Ｌｌないし
１３ｉ量慢である。二段塗装系においてはこれらの安定
剤を透明塗料及び／または下塗塗料に加えるこ七ができ
る。

代表的なホスフィツト及びホスホニットはトリフェニル
ホスフィツト、ジフェニルアルキルホスフィツト、フエ
ニルジアルキルホスフィツト、フエニルジアルキルホス
フィツト、トリー（ノニルフェニル）ホスフィツト、ト
リラウリルホスフィツト、トリオクタデシルホスフィツ
ト、ジーステアリルーペンクエリスリトールジホスフィ
ッ・ト、トリス−（２，４−ジー第三ブチルフェニル）
ホスフィツト、ジイノデシルペンタエリスリトールジホ
スフィット、トリステアリル−ソルビトールトリホスフ
ィツト、テトラＡ’ス−（２ｓ４−シー第三ブチルフェ
ニル）　−４゜４′−ジフェニレンジホスホニットを包
含する。

安定剤は硬化エナメルに、２０°光沢、映像の鮮明度、
亀裂またはチラーキングによって側られるような耐久性
をより高度に保全するために必要とされる；安定剤は、
１２１℃での自動車の仕上塗料の通常の焼付けや、８２
℃での低温焼付は修理において、硬度、接着力、耐溶媒
性及び耐湿性によシ測られるような硬化を遅らせてはな
らず、硬化の際にエナメルが黄変してはならず、そして
さらに露光による変色が最少限でなければならない；安
定剤は通常、塗装で用いられる有機溶媒、例えば、メチ
ルアミルケトン、キシレン、ｎ−ヘキシルアセテート、
アルコールその他類似のものに溶解しなければならない
。

〇−置換成分によりＮ−原子の上で置換されている本発
明の封鎖アミン光安定剤はこれらの要求の各々を満たし
、単独で、または紫外線吸収剤と組合せて、硬化した酸
触媒熱硬化エナメルに著しい光安定化保護効果を与える
。

本発明安定剤についての、なお別の好ましい組合せはガ
ス退色からポリプロピレン繊維を保護するためのヒドロ
キシルアミンとの組合せである。

（実施例及び発明の効果） 下記の実施例は、単に説明の目的のために提供されるも
のであって、何等、本発明の性質ま九は範囲を制限する
ものではない。

４−ペンツイルオキシ−１−オキシル−２，２゜６．６
−テトラメテルピベリジン３五６９　（１２２ミリモル
）、ジー第三ブチルパーオキシド２ｉｔ（１５７ミリモ
ル）及びシクロヘキサン７０−の溶液を、フィッシャー
ポーター耐圧壜において、１３８℃で＆５時間加熱する
。反応混合物をシリカゲル（２００：１ヘプタン：エチ
ルアセテート）上で７ラツシエクロマトグラフイにより
精製し、表題の化合物５５．１ｔ　（８１％収率）を無
色の油状物として得る。

分析値： 計算値（ＣｕＨｓｔＮＯｓ　）　：　Ｃ，７五９；Ｈ，
＆７；〜、五９゜実測値：Ｃ２７五７　；）ｉ、＆８　
：Ｎ、五９゜実施例ＩＢ　　１．４−ビス（４−ベンゾ
イルオキ実施例１人で製造された化合物４ｉ　ｆ　（１
２２ミリモル）、４−ベンゾイルオキシ−１−オキシル
−２，２，６，６−チトラメチルピペリジン４ＣＬ５　
ｆ　（１４７ミリモル〕、ジー第三ブチルパーオキシド
１７．８Ｆ（１２２ミルモル）及び１．２−ジクロロベ
ンゼン５０ｍ１の混合物ヲフィッシャーポーター耐圧壜
において１３５℃で５．５時間加熱する。粗反応混合物
をシリカゲル（ヘキサン；次に１００：３ヘプタン：エ
チルアセテート）上で７ラツシエ　クロマトグラフィに
より精製し、表題の化合物４．　Ｏｒ　′ｔ−融点１４
０〜１４２℃の白色固体として得る。

分析値： 計算値（０３Ｂ　Ｈ５２Ｎ　２０６　）　：　Ｃｒ　７
　Ｚ　１；　Ｈ＋　＆　３１　Ｎ　＋　４４　。

実測値：　Ｃ，７２，０；Ｈ，ａ５　；　Ｎ、　４．３
゜イルオキシ）−シクロヘキサン 実施例１Ｂで製造した１、４−ビス（４−ベンゾイルオ
キシ−２，２，６，６−テトラメチルビペリジン−１−
イルオキシ）−２−シクロヘキサンの接触的水素化によ
って表題の化合物を得る。

４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル
ビベリジン５５．３Ｆ（α２モル）、三酸化モリブデン
２．８ｆ及びｎ−オクタン２５０ｄの混合物ヲ１２０℃
に加熱する。第三ブチルヒドロパーオキシドの７０慢水
溶液９０．２ｆ（ｌ１７モル）を熱反応混合物に滴下す
る。共沸蒸溜によって水分を除き、ジー７−　スタにり
（Ｄｅａｎ−８ｔａｒｋ　）トラップに集める。中間物
のＮ−オキシル化合物の赤色が消失するまで反応混合物
を還流加熱する。濾過によって固形物を除き、ｐ液を真
空濃縮して油状物を得る。シリカゲル（１００：３ヘプ
タン：エチルアセテート）上のフラッシュクロマトグラ
フィによシ油状物を精製し、４−ベンゾイルオキシ−４
−オクチルオキシ−２２６，６−テトラメチルビベリジ
ンをオクチルオキシ異性体の混合物として得る。さらに
５０：３へブタン：エチルアセテートによりクロマトグ
ラフィカラムを溶離し、表題の化合物をオクタンジイル
異性体の混合物として得る。

オクタン 実施例３で製造された化合物の塩基性加水分解（エタノ
ール中の水酸化カリウム）により表題の化合物を製造す
る。

この反応は窒素気流中で行なわれる。４−ベンゾイルオ
キシ−１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルビ
ペリジン６＆５　ｆ　（２４１ｔリモル）、１．８−シ
イオドオクタン２Ｉ１１　ｆ　（５４９ミリモル）及び
クロロベンゼン１６０ｄの溶液にトリブチル錫水素化物
３２．１　？　（１１０ｉ　＋）モル）を３時間かけて
滴下する。トリブチル錫水素化物の添加を始める前に溶
液を１０℃に予備冷却する。滴下中、反応混合物を２０
℃以下に保ち、そして次に室温で１７時間攪拌する。赤
色の反応混合物をシリカゲル（ヘプタン、次に１００：
３ヘプタン：エチルアセテート）のカラムに通す。所望
の製品を含有している部分を濃縮し、２１．５９の粗製
固形物を得る。粗製固形物の溶液をアンモニア水で洗浄
することによりトリブチル錫沃化物ｔ−除＜。フラッシ
ュクロマトグラフィ（２０：１ヘプタン：エチルアセテ
ート）による最後の精製で標記の化合物１α６ｔｆ融点
１０６−１０８℃の白色固体として得る。実施例３で製
造した化合物と対照的に表題の化合物はたソ一種のオク
タンジイル異性体から成っている。

分析値： 計算値（Ｃａ。Ｈ６゜Ｎ、Ｏ，）：Ｃ，７Ｌ５　；Ｈ，
？、１　；Ｎ、４．２゜実測値二Ｃ，７２，４；Ｈ，？
、４　：Ｎ、４０゜実施例６人　ビス（４−ベンゾイル
オキシ−２゜６−テトラメチルビペリジン−１−イルオ
キシ）ヘプタンジイル異性体の混合物からなる表題の化
合物を実施例３の手続きに従い、オクタンをヘプタン忙
置換えることＫよって製造する。

実施例７人で製造した化合物の塩基性加水分解（エタノ
ール中の水酸化カリウム）により表題の化合物を製造す
る。

ヘプタン 実施例６Ａで製造した化合物の塩基性加水分解（エタノ
ール中の水酸化カリウム）によシ表題の化合物管製造す
る。

オクタンジイル異性体の混合物から成る表題の化合物を
、実施例３の手続きに従い、４−ベンゾイルオキシ−２
，２，６，６−テトラメチルピベリジンｆ：４−（３−
ドデシルザクシンイミド−１−イル）−２，２，６，６
−テトラメチルビペリジンに置換えることによって製造
する。

シクロヘキサンジイル異性体の混合物から成る表題の化
合物を、実施例３の手続きに従い、オクタンをシクロヘ
キサンに置換えることによって製造する。

オクタンジイル異性体の混合物である表題の化合物を、
実施例３の手続きに従い、４−ベンシイルーオキシ−２
、２、６，６−テトラメチルピヘＩＪ　シ：ｙｆＮ　−
（２−（エトキシカルボニルメトキシ）フェニル）−Ｎ
’−（２，２，６，６−テトラメチルビベリジン−４−
イル）オキサミドに置換えることによって製造する。

オクタンジイル異性体の混合物である表題の化合物を、
実施例５の手続きに従い、４−ベンゾイルオキシ−２，
２，６，６−チトラメチルピペリジンを４−アセトアミ
ド−２，２，６，６−チトラメチルピペリジンに置換え
ることによって製造する。

ブタン 実施例１０Ａにおいて製造され次化合物の酸加水分解（
３Ｎ塩５！を用いて還流）によって表題の化合物を製造
する。

実施例１１　オクタンジイルビス　メチル１−オクタン
ジイル異性体の混合物からなる表題の化合物を実施例３
の手続きに従い、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，
６−チトラメチルピペリジンをメチル−２，２，６，６
−テトラメチルピペリジン−４−イルセパケートに置換
えることによって製造する。

４−ベンゾイルオキシ−１−オキシル−２，２１６，６
−テトラメチルピペリジン８０ミ９９０％第三ブチルヒ
ドロパーオキシド２５０ミリモル、オクタデカン１２５
を及び三酸化モリブデン５ミリモルの混合物”ｌ　Ｎ−
オキシル化合物の赤色がこれ以上見えなくなる迄、耐圧
項中で１４０℃で加熱する。反応混合物を７ラツシユク
ロマトグラフイにより精製する。

実施例１３１．４−ビス（４−ペン”シイにオキナフタ
レン ４−ベンゾイルオキシ−１−オキシル−２．２。

６、６−テトラメチルピペリジン８０ミ９９０％第三ブ
チルヒドロパーオギシド３００ミルモル、二酸化モリブ
デン５ミリモル及び１，２。

５、４−テトラヒドロナフタレン（テトラリン）８０モ
ルの混合物ｅ、Ｎ−オキシル出発物質の赤色がこれ以上
見えなくなる迄、耐圧項中で１５５℃で加熱する。粗製
反応混合物を７ラツシエクロマトグラフイにより精製し
、表題の化合物を得る。

１−ヒドロキシ−４−オクタデカノイルオキ−ｙ−　２
．２，６．６−テトラメチルビペリジンのテトラヒドロ
フラン溶液を水素化ナトリウムと反応させ、次にα５モ
ル当量の１．４−ジブロモブタンと同志させることによ
って表題の化合物を製造する。

実施例５０手続きに従い４−ベンジルオキシ−１−オキ
シル−２．２，６．６−テトラメチルビペリジンと１，
１０−シイオドデカンから表題の化合物を製造する。

窒素気流中で反応を行なう。４−ベンゾイルオキシ−１
−オキシル−２．２，６．６−テトラメチルビペリジン
４ｒ：１．Ｏ　ｆ　（　１４５ミルモル）、沃化メチレ
ン（シイオドメタン）９．０ｆ（５五６ミルモル）及び
クロロベンゼン７５ｄの１０℃に予備冷却した溶液に水
素化トリ、ブチル錫２α０２（６ＦＬアミルモル）（（
２．７５時間かけて滴下する。

添加中に反応温度が２７℃に達する。添加が完了した後
赤色の混合物を室温で２７時間攪拌する。次に反応混合
物をシリカゲル（ヘプタン、次［１０（１０）ヘプタン
：エチルアセテート）に通す。所望の製品を含有する部
分を濃縮し粗製の固形物２得る。粗製固形物の溶液をア
ンモニア水で洗浄することによ）沃化トリブチル錫を除
く。シリカゲル（１００：５ヘプタン：エチルアセテー
ト）での７ラツシエクロマトグラフイによる最後の′ｎ
ｊＩｌ！′とその後のへブタンからの再結晶化により、
表題の化合物４．８　ｔ　′ｆｔ融点１２６−１２７℃
の白色固体として得る。

分析値： 計算値（Ｃ１３）１４６Ｎ１０ｇ）：　Ｃ，６９，９；
Ｈ，ａ２；Ｎ、４９゜実測値：Ｃ，７ＩＩＱ：に４．＆
２：Ｎ、５．０゜４−アセトアミド−２，２，６，６−
チトラメチルビリジンとシクロオクタンから製造する。

ロオクタン 実施例１７Ａで製造した化合物の３Ｎ塩酸中における還
流下、加水分解によシ表題の化合物を製造する。

混合物 実施例１２の手続きに従ｂ１オクタデカンをデカヒドロ
ナフタレン（デカリン）に置換えることによｐ表題の混
合物を製造する。

実施例１０Ａの手続きに従い、シクロオクタン　　　実
施例５の手続きに従い、メチルシクロヘキシイル異性体
の混合物から成る表題の化合物を　　サンジイル異性体
の混合物から放る表題の化合物ｔ−４−ベンゾイル−オ
キシ−１−オキシル−２，２，６，６−テトラメテルピ
ベリジンとメチルシクロヘキサンから製造する。

実施例４で創造した化合物と７クリロイルクロリドとの
反応によシ表題の化合物を製造する。

実施例１６０手続きに従い、表題の化合物を４−ベンゾ
イルオキシ−１−オキシル−２，２゜６．６−テト２メ
チルピペリジンと２，２−ジブロモプロパンから製造す
る。

ジー（２，２，６，６−テトラメチルピベリジンー４−
イル）セパクー）　２ａＯｆ　（４１，６ミリモル）、
ｔ−ブチルヒドロパーオキシドの７０％水溶液４３　ｔ
　（５５４ミリモル）、二酸化モリブデ、７１．３ｆ　
（９，０ミリモル）、及びシクロヘキサン１２５ｄの混
合物ｆ２．５時間還流加熱する。水分をジ−７−スタル
ク　トラップに集める。赤色の反応混合物を冷却し、そ
してフィッシャー−ポーター（ｋ１正５ｃｈｅｒ−Ｐｏ
ｒｔｅｒ　）壜に移す。フラスコ全十分にす＼ぐために
新しいシクロヘキサン２５ｄを用い、セしてす＼ぎ液を
耐圧壜に加える。耐圧壜ヲ１４０℃の油浴に３時間浸漬
し、無色の反応混合物を室温に冷却して濾過する。Ｆ液
金水９０ｄ中の硫化ナトリウム１０ｔと共に２時間攪拌
し、未反応のヒドロパーオ中シトを分解し、次にエチル
アセテート２００ｄと水１００ｄにより稀釈する。有機
相ｔ−１０％硫化す）　ＩＪウム水溶液１００ゴ、水１
００耐、飽和食塩水１００ｄで洗滌し、次に硫酸マグネ
シウム上で乾燥し、そして減圧濃縮する。７ラツシ島ク
ロマトグラフィ（シリカゲル、５０：１ヘプタン：エチ
ルアセテート）によシ粗製物を精製しジー（１−シクロ
ヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルビペリ
ジ／−４−）セバケート１７．８？（６５ｅ４収率）を
融点５６−９℃の白色固体として得る。次に１０：１へ
プタンニエチルアセテートによシカラムを溶離し、表題
の化合物をシクロヘキサンジイル異性体の混合物として
得る。

ト　〕 ジー（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−
イル）セバケート３五〇Ｆ（７２，８ミルモル〕、ｔ−
ブチルヒドロパーオキシド９０％水溶液５＆５　ｆ　（
５８２ミルモル）、三酸化モリブデン２−。

ｒ及びヘプタン２５０ｄの混合物をフィッシャー−ポー
ター増巾で１４０℃で加熱する。時折シの排気によシ圧
力を４Ｏ−５０ｐｓｉに維持する。７時間後に加熱を中
断する。ｔ−ブチルヒドロパーオキシド９０チ水溶液２
ＣＬＯｆ　ｆ追加して反応混合物ヲ１４０℃で１時間加
熱する。この時迄に反応混合物は無色に近くなる。反応
混合物全冷却して炉遇して触媒を除く。有機相を分離し
、硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして全容１０〇−に
濃縮する。溶液をシリカゲルに通し、ヘプタンで溶離す
る。溶液を蒸発し、ジー（１−へブチルオキシ−２，２
，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケ
ート３＆９ｔ（７２％収率）を無色に近い油状物として
得る。次に１０＝１へブタン：エチルアセテートによる
カラムの溶離によ°ｐ、表題の化合物をへブタンジイル
異性体の混合物として得る。

ケ　−　　ト　　〕 ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−
イル）セバケート７！Ｌ４Ｐ（ＣＬ１５７モル）、三酸
化モリブデン１．２５Ｆ（１１Ｌ７ミリモル）及び１１
５℃に加熱されたｎ−オクタン５７０ｄの混合物にｔ−
ブチルヒドロパーオキシド７０俤水溶液１４０　ｆ　（
１，０９モル）１−１窒素気流中で６時間かけて加える
。添加の間に反応混合物の還流をつソける。水分全ジー
ンースタルク　トラップに集める。添加完了後、赤色の
反応混合物ｔ−７時間還流（９５−９７℃）加熱し、赤
色を抜く。

濾過によって三酸化モリブデンを除く。黄色のＦ液を活
性炭（ＤＡＲＣＯ）　１ｓ　ｔと共に室温で３０分間攪
拌し、黄色の一部を除き、そして次に減圧濃縮する。粗
製品をシリカゲル（１００：３ヘプタン：エチルアセテ
ート）上で７ラツシー　クロマトグラフィにより精製し
、ジ（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメ
チルピベリジンー４−イル）セバケート９２．９ｔ（８
０饅収率）を無色の油状物として得る。次に１′０：１
へブタン：エチルアセテートによりカラムを溶離し、表
題の化合物をオクタンジイル異性体の混合物として得る
。

分析値： 計算値（Ｃ，、Ｈ，、、Ｎ、（１０）．）：Ｃ，７（Ｌ
７；Ｈ，１１，１；Ｎ、４．１゜実測値：Ｃ１６’Ｚ８
；Ｈ，１ｔ５；へ９歳１゜第三ブチルヒドロパーオキシ
ド７０憾水溶液１０五９ｆ　（８０７ミリモル）シクロ
ヘキサン（２００ｔＪ）及び塩化ナトリウム１５９の２
相混合物を分液漏斗中で振盪する。有機相を硫酸マグネ
シウム上で乾燥し、濾過してビス（２，２゜６．６−テ
トラメチルビペリジン−４−イル）サクシネート４　Ｇ
　？　（１（１０）ミリモル）に加える。

三酸化モリブデン２．（１０）＠加えて、混合物を１時
間還流加熱する。水分をジーンースタルクトラップに集
める。次に全反応混合物ｔ′フィッシャーーポーター耐
圧壜に移して１４０℃でる時間加熱する。追加の第三ブ
チルヒドロパーオキシド９０ｇ６水溶液１（Ｌｌ　Ｆ　
（１（Ｎξリモル）を加えて、さらに１時間加熱を続け
る。無色の反応混合物ｔ−濾過、濃縮してヘプタン２０
０−は溶解する。ヘプタン溶液を溶離液としてのへブタ
ンとともにシリカゲルのカラムに通し、ビス（１−シク
ロヘキシルオキシ−２，２，６，４−テトラメチルピペ
リジン−４−イル）サクシネート４ｔ２Ｆ（４９）収率
）ｔ−融点１２２〜１２６℃の白色固体として得る。さ
らにカラムを１０＝１へブタン：エチルアセテートによ
〕溶離すると表題の化合物をシクロヘキサンジイル異性
体の混合物として得る。

ｎ−オクタン２００−を用いて実施例２４の手続きを繰
返すと、２ないし５個のビス（１−オキシ−２，２，６
，６−テトラメチルビペリジン−４−イル）セ・バケー
ト成分金含有するオリゴマーの混合物を得る。

ヘプタン８０ｄｔ−用いて実施例２３の手続きを繰返す
と、２ないし５個のビス（１−オキシ−２，２，６，６
−テトラメチルビペリジン−４−イル）セバケート成分
を含有するオリゴマーの混合物を得る。

シクロヘキサン４０ｄｉ用いて実施例２２０手続きを繰
返すと、２ないし５個のビス（１−オキシ−２，２，６
，６−テトラメチルビベリジン−４−イル）セバケート
成分を含有するオリゴマーの混合物を得る。

シクロヘキサン７５ｄｔ−用いて実施例２５の手続きを
繰返すと、２ないし５個のビス（１−オキシ−２，２，
６，６−テトラメチルビペリジン−４−イル）サクシネ
ート成分を含有するオリゴマーの混合物を得る。

クタンジイルのオリゴマー 実施例２６の手続きに従い、ビス（２，２，６゜６−テ
トラメチルピペリジン−４−イル）セバケートをビス（
２−（（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４
−イル）アミノカルボニル）メトキシ〕オキサニリドに
置換えることによりオリゴマーの混合物を得る。

ド〕 実施例２５の手続きに従い、ビス（２，２，６゜６−テ
トラメチルビペリジン−４−イル）サクシネートをＮ、
Ｎ’−ジブチル−Ｎ、Ｎ’−ジ（２，２゜６．６−テト
ラメチルピペリジン−４−イル）オキサミドに置換える
ことによシ表題の化合物を製造する。

テトラヒドロフラン中、３．１５−ジイル−ビス（ヒド
ロキシ）　−２，２，４，４，１４，１４，１６，１６
−オクタメチル−７，１１，１８，２１−テトラオキサ
−５，１５−ジアザトリスピロ（５，２，２，５，２゜
２〕ヘネイコサン１ａａミリモルの苗液に過剰の水素化
ナトリウムを加える。この溶液にテトラヒドロフラン中
、１．４−シイオド・ブタン１２５モｋ（ＤｍｆｌＬｋ
滴下する。アルキル化反応が完了した後、末端Ｎ−（４
−イオドプチルオキシ）残留物を減少させるために、反
応混合物ヲトリブチル錫水素化物と触媒量の２，２′−
アゾビス（２−メチル−プロビオニトリル）によって処
理する。

クロロベンゼン中、ビス（１−オキシル−２゜２．６．
６−テトラメチルビペリジン−４−イル）インフタシー
ト１７５ミリモル及び１．８−シイオドオクタン１００
ミリモルの溶液にトリブチル水素化物２００ミＩＪそル
を滴下する。粗製反応混合物を、溶媒を除くための溶離
液としてのヘキサンと共にシリカゲルのカラムに通す。

さらにヘキサン：エチルアセテートにより溶離して、オ
リゴマーの混合物としての製品を得る。

オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピベリジ第三
ブチルヒドロパーオキシドの７０％水溶液８α（１（ｌ
１６２１モル）を、あらかじめ１２５℃に加熱され九ビ
ス（２，２，６，６−テトラメチルビペリジン−４−イ
ル〕セバケート６０．４ｔ（α１２５モル）三酸化モリ
ブデンｔ８を及びｎ−オクタン６２０ｄの混合物に窒素
気流中で５時間かけて加える。添加中は、反応混合物の
還流をつ輩ける。水分をジーンースタルク　トラップに
集める。添加が完了し九後、２時間、赤色の反応混合物
全加熱還流する。固形物をｐ過によって除き、赤色のｐ
液を減圧濃縮する。濃縮液をシリカゲル（２０二１次に
１０：１へブタン：エチルアセテート）上のフラッシエ
クロマトグラフイによシ精製し、表題の化合物２６．４
ｔｆ赤色油状物として得る。

６−テトラメチルビペリジン−４−イル）セバケ　−　
　ト　　〕 実施例３４Ａで生成した化合物２６．４　ｆ　（４２，
１モル）、１，８−シイオドオクタン五６　ｔ　（９，
８ミリモル）及ヒクロロベンゼン５０ａｄから成る溶液
を窒素気流中で１０℃に冷却する。トリブチル錫水素化
物７．０　ｆ　（２４，１ミリモル）を冷却した溶液に
４５分かけて滴下する。次に反応混合物を室温で１６時
間攪拌し、そして最後にシリカゲルのカラムに注ぐ。ヘ
プタン、１００：５ヘゲタン：エチルアセテート、そし
て５０：３へプタンニエチルアセテートによル、カラム
を連続的に溶離する。粗生成物を含有する部分を合併し
て蒸発すると油状物を得、トリブチル錫沃化物を除くた
めにアンモニア水で洗浄する。シリカゲル（５０二３へ
ブタン：エチレンアセテート）上での７ラツシ為クロマ
トグラフイによる最後の精製によシ表題の化合物五〇ｆ
ｔ−無色の油状物として得る。

分析値二 計算値（Ｃｓ。Ｈ４゜Ｎ、Ｏ□）：Ｃ，７α７；Ｈ，１
１，ｉ；Ｎ、４．１゜実測値：Ｃ，７１，０；Ｈ，１ｔ
７’；Ｎ、五９゜クロロベンゼン中の４−ヒドロキシ−
１−オキシル−２，２，６，６−チトラメチルピペリジ
ンと１−イオドオクタンとの溶液に、トリブチル錫水素
化物全窒素気流中で滴下することによル表題の化合物を
製造する。

実施例３５Ａで製造された化合物、４−ヒドロキシ−１
−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルビペリジン
、トリエチルアミン及びメチレンクロリドの混合物にイ
ンフタロイルジクロリドを滴下する。通常の方法で反応
混合物の処理奮進め、シリカゲル上の７ラツシエクロマ
トグラフイによ〕精製し、表題の化合物を得る。

表わし、そしてＥｌ及びＥ、は双方ともオクチル基を表
わす。）が参照となる。

１．８−シイオドオクタンと実施例１４Ｂで製造された
化合物とのクロロベンゼン溶液にトリブチル錫水素化物
を加える。７ラツシ島クロマトグラフイにより精製する
と１−（８−イオドオクテルオキシ）−２，２，６，６
−テトラメチルピペリジン−４−イル　イソフタレート
と表題の化合物を得る。

実施例ＳＳＣの表題の化合物の構造は次式Ａ二（式中、
ｎは１を表わし；Ｇはインフタレート基を表わし：Ｔは
１．８−オクタンジイル基を４−ヒドロキシ−１−オキ
シル−２，２，６゜６−テトラメチルビベリジンと実施
例３５Ｃで遊離された１−（８−イオドオクチルオキシ
）−２゜２．６．６−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル
ビペリジン−４−イル　イソフタレートとを含有スるク
ロロベンゼン溶液にトリブチル錫水素化物を加えること
によシ表題の化合物全製造する。

オクタンジイル基を表わし、そしてＥｌ及びＥ。

インフタロイルジクロリドと、トリエチルアミン、メチ
レンクロリド及び実施例３６Ａで製造され良化合物から
成る混合物との反応により表題の化合物を製造する。

ジ、イオドメタンと実施例３７Ａで製造された化合物ト
のクロロベンゼン溶液にトリブチル錫水素化物を加える
ことによシ、表題の化合物を製造する。

４−ヒドロキシ−１−メト中シー２．２，６゜６−チト
ラメチルピペリジン、４−ヒドロキシル−１−オキシル
−２，２，６，６−テトラメチルビペリジン、トリエチ
ルアミン及びメチレンクロリドの混合物にセバコイルク
ロリドを加える。

通常の方法によって反応混合物の処理を進め、そしてシ
リカゲル上のフラッジ島クロマトグラフィによシ精製し
、表題の化合物を得る。

４−ヒドロキシ−１−オキシル−２，２，６゜６−テト
ラメチルビペリジン、実施例３＋６Ａで製造され良化合
物、トリエチルアミン及びメチレンクロリドの混合物に
イソフタロイルジクロリドを加える。通常の方法で反応
混合物の処理を進め、シリカゲル上のフラッジ島クロマ
トグラフィによシ精製すると表題の化合物を得る。

噸パケート １．８−シイオドオクタンと実施例５６Ａで製造された
Ｎ−オキシル化合物のクロロベンゼン溶液にトリブチル
錫水素化物を加える。フラッシュクロマトグラフィによ
シ精製すると表題の化合物を得る。

反応混合物から分離した副生物は弐Ａで表わされ、式中
のｎが１を表わし、Ｇがインフタレート基を表わし、Ｔ
がオクタンジイル基を表わし、Ｅｌがオクチル基を表わ
し、そしてＥ、が−（ＣＨ，）、　ＣＨ，Ｉ基を表わす
化合物である。

ビス（１−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン−４−イル）インフタレートを水素化ナトリ
ウムと反応させ、次に実施例３Ｂで分離された副生物で
、弐Ａにて表わされ、式中のｎが１を表わし、Ｇがイン
フタレート基金表わし、Ｔがオクタンジイル基を表わし
％Ｅｌがオクチル基を表わし、そしてＥ、が−（ＣＨ，
）、Ｃ）ｉ、Ｉを表わす化合物と反応させることによっ
て製造される表題の化合物。

この実施例によシ本発明安定剤の光安定化効果を説明す
る。

安定化されてないポリプロピレン粉末〔７〜−キｚ　Ｌ
／　ス　　ブロア　７　ｙゲス（Ｈｅｒｃｕｌｅｓ　Ｐ
ｒｏｆａｘ　）６５（１０））１ｆｔ：（Ｌ２重ｉ−の
式！または■で表わされる化合物と十分に混合する。次
に、混合した材料を２本−ロール練り機において１８２
℃で５分間線プ、その後で安定化したポリプロピレンを
練〕機から圧延してシートとし放置冷却する。

次Ｋａられたポリプロピレン全カットして小片とし、そ
して２２０℃でｔ２ｘ１０Ｐａの油圧プレスで圧縮成形
し１１２７簡のフィルムにする。サンプルを暗光室で螢
光太陽光線に破Ｍまで曝す。

露光されたフィルムにおける赤外分光によシ、α５カル
ボニル吸収に達したときを破壊とする。

実施例１．２及び３の化合物の各々がポリプロピレンを
化学線の劣化効果から保護するための光安定剤として有
効である。

２−ヒドロキシエチルアクリレート、フチルアクリレー
ト、メチルメタアクリレート、スチレン及びアクリル酸
のコポリマーよシ成る７０重量係のバインダーと、酸触
媒としてのｐ−）ルエンスルホン酸、ジノニルナフタレ
ンジスルホン酸またはドデシルベンゼンスルホン酸ノ存
在する３０重１１％のメラミン樹脂をペースとする熱硬
化アクリルエナメルを樹脂固体全ペースとして２重量悌
のベンゾトリアゾール紫外線吸収剤と有効安定化量の試
験封鎖アミン光安定剤を含有するように配合する。

市販のエポキシ下塗りの１（Ｌ１６ｃｙｙ＋Ｘ３α４８
５１ハネル〔アドバンスト　コーチインゲス　テクノロ
ジー（Ａｄｖａｎｃｅｄ　Ｃｏａｔｅｎｇｓ　Ｔｅｃｈ
ｎｏｌｏｇｙ　）からのユニプリム（Ｕｎｌｐｒｉｍ　
）　］　　ｆシルバー　メタリック下ａシ塗料で約１０
２５ｗｍの厚さにスプレー塗装し、そして３分間空気乾
燥する。次に下塗シされたパネルに安定化された熱硬化
アクリル樹脂エナメルを約ＣＬＯ４９ｆｉの厚さにスプ
レー塗装子る。１５分の空気乾燥後、塗装したシー）ｉ
１２１℃で５０分間焼付ける。

空調室に１週間貯蔵した後、塗装し九パネルを試験法Ａ
８ＴＭＧ−５５／７７にょシ、ＱＵＶ　＠露装置におけ
る耐候試験にかける。この試験においては、サンプルは
５０℃の湿シ大気中に４時間、そして次に紫外線下に７
０℃で８時間の繰返しサイクルで耐候試験される。パネ
ルはＱＵＶ中に１５００時間曝される。曝露の前後にパ
ネルの２０＠光沢度金測定する。

安定化されたパネルの光沢の喪失は安定化されてない対
照パネルのそれよシもかなシ少ない。

Claims (21)

【特許請求の範囲】
1. （１）次式 I またはII： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、ｍは２ないし１０を表わし、ｎは １ないし５を表わし、 Ｒ＿１及びＲ＿２は独立して炭素原子数１ないし４のア
   ルキル基を表わし、またはＲ＿１及びＲ＿２は一緒にな
   ってペンタメチレン基を表わし、Ｌは炭素原子数１ない
   し１８のアルカンも しくはアルケンのｍ価の基、炭素原子数５ないし１２の
   シクロアルカンまたはシクロアルケンのｍ価の基、飽和
   または不飽和の炭素原子数７ないし１２の二環式もしく
   は三環式の炭化水素のｍ価の基、または炭素原子数６な
   いし１５のアリール炭化水素、アルキル置換アリール炭
   化水素またはアルアルキル炭化水素のｍ価の基を表わし
   、但しＮ−Ｏ基は必ずしもＬにおける同一の炭素原子に
   接続することを必要とせず、 ＴはＲ＿３−ＣＯＯ−、Ｒ＿４−ＯＣＯ−、Ｒ＿３−Ｃ
   ＯＮＲ＿５、▲数式、化学式、表等があります▼、Ｒ＿
   ４ＮＨＣＯＣＯＮＨ−、 ▲数式、化学式、表等があります▼、 Ｒ＿４ＯＣＯ（ＣＨ＿２）＿ｑＮＨ−、Ｒ＿４ＯＣＯ（
   ＣＨ＿２）＿ｐＣＯＯ−、▲数式、化学式、表等があり
   ます▼及び▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる基からなる群から選ばれた有機部分を表わ
   し、 上記の式中、Ｒ＿３は脂肪族、環式脂肪族、不飽和脂肪
   族または芳香族のカルボキシル基を除いたカルボン酸基
   を表わし、 Ｒ＿４は脂肪族、環式脂肪族の、または不飽和脂肪族の
   ヒドロキシル基を除いたアルコール基を表わし、 Ｒ＿５は水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基
   または▲数式、化学式、表等があります▼で表わされる 基を表わし、式中Ｌ＿１はＬの意味の１価の基を表わし
   、 ｐは０ないし１０を表わし、ｑは２ないし ４を表わし、 Ｒ＿６は水素原子または炭素原子数１ないし１８のアル
   キル基を表わし、 Ｒ＿７は水素原子または−ＣＨ＿２ＣＨ＿２ＣＯＯＣ＿
   １＿２Ｈ＿２＿５を表わし、 Ｄは炭素原子数１ないし１８のアルカンま たはアルケンの２価の基、炭素原子数５ないし１２の環
   式アルカンまたは環式アルケンの２価の基または飽和ま
   たは不飽和の炭素原子数７ないし１２の二環式もしくは
   三環式炭化水素の２価の基を表わし、但しＮ−Ｏ基は必
   ずしもＤにおける同一の炭素原子に接続することを必要
   とせず、 Ｅは炭素原子数１ないし１８のアルカンま たはアルケンの１価の基、炭素原子数５ないし１２の環
   式アルカンまたは環式アルケンの４価の基または飽和も
   しくは不飽和の炭素原子数７ないし１２の二環式もしく
   は三環式炭化水素の１価の基を表わし、 Ｇは−ＯＣＯ−Ｒ＿８−ＣＯＯ−、−ＣＯＯ−Ｒ＿９−
   ＯＣＯ−、−ＮＲ＿５−ＣＯ−Ｒ＿８−ＣＯＮＲ＿５、
   ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
   、 ▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、 及び▲数式、化学式、表等があります▼で表わされる基
   からなる 群から選ばれた有機の結合成分を表わし、式中、 Ｒ＿８は直接結合または脂肪族、環式脂肪族、不飽和脂
   肪族の、または芳香族の２個のカルボキシル基を除いた
   ジカルボン酸の２価の基を表わし Ｒ＿９は脂肪族、環式脂肪族、または不飽和脂肪族の２
   個のヒドロキシル基を除いたジオール基を表わし、 Ｒ＿１＿０は−Ｏ−または−ＮＲ＿５−を表わし、そし
   てＲ＿１＿１は脂肪族または芳香族の４価の基を表わす
   。）で表わされるポリ−（１−ヒドロカルビルオキシ−
   ２，２，６，６−テトラメチルピペリジン）化合物。
2. （２）式 I において、ｍが２ないし４を表わす請求項
   （１）に記載の化合物。
3. （３）式 I においてｍが２を表わす請求項（２）に記
   載の化合物。
4. （４）式IIにおいてｎが１または２を表わす請求項（１
   ）に記載の化合物。
5. （５）式 I またはIIにおいて、Ｒ＿１及びＲ＿２が各
   々メチル基を表わす請求項（１）に記載の化合物。
6. （６）式 I においてＬがｎ−オクタン、ｎ−ヘプタン
   またはシクロヘキサンからのｍ価の基を表わす請求項（
   １）に記載の化合物。
7. （７）式 I においてＴがＲ＿３−ＣＯＯ−で表わされ
   る基を表わし、Ｒ＿３が炭素原子数１ないし１７のフェ
   ニル基、ビニル基またはアルキル基を表わす請求項（１
   ）に記載の化合物。
8. （８）式 I においてＲ＿３がヘプタデシル基を表わす
   請求項（７）に記載の化合物。
9. （９）式 I においてＴがＲ＿３−ＣＯＮＲ＿５−で表
   わされる基を表わし、Ｒ＿５が水素原子を表わし、そし
   てＲ＿３がビニル基を表わす請求項（１）に記載の化合
   物。
10. （１０）式 I においてＴが、 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
    式、表等があります▼で表わされる 基を表わし、Ｒ＿６がドデシル基を表わす請求項（１）
    に記載の化合物。
11. （１１）式IIにおいてＤがｎ−オクタン、ｎ−ヘプタン
    、またはシクロヘキサンからの２価の基を表わす請求項
    （１）に記載の化合物。
12. （１２）式IIにおいてＥがオクチル基、ヘプチル基また
    はシクロヘキシル基を表わす請求項（１）に記載の化合
    物。
13. （１３）式IIにおいてＧが−ＯＣＯ−Ｒ＿８−ＣＯＯ−
    で表わされる基を表わし、Ｒ＿８が炭素原子数２ないし
    ８のアルキレン基またはフェニレン基を表わす請求項（
    １）に記載の化合物。
14. （１４）Ｒ＿８がエチレン基またはオクタメチレン基を
    表わす請求項（１３）に記載の化合物。
15. （１５）式IIにおいてＧが−ＮＲ＿５−ＣＯ−Ｒ＿８−
    ＣＯ−ＮＲ＿５−で表わされる基を表わし、Ｒ＿５が水
    素原子またはブチル基を表わし、そしてＲ＿８が直接結
    合または炭素原子数２ないし８のアルキレン基を表わす
    請求項（１）に記載の化合物。
16. （１６）Ｒ＿８が直接結合、エチレン基またはオクタメ
    チレン基を表わす請求項（１５）に記載の化合物。
17. （１７）式IIにおいてＧが▲数式、化学式、表等があり
    ます▼基を表わす請求項（１）に記載の化合物。
18. （１８）（ａ）化学光線の悪影響により劣化しやすい有
    機ポリマー、及び （ｂ）安定化量の請求項（１）に記載の式 I またはII
    で表わされる化合物から成る安定化された有機ポリマー
    組成物。
19. （１９）有機ポリマーがポリオレフィン、特にポリプロ
    ピレンである請求項（１８）に記載の組成物。
20. （２０）有機ポリマーがアルキッド、アクリル、アクリ
    ルアルキッド、ポリエステル、エポキシ、ウレタン、ポ
    リアミド、ビニルまたはエポキシ−ポリエステル樹脂を
    ベースとする塗料組成物である請求項（１８）に記載の
    組成物。
21. （２１）紫外線吸収剤または付加的光安定剤を含有する
    請求項（２０）に記載の組成物。