JP2860589B2 - 紫外線吸収部および１―ヒドロカルビルオキシヒンダードアミン部の双方を含む化合物、並びに安定化組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、紫外線吸収部および１−ヒドロカルビルオ
キシヒンダードアミン部の双方を含む化合物、並びに安
定化組成物に関する。

（従来の技術、発明が解散しようとする課題） 紫外線吸収部および１−ヒドロカルビルオキシヒンダ
ードアミン部の双方を含む化合物は、ポリマーを化学線
光線の劣化作用から保護するための大変有効な安定剤で
ある。

G.BernerおよひM.Rembold,“New Light Stabilizers
for High-Solids Coatings",Organic Coatings Science
and Technology,Vol 6,Dekker,New York,1984,pp55-85
により要約されているように、ヒンダードアミン光安定
剤と紫外線吸収剤例えば2H−ベンゾトリアゾールの同時
使用は、多くのポリマー組成物において優れた安定化を
提供することは当業者に知られている。

紫外線吸収剤部とＮ−H,N−アルキル基もしくはＮ−
アルカノイル基をもつヒンダードアミン部の双方を含む
分子は、米国特許第4,289,686号；同第4,344,876号；同
第4,426,471号；同第4,314,933号；同第4,619,956号；
英国特許出願第2,188,631号；そしてL.Awar,等“New An
ti-UV Stablizers for Automotive Coatings"（1988 An
nual Meeting of Federation of Societies for Coatin
gs Technologyで贈呈。）において記載されている。

別個のヒンダードアミン分子と別個の紫外線吸収剤分
子との同時使用は、また米国特許第4,619,956号に教示
されている。

ヒンダードアミン光安定剤のＮ−ヒドロキシカルビル
オキシ誘導体は相当するＮ−ＨまたはＮ−アルキル誘導
体より塩基性がより小さい。同様に、Ｎ−ヒドロカルビ
ルオキシ誘導体は、ヒンダードアミンの塩基性が一般に
ポリマー系との望ましくない相互作用、例えばハイソリ
ッド熱硬化性アクリル系自動車塗料における硬化遅延を
ひき起すところのポリマー系において重要な有利さを提
供する。

塩基性のより小さい当該Ｎ−ヒドロカルビルオキシ誘
導体はかかるポリマー系において硬化遅延をひき起さな
い。

本発明の一の目的は、同じ分子において紫外線吸収部
とＮ−ヒドロカルビルオキシヒンダードアミン部が存在
する新規な化合物を提供することにある。

本発明の別の目的は、有効量の上記の新規化合物の存
在により化学線光線の劣化作用に対して安定化されたポ
リマー組成物を提供することにある。

（課題を解決するための手段、発明の効果） 本発明は、次式Ｉないし式VI （式中、 R₁は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１ないし12
のアルキル基または炭素原子数７ないし15のアルアルキ
ル基を表わし、 ＲおよびR₂は独立して水素原子、炭素原子数１ないし
12のアルキル基、炭素原子数７ないし15のアルアルキル
基または式VII で表わされる基を表わし、但し、R₂およびＲのうち一方
は式VIIで表わされる基を表わし、 R₃およびR₄は独立して炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基を表わすかまたはR₃およびR₄は一緒になってペンタ
メチレン基を表わし、 Ｍは直接結合、-NG₉-,-O-,-S-,-SO₂NG₉-,-SO₂-,-SO₂O
-,-CONG₉-,-COO-または−OCO−を表わし、 Ｌは直接結合、炭素原子数１ないし12のアルキレン
基、炭素原子数３ないし18のアルケニレン基、炭素原子
数３ないし18のアルキニレン基、炭素原子数５ないし12
のシクロアルキレン基を表わし、前記アルキレン基は１
個もしくはそれ以上の酸素原子により中断されており、 Ｘは-COO-,-CONG₉-,-O-,-NG₉-または−NY−を表わ
し、ここでG₉は水素原子または炭素原子数１ないし８の
アルキル基を表わし、 R₅は水素原子またはヒドロキシル基を表わし、 R₆は-CO-,-CHOHCH₂-または-CH(CH₂OH)-を表わし、 G₁,G₂,G₃，およびG₄は独立して水素原子、ハロゲン原
子、炭素原子数１ないし12のアルキル基、炭素原子数６
ないし10のアリール基、炭素原子数７ないし15のアルア
ルキル基、フェノキシ基、炭素原子数１ないし12のアル
コキシ基、-OCH₂COO-L₁または基Ｔを表わし、ここでL₁
は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表わし、そして
Ｔは を表わし、 但し、G₁ないしG₄のうち少なくとも一個はＴでなけれ
ばならず、 G₅およびG₆は独立してG₁ないしG₄と同じ定義を有し、
但しG₅およびG₆のうち少なくとも一個はＴを表わす必要
は無く、 G₇は水素原子、フェニル基またはG₅により置換された
フェニル基を表わし、 G₈はシアノ基、−COO-Lまたは−CO-X−Ｙを表わし、
ここでＹは を表わし、 Ｅは水素原子、炭素原子数１ないし18のアルキル基、
炭素原子数５ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数
２ないし18のアルケニル基、炭素原子数５ないし12のシ
クロアルケニル基、炭素原子数７ないし15のアルアルキ
ル基、炭素原子数７ないし12の二環式もしくは三環式の
飽和もしくは不飽和炭化水素の基または炭素原子数６な
いし10のアリール基またはアルキル基により置換された
該アリール基を表わし、 T₁,T₂およびT₃は独立して炭素原子数１ないし12のア
ルキル基、炭素原子数６ないし10のアリール基、一個も
しくは二個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により
置換された前記アリール基、炭素原子数７ないし15のア
ルアルキル基、-OR₇,-SR₇,-NR₇R₈,-SO₃H，または基Ｔに
より置換されたｏ−ヒドロキシフェニル基を表わし、但
し、T₁,T₂およびT₃のうち少なくとも一個は基Ｔにより
置換されたｏ−ヒドロキシフェニル基でなければなら
ず、そして R₇およびR₈は独立して水素原子、炭素原子数１ないし
18のアルキル基、炭素原子数２ないし18のアルケニル
基、炭素原子数２ないし12のアルコキシアルキル基、炭
素原子数５ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数６
ないし10のアリール基、一個もしくは二個の炭素原子数
１ないし４のアルキル基により置換された前記アリール
基、炭素原子数７ないし15のアルアルキル基、または基
Ｙを表わす。）のうちの一つを有する化合物に関する。

好ましくは、R₁は水素原子、塩素原子、炭素原子数１
ないし４のアルキル基またはα，α−ジメチルベンジル
基を表わし、最も好ましくは、水素原子または塩素原子
を表わす。

R₂は好ましくは炭素原子数１ないし８のアルキル基ま
たはα，α−ジメチルベンジル基を表わし、最も好まし
くは、メチル基、第三ブチル基、第三アミル基または第
三オクチル基を表わす。好ましくは、Ｒは式VII（式
中、Ｍは直接結合を表わし、Ｌはエチレン基を表わしそ
してＸは−COO−を表わす。）で表わされる基を表わ
す。

R₃およびR₄は好ましくは各々メチル基を表わす。

R₅は好ましくは水素原子を表わす。

R₆は−CO−を表わす。

G₁およびG₄は好ましくは各々水素原子を表わす。

好ましくは、G₅は水素原子を表わす。

G₃またはG₆は好ましくは基Ｔ、エトキシ基または-OCH
₂COO-L₁（式中、L₁は炭素原子数２ないし８のアルキル
基、最も好ましくはL₁はエチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−
オクチル基またはイソオクチル基を表わす。）を表わ
す。

G₇は好ましくは水素原子を表わす。

G₈は好ましくはシアノ基を表わす。

好ましくはＸは−Ｏ−または−NH−を表わす。

Ｅは好ましくは炭素原子数１ないし12のアルキル基、
シクロヘキシル基またはα−メチルベンジル基を表わ
し、最も好ましくはメチル基、ヘプチル基、オクチル
基、ノニル基、シクロヘキシル基またはα−メチルベン
ジル基を表わす。

本発明化合物は、上記に引用された従来技術文献にお
いて紫外線吸収部とヒンダードアミン部の双方を含むＮ
−未置換またはＮ−アルキル置換化合物を製造するため
に記載された一般的方法により製造される。

１−ヒドロカルビルオキシヒンダードアミンはEP-A-3
09402に記載された方法により製造される。

本発明化合物を作るのに使用される中間体は、大部分
は商業品目である。

本出願は、2,2,6,6−テトラアルキルピペリジン構造
を強調するものであるが、本発明は以下のテトラアルキ
ル置換ピペラジンまたはピペラジノン部分が上述のテト
ラアルキルピペリジン部分に置き換わる化合物にも関す
ることに留意すべきである。

（式中、ＭとＹは互いに独立してメチレン基またはカ
ルボニル基を表し；好ましくはＭはメチレン基を表わ
し、Ｙはカルボニル基を表わす。） かかる化合物に適用できると確認された置換基は、環
の窒素原子上の置換に適当なものであると理解されるべ
きである。

本発明の化合物が特に有用であるところの支持体は、
ポリエチレンおよびポリプロピレンのようなポリオレフ
ィン；特に耐衝撃ポリスチレンを含むポリスチレン;ABS
樹脂；例えばブタジエンゴム、EPM、EPDM、SBRおよびニ
トリルゴムのようなエラストマーである。

安定化され得るポリマーの例は一般に以下のものを包
含する： 1.モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例え
ばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−
１、ポリメチルペンテン−１、ポリイソプレンまたはポ
リブタジエン、並びにシクロオレフィン例えばシクロペ
ンテンまたはノルボルネンのポリマー、（所望により架
橋結合できる）ポリエチレン、例えば高密度ポリエチレ
ン（HDPE）、低密度ポリエチレン（LDPE）および線状低
密度ポリエチレン（LLDPE）。

2.1.に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロピレ
ンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレンとポ
リエチレンとの混合物（例えばPP/HDPE,PP/LDPE）およ
びポリエチレンの異なるタイプの混合物（例えば（LDPE
/HDPE）。

3.モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニル
モノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレン
コポリマー、線状低密度ポリエチレン（LLDPE）および
その低密度ポリエチレン（LDPE）との混合物、プロピレ
ン／ブテン−１、エチレン／ヘキセン、エチレン／メチ
ルペンテン、エチレン／ヘプテン、エチレン／オクテ
ン、プロピレン／イソブチレン、エチレン／ブテン−
１、プロピレン／ブタジエン、イソブチレン／イソプレ
ン、エチレン／アルキルアクリレート、エチレン／アル
キルメタクリレート、エチレン／ビニルアセテートまた
はエチレン／アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類
（アイオノマー）、およびエチレンとプロピレンとジエ
ン例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエ
チリデン−ノルボルネンとのターポリマー；並びに前記
コポリマーおよびそれらの混合物と1.に記載したポリマ
ーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロ
ピレン−コポリマー、LDPE/EVA、LDPE/EAA、LLDPE/EVA
およびLLDPE/EAA。

3a.炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）およ
びそれらの水素化変性物（例えば粘着付与剤）。

4.ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチレン）、ポリ
−（α−メチルスチレン）。

5.スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたはア
クリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／ブタジ
エン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／アルキ
ルメタクリレート、スチレン／無水マレイン酸、スチレ
ン／ブタジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ア
クリロニトリル／メチルアクリレート；スチレンコポリ
マーと別のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエン
ポリマーまたはエチレン／プロピレン／ジエンターポリ
マーからの高耐衝撃性混合物；およびスチレンのブロッ
クコポリマー例えばスチレン／ブタジエン／スチレン、
スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレン
／ブチレン／スチレンまたはスチレン／エチレン／プロ
ピレン／スチレン。

6.スチレンまたはαメチルスチレンのグラフトコポリマ
ー、例えばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジエン
−スチレンまたはポリブタジエン−アクリロニトリルに
スチレン；ポリブタジエンにスチレンおよびアクリロニ
トリル（またはメタアクリロニトリル）；ポリブタジエ
ンにスチレンおよび無水マレイン酸またはマレインイミ
ド；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルおよ
び無水マレイン酸またはマレインイミド；ポリブタジエ
ンにスチレン、アクリロニトリルおよびメチルメタアク
リレート、ポリブタジエンにスチレンおよびアルキルア
クリレートまたはメタアクリレート、エチレン／プロピ
レン／ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロニ
トリル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレートに
スチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート／ブタ
ジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル、
並びにこれらと5.に列挙したコポリマーとの混合物、例
えばABS−、MBS−、ASA−またはAES−ポリマーとして知
られているコポリマー混合物。

7.ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩
素化ゴム、塩素化またはクロロスルホンポリエチレン、
エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、ハロゲン
含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ
化ビニリデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩化ビ
ニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまたは
塩化ビニリデン、酢酸ビニルコポリマー。

8.α，β−不飽和酸およびその誘導体から誘導されたポ
リマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタアクリ
レート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニトリ
ル。

9.前項8.に挙げたモノマー相互のまたは他の不飽和モノ
マーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジ
エン、アクリロニトリル／アルキルアクリレート、アク
リロニトリル／アルコキシアルキルアクリレートまたは
アクリロニトリル／ハロゲン化ビニルコポリマーまたは
アクリロニトリル／アルキルメタアクリレート／ブタジ
エンターポリマー 10.不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのアシ
ル誘導体またはそれらのアセタールから誘導されたポリ
マー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、
ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポ
リビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリ
ルフタレートまたはポリアリルメラミン；並びにそれら
と上記1.に記載したオレフィンとのコポリマー。

11.環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、例
えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピンオキシドまたはこれらとビス−グリシ
ジルエーテルとのコポリマー。

12.ポリアセタール、例えばポリオキシメチレンおよび
エチレンオキシドをコモノマーとして含むポリオキシメ
チレン；熱可塑性ポリウレタンで変性させたポリアセタ
ール、アクリレートまたはMBS。

13.ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド並びにポ
リフェニレンオキシドトポリスチレンまたはポリアミド
との混合物。

14.一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエー
テル、ポリエステルまたはポリブタジエンと他方の成分
として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとから誘
導されたポリウレタン並びにその前駆物質（ポリイソシ
アネート、ポリオールまたはプレポリマー）。

15.ジアミンおよびジカルボン酸および／またはアミノ
カルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポリ
アミドおよびコポリアミド。例えばポリアミド４、ポリ
アミド６、ポリアミド6/6、6/10、6/9、6/12および4/
6、ポリアミド11、ポリアミド12、ｍ−キシレンジアミ
ンおよびアジピン酸の縮合によって得られる芳香族ポリ
アミド；ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸ま
たは／およびテレフタル酸および所望により変性剤とし
てのエラストマーから製造されるポリアミド、例えばポ
リ−2,4,4−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミ
ドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド。さら
に、前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポ
リマー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグラフ
トしたエラストマーとの別のコポリマー；またはこれら
とポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコ
ールとのコポリマー。EPDMまたはABSで変性させたポリ
アミドまたはコポリアミド。加工の間に縮合させたポリ
アミド（RIM−ポリアミド系）。

16.ポリ尿素、ポリイミドおよびポリアミドイミド。

17.ジカルボン酸およびジオールおよび／またはヒドロ
キシカルボン酸または相当するラクトンから誘導された
ポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポ
リブチレンテレフタレート、ポリ−1,4−ジメチロール
−シクロヘキサンレフタレートおよびポリヒドロキシベ
ンゾエート並びにヒドロキシ末端基を含有するポリエー
テルから誘導されたブロックコポリエーテルエステル；
およびポリカーボネートまたはMBSで変性させたポリエ
ステル。

18.ポリカーボネートおよびポリエステル−カーボネー
ト。

19.ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリエ
ーテルケトン。

20.一方の成分としてアルデヒドおよび他方の成分とし
てフェノール、尿素およびメラミンから誘導された架橋
ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、
尿素／ホルムアルデシド樹脂およびメラミン／ホルムア
ルデヒド樹脂。

21.乾性および不乾性アルキド樹脂。

22.飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコールお
よび架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステルか
ら誘導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性の低
いそれらのハロゲン含有変性物。

23.置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリレ
ート、ウレタン−アクリレートまたはポリエステル−ア
クリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。

24.メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネートまた
はエポキシ樹脂で架橋されたアルキド樹脂、ポリエステ
ル樹脂またはアクリレート樹脂。

25.ポリエポキシド、例えばビス−グリシジルエーテ
ル、または脂環式ジエポキシドから誘導された架橋エポ
キシ樹脂。

26.天然ポリマー、例えばセルロース、天然ゴム、ゼラ
チンおよびこれらの化学的に変性させた重合同族体誘導
体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースお
よび酪酸セルロースまたはセルロースエーテル、例えば
メチルセルロース；ロジンおよびそれらの誘導体。

27.前記したポリマーの混合物（ポリブレンド）、例え
ばPP/EPDM、ポリアミド/EPDMまたはABS、PVC/EVA、PVC/
ABS、PVC/MBS、PC/ABS、PBTP/ABS、PC/ASA、PC/PBT、PV
C/CPE、PVC/アクリレート、POM/熱可塑性PUR、PC/熱可
塑性PUR、POM/アクリレート、POM/MBS、PPO/HIPS、PPO/
PA6.6およびコポリマー、PA/HDPE、PA/PP、PA/PPO。

28.純単量体化合物またはその化合物からなる天然およ
び合成有機材料、例えば鉱油、動物および植物脂肪、オ
イルおよびワックスまたは合成エステル（例えばフタレ
ート、アジペート、ホスフェートまたはトリメリテー
ト）をベースとした上記オイル、脂肪およびワックス、
並びに合成エステルの適当な重量比で混合された鉱油と
の混合物で、その材料はポリマーのための繊維紡績油と
して並びにこのような材料の水性エマルジョンとして使
用され得る。

29.天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例えばカ
ルボキシル化スチレン／ブタジエンコポリマーの天然ラ
テックス。

30.ポリシロキサン、例えば米国特許第4259476号に記載
された軟質親水性ポリシロキサン、および例えば米国特
許第4355147号に記載された硬質ポリオルガノシロキサ
ン。

31.不飽和アクリルポリアセトアセテートまたは不飽和
アクリル樹脂と組み合わせたポリケチミン。不飽和アク
リル樹脂はペンダント不飽和基を有するウレタンアクリ
レート、ポリエーテルアクリレート、ビニルまたはアク
リルコポリマーおよびアクリル化メラミンを包含する。
ポリケチミンは酸触媒の存在下でのポリアミンとケトン
とから製造される。

32.エチレン性不飽和モノマーまたはオリゴマーおよび
多不飽和脂肪族オリゴマーを含有する放射線硬化性組成
物。

33.エポキシメラミン樹脂、例えばエポキシ官能性共エ
ーテル化ハイソリッドメラミン樹脂により架橋された光
安定性エポキシ樹脂。

一般に、本発明の化合物は安定化される組成物の約0.
01ないし約５重量％使用されるが、しかしこれは特定の
基材および施用で変化するであろう。有利な範囲は約0.
5ないし約２％、そして特に0.1ないし約１％である。

この混合は、本発明の安定剤は、有機ポリマー中に、
当該分野で慣用の方法により成形の前のあらゆる段階で
容易に混入され得る。例えば安定剤は乾燥粉末の形態で
ポリマーと混合されてもよく、また安定剤の懸濁液また
はエマルジョンは、ポリマーの溶液、懸濁液またはエマ
ルジョンと混合され得る。本発明の安定化ポリマー組成
物は、如何に示すような種々の慣用の添加剤を所望によ
り添加することもできる。

1. 酸化防止剤 1.1 アルキル化モノフェノール、例えば 2,6−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第
三ブチル−4,6−ジメチルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、 2,6−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、 ２−（α−メチルシクロヘキシル）−4,6−ジメチルフ
ェノール、 2,6−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、 2,4,6−トリシクロヘキシルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノー
ル、 2,6−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、 1.2 アルキル化ハイドロキノン、例えば 2,6−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、 2,5−ジ−第三ブチルハイドロキノン、 2,5−ジ−第三アミルハイドロキノン、 2,6−ジ−フェニル−４−オクタデシルオキシフェノー
ル。

1.3,ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル例えば、 2,2′−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノ
ール）、 2,2′−チオビス（４−オクチルフェノール）、 4,4′−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノ
ール）、 4,4′−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノ
ール）。

1.4 アルキリデンビスフェノール、例えば 2,2′−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフ
ェノール）、 2,2′−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフ
ェノール）、 2,2′−メチレンビス〔４−メチル−６−（α−メチル
シクロヘキシル）フェノール〕、 2,2′−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシ
ルフェノール）、 2,2′−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノ
ール）、 2,2′−メチレンビス（4,6−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、 2,2′−エチリデンビス（4,6−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、 2,2′−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブ
チルフェノール）、 2,2′−メチレンビス〔６−（α−メチルベンジル）−
４−ノニルフェノール〕、 2,2′−メチレンビス〔６−（α，α−ジメチルベンジ
ル）−４−ノニルフェノール〕、 4,4′−メチレンビス（2,6−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、 4,4′−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチルフ
ェノール）、 1,1−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メ
チルフェニル）ブタン、 2,6−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロ
キシベンジル）−４−メチルフェノール、 1,1,3−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２
−メチルフェニル）ブタン、 1,1−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メ
チルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、 エチレングリコールビス〔3,3−ビス（３′−第三ブチ
ル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート〕、 ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフ
ェニル）ジシクロペンタジエン、 ビス〔２−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−
５′−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチル
フェニル〕テレフタレート。

1.5 ベンジル化合物、例えば 1,3,5−トリス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）−2,4,6−トリメチルベンゼン、 ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）スルフィド、 イソオクチル3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジルメルカプトアセテート、 ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−2,6−ジメチ
ルベンジル）ジチオテレフタレート、 1,3,5−トリス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルイソシアヌレート、 1,3,5−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−2,6
−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、 ジオクタデシル3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート、 モノエチル3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ジルホスホネートのカルシウム塩、 1,3,5−トリス（3,5−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキ
シベンジル）イソシアヌレート。

1.6 アシルアミノフェノール、例えば ラウリン酸４−ヒドロキシアニリド、 ステアリン酸４−ヒドロキシアニリド、 2,4−ビス（オクチルメルカプト）−６−（3,5−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−ｓ−トリアジ
ン、 オクチルＮ−（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）−カルバメート。

1.7 β−（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオン酸の以下の一価または多価アルコールと
のエステル、 アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6−ヘ
キサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチル
グリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレ
ート、チオジエチレングリコール、N,N′−ビス（ヒド
ロキシエチル）シュウ酸ジアミド。

1.8 β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メ
チルフェニル）プロピオン酸の以下の一価または多価ア
ルコールとのエステル、 アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6−ヘ
キサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチル
グリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレ
ート、チオジエチレングリコール、N,N′−ビス（ヒド
ロキシエチル）シュウ酸ジアミド。

1.9 β−（3,5−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロピオン酸の以下の一価または多価アルコー
ルとのエステル、 アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6−ヘ
キサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチル
グリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレ
ート、チオジエチレングリコール、N,N′−ビス（ヒド
ロキシエチル）シュウ酸ジアミド。

1.10 β−（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオン酸のアミド、例えばN,N′−ビス（3,5
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオ
ン）ヘキサメチレンジアミン、 N,N′−ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、 N,N′−ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル）ヒドラジン。

2. 紫外線吸収剤および光安定剤 2.1 ２−（２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリア
ゾール、例えば、 ５′メチル、３′,5′−ジ−第三ブチル−、５′−第三
ブチル−、５′−（1,1,3,3−テトラメチルブチル）
−、５−クロロ−３′,5′−ジ−第三ブチル−、５−ク
ロロ−３′−第三ブチル−５′−メチル−、３′−第二
ブチル−５′−第三ブチル:4′−オクトキシ−３′,5′
−ジ−第三アミルおよび３′,5′−ビス（α，α−ジメ
チルベンジル）誘導体。

2.2 ２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン、例えば ４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクトキシ
−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−
ベンジルオキシ−、4,2′,4′−トリヒドロキシ−およ
び２′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシ誘導体。

2.3 置換されたおよび非置換安息香酸のエステル、例
えば ４−第三ブチルフェニルサリチレート、 フェニルサリチレート、 オクチルフェニルサリチレート、 ジベンゾイルレゾルシノール、 ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、 ベンゾイルレゾルシノール、 2,4−ジ−第三ブチルフェニル3,5−ジ−第三ブチル−４
−ヒドロキシベンゾエート、および 3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。

2.4 アクリレート、例えば α−シアノ−β，β−ジフェニル−アクリル酸エチルエ
ステル、 α−シアノ−β，β−ジフェニル−アクリル酸イソオク
チルエステル、 α−カルボメトキシ−桂皮酸メチルエステル、 α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸メチル
エステル、 α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸ブチル
エステル、 α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ−桂皮酸メチルエス
テル、および Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−
メチルインドリン。

2.5 ニッケル化合物、例えば 2,2−チオビス−〔−（1,1,3,3−テトラメチルブチル）
−フェノール〕のニッケル錯体、例えば1:1または1:2錯
体であって、所望によりｎ−ブチルアミン、トリエタノ
ールアミンもしくはＮ−シクロヘキシル−ジ−エタノー
ルアミンのような他の配位子を伴うもの、ニッケルジブ
チルジチオカルバメート、４−ヒドロキシ−3,5−ジ−
第三ブチルベンジルホスホン酸モノアルキルエステル、
例えばメチルもしくはエチルエステルのニッケル塩、２
−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウンデシルケトキ
シムのようなケトキシムのニッケル錯体、１−フェニル
−４−ラウロイル−５−ヒドロキシ−ピラゾールのニッ
ケル錯体であって、所望により他の配位子を伴うもの。

2.6 立体障害性アミン、例えば ビス（2,2,6,6−テトラメチルピペリジル）セバケー
ト、 ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル）セバケー
ト、 ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル）ｎ−ブチ
ル−3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマ
ロネート、 １−（２−ヒドロキシエチル）−2,2,6,6−テトラメチ
ル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成
物、 N,N′−ビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ
−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンとの縮合生成物、 トリス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）ニ
トリロトリアセテート、 テトラキス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、 1,1′−（1,2−エタンジイル）−ビス（3,3,5,5−テト
ラメチルピペラジノン）。

2.7 シュウ酸ジアミド、例えば 4.4′−ジ−オクチル−オキシオキサニリド、 2,2′−ジ−オクチルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチルオ
キサニリド、 2,2′−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチルオ
キサニリド、 ２−エトキシ−２′−エチルオキサニリド、 N,N′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル−オキサル
アミド、 ２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−エチルオキサニ
リドおよび該化合物と２−エトキシ−２′−エチル−5,
4′−ジ−第三ブチル−オキサニリドとの混合物、 オルト−およびパラーメトキシ−二置換オキサニリドの
混合物、および ｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合
物。

2.8 ２−（２−ヒドロキシフェニル）−1,3,5−トリア
ジン、例えば 2,4,6−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシ
フェニル）−1,3,5−トリアジン、２−（２−ヒドロキ
シ−４−オクチルオキシフェニル）−4,6−ビス（2,4−
ジメチルフェニル）−1,3,5−トリアジン、 ２−（2,4−ジヒドロキシフェニル）−4,6−ビス（2,4
−ジメチルフェニル）−1,3,5−トリアジン、 2,4−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェ
ニル）−６−（2,4−ジメチルフェニル）−1,3,5−トリ
アジン、 ２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）
−4,6−ビス（４−メチルフェニル）−1,3,5−トリアジ
ン、 ２−（２ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−
4,6−ビス（2,4−ジメチルフェニル）−1,3,5−トリア
ジン。

3. 金属不活性化剤、例えば N,N′−ジフェニルシュウ酸ジアミド、 Ｎ−サリチラル−Ｎ−サリチロイルヒドラジン、 N,N′−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、 N,N′−ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル）ヒドラジン、 ３−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリアゾール、 ビス（ベンジリデン）オキサロジヒドラジン。

4. ホスフィットおよびホスホナイト、例えば トリフェニルホスフィット、 ジフェニルアルキルホスフィット、 フェニルジアルキルホスフィット、 トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、 トリラウリルホスフィット、 トリオクタデシルホスフィット、 ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、 トリス（2,4−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィッ
ト、 ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、 ビス（2,4−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリ
トールジホスフィット、 トリステアリルソルビトールトリホスフィット、 テトラキス（2,4−ジ−第三ブチルフェニル） 4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、 3,9−ビス（2,4−ジ−第三ブチルフェノキシ）−2,4,8,
10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ〔5.5〕ウン
デカン。

5. 過酸化物スカベンジャー、例えば β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、
ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、 メルカプトベンズイミダゾール、または ２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、 ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、 ジオクタデシルジスルフィド、 ペンタエリトリトールテトラトラキス（β−ドデシルメ
ルカプト）プロピオネート。

6. ヒドロキシルアミン、例えば N,N−ジベンジルヒドロキシルアミン、 N,N−ジエチルヒドロキシルアミン、 N,N−ジオクチルヒドロキシルアミン、 N,N−ジラウリルヒドロキシルアミン、 N,N−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、 N,N−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、 N,N−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、 Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミ
ン、 Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミ
ン、 水素化タロウアミンから誘導されるN,N−ジアルキルル
ヒドロキシルアミン。

7. ポリアミド安定剤、例えば ヨウ化物および／またはリン化合物と組合せた銅塩、お
よび二価マンガンの塩。

8. 塩基性補助安定剤、例えば メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミン、
トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導
体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、 高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属
塩、例えばCaステアレート、Znステアレート、Mgステア
レート、NaリシノレートおよびＫパルミテート、 ピロカテコール酸アンチモン、または ピロカテコール酸亜鉛。

9. 核剤、例えば ４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、 ジフェニル酢酸。

10. 充填剤および強化剤、例えば 炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、
タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物お
よび水酸化物、カーボンブラック、グラファイト。

11. その他の添加剤、例えば 可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤、静電
防止剤、発泡剤およびチオ相乗剤例えばジラウリルチオ
ジプロピオネートまたはジステアリルチオジプロピオネ
ート。

特に興味のあるのは、常温硬化および酸触媒塗布系を
含む塗布系の多様における本誘導体の利用である。

特に塗膜の物理的結合度は、光沢の消失度と黄変度に
おける顕著な減少を伴って高い程度に維持される。

主な改良点は、Ｎ−アルキルヒンダードアミン系光安
定剤の使用により硬化の減退が実質的に無くなること；
凝集と分散の不安定化が、Ｎ−アルキルヒンダードアミ
ンがある種の着色塗布系に利用された場合に観察される
ように実質的に無くなること；そして塗膜とポリカーボ
ネート基材の間の接着の損失が無くなることを含む。

従って本発明は、光線、湿気および酸素の分解的な影
響な対して、アルキッド樹脂；熱可塑性アクリル樹脂；
アクリルアルキッド；所望によりシリコーン、イソシア
ナート、イソシアヌレート、ケチミンもしくはオキサゾ
リジンで改質されたアクリルもしくはポリエステルアル
キッド；およびカルボン酸、酸無水物、ポリアミンもし
くはメルカプタンで架橋されたエポキシ樹脂；および主
鎖構造において反応性基により改質されそしてエポキシ
ドにより架橋されたアクリルおよびポリエステル樹脂系
を基材にした常温硬化塗膜を安定化するための、所望に
より更に他の安定剤と共の、本化合物の使用にも関す
る。

更に、その工業的用途において、架橋性のアクリル、
ポリエステル、ウレタンまたはアルキッド樹脂を基材に
したハイソリッド内容物のエナメルは、酸触媒を追加し
て硬化される。塩基性窒素基を含有光安定剤は、この適
用において満足できるものではない。

酸触媒と光安定剤との塩の形成は、塩の不相溶性もし
くは不溶性および沈澱を招き、そして硬化の度合いが減
少し、光保護作用が減少し、湿気に対する抵抗性が不良
になる事態を招く。

これらの酸触媒焼付ラッカーは、熱架橋性のアクリ
ル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミドまたはア
ルキッド樹脂を基材にしている。

本発明に従って光線、湿気および酸素に対して安定化
できるアクリル樹脂ラッカーは、常用されるアクリル樹
脂焼付ラッカーまたは熱硬化樹脂である。これらの樹脂
は、例えばハー．キッテル著「レールブーフ デア ラ
ッケ ウント ベシヒトング」巻１、２部、735と742頁
（ベルリン1972）；「ラックングスハルツェ」（197
7）、ハー．ワグナーおよびハー．エフ．ザルクス著、2
29-238頁；およびエス．パウル′ス著「サーフェイス
コーティング：サイエンス アンド テクノロジー」
（1985）に記載のアクリル／メラミン系を含む。

光線と湿気の作用に対して安定化できるポリエステル
ラッカーは、例えば上述のハー．ワグナーおよびハー．
エフ．ザルクス著の文献86-99頁に記述されている常用
の焼付ラッカーである。

本発明に従って、光線と湿気の作用に対して安定化で
きるアルキッド樹脂ラッカーは、特に自動車の塗装に使
用される常用の焼付ラッカー（自動車仕上用ラッカー）
である。これらのラッカーは例えば、アルキッド／メラ
ミン樹脂およびアルキッド／アクリル／メラミン樹脂を
基材にしている（上述のハー．ワグナーおよびハー．エ
フ．ザルクス著の文献99-123頁を参照）。

他の架橋剤は、グリコウリル（glycouril）樹脂、ブ
ロックトイソシアナートまたはエポキシ樹脂を含む。

本発明に従って安定化される酸触媒焼付ラッカーは、
金属仕上げ塗装および固体色仕上げの両方、特に修正仕
上げ、並びにいろいろなコイル塗装適用に適している。

本発明に従って安定化されたラッカーは、２法、即ち
一回塗装または二回塗装の方法のどちらでも、慣用の方
法で適用するのが好ましい。後者の方法では、顔料含有
の下塗り塗装が先ず行われ、次いで、下塗り層に被せて
透明ラッカーの被覆塗装が行われる。

本発明の置換ヒンダードアミンは、所望によりシリコ
ーン、イソシアナートまたはイソシアヌレートにより改
質されているエポキシ、エポキシ−ポリエステル、ビニ
ル、アルキッド、アクリルおよびポリエステル樹脂のよ
うな非−酸触媒熱硬化樹脂における使用のために適用で
きることにも注目すべきである。エポキシ−およびエポ
キシ−ポリエステル樹脂は酸、酸無水物、アミン、並び
に同様のもののような常用の架橋剤で架橋されている。

従って、エポキシ樹脂は、主鎖構造上の反応性基の存
在により改質されたいろいろのアクリルまたはポリエス
テル樹脂系のための架橋剤として使用されてよい。

このような塗料において最高の光安定性を達成するた
めに、他の常用の光安定剤の共用は有利であり得る。

この例は、上述したベンゾフェノン、ベンゾトリアゾ
ール、アクリル酸誘導体、またはオキサニリド型、また
はアリール−ｓ−トリアジンまたは金属−含有光安定
剤、例えば有機ニッケル化合物の紫外線吸収剤である。

二回塗装系では、これらの追加の光安定剤は透明塗膜
および／または着色下塗りに添加できる。

もしもこのような組み合わせが取られるならば、全て
の光安定剤の量は、塗層（film）を形成する樹脂に基づ
いて、0.2ないし20重量％、好ましくは0.5ないし５重量
％である。

本化合物が、フェノール性抗酸化剤、ヒンダードアミ
ン光安定剤、有機リン化合物、紫外線吸収剤およびこれ
らの混合物から成る群から選ばれた他の安定剤と関連し
て使用される時は、ポリオレフィン繊維、特にポリプロ
ピレン繊維のための安定剤として特に有効で有るだろう
ことも考えられる。

本発明の好ましい実施態様は、 （ａ）熱架橋性のアクリル、ポリエステルまたはアルキ
ッド樹脂を基材にした酸触媒熱硬化塗料またはエナメ
ル、 （ｂ）NOE−置換の2,2,6,6−テトラアルキルピペリジン
化合物、および （ｃ）ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、アクリル
酸誘導体、有機ニッケル化合物、アリール−ｓ−トリア
ジンおよびオキサニリドから成る群から選ばれた紫外線
吸収剤を含有する安定化された組成物に係わる。

エナメルまたは塗料が含有できる更に他の成分は抗酸
化剤であり、例えば立体障害フェノール誘導体、ホスフ
ィット、ホスフィンもしくはホスホナイトのようなリン
化合物、可塑剤、均展助剤、硬化触媒、増粘剤、分散剤
または接着促進剤である。

他の好ましい本発明の実施態様は、追加成分（ｄ）と
してホスフィットまたはホスホナイトを含有する上述の
成分（ａ）、（ｂ）および（ｃ）を含有する安定化され
た組成物である。

本組成物で使用されるホスフィットまたはホスホナイ
トの量は、層（塗膜）を形成する樹脂の重量に基づいて
0.05ないし２重量％、好ましくは0.1ないし１重量％で
ある。

二回塗装系では、これらの安定剤は透明塗膜および／
または下塗り層に添加できる。

典型的なホスフィットおよびホスホナイトは、亜リン
酸トリフェニルエステル、亜リン酸ジフェニルアルキル
エステル、亜リン酸フェニルジアルキルエステル、亜リ
ン酸トリ−（ノニルフェニル）エステル、亜リン酸トリ
ラウリルエステル、亜リン酸トリオクタデシルエステ
ル、亜リン酸ジ−ステアリル−ペンタエリスリット−ル
エステル、亜リン酸トリス−（2,4−ジ第三ブチルフェ
ニル）エステル、ジ−インデシルペンタエリスリトール
ジホスフィット、ジ−（2,4−ジ第三ブチルフェニ
ル）ペンタエリスリトール ジホスフィット、トリステ
アリル−ソルビトール トリホスフィット、テトラキス
−（2,4−ジ第三ブチルフェニル）−4,4′−ジ−フェニ
レンホスホナイト等を含む。

更にもう一つの本安定剤の好ましい組み合わせは、ポ
リプロピレン繊維をガス褪色から保護するためのヒドロ
キシルアミンとの組み合わせである。

〔実施例〕

以下の実施例は例示の目的だけに提供されたものであ
り、いかなる方法によるとしても本発明の性質と範囲を
限定するものと解釈されるべきではない。

実施例１ １−メトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４
−イル ３−（2H−ベンゾトリアゾール−２−イル）−
５−第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート メチル３−（2H−ベンゾトリアゾール−２−イル）−
５−第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート3
0.0g（84.9mmol）、４−ヒドロキシ−１−メトキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン19.1g（102mmol）およ
びキシレン200mlの混合物を、分別カラムおよび調節可
能な蒸留ヘッドを備えた丸底フラスコの中で還流加熱し
た。湿潤キシレンおよそ25mlを反応混合物より蒸留し
た。その後反応混合物を100℃に冷却し、リチウムアミ
ド1.4gで処理し、そしてキシレン100mlで希釈した。混
合物を16時間還流加熱し、その間メタノールを分別蒸留
により除去した。反応混合物をトルエン200mlで希釈
し、そして1N塩酸（200ml）および重炭酸ナトリウム溶
液（300ml）で継続的に洗浄した。ソリッドを濾過によ
り除き、そして濾液を無水硫酸マグネシウム上で乾燥さ
せそして次いで濃縮して褐色固体を得た。粗生成物をシ
リカゲル層の中に通した（2:1ヘプタン：酢酸エチ
ル）。溶離剤を蒸発させてソリッドを得、これをイソプ
ロパノールより再結晶させると、135-137℃で融解する
標記化合物24.5g（57％収率）を白色ソリッドとして得
た。

分析 C₂₉H₄₀N₄O₄について計算値： C,68.5;H,7.9;N,11.0. 実測値 C,68.3;H,8.3;N,10.8. 実施例２ １−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン−４−イル ３−（2H−ベンゾトリアゾール−
２−イル）−５−第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシ
ンナメート 標記化合物は138-140℃で溶解する白色ソリッドであ
り、４−ヒドロキシ−１−メトキシ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジンにつき当量の１−シクロヘキシルオキ
シ−４−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ンに置き換えることにより実施例１の手順に従い製造し
た。

分析 C₃₄H₄₈N₄O₄について計算値： C,70.8;H,8.4;N,9.7. 実測値 C,70.9;H,8.4;N,9.8. 実施例３ １−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン−４−イル ３−（2H−ベンゾトリアゾール−２−イ
ル）−５−第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメ
ート 標記化合物は、黄色シロップであり、４−ヒドロキシ
−１−メトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンに
つき当量の４−ヒドロキシ−１−オクチルオキシ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジンに置き換えることにより
実施例１の手順に従い製造した。

分析 C₃₆H₅₄N₄O₄について計算値： C,71.3;H,9.0;N,9.2. 実測値 C,71.5;H,8.8;N,9.2. 実施例４ Ｎ−（１−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン−４−イル）−３−（2H−ベンゾトリアゾール
−２−イル）−５−第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロ
シンナムアミドヒ メチル３−（2H−ベンゾトリアゾー
ル−２−イル）−５−第三ブチル−４−ヒドロキシ ド
ロシンナメート4.0g（11.3mmol）および４−アミノ−１
−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
8.0g（28.1mmol）の混合物を190-200℃で２時間加熱し
た。反応混合物を酢酸エチル（300ml）中に溶解した。
有機溶液を1N塩酸（２×100ml）および重炭酸ナトリウ
ム飽和溶液（200ml）で洗浄し、次いで硫酸マグネシウ
ム上で乾燥させ、そして蒸発させてソリッドを得た。シ
リカゲル上のフラッシュクロマトグラフィー（3:1ヘプ
タン：酢酸エチル）による精製、次いでメタノールから
の再結晶により、標記化合物1.0g（15％収率）を与え
た。白色ソリッドで、融点153-9℃。

分析 C₃₆H₅₅N₅O₃について計算値： C,71.4;H,9.1;N,11.6. 実測値： C,71.4;H,9.4;N,11.5. 実施例5A メチル ４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシア
セテート 2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン15.0g（70.0mmo
l）、ブロモ酢酸メチル10.7g（70mmol）、炭酸カリウム
19.3g（0.14mol）、およびN,N−ジメチルホルムアミド1
25mlの混合物を25℃で18時間攪拌した。反応混合物をジ
エチルエーテルと0.5N塩酸に分配した。ソリッドを濾過
により除去し、そして濾液を硫酸マグネシウム上で乾燥
して濃縮した。濃厚物をジエチルエーテルに部分的に溶
解し、そしてソリッドを濾過により除去した。ソリッド
物質をジクロロメタン:2−プロパノールより再結晶させ
ると、標記化合物13.7g（69％収率）を与えた。淡黄色
ソリッドで、融点131-134℃である。

実施例5B ２−ヒドロキシ−４−［（１−オクチルオキシ−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン−４−イルオキシ）−カル
ボニルメトキシ］ベンゾフェノン メチル ４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ
アセテート22.0g（76.8mmol）、４−ヒドロキシ−１−
オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、
およびキシレン100mlの混合物を還流加熱した。水を分
別蒸留により除去した。反応混合物を80℃に冷却し、リ
チウムアミド2.1gで処理し、そしてキシレン50mlで希釈
した。反応混合物を２時間還流加熱し、そしてメタノー
ルを分別蒸留により除去した。反応混合物を冷却し、次
いでジエチルエーテル（250ml）で希釈した。有機溶液
を1N塩酸（200ml）で洗浄し、そしてソリッドを濾過に
より除去した。溶液を重炭酸ナトリウム飽和溶液（100m
l）で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして油
状に濃縮した。シリカゲル上でのフラッシュクロマトグ
ラフィー（85:15 ヘプタン：酢酸エチル）による精製
により、標記化合物32.6g（79％収率）、黄色シロップ
を与えた。

分析 C₃₂H₄₅NO₆について計算値： C,71.2;H,8.4;N,2.6. 実測値： C,71.6;H,8.7;N,2.6. 実施例６ ２−ヒドロキシ−４−［（１−シクロヘキシルオキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ
カルボニルメトキシ］ベンゾフェノン 2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンと炭酸カリウムお
よびクロロ酢酸エチルとの反応、続いて４−アミノ−１
−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジンとの反応により、標記化合物を製造した。

実施例７ ２−ヒドロキシ−４−［３−（１−メトキシ−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン−４−イルオキシ）−２−ヒ
ドロキシプロポキシ］ベンゾフェノン 2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンとエピクロロヒド
リンの反応、続いて４−ヒドロキシ−１−メトキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジンとの反応により標記化
合物を製造した。

実施例8A 2,4−ビス（2,4−ジメチルフェニル）−６−（2,4−ジ
ヒドロキシフェニル）−ｓ−トリアジン シアヌル酸クロリドとｍ−キシレンの反応、続いてレ
ソルシノールとの反応により標記化合物を製造した。塩
化アルミニウムを両反応における試薬として使用した。

実施例8B 2,4−ビス（2,4−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒド
ロキシ−４−（（１−オクチルオキシ−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−４−イルオキシ）カルボニルメト
キシ）−フェニル］−ｓ−トリアジン N,N−ジメチルホルムアミド25ml中の１オクチル−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イル クロロア
セテート14.5g（40.0mmol）の溶液を、周囲温度で30分
間攪拌された2,4−ビス（2,4−ジメチルフェニル）−６
−（2,4−ジヒドロキシ−フェニル）−1,3,5−トリアジ
ン（実施例8A）20.0g（50.2mmol）、N,N−ジメチルホル
ムアミド125ml、および50％水酸化ナトリウム溶液4.0g
の混合物に、素早く加えた。その後反応混合物を70℃で
１時間の間加熱しそして周囲温度にて17時間攪拌した。
反応混合物を酢酸エチル（300ml）と水（1000ml）およ
び1N塩酸（10ml）の混合物とに分配した。水層をジエチ
ルエーテル（２×500ml）および塩化ナトリウム飽和溶
液（500ml）で抽出し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、
そして油状に濃縮した。シリカゲル上でのフラッシュ
クロマトグラフィー（5:1ヘプタン：酢酸エチル）によ
る精製により、標記化合物14.0g（48％収率）を与え
た。黄色ソリッドで、融点86-90℃である。

分析 C₄₄H₅₈N₄O₅について計算値： C,73.1;H,8.1;N,7.7. 実測値 C,72.8;H,8.1;N,7.6. 実施例９ 2,4−ビス（2,4−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒド
ロキシ−４−（Ｎ−（１−シクロヘキシルオキシ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノカル
ボニル−メトキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン 当量の４−ヒドロキシ−１−オクチルオキシ−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジンにつき４−アミノ−１−シ
クロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ンに置き換えることにより実施例８の手順に従い標記化
合物を製造した。

実施例10A ２−エトキシ−２′−［（エトキシカルボニル）メトキ
シ］オキサニリド 2,2−ジヒドロキシオキサアニリドと、２当量の炭酸
カリウム、１当量の臭化エチルおよび１当量のクロロ酢
酸エチルとの反応により、標記化合物を製造した。

実施例10B ２−エトキシ−２′−［（１−オクチルオキシ−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン−４−イルオキシ）−カル
ボニルメトキシ］オキサアニリド 実施例10Aで製造した化合物を４−ヒドロキシ−１−
オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンお
よび触媒量のリチウムアミドと反応させることにより標
記化合物を製造した。

実施例11 ２−エトキシ−２′−［Ｎ−（１−シクロヘキシルオキ
シ−2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジン−４−イル）
アミノカルボニルメトキシ］オキサアニリド N,N−ジメチルホルムアミド20ml中のＮ−（１−シク
ロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−４−イル）−２−クロロアセトアミド3.5g（10.7mmo
l）の溶液を、60℃に加熱された、２−エトキシ−２′
−ヒドロキシオキサニリド3.2g（10.7mmol）、50％水酸
化ナトリウム溶液0.9g、およびN,N−ジメチルホルムア
ミド25mlの混合物に、５分間かけて加えた。その後反応
混合物を１時間の間60℃にそしてさらに１時間の間90℃
に加熱した。反応混合物を水500mlで急冷した。粗製ソ
リッドを単離して水で洗浄し、次いでジクロロメタン
（150ml）中に溶解した。有機溶液を硫酸マグネシウム
上で乾燥しそして40mlの容量に濃縮した。メタノール
（100ml）を加えて生成物を沈殿させ、これを濾過によ
り単離すると、標記化合物4.9g（77％収率）を与えた。
白色結晶物質で融点190-192℃である。

分析 C₃₃H₄₆N₄O₆について計算値： C,66.6;H,7.8;N,9.4. 実測値 C,66.3;H,7.7;N,9.2. 実施例12 2,2′−ビス［Ｎ−（１−オクチルオキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−４−イル）−アミノカルボニル
メトキシ］オキサニリド 2,2′−ジヒドロキシオキサニリドと各々２当量の炭
酸カリウムおよびクロロ酢酸エチルとの反応、続いて２
当量の４−アミノ−１−オクチルオキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジンとの反応により、標記化合物を製
造した。

実施例13A Ｎ−（２−ヒドロキシフェニル）−Ｎ′−（１−オクチ
ルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）オキサミド 蓚酸ジエチルと各々１当量の２−ヒドロキシ−アニリ
ンおよび４−アミノ−１−オクチルオキシ−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジンとの反応により、標記化合物を
製造した。

実施例13B Ｎ−（２−エトキシフェニル）−Ｎ′−（１−オクチル
オキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）オキサミド 実施例13Aで製造した化合物を炭酸カリウムおよび臭
化エチルと反応させることにより、上記化合物を製造し
た。

実施例14 Ｎ−［２−（（１−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−４−イルオキシ）カルボニルメトキ
シ）フェニル］−Ｎ′−（１−オクチルオキシ−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン−４−イル）オキサミド 実施例13Aで製造した化合物を炭酸カリウムおよびク
ロロ酢酸エチルと反応させ、次いで４−ヒドロキシ−１
−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
および触媒量のリチウムアミドと反応させて、標記化合
物を生成した。

実施例15 Ｎ−［２−（Ｎ−（１−オクチルオキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−４−イル）アミノカルボニルメ
トキシ）フェニル］−Ｎ′−（１−オクチルオキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イル）オキサミ
ド ４−ヒドロキシ−１−オクチルオキシ−2,2,6,6テト
ラメチルピペリジンにつき当量の４−アミノ−１−オク
チルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンを置き
換えることにより実施例14の手順に従い、標記化合物を
製造した。

実施例16A Ｎ−ブチル−Ｎ−（１−メトキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−４−イル）−クロロアセトアミド ジクロロメタン150ml中の４−ブチルアミノ−１−メ
トキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン48.5g（0.20
0mol）の溶液を、ジクロロメタン100ml中の塩化クロロ
アセチル11.3g（0.100mol）の溶液に１時間の間かけて
−10℃にて加えた。その後反応混合物を周囲温度にて１
時間攪拌した。混合物をジエチルエーテル（500ml）で
希釈し、そしてソリッドを濾過により除去した。濾液を
1N塩酸（２×75ml）および重炭酸ナトリウム飽和溶液
（100ml）で洗浄し、次いで硫酸マグネシウム上で乾燥
しそして濃縮すると、標記化合物27.8g（87％収率）、
淡黄色油を与えた。

実施例16B ２−ヒドロキシ−４−「Ｎ−（１−メトキシ−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン−４−イル）−Ｎ−ブチルア
ミノカルボニルメトキシ」ベンゾフェノン 2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン10.1g（47.0mmo
l）、Ｎ−ブチル−Ｎ−（１−メトキシ−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−４−イル）クロロアセトアミド1
5.0g（47.0mmol）、炭酸カリウム19.5g（0.141mol）、
沃化カリウム0.8g（4.7mmol）およびN,N−ジメチルホル
ムアミド100mlの混合物を80℃で20時間加熱した。反応
混合物を1N塩酸（600ml）で処理した。褐色沈殿を酢酸
エチル（400ml）に溶解し、そしてこの溶液を水（200m
l）および塩化ナトリウム飽和溶液（200ml）で洗浄し、
次いで硫酸マグネシウム上で乾燥しそしてガラス状にな
るまで濃縮した。シリカゲル上でのフラッシュ クロマ
トグラフィー（3:1ヘプタン：酢酸エチル）による精製
により、標記化合物5.4g（23％収率）、黄色ガラスを与
えた。

分析 C₂₉H₄₀N₂O₅について計算値： C,70.1;H,8.1;N,5.6. 実測値： C,70.4;H,8.4;N,5.3. 実施例17A １−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン−４−イル クロロアセテート １−シクロヘキシルオキシ−４−ヒドロキシ−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン45.2g（0.177mol）、トリエ
チルアミン17.9g（0.177mol）およびジクロロメタン150
mlの混合物を、ジクロロメタン100ml中の塩化クロロア
セチル20.0g（0.177mol）の溶液に１時間の間かけて５
℃にて加えた。反応混合物を周囲温度にて１時間攪拌し
そしてその後ジエチルエーテル（500ml）で希釈した。
ソリッドを濾過により除去し、そして濾過を1N塩酸（２
×100ml）、重炭酸ナトリウム飽和溶液（200ml）および
塩化ナトリウム飽和溶液（200ml）で洗浄し、次いで硫
酸マグネシウム上で乾燥しそして油状になるまで濃縮し
た。シリカゲル上でのフラッシュクロマトグラフィー
（15:1ヘプタン：酢酸エチル）による精製により、標記
化合物22.6g（39％収率）を与えた。白色ソリッドで、
融点62-64℃である。

実施例17B ２−［（１−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−４−イルオキシ）−カルボニルメト
キシ］−２′−ヒドロキシオキサニリド N,N−ジメチルホルムアミド55ml中の１−シクロヘキ
シルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−
イルクロロアセテート8.7g（26.2mmol）の溶液を、2,
2′−ジヒドロキシオキサニリド14.3g（52.4mmol）、水
酸化ナトリウム1.1g（27.5mmol）およびN,N−ジメチル
ホルムアミド80mlの混合物に５分間の間かけて加えた。
反応混合物を60℃で２時間加熱し、次いで酢酸エチル
（300ml）と水（500ml）に分配した。有機相を硫酸マグ
ネシウム上で乾燥しそして油状になるまで濃縮し、これ
を2:1ヘプタン：酢酸エチルで粉につぶして未反応の2.
2′−ジヒドロキシオキサニリドを沈殿させた。有機溶
液を濃縮しそしてシリカゲル上でのフラッシュ クロマ
トグラフィー（2:1ヘプタン：酢酸エチル）により精製
すると、標記化合物6.2g（94.2％収率）を与えた。白色
ソリッドで、融点180-182℃である。

分析 C₃₁H₄₁N₃O₇について計算値： C,65.6;H,7.3;N,7.4. 実測値： C,65.5;H,7.4;N,7.3. 実施例17C ２′−エトキシ−２−［（１−シクロヘキシルオキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イルオキシ）
−カルボニルメチル］オキサニリド N,N−ジメチルホルムアミド10ml中の沃化エチル1.6g
（10.2mmol）の溶液を、２−［（１−シクロヘキシルオ
キシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イルオ
キシ）−カルボニルメトキシ］−２′−ヒドロキシオキ
サニリド5.8g（10.2mmol）、水酸化ナトリウム0.41g（1
0.2mmol）、およびN,N−ジメチルホルムアミド50mlの混
合物に素早く加えた。反応混合物を60℃で２時間加熱
し、そしてその後沃化エチル0.3g（1.9mmol）および水
酸化ナトリウム0.1g（2.5mmol）で処理した。混合物を6
0℃にてさらに１時間加熱しそして圧潰氷上に注いだ。
結果生じた沈殿を濾過により集め、水で洗浄し、そして
ジクロロメタン（100ml）中に溶解した。有機溶液を硫
酸マグネシウム上で乾燥しそして蒸発させて油を得た。
２−プロパノールからの結晶化により、標記化合物4.6g
（75％収率）を与えた。白色ソリッドで、融点128-130
℃である。

分析 C₃₃H₄₅N₃O₇について計算値： C,66.5:H,7.6;N,7.1. 実測値： C,66.4;H,7.7;N,6.9. 実施例18 2,2′−ビス−［（１−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン−４−イルオキシ）−カルボ
ニルメトキシ］オキサニリド N,N−ジメチルホルムアミド50ml中の１−シクロヘキ
シルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−
イル クロロアセテート（実施例17A）13.0g（39.2mmo
l）の溶液を、2,2′−ジヒドロキシオキサニリド5.33g
（19.6mmol）、水酸化ナトリウム1.57g（39.2mmol）お
よびN,N−ジメチルホルムアミド75mlの混合物に、５分
間かけて加えた。反応温度は添加のうちに36℃に達す
る。反応混合物を60℃で１時間の間加熱しそして水（70
0ml）で希釈した。ソリッド濾過により集めそして水で
洗浄し、次いでジクロロメタン（300ml）中に溶解し
た。有機溶液を硫酸マグネシウム上で乾燥し、およそ10
0mlの容量になるまで濃縮し、そして温２−プロパノー
ル（200ml）で希釈して結晶化をひき起こした。標記化
合物、白色ソリットで融点201-202℃、の収量は14.0g
（83％収率）であった。

分析 C₄₈H₇₀N₄O₁₀について計算値： C,66.8;H,8.2;N,6.5. 実測値： C,67.4;H,9.5;N,6.6. 実施例19 Ｎ−（２−オクチルオキシカルボニルメトキシフェニ
ル）−Ｎ′−（１−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−４−イル）オキサミド 70％水性第三ブチル ヒドロペルオキシド12.5g（97.
0mmol）、オクタン75ml、および塩化ナトリウム0.5gの
二相混合物を分離漏斗中で攪拌した。有機相を硫酸マグ
ネシウム上で乾燥しそしてオクタン25mlで希釈した。Ｎ
−（２−オクチルオキシカルボニルメトキシフェニル）
−Ｎ′−（2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）オキサアミド 9.5g（919.4mmol）、三酸化モリブ
デン0.2gおよび第三ブチルヒドロペルオキシド／オフタ
ン溶液の混合物をゆっくりと還流するまで加熱した。反
応混合物は温度が90℃に達すると赤色に変わる。低沸点
物質を反応混合物より分別蒸留により除去した。反応混
合物をおよそ１時間赤色が消えるまで還流加熱した（11
0-115℃）。混合物を25℃に冷却しそして10％チオ硫酸
ナトリウム溶液75mlとともに１時間の間攪拌して未反応
のヒドロペルオキシドを分解した。有機相を硫酸マグネ
シウム上で乾燥しそして油状になるまで濃縮した。シリ
カゲル上でのフラッシュクロマトグラフィー（4:1ヘプ
タン：酢酸エチル）による精製により、標記化合物10.6
g（88％収率）、黄色シロップを与えた。

分析 C₃₅H₅₉N₃O₆について計算値： C,68.0;H,9.6;N,6.8. 実測値 C,68.1;H,9.8;N,6.9. 実施例20 トランス−（１−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−４−イル）アルファ−シアノシンナメ
ート トランス−エチル アルファ−シアノシンナメート1
2.5g（62.1mmol）、４−ヒドロキシ−１−オクチルオキ
シ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン26.6g（93.2mmo
l）、およびキシレン100mlの混合物を、還流加熱した。
水を分別蒸留により除去した。反応混合物を80℃に冷却
し、リチウムアミド0.3gで処理し、そしてキシレン50ml
で希釈した。混合物を２時間の間還流加熱する一方、エ
タノールを分別蒸留により除去した。反応混合物をジエ
チルエーテル（250ml）で希釈した。有機溶液を1N塩酸
（100ml）、重炭酸ナトリウム飽和溶液（100ml）および
塩化ナトリウム飽和溶液（200ml）で洗浄し、次いで硫
酸マグネシウム上で乾燥しそして褐色油になるまで濃縮
した。フラッシュクロマトグラフィーによる精製によ
り、標記化合物13.2g（48％収率）、黄色のロウ質ソリ
ッドを与えた。

分析 C₂₇H₄₀N₂O₃について計算値： C,73.6;H,9.1;N,6.4. 実測値： C,73.7;H,9.3;N,6.2. 実施例21 エチル １−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−４−イル ベンザルマロネート ジエチル ベンザルマロネート 15.0g（60.4mmo
l）、１−シクロヘキシルオキシ−４−ヒドロキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン32.4g、およびトルエン
150mlの混合物を還流加熱した。水を分別蒸留により除
去した。反応混合物を80℃に冷却しそしてチタン テト
ラブトキシド1.0gで処理した。混合物を７時間の間還流
加熱する一方、エタノールを分別蒸留により除去した。
反応混合物を酢酸エチル（400ml）で希釈した。有機溶
液を1N塩酸（200ml）および重炭酸ナトリウム飽和溶液
（200ml）で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、そ
して油状になるまで濃縮した。シリカゲル上でのフラッ
シュクロマトグラフィー（19:1ヘプタン：酢酸エチル）
による精製により、標記化合物27.6g（54％収率）を与
えた。これは、無色のシロップで、幾何異性体の混合物
である。

分析 C₂₇H₃₉NO₅について計算値： C,70.9;H,8.6;N,3.1. 実測値： C,70.7;H,9.0;N,2.9. 実施例22 ビス（１−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−４−イル）ベンザルマロネート 反応温度を上げるために反応混合物からより多くの蒸
留物を除去することにより実施例21の手順に従って、標
記化合物、白色ガラス、を90％収率で製造した。最終の
温度は140℃で、そして反応時間は11時間であった。

分析 C₄₀H₆₂N₂O₆について計算値： C,72.0;H,9.4;N,4.2. 実測値： C,72.0;H,9.4;N,4.0. 実施例23 2,4−ビス（2,4−ジメチルフェニル）−６−｛２−ヒド
ロキシ−４−［（１−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン−４−イルオキシ）カルボニ
ルメトキシ］−フェニル｝−ｓ−トリアジン １−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−４−イル クロロアセテートおよび2,4−
ビス（2,4−ジメチル−フェニル）−６−（2,4−ジヒド
ロキシフェニル）−ｓ−トリアジンより実施例8Bの手順
に従って、標記化合物、融点105-109℃の黄色ソリッド
を54％収率で製造した。

分析 C₄₂H₅₂N₄O₅について計算値： C,72.8;H,7.6;N,8.1. 実測値： C,72.2,H,7.6;N,7.9. 実施例24 2,2′−ビス［Ｎ−（１−シクロヘキシルオキシ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノカル
ボニルメトキシ］オキサニリド N,N−ジメチルホルムアミド50ml中のＮ−（２−シク
ロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−４−イル）−２−クロロアセトアミド15.0g（45.3mmo
l）の溶液を、2,2−ジヒドロキシオキサニリド6.2g（2
2.7mmol）、N,N−ジメチルホルムアミド100ml、および5
0％水酸化ナトリウム水溶液3.6g（45.3mmol）の混合物
に、10分間の間かけて加えた。反応混合物を50℃にて1.
5時間、そして85℃にて30分間加熱し、次いで40℃に冷
却した。ソリッドを濾過により単離しそしてN,N−ジメ
チルホルムアミドで洗浄した。粗生成物を水中に懸濁さ
せそしてその後濾過すると、標記化合物14.1g（72％収
率）を与えた。薄黄色ソリッドで、融点275-276℃（分
解）である。

分析 C₄₈H₇₂N₆O₈について計算値： C,66.9;H,8.4;N,9.8. 実測値； C,66.8;H,8.6;N,9.6. 実施例25 ２−ヒドロキシ−４−｛３−［Ｎ−（１−シクロヘキシ
ルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）−アミノ］−２−ヒドロキシプロポキシ｝ベンゾフ
ェノン ２−ヒドロキシ−４−（2,3−エポキシプロポキシ）
ベンゾフェノン4.0g（14.8mmol）、４−アミノ−１−シ
クロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン3.8g（14.8mmol）およびエタノール40mlの混合物を２
時間の間還流加熱した。エタノールを蒸発させ、そして
残渣をシリカゲル上でのフラッシュクロマトグラフィー
（2:1ヘキサン：酢酸エチル、その後1:1ヘキサン：酢酸
エチル）により精製すると、そのままで結晶化するとこ
ろの黄色油1.2gを与えた。ヘプタンとジクロロメタンの
混合物からの再結晶により、標記化合物0.6g（８％収
率）を与えた。黄色シロップで、融点118-121℃であ
る。

分析 C₃₁H₄₄N₂O₅について計算値： C,71.0;H,8.5;N,5.3. 実測値:C,70.8;H,8.4;N,5.0. 実施例26 ２−ヒドロキシ−４−｛３−［Ｎ−ブチル−Ｎ−（１−
シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン−４−イル）アミノ］−２−ヒドロキシプロポキ
シ｝ベンゾフェノン ２−ヒドロキシ−４−（2,3−エポキシプロポキシ）
ベンゾフェノン4.0g（14.8mmol）、４−ブチル−アミノ
−１−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン6.9g（22.2mmol）、およびエタノール40mlの
混合物を４時間の間還流加熱した。エタノールを蒸発さ
せ、そして残渣をシリカゲル上でのフラッシュ クロマ
トグラフィー（4:1ヘプタン：酢酸エチル）により精製
すると、標記化合物7.9g（92％収率）、黄色油を与え
た。

分析 C₃₅H₅₂N₂O₅について計算値： C,72.4;H,9.0;N,4.8. 実測値： C,70.6;H,9.0;N,4.6. 実施例27 ２−ヒドロキシ−４−［３−（１−シクロヘキシルオキ
シ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イルオキ
シ）−２−ヒドロキシプロポキシ］ベンゾフェノン ２−ヒドロキシ−４−（2,3−エポキシプロポキシ）
ベンゾフェノン5.0g（18.5mmol）および１−シクロヘキ
シルオキシ−４−（ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン15.0g（58.7mmol）の混合物を80℃に加熱
しそしてその後亜リン酸（99％）0.5gで処理した。反応
混合物を80-90℃にて６時間の間加熱し、次いで冷却し
そして酢酸エチル（200ml）中に溶解した。有機溶液を
重炭酸ナトリウム飽和溶液（100ml）で洗浄し、硫酸マ
グネシウム上で乾燥し、そして蒸発させて黄色油にし
た。反応混合物中に生成した最小の極性物質を得るため
にシリカゲル上でのフラッシュクロマトグラフィーによ
り精製すると、標記化合物およそ200mg、黄色ガラスを
与えた。

分析 C₃₁H₄₃NO₆について計算値： C,70.8;H,8.2;N,2.7. 実測値： C,70.2;H,8.6;N,2.9. 実施例28 ポリプロピレンの光安定化 この実施例は、本安定剤の光安定化効果を示すもので
ある。

ｎ−オクタデシル3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シヒドロシンナメート0.2重量％で安定化されたポリプ
ロピレン粉末（Himont Profax 6501）を所定量の添加剤
と十分に混和した。その後ブレンド材料を二本ロールミ
ル上で182℃にて５分間混練し、その後安定化ポリプロ
ピレンをミルよりシート成形しそして冷却せしめた。そ
の後混練ポリプロピレンを一片ずつに切断しそして油圧
プレス上で250℃、1.2×10⁶Paにて圧縮成形して0.127mm
フィルムとした。試料を螢光／暗光チャンバ中で破壊す
るまで曝露した。破壊は、曝露フィルムについて赤外線
分光分析による0.5カルボニル吸光度に達するのに要す
る時間で以て取り扱った。

本発明化合物の各々は、ポリプロピレンについて安定
剤が存在しない場合にこの試験において破壊を示すのに
要する時間より格段に長く、ポリプロピレンを化学線光
の劣化作用から保護した。

実施例29 ハイソリッド熱硬化性アクリル樹脂エナメルの安定化 ｐ−トルエンスルネホン酸、ジノニルナフタレン ジ
スルホン酸またはドデシルベンゼンスルホン酸の酸触媒
を用い、２−ヒドロキシエチルアクリレート、ブチルア
クリレート、メチルメタクリレート、スチレンおよびア
クリル酸のコポリマー70重量％とメラミン樹脂30重量％
からなるバインダーをベースとする熱硬化性アクリル酸
エナメルを、その中に紫外線吸収部分が存在する安定化
有効量の試験ヒンダードアミン光安定剤が含まれるよう
に配合した。

市販で入手できるエポキシ下塗りの10.16cm×30.48cm
パネル（Advanced Coatings Technologyよりの一層下塗
り）に、銀メタリック下塗りを約0.023cmの厚さに噴霧
被覆しそして３分間空気乾燥させた。その後安定化され
た熱硬化性アクリル樹脂エナメルを下塗りされた該パネ
ル上に約0.049mmの厚さに噴霧した。15分間の空気乾燥
の後、被覆されたシートを121℃で30分間焼付けた。

空調室中での１週間の貯蔵の後、被覆パネルをQUV曝
露装置中で試験方法ASTM G-53177に従って曝露した。こ
の試験において、湿潤雰囲気中50℃で４時間そしてその
後紫外線光線下70℃で８時間というサイクルの繰返しで
試料を曝露した。パネルをQUV中で1500時間曝露した。
試料の20°光沢度を曝露の前後で測定した。

安定化パネルの光沢損失は未安定化の対照パネルのそ
れより相当に小さいものであった。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０８Ｋ 5/3492 Ｃ０８Ｋ 5/3492 Ｃ０９Ｋ 3/00 １０４ Ｃ０９Ｋ 3/00 １０４Ｂ (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) C07D 211/94 C07D 401/12 ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ) ＣＡ（ＳＴＮ)

Claims (17)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】次式Ｉないし次式VI （式中、 R₁は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１ないし12の
   アルキル基または炭素原子数７ないし15のアルアルキル
   基を表わし、 ＲおよびR₂は独立して水素原子、炭素原子数１ないし12
   のアルキル基、炭素原子数７ないし15のアルアルキル基
   または式VII で表わされる基を表わし、但し、R₂およびＲのうち一方
   は式VIIで表わされる基を表わし、 R₃およびR₄は独立して炭素原子数１ないし４のアルキル
   基を表わすかまたはR₃およびR₄は一緒になってペンタメ
   チレン基を表わし、 Ｍは直接結合、-NG₉-,-O-,-S-,-SO₂NG₉,-SO₂-,-SO₂O-,-
   CONG₉-,-COO-または−OCO−を表わし、 Ｌは直接結合、炭素原子数１ないし12のアルキレン基、
   炭素原子数３ないし18のアルケニレン基、炭素原子数３
   ないし18のアルキニレン基、炭素原子数５ないし12のシ
   クロアルキレン基を表わし、前記アルキレン基は１個も
   しくはそれ以上の酸素原子により中断されており、 Ｘは-COO-,-CONG₉-,-O-,-NG₉-または−NY−を表わし、
   ここでG₉は水素原子または炭素原子数１ないし８のアル
   キル基を表わし、 R₅は水素原子またはヒドロキシル基を表わし、 R₆は-CO-,-CHOHCH₂-または-CH(CH₂OH)-を表わし、 G₁,G₂,G₃，およびG₄は独立して水素原子、ハロゲン原
   子、炭素原子数１ないし12のアルキル基、炭素原子数６
   ないし10のアリール基、炭素原子数７ないし15のアルア
   ルキル基、フェノキシ基、炭素原子数１ないし12のアル
   コキシ基、-OCH₂COO-L₁または基Ｔを表わし、ここでL₁
   は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表わし、そして
   Ｔは を表わし、 但し、G₁ないしG₄のうち少なくとも一個はＴでなければ
   ならず、 G₅およびG₆は独立してG₁ないしG₄と同じ定義を有し、但
   しG₅およびG₆のうち少なくとも一個はＴを表わす必要は
   無く、 G₇は水素原子、フェニル基またはG₅により置換されたフ
   ェニル基を表わし、 G₈はシアノ基、−COO-Lまたは−CO−Ｘ−Ｙを表わし、
   ここでＹは を表わし、 Ｅは水素原子、炭素原子数１ないし18のアルキル基、炭
   素原子数５ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数２
   ないし18のアルケニル基、炭素原子数５ないし12のシク
   ロアルケニル基、炭素原子数７ないし15のアルアルキル
   基、炭素原子数７ないし12の二環式もしくは三環式の飽
   和もしくは不飽和炭化水素の基または炭素原子数６ない
   し10のアリール基またはアルキル基により置換された該
   アリール基を表わし、 T₁,T₂およびT₃は独立して炭素原子数１ないし12のアル
   キル基、炭素原子数６ないし10のアリール基、一個もし
   くは二個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置
   換された前記アリール基、炭素原子数７ないし15のアル
   アルキル基、-OR₇,-SR₇,-NR₇R₈,-SO₃H，または基Ｔによ
   り置換されたｏ−ヒドロキシフェニル基を表わし、但
   し、T₁,T₂およびT₃のうち少なくとも一個は基Ｔにより
   置換されたｏ−ヒドロキシフェニル基でなければなら
   ず、そして R₇およびR₈は独立して水素原子、炭素原子数１ないし18
   のアルキル基、炭素原子数２ないし18のアルケニル基、
   炭素原子数２ないし12のアルコキシアルキル基、炭素原
   子数５ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数６ない
   し10のアリール基、一個もしくは二個の炭素原子数１な
   いし４のアルキル基により置換された前記アリール基、
   炭素原子数７ないし15のアルアルキル基、または基Ｙを
   表わす。）のうちの一つを有する化合物。
2. 【請求項２】式中、R₁は水素原子、塩素原子、炭素原子
   数１ないし４のアルキル基またはα，α−ジメチルベン
   ジル基を表わす請求項１記載の式Ｉで表わされる化合
   物。
3. 【請求項３】式中、R₂は炭素原子数１ないし８のアルキ
   ル基またはα，α−ジメチルベンジル基を表わす請求項
   １記載の式Ｉで表わされる化合物。
4. 【請求項４】式中、R₃およびR₄は各々メチル基を表わす
   請求項１記載の化合物。
5. 【請求項５】式中、R₅は水素原子を表わす請求項１記載
   の式IIIで表わされる化合物。
6. 【請求項６】式中、R₆は−CO−を有する請求項１記載の
   式IIIで表わされる化合物。
7. 【請求項７】式中、G₅は水素原子を表わす請求項１記載
   の式Ｖで表わされる化合物。
8. 【請求項８】式中、G₃またはG₆はＴ、エトキシ基または
   -OCH₂COO-L₁（式中、L₁は炭素原子数２ないし８のアル
   キル基を表わす。）を表わす請求項１記載の式IVまたは
   式Ｖで表わされる化合物。
9. 【請求項９】式中、G₇は水素原子を表わす請求項１記載
   の式VIで表わされる化合物。
10. 【請求項１０】式中、G₈はシアノ基を表わす請求項１記
    載の式VIで表わされる化合物。
11. 【請求項１１】式中、Ｘは−Ｏ−または−NH−を表わす
    請求項１記載の化合物。
12. 【請求項１２】式中、Ｅは炭素原子数１ないし12のアル
    キル基、シクロヘキシル基またはα−メチルベンジル基
    を表わす請求項１記載の化合物。
13. 【請求項１３】式中、Ｒは式VII（式中、Ｍは直接結合
    を表わし、Ｌはエチレン基を表わしそしてＸは−COO−
    を表わす。）で表わされる基を表わす請求項１記載の式
    Ｉで表わされる化合物。
14. 【請求項１４】ａ）化学線光線の劣化作用により崩壊を
    受けるポリマー、および ｂ）安定化有効量の請求項１記載の化合物より成る安定
    化組成物。
15. 【請求項１５】ポリマーはポリオレフィン、特にポリプ
    ロピレンである請求項14記載の組成物。
16. 【請求項１６】ポリマーはアルキド樹脂、アクリル樹
    脂、アクリルアルキド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキ
    シ樹脂、ウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ビニル樹脂ま
    たはエポキシ−ポリエステル樹脂をベースとする塗料系
    である請求項14記載の組成物。
17. 【請求項１７】紫外線吸収剤または別の光安定剤を含む
    請求項16記載の組成物。