JPH02300168A - 紫外線吸収部および1―ヒドロカルビルオキシヒンダードアミン部の双方を含む化合物、並びに安定化組成物 - Google Patents
紫外線吸収部および1―ヒドロカルビルオキシヒンダードアミン部の双方を含む化合物、並びに安定化組成物Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
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-
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
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- C08K5/3435—Piperidines
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、紫外線吸収部および1−ヒドロカルビルオキ
シヒンダードアミン部の双方を含む化合物、並びに安定
化組成物に関する。
シヒンダードアミン部の双方を含む化合物、並びに安定
化組成物に関する。
(従来の技術、発明が解散しようとする課題)紫外線吸
収部および1−ヒドロカルビルオキシヒンダードアミン
部の双方を含む化合物は、ポリマーを化学線光線の劣化
作用から保護するための大変有効な安定剤である。
収部および1−ヒドロカルビルオキシヒンダードアミン
部の双方を含む化合物は、ポリマーを化学線光線の劣化
作用から保護するための大変有効な安定剤である。
G、 BernerおよびM、 Rembo14 @″
New LightStabilizers for
High−8olids Coatings”。
New LightStabilizers for
High−8olids Coatings”。
Organic Coatings 5cience
and″I’echnology。
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Vol 6. Dekker、 New York、
1984. pp 55−85により要約されているよ
うに、ヒンダードアミン光安定剤と紫外線吸収剤飼えば
2H−ペンゾトリアゾールの同時使用は、多くのポリマ
ー組成物において優れ九安定化を提供することは当業者
に知られている。
1984. pp 55−85により要約されているよ
うに、ヒンダードアミン光安定剤と紫外線吸収剤飼えば
2H−ペンゾトリアゾールの同時使用は、多くのポリマ
ー組成物において優れ九安定化を提供することは当業者
に知られている。
紫外線吸収剤部とN−H,N−アルキル基もしくはN−
アルカノイル基をもつヒンダードアミン部の双方を含む
分子は、米国特許第4.289.686号;同第4,5
44,876号:同第4.424471号;同第4,3
14,953号;同第4,619,956号;英国特許
出願第2.18111,631号;そしてり、 Awa
r。
アルカノイル基をもつヒンダードアミン部の双方を含む
分子は、米国特許第4.289.686号;同第4,5
44,876号:同第4.424471号;同第4,3
14,953号;同第4,619,956号;英国特許
出願第2.18111,631号;そしてり、 Awa
r。
等”NewAnti−Uv8tablizers fo
r AutomotiveCoatings” (19
88Annual Meeting of k’ede
ra−tion of 5ocieties for
Coatings ’I’echnologyで曜車。
r AutomotiveCoatings” (19
88Annual Meeting of k’ede
ra−tion of 5ocieties for
Coatings ’I’echnologyで曜車。
)において記載されている。
別個のヒンダードアミン分子と別個の紫外線吸収剤分子
との同時使用は、また米国特許第4、619.956号
に教示されている。
との同時使用は、また米国特許第4、619.956号
に教示されている。
ヒンダードアミン光安定剤のN−ヒドロキシカルビルオ
キシ誘導体は相当するN−)1またはN−アルキル誘導
体より塩基性がより小さい。
キシ誘導体は相当するN−)1またはN−アルキル誘導
体より塩基性がより小さい。
同様に、N−ヒドロカルビルオキシ誘導体は、ヒンダー
ドアミンの塩基性が一般にポリマー系との望ましくない
相互作用、例えばハイノリラド熱硬化性アクリル系自動
車塗料における硬化遅延をひき起すところのポリマー系
において重要な有利さを提供する。
ドアミンの塩基性が一般にポリマー系との望ましくない
相互作用、例えばハイノリラド熱硬化性アクリル系自動
車塗料における硬化遅延をひき起すところのポリマー系
において重要な有利さを提供する。
塩基性のより小さい当該N−ヒドロカルビルオキシ縛導
体はかかるポリマー系において硬化遅延をひき起さない
。
体はかかるポリマー系において硬化遅延をひき起さない
。
本発明の−の目的は、同じ分子において紫外s吸収部と
N−ヒドロカルビルオキシヒンダードアミン部が存在す
る新規な化合物を提供することにある。
N−ヒドロカルビルオキシヒンダードアミン部が存在す
る新規な化合物を提供することにある。
本発明の別の目的は、有効歓の上記の新規化合物の存在
により化学線光線の劣化作用に対して安定化されたポリ
マー組成物を提供することにある。
により化学線光線の劣化作用に対して安定化されたポリ
マー組成物を提供することにある。
(a題を解決するための手段、発明の効果)本発明は、
次式Iないし式■ H (式中、 R1は水素原子、)−ロゲン原子、炭素原子数1ないし
12のアルキル基または炭素原子数7ないし15のアル
アルキル基を表わし、 几およびR2は独立して水素原子、炭素原子数1ないし
12のアルキル基、炭素原子数7ないし15のアルアル
キル基または式 ■で表わされる基を表わし、但し、&および凡のうち一
方は式Vlで表わされる基を表わし、九およびR2は独
立して炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わすかま
たは馬および也は−緒になってペンタメチレン基を表わ
し、Mは直接結合、−NG會−、−0−、−8−、−8
OtN(h−−8O,−、−80tO−、−CONG、
−、−COO−または−CO〇−を表わし、 Lは直接結合、炭素原子数1ないし12のアルキレン基
、炭素原子数3ないし18のアルケニレン基、炭素原子
数3ないし18のアルキニレン基、炭素原子数5ないし
12のシクロアルキレフ基を表わし、前記アルキレン基
は1個もしくはそれ以上の酸素原子により中断されてお
り、 Xは−COO+、 −coNul +、 −o−t −
NG)−または−NY−を表わし、ここで(bは水素原
子または炭素原子数1ないし8のアルキル基を表わし、
ルは水素原子またはヒドロキシル基を表わしルは一CO
−,−C)(O)(Cルーまたは−CH(CH零0H)
−を表わし、 G+ 、 Gt 、 Ga 、およびG4は独立して水
素原子ハロゲン原子、炭素原子数1ないし12のアルキ
ル基、炭素原子数6ないし10のアリール基炭素原子数
7ないし15のアルアルキル基、フェノギシ基、炭素原
子数1ないし12のアルコキシ基、−0CH,C00−
Llまたは基Tを表わし、ここでLlは炭素原子数1な
いし8のアルキル基但し、GKないしG4のうち少なく
とも一個は′rでなければならず、 GlおよびG6は独立して山ないしG4と同じ定義を有
し、但しG、およびG−のうち少なくとも一個はTを表
わす必要は無く、 缶は水素原子、フェニル基またはG6により置換された
フェニル基を表わし、 Gsはシアノ基、−Coo −Lまたは−co−x−y
をEは水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基
、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素原
子数2ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし
12のシクロアルケニル基、炭素原子数7ないし15の
アルアルキル基、炭素原子数7ないし12の二環式もし
くは三環式の飽和もしくは不飽和炭化水素の基または炭
素原子数6ないし10のアリール基またはアルキル基に
よりaaされた該アリール基を表わし、 T1.Tgおよび′r1は独立して炭素原子数1ないし
12のアルキル基、炭素原子数6ないし10のアリール
基、−+r!Aもしくは二個の炭素原子数1ないし4の
アルキル基によジ置換された前記アリール基、炭素原子
数7ないし15のアルアルキル基、 −〇R丁、−S几
y、−NR丁R・、−8OsH、または基TKより置換
された0−ヒドロキシ7エ二ル基を表わし、但し、Tt
、TtおよびTsのうち少なくとも一個は基Tによジ置
換されたヒドロキシフェニル基でなければならず、そし
て&およびR2は独立して水素原子、炭素原子数1ない
し18のアルキル基、炭素原子数2ないし18のアルケ
ニル基、炭素原子数2ないし12のアルコキシアルキル
基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素
原子数6ないし10のアリール基、−個もしくは二個の
炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換された前
記アリール基、炭素原子数7ないし15のアルアルキル
基、または基Yを表わす。)のうちの一つを有する化合
物に関する。
次式Iないし式■ H (式中、 R1は水素原子、)−ロゲン原子、炭素原子数1ないし
12のアルキル基または炭素原子数7ないし15のアル
アルキル基を表わし、 几およびR2は独立して水素原子、炭素原子数1ないし
12のアルキル基、炭素原子数7ないし15のアルアル
キル基または式 ■で表わされる基を表わし、但し、&および凡のうち一
方は式Vlで表わされる基を表わし、九およびR2は独
立して炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わすかま
たは馬および也は−緒になってペンタメチレン基を表わ
し、Mは直接結合、−NG會−、−0−、−8−、−8
OtN(h−−8O,−、−80tO−、−CONG、
−、−COO−または−CO〇−を表わし、 Lは直接結合、炭素原子数1ないし12のアルキレン基
、炭素原子数3ないし18のアルケニレン基、炭素原子
数3ないし18のアルキニレン基、炭素原子数5ないし
12のシクロアルキレフ基を表わし、前記アルキレン基
は1個もしくはそれ以上の酸素原子により中断されてお
り、 Xは−COO+、 −coNul +、 −o−t −
NG)−または−NY−を表わし、ここで(bは水素原
子または炭素原子数1ないし8のアルキル基を表わし、
ルは水素原子またはヒドロキシル基を表わしルは一CO
−,−C)(O)(Cルーまたは−CH(CH零0H)
−を表わし、 G+ 、 Gt 、 Ga 、およびG4は独立して水
素原子ハロゲン原子、炭素原子数1ないし12のアルキ
ル基、炭素原子数6ないし10のアリール基炭素原子数
7ないし15のアルアルキル基、フェノギシ基、炭素原
子数1ないし12のアルコキシ基、−0CH,C00−
Llまたは基Tを表わし、ここでLlは炭素原子数1な
いし8のアルキル基但し、GKないしG4のうち少なく
とも一個は′rでなければならず、 GlおよびG6は独立して山ないしG4と同じ定義を有
し、但しG、およびG−のうち少なくとも一個はTを表
わす必要は無く、 缶は水素原子、フェニル基またはG6により置換された
フェニル基を表わし、 Gsはシアノ基、−Coo −Lまたは−co−x−y
をEは水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基
、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素原
子数2ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし
12のシクロアルケニル基、炭素原子数7ないし15の
アルアルキル基、炭素原子数7ないし12の二環式もし
くは三環式の飽和もしくは不飽和炭化水素の基または炭
素原子数6ないし10のアリール基またはアルキル基に
よりaaされた該アリール基を表わし、 T1.Tgおよび′r1は独立して炭素原子数1ないし
12のアルキル基、炭素原子数6ないし10のアリール
基、−+r!Aもしくは二個の炭素原子数1ないし4の
アルキル基によジ置換された前記アリール基、炭素原子
数7ないし15のアルアルキル基、 −〇R丁、−S几
y、−NR丁R・、−8OsH、または基TKより置換
された0−ヒドロキシ7エ二ル基を表わし、但し、Tt
、TtおよびTsのうち少なくとも一個は基Tによジ置
換されたヒドロキシフェニル基でなければならず、そし
て&およびR2は独立して水素原子、炭素原子数1ない
し18のアルキル基、炭素原子数2ないし18のアルケ
ニル基、炭素原子数2ないし12のアルコキシアルキル
基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素
原子数6ないし10のアリール基、−個もしくは二個の
炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換された前
記アリール基、炭素原子数7ないし15のアルアルキル
基、または基Yを表わす。)のうちの一つを有する化合
物に関する。
好ましくは、也は水素原子、塩素原子、炭素原子数1な
いし4のアルキル基またはα、α−ジメチルベンジル基
を表わし、最も好ましくは、水素原子または塩素原子を
表わす。
いし4のアルキル基またはα、α−ジメチルベンジル基
を表わし、最も好ましくは、水素原子または塩素原子を
表わす。
&は好ましくは炭素原子数1ないし8のアルキル基また
はα、α−ジメチルベンジル基を表わし、最も好ましく
は、メチル基、第三ブチル基、第三アミル基または第三
オクチル基を表わす。
はα、α−ジメチルベンジル基を表わし、最も好ましく
は、メチル基、第三ブチル基、第三アミル基または第三
オクチル基を表わす。
好ましくは、Rは式Vfi (式中、Mは直接結合を表
わし、Lはエチレン基を表わしそしてXは−COO−を
表わす。)で表わされる基を表わす。
わし、Lはエチレン基を表わしそしてXは−COO−を
表わす。)で表わされる基を表わす。
山およびR4は好ましくは各々メチル基を表わす。
Rsは好ましくけ水素原子を表わす。
ルは好ましくは一CO−を表わす。
G1およびG4は好ましくは各々水素原子を表わす。
好ましくは、G6は水素原子を表わす。
GutたはG@は好ましくは基T1エトキシ基まだは一
0CHICOO−Ll (式中、L、は炭素原子数2な
いし8のアルキル基、最も好ましくはLIはエチル基、
n−ブチル基、n−オクチル基またはイソオクチル基を
表わす。)を表わす。
0CHICOO−Ll (式中、L、は炭素原子数2な
いし8のアルキル基、最も好ましくはLIはエチル基、
n−ブチル基、n−オクチル基またはイソオクチル基を
表わす。)を表わす。
缶は好ましくは水素原子を表わす。
Gaは好ましくはシアノ基を表わす。
好ましくはXは一〇−または−NH−を表わす。
Eは好ましくは炭素原子数1ないし12のアルキル基、
シクロヘキシル基またはα−メチルベンジル基を表わし
、最も好ましくはメチル基、ヘブチル基、オクチル基、
ノニル基、シクロヘキシル基またはα−メチルベンジル
基を表わす。
シクロヘキシル基またはα−メチルベンジル基を表わし
、最も好ましくはメチル基、ヘブチル基、オクチル基、
ノニル基、シクロヘキシル基またはα−メチルベンジル
基を表わす。
本発明化合物は、上記に引用された従来技術文献におい
て紫外線吸収部とヒンダードアミン部の双方を含むN−
未置換またはN−アルキル置換化合物を製造するために
記載された一般的方法により製造される。
て紫外線吸収部とヒンダードアミン部の双方を含むN−
未置換またはN−アルキル置換化合物を製造するために
記載された一般的方法により製造される。
1−ヒドロカルビルオキシヒンダードアミンはEP−A
、−5aq4a2に記載された方法により製造される。
、−5aq4a2に記載された方法により製造される。
本発明化合物を作るのに使用される中間体は、大部分は
商業品目である。
商業品目である。
本出願は、2.2.6.6−チトラアルキルビペリジン
構造を強調するものであるが、本発明は以下のテトラア
ルキル置換ピペラジンまたはピペラジノン部分が上述の
テトラアルキルピペリジン部分に置き換わる化合物にも
関することに(式中、MとYは互いに独立してメチレン
基またはカルボニル基を表し;好ましくはMはメチレン
基を表わし、Yはカルボニル基を表わす。)かかる化合
物に適用できるとa認された置換基は、環の窒素原子上
の置換に適当なものであ :ると理解されるべきである
。
構造を強調するものであるが、本発明は以下のテトラア
ルキル置換ピペラジンまたはピペラジノン部分が上述の
テトラアルキルピペリジン部分に置き換わる化合物にも
関することに(式中、MとYは互いに独立してメチレン
基またはカルボニル基を表し;好ましくはMはメチレン
基を表わし、Yはカルボニル基を表わす。)かかる化合
物に適用できるとa認された置換基は、環の窒素原子上
の置換に適当なものであ :ると理解されるべきである
。
本発明の化合物が特に有用であるところの支持体は、ポ
リエチレンおよびポリプロピレンのようなポリオレフィ
ン;特に耐衝撃ポリスチレンを宮むポリスチレン;AB
S樹脂;例えばブタジェンゴム、EPM、BPDMSS
BRおよびニド ;リルゴムのようなニジストマーであ
る。
リエチレンおよびポリプロピレンのようなポリオレフィ
ン;特に耐衝撃ポリスチレンを宮むポリスチレン;AB
S樹脂;例えばブタジェンゴム、EPM、BPDMSS
BRおよびニド ;リルゴムのようなニジストマーであ
る。
安定化され得るポリマーの例は一般に以下のものを包含
する: 1、 モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、
例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン
−1、ポリメチルペンテン−1、ポリイソプレンまたは
ポリブタジェン。
する: 1、 モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、
例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン
−1、ポリメチルペンテン−1、ポリイソプレンまたは
ポリブタジェン。
並びにシクロオレフィン例えばシクロペンテンまたはノ
ルボルネンのポリマー1(所望により架橋結合できる)
ポリエチレン、例えば高密匿ポリエチレン(HDPE)
、低密度ポリエチレン(LDPE )および線状低密度
ポリエチレン(LLDPE )。
ルボルネンのポリマー1(所望により架橋結合できる)
ポリエチレン、例えば高密匿ポリエチレン(HDPE)
、低密度ポリエチレン(LDPE )および線状低密度
ポリエチレン(LLDPE )。
L1.に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロピ
レンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレンと
ポリエチレンとの混合物(例えばPP/HDPE、PP
/LDPE)およびポリエチレンの異なるタイプの混合
物(例えば(LDPE/HDPE )。
レンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレンと
ポリエチレンとの混合物(例えばPP/HDPE、PP
/LDPE)およびポリエチレンの異なるタイプの混合
物(例えば(LDPE/HDPE )。
−モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニル
モノマーとのコポリマー、例えばエチレン/フロピレン
コポリマー、m状低密度ポリエチレン(LLDPB )
およびその低密度ポリエチレン(LDPE)との混合物
、プロピレン/ブテン−1、エチレン/ヘキセン、エチ
レン/メチルペンテン、エチレン/ヘプテン、エチレン
/オクテン、プロピレン/イソブチレン、エチレン/ブ
テン−1、プロピレン/ブタジェン、インブチレン/イ
ンプレン、エチレン/アルキルアクリレート、エチレン
/アルキルメタクリレート、エチレン/ビニルアセテー
トまたはエチレン/アクリル酸コポリマーおよびそれら
の塩類(アイオノマー)、およびエチレントフロピレン
とジエン例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジェンま
たはエチリデ/−ノルボルネンとのターポリマー;並び
に前記コポリマーおよびそれらの混合物と1.に記載し
たポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン/エチレ
ン−プロビレ/−コ、t’+7−?−1LDPE/gV
AXLDPE/ EAA、 LLDPE 7 gvAオ
x ヒI、LDPE /AA0 5m、 炭化水素樹脂(例えば炭素原子数5ないし9
)およびそれらの水素化変性物(例えば粘着付与剤)。
モノマーとのコポリマー、例えばエチレン/フロピレン
コポリマー、m状低密度ポリエチレン(LLDPB )
およびその低密度ポリエチレン(LDPE)との混合物
、プロピレン/ブテン−1、エチレン/ヘキセン、エチ
レン/メチルペンテン、エチレン/ヘプテン、エチレン
/オクテン、プロピレン/イソブチレン、エチレン/ブ
テン−1、プロピレン/ブタジェン、インブチレン/イ
ンプレン、エチレン/アルキルアクリレート、エチレン
/アルキルメタクリレート、エチレン/ビニルアセテー
トまたはエチレン/アクリル酸コポリマーおよびそれら
の塩類(アイオノマー)、およびエチレントフロピレン
とジエン例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジェンま
たはエチリデ/−ノルボルネンとのターポリマー;並び
に前記コポリマーおよびそれらの混合物と1.に記載し
たポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン/エチレ
ン−プロビレ/−コ、t’+7−?−1LDPE/gV
AXLDPE/ EAA、 LLDPE 7 gvAオ
x ヒI、LDPE /AA0 5m、 炭化水素樹脂(例えば炭素原子数5ないし9
)およびそれらの水素化変性物(例えば粘着付与剤)。
歳 ポリスチレン、ポリ−(p−メチルスチレン)、ポ
リ−(α−メチルスチレン)。
リ−(α−メチルスチレン)。
i スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたは
アクリル酵導体とのコポリマー、例えばスチレン/ブタ
ジェン、スチレン/アクリロニトリル、スチレン/アル
キルメタクリレート、スチレン/無水マレイン酸、スチ
レン/ブタジェン/アルキルアクリレート、スチレン/
アクリロニトリル/メチルアクリレート;スチレンコポ
リマーと別のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエ
ンポリマーまタハエチレン/フロピレン/ジェンターポ
リマーからの高耐伽隼性混合物;およびスチレンのブロ
ックコポリマー例エバスチレン/ブタジェン/スチレン
、スチレン/インプレン/スチレン、スチレン/エチレ
ン/ブチレン/スチレンマタハスチレン/エチレン/フ
ロピレン/スチレン。
アクリル酵導体とのコポリマー、例えばスチレン/ブタ
ジェン、スチレン/アクリロニトリル、スチレン/アル
キルメタクリレート、スチレン/無水マレイン酸、スチ
レン/ブタジェン/アルキルアクリレート、スチレン/
アクリロニトリル/メチルアクリレート;スチレンコポ
リマーと別のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエ
ンポリマーまタハエチレン/フロピレン/ジェンターポ
リマーからの高耐伽隼性混合物;およびスチレンのブロ
ックコポリマー例エバスチレン/ブタジェン/スチレン
、スチレン/インプレン/スチレン、スチレン/エチレ
ン/ブチレン/スチレンマタハスチレン/エチレン/フ
ロピレン/スチレン。
& スチレンまたはαメチルスチレンのグラフトフホリ
マー、例えばポリブタジェンにスチレン、ポリブタジェ
ン−スチレンま九はポリブタジェン−アクリロニトリル
にスチレン;ポリブタジェンにスチレンおよびアクリロ
ニトリル(tたはメタアクリロニトリル);ポリブタジ
ェンにスチレンおよび無水マレイン酸またはマレインイ
ミド:ポリブタジェンにスチレン、アクリロニトリルお
よび無水マレイン酸またはマレインイミド;ポリブタジ
ェンにスチレン、アクリレートリルおよびメチルメタア
クリレート、ポリブタジェンにスチレンおよびアルキル
アクリレートまたはメタアクリレート、エチレン/プロ
ピレン/ジェンターポリマーにスチレンおよびアクリロ
ニトリル、ポリアクリレートま九はポリメタクリレート
にスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート/ブ
タジェンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル
、並びにこれらと5に列挙したコポリマーとの混合物、
例えばAB8−1MB8−1ASA−またはAES−ポ
リマーとして知られているコポリマー混合物。
マー、例えばポリブタジェンにスチレン、ポリブタジェ
ン−スチレンま九はポリブタジェン−アクリロニトリル
にスチレン;ポリブタジェンにスチレンおよびアクリロ
ニトリル(tたはメタアクリロニトリル);ポリブタジ
ェンにスチレンおよび無水マレイン酸またはマレインイ
ミド:ポリブタジェンにスチレン、アクリロニトリルお
よび無水マレイン酸またはマレインイミド;ポリブタジ
ェンにスチレン、アクリレートリルおよびメチルメタア
クリレート、ポリブタジェンにスチレンおよびアルキル
アクリレートまたはメタアクリレート、エチレン/プロ
ピレン/ジェンターポリマーにスチレンおよびアクリロ
ニトリル、ポリアクリレートま九はポリメタクリレート
にスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート/ブ
タジェンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル
、並びにこれらと5に列挙したコポリマーとの混合物、
例えばAB8−1MB8−1ASA−またはAES−ポ
リマーとして知られているコポリマー混合物。
Z ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、
塩素化ゴム、塩素化またはクロロスルホンポリエチレン
、エビクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、ハロゲ
ン含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフ
ッ化ビニリデン並びKこれらのコポリマー、例えばtl
jL化’ニル/塩化ビニリデン、塩化ビニル/酢酸ビニ
ルまたは塩化ビニリデン/酢酸ビニルコポリマー 。
塩素化ゴム、塩素化またはクロロスルホンポリエチレン
、エビクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、ハロゲ
ン含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフ
ッ化ビニリデン並びKこれらのコポリマー、例えばtl
jL化’ニル/塩化ビニリデン、塩化ビニル/酢酸ビニ
ルまたは塩化ビニリデン/酢酸ビニルコポリマー 。
a α、β−不飽和酸およびその訪導体から誘導された
ポリマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタアク
リレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニト
リル。
ポリマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタアク
リレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニト
リル。
2 前項aK挙げたモノマー相互のまたは他の不飽和上
ツマ−とのコポリマー、例えばアクリロニトリル/フタ
ジエン、アクリロニトリル/アルキルアクリンート、ア
クリロニトリル/アルコキシアルキルアクリレートまた
はアクリロニトリル/ハロゲン化ビニルコポリマーまた
はアクリロニトリル/アルキルメタアクリレート/ブタ
ジェンターポリマー 1α不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのアシ
ル誘導体またはそれらのアセタールから誘導されたポリ
マー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、
ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポ
リビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリ
ルフタレートまたはポリアリルメラミン;並びにそれら
と上記t Ic記載したオレフィンとのコポリマー。
ツマ−とのコポリマー、例えばアクリロニトリル/フタ
ジエン、アクリロニトリル/アルキルアクリンート、ア
クリロニトリル/アルコキシアルキルアクリレートまた
はアクリロニトリル/ハロゲン化ビニルコポリマーまた
はアクリロニトリル/アルキルメタアクリレート/ブタ
ジェンターポリマー 1α不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのアシ
ル誘導体またはそれらのアセタールから誘導されたポリ
マー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、
ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポ
リビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリ
ルフタレートまたはポリアリルメラミン;並びにそれら
と上記t Ic記載したオレフィンとのコポリマー。
11.1!1状エーテルのホモポリマーおよびコポリマ
ー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオ
キシド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらととスー
ブリシジルエーテルとのコポリマー。
ー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオ
キシド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらととスー
ブリシジルエーテルとのコポリマー。
12、ポリアセタール、例えばポリオキシメチレンおよ
びエチレンオキシドをコモノマートL’tl−含むポリ
オキシメチレン;熱可塑性ポリ9レタンで変性させたポ
リアセタール、アクリレートまたはMBS。
びエチレンオキシドをコモノマートL’tl−含むポリ
オキシメチレン;熱可塑性ポリ9レタンで変性させたポ
リアセタール、アクリレートまたはMBS。
1五ポリフエニレンオキシドおよびスルフィド並びにボ
リフェニレンオキシドトボリスチレンまたはポリアミド
との混合物。
リフェニレンオキシドトボリスチレンまたはポリアミド
との混合物。
14、一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエ
ーテル、ポリエステルまたはポリブタジェンと他方の成
分として脂肪族または芳香族ポリインシアネートとから
誘導されたポリウレタン並びにその前駆物質(ポリイン
シアネート、ポリオールまたはプレポリマー)。
ーテル、ポリエステルまたはポリブタジェンと他方の成
分として脂肪族または芳香族ポリインシアネートとから
誘導されたポリウレタン並びにその前駆物質(ポリイン
シアネート、ポリオールまたはプレポリマー)。
15、、ジアミンおよびジカルボン酸および/またはア
ミノカルボン酸または相当するラクタムから誘導された
ポリアミドおよびコポリアミド。
ミノカルボン酸または相当するラクタムから誘導された
ポリアミドおよびコポリアミド。
例えばポリアミド4、ポリアミド6、ポリアミド6/6
.6/10.6/9.6/12および4/6、ポリアミ
ド11、ポリアミド12、m−キシレンジアミンおよび
アジピン酸の縮合によって得られる芳香族ポリアミド;
ヘキサメチレンジアミンおよびインフタル1yまたは/
およびテレフタル酸および所望によυ変性剤としてのニ
ジストマーから製造されるポリアミド、例えばポリ−2
、4,4−) IJ メチルへ中サメチレンテレフタル
アミドまたはポリ−m−フェニレンイソフタルアミド、
さらK、前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィン
コポリマー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグ
ラフトしたエラストマーとの別のコポリマー;またはこ
れらとポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、
ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメチレング
リコ−とのコポリマー。E)’DMま九はABSで変性
させたポリアミドまたはコポリアミド。加工の間に縮合
させたポリアミド(RIM−ポリアミド系)。
.6/10.6/9.6/12および4/6、ポリアミ
ド11、ポリアミド12、m−キシレンジアミンおよび
アジピン酸の縮合によって得られる芳香族ポリアミド;
ヘキサメチレンジアミンおよびインフタル1yまたは/
およびテレフタル酸および所望によυ変性剤としてのニ
ジストマーから製造されるポリアミド、例えばポリ−2
、4,4−) IJ メチルへ中サメチレンテレフタル
アミドまたはポリ−m−フェニレンイソフタルアミド、
さらK、前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィン
コポリマー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグ
ラフトしたエラストマーとの別のコポリマー;またはこ
れらとポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、
ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメチレング
リコ−とのコポリマー。E)’DMま九はABSで変性
させたポリアミドまたはコポリアミド。加工の間に縮合
させたポリアミド(RIM−ポリアミド系)。
1&ポリ尿素、ポリイミドおよびポリアミド系ミ ド
。
。
1zジカルボン酸およびジオールおよび/またはヒドロ
キシカルボンtIlまたは相当するラクトンから誘導さ
れたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート
、ポリブチレンテレ7りL/−ト、yt!+)−1,4
−シメチロールーシクロヘキテンレフタレートおよびポ
リヒドロキシベンゾエート並びにヒドロキシ末端基を含
有するポリエーテルから誘導されたブロックコポリエー
テルエステル;およびボリカーボネートマたはMB8で
変性させたポリエステル。
キシカルボンtIlまたは相当するラクトンから誘導さ
れたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート
、ポリブチレンテレ7りL/−ト、yt!+)−1,4
−シメチロールーシクロヘキテンレフタレートおよびポ
リヒドロキシベンゾエート並びにヒドロキシ末端基を含
有するポリエーテルから誘導されたブロックコポリエー
テルエステル;およびボリカーボネートマたはMB8で
変性させたポリエステル。
1aポリカーボネートおよびポリエステル−カーボネー
ト。
ト。
19、ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリ
エーテルケトン。
エーテルケトン。
2α一方の成分としてアルデヒドおよび他方の成分とし
てフェノール、尿素およびメラミンから誘導された架橋
ポリマー、例えばフェノール/ホルムアルデヒド樹脂、
尿素/ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン/ホルムア
ルデヒド樹脂。
てフェノール、尿素およびメラミンから誘導された架橋
ポリマー、例えばフェノール/ホルムアルデヒド樹脂、
尿素/ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン/ホルムア
ルデヒド樹脂。
21、乾性および不乾性アルキド樹脂。
22、飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコール
および架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステル
から誘導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性の
低いそれらのハロゲン含有変性物。
および架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステル
から誘導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性の
低いそれらのハロゲン含有変性物。
2五置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリレ
ート、ウレタン−アクリレートまたはポリエステル−ア
クリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。
ート、ウレタン−アクリレートまたはポリエステル−ア
クリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。
24、メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリインシアネートま
たはエポキシ樹脂で架橋されたアルキド樹■旨、ポリエ
ステル樹脂またはアクリレート梅脂。
たはエポキシ樹脂で架橋されたアルキド樹■旨、ポリエ
ステル樹脂またはアクリレート梅脂。
25、ポリエポキシド、例えばビス−グリシジルエーテ
ル、または脂環式ジエボキシドから誘導された架橋エポ
キシ樹脂。
ル、または脂環式ジエボキシドから誘導された架橋エポ
キシ樹脂。
26、天然ポリマー、例えばセルロース、天然ゴム、ゼ
ラチンおよびこれらの化学的に変性させた重合同族体誘
導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース
および酪酸セルロースまたはセルロースエーテル、例え
ばメチルセルロース:ロジンおよびそれらの誘導体。
ラチンおよびこれらの化学的に変性させた重合同族体誘
導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース
および酪酸セルロースまたはセルロースエーテル、例え
ばメチルセルロース:ロジンおよびそれらの誘導体。
27、前記したポリマーの混合物(ポリブレンド)、例
えばPP/EPDM、ポリアミド/EPDMまたはAB
C,PVC/EVA、PVC/ABS1 PVC/MB
S1P(’/ABS、PBTP/ABS、PC/ASA
、PC/PBT。
えばPP/EPDM、ポリアミド/EPDMまたはAB
C,PVC/EVA、PVC/ABS1 PVC/MB
S1P(’/ABS、PBTP/ABS、PC/ASA
、PC/PBT。
PVC/C)’E、PVC/アクリレート、POM/熱
可塑性FUR,PC/熱可塑性FOR,POM/アクリ
レ−ト 、 POM/MBS、 PPO/HI PS
、 PPO/PA&6およびコポリマー、PA/HD
PE、 PA/PP、 PA/PP0゜ 2a純単量体化合物またはその化合物からなる天然およ
び合成有機材料、例えば鉱油、動物および植物脂肪、オ
イルおよびワックスまたは合成エステル(例えばフタレ
ート、アジペート、ホスフェートまたはトリメリテート
)をベースとした上記オイル、脂肪およびワックス、並
びに合成エステルの適当な重量比で混合された鉱油との
混合物で、その材料はポリマーのための繊維紡績油とし
て並びにこのような材料の水性エマルジョンとして使用
され得る。
可塑性FUR,PC/熱可塑性FOR,POM/アクリ
レ−ト 、 POM/MBS、 PPO/HI PS
、 PPO/PA&6およびコポリマー、PA/HD
PE、 PA/PP、 PA/PP0゜ 2a純単量体化合物またはその化合物からなる天然およ
び合成有機材料、例えば鉱油、動物および植物脂肪、オ
イルおよびワックスまたは合成エステル(例えばフタレ
ート、アジペート、ホスフェートまたはトリメリテート
)をベースとした上記オイル、脂肪およびワックス、並
びに合成エステルの適当な重量比で混合された鉱油との
混合物で、その材料はポリマーのための繊維紡績油とし
て並びにこのような材料の水性エマルジョンとして使用
され得る。
29、天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例えば
カルボキシル化スチレン/ブタジェンコポリマーの天然
ラテックス。
カルボキシル化スチレン/ブタジェンコポリマーの天然
ラテックス。
3[Lポリシロキサン、例えば米国特許第425947
6号に記載された軟質親水性ポリシロキサン、および例
えば米国特許第4355147号に記載さレタ硬質ポリ
オルカッシロキサン。
6号に記載された軟質親水性ポリシロキサン、および例
えば米国特許第4355147号に記載さレタ硬質ポリ
オルカッシロキサン。
31、不飽和アクリルポリアセトアセテートまたは不飽
和アクリル樹脂と組み合わせたポリケチミン、不飽和ア
クリル樹脂はペンダント不飽和基を有するウレタンアク
リレート、ポリエーテルアクリレート、ビニルまたはア
クリルコポリマーおよびアクリル化メラミンを包含する
。ポリケチミンは酸触媒の存在下でのポリアミンとケト
ンとから製造される。
和アクリル樹脂と組み合わせたポリケチミン、不飽和ア
クリル樹脂はペンダント不飽和基を有するウレタンアク
リレート、ポリエーテルアクリレート、ビニルまたはア
クリルコポリマーおよびアクリル化メラミンを包含する
。ポリケチミンは酸触媒の存在下でのポリアミンとケト
ンとから製造される。
32、エチレン性不飽和モノマーまたはオリゴマーおよ
び多不飽和脂肪族オリゴマーを含有する放射線硬化性組
成物。
び多不飽和脂肪族オリゴマーを含有する放射線硬化性組
成物。
3五エポキシメラミン樹脂、例えばエポキシ官能性共エ
ーテル化ハイノリッドメラミン樹脂により架橋された光
安定性エポキシ樹脂。
ーテル化ハイノリッドメラミン樹脂により架橋された光
安定性エポキシ樹脂。
一般に、本発明の化合物は安定化される組成物の約[1
01ないし約5重t%使用されるが、しかしこれは特定
の基材および施用で変化するであろう。有利な範囲は約
15ないし約2チ、そして特に[Llないし約1俤であ
る。
01ないし約5重t%使用されるが、しかしこれは特定
の基材および施用で変化するであろう。有利な範囲は約
15ないし約2チ、そして特に[Llないし約1俤であ
る。
この混合は、本発明の安定剤は、有機ポリマー中に、当
該分野で慣用の方法により成形の前のあらゆる段階で容
易に混入され得る0例えば安定剤は乾燥粉末の形態でポ
リマーと混合されてもよく、また安定剤の懸濁液または
エマルジョンは、ポリマーの溶液、懸濁液またはエマル
ジョンと混合され得る0本発明の安定化ポリマー組成物
は、如何に示すような種々の慣用の添加剤を所望により
疹加することもできる。
該分野で慣用の方法により成形の前のあらゆる段階で容
易に混入され得る0例えば安定剤は乾燥粉末の形態でポ
リマーと混合されてもよく、また安定剤の懸濁液または
エマルジョンは、ポリマーの溶液、懸濁液またはエマル
ジョンと混合され得る0本発明の安定化ポリマー組成物
は、如何に示すような種々の慣用の添加剤を所望により
疹加することもできる。
2.6−ジー第三ブチル−4−メチルフェノール、2−
第三ブチル−4,6−シメチルフエノール、2.6−ジ
ー第三ブチル−4−エチルフェノール、2.6−ジー第
三ブチル−4−n−ブチールフェノール、 2.6−ジー第三ブチル−4−インプチルフェノ−ル、 2.6−シシクロペンチルー4−メチルフェノール、 2−(α−メチルシクロヘキシル) −4,6−シメチ
ルフエノール、 2.6−シオクタデシルー4−メチルフェノール、2、
4. ls −)リシクロヘキシルフェノール、2.6
−ジー第三ブチル−4−メトキシメチルフェノール、 2.6−シーノニル−4−メチルフェノール、2.6−
ジー第三ブチル−4−メトキシフェノール、 2.5−ジー第三ブチルハイドロキノン、2.5−ジー
第三アミルハイドロキノン、2.6−ジ−フェニル−4
−オクタデシルオキシフェノール。
第三ブチル−4,6−シメチルフエノール、2.6−ジ
ー第三ブチル−4−エチルフェノール、2.6−ジー第
三ブチル−4−n−ブチールフェノール、 2.6−ジー第三ブチル−4−インプチルフェノ−ル、 2.6−シシクロペンチルー4−メチルフェノール、 2−(α−メチルシクロヘキシル) −4,6−シメチ
ルフエノール、 2.6−シオクタデシルー4−メチルフェノール、2、
4. ls −)リシクロヘキシルフェノール、2.6
−ジー第三ブチル−4−メトキシメチルフェノール、 2.6−シーノニル−4−メチルフェノール、2.6−
ジー第三ブチル−4−メトキシフェノール、 2.5−ジー第三ブチルハイドロキノン、2.5−ジー
第三アミルハイドロキノン、2.6−ジ−フェニル−4
−オクタデシルオキシフェノール。
例えば、
2.2′−チオビス(6−第三ブチル−4−メチルフェ
ノール)、 2.2′−チオビス(4−オクチルフェノール)、4.
4′−チオビス(6−第三ブチル−3−メチルフェノー
ル)、 4.4′−チオビス(6−第三ブチル−2−メチルフェ
ノール)。
ノール)、 2.2′−チオビス(4−オクチルフェノール)、4.
4′−チオビス(6−第三ブチル−3−メチルフェノー
ル)、 4.4′−チオビス(6−第三ブチル−2−メチルフェ
ノール)。
1.4 アルキリデンビスフェノール、例、tば2.
2′−メチレンビス(6−第三ブチル−4−メチルフェ
ノール)、 2.2′−メチレンビス(6−第三ブチル−4−エチル
フェノール)、 2.2′−メチレンビス〔4−メチル−6−(α−メチ
ルシクロヘキシル)フェノール〕、2.2′−メチレン
ビス(4−メチル−6−シクロヘキジルフエノール)、 2.2′−メチレンビス(6−ノニル−4−メチルフェ
ノール)、 2.2′−メチレンビス(4,ls−ジー第三ブチルフ
ェノール)、 2.2′−エチリデンビス(4,6−ジー第三ブチルフ
ェノール)、 2.2′−エチリデンビス(6−第三ブチル−4−イン
ブチルフェノール)、 乙2′−メチレンビス(6−(α−メチルベンジル)−
4−ノニルフェノール〕、 2.2′−メチレンビス[6−(α、α−ジメチルベン
ジル)−4−ノニルフェノール〕、4.4′−メチレン
ビス(2,6−ジー第三ブチルフェノール)、 44′−メチレンビス(6−第三ブチル−2−メチルフ
ェノール)、 1.1−ビス(5−fiK三ブチル−4−ヒドロキシ−
2−メチルフェニル)ブタン、 2.6−ビス(5−第三プチル−5−メチル−2−ヒド
ロキシベンジル)−4−メチルフェノール、 1、1.3− )リス(5−第三プチル−4−ヒドロキ
シ−2−fiメチルフェニルブタン、1.1−ビス(5
−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)
−3−n−ドデシルメルカプトブタン、 エチレングリコールビス〔へ3−ビス(3′−第三プチ
ル−4′−ヒトミキシフェニル)ブチレート 〕 、 ビス(3−g三ブチル−4−ヒトo*シー5−メチルフ
ェニル)ジシクロペンタジェン、ヒス(2−(5’−第
三ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−メチルベンジル’
) −6−g三ブチル−4−メチルフェニル〕テレフタ
レート。
2′−メチレンビス(6−第三ブチル−4−メチルフェ
ノール)、 2.2′−メチレンビス(6−第三ブチル−4−エチル
フェノール)、 2.2′−メチレンビス〔4−メチル−6−(α−メチ
ルシクロヘキシル)フェノール〕、2.2′−メチレン
ビス(4−メチル−6−シクロヘキジルフエノール)、 2.2′−メチレンビス(6−ノニル−4−メチルフェ
ノール)、 2.2′−メチレンビス(4,ls−ジー第三ブチルフ
ェノール)、 2.2′−エチリデンビス(4,6−ジー第三ブチルフ
ェノール)、 2.2′−エチリデンビス(6−第三ブチル−4−イン
ブチルフェノール)、 乙2′−メチレンビス(6−(α−メチルベンジル)−
4−ノニルフェノール〕、 2.2′−メチレンビス[6−(α、α−ジメチルベン
ジル)−4−ノニルフェノール〕、4.4′−メチレン
ビス(2,6−ジー第三ブチルフェノール)、 44′−メチレンビス(6−第三ブチル−2−メチルフ
ェノール)、 1.1−ビス(5−fiK三ブチル−4−ヒドロキシ−
2−メチルフェニル)ブタン、 2.6−ビス(5−第三プチル−5−メチル−2−ヒド
ロキシベンジル)−4−メチルフェノール、 1、1.3− )リス(5−第三プチル−4−ヒドロキ
シ−2−fiメチルフェニルブタン、1.1−ビス(5
−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)
−3−n−ドデシルメルカプトブタン、 エチレングリコールビス〔へ3−ビス(3′−第三プチ
ル−4′−ヒトミキシフェニル)ブチレート 〕 、 ビス(3−g三ブチル−4−ヒトo*シー5−メチルフ
ェニル)ジシクロペンタジェン、ヒス(2−(5’−第
三ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−メチルベンジル’
) −6−g三ブチル−4−メチルフェニル〕テレフタ
レート。
t5 ベンジル化合物、例えば
1.45−トリス(45−ジー第三ブチル−4−ヒドロ
キシベンジル)−2,4,6−)リメチルベンゼン、 ビス(45−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル
)スルフィド、 イソオクチルへ5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベ
ンジルメルカプトアセテート、ビス(4−第三ブチル−
3−ヒドロ中シー2.6−シメチルベンジル)ジチオテ
レフタレート、tへ5−トリス(45−ジー第三ブチル
−4−ヒドロキシベンジルインシアヌレート、1.へ5
−トリス(4−第三プチル−3−ヒドロキシ−2,6−
シメチルベンジル)インシアヌレート、 ジオクタデシルへ5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート、 モノエチルへ5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベン
ジルホスホネートのカルシウム塩、1、3.5− )リ
ス(へ5−ジシクロへキシル−4−ヒドロキシベンジル
)インシアヌレート。
キシベンジル)−2,4,6−)リメチルベンゼン、 ビス(45−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル
)スルフィド、 イソオクチルへ5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベ
ンジルメルカプトアセテート、ビス(4−第三ブチル−
3−ヒドロ中シー2.6−シメチルベンジル)ジチオテ
レフタレート、tへ5−トリス(45−ジー第三ブチル
−4−ヒドロキシベンジルインシアヌレート、1.へ5
−トリス(4−第三プチル−3−ヒドロキシ−2,6−
シメチルベンジル)インシアヌレート、 ジオクタデシルへ5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート、 モノエチルへ5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベン
ジルホスホネートのカルシウム塩、1、3.5− )リ
ス(へ5−ジシクロへキシル−4−ヒドロキシベンジル
)インシアヌレート。
1.6 アシルアミノフェノール、例エハラウ、リン
[4−ヒドロキシアニリド、ステアリン1便4−ヒドロ
キシアニリド、2.4−ビス(オクチルメルカプト)−
6−(45−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ
)−5−トリアジン、 オクチルN−(5,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキ
シフェニル)−力ルバメート。
[4−ヒドロキシアニリド、ステアリン1便4−ヒドロ
キシアニリド、2.4−ビス(オクチルメルカプト)−
6−(45−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ
)−5−トリアジン、 オクチルN−(5,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキ
シフェニル)−力ルバメート。
1.7 β−(へ5−ジ第三ブチルー4−ヒドロキシ
フェニル)プロピオン酸の以下の一価または多価アルコ
ールとのエステル、 アルコールの例:メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、1.6−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス(ヒドロキシエチル)インシアヌ
レート、チオジエチレングリコール、N 、 N’−ビ
ス(ヒドロキシエチル)シェラ酸ジアミド。
フェニル)プロピオン酸の以下の一価または多価アルコ
ールとのエステル、 アルコールの例:メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、1.6−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス(ヒドロキシエチル)インシアヌ
レート、チオジエチレングリコール、N 、 N’−ビ
ス(ヒドロキシエチル)シェラ酸ジアミド。
アルコールの例:メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレンクリコール、1,6−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス(ヒドロキシエチル)インシアヌ
レート、チオジエチレンクリコール、N 、 N’−ビ
ス(ヒドロキシエチル)シ3.’7#!ジアミド。
オクタデカノール、トリエチレンクリコール、1,6−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス(ヒドロキシエチル)インシアヌ
レート、チオジエチレンクリコール、N 、 N’−ビ
ス(ヒドロキシエチル)シ3.’7#!ジアミド。
1.9 β−(45−ジシクロへキシル−4−ヒドロ
キシフェニル)プロピオン酸の以下の一価または多価ア
ルコールとのエステル、 アルコールの例:メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコ−k、1.6−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペン
チルグリコール、トリス(ヒドロキシエチル)インシア
ヌレート、チオジエチレングリコール、N 、 N’−
ビス(ヒドロキシエチル)シェラ酸ジアミド。
キシフェニル)プロピオン酸の以下の一価または多価ア
ルコールとのエステル、 アルコールの例:メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコ−k、1.6−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペン
チルグリコール、トリス(ヒドロキシエチル)インシア
ヌレート、チオジエチレングリコール、N 、 N’−
ビス(ヒドロキシエチル)シェラ酸ジアミド。
へ N/−ビス(へ5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキ
シフェニルプロピオニル)へキサメチレンジアミン、 N 、 N’−ビス(45−ジー第三ブチル−4−ヒト
cx″Fシフェニルグロピオニル)トリメチレンジアミ
ン、 N 、 N’−ビス(45−ジー第三ブチル−4−ヒド
ロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジン。
シフェニルプロピオニル)へキサメチレンジアミン、 N 、 N’−ビス(45−ジー第三ブチル−4−ヒト
cx″Fシフェニルグロピオニル)トリメチレンジアミ
ン、 N 、 N’−ビス(45−ジー第三ブチル−4−ヒド
ロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジン。
2 紫外線吸収剤および光安定剤
−2,12−(2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリ
アゾール、例えば、 5′メチル、に5′−ジー第三ブチル−15′−第三プ
チル−15’−(1,1,へ3−テトラメチルブチル)
−15−クロロ−にダージー第三ブチルー15−クロロ
−3′−第三ブチルーダ−メチル−,5′−第二ブチル
ーダー第三ブチル:4′−オクトキシ−にダージー第三
アミルおよび5:5′−ビス(α、α−ジメチルベンジ
ル) +1!導体。
アゾール、例えば、 5′メチル、に5′−ジー第三ブチル−15′−第三プ
チル−15’−(1,1,へ3−テトラメチルブチル)
−15−クロロ−にダージー第三ブチルー15−クロロ
−3′−第三ブチルーダ−メチル−,5′−第二ブチル
ーダー第三ブチル:4′−オクトキシ−にダージー第三
アミルおよび5:5′−ビス(α、α−ジメチルベンジ
ル) +1!導体。
2.2 2−ヒドロキシ−ベンゾフェノン、例えば
4−ヒドロ中シー、4−メトキシ−14−オクトキシ−
14−デシルオキシ−14−ドデシルオキシ−1,4−
ベンジルオキシ−14,21,4’ −)リヒドロキシ
ーおよび2′−ヒドロキシ−4,4’−ジメトキシ紡導
体。
14−デシルオキシ−14−ドデシルオキシ−1,4−
ベンジルオキシ−14,21,4’ −)リヒドロキシ
ーおよび2′−ヒドロキシ−4,4’−ジメトキシ紡導
体。
2−3 置換されたおよび非置換安息香酸のニス至上
、例えば 4−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチ
レート、 オクチルフェニルプリチレート、 ジベンゾイルレゾルシノール、 ビス(4−第三ブチルベンゾイル)レゾルシノール、 ベンゾイルレゾルシノール、 2.4−ジー第三ブチルフェニルへ5−ジー第三ブチル
−4−ヒドロキシベンゾエート、および3.5−ジー第
三ブチル−4−ヒドロキシベンジェ − ト 。
、例えば 4−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチ
レート、 オクチルフェニルプリチレート、 ジベンゾイルレゾルシノール、 ビス(4−第三ブチルベンゾイル)レゾルシノール、 ベンゾイルレゾルシノール、 2.4−ジー第三ブチルフェニルへ5−ジー第三ブチル
−4−ヒドロキシベンゾエート、および3.5−ジー第
三ブチル−4−ヒドロキシベンジェ − ト 。
2.4 アクリレート、例えば
α−シアノ−β、β−ジフェニルーアクリル酸エチルエ
ステル、 α−シアノ−β、β−ジフェニルーアクリル酸イソオク
チルエステル、 α−カルボメトキシ−桂皮酸メチルエステル、α−シア
ノ−β−メチル−p−メトキシ−桂皮酸メチルエステル
、 α−シアノ−β−メチル−p−メトキク−桂皮酸ブチル
エステル、 α−カルボメトキシ−p−メトキシ桂皮酸メチルエステ
ル、および N−(β−カルボメトキシ−β−シアンビニル)−2−
メチルインドリン。
ステル、 α−シアノ−β、β−ジフェニルーアクリル酸イソオク
チルエステル、 α−カルボメトキシ−桂皮酸メチルエステル、α−シア
ノ−β−メチル−p−メトキシ−桂皮酸メチルエステル
、 α−シアノ−β−メチル−p−メトキク−桂皮酸ブチル
エステル、 α−カルボメトキシ−p−メトキシ桂皮酸メチルエステ
ル、および N−(β−カルボメトキシ−β−シアンビニル)−2−
メチルインドリン。
2.5 ニッケル化合物、例えば
2.2−チオビス−[−(1,1,へ3−テトラメチル
ブチル)−フェノール〕のニッケル錯体、例えばに1ま
たは1:2錯体であって、所望によりn−ブチルアミン
、トリエタノールアミンもしくはヘ−シクロヘキシル−
ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うもの、
ニッケルジブチルジチオカルバメート、4−ヒドロキシ
−45−ジー第三フ゛チルベンジルホスホン醒モノアル
キルエステル、例えばメチルもしくはエチルエステルの
ニッケル塩、2− ヒ)’ 0 # シー4−メチル−
フェニルウンデシルケトキシムのようなケトキシムのニ
ッケル錯体、1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒド
ロキシ−ピラゾールのニッケル錯体であって、所望によ
り他の配位子を伴うもの。
ブチル)−フェノール〕のニッケル錯体、例えばに1ま
たは1:2錯体であって、所望によりn−ブチルアミン
、トリエタノールアミンもしくはヘ−シクロヘキシル−
ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うもの、
ニッケルジブチルジチオカルバメート、4−ヒドロキシ
−45−ジー第三フ゛チルベンジルホスホン醒モノアル
キルエステル、例えばメチルもしくはエチルエステルの
ニッケル塩、2− ヒ)’ 0 # シー4−メチル−
フェニルウンデシルケトキシムのようなケトキシムのニ
ッケル錯体、1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒド
ロキシ−ピラゾールのニッケル錯体であって、所望によ
り他の配位子を伴うもの。
2.6 立体障害性アミン、例えば
ビス(2,2,46−テトラメチルビペリジル)セバケ
ート、 ビス(1,2,2,t6−ペンタメチルピペリジル)セ
バケート、 ビス(1,2,2,46−ペンタメチルピペリジル)n
−ブチル−へ5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベン
ジルマロネート、 1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,へ6−テトラ
メチル−4−ヒドロギシビペリジンとコハク酸との縮合
生成物、 N 、 N’−ビス(2,2,へ6−テトラメチル−4
−ピペリジル)へキサメチレンジアミンと4−第三オク
チルアミノ−′2.6−ジクロロー1.45−トリアジ
ンとの縮合生成物、 トリス(2,2,46−テトラメチル−4−ピペリジル
)ニトリロトリアセテート、 テトラ中ス(2,2,46−テトラメチル−4−ピペリ
ジル) −1,2,44−ブタンテトラカルボキシレー
ト、 1、1’−(1,2−二タンジイル)−ビス(へ4へ5
−テトラメチルピペラジノン)。
ート、 ビス(1,2,2,t6−ペンタメチルピペリジル)セ
バケート、 ビス(1,2,2,46−ペンタメチルピペリジル)n
−ブチル−へ5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベン
ジルマロネート、 1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,へ6−テトラ
メチル−4−ヒドロギシビペリジンとコハク酸との縮合
生成物、 N 、 N’−ビス(2,2,へ6−テトラメチル−4
−ピペリジル)へキサメチレンジアミンと4−第三オク
チルアミノ−′2.6−ジクロロー1.45−トリアジ
ンとの縮合生成物、 トリス(2,2,46−テトラメチル−4−ピペリジル
)ニトリロトリアセテート、 テトラ中ス(2,2,46−テトラメチル−4−ピペリ
ジル) −1,2,44−ブタンテトラカルボキシレー
ト、 1、1’−(1,2−二タンジイル)−ビス(へ4へ5
−テトラメチルピペラジノン)。
2.7 シュウ酸ジアミド、例えば
4.4′−ジ−オクチル−オキシオキサニリド、λ2′
−ジーオクチルオキシー翫5′−ジー第三ブチルオキサ
ニリド、 2.2′−ジ−ドデシルオキシ−へ5′−ジー第三ブチ
ルオキサニリド、 2−エトキシ−2′−エチルオキサニリド、N 、 N
’−1=’ス(3−ジメチルアミンプロピル−オキサル
アミド、 2−!ト=?’/−5−g三ブチルー2′−エチルオキ
サニリドおよび該化合物と2−エトキシ−2′−エチル
−へ4′−ジー第三ブチル−オキサニリドとの混合物、 オルト−およびパラ−メトキシー二置換オキブニリドの
混合物、および 〇−およびp−エトキシー二置換オキ丈二リドの混合物
。
−ジーオクチルオキシー翫5′−ジー第三ブチルオキサ
ニリド、 2.2′−ジ−ドデシルオキシ−へ5′−ジー第三ブチ
ルオキサニリド、 2−エトキシ−2′−エチルオキサニリド、N 、 N
’−1=’ス(3−ジメチルアミンプロピル−オキサル
アミド、 2−!ト=?’/−5−g三ブチルー2′−エチルオキ
サニリドおよび該化合物と2−エトキシ−2′−エチル
−へ4′−ジー第三ブチル−オキサニリドとの混合物、 オルト−およびパラ−メトキシー二置換オキブニリドの
混合物、および 〇−およびp−エトキシー二置換オキ丈二リドの混合物
。
ム4.6− )リス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオ
キシフェニル) −1,5,5−トリアジン、2−(2
−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル) −4,
6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,45−ト
リアジン、 2−(2,4−ジヒドロキシフェニル) −4,6−ビ
ス(2,4−ジメチルフェニル)−1,へ5−トリアジ
ン、 2.4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピルオキシフ
ェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル) −1,
5,5−トリアジン、 2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)
−4,6−ビス(4−メチルフェニル)−1,45−
トリアジン、 2−(2ヒドロキ7−4−ドブフルオキシフェニル)−
4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,45
−トリアジン。
キシフェニル) −1,5,5−トリアジン、2−(2
−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル) −4,
6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,45−ト
リアジン、 2−(2,4−ジヒドロキシフェニル) −4,6−ビ
ス(2,4−ジメチルフェニル)−1,へ5−トリアジ
ン、 2.4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピルオキシフ
ェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル) −1,
5,5−トリアジン、 2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)
−4,6−ビス(4−メチルフェニル)−1,45−
トリアジン、 2−(2ヒドロキ7−4−ドブフルオキシフェニル)−
4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,45
−トリアジン。
五 金属不活性化剤、例えば
N 、 N’−ジフェニルシェラ酸ジアミド、N−プリ
チラル−N−プリチロイルヒドラジン、N 、 N’−
ビス(サリチロイル)ヒドラジン、N 、 N’−ビス
(へ5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロ
ピオニル)ヒドラジン、3−?クチロイルアミノ−1,
2,4−)リアゾール、 ビス(ベンジリデン)オキサロジヒドラジン。
チラル−N−プリチロイルヒドラジン、N 、 N’−
ビス(サリチロイル)ヒドラジン、N 、 N’−ビス
(へ5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロ
ピオニル)ヒドラジン、3−?クチロイルアミノ−1,
2,4−)リアゾール、 ビス(ベンジリデン)オキサロジヒドラジン。
4、 ホスフィツトおよびホスホナイト、例えばトリフ
ェニルホスフィツト、 ジフェニルアルキルホスフィツト、 フェニルジアルキルホスフィツト、 トリス(ノニルフェニル)ホスフィツト、トリラタリル
ホスフィット、 トリオクタデシルホスフィツト、 ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、 トリス(2,4−ジー第三ブチルフェニル)ホスフィツ
ト、 ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、 ビス(2,4−ジー第三ブチルフェニル)ペンタエリト
リトールジホスフィット、 トリステアリルンルビトールトリホスフィット、テトラ
キス(2,4−ジー第三ブチルフェニル)4.41−ビ
フェニレンジホスホナイト、へ9−ビス(2,4−ジー
第三ブチルフェノキシ〕−2,4,111,10−テト
ラオキサ−へ9−ジホスファスピロ〔&5〕ウンデカン
。
ェニルホスフィツト、 ジフェニルアルキルホスフィツト、 フェニルジアルキルホスフィツト、 トリス(ノニルフェニル)ホスフィツト、トリラタリル
ホスフィット、 トリオクタデシルホスフィツト、 ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、 トリス(2,4−ジー第三ブチルフェニル)ホスフィツ
ト、 ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、 ビス(2,4−ジー第三ブチルフェニル)ペンタエリト
リトールジホスフィット、 トリステアリルンルビトールトリホスフィット、テトラ
キス(2,4−ジー第三ブチルフェニル)4.41−ビ
フェニレンジホスホナイト、へ9−ビス(2,4−ジー
第三ブチルフェノキシ〕−2,4,111,10−テト
ラオキサ−へ9−ジホスファスピロ〔&5〕ウンデカン
。
−過酸化物スカベンジャー、例えば
β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラクリル、
ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、 メルカプトベンズイミダゾール、または2−メルカプト
ベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミ
ン酸亜鉛、 ジオクタデフルジスルフィド、 ペンタエリトリトールテトラトラキス(β−ドデシルメ
ルカプト)グロビオネート。
ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、 メルカプトベンズイミダゾール、または2−メルカプト
ベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミ
ン酸亜鉛、 ジオクタデフルジスルフィド、 ペンタエリトリトールテトラトラキス(β−ドデシルメ
ルカプト)グロビオネート。
−4ヒドロキシルアミン、fF’J、tハN、N−ジベ
ンジルヒドロキシルアミン、N、N−ジエチルヒドロキ
シルアミン、N、N−ジオクチルヒドロキシルアミン、
N、N−シラクリルヒドロキシルアミン、N、N−ジオ
クタデシルヒドロキシルアミン、N、N−ジヘキサデシ
ルヒドロ中ジルアミン、N、N’−ジオクタデシルヒド
ロキシルアミン、N−ヘキサデシル−N−オクタデシル
ヒドロキシルアミン、 N−ヘプタデシル−N−オクタデシルヒドロキシルアミ
ン、 水素化タロウアミンから錦導されるN、N−ジアルキル
ルヒドロキシルアミン。
ンジルヒドロキシルアミン、N、N−ジエチルヒドロキ
シルアミン、N、N−ジオクチルヒドロキシルアミン、
N、N−シラクリルヒドロキシルアミン、N、N−ジオ
クタデシルヒドロキシルアミン、N、N−ジヘキサデシ
ルヒドロ中ジルアミン、N、N’−ジオクタデシルヒド
ロキシルアミン、N−ヘキサデシル−N−オクタデシル
ヒドロキシルアミン、 N−ヘプタデシル−N−オクタデシルヒドロキシルアミ
ン、 水素化タロウアミンから錦導されるN、N−ジアルキル
ルヒドロキシルアミン。
2〜ギーuアミド安定剤、例えば
ヨウ化物および/またはリン化合物と組合せた銅塩、お
よび二価マンガンの塩。
よび二価マンガンの塩。
a 塩基性補助安定剤、例えば
メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミン、
トリアリルシアヌレート、尿素訪導体、ヒドラジン鱒導
体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、 高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩
、例えばCaステアレー)、Znステアレート、Mgス
テアレート、Naリシル−トおよびにパルミテート、 ピロカテコール酸アンチモン、または ピロカテコール酸亜鉛。
トリアリルシアヌレート、尿素訪導体、ヒドラジン鱒導
体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、 高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩
、例えばCaステアレー)、Znステアレート、Mgス
テアレート、Naリシル−トおよびにパルミテート、 ピロカテコール酸アンチモン、または ピロカテコール酸亜鉛。
9 核剤、例えば
4−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸
。
。
10、充填剤および強化剤、例えば
炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、
タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物お
よび水酸化物、カーボンブラック、グラファイト。
タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物お
よび水酸化物、カーボンブラック、グラファイト。
11、その他の添加剤、例えは
可塑剤、飼滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤、静電
防止剤、発泡剤およびチオ相乗剤例えばジラウリルチオ
ジプロピオネートまたはジラウリルチオジプロピオネー
ト。
防止剤、発泡剤およびチオ相乗剤例えばジラウリルチオ
ジプロピオネートまたはジラウリルチオジプロピオネー
ト。
特に興味のあるのは、常温硬化および酸触媒塗布系を含
む塗布系の多様における本誌導体の利用である。
む塗布系の多様における本誌導体の利用である。
特に塗膜の物理的結合度は、光沢の消失度と黄変度にお
ける顕著な減少を伴って高い程度に維持される。
ける顕著な減少を伴って高い程度に維持される。
主な改良点は、N−アルキルヒンダードアミン系光安定
剤の使用により硬化の減退が実質的に無くなること:凝
集と分散の不安定化が、N−アルキルヒンダードアミン
がある種の着色塗布系に利用された場合に観察されるよ
うに実質的に無くなること;そして塗膜とポリカーボネ
ート基材の間の接着の損失が無くなることを含む。
剤の使用により硬化の減退が実質的に無くなること:凝
集と分散の不安定化が、N−アルキルヒンダードアミン
がある種の着色塗布系に利用された場合に観察されるよ
うに実質的に無くなること;そして塗膜とポリカーボネ
ート基材の間の接着の損失が無くなることを含む。
従って本発明は、光線、湿気および酸素の分解的な影響
な対して、アルキッド樹脂;熱可塑性アクリル樹脂ニア
クリルアルキッド;所望によりシリコーン、インクアナ
ート、インシアヌレート、ケチミンもしくはオキブゾリ
ジンで改質されたアクリルもしくはポリエステルアルキ
ッド:およびカルボン酸、酸無水物、ポリアミンもしく
はメルカプタンで架橋されたエポキシ被脂;および主鎖
構造において反応性基により改質されそしてエポキシド
により架橋されたアクリルおよびポリエステル樹脂系を
基材にした常温硬化塗膜を安定化するための、所望によ
り更に他の安定剤と共の、本化合物の使用にも関する。
な対して、アルキッド樹脂;熱可塑性アクリル樹脂ニア
クリルアルキッド;所望によりシリコーン、インクアナ
ート、インシアヌレート、ケチミンもしくはオキブゾリ
ジンで改質されたアクリルもしくはポリエステルアルキ
ッド:およびカルボン酸、酸無水物、ポリアミンもしく
はメルカプタンで架橋されたエポキシ被脂;および主鎖
構造において反応性基により改質されそしてエポキシド
により架橋されたアクリルおよびポリエステル樹脂系を
基材にした常温硬化塗膜を安定化するための、所望によ
り更に他の安定剤と共の、本化合物の使用にも関する。
更に、その1栗的用途において、架橋性のアクリル、ポ
リエステル、ウレタンまたはアルキッド樹脂を基材にし
九ノ・インリッド内容物のエナメルは、酸触媒を追加し
て硬化される。塩基性窒素基を含有光安定剤は、この適
用において満足できるものではない。
リエステル、ウレタンまたはアルキッド樹脂を基材にし
九ノ・インリッド内容物のエナメルは、酸触媒を追加し
て硬化される。塩基性窒素基を含有光安定剤は、この適
用において満足できるものではない。
酸触媒と光安定剤との塩の形成は、塩の不相溶性もしく
は不溶性および沈澱を招き、そして硬化の度合いが減少
し、光保護作用が城少し、湿気に対する抵抗性が不良に
なる事態を招く。
は不溶性および沈澱を招き、そして硬化の度合いが減少
し、光保護作用が城少し、湿気に対する抵抗性が不良に
なる事態を招く。
これらの酸触媒焼付ラッカーは、熱架橋性のアクリル、
ポリエステル、ポリ9レタン、ポリアミドまたはアルキ
ッド樹脂を基材にしている。
ポリエステル、ポリ9レタン、ポリアミドまたはアルキ
ッド樹脂を基材にしている。
本発明に従って光線、湿気およびc11索に対して安定
化できるアクリルw脂ラッカーは、常用されるアクリル
樹脂焼付ラッカーまたは熱硬化樹脂である。これらの樹
脂は、例えばノ・−、キラチル著「レールプーフ デア
ラック ラント ベシヒトング」巻1.2部、735
と742Q<ベルリン1972):「ラツクングスノ・
ルツヱ」(1977)、バー、ワグナ−およびノ\−1
工乙ザルクス著、229−258頁;およびニス、ノ(
ウル′ス著[+j−フェイス コーティング:サイエン
ス アンド テクノロジーJ(1985)に記載(7)
7クリル/メラミン系を含む。
化できるアクリルw脂ラッカーは、常用されるアクリル
樹脂焼付ラッカーまたは熱硬化樹脂である。これらの樹
脂は、例えばノ・−、キラチル著「レールプーフ デア
ラック ラント ベシヒトング」巻1.2部、735
と742Q<ベルリン1972):「ラツクングスノ・
ルツヱ」(1977)、バー、ワグナ−およびノ\−1
工乙ザルクス著、229−258頁;およびニス、ノ(
ウル′ス著[+j−フェイス コーティング:サイエン
ス アンド テクノロジーJ(1985)に記載(7)
7クリル/メラミン系を含む。
光線と湿気の作用に対して安定化できるポリエステルラ
ッカーは、例えは上述の/%−,ワグナーオよびバー、
エフ、ザルクス著の文献86−99頁VC配述されてい
る常用の焼付ラッカーである。
ッカーは、例えは上述の/%−,ワグナーオよびバー、
エフ、ザルクス著の文献86−99頁VC配述されてい
る常用の焼付ラッカーである。
本発明に従って、光線と湿気の作用に対して安定化でき
るアルキッド樹脂ラッカーは、特に自動車の塗装に使用
される常用の焼付ラッカー(自動車仕上用ラッカー)で
ある。これらのラッカーは例えば、アルキッド/メラミ
ン樹脂およびアルキッド/アクリル/メラミン樹脂を基
材にして込る(上述のバー、ワグナ−および)・−、エ
フ、ザルクス著の文献99−125頁を参照)。
るアルキッド樹脂ラッカーは、特に自動車の塗装に使用
される常用の焼付ラッカー(自動車仕上用ラッカー)で
ある。これらのラッカーは例えば、アルキッド/メラミ
ン樹脂およびアルキッド/アクリル/メラミン樹脂を基
材にして込る(上述のバー、ワグナ−および)・−、エ
フ、ザルクス著の文献99−125頁を参照)。
他の架橋剤は、グリコウリル(glycouril )
樹脂、ブロックトインシアナートまたはエポキシW脂を
含む。
樹脂、ブロックトインシアナートまたはエポキシW脂を
含む。
本発明に従って安定化される酸触媒焼付ラッカーは、金
属仕上げ塗装および固体色仕上げの両方、特に修正仕上
げ、並ひにいろいろなコイル塗装適用に適している。
属仕上げ塗装および固体色仕上げの両方、特に修正仕上
げ、並ひにいろいろなコイル塗装適用に適している。
本発明に従って安定化されたラッカーは、2法、即ち一
回塗装または二回塗装の方法のどちらでも、慣用の方法
で適用するのが好ましい。
回塗装または二回塗装の方法のどちらでも、慣用の方法
で適用するのが好ましい。
後者の方法では、顔料含有のTlり塗装が先ず行われ、
次いで、下塗り層に被せて透明ラッカーの被覆塗装が行
われる。
次いで、下塗り層に被せて透明ラッカーの被覆塗装が行
われる。
本発明の置換ヒンタードアミンは、所望によりシリコー
ン、インシアナートまたはインシアヌレートにより改質
されているエポキシ、エポキシ−ポリエステル、ビニル
、アルキッド、アクリルおよびポリエステル樹脂のよう
な非−酸触媒熱硬化樹脂における使用のために適用でき
ることにも注目すべきである。エポキシ−およびエポキ
シ−ポリエステル樹脂は酸、酸無水物、アミン、並びに
同様のもののような常用の架橋剤で架橋されている。
ン、インシアナートまたはインシアヌレートにより改質
されているエポキシ、エポキシ−ポリエステル、ビニル
、アルキッド、アクリルおよびポリエステル樹脂のよう
な非−酸触媒熱硬化樹脂における使用のために適用でき
ることにも注目すべきである。エポキシ−およびエポキ
シ−ポリエステル樹脂は酸、酸無水物、アミン、並びに
同様のもののような常用の架橋剤で架橋されている。
従って、エポキシ樹脂は、主kA構造上の反応性基の存
在により改質されたいろいろのアクリルまたはポリエス
テル樹脂系のための架橋剤として使用されてよい。
在により改質されたいろいろのアクリルまたはポリエス
テル樹脂系のための架橋剤として使用されてよい。
このような塗料において最謁の元安定性を達成するため
に、他の常用の光安定剤の共用は有利であり得る。
に、他の常用の光安定剤の共用は有利であり得る。
この例は、上述したベンゾフェノン、ベンゾトリアゾー
ル、アクリル酸誘導体、またはオキサニリド型、または
アリール−5−)リアジンまたは金属−含有光安定剤、
例えば有機ニッケル化合物の紫外線吸収剤である。
ル、アクリル酸誘導体、またはオキサニリド型、または
アリール−5−)リアジンまたは金属−含有光安定剤、
例えば有機ニッケル化合物の紫外線吸収剤である。
二回塗装系でLlこれらの追加の光安定剤は透明塗膜お
よび/または着色下塗りに添加できる。
よび/または着色下塗りに添加できる。
もしもこのような組み合わせが取られるならば、全ての
光安定剤の量は、塗層(film)を形成する樹脂に基
づいて、α2ないし20重量%、好ましくは(15ない
し5重量%である。
光安定剤の量は、塗層(film)を形成する樹脂に基
づいて、α2ないし20重量%、好ましくは(15ない
し5重量%である。
本化合物が、フェノール性抗酸化剤、ヒンダードアミン
光安定剤、有機リン化合物、紫外線吸収剤およびこれら
の混合物から成る群から選ばれた他の安定剤と門連して
使用される時は、ポリオレフィン繊維、特にポリプロピ
レン繊維のための安定剤として特に有効で有るだろうこ
とも考えられる。
光安定剤、有機リン化合物、紫外線吸収剤およびこれら
の混合物から成る群から選ばれた他の安定剤と門連して
使用される時は、ポリオレフィン繊維、特にポリプロピ
レン繊維のための安定剤として特に有効で有るだろうこ
とも考えられる。
本発明の好ましい実施態様は、
(al熱架橋性のアクリル、ポリエステルまたはアルキ
ッド樹脂を基材にした酸触媒熱硬化塗料またはエナメル
、 (b)NOE−置換の2,2.46−テトラアルキルピ
ペリジン化合物、および (C)ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、アクリル
酸誘導体、有機ニッケル化合物、アリール−5−)リア
ジンおよびオキサニリドから成る群から選ばれた紫外線
吸収剤を含有する安定化された組成物に係わる。
ッド樹脂を基材にした酸触媒熱硬化塗料またはエナメル
、 (b)NOE−置換の2,2.46−テトラアルキルピ
ペリジン化合物、および (C)ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、アクリル
酸誘導体、有機ニッケル化合物、アリール−5−)リア
ジンおよびオキサニリドから成る群から選ばれた紫外線
吸収剤を含有する安定化された組成物に係わる。
エナメルまたは塗料が含有できる更に他の成分は抗酸化
剤であシ、例えば立体障害フェノール誘導体、ホスフィ
ツト、ホスフィン4L<はホスホナイトのようなリン化
合物、可塑剤、均展助剤、硬化触媒、増粘剤、分散剤ま
たは接着促進剤である。
剤であシ、例えば立体障害フェノール誘導体、ホスフィ
ツト、ホスフィン4L<はホスホナイトのようなリン化
合物、可塑剤、均展助剤、硬化触媒、増粘剤、分散剤ま
たは接着促進剤である。
他の好ましい本発明の実施態様は、追加成分(d)とし
てホスフィツトまたはホスホナイトを含有する上述の成
分(a)1(b)および<c>を含有する安定化された
組成物である。
てホスフィツトまたはホスホナイトを含有する上述の成
分(a)1(b)および<c>を含有する安定化された
組成物である。
本組成物で使用されるホスフィツトまたはホスホナイト
の鎗は、層(塗膜)を形成する樹脂の重量に基づいてα
05ないし2重is、好ましくはα1ないし1重量%で
ある。
の鎗は、層(塗膜)を形成する樹脂の重量に基づいてα
05ないし2重is、好ましくはα1ないし1重量%で
ある。
二回塗装系では、これらの安定剤は透明塗膜および/l
たは下塗り層に添加できる。
たは下塗り層に添加できる。
典型的なホスフィツトおよびホスホナイトは、亜リン酸
トリフェニルエステル、亜リン酸ジフェニルアルキルエ
ステル、亜リン酸フェニルジアルキルエステル、亜リン
F& トリー (/二/17フエニル)エステル、亜す
ン酸トリラ9リルエステル、亜リン酸トリオクタデシル
エステル、亜すン酸ジーステアリルーペンタエリスリッ
トールエステル、亜リン酸トリス−(2,4−ジ第三ブ
チルフェニル)エステル、シーインデシルペンタエリス
リトール ジホスフィット、シー(2,4−ジ第三ブチ
ルフェニル)ペンタエリスリトール ジホスフィット、
トリステアリルーンルビトール トリホスフィツト、テ
トラキス−(2,4−ジ第三ブチルフェニル) −4,
4−ジ−フェニレンホスホナイト等を含tr。
トリフェニルエステル、亜リン酸ジフェニルアルキルエ
ステル、亜リン酸フェニルジアルキルエステル、亜リン
F& トリー (/二/17フエニル)エステル、亜す
ン酸トリラ9リルエステル、亜リン酸トリオクタデシル
エステル、亜すン酸ジーステアリルーペンタエリスリッ
トールエステル、亜リン酸トリス−(2,4−ジ第三ブ
チルフェニル)エステル、シーインデシルペンタエリス
リトール ジホスフィット、シー(2,4−ジ第三ブチ
ルフェニル)ペンタエリスリトール ジホスフィット、
トリステアリルーンルビトール トリホスフィツト、テ
トラキス−(2,4−ジ第三ブチルフェニル) −4,
4−ジ−フェニレンホスホナイト等を含tr。
更にもう一つの本安定剤の好ましい組み合わせは、ポリ
プロピレン繊維をガス褪色から保護するためのヒドロキ
シルアミンとの組み合わせである。
プロピレン繊維をガス褪色から保護するためのヒドロキ
シルアミンとの組み合わせである。
以下の実施例は例示の目的だけに提供されたものでおり
、いかなる方法によるとしても本発明の性質と範囲を限
定するものと解釈されるべきではない。
、いかなる方法によるとしても本発明の性質と範囲を限
定するものと解釈されるべきではない。
実施例1
メチル5−(2H−ベンゾトリアシーAl−2−イ/L
/) −5−第三フチル−4−ヒドロキシヒドロシンナ
メートs aa y (a 4.9mmo II )、
4−ヒドロキシ−1−メトキシ−2,2,6,6−テト
ラメテルピベリジン19.1y(102mmog)およ
びキシレン200dの混合物を、分別カラムおよび調節
可能な蒸留ヘッドを備えた丸底フラスコの中で還流加熱
した。湿潤キシレンおよそ25 dを反応混合物より蒸
留した。その後反応混合物を100Cに冷却し、リチウ
ムアミド1.47で処理し、そしてキシレン100dで
希釈した。混合物を16時間還流加熱し、その間メタノ
ールを分別蒸留により除去した。反応混合物をトルエン
200dで希釈し、そして1N塩酸(200mg)およ
び瓜炭酸ナト17ウム溶液(500d)で継続的に洗浄
した。ソリッドを濾過により除き、セして濾液を無水硫
酸マグネシウム上で乾燥させそして次いで濃縮して褐色
固体を得た。粗生成物をシリカゲル層の中に通した(2
:1へブタン:酢酸エチル)。lW離剤を蒸発させてソ
リッドを得、これをインプロパツールより再結晶させる
と、135−137℃で融解する標記化合物24.5j
lE(57%収率)を白色ソリッドとして得た。
/) −5−第三フチル−4−ヒドロキシヒドロシンナ
メートs aa y (a 4.9mmo II )、
4−ヒドロキシ−1−メトキシ−2,2,6,6−テト
ラメテルピベリジン19.1y(102mmog)およ
びキシレン200dの混合物を、分別カラムおよび調節
可能な蒸留ヘッドを備えた丸底フラスコの中で還流加熱
した。湿潤キシレンおよそ25 dを反応混合物より蒸
留した。その後反応混合物を100Cに冷却し、リチウ
ムアミド1.47で処理し、そしてキシレン100dで
希釈した。混合物を16時間還流加熱し、その間メタノ
ールを分別蒸留により除去した。反応混合物をトルエン
200dで希釈し、そして1N塩酸(200mg)およ
び瓜炭酸ナト17ウム溶液(500d)で継続的に洗浄
した。ソリッドを濾過により除き、セして濾液を無水硫
酸マグネシウム上で乾燥させそして次いで濃縮して褐色
固体を得た。粗生成物をシリカゲル層の中に通した(2
:1へブタン:酢酸エチル)。lW離剤を蒸発させてソ
リッドを得、これをインプロパツールより再結晶させる
と、135−137℃で融解する標記化合物24.5j
lE(57%収率)を白色ソリッドとして得た。
分析
C2IH4o N404について計算値:C、6a5
;H,7,9;N、 11.lL実測値 C、6115;E(、a5 ;N、 I Ql実施例2 標記化合物は138140℃で溶解する白色ソリッドで
あり、4−ヒドロキシ〜1−メトキシ−2,2,6,,
6−テトラメテルピペリジンにつき当ヤの1−シクロへ
キシルオキシ−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−チト
ラメチルピペリジンに置き換えることにより実施例10
)手順に従い製造した、 分析 Csa H4a N404について計算1直:C、7C
L8 ;H,a4 ;N、 9.7゜実測値 C,7[L9;)(、a4;N、9.a実施例5 標記化合物は、黄色シロップであり、4−ヒドロキシ−
1−メトキシ−2,2,46−チトラメチルピペリジン
につきqtの4−ヒドロキシ−1−オクチルオキシ−2
,シミーテトラメチルピペリジンKgき換えることによ
り実施例10)手順に従い製造した。
;H,7,9;N、 11.lL実測値 C、6115;E(、a5 ;N、 I Ql実施例2 標記化合物は138140℃で溶解する白色ソリッドで
あり、4−ヒドロキシ〜1−メトキシ−2,2,6,,
6−テトラメテルピペリジンにつき当ヤの1−シクロへ
キシルオキシ−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−チト
ラメチルピペリジンに置き換えることにより実施例10
)手順に従い製造した、 分析 Csa H4a N404について計算1直:C、7C
L8 ;H,a4 ;N、 9.7゜実測値 C,7[L9;)(、a4;N、9.a実施例5 標記化合物は、黄色シロップであり、4−ヒドロキシ−
1−メトキシ−2,2,46−チトラメチルピペリジン
につきqtの4−ヒドロキシ−1−オクチルオキシ−2
,シミーテトラメチルピペリジンKgき換えることによ
り実施例10)手順に従い製造した。
分析
Csa L4 N404について計算値:C、71,3
;H,9,0;N、 9.2゜実測値: C、71,5;H,a8 ;N、 9.Z実施例4 メチル3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)
−5−第三プチル−4−ヒl”oキジドロシンナメート
4. Of (11,3mmog)および4−アミノ−
1−オクチルオキシ−2,2,46−チトラメチルピペ
リジンF3. Of (2d1mmoJ)の混合物を1
90−2COOで2時間加熱した。反応混合物を酢酸エ
チル(5001Ll)中に溶解した。有機溶液を1N塩
酸(2Xj00d)および重炭酸ナトリウム飽和溶液(
200d)で洗浄し、次いで硫酸マグネシウム上で乾燥
させ、そして蒸発させてソリッドを得た。シリカゲル上
の7ラツシエクロマトグラフイー(3:1へブタン:酢
酸エチル)によるnI製、続いてメタノールからの再結
晶により、標記化合物1. OF (15チ収率)を与
えた。白色ソリッドで、融点153−9℃。
;H,9,0;N、 9.2゜実測値: C、71,5;H,a8 ;N、 9.Z実施例4 メチル3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)
−5−第三プチル−4−ヒl”oキジドロシンナメート
4. Of (11,3mmog)および4−アミノ−
1−オクチルオキシ−2,2,46−チトラメチルピペ
リジンF3. Of (2d1mmoJ)の混合物を1
90−2COOで2時間加熱した。反応混合物を酢酸エ
チル(5001Ll)中に溶解した。有機溶液を1N塩
酸(2Xj00d)および重炭酸ナトリウム飽和溶液(
200d)で洗浄し、次いで硫酸マグネシウム上で乾燥
させ、そして蒸発させてソリッドを得た。シリカゲル上
の7ラツシエクロマトグラフイー(3:1へブタン:酢
酸エチル)によるnI製、続いてメタノールからの再結
晶により、標記化合物1. OF (15チ収率)を与
えた。白色ソリッドで、融点153−9℃。
分析
C5af(ssNs Osについて計41直:C271
,4;H,9,1;N、 11.&実測値: C、71,4iH,9,4;N、 11.a2、4−
ジヒドロキシベンゾフェノン15.oり(7αOmmo
e)、ブロモ酢酸メチル1[L7y(70mmog)、
炭酸カリウム19.3y(0,14moe)、およびN
、N−ジメチルホルムアミド125dの混合物を25℃
で18時間攪拌した。反応混合物をジエチルエーテルと
α5N塩酸に分配した。
,4;H,9,1;N、 11.&実測値: C、71,4iH,9,4;N、 11.a2、4−
ジヒドロキシベンゾフェノン15.oり(7αOmmo
e)、ブロモ酢酸メチル1[L7y(70mmog)、
炭酸カリウム19.3y(0,14moe)、およびN
、N−ジメチルホルムアミド125dの混合物を25℃
で18時間攪拌した。反応混合物をジエチルエーテルと
α5N塩酸に分配した。
ソリッドを濾過により除去し、そして濾液を硫酸マグネ
シウム上で乾燥して濃縮した。濃庫物をジエチルエーテ
ルに部分的に溶解し、そしてソリッドを濾過により除去
した。ソリッド物質1にジクロロメタン:2−プロパツ
ールより4d晶させると、標記化合物1五7fC69%
収率)を与えた。淡黄色ソリッドで、融点131−15
4℃である。
シウム上で乾燥して濃縮した。濃庫物をジエチルエーテ
ルに部分的に溶解し、そしてソリッドを濾過により除去
した。ソリッド物質1にジクロロメタン:2−プロパツ
ールより4d晶させると、標記化合物1五7fC69%
収率)を与えた。淡黄色ソリッドで、融点131−15
4℃である。
実施例5B
エノン
メチル 4−ベンゾイル−3−ヒドロキシフェノキシア
セテートzzo5r(7A8mmo6)、4−ヒドロキ
シ−1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメテ
ルビペリジン、およびキシレン100m10)混合物を
IIi流加熱加熱。水を分別蒸留により除去した。反応
混合物を80℃に冷却し、リチウムアミド2.1ノで処
理し、そしてキシレン50ILlで希釈した。反応混合
物を2時間還流加熱し、そしてメタノールを分別蒸留に
より除去した。反応混合物を冷却し、次いでジエチルエ
ーテル(250mg)で希釈した。有機溶液を1N塩酸
(200#!/)で洗浄し、そしてソリッドを濾過によ
り除去した。g液を重炭酸ナトリウム飽和溶液(100
mg)で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして
油状に4縮した。シリカゲル上でのフラッシュクロマト
グラフィー(85:15 へブタン:酢酸エチル)によ
る精製により、標記化合物52.69(79%収率)、
黄色シロップを与えた。
セテートzzo5r(7A8mmo6)、4−ヒドロキ
シ−1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメテ
ルビペリジン、およびキシレン100m10)混合物を
IIi流加熱加熱。水を分別蒸留により除去した。反応
混合物を80℃に冷却し、リチウムアミド2.1ノで処
理し、そしてキシレン50ILlで希釈した。反応混合
物を2時間還流加熱し、そしてメタノールを分別蒸留に
より除去した。反応混合物を冷却し、次いでジエチルエ
ーテル(250mg)で希釈した。有機溶液を1N塩酸
(200#!/)で洗浄し、そしてソリッドを濾過によ
り除去した。g液を重炭酸ナトリウム飽和溶液(100
mg)で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして
油状に4縮した。シリカゲル上でのフラッシュクロマト
グラフィー(85:15 へブタン:酢酸エチル)によ
る精製により、標記化合物52.69(79%収率)、
黄色シロップを与えた。
分析
Cs z H45NOsについて計算値:C、712;
H,a4 ;N、 2.&実測[: C、71,6;[、a7 ;N、 21実施例6 4−イル)アミノカルボニルメトキシ丁ベンゾフェノン 2.4−ジヒドロキシベンゾフェノンと炭酸カリウムお
よびクロロ酢酸エチルとの反応、続いて4−アミノ−1
−シクロヘキシルオキシ−乙2、6.6−チトラメチル
ピペリジンとの反応により、標記化合物を製造した。
H,a4 ;N、 2.&実測[: C、71,6;[、a7 ;N、 21実施例6 4−イル)アミノカルボニルメトキシ丁ベンゾフェノン 2.4−ジヒドロキシベンゾフェノンと炭酸カリウムお
よびクロロ酢酸エチルとの反応、続いて4−アミノ−1
−シクロヘキシルオキシ−乙2、6.6−チトラメチル
ピペリジンとの反応により、標記化合物を製造した。
実施例7
フェノン
2.4−ジヒドロキシベンゾフェノンとエヒクロロヒド
リンの反応、続いて4−ヒドロキシ−1−メトキシ−2
,2,6,6−テトラメチルビベリジンとの反応により
標記化合物を製造した。
リンの反応、続いて4−ヒドロキシ−1−メトキシ−2
,2,6,6−テトラメチルビベリジンとの反応により
標記化合物を製造した。
ジン
シアヌル酸クロリドとm−キシレンの反応、続いてレソ
ルシノールとの反応により標記化合物を製造した。塩化
アルミニウムを両反応における試薬として使用した。
ルシノールとの反応により標記化合物を製造した。塩化
アルミニウムを両反応における試薬として使用した。
−3−トリアジン
N、N−ジメチルホルムアミド2Sd中の1オクチル−
2,2,46−テト2メチルピペリジン=4−イル ク
ロロアセテート14.5F(4αOmmoJ )の溶液
を1周囲温度で30分間攪拌された2、4−ビス(2,
4−ジメチルフェニル)−6−(2,4−ジヒドロキシ
−フェニル)−1,へ5−トリアジン(実施例8A)2
α0y(5α2mmoJ)、 、N 、 N−ジメチル
ホルムアミド125d、および50チ水酸化ナトリウム
溶液4.OFの混合9勿に、素早く加えた。その後反応
混合物を70℃で1時間の間加熱しそして周囲温度にて
17時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチル(300ぜ
)と水(1COOd)および1N塩酸(10d)の混合
物とに分配した。水層をジエチルエーテル(2x500
aj)および塩化す) IJウム飽和溶−e1(500
at)で抽出し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして
油状に濃縮した。シリカゲル上でのフラッジ) クロマ
トグラフィー(5:1へブタン:i!r1″酸エチル)
による精製により、標記化合物14.0JF(48%収
率)を与えた。黄色ソリッドで、融点86−90℃であ
る。
2,2,46−テト2メチルピペリジン=4−イル ク
ロロアセテート14.5F(4αOmmoJ )の溶液
を1周囲温度で30分間攪拌された2、4−ビス(2,
4−ジメチルフェニル)−6−(2,4−ジヒドロキシ
−フェニル)−1,へ5−トリアジン(実施例8A)2
α0y(5α2mmoJ)、 、N 、 N−ジメチル
ホルムアミド125d、および50チ水酸化ナトリウム
溶液4.OFの混合9勿に、素早く加えた。その後反応
混合物を70℃で1時間の間加熱しそして周囲温度にて
17時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチル(300ぜ
)と水(1COOd)および1N塩酸(10d)の混合
物とに分配した。水層をジエチルエーテル(2x500
aj)および塩化す) IJウム飽和溶−e1(500
at)で抽出し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして
油状に濃縮した。シリカゲル上でのフラッジ) クロマ
トグラフィー(5:1へブタン:i!r1″酸エチル)
による精製により、標記化合物14.0JF(48%収
率)を与えた。黄色ソリッドで、融点86−90℃であ
る。
分析
CnHssN* Osについて計算値:C,7i1;H
,al;N、7.Z 実測値 C,7′L8;Ft、&1 ;N、7.4実施例9 当量の4−ヒドロキシ−1−オクチルオキシ−2,2,
6,6−テトラメテルピベリジンにつき4−アミノ−1
−シクロへキシルオキシ−2,2,6゜6−テトラメチ
ルビペリジンに置き換えることにより実施例8の手順に
従い標記化合物を製造した。
,al;N、7.Z 実測値 C,7′L8;Ft、&1 ;N、7.4実施例9 当量の4−ヒドロキシ−1−オクチルオキシ−2,2,
6,6−テトラメテルピベリジンにつき4−アミノ−1
−シクロへキシルオキシ−2,2,6゜6−テトラメチ
ルビペリジンに置き換えることにより実施例8の手順に
従い標記化合物を製造した。
実施例10A
2.2−ジヒドロキシオキサアニリドと、2当量の炭酸
カリウム、1当量の臭化エチルおよび1当母のクロロ酢
酸エチルとの反応により、標記化合物を製造した。
カリウム、1当量の臭化エチルおよび1当母のクロロ酢
酸エチルとの反応により、標記化合物を製造した。
実施例10Aで製造した化合物を4−ヒドロキシ−1−
オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメテルピペリ
ジンおよび触媒量のリチウムアミドと反応させることに
ょシ標記化合物を製造した。
オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメテルピペリ
ジンおよび触媒量のリチウムアミドと反応させることに
ょシ標記化合物を製造した。
N、N−ジメチルボルムアミド20m/中のN−(1−
シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメテル
ヒヘリジンー4−イル)−2−クロロアセトアミド五5
1(1α7rnmoJ)の溶液を、60℃に加熱された
、2−エトキシ−21−ヒドロキシオキサニリドX 2
f (117mmoJ) 、 50チ水酸化ナトリウ
ム溶液(1,9y、およびN、N−ジメチルホルムアミ
ド25m/の混合物に、5分間かけて加えた。その後反
応混合物を1時間の間60℃にそしてさらに1時間の間
9’Otl:に加熱した反応混合物を水50ON/で急
冷した。粗製ソリッドを単離して水で洗浄し、次いでジ
クロロメタン(150s/)中に溶解した。有機溶液を
硫酸マグネシウム上で乾燥しそして40dの容HKa縮
した。メタノール(100x/)を加えて生成物を沈殿
させ、これを濾過により単離すると、標記化合物4.9
y(77%収率)を与えた。
シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメテル
ヒヘリジンー4−イル)−2−クロロアセトアミド五5
1(1α7rnmoJ)の溶液を、60℃に加熱された
、2−エトキシ−21−ヒドロキシオキサニリドX 2
f (117mmoJ) 、 50チ水酸化ナトリウ
ム溶液(1,9y、およびN、N−ジメチルホルムアミ
ド25m/の混合物に、5分間かけて加えた。その後反
応混合物を1時間の間60℃にそしてさらに1時間の間
9’Otl:に加熱した反応混合物を水50ON/で急
冷した。粗製ソリッドを単離して水で洗浄し、次いでジ
クロロメタン(150s/)中に溶解した。有機溶液を
硫酸マグネシウム上で乾燥しそして40dの容HKa縮
した。メタノール(100x/)を加えて生成物を沈殿
させ、これを濾過により単離すると、標記化合物4.9
y(77%収率)を与えた。
白色結晶物質で融点190192℃である。
分析
C33H2S N406について計算値:C,6&6
;H,7,8;N、 9.4゜実測値 C,6&3 ;H,7,7;N、 9.2゜実施例12 2.2′−ジヒドロキシオキサニリドと各々2尚量の炭
酸カリウムおよびクロロ酢酸エテルトノ反応、続いて2
当債の4−アミノ−1−オクチルオキシ−2,2,6,
6−テトラメチルビベリジンとの反応により、標記化合
物を製造した。
;H,7,8;N、 9.4゜実測値 C,6&3 ;H,7,7;N、 9.2゜実施例12 2.2′−ジヒドロキシオキサニリドと各々2尚量の炭
酸カリウムおよびクロロ酢酸エテルトノ反応、続いて2
当債の4−アミノ−1−オクチルオキシ−2,2,6,
6−テトラメチルビベリジンとの反応により、標記化合
物を製造した。
蓚酸ジエチルと各々1当量の2−ヒドロキシ−アニリン
および4−アミノ−1−オクチルオキシ−2,2,6,
6−テトラメチルピベリジンとの反応により、標記化合
物を製造した。
および4−アミノ−1−オクチルオキシ−2,2,6,
6−テトラメチルピベリジンとの反応により、標記化合
物を製造した。
実施例13Aで製造した化合物を炭酸カリウムおよび臭
化エチルと反応させることにより。
化エチルと反応させることにより。
上記化合物を製造した。
実施例14
−テトラメチルピペリジンー4−イルオキシ)−オクチ
ルオキシ−2,2,46−テトラメテルビベリジンー4
−イル)オキサミド 実施例15Aで製造した化合物を炭酸カリウムおよびク
ロロ酢酸エチルと反応させ、次いで4−ヒドロキシ−1
−オクチルオキシ−2,2,46−テトラメテルピペリ
ジンおよび触媒量のリチウムアミドと反応させて、標記
化合物を生成した。
ルオキシ−2,2,46−テトラメテルビベリジンー4
−イル)オキサミド 実施例15Aで製造した化合物を炭酸カリウムおよびク
ロロ酢酸エチルと反応させ、次いで4−ヒドロキシ−1
−オクチルオキシ−2,2,46−テトラメテルピペリ
ジンおよび触媒量のリチウムアミドと反応させて、標記
化合物を生成した。
4−ヒドロキシ−1−オクチルオキシ−242゜6.6
テトラメテルビペリジンにつき当量の4−アミノ−1−
オクチルオキシ−2,2,46−チトラメチルピペリジ
ンを置き換えることにより実施例140手順に従い、標
記化合物を製造した。
テトラメテルビペリジンにつき当量の4−アミノ−1−
オクチルオキシ−2,2,46−チトラメチルピペリジ
ンを置き換えることにより実施例140手順に従い、標
記化合物を製造した。
実施例16A
N−ブチル−N−(1−メトキシ−2,2,6,6−ア
セトアミド ジクロロメタン150!Id中の4−ブチルアミノ−1
−メトキシ−2,2,6,6−テトラメテルビペリジン
4a5F((L200rnoJ)の溶液を、ジクロロメ
タン10OIll中の塩化クロロアセチル11.3y(
0,100mof!りの溶液に1時間の間かけて一10
℃にて加えた。その後反応混合物を周囲温度にて1時間
攪拌した。混合物をジエチルエーテル(500JI7り
で希釈し、そしてソリッドを濾過により除去した。濾液
を1N塩酸(2x75aj)および重炭酸ナトIJウム
飽和溶液(100m4)で洗浄し、次いで硫酸マグネシ
ウム上で乾燥しそして濃縮すると、標記化合物27.8
1(87係収率)、淡黄色油を与えた。
セトアミド ジクロロメタン150!Id中の4−ブチルアミノ−1
−メトキシ−2,2,6,6−テトラメテルビペリジン
4a5F((L200rnoJ)の溶液を、ジクロロメ
タン10OIll中の塩化クロロアセチル11.3y(
0,100mof!りの溶液に1時間の間かけて一10
℃にて加えた。その後反応混合物を周囲温度にて1時間
攪拌した。混合物をジエチルエーテル(500JI7り
で希釈し、そしてソリッドを濾過により除去した。濾液
を1N塩酸(2x75aj)および重炭酸ナトIJウム
飽和溶液(100m4)で洗浄し、次いで硫酸マグネシ
ウム上で乾燥しそして濃縮すると、標記化合物27.8
1(87係収率)、淡黄色油を与えた。
シフエノン
2.4−ジヒドロキシベンゾフェノン111ノ(47,
0mmoJ)、N−ブチル−N−(1−メトキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)クロ
ロアセトアミドI SOP (47,0mmoJ)、炭
酸カリウム1q、 s y (1141mOe)、沃化
カリウム0.8? (4,7mmo e )およびN、
N−ジメチルホルムアミド100dの混合物を80℃で
20時間加熱した。反応混合物を1N塩酸(600mg
)で処理した。褐色沈殿を酢酸エチル(400mg)に
済解し、そしてこの溶液を水(200xj)および塩化
ナト1ノウム飽和溶液(200xj)で洗浄し、次いで
硫酸マグネシウム上で乾燥しそしてガラス状になるまで
濃縮した。シリカゲル上での7ラツシエ クロマトグラ
フィー(3:1へブタン:酢酸エチル)による精製によ
り、標記化合物5.41 (23チ収率)、黄色ガラス
を与えた。
0mmoJ)、N−ブチル−N−(1−メトキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)クロ
ロアセトアミドI SOP (47,0mmoJ)、炭
酸カリウム1q、 s y (1141mOe)、沃化
カリウム0.8? (4,7mmo e )およびN、
N−ジメチルホルムアミド100dの混合物を80℃で
20時間加熱した。反応混合物を1N塩酸(600mg
)で処理した。褐色沈殿を酢酸エチル(400mg)に
済解し、そしてこの溶液を水(200xj)および塩化
ナト1ノウム飽和溶液(200xj)で洗浄し、次いで
硫酸マグネシウム上で乾燥しそしてガラス状になるまで
濃縮した。シリカゲル上での7ラツシエ クロマトグラ
フィー(3:1へブタン:酢酸エチル)による精製によ
り、標記化合物5.41 (23チ収率)、黄色ガラス
を与えた。
分析
Co H40N20Sについて計算値:C27α1 ;
H,al;N、 5.&実測値: C,7Q、4;)I、a4;N、5.五± 1−シクロヘキシルオキシ−4−ヒドロキシ−2,2,
6,6−テトラメチルビペリジン45.2 、F(11
77moe)、トリエチルアミン17.95E(LL1
77mog)およびジクロロメタン150dの、見合′
1勿を、ジクロロメタン100al中の塩化クロロアセ
チル2αOP((1177moJ)の溶液に1時間の間
かけて5℃にて加えた。反応混合物を周囲温度にて1時
同攪拌しそしてその後ジエチルエーテル(500d)で
希釈した。ソリッドを濾過により除去し、セして濾液を
1N塩酸(2X1t)OR1)、重炭酸ナトリウム飽和
溶g (200ak)および塩化ナトリウム飽オロ溶液
(200ak)で洗浄し、次いで硫酸マグネシウム上で
乾燥しそして油状になるまで濃縮した。シリカゲル上で
のフラッシュクロマトグラフィー(15: 1ヘプタン
:酢酸エチル)による精製により、標記化合物22.6
y(59%収率)を与えた。白色ソリッドで、融点62
−64℃である。
H,al;N、 5.&実測値: C,7Q、4;)I、a4;N、5.五± 1−シクロヘキシルオキシ−4−ヒドロキシ−2,2,
6,6−テトラメチルビペリジン45.2 、F(11
77moe)、トリエチルアミン17.95E(LL1
77mog)およびジクロロメタン150dの、見合′
1勿を、ジクロロメタン100al中の塩化クロロアセ
チル2αOP((1177moJ)の溶液に1時間の間
かけて5℃にて加えた。反応混合物を周囲温度にて1時
同攪拌しそしてその後ジエチルエーテル(500d)で
希釈した。ソリッドを濾過により除去し、セして濾液を
1N塩酸(2X1t)OR1)、重炭酸ナトリウム飽和
溶g (200ak)および塩化ナトリウム飽オロ溶液
(200ak)で洗浄し、次いで硫酸マグネシウム上で
乾燥しそして油状になるまで濃縮した。シリカゲル上で
のフラッシュクロマトグラフィー(15: 1ヘプタン
:酢酸エチル)による精製により、標記化合物22.6
y(59%収率)を与えた。白色ソリッドで、融点62
−64℃である。
サニリド
N、N−ジメチルホルムアミド55m1中の1−シクロ
ヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルビベリ
ジン−4−イルクロロアセテートa y y (26,
2mmoe)の溶液を、2.2′−ジヒドロキシオキサ
ニリド14.3y(52,4mmoe)、水酸化f )
IJ ’)ム1.1.F(27,5mmoJ)および
N、N−ジメチルホルムアミド80 dの混合物に5分
間の間かけて加えた。反応混合物を60℃で2時間加熱
し、次いで酢酸エチル(300d)と水(500aj)
に分配した。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥しそし
て油状になるまで濃縮し、これを2°1ヘプタン:酢酸
エテルで粉につぶして未反応の2.2′−ジヒドロキシ
オキサニリドを沈殿させた。有機溶液を濃縮しそしてシ
リカゲル上でのフラッシュ クロマトグラフィー(2:
1へブタン:酢酸エチル)により精製すると、標記化合
物6.22(94,2%収率)を与えた。白色ソリッド
で、融点180−182℃である。
ヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルビベリ
ジン−4−イルクロロアセテートa y y (26,
2mmoe)の溶液を、2.2′−ジヒドロキシオキサ
ニリド14.3y(52,4mmoe)、水酸化f )
IJ ’)ム1.1.F(27,5mmoJ)および
N、N−ジメチルホルムアミド80 dの混合物に5分
間の間かけて加えた。反応混合物を60℃で2時間加熱
し、次いで酢酸エチル(300d)と水(500aj)
に分配した。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥しそし
て油状になるまで濃縮し、これを2°1ヘプタン:酢酸
エテルで粉につぶして未反応の2.2′−ジヒドロキシ
オキサニリドを沈殿させた。有機溶液を濃縮しそしてシ
リカゲル上でのフラッシュ クロマトグラフィー(2:
1へブタン:酢酸エチル)により精製すると、標記化合
物6.22(94,2%収率)を与えた。白色ソリッド
で、融点180−182℃である。
分析
C31H41N307について計算値:C,65,6;
H,7,3;N、7.4゜実測値: C,65,5;H,7,4;N、7.五リド N、N−ジメチルホルムアミド10d中の沃化エチルt
6F(112mmo 13 )の溶液を、2−口(1−
シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル
ビペリジン−4−イルオキシ)−カルボニルメトキシ’
] −27−ヒドロキシオキサニリド5.81(1&2
mmog)、水酸化ナトリウムα41P (j [L2
rronoe) 、およびN、N−ジメチルホルムアミ
ド50t/の混合物に素早く加えた。反応混合物を60
℃で2時間710熱し、そしてその後天化エチA/ C
LAP (1,9rrunoJ)および水酸化ナトリウ
ムu 1 j’ (2−5r2−5rnで処理した。混
合物を60℃にてさらに1時間加熱しそして圧潰氷上に
注いだ。結果生じた沈殿を濾過により果め、水で洗浄し
、そしてジクロロメタン(100aj)中に溶解した。
H,7,3;N、7.4゜実測値: C,65,5;H,7,4;N、7.五リド N、N−ジメチルホルムアミド10d中の沃化エチルt
6F(112mmo 13 )の溶液を、2−口(1−
シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル
ビペリジン−4−イルオキシ)−カルボニルメトキシ’
] −27−ヒドロキシオキサニリド5.81(1&2
mmog)、水酸化ナトリウムα41P (j [L2
rronoe) 、およびN、N−ジメチルホルムアミ
ド50t/の混合物に素早く加えた。反応混合物を60
℃で2時間710熱し、そしてその後天化エチA/ C
LAP (1,9rrunoJ)および水酸化ナトリウ
ムu 1 j’ (2−5r2−5rnで処理した。混
合物を60℃にてさらに1時間加熱しそして圧潰氷上に
注いだ。結果生じた沈殿を濾過により果め、水で洗浄し
、そしてジクロロメタン(100aj)中に溶解した。
有機溶液を硫酸マグネシウム上で乾燥[、そして蒸発さ
せて油を得た。2−プロパツールからの結晶化により、
標記化合物4.6F(75チ収率)を与えた。白色ソリ
ッドで、融点128−130℃である。
せて油を得た。2−プロパツールからの結晶化により、
標記化合物4.6F(75チ収率)を与えた。白色ソリ
ッドで、融点128−130℃である。
分析
C33I(45Ns 07について計算値二C,66,
5;H,7,6;’N、 7.1゜実測値: (::、6&4;)(,7,7;N、&9゜N、N−ジ
メチルホルムアミド50M1中の1−シクロへキシルオ
キシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−
イル クロロアセテート(実施例17 A ) 1i0
P(39,2mmog)の溶液を、2.2′−ジヒドロ
キシオキサニリド5−55yC1q、bmmoe)、水
酸化ナトリウム1.57y(39,2mmoJ)および
N、N−ジメチルホルムアミド75dの混合物に、5分
間かけて加えた。反応温度は添加のうちに36℃に達す
る。反応混合物を60℃で1時間の間加熱しそして水(
700*t)で希釈した。ソリッド濾過により集めそし
て水で洗浄し、次いでジクロロメタン(300a#)中
に溶解シた。有機溶液を硫酸マグネシウム上で乾燥し、
およそ100*tの容希になるまで濃縮し、そして温2
−プロパツール(2001R/)で希釈して結晶化をひ
き起した。標記化合物、白色ソリッドで融点201−2
02℃、の収鍍は14.0jlE(83%収率)であっ
た。
5;H,7,6;’N、 7.1゜実測値: (::、6&4;)(,7,7;N、&9゜N、N−ジ
メチルホルムアミド50M1中の1−シクロへキシルオ
キシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−
イル クロロアセテート(実施例17 A ) 1i0
P(39,2mmog)の溶液を、2.2′−ジヒドロ
キシオキサニリド5−55yC1q、bmmoe)、水
酸化ナトリウム1.57y(39,2mmoJ)および
N、N−ジメチルホルムアミド75dの混合物に、5分
間かけて加えた。反応温度は添加のうちに36℃に達す
る。反応混合物を60℃で1時間の間加熱しそして水(
700*t)で希釈した。ソリッド濾過により集めそし
て水で洗浄し、次いでジクロロメタン(300a#)中
に溶解シた。有機溶液を硫酸マグネシウム上で乾燥し、
およそ100*tの容希になるまで濃縮し、そして温2
−プロパツール(2001R/)で希釈して結晶化をひ
き起した。標記化合物、白色ソリッドで融点201−2
02℃、の収鍍は14.0jlE(83%収率)であっ
た。
分析
C45H7nN* 0+oについて計gliN:C,6
&8;H,a2;N、6.5゜ 実間p直: C,67,4;H,9,5;N、61 キサミド 70係水性第三ブチル ヒドロペルオキシド12.5p
(97,Ommoe)、オクタン75膚!、および塩化
す) IJウムα5Fの二相混合物を分lit!漏斗中
で攪拌した。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥しそし
てオクタン25m1で希釈した。、N−(2−オクチル
オキシカルボニルメトキシフェニル)−N’−(2,2
,へ6−テトラメチルピベリジンー4−イル)オキサア
ミド c159 (919,4mmoe)、三酸化モリ
ブデン[12yおよび第三ブチルヒドロペルオキシド/
オフタン溶液の混合物をゆっくりと還流するまで加熱し
た。反応混合物はmeが90℃に達すると赤色に変わる
。
&8;H,a2;N、6.5゜ 実間p直: C,67,4;H,9,5;N、61 キサミド 70係水性第三ブチル ヒドロペルオキシド12.5p
(97,Ommoe)、オクタン75膚!、および塩化
す) IJウムα5Fの二相混合物を分lit!漏斗中
で攪拌した。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥しそし
てオクタン25m1で希釈した。、N−(2−オクチル
オキシカルボニルメトキシフェニル)−N’−(2,2
,へ6−テトラメチルピベリジンー4−イル)オキサア
ミド c159 (919,4mmoe)、三酸化モリ
ブデン[12yおよび第三ブチルヒドロペルオキシド/
オフタン溶液の混合物をゆっくりと還流するまで加熱し
た。反応混合物はmeが90℃に達すると赤色に変わる
。
低沸点物質を反応混合物より分別蒸留により除去した。
反応混合物をおよそ1時間赤色が消えるまで還流加熱し
た(110−115℃)。混合物を25℃に冷却しそし
て10係チオ硫酸ナトリウム溶液75dとともに1時間
の間攪拌して未反応のヒドロペルオキシドを分解した。
た(110−115℃)。混合物を25℃に冷却しそし
て10係チオ硫酸ナトリウム溶液75dとともに1時間
の間攪拌して未反応のヒドロペルオキシドを分解した。
有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥しそして油状になる
まで濃縮した。シリカゲル上での7ラツシエクロマトグ
ラフイー(4:1へブタン:酢酸エチル)による精製に
より、標記化合物10.6y(88幅収率)、黄色シロ
ップを与えた。 ′分析 Cas H5Q N30gについて計算@:C,6aO
;H,9,6;N、&& 実測値 C、6al ;)[、9,8;N、 &?。
まで濃縮した。シリカゲル上での7ラツシエクロマトグ
ラフイー(4:1へブタン:酢酸エチル)による精製に
より、標記化合物10.6y(88幅収率)、黄色シロ
ップを与えた。 ′分析 Cas H5Q N30gについて計算@:C,6aO
;H,9,6;N、&& 実測値 C、6al ;)[、9,8;N、 &?。
実施例20
一シアノシンナメート
トランス−エテル アル7アーシアノシンナメート12
.5P (62,1mmoe)、4−ヒドロキシ−1−
オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルビベリ
ジン26.6y(9A2mmog)、およびキシレン1
0(1m/の混合物を、速流加熱(7た。水を分別蒸留
により除去した。反応混合物を80℃に冷却し、リチウ
ムアミドu3jgで処理し、そしてキシレン50 ml
で希釈した。混合物を2時間の間還流加熱する一方、エ
タノールを分別俵留により除去した。反応混合物をジエ
チルエーテル(250q/)で希釈した。有機溶液を1
N塩酸(100ql)1重炭酸ナトリウム飽和溶液(1
00d )および塩化ナトリウム飽和溶液1(200J
t)で洗浄し、次いで硫酸マグネシウム上で乾燥しそし
て喝色油になるまで濃縮した。フラッシュクロマトグラ
フィーによるdgにより、標記化合物IS、2F(48
%収率)、黄色のロウ゛貢ソリッドを与えた。
.5P (62,1mmoe)、4−ヒドロキシ−1−
オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルビベリ
ジン26.6y(9A2mmog)、およびキシレン1
0(1m/の混合物を、速流加熱(7た。水を分別蒸留
により除去した。反応混合物を80℃に冷却し、リチウ
ムアミドu3jgで処理し、そしてキシレン50 ml
で希釈した。混合物を2時間の間還流加熱する一方、エ
タノールを分別俵留により除去した。反応混合物をジエ
チルエーテル(250q/)で希釈した。有機溶液を1
N塩酸(100ql)1重炭酸ナトリウム飽和溶液(1
00d )および塩化ナトリウム飽和溶液1(200J
t)で洗浄し、次いで硫酸マグネシウム上で乾燥しそし
て喝色油になるまで濃縮した。フラッシュクロマトグラ
フィーによるdgにより、標記化合物IS、2F(48
%収率)、黄色のロウ゛貢ソリッドを与えた。
分析
CttHsoNフ03について計算値:C,7五6;)
L、9.1iN、&4・実測1直 : C,7五7 ;)(、9,3;N、 &2゜実施?
1I21 ジエチル ベンザルマロボートj5.0y(60,4m
moJ)、1−シクロヘキシルオキシ−4−ヒドロキシ
−2,2,46−テトラメチルビペリジン32.4ノ、
およびトルエン150dの混合物を還流加熱1.だ。水
を分別蒸留により除去した。反応握合′吻を80℃に冷
却しそしてチタン テトラブトキシド1.OFで処理し
た。混合物を7時曲の間還流加熱する一方、エタノール
を分別蒸留により除去した。反応混合物を酢酸エチル(
400ぜ)で希釈した。有機溶液を1N塩【′俊(20
0嘴/)および重炭酸ナトリウム飽和溶液(200v/
)で洗浄12、硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして油
状になるまで鑓縮した。シリカゲル上でのフラッシュク
ロマトグラフィー(19:1へブタン:酢酸エチル)V
Cよる梢製により、標記化合物27、69 (54%祝
事)を与えた。これは、無色のシロップで、幾何異性体
の混合物である。
L、9.1iN、&4・実測1直 : C,7五7 ;)(、9,3;N、 &2゜実施?
1I21 ジエチル ベンザルマロボートj5.0y(60,4m
moJ)、1−シクロヘキシルオキシ−4−ヒドロキシ
−2,2,46−テトラメチルビペリジン32.4ノ、
およびトルエン150dの混合物を還流加熱1.だ。水
を分別蒸留により除去した。反応握合′吻を80℃に冷
却しそしてチタン テトラブトキシド1.OFで処理し
た。混合物を7時曲の間還流加熱する一方、エタノール
を分別蒸留により除去した。反応混合物を酢酸エチル(
400ぜ)で希釈した。有機溶液を1N塩【′俊(20
0嘴/)および重炭酸ナトリウム飽和溶液(200v/
)で洗浄12、硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして油
状になるまで鑓縮した。シリカゲル上でのフラッシュク
ロマトグラフィー(19:1へブタン:酢酸エチル)V
Cよる梢製により、標記化合物27、69 (54%祝
事)を与えた。これは、無色のシロップで、幾何異性体
の混合物である。
分析
C27H39NO5K つイテ計に+tfi:C,7[
19;H,a6 ;N、五1゜実測値: C,7Q、7;H,9,O;N、2.9゜マロネート 反応湛度を上げるために反応混合物からよ−り多くの蒸
留物を除去することにより実施例210)手順に従って
、標記化合物、白色ガラス、を90チ収率で製造した。
19;H,a6 ;N、五1゜実測値: C,7Q、7;H,9,O;N、2.9゜マロネート 反応湛度を上げるために反応混合物からよ−り多くの蒸
留物を除去することにより実施例210)手順に従って
、標記化合物、白色ガラス、を90チ収率で製造した。
岐路の渦紋は140℃で、そして反応時間は11時間で
あった。
あった。
分析
CaoHuN* Osについて計算値:C,72,0;
H,9,a;N、4.2゜実測値: C,72−0;)1,9.4iN、4.α実施例25 ルオキシー2.2.6.6−チトラメチルピベリジン1
−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン−4−イル クロロアセテートおよび2.
4−ビス(2,4−ジメチル−フェニル)−6−(2,
4−シヒドロキシフヱニル)−3−トリアジンより実施
例8Bの手頃に従って、標記化合物、融点105−10
9℃の黄色ソリッドを54%収率で製造した。
H,9,a;N、4.2゜実測値: C,72−0;)1,9.4iN、4.α実施例25 ルオキシー2.2.6.6−チトラメチルピベリジン1
−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン−4−イル クロロアセテートおよび2.
4−ビス(2,4−ジメチル−フェニル)−6−(2,
4−シヒドロキシフヱニル)−3−トリアジンより実施
例8Bの手頃に従って、標記化合物、融点105−10
9℃の黄色ソリッドを54%収率で製造した。
C,72,8;)l、 7.6 ;N、 al。
実出り・1直 :
C,72,2,H,7,6;N、7.9゜N、N−ジメ
チルホルム了ミド5o肩l中のN−(2−シクロヘキシ
ルオキシ−2,2,46−テトラメチルピペリジン−4
−イル)−2−クロロアセトアミド1s、oP(4s、
smmoJ)の溶液を、2.2−ジヒドロキシオキサニ
リド&2F(22,7mmoe)、N、N−シイチルホ
ルムアミド100−1および50%水酸化ナトリウム水
溶液五6y(45,5mmoe)の混合物に、10分間
の間かけて加えた。反応混合物を50℃にて1.5時間
、そして85℃にて50分間加熱し、次いで4゜℃に冷
却した。ソリッドを濾過により単離しそしてN、N−ジ
メチルホルムアミドで洗浄した。
チルホルム了ミド5o肩l中のN−(2−シクロヘキシ
ルオキシ−2,2,46−テトラメチルピペリジン−4
−イル)−2−クロロアセトアミド1s、oP(4s、
smmoJ)の溶液を、2.2−ジヒドロキシオキサニ
リド&2F(22,7mmoe)、N、N−シイチルホ
ルムアミド100−1および50%水酸化ナトリウム水
溶液五6y(45,5mmoe)の混合物に、10分間
の間かけて加えた。反応混合物を50℃にて1.5時間
、そして85℃にて50分間加熱し、次いで4゜℃に冷
却した。ソリッドを濾過により単離しそしてN、N−ジ
メチルホルムアミドで洗浄した。
粗生成・吻を水中に懸濁させそしてその後濾過すると、
標記化合物14.1 jig (72チ収率)を与えた
。
標記化合物14.1 jig (72チ収率)を与えた
。
薄黄色ソリッドで、融点275−276℃(分解)であ
る。
る。
分析
C45Hy2Na Osについて計算値:C,649;
l(、a4;N、91 実測値: C,66、B;H,a6;N、91 2−ヒドロキシ−4−(2,3−エポキシプロポキシ)
ベンゾフェノン4.01! (14,8mmnd)、4
−アミノ−1−シクロヘキシルオキシー2.2446−
テトラメチルピペリジン18y(14,8mmoe)
およびエタノール40m10)混合物を2時間の間還
流加熱した。エタノールを蒸発させ、そして残渣をシリ
カゲル上でのフラッシュクロマトグラフィー(2:1ヘ
キサン:酢酸エチル、その鏝1:1ヘキサン:酢酸エチ
ル)により精製すると、そのままで結晶化するところの
黄色油1.2yを与えた。ヘプタンとジクロロメタンの
混合物からの再結晶により、標記化合物(L6)(8壬
収率)を与えた。貢色シロップで、融点118−121
℃である。
l(、a4;N、91 実測値: C,66、B;H,a6;N、91 2−ヒドロキシ−4−(2,3−エポキシプロポキシ)
ベンゾフェノン4.01! (14,8mmnd)、4
−アミノ−1−シクロヘキシルオキシー2.2446−
テトラメチルピペリジン18y(14,8mmoe)
およびエタノール40m10)混合物を2時間の間還
流加熱した。エタノールを蒸発させ、そして残渣をシリ
カゲル上でのフラッシュクロマトグラフィー(2:1ヘ
キサン:酢酸エチル、その鏝1:1ヘキサン:酢酸エチ
ル)により精製すると、そのままで結晶化するところの
黄色油1.2yを与えた。ヘプタンとジクロロメタンの
混合物からの再結晶により、標記化合物(L6)(8壬
収率)を与えた。貢色シロップで、融点118−121
℃である。
分析
C31H44N205 K ツイテitt t llj
:C,71,0;H,JL5;N、5.A実測値:
C、70,8;)i、 a4 ;N、 5.Q。
:C,71,0;H,JL5;N、5.A実測値:
C、70,8;)i、 a4 ;N、 5.Q。
実施例26
トラメチルピペリジンー4−イル)アミノコ−2−ヒド
ロキシプロポキシ)ベンゾフェノン2−ヒドロキシ−4
−(2,3−エポキシプロポキシ)ベンゾフェノン4.
o y (14,8mmoJ)、4−ブチル−アミノ
−1−シクロヘキシルオキ’y −2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン&9ノ(22,2mmoJ) 、
およびエタノール40 mlのγ昆合物を4時間の間還
流加熱した。エタノールを蒸発させ、そして残渣をシリ
カゲル上でのフラッシュ クロマトグラフィー(4:1
ヘプタン:酢酸エチル)によりdtjlすると、標記化
合物7.95g(92%収率)、黄色油を与えた。
ロキシプロポキシ)ベンゾフェノン2−ヒドロキシ−4
−(2,3−エポキシプロポキシ)ベンゾフェノン4.
o y (14,8mmoJ)、4−ブチル−アミノ
−1−シクロヘキシルオキ’y −2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン&9ノ(22,2mmoJ) 、
およびエタノール40 mlのγ昆合物を4時間の間還
流加熱した。エタノールを蒸発させ、そして残渣をシリ
カゲル上でのフラッシュ クロマトグラフィー(4:1
ヘプタン:酢酸エチル)によりdtjlすると、標記化
合物7.95g(92%収率)、黄色油を与えた。
分析
Cs5Hs 2 N20Sについて計算値:C,72,
4;H,9,0;N、4.a実測値: C,7α6 ;H,9,0;N、 41実施例27 シルオキシー2.2.6.6−テトラメチルピペリジ2
−ヒドロキシ−4−(2,3−エポキシプロポキシ)ベ
ンゾフェノン5.0り(1α5mmoe)および1−シ
クロへキシルオキシ−4−(ヒドロキシ−2,2,6,
6−テトラメチルビペリジン15.0)(5α7mmo
J)の混合物を80℃に加熱しそしてその後能IJン酸
(99%)α5yで処理した。反応混合物を80−90
℃にて6時間の間加熱し、次いで冷却しそして酢酸エチ
ル(200a#)中に浴解した。有機溶液を重炭酸ナト
リウム飽和溶液(100wt) で洗浄し、硫酸マグ
ネシウム上で乾燥し、そして蒸発させて黄色油にした。
4;H,9,0;N、4.a実測値: C,7α6 ;H,9,0;N、 41実施例27 シルオキシー2.2.6.6−テトラメチルピペリジ2
−ヒドロキシ−4−(2,3−エポキシプロポキシ)ベ
ンゾフェノン5.0り(1α5mmoe)および1−シ
クロへキシルオキシ−4−(ヒドロキシ−2,2,6,
6−テトラメチルビペリジン15.0)(5α7mmo
J)の混合物を80℃に加熱しそしてその後能IJン酸
(99%)α5yで処理した。反応混合物を80−90
℃にて6時間の間加熱し、次いで冷却しそして酢酸エチ
ル(200a#)中に浴解した。有機溶液を重炭酸ナト
リウム飽和溶液(100wt) で洗浄し、硫酸マグ
ネシウム上で乾燥し、そして蒸発させて黄色油にした。
反応混合物中に生成した最小の極性物質を得るためにシ
リカゲル上でのフラッシュクロマトグラフィーにより精
製すると、標記化合物およそ200Iv、黄色ガラスを
与えた。
リカゲル上でのフラッシュクロマトグラフィーにより精
製すると、標記化合物およそ200Iv、黄色ガラスを
与えた。
分析
C3菫HisNOaについて計算値:
C,7Q、8;H,a2;N、2.7゜実瀕111直
: C,7Q、2;H,1lL6;N、2.9゜ポリプロピ
レンの光安定化 この実施例は、本安定剤の光安定化効果を示すものであ
る。
: C,7Q、2;H,1lL6;N、2.9゜ポリプロピ
レンの光安定化 この実施例は、本安定剤の光安定化効果を示すものであ
る。
n−オクタデシル3.5−ジ第三ブチルー4−ヒドロキ
シヒドロシンナメートα2重t%で安定化されたポリプ
ロピレン粉末(Himont Profax6501
)を所定着の添加剤と十分に混和した。
シヒドロシンナメートα2重t%で安定化されたポリプ
ロピレン粉末(Himont Profax6501
)を所定着の添加剤と十分に混和した。
その後ブレンド材料を二本ロールミル上で182℃にて
5分間混練し、その後安定化ポリプロピレンをミルより
シート成形しそして冷却せしめた。その後混練ポリプロ
ピレンを一片スつに切断しそして油崖ブレス上で250
℃、1.2x10’Paにて圧縮成形して1127mフ
ィルムとした。
5分間混練し、その後安定化ポリプロピレンをミルより
シート成形しそして冷却せしめた。その後混練ポリプロ
ピレンを一片スつに切断しそして油崖ブレス上で250
℃、1.2x10’Paにて圧縮成形して1127mフ
ィルムとした。
試料を螢光/曙光チャンバ中で破壊するまで曝露した。
破壊は、!iSaフィルムについて赤外線分光分析によ
るα5力ルボニル吸光度に達するのに要する時間で以て
取り扱った。
るα5力ルボニル吸光度に達するのに要する時間で以て
取り扱った。
本発明化合物の各々は、ポリプロピレンについて安定剤
が存在しない場合にこの試暎において破壊を示すのに要
する時間より格段に長く、ポリプロピレンを化学線光の
劣化作用から保護した。
が存在しない場合にこの試暎において破壊を示すのに要
する時間より格段に長く、ポリプロピレンを化学線光の
劣化作用から保護した。
安定化
p−トルエンスルホンF’fl、ジノニルナフタレン
ジスルホン酸またはドデシルベンゼンスルホン酸の酸触
媒を用い、2−ヒドロキシエチルアクリレート、ブチル
アクリレート、メチルメタクリレート、スチレンおよび
アクリル酸のコポリマー70重量%とメラミン樹脂50
重量%からなるバインダーをペースとする熱硬化性アク
リル酸エナメルを、その中に紫外線吸収部分が存在する
安定化有効量の試験ヒンダードアミン光安定剤が含まれ
るように配合した。
ジスルホン酸またはドデシルベンゼンスルホン酸の酸触
媒を用い、2−ヒドロキシエチルアクリレート、ブチル
アクリレート、メチルメタクリレート、スチレンおよび
アクリル酸のコポリマー70重量%とメラミン樹脂50
重量%からなるバインダーをペースとする熱硬化性アク
リル酸エナメルを、その中に紫外線吸収部分が存在する
安定化有効量の試験ヒンダードアミン光安定剤が含まれ
るように配合した。
市販で入手できるエポキシ下塗りの1(116αX3[
148mバネk (Advanced Coating
s Techno−1ogyよりの−I−下塗り)VC
5銀メタリック下塗りを約0.023tYnの厚さに噴
霧被覆しそして5分間空気乾燥させた。その後安定化さ
れた熱硬化性アクリル樹脂エナメルを下塗りされた該パ
ネル上に約LL049鴫の厚さに噴霧した。15分間の
空気乾燥の陵、被櫟されたシートを121℃で30分間
焼付けた。
148mバネk (Advanced Coating
s Techno−1ogyよりの−I−下塗り)VC
5銀メタリック下塗りを約0.023tYnの厚さに噴
霧被覆しそして5分間空気乾燥させた。その後安定化さ
れた熱硬化性アクリル樹脂エナメルを下塗りされた該パ
ネル上に約LL049鴫の厚さに噴霧した。15分間の
空気乾燥の陵、被櫟されたシートを121℃で30分間
焼付けた。
空調室中での1週間の貯峨の後、破覆パネルをQUV曝
露装[1中f試験方法ASTM G−53177に従っ
て@處した。この試験において、湿潤雰囲気中50℃で
4##間そしてその後紫外光線下70℃で8時間という
サイクルの繰返しで試料を曝露した。パネルをQUV中
で1500時間lamした。試料の20°光沢度を曝露
の前後で測定した。
露装[1中f試験方法ASTM G−53177に従っ
て@處した。この試験において、湿潤雰囲気中50℃で
4##間そしてその後紫外光線下70℃で8時間という
サイクルの繰返しで試料を曝露した。パネルをQUV中
で1500時間lamした。試料の20°光沢度を曝露
の前後で測定した。
安定化パネルの光沢損失は未安定化の対照パネルのそれ
より相当に小さいものであった。
より相当に小さいものであった。
特許出願人 チバーガイギー アクチェンゲゼルシャフ
ト代理人 弁理士 萼 優 美ほか2名パ・−1−
譚〕1
ト代理人 弁理士 萼 優 美ほか2名パ・−1−
譚〕1
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)次式 I ないし次式VI ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼(V) ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) (式中、 R_1は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1ないし
12のアルキル基または炭素原子数7ないし15のアル
アルキル基を表わし、 RおよびR_2は独立して水素原子、炭素原子数、ない
し12のアルキル基、炭素原子数7ないし15のアルア
ルキル基または式VII ▲数式、化学式、表等があります▼(VII) で表わされる基を表わし、但し、R_2およびRのうち
一方は式VIIで表わされる基を表わし、R_3およびR
_4は独立して炭素原子数1ないし4のアルキル基を表
わすかまたはR_6およびR_4は一緒になってペンタ
メチレン基を表わし、Mは直接結合、−NG_9−、−
O−、−S−、−SO_2NG_9、−SO_2−、−
SO_2O−、−CONG_9−、−COO−または−
OCO−を表わし、 Lは直接結合、炭素原子数1ないし12のアルキレン基
、炭素原子数3ないし18のアルケニレン基、炭素原子
数3ないし18のアルキニレン基、炭素原子数5ないし
12のシクロアルキレン基を表わし、前記アルキレン基
は1個もしくはそれ以上の酸素原子により中断されてお
り、 Xは−COO−、−CONG_9−、−O−、−NG_
9−または−NY−を表わし、ここでG_9は水素原子
または炭素原子数1ないし8のアルキル基を表わし、 R_5は水素原子またはヒドロキシル基を表わし、 R_6は−CO−、−CHOHCH_2−または−CH
(CH_2OH)−を表わし、 G_1、G_2、G_3、およびG_4は独立して水素
原子、ハロゲン原子、炭素原子数1ないし12のアルキ
ル基、炭素原子数6ないし10のアリール基、炭素原子
数7ないし15のアルアルキル基、フェノキシ基、炭素
原子数1ないし12のアルコキシ基、−OCH_2CO
O−L_1または基Tを表わし、ここでL_1は炭素原
子数1ないし8のアルキル基を表わし、そしてTは ▲数式、化学式、表等があります▼を表わし、 但し、G_1ないしG_4のうち少なくとも一個はTで
なければならず、 G_5およびG_6は独立してG_1ないしG_4と同
じ定義を有し、但しG_5およびG_6のうち少なくと
も一個はTを表わす必要は無く、 G_7は水素原子、フェニル基またはG_5により置換
されたフェニル基を表わし、 G_8はシアノ基、−COO−Lまたは−CO−X−Y
を表わし、ここでYは▲数式、化学式、表等があります
▼を表わし、 Eは水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、
炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素原子
数2ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし1
2のシクロアルケニル基、炭素原子数7ないし15のア
ルアルキル基、炭素原子数7ないし12の二環式もしく
は三環式の飽和もしくは不飽和炭化水素の基または炭素
原子数6ないし10のアリール基またはアルキル基によ
り置換された該アリール基を表わし、 T_1、T_2およびT_3は独立して炭素原子数1な
いし12のアルキル基、炭素原子数6ないし10のアリ
ール基、一個もしくは二個の炭素原子数、ないし4のア
ルキル基により置換された前記アリール基、炭素原子数
7ないし15のアルアルキル基、−OR_7、−SR_
7、−NR_7R_8、−SO_3H、または基Tによ
り置換されたo−ヒドロキシフェニル基を表わし、但し
、T_1、T_2およびT_3のうち少なくとも一個は
基Tにより置換されたヒドロキシフェニル基でなければ
ならず、そして R_7およびR_8は独立して水素原子、炭素原子数1
ないし18のアルキル基、炭素原子数2ないし180ア
ルケニル基、炭素原子数2ないし12のアルコキシアル
キル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、
炭素原子数6ないし10のアリール基、一個もしくは二
個の炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換され
た前記アリール基、炭素原子数7ないし15のアルアル
キル基、または基Yを表わす。)のうちの一つを有する
化合物。 (2)式中、R_1は水素原子、塩素原子、炭素原子数
1ないし4のアルキル基またはα,α−ジメチルベンジ
ル基を表わす請求項1記載の式 I で表わされる化合物
。 (3)式中、R_1は水素原子または塩素原子を表わす
請求項2記載の化合物。 (4)式中、R_2は炭素原子数1ないし8のアルキル
基またはα,α−ジメチルベンジル基を表わす請求項1
記載の式 I で表わされる化合物。 (5)式中、R_2はメチル基、第三ブチル基、第三ア
ミル基または第三オクチル基を表わす請求項4記載の化
合物。 (6)式中、r_3およびR_4は各々メチル基を表わ
す請求項1記載の化合物。 (7)式中、R_5は水素原子を表わす請求項1記載の
式IIIで表わされる化合物。 (8)式中、R_6は−CO−を表わす請求項1記載の
式IIIで表わされる化合物。 (9)式中、G_1およびG_4は各々水素原子を表わ
す請求項1記載の式IVで表わされる化合物。 (10)式中、G_5は水素原子を表わす請求項1記載
の式Vで表わされる化合物。 (11)式中、G_■またはG_6はT、エトキシ基ま
たは−OCH_2COO−L_1(式中、L_1は炭素
原子数2ないし8のアルキル基を表わす。)を表わす請
求項1記載の式IVまたは式Vで表わされる化合物。 (12)式中、L_1はエチル基、n−ブチル基、n−
オクチル基またはイソオクチル基を表わす請求項11記
載の化合物。 (15)式中、G_7は水素原子を表わす請求項1記載
の式VIで表わされる化合物。 (14)式中、G_8はシアノ基を表わす請求項1記載
の式VIで表わされる化合物。 (15)式中、Xは−O−または−NH−を表わす請求
項1記載の化合物。 (16)式中、Eは炭素原子数、ないし12のアルキル
基、シクロヘキシル基またはα−メチルベンジル基を表
わす請求項1記載の化合物。 (17)式中、Eはメチル基、ヘブチル基、オクチル基
、ノニル基、シクロヘキシル基またはα−メチルベンジ
ル基を表わす請求項16記載の化合物。 (18)式中、Rは式VII(式中、Mは直接結合を表わ
し、Lはエチレン基を表わしそしてXは−COO−を表
わす。)で表わされる基を表わす請求項1記載の式 I
で表わされる化合物。 (19)a)化学線光線の劣化作用により崩壊を受ける
ポリマー、および b)安定化有効量の請求項1記載の化合物より成る安定
化組成物。 (20)ポリマーはポリオレフィン、特にポリプロピレ
ンである請求項19記載の組成物。 (21)ポリマーはアルキド樹脂、アクリル樹脂、アク
リルアルキド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、
ウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ビニル樹脂またはエポ
キシ−ポリエステル樹脂をベースとする塗料系である請
求項19記載の組成物。 (22)紫外線吸収剤または別の光安定剤を含む請求項
21記載の組成物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US32684889A | 1989-03-21 | 1989-03-21 | |
US326,848 | 1989-03-21 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02300168A true JPH02300168A (ja) | 1990-12-12 |
JP2860589B2 JP2860589B2 (ja) | 1999-02-24 |
Family
ID=23273976
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2073181A Expired - Lifetime JP2860589B2 (ja) | 1989-03-21 | 1990-03-22 | 紫外線吸収部および1―ヒドロカルビルオキシヒンダードアミン部の双方を含む化合物、並びに安定化組成物 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0389427B1 (ja) |
JP (1) | JP2860589B2 (ja) |
CA (1) | CA2012503C (ja) |
DE (1) | DE69008405T2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0959459A (ja) * | 1995-08-18 | 1997-03-04 | Clariant Internatl Ltd | ピペリジン化合物の使用 |
JP2000044851A (ja) * | 1998-07-27 | 2000-02-15 | Ricoh Co Ltd | インクジェット記録用インク組成物 |
JP2002179753A (ja) * | 2000-12-13 | 2002-06-26 | Nippon Shiika Kk | 高耐候性ポリウレタン系一液型湿気硬化性組成物 |
JP4767470B2 (ja) * | 2000-02-01 | 2011-09-07 | チバ ホールディング インコーポレーテッド | Uv吸収剤と選択されたヒンダードアミンの組み合わせにより安定化されたロウソクの蝋 |
JP2013500303A (ja) * | 2009-07-30 | 2013-01-07 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 高分子光開始剤 |
JP2019194260A (ja) * | 2014-09-30 | 2019-11-07 | トランジションズ オプティカル, インコーポレイテッド | 紫外線吸収剤 |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0453405B1 (de) * | 1990-04-20 | 2000-07-12 | Ciba SC Holding AG | Verbindungen aus o-Hydroxyphenyl-1,3,5-triazinen und sterisch gehinderten Aminen |
GB9103415D0 (en) * | 1991-02-19 | 1991-04-03 | Sandoz Ltd | Improvements in or relating to organic compounds |
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