JP2913198B2 - １―ヒドロカルビルオキシ―２，２，６，６―テトラメチルピペリジン部分を有するエチレン性不飽和化合物、ポリマー、コポリマーおよび安定化組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、１−ヒドロカルビルオキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン部分を有するエチレン性不飽和化
合物、それから製造されたポリマーおよびコポリマー、
および安定化量の前記化合物を含有することにより化学
線の劣化作用に対して安定化されたポリマー組成物に関
する。

〔従来の技術〕

立体障害性アミン部分を有する単量体の共重合性光安
定剤は、以下の代表的な特許のリストおよび刊行物が証
明するように、当該分野では公知である：米国特許第42
94949号、同第4210612号および同第4743657号並びにF.K
arrer,Makromol.Chem.1815 95（1980）;K.W.Lee等.J,Po
lym.Science,Poly Chem.Ed,10,3295（1972）およびT.Ku
vosaki等,J.Polym.Science,Poly Chem.Ed,12,1407（197
4）。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記の引用文献は、１−Ｎ原子がヒドロカルビルオキ
シ基により置換された本発明の化合物を開示も示唆もな
んらしていない。

１−Ｎ原子がヒドロカルビルオキシ基により置換され
た非重合性立体障害性アミンはEP−Ａ−309402に記載さ
れている。しかしながら、これに記載された化合物はホ
モポリマー化またはコポリマー化され得ず、従ってこれ
らは、本発明のエチレン性不飽和材料に適用可能な有用
性の重要な要素を有するものではない。

本発明の一つの目的は、１−Ｎ原子がヒドロカルビル
オキシ基により置換された立体障害性アミン部分を有す
るエチレン性不飽和重合性モノマーを提供することであ
る。

本発明のもう一つの目的は、最終使用条件下で移行お
よび揮発による損失に対する抵抗性が高められた前記モ
ノマーのホモポリマーを提供することである。

本発明のさらに別の目的は、前記モノマーと立体障害
性アミン部分を持たない広範囲のその他のエチレン性不
飽和モノマーとのコポリマーを記載することである。

本発明のその他の別の目的は、安定化量の前記モノマ
ーまたは該モノマーから製造されたポリマーの存在によ
り化学線の劣化作用に対して安定化されるポリマー組成
物を提供することである。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、 １−Ｎ原子がヒドロカルビルオキシ基で置換された立
体障害性アミン部分を有する、エチレン性不飽和重合性
モノマーであって、前記アミン部分は次式E: （式中、 L₁およびL₂は独立して炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基を表すか、またはL₁およびL₂は一緒になってペンタ
メチレン基を表し、そして R₁はヒドロカルビル基を表す。） で表され、そして前記モノマーは次式Ｉ−IX: 〔式中、 R₁は炭素原子数１ないし36のアルキル基、炭素原子数
２ないし18のアルケニル基、炭素原子数２ないし18のア
ルキニル基、炭素原子数７ないし15のアルアルキル基、
炭素原子数５ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数
５ないし12のシクロアルケニル基、炭素原子数７ないし
12の飽和もしくは不飽和二環式もしくは三環式炭化水素
の基、または炭素原子数６ないし10のアリール基もしく
はアルキル基により置換された前記アリール基を表し、 Ｘは直接結合、炭素原子数２ないし12の−Ｏ（ポリオ
キシアルキレン−Ｏ）−基、−Ｏ−基、−NH−基、また
は次式：−NG− （式中、Ｇは炭素原子数１ないし８のアルキル基を表
す。）で表される基を表し、 X₁は直接結合または−Ｏ−基を表し、 ｎは１または２を表し、 T₁、T₂およびT₄は独立して水素原子、ハロゲン原子、
炭素原子数１ないし18のアルキル基または炭素原子数６
ないし10のアリール基を表し、 T₃は水素原子またはメチル基を表し、そして R₂、R₃およびR₄は独立して水素原子または炭素原子数
１ないし12のアルキル基を表すか、またはR₂は式IIIに
おいてはシアノ基も表す。〕 で表される化合物群から選択される、前記エチレン性不
飽和重合性モノマーに関する。

好ましくは、L₁およびL₂が各々メチル基を表す。

好ましくは、R₁は炭素原子数１ないし18のアルキル
基、炭素原子数２もしくは３のアルケニル基、プロパル
ギル基、ベンジル基またはシクロヘキシル基を表す。

Ｇは好ましくは炭素原子数１ないし４のアルキル基を
表す。

好ましくは、T₁およびT₂は両方水素原子を表す。

好ましくは、T₃は水素原子を表す。

好ましくは、R₂、R₃およびR₄は各々水素原子を表す
か、またはR₃およびR₄は水素原子を表し、そしてR₂はメ
チル基を表す。

R₁がアルキル基を表すとき、R₁は例えばメチル基、エ
チル基、ブチル基、アミル基、オクチル基、ノニル基、
ドデシル基、テトラデシル基、オクタデシル基、エイコ
シル基、トリコシル基またはトリコンチル基である。

R₁がアルケニル基を表すとき、R₁は例えばビニル基、
アリル基、オクテニル基またはオレイル基である。

R₁がアルキニル基を表すとき、R₁は例えばプロパルギ
ル基である。

R₁がシクロアルキル基を表すとき、R₁は例えばシクロ
ペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基また
はシクロドデシル基である。

上記式ＩないしIXで表されるモノマーの各々は、それ
らの１種より多いモノマーが一緒にコポリマー化された
とき、遊離ラジカル開始、光開始、基移動重合、グラフ
ト重合またはカチオンもしくはアニオン重合を用いて該
モノマーをホモポリマーまたはコポリマーのいずれかと
することが可能であるエチレン性不飽和基を含有する。

さらに、上記式ＩないしIXで表されるモノマーの各々
は、式Ｅで表される基を持たない別のビニルモノマーと
コポリマー化され、ユニットを安定化するポリマー骨格
の一体部分としてその骨格に結合した式Ｅで表されるペ
ンダント基を有するコポリマーを得ることもできる。

前記ポリマーまたはコポリマーは （ａ）１−Ｎ原子がヒドロカルビルオキシ基で置換され
た立体障害性アミン部分を有する、エチレン性不飽和重
合性モノマーであって、前記アミン部分は次式E: （式中、 L₁およびL₂は独立して炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基を表すか、またはL₁およびL₂は一緒になってペンタ
メチレン基を表し、そして R₁はヒドロカルビル基を表す。） で表され、そして前記モノマーは次式Ｉ−IX: 〔式中、 R₁は炭素原子数１ないし36のアルキル基、炭素原子数
２ないし18のアルケニル基、炭素原子数２ないし18のア
ルキニル基、炭素原子数７ないし15のアルアルキル基、
炭素原子数５ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数
５ないし12のシクロアルケニル基、炭素原子数７ないし
12の飽和もしくは不飽和二環式もしくは三環式炭化水素
の基、または炭素原子数６ないし10のアリール基もしく
はアルキル基により置換された前記アリール基を表し、 Ｘは直接結合、炭素原子数２ないし12の−Ｏ（ポリオ
キシアルキレン−Ｏ）−基、−Ｏ−基、−NH−基、また
は次式：−NG− （式中、Ｇは炭素原子数１ないし８のアルキル基を表
す。）で表される基を表し、 X₁は直接結合または−Ｏ−基を表し、 ｎは１または２を表し、 T₁、T₂およびT₄は独立して水素原子、ハロゲン原子、
炭素原子数１ないし18のアルキル基または炭素原子数６
ないし10のアリール基を表し、 T₃は水素原子またはメチル基を表し、そして R₂、R₃およびR₄は独立して水素原子または炭素原子数
１ないし12のアルキル基を表すか、またはR₂は式IIIに
おいてはシアノ基も表す。〕 で表される化合物群から選択される、前記エチレン性不
飽和重合性モノマー少なくとも１種を全体のポリマーま
たはコポリマーに基づいて１ないし100重量％、および （ｂ）式Ｅで表される基を有せず、かつアクリル酸およ
びメタクリル酸のエステルおよびアミド、イタコネー
ト、シトラコネート、スチレン、ビニルピリジン、ジビ
ニルベンゼン、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾ
ール、マレイミド、ビニルスルホネート、ビニルホスホ
ネート、アルファオレフィン、イソプレン、ブタジエ
ン、ビニルエステル、ビニルエーテルおよびハロゲン化
されたオレフィンからなる群から選択される、少なくと
も１種のエチレン性不飽和重合性モノマーを全体のポリ
マーまたはコポリマーに基づいて99ないし０重量％、 の重合生成物からなる。

成分（ａ）を少量でも有する前記コポリマーは、移行
し得ず、揮発により失われ得ず、そして化学線の劣化作
用からコポリマーを保護するための重要な部位が脱離さ
れ得ない高度の光安定化ユニットを構築するであろう。

本発明のさらに別の面は、 （Ａ）化学線の劣化作用に曝されている有機ポリマー、
および （B₁）１−Ｎ原子がヒドロカルビルオキシ基で置換され
た立体障害性アミン部分を有する、エチレン性不飽和重
合性モノマーであって、前記アミン部分は次式E: （式中、 L₁およびL₂は独立して炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基を表すか、またはL₁およびL₂は一緒になってペンタ
メチレン基を表し、そして R₁はヒドロカルビル基を表す。） で表され、そして前記モノマーは次式Ｉ−IX: 〔式中、 R₁は炭素原子数１ないし36のアルキル基、炭素原子数
２ないし18のアルケニル基、炭素原子数２ないし18のア
ルキニル基、炭素原子数７ないし15のアルアルキル基、
炭素原子数５ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数
５ないし12のシクロアルケニル基、炭素原子数７ないし
12の飽和もしくは不飽和二環式もしくは三環式炭化水素
の基、または炭素原子数６ないし10のアリール基もしく
はアルキル基により置換された前記アリール基を表し、 Ｘは直接結合、炭素原子数２ないし12の−Ｏ（ポリオ
キシアルキレン−Ｏ）−基、−Ｏ−基、−NH−基、また
は次式：−NG− （式中、Ｇは炭素原子数１ないし８のアルキル基を表
す。）で表される基を表し、 X₁は直接結合または−Ｏ−基を表し、 ｎは１または２を表し、 T₁、T₂およびT₄は独立して水素原子、ハロゲン原子、
炭素原子数１ないし18のアルキル基または炭素原子数６
ないし10のアリール基を表し、 T₃は水素原子またはメチル基を表し、そして R₂、R₃およびR₄は独立して水素原子または炭素原子数
１ないし12のアルキル基を表すか、またはR₂は式IIIに
おいてはシアノ基も表す。〕 で表される化合物群から選択される、前記エチレン性不
飽和重合性モノマーの安定化量、または、 （B₂） （ａ）１−Ｎ原子がヒドロカルビルオキシ基で置換され
た立体障害性アミン部分を有する、エチレン性不飽和重
合性モノマーであって、前記アミン部分は次式E: （式中、 L₁およびL₂は独立して炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基を表すか、またはL₁およびL₂は一緒になってペンタ
メチレン基を表し、そして R₁はヒドロカルビル基を表す。） で表され、そして前記モノマーは次式Ｉ−IX: 〔式中、 R₁は炭素原子数１ないし36のアルキル基、炭素原子数
２ないし18のアルケニル基、炭素原子数２ないし18のア
ルキニル基、炭素原子数７ないし15のアルアルキル基、
炭素原子数５ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数
５ないし12のシクロアルケニル基、炭素原子数７ないし
12の飽和もしくは不飽和二環式もしくは三環式炭化水素
の基、または炭素原子数６ないし10のアリール基もしく
はアルキル基により置換された前記アリール基を表し、 Ｘは直接結合、炭素原子数２ないし12の−Ｏ（ポリオ
キシアルキレン−Ｏ）−基、−Ｏ−基、−NH−基、また
は次式：−NG− （式中、Ｇは炭素原子数１ないし８のアルキル基を表
す。）で表される基を表し、 X₁は直接結合または−Ｏ−基を表し、 ｎは１または２を表し、 T₁、T₂およびT₄は独立して水素原子、ハロゲン原子、
炭素原子数１ないし18のアルキル基または炭素原子数６
ないし10のアリール基を表し、 T₃は水素原子またはメチル基を表し、そして R₂、R₃およびR₄は独立して水素原子または炭素原子数
１ないし12のアルキル基を表すか、またはR₂は式IIIに
おいてはシアノ基も表す。〕 で表される化合物群から選択される、前記エチレン性不
飽和重合性モノマー少なくとも１種を全体のポリマーま
たはコポリマーに基づいて１ないし100重量％、および （ｂ）式Ｅで表される基を有せず、かつアクリル酸およ
びメタクリル酸のエステルおよびアミド、イタコネー
ト、シトラコネート、スチレン、ビニルピリジン、ジビ
ニルベンゼン、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾ
ール、マレイミド、ビニリスルホネート、ビニルホスホ
ネート、アルファオレフィン、イソプレン、ブタジエ
ン、ビニルエステル、ビニルエーテルおよびハロゲン化
されたオレフィンからなる群から選択される、少なくと
も１種のエチレン性不飽和重合性モノマーを全体のポリ
マーまたはコポリマーに基づいで99ないし０重量％、 の遊離ラジカル重合生成物からなるポリマーまたはコポ
リマーの安定化量、 からなる安定化された組成物である。

エチレン性不飽和コモノマーはまた、紫外線吸収性部
分、例えばヒドロキシフェニル置換されたベンゾトリア
ゾールまたはｓ−トリアジン、ヒドロキシ置換されたベ
ンゾフェノン、オキサニリドまたはアルファシアノシン
ナメートを有してもよい。そのようなエチレン性不飽和
紫外線吸収剤の例は、参照により本明細書に編入される
多くの米国特許に記載されている。

アクリル化されたベンゾトリアゾールは、米国特許第
4413095号、同第4716234号、同第4785063号および同第4
803254号に記載されている。アクリルオキシアルキルベ
ンゾトリアゾールは米国特許第4260768号に記載されて
いる。ビニル置換されたベンゾトリアゾールは米国特許
第4508882号に記載されている。エチレン性不飽和ベン
ゾトリアゾールは米国特許第3493539号に記載されてい
る。アクリル化されたベンゾフェノンは米国特許第4310
650号に記載されている。

本発明のモノマーを製造するために使用され得る多く
の合成方法がある。

これらは以下の方法を包含する： （ａ） ４−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジンと不飽和酸例えばアクリル酸、フマル酸、ムコン
酸等の低級アルキルエステルを用いるエステル交換 （ｂ） ４−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジンと酸クロライド例えばアクリロイルまたはメタク
リロイルクロライドを用いるエステル化 （ｃ） ４−アミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ンと酸クロライド例えばアクリロイルまたはメタクリロ
イルクロライドを用いるアミド化 （ｄ） ４−アミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ンと環式無水物例えば無水マレイン酸を用いるイミド
化、それに続く中間体マレアミン酸の環化 （ｅ） 不飽和ベンジルまたはアリルハライドと４−ヒ
ドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンのアルカ
リ金属アルコレートとのハライド置換 （ｆ） 前もって生成した４−アシロイルオキシ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジンの第三ブチルヒドロパー
オキシドまたは過酸化水素との三酸化モリブデン触媒お
よび炭化水素溶媒の存在下で接触酸化。

本発明の化合物を製造するために必要とされる中間体
は、ほとんどが市販品であるか、または当該分野で公知
の慣用の方法により製造され得る。

本発明の代表的なモノマー化合物には以下のものが包
含される： 本発明は2,2,6,6−テトラアルキルピペリジン構造を
強調しているけれども、本発明は以下のテトラアルキル
置換されたピペラジンまたはピペラジノン部分が上記テ
トラアルキルピペリジン部分の代わりに使用されている
化合物にも関する： 式中、ＭおよびＹは独立してメチレン基またはカルボ
ニル基を表し、好ましくはＭはメチレン基を表し、そし
てＹはカルボニル基を表す。

そのような化合物に適用可能な同定された置換基は環
窒素原子上での置換に適当であるものであることが理解
される。

本発明のポリマーおよびコポリマーは、Houben−Wey
l,Methoden d.Org.Chemie 14/1,1010−73（1962）に一
般的に開示され、そして米国特許第4210612号に不飽和
ピペリジン誘導体について開示されているような通常の
重合方法により、上記のモノマーから製造され得る。

本発明の化合物が特に有用である基材は、ポリオレフ
ィン例えばポリエチレンおよびポリプロピレン、ポリス
チレン特に耐衝撃性ポリスチレン、ABS樹脂、エラスト
マー例えばブタジエンゴム、EPM、EPDM、SBRおよびニト
リルゴムである。

安定化され得るポリマーは一般に以下のものを包含す
る： 1. モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えば（所望により架橋結合できる）ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−１、ポリ
メチルペンテン−１、ポリイソプレンまたはポリブタジ
エン、並びにシクロオレフィン例えばシクロペンテンま
たはノルボルネンのポリマー。

2. 1.に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロピ
レンとポリイソブチレンとの混合物。

3. モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニ
ルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレ
ン、プロピレン／ブテン−１、プロピレン／イソブチレ
ン、エチレン／ブテン−１、プロピレン／ブタジエン、
イソブチレン／イソプレン、エチレン／アルキルアクリ
レート、エチレン／アルキルメタクリレート、エチレン
／ビニルアセテートまたはエチレン／アクリル酸コポリ
マーおよびそれらの塩類（アイオノマー）、およびエチ
レンとプロピレンとジエン例えばヘキサジエン、ジシク
ロペンタジエンまたはエチリデン−ノルボルネンとのタ
ーポリマー。

4. ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチレン）。

5. スチレンまたはメチルスチレンとジエンまたはアク
リル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／ブタジエ
ン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／メチルメ
タクリレート、スチレン／ブタジエン／エチルアクリレ
ート、スチレン／アクリルニトリル／メチルアクリレー
ト；スチレンコポリマーと別のポリマー、例えばポリア
クリレート、ジエンポリマーまたはエチレン／プロピレ
ン／ジエンターポリマーからの高耐衝撃性混合物；およ
びスチレンのブロックポリマー例えばスチレン／ブタジ
エン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、ス
チレン／エチレン／ブチレン／スチレンまたはスチレン
／エチレン／プロピレン／スチレン。

6. スチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブタジ
エンにスチレン、ポリブタジエンにスチレンおよびアク
リロニトリル、ポリブタジエンにスチレンおよびアルキ
ルアクリレートまたはメタアクリレート、エチレン／プ
ロピレン／ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリ
ロニトリル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレー
トにスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート／
ブタジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリ
ル、並びにこれらと5.に列挙したコポリマーとの混合
物、例えばABS−、MBS−、ASA−またはAES−ポリマーと
して知られているコポリマー混合物。

7. ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、
塩素化ゴム、塩素化またはクロロスルホンポリエチレ
ン、エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、ハロ
ゲン含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリ
フッ化ビニリデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩
化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニル、
塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマーまたはフッ化ビ
ニル／ビニルエーテルコポリマー。

8. α，β−不飽和酸およびその誘導体から誘導された
ポリマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタアク
リレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニト
リル。

9. 前項8.に挙げたモノマー相互のまたは他の不飽和モ
ノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタ
ジエン、アクリロニトリル／アルキルアクリレート、ア
クリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレートまた
はアクリロニトリル／ハロゲン化ビニルコポリマーまた
はアクリロニトリル／アルキルメタアクリレート／ブタ
ジエンターポリマー。

10.不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのアシ
ル誘導体またはそれらのアセタールから誘導されたポリ
マー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、
ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポ
リビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリ
ルフタレートまたはポリアリルメラミン。

11.環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、例
えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−グリ
シジルエーテルとのコポリマー。

12.ポリアセタール、例えばポリオキシメチレンおよび
エチレンオキシドをコモノマーとして含むポリオキシメ
チレン。

13.ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド並びにポ
リフェニレンオキシドとポリスチレンとの混合物。

14.一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエー
テル、ポリエステルまたはポリブタジエンと他方の成分
として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとから誘
導されたポリウレタン並びにその前駆体（ポリイソシア
ネート、ポリオールまたはプレポリマー）。

15.ジアミンおよびジカルボン酸および／またはアミノ
カルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポリ
アミドおよびコポリアミド。例えばポリアミド４、ポリ
アミド６、ポリアミド6/6、ポリアミド6/10、ポリアミ
ド11、ポリアミド12、ポリ−2,4,4−トリメチルヘキサ
メチレンテレフタルアミドまたはポリ−ｍ−フェニレン
イソフタルアミド、並びにこれらとポリエーテル、例え
ばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール
またはポリテトラメチレングリコールとのコポリマー。

16.ポリ尿素、ポリイミドおよびポリアミドイミド。

17.ジカルボン酸およびジオールおよび／またはヒドロ
キシカルボン酸または相当するラクトンから誘導された
ポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポ
リブチレンテレフタレート、ポリ−1,4−ジメチロール
−シクロヘキサンテレフタレートおよびポリヒドロキシ
ベンゾエート並びにヒドロキシ末端基を含有するポリエ
ーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエステ
ル。

18.ポリカーボネート。

19.ポリスチレン、ポリエーテルスルホンおよびポリエ
ーテルケトン。

20.一方の成分としてアルデヒドおよび他方の成分とし
てフェノール、尿素およびメラミンから誘導された架橋
ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、
尿素／ホルムアルデシド樹脂およびメラミン／ホルムア
ルデヒド樹脂。

21.乾性および不乾性アルキド樹脂。

22.飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコールお
よび架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステルか
ら誘導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性の低
いそれらのハロゲン含有変性物。

23.置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリレ
ート、ウレタン−アクリレートまたはシリコーン−アク
リレートから誘導された熱硬化性アクリル樹脂。

24.架橋剤としてメラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシ
アネートまたはエポキシ樹脂と混合されたアルキド樹
脂、ポリエステル樹脂またはアクリレート樹脂。

25.ポリエポキシド、例えばビス−グリシジルエーテ
ル、または脂環式ジエポキシドから誘導された架橋エポ
キシ樹脂。

26.天然ポリマー、例えばセルロース、ゴム、ゼラチン
およびこれらの化学的に変性された重合同族体誘導体、
例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースおよび
酪酸セルロースまたはセルロースエーテル例えばメチル
セルロース。

27.前記したポリマーの混合物、例えばPP/EPDM、ポリア
ミド6/EPDMまたはABS、PVC/EVA、PVC/ABS、PVC/MBS、PC
/ABS、PBTP/ABS。

28.純単量体化合物またはその化合物の混合物である天
然および合成有機材料、例えば鉱油、動物および植物脂
肪、オイルおよびワックスまたは合成エステル（例えば
フタレート、アジペート、ホスフェートまたはトリメリ
テート）をベースとした上記オイル、脂肪およびワック
ス、並びに適当な重量比で混合された合成エステルと鉱
油との混合物で、その材料はポリマーのための可塑剤と
して、繊維紡績油として、並びにこのような材料の水性
エマルジョンとして使用され得る。

29.天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例えばカ
ルボキシル化スチレン／ブタジエンコポリマーの天然ラ
テックス。

30.ポリシロキサン、例えば米国特許第4259476号に記載
された軟質親水性ポリシロキサン、および例えば米国特
許第4355147号に記載された硬質ポリオルガノシロキサ
ン。

31.不飽和アクリルポリアセトアセテート樹脂または不
飽和アクリル樹脂と組み合わせたポリケチミン。不飽和
アクリル樹脂はペンダント不飽和基を有するウレタンア
クリレート、ポリエーテルアクリレート、ビニルまたは
アクリルコポリマーおよびアクリル化メラミンを包含す
る。ポリケチミンは酸触媒の存在下でポリアミンとケト
ンとから製造される。

32.エチレン性不飽和モノマーまたはオリゴマーおよび
多不飽和脂肪酸オリゴマーを含有する放射線硬化性組成
物。

33.エポキシメラミン樹脂、例えばエポキシ官能性共エ
ーテル化ハイソリッドメラミン樹脂、例えばLSE4103
（モンサント社製）により架橋された光安定性エポキシ
樹脂。

一般に、本発明の化合物は安定化される組成物の約0.
01ないし約５重量％使用されるが、しかしこれは特定の
基材および施用で変化するであろう。有利な範囲は約0.
5ないし約２％、そして特に0.1ないし約１％である。

本発明の安定剤は、有機ポリマー中に、当該分野で慣
用の方法により成形の前のあらゆる段階で容易に混入さ
れ得る。例えば該安定剤は乾燥粉末の形態でポリマーと
混合されてもよく、また安定剤の懸濁液またはエマルジ
ョンは、ポリマーの溶液、懸濁液またはエマルジョンと
混合されてもよい。本発明の生成した安定化ポリマー組
成物は、以下に示すような種々の慣用の添加剤を所望に
より添加することもできる。

1. 酸化防止剤 1.1 アルキル化モノフェノール、例えば 2,6−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、 ２−第三ブチル−4,6−ジメチルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、 2,6−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、 ２−（α−メチルシクロヘキシル）−4,6−ジメチルフ
ェノール、 2,6−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、 2,4,6−トリシクロヘキシルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノー
ル。

1.2 アルキル化ハイドロキノン、例えば 2,6−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、 2,5−ジ−第三ブチルハイドロキノン、 2,5−ジ−第三アミルハイドロキノン、 2,6−ジ−フェニル−４−オクタデシルオキシフェノー
ル。

1.3 ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル例えば、 2,2′−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノ
ール）、 2,2′−チオビス（４−オクチルフェノール）、 4,4′−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノ
ール）、 4,4′−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノ
ール）。

1.4 アルキリデンビスフェノール、例えば 2,2′−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフ
ェノール）、 2,2′−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフ
ェノール）、 2,2′−メチレンビス〔４−メチル−６−（α−メチル
シクロヘキシル）フェノール〕、 2,2′−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシ
ルフェノール）、 2,2′−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノ
ール）、 2,2′−メチレンビス〔６−（α−メチルベンジル）−
４−ノニルフェノール〕、 2,2′−メチレンビス〔６−α，α−ジメチルベンジ
ル）−４−ノニルフェノール〕、 2,2′−メチレンビス（4,6−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、 2,2′−エチリデンビス（4,6−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、 2,2′−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブ
チルフェノール）、 4,4′−メチレンビス（2,6−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、 4,4′−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチルフ
ェノール）、 1,1−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メ
チルフェニル）ブタン、 2,6−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロ
キシベンジル）−４−メチルフェノール、 1,1,3−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２
−メチルフェニル）ブタン、 1,1−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メ
チルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、 エチレングリコールビス〔3,3−ビス（３′−第三ブチ
ル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート〕、 ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフ
ェニル）ジシクロペンタジエン、 ビス〔２−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−
５′−メチルベンジィル）−６−第三ブチル−４−メチ
ルフェニル〕テレフタレート。

1.5 ベンジル化合物、例えば 1,3,5−トリス（3,5−第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル）−2,4,6−トリメチルベンゼン、 ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）スルフィド、 イソオクチル3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジルメルカプトアセテート、 ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−2,6−ジメチ
ルベンジル）ジチオールテレフタレート、 1,3,5−トリス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルイソシアヌレート、 1,3,5−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−2,6
−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、 ジオクタデシル3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート、 モノエチル3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ジルホスホネートのカルシウム塩。

1.6 アシルアミノフェノール、例えば ラウリン酸４−ヒドキシアニリド、 ステアリン酸４−ヒドロキシアニリド、 2,4−ビス（オクチルメルカプト）−６−（3,5−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−ｓ−トリアジ
ン、 オクチルＮ−（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）−カルバメート。

1.7 β−（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオン酸の以下の一価または多価アルコールと
のエステル、 アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6−ヘ
キサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチル
グリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレ
ート、チオジエチレングリコール、N,N′−ビス（ヒド
ロキシエチル）シュウ酸ジアミド。

1.8 β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メ
チルフェニル）プロピオン酸の以下の一価または多価ア
ルコールとのエステル、 アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6−ヘ
キサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチル
グリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレ
ート、チオジエチレングリコール、N,N′−ビス（ヒド
ロキシエチル）シュウ酸ジアミド。

1.9 β−（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオン酸のアミド、例えば N,N′−ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、 N,N′−ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、 N,N′−ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル）ヒドラジン。

2. 紫外線吸収剤および光安定剤 2.1 ２−（２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリア
ゾール、例えば、 ５′メチル−、３′,5′−ジ−第三ブチル−、５′−第
三ブチル−、５′−（1,1,3,3−テトラメチルブチル）
−、５−クロロ−３′,5′−ジ−第三ブチル−、５−ク
ロロ−３′−第三ブチル−５′−メチル、３′−第二ブ
チル−５′−第三ブチル、４′−オクトキシ−、３′,
5′−ジ−第三アミル−、３′,5′−ビス（α，α−ジ
メチルベンジル）−、３′−第三ブチル−５′−２−
（ω−ヒドロキシ−オクタ−（エチレンオキシ）−カル
ボニルエチル）−、３′−ドデシル−５′−メチル−、
および３′−第三ブチル−５′−（２−オクチルオキシ
カルボニル）−エチル、およびドデシル化−５′−メチ
ル−誘導体。

2.2 ２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン、例えば ４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクトキシ
−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−
ベンジルオキシ−、4,2′,4′−トリヒドロキシ−およ
び２′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシ誘導体。

2.3 置換されたおよび非置換安息香酸のエステル、例
えば フェニルサリチレート、 ４−第三ブチルフェニルサリチレート、 オクチルフェニルサリチレート、 ジベンゾイルレゾルシノール、 ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、 ベンゾイルレゾルシノール、 3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸2,4−ジ
−第三ブチルフェニルエステル、および3,5−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシルエステ
ル。

2.4 アクリレート、例えば α−シアノ−β，β−ジフェニル−アクリル酸エチルエ
ステル、 α−シアノ−β，β−ジフェニル−アクリル酸イソオク
チルエステル、 α−カルボメトキシ−桂皮酸メチルエステル、 α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸メチル
エステル、 α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸ブチル
エステル、 α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ桂皮酸メチルエステ
ル、および Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−
メチルインドリン。

2.5 ニッケル化合物、例えば 2,2′−チオビス−〔４−（1,1,3,3−テトラメチルベチ
ル）−フェノール〕のニッケル錯体、例えば1:1または
1:2錯体であって、所望によりｎ−ブチルアミン、トリ
エタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシル−ジ−エ
タノールアミンのような他の配位子を伴うもの、ニッケ
ルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロキシ−3,5
−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノアルキルエス
テル、例えばメチル、エチルもしくはブチルエステルの
ニッケル塩、２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウ
ンデシルケトキシムのようなケトキシムのニッケル錯
体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシ−
ピラゾールのニッケル錯体であって、所望により他の配
位子を伴うもの。

2.6 立体障害性アミン、例えば ビス（2,2,6,6−テトラメチルピペリジル）セバケー
ト、 ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル）セバケー
ト、 ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル）ｎ−ブチ
ル−3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマ
ロネート、 １−ヒドロキシエチル−2,2,6,6−テトラメチル−４−
ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、 N,N′−ビス（2,2,6,6−テトラメチルピペリジル）ヘキ
サメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−2,6−
ジクロロ−ｓ−トリアジンとの縮合生成物、 トリス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）ニ
トリロトリアセテート、 テトラキス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）−1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸、 1,1′−（1,2−エタンジイル）−ビス（3,3,5,5−テト
ラメチルピペラジノン）。

2.7 シュウ酸ジアミド、例えば 4,4′−ジ−オクチル−オキシオキサニリド、 2,2′−ジ−オクチルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチルオ
キサニリド、 2,2′−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチルオ
キサニリド、 ２−エトキシ−２′−エチルオキサニリド、 N,N′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル−オキサル
アミド、 ２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−エチルオキサニ
リドおよび該化合物と２−エトキシ−２′−エチル−5,
4′−ジ−第三ブチル−オキサニリドとの混合物、 オルト−およびパラ−メトキシ−二置換オキサニリドの
混合物、および ｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合
物。

2.8 ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジン、 例えば 2,6−ビス−（2,4−ジメチルフェニル）−４−（２−ヒ
ドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−ｓ−トリア
ジン、 2,6−ビス−（2,4−ジメチルフェニル）−４−（2,4−
ジヒドロキシフェニル）−ｓ−トリアジン、 2,4−ビス−（2,4−ジヒドロキシフェニル）−６−（４
−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、 2,4−ビス−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ
エトキシ）フェニル〕−６−（４−クロロフェニル）−
ｓ−トリアジン、 2,4−ビス−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ
エトキシ）フェニル〕−６−フェニル−ｓ−トリアジ
ン、 2,4−ビス−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ
エトキシ）フェニル〕−６−（2,4−ジメチルフェニ
ル）−ｓ−トリアジン、 2,4−ビス−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ
エトキシ）フェニル〕−６−（４−ブロモフェニル）−
ｓ−トリアジン、 2,4−ビス−〔２−ヒドロキシ−４−（２−アセトキシ
エトキシ）フェニル〕−６−（４−クロロフェニル）−
ｓ−トリアジン、 2,4−ビス（2,4−ジヒドロキシフェニル）−６−（2,4
−ジメチルフェニル）−ｓ−トリアジン、 3. 金属不活性化剤、例えば N,N′−ジフェニルシュウ酸ジアミド、 Ｎ−サリチラル−Ｎ′−サリチロイルヒドラジン、 N,N′−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、 N,N′−ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル）ヒドラジン、 ３−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリアゾール、 ビス（ベンジリデン）シュウ酸ジヒドラジン。

4. ホスフィットおよびホスホナイト、例えば トリフェニルホスフィット、 ジフェニルアルキルホスフィット、 フェニルジアルキルホスフィット、 トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、 トリラウリルホスフィット、 トリオクタデシルホスフィット、 ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、 トリス（2,4−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィッ
ト、 ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、 ビス（2,4−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリ
トールジホスフィット、 トリステアリルソルビトールトリホスフィット、 テトラキス（2,4−ジ−第三ブチルフェニル）4,4′−ビ
フェニリレンジホスホナイト。

5. 過酸化物を破壊する化合物、例えば β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、
ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、 メルカプトベンズイミダゾール、または２−メルカプト
ベンズイミダゾールの亜鉛塩、 ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、 ジオクタデシルジスルフィド、 ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカ
プト）プロピオネート。

6. ヒドロキシルアミン、例えば N,N−ジベンジルヒドロキシルアミン、 N,N−ジエチルヒドロキシルアミン、 N,N−ジオクチルヒドロキシルアミン、 N,N−ジラウリルヒドロキシルアミン、 N,N−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、 N,N−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、 N,N−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、 Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミ
ン、 Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミ
ン、 水素化タロウアミンから誘導されるN,N−ジアルキルヒ
ドロキシルアミン。

7. ポリアミド安定剤、例えば ヨウ化物および／またはリン化合物と組合せた銅塩、お
よび二価マンガンの塩。

8. 塩基性補助安定剤、例えば メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミン、
トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導
体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、 高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属
塩、例えばCaステアレート、Znステアレート、Mgステア
レート、NaリシノレートおよびＫパルミテート、 ピロカテコール酸アンチモン、または ピロカテコール酸亜鉛。

9. 核剤、例えば ４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、 ジフェニル酢酸。

10.充填剤および強化剤、例えば 炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、
タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物お
よび水酸化物、カーボンブラック、グラファイト。

11.その他の添加剤、例えば 可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤、静電
防止剤、発泡剤およびチオ相乗剤例えばジラウリルチオ
ジプロピオネートまたはジステアリルチオジプロピオネ
ート。

室温硬化されおよび酸触媒されるコーティング系を含
む種々のコーティング系における本発明の誘導体の利用
が特に興味深い。特に、コーティングの物理的結合性
は、光沢の損失および黄変における顕著な低下の提示が
高程度に維持される。重要な改良は、Ｎ−アルキル立体
障害性アミン光安定剤で発生する硬化遅延が実質的にな
いこと;N−アルキル立体障害性アミンが着色されたコー
ティング系に利用される場合に見られるフロキュレーシ
ョンおよび分散不安定性が実質的にないこと、コーティ
ングとポリカーボネート基材との間の接着損失がないこ
と、を包含する。従って、本発明はまた、本発明の化合
物を、場合によりその他の安定剤と一緒に、アルキド樹
脂；熱可塑性アクリル樹脂；アクリルアルキド；シリコ
ン、イソシアネート、イソシアヌレート、ケチミンまた
はオキサゾリジンで変性されてもよいアクリルアルキド
またはポリエステル樹脂；およびカルボン酸、無水物、
ポリアミンまたはメルカプタンで架橋されたエポキシ樹
脂；および骨格において反応性基で変性され、そしてエ
ポキシで架橋されたアクリルおよびポリエステル樹脂系
をベースとする室温硬化性コーティングを光、湿気およ
び酸素の劣化作用に対して安定化するために使用するこ
とにも関する。

さらに、それらの工業用の使用において、架橋可能な
アクリル、ポリエステル、ウレタンまたはアルキド樹脂
をベースとする高い固形含量を有するエナメルは別の酸
触媒で硬化される。塩基性窒素基を有する光安定剤は一
般に本発明において十分なものではない。酸触媒と光安
定剤との間の塩の生成は、該塩の不適合性または不溶性
および沈澱並びに硬化の低下した程度および低下した光
保護作用および低い湿分耐性を導く。

これらの酸触媒された焼付けラッカーは熱架橋性アク
リル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミドまたは
アルキド樹脂をベースとしている。本発明に従って光、
湿気および酸素に対して安定化され得るアクリル樹脂ラ
ッカーは、例えばH.Kittel's “Lehrbuch der Lacke un
d Beschichtungen",Vol.1 Par 2,735および742頁（ベル
リン,1972年），“Lackkunstharze"H.WagnerおよびH.F.
Sarx著,229−238頁，およびS.Paul's著“Surface Coati
ngs:Science and Technology"（1985）に記載されてい
るアクリル／メラミン系を包含する慣用のアクリル樹脂
焼付けラッカーまたは熱硬化性樹脂である。

光および湿気の作用に対して安定化され得るポリエス
テルラッカーは例えばH.WagnerおよびH.F.Sarx著の上掲
書86−99頁に記載されている慣用の焼付けラッカーであ
る。

本発明に従って光および湿気の作用に対して安定化さ
れ得るアルキド樹脂ラッカーは特に自動車塗装に使用さ
れる慣用の焼付けラッカー（自動車仕上げラッカー）で
あり、例えばアルキド／メラミン樹脂およびアルキド／
アクリル／メラミン樹脂をベースとするラッカーである
（H.WagnerおよびH.F.Sarx著の上掲書99−123頁参
照）。その他の架橋剤はグリコールウリル樹脂、ブロッ
クされたイソシアネートまたはエポキシ樹脂を包含す
る。

本発明に従って安定化される酸触媒された焼付けラッ
カーは金属仕上げ塗装および固体シェード仕上げの両方
に、特に修正仕上げ、並びに種々のコイルコーティング
の場合に適当である。本発明に従って安定化されるラッ
カーは、シングルコート法またはツーコート法の２方法
のいずれかによる慣用の方法で塗装されるのが好まし
い。後者の方法において、顔料含有ベースコートがまず
最初に塗布され、そして次にその上に透明ラッカーのカ
バーコートを塗布する。

本発明の置換された立体障害性アミンは酸触媒されて
いない熱硬化性樹脂、例えばシリコーン、イソシアネー
トまたはイソシアヌレートで変性されてもよいエポキ
シ、エポキシポリエステル、ビニル、アルキド、アクリ
ルおよびポリエステル樹脂中への使用に適用可能であ
る。エポキシおよびエポキシポリエステル樹脂は慣用の
架橋剤例えば酸、酸無水物、アミン等で架橋される。

また、エポキシは主鎖上の反応性基の存在により変性
された種々のアクリルまたはポリエステル樹脂系のため
の架橋剤として利用され得る。

そのようなコーティングにおいて最大の光安定性を達
成するために、その他の慣用の光安定剤の同時使用が有
利であり得る。例はベンゾフェノン、ベンゾトリアゾー
ル、アクリル酸誘導体またはオキサニリドタイプ、また
はアリール−ｓ−トリアジンまたは金属含有光安定剤例
えば有機ニッケル化合物の上記紫外線吸収剤である。ツ
ーコート系において、これらのその他の光安定剤はクリ
アコートおよび／または着色されたベースコートに添加
され得る。

そのような組合せが使用される場合には、全体の光安
定剤の合計は、フィルム形成性樹脂に基づいて0.2ない
し20重量％、好ましくは0.5ないし５重量％である。

上記のピペリジン化合物と組み合わせた本発明の組成
物において使用され得る紫外線吸収剤の異なる類の例
は、European Polymer Journal Supplement,1969,105−
132頁のP.J.Hellerによる文献に引用されている。これ
らの類はフェニルサリチレート、ｏ−ヒドロキシベンゾ
フェノン、ヒドロキシキサントン、ベンゾキサゾール、
ベンズイミダゾール、オキサジアゾール、トリアゾー
ル、ピリミジン、キナゾリン、ｓ−トリアジン、ヒドロ
キシフェニル−ベンゾトリアゾール、α−シアノアクリ
レートおよびベンゾエートを包含する。

特別重要な紫外線吸収剤は以下のものである： （ａ） ２−（２′−ヒドロキシフェニル）−ベンゾト
リアゾール例えば５′−メチル−、３′,5′−ジ−第三
ブチル−、５′−第三ブチル−、５′−ジ−（1,1,3,3
−テトラメチルブチル）−、５−クロロ−３′,5′−ジ
−第三ブチル−、５−クロロ−３′−第三ブチル−５′
−メチル−、３′−第二ブチル−５′−第三ブチル−、
４′−オクトキシ−、および３′,5′−ジ−第三アミル
誘導体。

（ｂ） ２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン例えば４−ヒ
ドロキシ−、４−メトキシ、４−オクトキシ−、４−デ
シルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−ベンジルオ
キシ−、4,2′,4′−トリヒドロキシ−および２′−ヒ
ドロキシ−4,4′−ジメトキシ誘導体。

（ｃ） アクリレート例えばα−シアノ−β，β−ジフ
ェニルアクリル酸エチルエステルまたはイソクチルエス
テル、α−カルボメトキシ桂皮酸メチルエステル、α−
シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ桂皮酸メチルエステ
ルまたはブチルエステル、α−カルボメトキシ−ｐ−メ
トキシ桂皮酸メチルエステル、Ｎ−（β−カルボメトキ
シ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。

（ｄ） ニッケル化合物例えば2,2′−チオビス−〔４
−（1,1,3,3−テトラメチルブチル）−フェノール〕の
ニッケル錯体。例えば1:1または1:2錯体であって、所望
によりｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミンもしく
はＮ−シクロヘキシル−ジ−エタノールアミンのような
他の配位子を伴うもの、ニッケルジブチルジチオカルバ
メート、４−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三ブチルベンジ
ルホスホン酸モノアルキルエステル、例えばメチル、エ
チルもしくはブチルエステルのニッケル塩、２−ヒドロ
キシ−４−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのよ
うなケトキシムのニッケル錯体、１−フェニル−４−ラ
ウロイル−５−ヒドロキシ−ピラゾールのニッケル錯体
であって、所望により他の配位子を伴うもの。

（ｅ） シュウ酸ジアミド例えば 4,4′−ジ−オクチル−オキシオキサニリド、 2,2′−ジ−オクチルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチルオ
キサニリド、 2,2′−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチルオ
キサニリド、 ２−エトキシ−２′−エチルオキサニリド、 N,N′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）−オキサ
ルアミド、 ２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−エチルオキサニ
チドおよび該化合物と２−エトキシ−２′−エチル−5,
4′−ジ−第三ブチル−オキサニリドとの混合物、 オルト−およびパラ−メトキシ−二置換オキサニリドの
混合物、および ｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合
物。

（ｆ） ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジン例えば2,
6−ビス（2,4−ジメチルフェニル）−４−（２−ヒドロ
キシ−４−オクチルオキシフェニル）−ｓ−トリアジン
または相当する４−（2,4−ジヒドロキシフェニル）誘
導体。

高分子量で低揮発性のベンゾトリアゾール例えば２−
〔２−ヒドロキシ−3,5−ジ（α，α−ジメチルベンジ
ル）フェニル〕−2H−ベンゾトリアゾール、２−（２−
ヒドロキシ−3,5−ジ−第三オクチルフェニル）−2H−
ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−α，
α−ジメチルベンジル−５−第三オクチルフェニル）−
2H−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ３−第
三オクチル−５−α，α−ジメチルベンジルフェニル）
−2H−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−3,
5−第三アミルフェニル）−2H−ベンゾトリアゾール、
２−〔２−ヒドロキシ−３−三ブニル−５−（２−ω−
ヒドロキシ−オクタ−（エチレンオキシ）カルボニル）
−エチルフェニル〕−2H−ベンゾトリアゾール、ドデシ
ル化２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−2H
−ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３−第
三ブチル−５−（２−オクチルオキシカルボニル）−エ
チルフェニル〕−2H−ベンゾトリアゾールおよび上記の
ベンゾトリアゾールの各々に相当する５−クロロ化合物
が本発明の組成物において特に貴重である。

本発明の組成物に有用なベンゾトリアゾールとしては
２−〔２−ヒドロキシ−3,5−ジ（α，α−ジメチルベ
ンジル）フェニル〕−2H−ベンゾトリアゾール、ドデシ
ル化２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−2H
−ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３−第
三ブチル−５−（２−ω−ヒドロキシ−オクタ−（エチ
レンオキシ）カルボニル）−エチルフェニル〕−2H−ベ
ンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３−第三ブ
チル−５−（２−オクチルオキシカルボニル）−エチル
フェニル〕−2H−ベンゾトリアゾールおよび５−クロロ
−２−〔２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−（２−
オクチルオキシカルボニル）−エチルフェニル〕−2H−
ベンゾトリアゾールが最も好ましい。

本発明の化合物が、フェノール系酸化防止剤、立体障
害性アミン光安定剤、有機リン化合物、紫外線吸収剤お
よびそれらの混合物からなる群から選択されるその他の
安定剤と組み合わせて使用される場合、ポリオレフィン
ファイバー、特にポリプロピレンファイバーの安定剤と
してとりわけ有効であろうこともまた期待される。

本発明のその他の好ましい実施態様は、さらにホスフ
ィットまたはホスホナイトを含有する安定化された組成
物である。

本発明の組成物において使用されるホスフィットまた
はホスホナイトの量は、フィルム形成性樹脂に基づいて
0.05ないし２重量％、好ましくは0.1ないし１重量％で
ある。ツーコート系において、これらの安定剤はクリア
コートおよび／またはベースコートに添加されてもよ
い。

典型的なホスフィットおよびホスホナイトはトリフェ
ニルホスフィット、 ジフェニルアルキルホスフィット、 フェニルジアルキルホスフィット、 トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、 トリラウリルホスフィット、 トリオクタデシルホスフィット、 ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、 トリス（2,4−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィッ
ト、 ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、 ビス（2,4−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリ
トールジホスフィット、 トリステアリルソルビトールトリホスフィット、 テトラキス（2,4−ジ−第三ブチルフェニル）4,4′−ビ
フェニリレンジホスホナイト を包含する。

酸触媒された熱硬化性エナメルは、最終使用者におい
て適当に機能するために、安定化されなければならな
い。使用される安定剤は、硬化に付随する遅延と酸触媒
で安定化された塩基性アミンの沈澱とを防止するため
に、場合により紫外線吸収剤例えばベンゾトリアゾー
ル、ベンゾフェノン、置換ｓ−トリアジン、フェニルベ
ンゾエートまたはオキサニリドと組み合わせた、立体障
害性アミン、好ましくはＮ−原子が不活性ブロック基に
より置換されたものである。

安定剤は硬化されたエナメルにより、長い耐久性（20
゜光沢、画像の鮮明性、クラッキングまたはチョーキン
グにより測定されるようなもの）の維持を与えるために
必要とされ；安定剤は硬化を遅延させてはいけない（12
1℃での自動仕上げのための通常の焼付けおよび82℃で
のより低い焼付け修復，硬度、接着性、溶媒耐性および
湿分耐性により測定されるようなもの）；エナメルは硬
化して黄変すべきでなく、そしてさらに光への暴露での
変色は最低限にされなければならない；安定剤はコーテ
ィングにおいて通常使用される有機溶媒、例えばメチル
アミルケトン、キシレン、ｎ−ヘキシルアセテート、ア
ルコール等中に溶解しなければならない。

Ｎ原子がＯ置換部分で置換された本発明の立体障害性
アミン光安定剤は、これらの要求の各々を満たし、そし
て単独でまたは紫外線吸収剤と組み合わせて、硬化され
酸触媒された熱硬化性エナメルに対して顕著な光安定化
保護を付与する。

本発明の好ましい実施態様は、 （ａ） 熱架橋性アクリル、ポリエステルまたはアルキ
ド樹脂をベースとする酸触媒された熱硬化性コーティン
グまたはエナメル、 （ｂ） NO−R₁置換された2,2,6,6−テトラアルキルピ
ペリジン化合物、および （ｃ） ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、アクリ
ル酸誘導体、有機ニッケル化合物、アリール−ｓ−トリ
アジンおよびオキサニリドからなる群から選択される紫
外線吸収剤、 からなる安定化された組成物に関する。

エナメルまたはコーティングが含有し得るその他の成
分は酸化防止剤、例えば立体障害性フェノール誘導体、
リン化合物例えばホスフィット、ホスフィンまたはホス
ホナイト、可塑剤、レベル補助剤、硬化触媒、増粘剤、
分散剤または接着促進剤である。

本発明の安定剤のさらに他の好ましい組合せは、ガス
褪色からポリプロピレンファイバーを保護するためのヒ
ドロキシルアミンとの組合せである。

〔実施例・発明の効果〕 以下の実施例は説明のためのものであって、本発明の
範囲をなんら限定するものではない。

実施例１ ビス−（１−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−４−イル）トランス，トランス−ム
コネート ジメチルトランス−トランス−ムコネート170g、１−
シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン−４−オール5.62gおよびリチウムアミド0.025gの
トルエン100ml中の溶液をディーン−スタークトラップ
での還流下８時間加熱する。反応混合物を次に酢酸エチ
ルで希釈し、次に水、塩水で洗浄し、そして無水の硫酸
マグネシウムで乾燥させる。減圧下での濃縮、次にクロ
マトグラフィー分離を行うと、表題化合物が白色固体と
して得られる。

実施例２ カルボキシ末端ポリブタジエン（HYCAR2000x162）の１
−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−４−イルエステル 塩化オキサリル（2.10ml）をトルエン75ml中のHYCAR2
000x162（25.0g）の溶液に添加する。室温で一晩撹拌し
た後、反応混合物を減圧下で濃縮して、過剰の塩化オキ
サリルを除去する。残渣を乾燥トルエン50mL中に溶解
し、そして次にトルエン50ml中の１−シクロヘキシルオ
キシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−オール
3.06gおよびトリエチルアミン1.8mlで処理する。一晩撹
拌後、反応混合物を濾過し、そして減圧下での濃縮する
と、表題化合物が白色油状物として得られる。赤外線お
よびNMR分析は、完全な反応およびポリマー内への立体
障害性アミン部分の挿入を示す。

実施例３ １−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−
４−アクリロイルオキシピペリジン 塩化メチレン20ml中の塩化アクリロイル1.6mlの溶液
を１−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−４−オール5.11gおよびトリエチルアミン
3.10mlの塩化メチレン20ml中の撹拌された溶液に０℃で
添加する。室温で２時間撹拌した後、溶媒を減圧下で除
去する。次に残渣を液体クロマトグラフィーにより精製
し、表題化合物を融点49−52℃の白色固体として得る。

分析結果 C₁₈H₃₁NO₃に対する計算値： C 69.9;H 10.1;N 4.5 実験値： C 70.0;H 10.5;N 4.5 実施例４ １−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−
４−メタクリロイルオキシピペリジン 塩化メチレン中の１−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン−４−オール5.11g、塩化メ
タクリロイル2.0mlおよびトリエチルアミン3.10mlを用
いて実施例３の操作を繰り返す。上記の生成物が無色油
状物として単離される。

分析結果 C₁₉H₃₃NO₃に対する計算値： C 70.6;H 10.3;N 4.3 実験値： C 71.0;H 10.6;N 4.3 実施例５ １−メトキシ−2,2,6,6−テトラメチル−４−アクリロ
イルオキシピペリジン 塩化メチレン中の１−メトキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−４−オール3.51g、塩化アクリロイル
1.6mlおよびトリエチルアミン3.10mlを用いて実施例３
の操作を繰り返す。上記の生成物が無色液体として単離
される。

分析結果 C₁₃H₂₃NO₃に対する計算値： C 64.7;H 9.6;N 5.8 実験値： C 64.0;H 9.8;N 5.6 １−メトキシ−４−メタクリロイルオキシ−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジンは、塩化アクリロイルを当量
の塩化メタクリロイルに代えることにより製造される。

実施例６ １−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−
４−アクリルアミドピペリジン 塩化メチレン中の４−アミノ−１−シクロヘキシルオ
キシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン3.0g、塩化ア
クリロイル0.92mlおよびトリエチルアミン1.8mlを用い
て実施例３の操作を繰り返す。表題化合物が白色固体と
して単離される。

分析結果 C₁₈H₃₂N₂O₂に対する計算値： C 70.1;H 10.5;N 9.1 実験値： C 70.5;H 10.8;N 9.0 実施例７ N,N−ビス（１−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−４−イル）アクリルアミド 実施例６の操作において４−アミノ−１−シクロヘキ
シルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンの代わ
りに当量のN,N−ビス（１−シクロヘキシルオキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミンを
用いる時、表題化合物が得られる。

実施例８ １−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−４−ア
クリロイルオキシピペリジン １−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−４−オールの代わりに当量１−オクチルオ
キシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−オール
を用いて実施例３の操作を繰り返すと、表題化合物が無
色液体として得られる。

分析結果 C₂₀H₃₇NO₃に対する計算値： C 70.8;H 11.0;N 4.1 実験値： C 71.0;H 10.8;N 4.6 実施例９ ４−マレイミド−１−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン アセトン50ml中の４−アミノ−１−シクロヘキシルオ
キシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン5.29gの溶液
に、アセトン中の無水マレイン酸（1.96g）溶液を10分
かけて滴下して添加する。還流下で30分間加熱した後、
中間体マレアミン酸が得られる。マレアミン酸、酢酸ナ
トリウム（0.3g）および無水酢酸（6.4ml）の溶液を80
℃で２時間加熱する。次いで溶液を減圧下で濃縮し、そ
して液体クロマトグラフィーにより精製すると、表題化
合物が融点135−139℃の白色固体として得られる。

分析結果 C₁₉H₃₀N₂O₆に対する計算値： C 68.2;H 9.0;N 8.4 実験値： C 68.6;H 9.3;N 8.4 実施例10 １−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−
４−ビニルベンジルオキシピペリジン １−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−４−オールの溶液（N,N−ジメチルホルム
アミド中に5.11g）を、水素化ナトリウムの撹拌された
懸濁液（60％分散液0.88g）に滴下して添加する。反応
混合物を室温で１時間そして60℃で30分間撹拌した後、
DMF5ml中の塩化ビニルベンジル（3.05g）の溶液を添加
する。反応混合物を75℃で７時間加熱する。反応混合物
を次に減圧下で濃縮し、そして残渣を酢酸エチルと水と
の間に分配する。有機相を水で洗浄し、無水の硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、そして次に蒸発させると、黄色油状
物が得られる。調製液体クロマトグラフィーにより淡黄
色油状物として表題化合物が得られる。

分析結果 C₂₄H₃₇NO₂に対する計算値： C 77.6;H 10.0;N 3.8 実験値： C 77.4;H 10.2;N 3.7 実施例11 １−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−４−ア
クリロイルオキシピペリジン ｎ−オクタン150ml中の４−アクリロイルオキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン−１−オキシル10.0gの
溶液に、三酸化モリブデン0.6gを添加する。生成する懸
濁液をディーン−スタークトラックでの還流下で適当に
加熱する。第三ブチルヒドロパーオキシド（17.0g）の7
0％水溶液を、共沸物を除去して30分間滴下して添加す
る。８時間還流下で加熱した後、無色の反応混合物を室
温まで冷却し、そして懸濁した触媒を濾過により除去す
る。濾液を重硫酸ナトリウム水溶液と１時間撹拌する。
有機相を塩水で洗浄し、無水の硫酸マグネシウムで乾燥
し、そして蒸発させる。残渣に液体クロマトグラフィー
を行うと、無色液体として表題化合物が得られる。

分析結果 C₂₀H₃₇NO₃に対する計算値： C 70.8;H 11.0;N 4.1 実験値： C 70.6;H 11.1;N 4.1 実施例12 ４−アリルオキシ−１−オクチルオキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン 水素化ナトリウム（2,65g,110ミリモル）をテトラヒ
ドロフラン150ml中の４−ヒドロキシ−１−オクチルオ
キシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン30.0g（105ミ
リモル）の溶液に窒素下で添加する。反応混合物を還流
下で３時間加熱し、35℃まで冷却し、そして臭化アリル
12.7g（110ミリモル）と処理する。反応混合物を還流下
１時間加熱し、次いで酢酸エチル（150ml）と水（50m
l）との間に分配する。有機相を飽和塩化ナトリウム溶
液（100ml）で洗浄し、無水の硫酸マグネシウムで乾燥
し、そして減圧下で濃縮する。残渣をヘプタン（50ml）
中に溶解し、そしてシリカゲル充填物に通す（溶出液5:
1＝ヘプタン：酢酸エチル）。粗生成物をフラッシュク
ロマトグラフィーにより精製する（シリカゲル;9:1＝ヘ
プタン：酢酸エチル）と、無色油状物として表題化合物
23.9g（収率70％）が得られる。

分析結果 C₂₀H₃₉NO₂に対する計算値： C 73.8;H 12.1;N 4.3 実験値： C 74.0;H 12.7;N 4.7 実施例13 １−オクチルオキシ−４−メタクリロイルオキシ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン 塩化メチレン中の１−オクチルオキシ−４−ヒドロキ
シ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、塩化メタクリ
ロイルおよびトリエチルアミンを用いて実施例３の操作
を繰り返すと、無色油状物として表題化合物が得られ
る。NMR、IRおよびMSによる分析は所望の構造に一致す
るデータが得られる。

分析結果 C₂₁H₃₉NO₃に対する計算値： C 71.3;H 11.1;N 4.0 実験値： C 71.3;H 11.2;N 4.2 実施例14 ポリプロピレンの光安定化 本実施例は本発明の安定剤の光安定化作用を説明す
る。

ｎ−オクタデシル3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシヒドロシンナメート0.2重量％で安定化されたポリ
プロピレン粉末（Himont Profax 6501）を示された量の
添加剤と十分に混合する。混合された材料を次に２本ロ
ールミル上182℃で５分間粉砕し、その後安定化された
ポリプロピレンをミルから出してシートとし、そして冷
却する。粉砕されたポリプロピレンを次に小片に切断
し、そして液圧プレス上で5mil（0.127mm）に250℃およ
び175psi（1.2×10⁶Pa）で圧縮成形する。試料を蛍光太
陽光／ブラックライトチャンバーに破損するまで暴露す
る。破損は暴露されたフィルムの赤外線スペクトル法に
よるカルボニル吸収が0.5に達するまで要する時間とし
て表される。

実施例15 23.5％ブチルアクリレート、27％ブチルメタクリレー
ト、30％２−ヒドロキシエチルアクリレート、15％スチ
レン、３％アクリル酸および実施例11において製造され
たアクリレートモノマー1.5％（全ての％は重量％であ
る）および第三アミルパーオキシ−Ｏ−（２−エチルヘ
キシル）モノパーオキシカーボネート開始剤0.4％から
なるモノマー組成物を還流しているキシレン中で重合さ
せて分子量MW_n＝1300およびMW_w＝6000の安定化されたア
クリルポリオールポリマーを生成する。

実施例16 実施例15において製造した安定化アクリルポリオール
を、実施例11のアクリレートモノマー1.5重量％がブチ
ルアクリレートに置換された以外は実施例15と同じ操作
により製造された十分に安定化されていないアクリルポ
リオールと混合する。その結果、下記の最終的なアクリ
ルメラミン配合剤は全体の樹脂固体に基づいて立体障害
性アミンアクリレートを１％含有する。

アクリル−メラミン配合剤は、上記アクリルポリオー
ル混合物70部、メラミン樹脂（Cymel,American Cyanami
d）18部、スルホン酸触媒（DDBSA Cycat,70％ 600,Amer
ican Cyanamid）0.51部、流れ補助剤（FC 431 50％ ソ
リッド・フルオロカーボン,3M）0.6部およびメチルアミ
ルケトン8.8部からなる（全ての部は重量部である）。

熱硬化性アクリルエナメルは上記の配合剤を用いて製
造される。

銅板の小片9.16cm×30.48cmにポリエステル／エポキ
シプライマーを被覆し、次いでこれにシルバーメタリッ
クベースコート、最後に透明仕上げエナメルを被覆す
る。ベースコートは被覆された板に約0.023mmの厚さに
スプレーされ、そして３分間風乾させる。

透明仕上げエナメルは次に板上に約0.05mmの厚さにス
プレーされる。10分間の風乾後、被覆された板を121℃
で30分間焼き付ける。焼付け後の被覆のヌープ硬さを次
に決定する。

硬化の有効性はヌープ硬さの値から評価される。より
高い数値はより硬く、より良い硬化を意味する。Ｎ−ヒ
ドロカルビルオキシ基を有する本発明の化合物は、Ｎ−
アルキル置換基をもたない化合物のように硬化遅延を引
き起こさない。空調室での１週間の貯蔵後、これらの被
覆されたパネルを次に、FS−40バルブを用い、ASTM Ｇ
−53/77に従って、QUV暴露装置内で耐候試験を行う 実施例17 モノマー例えば２−ヒドロキシ−エチルアクリレー
ト、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、スチ
レンおよびアクリル酸並びに脂肪族イソシアネート架橋
性樹脂〔モベイ（Mobay）社からのDesmodur N−3390〕
をベースとする２成分アクリルウレタン再仕上げコーテ
ィング（上記成分の比率1.05/1.00）に立体障害性アミ
ン光安定剤１重量％配合する。

市販の鋼パネル10.16cm×30.48cm〔アドバンスト・コ
ーティングス・テクノロジー（Advanced Coatings Tech
nology）〕にまず市販のエポキシプライマーを下塗り
し、次に熱可塑性シルバーメタリックベースコートを約
0.023mmの厚さにスプレー被覆し、そして５分間風乾す
る。安定化されたアクリルウレタンクリアコートを次に
ベースコート上に厚さ0.049mmにスプレーする。空調室
での１ヶ月間貯蔵後、これらの被覆されたパネルを次
に、キセノンアークウエザロメータ内で耐候試験を行
う。光沢および画像の鮮明さは300時間間隔で測定され
る。

実施例18 シルバーメタリックアクリルアルキドエナメルを紫外
線吸収剤および立体障害性アミン誘導体の指示量（全て
全体の樹脂固体の重量に基づく）で安定化させ、そして
次にエポキシアミンプライマーを下塗りしたパネル上に
0.07mmの厚さにスプレー塗布する。被覆したパネルを室
温で１ヶ月間老化させた後、それらをキセノンアークウ
エザロメータ内に暴露して、60゜光沢を100時間間隔で
測定する。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０８Ｆ 16/36 Ｃ０８Ｆ 16/36 20/36 20/36 20/40 20/40 20/60 20/60 22/22 22/22 22/38 22/38 22/40 22/40 26/02 26/02 26/06 26/06 210/00 210/00 212/08 212/08 214/00 214/00 216/12 216/12 218/04 218/04 220/12 220/12 220/40 220/40 220/44 220/44 222/10 222/10 226/06 226/06 228/02 228/02 230/02 230/02 246/00 246/00 279/02 279/02 Ｃ０８Ｋ 5/3435 Ｃ０８Ｋ 5/3435 Ｃ０８Ｌ 23/02 Ｃ０８Ｌ 23/02 33/04 33/04 101/00 101/00 Ｃ０９Ｄ 133/06 Ｃ０９Ｄ 133/06 163/00 163/00 167/00 167/00 175/00 175/00 177/00 177/00 201/00 201/00 (72)発明者 アンドリュー マール アメリカ合衆国，コネチカット 06851, ノルウォーク，ビーコーン ストリート 97 (56)参考文献 特開 平２−300170（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−286658（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−300168（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−152610（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−233274（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−160959（ＪＰ，Ａ) Ｇａｏｆｅｎｚｉ Ｔｏｎｇｘｕｎ 1985（２）81−86 (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) C07D 211/94 C08F 20/00 - 20/60 C08F 22/00 - 22/40 C08F 16/12 - 16/32 C08F 220/00 - 220/60 C08F 222/00 - 222/40 C08F 216/12 - 216/32 C08F 120/00 - 120/60 C08F 122/00 - 122/40 C08F 116/12 - 116/32 C08L 101/00 C08L 33/00 - 33/26 C08L 23/02 - 23/24 C08K 5/3435 C09D 201/00 C09D 133/00 - 133/26 ＣＡ（ＳＴＮ)

Claims (14)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】１−Ｎ原子がヒドロカルビルオキシ基で置
   換された立体障害性アミン部分を有する、エチレン性不
   飽和重合性モノマーであって、前記アミン部分は次式E: （式中、 L₁およびL₂は独立して炭素原子数１ないし４のアルキル
   基を表すか、またはL₁およびL₂は一緒になってペンタメ
   チレン基を表し、そして R₁はヒドロカルビル基を表す。） で表され、そして前記モノマーは次式Ｉ−IX: 〔式中、 R₁は炭素原子数１ないし36のアルキル基、炭素原子数２
   ないし18のアルケニル基、炭素原子数２ないし18のアル
   キニル基、炭素原子数７ないし15のアルアルキル基、炭
   素原子数５ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数５
   ないし12のシクロアルケニル基、炭素原子数７ないし12
   の飽和もしくは不飽和二環式もしくは三環式炭化水素の
   基、または炭素原子数６ないし10のアリール基もしくは
   アルキル基により置換された前記アリール基を表し、 Ｘは直接結合、炭素原子数２ないし12の−Ｏ（ポリオキ
   シアルキレン−Ｏ）−基、−Ｏ−基、−NH−基、または
   次式：−NG− （式中、Ｇは炭素原子数１ないし８のアルキル基を表
   す。）で表される基を表し、 X₁は直接結合または−Ｏ−基を表し、 ｎは１または２を表し、 T₁、T₂およびT₄は独立して水素原子、ハロゲン原子、炭
   素原子数１ないし18のアルキル基または炭素原子数６な
   いし10のアリール基を表し、 T₃は水素原子またはメチル基を表し、そして R₂、R₃およびR₄は独立して水素原子または炭素原子数１
   ないし12のアルキル基を表すか、またはR₂は式IIIにお
   いてはシアノ基も表す。〕 で表される化合物群から選択される、前記エチレン性不
   飽和重合性モノマー。
2. 【請求項２】上記式中、L₁およびL₂が各々メチル基を表
   す請求項１記載のモノマー。
3. 【請求項３】上記式中、R₁が炭素原子数１ないし18のア
   ルキル基、炭素原子数２もしくは３のアルケニル基、プ
   ロパルギル基、ベンジル基またはシクロヘキシル基を表
   す請求項１記載のモノマー。
4. 【請求項４】上記式中、Ｇが炭素原子数１ないし４のア
   ルキル基を表す請求項１記載のモノマー。
5. 【請求項５】上記式中、T₁およびT₂が各々水素原子を表
   す請求項１記載のモノマー。
6. 【請求項６】上記式中、T₃が水素原子を表す請求項１記
   載のモノマー。
7. 【請求項７】上記式中、R₂、T₃およびR₄が各々水素原子
   を表す請求項１記載のモノマー。
8. 【請求項８】上記式中、R₂がメチル基を表し、そしてR₃
   およびR₄が両方水素原子を表す請求項１記載のモノマ
   ー。
9. 【請求項９】（ａ）請求項１記載の化合物少なくとも１
   種を全体のポリマーまたはコポリマーに基づいて１ない
   し100重量％、および （ｂ）式Ｅで表される基を有せず、かつアクリル酸およ
   びメタクリル酸のエステルおよびアミド、イタコネー
   ト、シトラコネート、スチレン、ビニルピリジン、ジビ
   ニルベンゼン、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
   ル、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾ
   ール、マレイミド、ビニルスルホネート、ビニルホスホ
   ネート、アルファオレフィン、イソプレン、ブタジエ
   ン、ビニルエステル、ビニルエーテルおよびハロゲン化
   されたオレフィンからなる群から選択される、少なくと
   も１種のエチレン性不飽和重合性モノマーを全体のポリ
   マーまたはコポリマーに基づいて99ないし０重量％、 の重合生成物からなるポリマーまたはコポリマー。
10. 【請求項１０】モノマー（ｂ）がアクリル酸およびメタ
    クリル酸のエステルおよびアミド、スチレン、ブタジエ
    ン、アクリロニトリル、ビニルエステル、ビニルエーテ
    ルまたはハロゲン化されたオレフィンの少なくとも１種
    である請求項９記載のポリマーまたはコポリマー。
11. 【請求項１１】（Ａ）化学線の劣化作用に曝されている
    有機ポリマー、および （B₁）安定化量の請求項１記載のエチレン性不飽和重合
    性化合物、または （B₂） （ａ）請求項１記載の化合物少なくとも１種を全体のポ
    リマーまたはコポリマーに基づいて１ないし100重量
    ％、および （ｂ）式Ｅで表される基を有せず、かつアクリル酸およ
    びメタクリル酸のエステルおよびアミド、イタコネー
    ト、シトラコネート、スチレン、ビニルピリジン、ジビ
    ニルベンゼン、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
    ル、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾ
    ール、マレイミド、ビニリスルホネート、ビニルホスホ
    ネート、アルファオレフィン、イソプレン、ブタジエ
    ン、ビニルエステル、ビニルエーテルおよびハロゲン化
    されたオレフィンからなる群から選択される、少なくと
    も１種のエチレン性不飽和重合性モノマーを全体のポリ
    マーまたはコポリマーに基づいで99ないし０重量％、 の遊離ラジカル重合生成物からなる安定化量のポリマー
    またはコポリマー、 を含む安定化された組成物。
12. 【請求項１２】成分（Ａ）がポリオレフィン、好ましく
    はポリプロピレンである請求項11記載の組成物。
13. 【請求項１３】有機材料が、アルキド、アクリル、アク
    リルアルキド、ポリエステル、エポキシド、ウレタン、
    ポリアミド、ビニルまたはエポキシ−ポリエステル樹脂
    に基づいたコーティング系である請求項11記載の組成
    物。
14. 【請求項１４】紫外線吸収剤またはその他の光安定剤を
    含有する請求項13記載の組成物。