JPH02281009A - １―ヒドロカルビルオキシ―２，２，６，６―テトラメチルピペリジン部分を有するエチレン性不飽和化合物、ポリマー、コポリマーおよび安定化組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、１−ヒドロカルビルオキシ−２゜２．６．６
−チトラメチルピペリジン部分を有するエチレン性不飽
和化合物、それから製造されたポリマーおよびコポリマ
ー、および安定化量の前記化合物を含有することにより
化学線の劣化作用に対して安定化されたポリマー組成物
に関する。

〔従来の技術〕

立体障害性アミン部分を有する単量体の共重合性光安定
剤は、以下の代表的な特許のリストおよび刊行物が証明
するように、当該分野では公知である：米国特許第４２
９４９４９号、同第４２１０６１２号および同第４７４
３６５７号並びにＦ、　Ｉ［ａｒｒｅｒ、　Ｍａｋｒｏ
ｓｏｌ、　Ｃｈｅｗ、１５９５（１９８０）ｉ　　Ｋ、
　　Ｉｔ、　　Ｌｅｅ　　等、　　Ｊ、　　Ｐｏｌｙｍ
、　　５ｃｉｅｎｃｅ。

ＰｏＩｙ　Ｃｈｅ−、ｌ！ｄ、ＩＪＩ、　３２９５（１
９７２）およびＴ、　Ｋｕｖｏｓａｋ１等ｔ　Ｊ、　Ｐ
ｏｌｙｍ、　５ｃｉｅｎｃｅ＋Ｐｏ１ｙ　Ｃｈｅｗ、　
ｌ１ｌｄ＋ｌｉ＋１４０７　（１９７４）。

（発明が解決しようとする課題） 上記の引用文献は、１−Ｎ原子がヒドロカルビルオキシ
基により置換された本発明の化合物を開示も示唆もなん
らしていない。

１−Ｎ［子がヒドロカルビルオキシ基により置換された
非重合性立体障害性アミンはＥＰ−Ａ−３０９４０２に
記載されている。しかしながら、これに記載された化合
物はホモポリマー化またはコポリマー化され得す、従っ
てこれらは、本発明のエチレン性不飽和材料に適用可能
な有用性の重要な要素を有するものではない。

本発明の一つの目的は、１−Ｎ原子がヒドロカルビルオ
キシ基により置換された立体障害性アミン部分を有する
エチレン性不飽和重合性モノマーを提供することである
。

本発明のもう一つの目的は、最終使用条件下で移行およ
び揮発による損失に対する抵抗性が高められた前記モノ
マーのホモポリマーを提供することである。

本発明のさらに別の目的は、前記モノマーと立体障害性
アミン部分を持たない広範囲のその他のエチレン性不飽
和モノマーとのコポリマーを記載することである。

本発明のその他の別の目的は、安定化量の前記モノマー
または該モノマーから製造されたポリマーの存在により
化学線の劣化作用に対して安定化されるポリマー組成物
を提供することである。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、 １−Ｎ原子がヒドロカルビルオキシ基で置換された立体
障害性アミン部分を有する、エチレン性不飽和重合性モ
ノマーであって、前記アミン部分は次式Ｅ： Ｒ１ （式中、 Ｌｌおよびり、は独立して炭素原子数１ないし４のアル
キル基を表すか、またはＬｌおよびＲ２は一緒になって
ペンタメチレン基を表し、そして Ｒ，はヒドロカルビル基を表ス２） で表され、そして前記モノマーは次式ｔ−■：Ｅ−Ｘ−
ＣＯ−（ＣＭ−ＣＨ）、−Ｃｏ−Ｘ−Ｅ　（１）ｔＲｓ Ｅ　　Ｘ　　ＣＨｔＣＨ＝ＣＨＣＨｔ　　Ｘ　　Ｅ　（
■）Ｅ−ｘ、−ｃ’ｒ、＝ｃ’ｒ、’ｒ４ （ＩＸ） 〔式中、 Ｒ１は炭素原子数１ないし３６のアルキル基、炭素原子
数２ないし１８のアルケニル基、炭素原子数２ないし１
８のアルキニル基、炭素原子数７ないし１５のアルアル
キル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、
炭素原子数５ないし工２のシクロアルケニル基、炭素原
子数７ないし１２の飽和もしくは不飽和二環式もしくは
三環式炭化水素の基、または炭素原子数６ないし１０の
アリール基もしくはアルキル基により置換された前記ア
リール基を表し、Ｘは直接結合、炭素原子数２ないし１
２の−Ｏ（ポリオキシアルキレン−０）−基、−〇−基
、−ＮＨ−基、または次式：　−ＮＧ−（式中、Ｇは炭
素原子数１ないし８のアルキル基を表す２）で表される
基を表し、 Ｘｌは直接結合または一〇−基を表し、ｎは１または２
を表し、 Ｔ、　、ＴｔおよびＴ４は独立して水素原子、ハロゲン
原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基または炭素
原子数６ないし１０のアリール基を表し、 Ｔ、は水素原子またはメチル基を表し、そして Ｒ，、Ｒ２およびＲ４は独立して水素原子または炭素原
子数１ないし１２のアルキル基を表すか、またはＲｔは
弐ｍにおいてはシアノ基も表す、〕 で表される化合物群から選択される、前記エチレン性不
飽和重合性モノマーに関する。

好ましくは、Ｌ、およびＬ！は各々メチル基を表す。

好ましくは、Ｒ３は炭素原子数１ないし１８のアルキル
基、炭素原子数２もしくは３のアルケニル基、プロパル
ギル基、ベンジル基またはシクロヘキシル基を表す。

Ｇは好ましくは炭素原子数１ないし４のアルキル基を表
す。

好ましくは、Ｔ、およびＴオは両方水素原子を表す。

好ましくは、Ｔ、は水素原子を表す。

好ましくは、Ｒｚ、ＲｓおよびＲ４は各々水素原子を表
すか、またはＲ３およびＲ４は水素原子を表し、そして
Ｒｔはメチル基を表す。

Ｒ３がアルキル基を表すとき、Ｒ，は例えばメチル基、
エチル基、ブチル基、アミル基、オクチル基、ノニル基
、ドデシル基、テトラデシル基、オクタデシル基、エイ
コシル基、トリコシル基またはトリコンチル基である。

Ｒ５がアルケニル基を表すとき、Ｒ，は例えばビニル基
、アリル基、オクテニル基またはオレイル基である。

Ｒ５がアルキニル基を表すとき、Ｒ，は例えばプロパル
ギル基である。

Ｒｔがシクロアルキル 例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオ
クチル基またはシクロドデシル基である。

上記式■ないし■で表されるモノマーの各々は、それら
の１種より多いモノマーが一緒にコポリマー化されたと
き、遊離ラジカル開始、光開始、基移動重合、グラフト
重合またはカチオンもしくはアニオン重合を用いて該モ
ノマーをホモポリマーまたはコポリマーのいずれかとす
ることが可能であるエチレン性不飽和基を含有する。

さらに、上記式！ないし■で表されるモノマーの各々は
、弐Ｅで表される基を持たない別のビニルモノマーとコ
ポリマー化され、ユニットを安定化するポリマー骨格の
一体部分としてその骨格に結合した式Ｅで表されるペン
ダント基を有するコポリマーを得ることもできる。

前記ポリマーまたはコポリマーは （ａ）　１−　Ｎ原子がヒドロカルビルオキシ基で置換
された立体障害性アミン部分を有する、エチレン性不飽
和重合性モノマーであって、前記アミン部分は次式Ｅ： ０Ｒ。

（式中、 ＬｌおよびＬ２は独立して炭素原子数１ないし４のアル
キル基を表すか、またはり、およびＬｘは一緒になって
ペンタメチレン基を表し、そして Ｒ，はヒドロカルビル基を表す２） で表され、そして前記モノマーは次式ｒ−ｉｘ：Ｅ−Ｘ
−Ｃｏ−（ＣＨ−ＣＨ）、−Ｃｏ−Ｘ−Ｅ　（１）Ｅ−
Ｘ−Ｃｏ−ＣＨ，−Ｃ−Ｃｏ−Ｘ−Ｅ　（ＩＩ）ＣＨ。

ｔＲｓ Ｔコ Ｅ−Ｘ−ＣＨｌＣＨ−ＣＨＣＨｔ−Ｘ−Ｅ　（■）Ｒ意
　Ｒ３ Ｅ−Ｘ、−ＣＴ、−ＣＴヨＴ、　　　　　　　　（ＩＸ
）〔式中、 Ｒ１，は炭素原子数１ないし３６のアルキル基、炭素原
子数２ないし１８のアルケニル基、炭素原子数２ないし
１８のアルキニル基、炭素原子数７ないし１５のアルア
ルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基
、炭素原子数５ないし１２のシクロアルケニル基、炭素
原子数７ないし１２の飽和もしくは不飽和二環式もしく
は三環式炭化水素の基、または炭素原子数６ないしｌＯ
のアリール基もしくはアルキル基により置換された前記
アリール基を表し、Ｘは直接結合、炭素原子数２ないし
１２の０（ポリオキシアルキレン−０）−基、−〇−基
、−ＮＨ−基、または次式ニーＮＧ−（式中、Ｇは炭素
原子数１ないし８のアルキル基を表す２）で表される基
を表し、 Ｘｌは直接結合または一〇−基を表し、ｎは１または２
を表し、 Ｔ　Ｉ、　Ｔ　ｔおよびＴ４は独立して水素原子、ハロ
ゲン原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基または
炭素原子数６ないしｌＯのアリール基を表し、 Ｔ、は水素原子またはメチル基を表し、そして Ｒｚ、ＲｉおよびＲ４は独立して水素原子または炭素原
子数１ないし１２のアルキル基を表すか、またはＲ８は
式■においてはシアノ基も表す、〕 で表される化合物群から選択される、前記エチレン性不
飽和重合性モノマー少なくとも１種を全体のポリマーま
たはコポリマーに基づいて１ないし１００重量％、およ
び Φ）弐Ｅで表される基を有せず、かつアクリル酸および
メタクリル酸のエステルおよびアミド、イタコネート、
シトラコネート、スチレン、ビニルピリジン、ジビニル
ベンゼン、アクリロニトリル、メタシクロニトリル、Ｎ
−ビニル−２＝ピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、
マレイミド、ビニルスルホネート、ビニルホスホネ−ト
、アルファオレフィン、イソプレン、ブタジエン、ビニ
ルエステル、ビニルエーテルおよびハロゲン化されたオ
レフィンからなる群から選択される、少なくとも１種の
エチレン性不飽和重合性モノマーを全体のポリマーまた
はコポリマーに基づいて９９ないし０重量％、の重合生
成物からなる。

成分（ａ）を少量でも有する前記コポリマーは、移行し
得ず、揮発により失われ得す、そして化学線の劣化作用
からコポリマーを保護するための重要な部位が脱離され
得ない高度の光安定化ユニットを構築するであろう。

本発明のさらに別の面は、 （Ａ）化学線の劣化作用に曝されている有機ポリマー、
および （Ｂ２）１−Ｎ原子がヒドロカルビルオキシ基で置換さ
れた立体障害性アミン部分を有する、エチレン性不飽和
重合性モノマーであって、前記アミン部分は次式Ｅ； ＯＲ。

（式中、 Ｌ＋およびＬオは独立して炭素原子数１ないし４のアル
キル基を表すか、またはＬ＋およびＬ８は一緒になって
ペンタメチレン基を表し、そして Ｒｔ　はヒドロカルビル基を表す２） で表され、そして前記モノマーは次式Ｉ−ＩＸ：Ｅ−Ｘ
−Ｃｏ−（ＣＭ−ＣＨ）、−Ｃｏ−Ｘ−Ｅ　（１）Ｈｔ Ｔ。

Ｅ　　Ｘ　　ＣＨｚＣＨ−ＣＨＣＨｔ　　Ｘ　　Ｅ　（
■）Ｅ　　Ｘｌ−ＣＴ＋−ＣＴ２Ｔａ　　　　　　　　
（ＩＸ）〔式中、 Ｒ８は炭素原子数１ないし３６のアルキル基、炭素原子
数２ないし１８のアルケニル基、炭！原子数２ないし１
８のアルキニル基、炭素原子数７ないし１５のアルアル
キル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、
炭素原子数５ないし１２のシクロアルケニル基、炭素原
子数７ないし１２の飽和もしくは不飽和二環式もしくは
三環式炭化水素の基、または炭素原子数６ないし１０の
アリール基もしくはアルキル基により置換された前記ア
リール基を表し、Ｘは直接結合、炭素原子数２ないし１
２の一〇（ポリオキシアルキレン−０）−基、−ｏ−１
、−ＮＨ−基、または次式：　−ＮＧ−（式中、Ｇは炭
素原子数１ないし８のアルキル基を表す２）で表される
基を表し、 Ｘ、は直接結合または一〇−基を表し、ｎは１または２
を表し、 Ｔ　ｔ　、　Ｔ　ｔおよびＴ４は独立して水素原子、ハ
ロゲン原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基また
は炭素原子数６ないし１０のアリール基を表し、 Ｔ、は水素原子またはメチル基を表し、そして Ｒ１、Ｒ，およびＲ４は独立して水素原子または炭素原
子数１ないし１２のアルキル基を表すか、またはＲ３は
式■においてはシアノ基も表す、〕 で表される化合物群から選択される、前記エチレン性不
飽和重合性モノマーの安定化量、または、 （Ｂ２） （ａ）　１−　Ｎ原子がヒドロカルビルオキシ基で置換
された立体障害性アミン部分を有する、エチレン性不飽
和重合性モノマーであって、前記アミン部分は次式Ｅ： Ｅ　　　Ｘ　　　Ｃｏ　　　ＣＨｚ　　　ＣＣｏ　　　
Ｘ　　　Ｅ（１１）ＣＨ。

Ｒ，Ｒ２ ０Ｒ。

（式中、 ＬｌおよびＬ２は独立して炭素原子数１ないし４のアル
キル基を表すか、またはＬｌおよびＬｔは一緒になって
ペンタメチレン基を表し、そして Ｒ５はヒドロカルビル基を表す２） で表され、そして前記モノマーは次式１−ＩＸ：Ｅ−Ｘ
−Ｃｏ−（ＣＨ−ＣＩ−１）、−Ｃｏ−Ｘ−Ｅ　（１）
Ｅ−Ｘ−ＣＨ，ＣＨ＝ＣＨＣＨ，−Ｘ−Ｅ　　（■）ｔ
Ｒｓ Ｅ−Ｘ、−ＣＴ、＝ＣＴ！Ｔ、　　　　　　　　（ＩＸ
）〔式中、 Ｒ７は炭素原子数１ないし３６のアルキル基、炭素原子
数２ないし１８のアルケニル基、炭素原子数２ないし１
８のアルキニル基、炭素原子数７なりし１５のアルアル
キル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、
炭素原子数５ないし１２のシクロアルケニル基、炭素原
子数７ないし１２の飽和もしくは不飽和二環式もしくは
三環式炭化水素の基、または炭素原子数６ないし１０の
アリール基もしくはアルキル基により置換された前記ア
リール基を表し、Ｘは直接結合、炭素原子数２ないし１
２の一〇（ポリオキシアルキレン−０）−基、〇−基、
−ＮＨ−基、または次式：　−ＮＧ（式中、Ｇは炭素原
子数１ないし８のアルキル基を表す２）で表される基を
表し、 Ｘｌは直接結合または一〇−基を表し、ｎは１または２
を表し、 Ｔ、　、Ｔ、およびＴ４は独立して水素原子、ハロゲン
原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基または炭素
原子数６ないし１０のアリール基を表し、 Ｔ、は水素原子またはメチル基を表し、そして Ｒ，、Ｒ３およびＲ１は独立して水素原子または炭素原
子数１ないし１２のアルキル基を表すか、またはＲ２は
式■においてはシアノ基も表す、〕 で表される化合物群から選択される、前記エチレン性不
飽和重合性モノマー少なくとも１種を全体のポリマーま
たはコポリマーに基づいて１ないし１００重量％、およ
び （ト））弐Ｅで表される基を有せず、かつアクリル酸お
よびメタクリル酸のエステルおよびアミド、イタコネー
ト、シトラコネート、スチレン、ビニルピリジン、ジビ
ニルベンゼン、アクリロニトリル、メタシクロニトリル
、Ｎ−ビニル−２＝ピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾー
ル、マレイミド、ビニルスルホネート、ビニルホスホネ
ート、アルファオレフィン、イソプレン、ブタジエン、
ビニルエステル、ビニルエーテルおよびハロゲン化され
たオレフィンからなる群から選択される、少なくとも１
種のエチレン性不飽和重合性モノマーを全体のポリマー
またはコポリマーに基づいて９９ないし０重量％、の遊
離ラジカル重合生成物からなるポリマーまコポリマーの
安定化量、 からなる安定化された組成物である。

エチレン性不飽和コモノマーはまた、紫外線吸収性部分
、例えばヒドロキシフェニル置換されたベンゾトリアゾ
ールまたはＳ−トリアジン、ヒドロキシ置換されたベン
ゾフェノン、オキサニリドまたはアルファシアノシンナ
メートを有してもよい。そのようなエチレン性不飽和紫
外線吸収剤の例は、参照により本明細書に編入される多
くの米国特許に記載されている。

アクリル化されたベンゾトリアゾールは、米国特許第４
４１３０９５号、同第４７１６２３４号、同第４７８５
０６３号および同第４８０３２５４号に記載されている
。アクリルオキシアルキルベンゾトリアゾールは米国特
許第４２６０７６８号に記載されている。ビニル置換さ
れたベンゾトリアゾールは米国特許第４５０８８８２号
に記載されている。エチレン性不飽和ベンゾトリアゾー
ルは米国特許第３４９３５３９号に記載されている。ア
クリル化されたベンゾフェノンは米国特許第４３１０６
５０号に記載されている。

本発明のモノマーを製造するために使用され得る多くの
合成方法がある。

これらは以下の方法を包含する： （ａ）４−ヒドロキシ−２，２，６，６−チトラメチル
ピペリジンと不飽和酸例えばアクリル酸、フマル酸、ム
コン酸等の低級アルキルエステルを用いるエステル交換 （ｂ）４−ヒドロキシ−２，２，６，６−チトラメチル
ビペリジンと酸クロライド例えばアクリロイルまたはメ
タクリロイルクロライドを用いるエステル化 （Ｃ）４−アミノ−２，２，６，６−チトラメチルピペ
リジンと酸クロライド例えばアクリロイルまたはメタク
リロイルクロライドを用いるア迫ド化 （ｄ）４−アミノ−２，２，６，６−チトラメチルピペ
リジンと環式無水物例えば無水マレイン酸を用いるイミ
ド化、それに続く中間体マレアミン酸の環化 （ｅ）　　不飽和ベンジルまたはアリルハライドと４−
ヒドロキシ−２，２，６，６−チトラメチルピペリジン
のアルカリ金属アルコレートとのハライド置換 （ｆ）　　前もって生成した４−アシロイルオキシ２．
２．６．６−チトラメチルピペリジンの第三ブチルヒド
ロパーオキシドまたは過酸化水素との二酸化モリブデン
触媒および炭化水素溶媒の存在下での接触酸化。

本発明の化合物を製造するために必要とされる中間体は
、はとんどが市販品であるか、または当該分野で公知の
慣用の方法により製造され得る。

本発明の代表的な七ツマー化合物には以下のものが包含
される： ＯＲ。

メチル メチル オクチル メチル メチル シクロへキシル シクロへキシル オクタデシル ベンジル オクチル オクチル オクチル オクチル （＊＝−Ｎ （ｎ−ブチル） ＊ 一〇− ＮＨ− ＮＨ ＊ ＮＨ 一〇− 一〇− ＮＨ− ＊ Ｉ メ チル層 チル層 チル層 チル層 チ ルメチ ルメチ ル− メチル メチル シクロヘキシル オクチル オクチル オクチル アリル アリル オクタデシル オクタデシル メチル メチル メチル メチル メチル ＮＨ−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯＨ ＯＲ。

シクロへキシル オクチル オクタデシル オクチル ア゛リル Ｈシクロヘキシル Ｈメチル メチル　オクチル メチル　オクチル Ｈオクチル Ｈオクチル Ｈアリル Ｈオクタデシル Ｈシクロヘキシル Ｈシクロヘキシル Ｈメチル Ｈメチル Ｈオクチル Ｈオクチル Ｈアリル Ｈオクタデシル （＊＝−Ｎ（ｎ−ブチル） 〕 一〇 〇− 〇 ＮＨ ＊ ＮＨ ＊ 　Ｈ ＊ ＊ ＊ 本発明は２．２，６．６−テトラアルキルピペリジン構
造を強調しているけれども、本発明は以下のテトラアル
キル置換されたピペラジンまたはピペラジノン部分が上
記テトラアルキルピペリジン部分の代わりに使用されて
いる化合物にも関する： 重合方法により、上記のモノマーから製造され得る。

本発明の化合物が特に有用である基材は、ポリオレフィ
ン例えばポリエチレンおよびポリプロピレン、ポリスチ
レン特に耐衝撃性ポリスチレン、ＡＢＳ樹脂、エラスト
マー例えばブタジエンゴム、ＥＰＭＳＥＰＤＭ、ＳＢＲ
およびニトリルゴムである。

式中、ＭおよびＹは独立してメチレン基またはカルボニ
ル基を表し、好ましくはＭはメチレン基を表し、そして
Ｙはカルボニル基を表す。

そのような化合物に適用可能な同定された置換基は環窒
素原子上での置換に適当であるものであることが理解さ
れる。

本発明のポリマーおよびコポリマーは、Ｈｏｕｂｅｎ−
Ｗｅｙｌ、　Ｍｅｔｈｏｄｅｎ　ｄ、　Ｏｒｇ、　Ｃｈ
ｅ＋ｗｉｅ　　１Ａｌｉ。

１０１０−７３　（１９６２）　　に−船釣に開示され
、そして米国特許第４２１０６１２号に不飽和ピペリジ
ン誘導体について開示されているような通常の安定化さ
れ得るポリマーは一般に以下のものを包含する： １、　モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、
例えば（所望により架橋結合できる）ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−１５ポ
リメチルペンテン−１、ポリイソプレンまたはポリブタ
ジエン、並びにシクロオレフィン例えばシクロペンテン
またはノルボルネンのポリマー ２．１．に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロ
ピレンとポリイソブチレンとの混合物。

３、　モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビ
ニルモノマーとのコポリマー、例エバエチレン／プロピ
レン、プロピレン／ブテン−１、プロピレン／イソブチ
レン、エチレン／ブテン−１、プロピレン／ブタジエン
、イソブチレン／イソプレン、エチレン／アルキルアク
リレート、エチレン／アルキルメタクリレート、エチレ
ン／ビニルアセテートまたはエチレン／アクリル酸コポ
リマーおよびそれらの塩１１（アイオノマー）、および
エチレンとプロピレンとジエン例えばヘキサジエン、ジ
シクロペンタジェンまたはエチリデン−ノルボルネンと
のターポリマー ４、　ポリスチレン、ポリ＝（ｐ−メチルスチレン）。

５、　スチレンまたはメチルスチレンとジエンまたはア
クリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／ブタジ
エン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／メチル
メタクリレート、スチレン／ブタジエン／エチルアクリ
レート、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレ
ート；スチレンコポリマーと別のポリマー、例えばポリ
アクリレート、ジエンポリマーまたはエチレン／プロピ
レン／ジェンターポリマーからの高耐衝撃性混合物；お
よびスチレンのブロックポリマー例えばスチレン／ブタ
ジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、
スチレン／エチレン／ブチレン／スチレンまたはスチレ
ン／エチレン／プロピレン／スチレン。

６、　スチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブタ
ジエンにスチレン、ポリブタジエンにスチレンおよびア
クリロニトリル、ポリブタジエンにスチレンおよびアル
キルアクリレートまたはメタアクリレート、エチレン／
プロピレン／ジェンターポリマーにスチレンおよびアク
リロニトリル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレ
ートにスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート
／ブタジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニト
リル、並びにこれらと５゜に列挙したコポリマーとの混
合物、例えばＡＢＳ−１ＭＢＳ−１ＡＳＡ−またはＡＥ
Ｓ−ポリマーとして知られているコポリマー混合物。

７、　ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン
、塩素化ゴム、塩素化またはクロロスルホンポリエチレ
ン、エビクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、ハロ
ゲン含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリ
フッ化ビニリデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩
化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニル、
塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマーまたはフン化ビ
ニル／ビニルエーテルコポリマー ８、　α、β−不飽和酸およびその誘導体から誘導され
たポリマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタア
クリレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニ
トリル。

９、　前項８．に挙げたモノマー相互のまたは他の不飽
和上ツマ−とのコポリマー、例えばアクリロニトリル／
ブタジエン、アクリロニトリル／アルキルアクリレート
、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレート
またはアクリロニトリル／ハロゲン化ビニルコポリマー
またはアクリロニトリル／アルキルメタアクリレート／
ブタジエンターポリマー １０、不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのア
シル誘導体またはそれらのアセタールから誘導されたポ
リマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル
、ポリビニルステアレ−ト、ポリビニルブチラ−ル、ポ
リビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリ
ルフタレートまたはポリアリルメラミン。

１１、環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、
例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−グリ
シジルエーテルとのコポリマー １２、ポリアセクール、例えばポリオキシメチレンおよ
びエチレンオキシドをコモノマーとして含むポリオキシ
メチレン。

１３、ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド並びに
ポリフェニレンオキシドとポリスチレンとの混合物。

１４、一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリニ
ーチル、ポリエステルまたはポリブタジエンと他方の成
分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとから
誘導されたポリウレタン並びにその前駆体（ポリイソシ
アネート、ポリオールまたはプレポリマー）。

１５、ジアミンおよびジカルボン酸および／またはアミ
ノカルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポ
リアミドおよびコポリアミド。

例えばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６
、ポリアミド６／Ｉ　Ｏ，ポリアミドｌｌ、ポリアミド
１２、ポリ−２，４，４−トリメチルへキサメチレンテ
レフタルアミドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタル
アミド、並びにこれらとポリエーテル、例えばポリエチ
レングリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリ
テトラメチレングリコールとのコポリマー１６、ポリ尿
素、ポリイミドおよびポリアミドイミド。

１７、ジカルボン酸およびジオールおよび／またはヒド
ロキシカルボン酸または相当するラクトンから誘導され
たポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、
ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチロ
ール−シクロヘキサンテレフタレートおよびポリヒドロ
キシベンゾエート並びにヒドロキシ末端基を含有するポ
リエーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエス
テル。

１Ｂ、ポリカーボネート。

１９、ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリ
エーテルケトン。

２０、一方の成分としてアルデヒドおよび他方の成分と
してフェノール、尿素およびメラミンから誘導された架
橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂
、尿素／ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン／ホルム
アルデヒド樹脂。

２１、乾性および不乾性アルキド樹脂。

２２、飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコール
および架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステル
から誘導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性の
低いそれらのハロゲン含有変性物。

２３、置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリ
レート、ウレタン−アクリレートまたはシリコーン−ア
クリレートから誘導された熱硬化性アクリル樹脂。

２４、架橋剤としてメラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソ
シアネートまたはエポキシ樹脂と混合されたアルキド樹
脂、ポリエステル樹脂またはアクリレート樹脂。

２５、ポリエポキシド、例えばビス−グリシジルエーテ
ル、または脂環式ジエポキシドから誘導された架橋エポ
キシ樹脂。

２６、天然ポリマー、例えばセルロース、ゴム、ゼラチ
ンおよびこれらの化学的に変性させた重合同族体誘導体
、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースおよ
び酪酸セルロースまたはセルロースエーテル例えばメチ
ルセルロース。

２７、前記したポリマーの混合物、例えばＰＰ／ＥＰＤ
Ｍ、ポリアミド６／ＥＰＤＭまたはＡＢＳ、ＰＶＣ／Ｅ
ＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ
、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ。

２８、純単量体化合物またはその化合物の混合物である
天然および合成有機材料、例えば鉱油、動物および植物
脂肪、オイルおよびワックスまたは合成エステル（例え
ばフタレート、アジペート、ホスフェートまたはトリメ
リテート）をベースとした上記オイル、脂肪およびワッ
クス、並びに適当な重量比で混合された合成エステルと
鉱油との混合物で、その材料はポリマーのための可塑剤
として、繊維紡績油として、並びにこのような材料の水
性エマルジョンとして使用され得る。

２９、天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例えば
カルボキシル化スチレン／ブタジエンコポリマーの天然
ラテックス。

３０、ポリシロキサン、例えば米国特許第４２５９４７
６号に記載された軟質親水性ポリシロキサン、および例
えば米国特許第４３５５１４７号に記載された硬質ポリ
オルガノシロキサン。

３１、不飽和アクリルポリアセトアセテート樹脂または
不飽和アクリル樹脂と組み合わせたポリケチミン、不飽
和アクリル樹脂はペンダント不飽和基を有するウレタン
アクリレート、ポリエーテルアクリレート、ビニルまた
はアクリルコポリマーおよびアクリル化メラミンを包含
する。

ポリケチミンは酸触媒の存在下でポリアミンとケトンと
から製造される。

３２、エチレン性不飽和モノマーまたはオリゴマーおよ
び多不飽和脂肪族オリゴマーを含有する放射線硬化性組
成物。

３３、エポキシメラミン樹脂、例えばエポキシ官能性共
エーテル化ハイソリッドメラミン樹脂、例えばＬＳＥ４
１０３（モンサンド社製）により架橋された光安定性エ
ポキシ樹脂。

一般に、本発明の化合物は安定化される組成物の約０．
０１ないし約５重量％使用されるが、しかしこれは特定
の基材および施用で変化するであろう、有利な範囲は約
０．５ないし約２％、そして特に０．１ないし約１％で
ある。

本発明の安定剤は、有機ポリマー中に、当該分野で慣用
の方法により成形の前のあらゆる段階で容易に混入され
得る１例えば該安定剤は乾燥粉末の形態でポリマーと混
合されてもよく、また安定剤の懸濁液またはエマルジョ
ンは、ポリマーの溶液、懸濁液またはエマルジョンと混
合されてもよい０本発明の生成した安定化ポリマー組成
物は、以下に示すような種々の慣用の添加剤を所望によ
り添加することもできる。

２．６−ジー第三ブチル−４−メチルフェノール、２−
第三ブチル−４，６−シメチルフエノール、２．６−ジ
ー第三ブチル−４−エチルフェノール、２．６−ジー第
三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、 ２．６−ジー第三ブチル−４−イソブチルフェノール ２．６−シシクロベンチルー４−メチルフェノール ２−（α−メチルシクロヘキシル）　−４，６−シメチ
ルフエノール、 ２．６−シオクタデシルー４−メチルフェノール、２．
４．６−　トリシクロヘキシルフェノール、２．６−ジ
ー第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール。

ル　ル　ハ　　ロ　　ン、例えば ２．６−ジー第三ブチル−４−メトキシフェノール、 ２．５−ジー第三ブチルハイドロキノン、２．５−ジー
第三アミルハイドロキノン、２．６−ジ−フェニル−４
−オクタデシルオキシフェノール。

ヒ　ロキシル　　　ジ　エニルエーール例えば、 ２．２°−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェ
ノール）、 ２．２”−チオビス（４−オクチルフェノール）、４．
４゛−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノー
ル）、 ４．４°−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェ
ノール）。

ルキ　−゛ンビスエノール、例工ば ２．２″−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチル
フェノール）、 ２．２゛−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチル
フェノール）、 ２．２°−メチレンビス〔４−メチル−６−（αメチル
シクロへキシル）フェノール〕、２．２゛−メチレンビ
ス（４−メチル−６−シクロヘキジルフエノール）、 ２．２′−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェ
ノール）、 ２．２”−メチレンビス（６−（α−メチルベンジル）
−４−ノニルフェノール］、 ２．２゛−メチレンビス（６−（α、α−ジメチルベン
ジル）−４−ノニルフェノール〕、２２°−メチレンビ
ス（４，６−ジー第三ブチルフェノール）、 ２．２°−エチリデンビス（４，６−ジー第三ブチルフ
ェノール）、 ２．２゛−エチリデンビス（６−第三ブチル−４イソブ
チルフエノール）、 ４．４°−メチレンビス（２１６−ジー第三ブチルフエ
ノール）、 ４．４°−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチル
フェノール）、 １．１−ビス（５−第三プチル−４−ヒドロキシ−２−
メチルフェニル）ブタン、 ２．６−ビス（３−第三プチル−５−メチル−２−ヒド
ロキシベンジル）−４−メチルフェノール、 １．１．３−　）リス（５−第三ブチル−４−ヒドロキ
シ−２−メチルフェニル）ブタン、 １．１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−
メチルフェニル）−３−ｎ−ドデンルメルカブトブタン
、 エチレングリコールビス（３，３−ビス（３°−第三ブ
チル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート〕、 ビス（３−第三プチル−４−ヒドロキシ−５メチルフエ
ニル）ジシクロペンタジェン、ビス（２−（３°−第三
ブチル−２゛−ヒドロキシ−５゛−メチルベンジル）−
６−第三ブチル−４−メチルフエニル〕テレフタレート
。

ベンジル　人　、例えば １．３．５−　）リス（３，５−ジー第三ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）　−２，４，６−トリメチルベン
ゼン、 ビス（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）スルフィド、 イソオクチル３．５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルメルカプトアセテート、ビス（４−第三ブチル
−３−ヒドロキシ−２，６＝ジメチルベンジル）ジチオ
ールテレフタレート、 １．３．５−　）リス（３，５−ジー第三ブチル−４ヒ
ドロキシベンジルイソシアヌレート、１．３．５−　）
リス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−シメ
チルベンジル）イソシアヌレート、 ジオクタデシル３．５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルホスホネート、 モノエチル３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジルホスホネートのカルシウム塩。

シル　ミ　フエ　−ル、例えば ラウリン酸４−ヒドロキシアニリド、 ステアリン酸４−ヒドロキシアニリド、２．４−ビス（
オクチルメルカプト）−６−（３゜５−ジー第三ブチル
−４−ヒドロキシアニリノ）−ｓ−）リアジン、 オクチルＮ−（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）−力ルバメート。

アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、１．６−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、チオジエチレングリコール、Ｎ、Ｎ’−ビス（
ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド。

三　　ルー　−ヒ′ロキシ ル　ノニル　　口ピ　ン　の　　の ルコール　　のエ　　　−　ルー アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、１．６−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、Ｉ−リス（ヒドロキシエチル）イソシア
ヌレート、チオジエチレングリコール、Ｎ、Ｎ’−ビス
（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド。

Ｎ、Ｎ”−ビス（３１５−ジー第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル）へキサメチレンジアミン、 ＮＮ’−ビス（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、 Ｎ、Ｎ’−ビス（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。

ヒ　ロ　シ　ェニル　ベン゛ 上ユヱ五二酉、例えば、 ５゛メチル−１３°、５“−ジー第三ブチル−１５”第
三ブチル−１５”　−（１，１，３，３−テトラメチル
ブチル）−１５−クロロ−３°、５゛　−ジー第三ブチ
ル−１５−クロロ−３′−第三ブチル−５゛−メチル−
１３°−第二ブチル−５゛−第三ブチル、４°−オクト
キシ−１３°５１−ジー第三アミル−１３”。

５′−ビス（α、α−ジメチルベンジル）−３°−第三
ブチル−５°−２−（ω−ヒドロキシ−オクタ−（エチ
レンオキシ）−カルボニルエチル）−１３“−ドデシル
−５゛−メチル−１および３°−第三ブチル−５°−（
２−オクチルオキシカルボニル）−エチル、およびドデ
シル化−５゛メチル−誘導体。

ヒ゛ロ　シーベンゾ　エノン、例え ば ４−ヒドロキシ−１４−メトキシ−１４−オクトキシ−
１４−デシルオキシ−１４−ドデシルオキシ−１４−ベ
ンジルオキシ−１４，２’、４°−トリヒドロキシ−お
よび２゛−ヒドロキシ−４，４゜ジメトキシ誘導体。

のニス 至上、例えば フェニルサリチレート、 ４−第三ブチルフェニルサリチレート、オクチルフェニ
ルサリチレート、 ジベンゾイルレゾルシノール、 ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、 ヘンジイルレゾルシノール、 ３．５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸２．
４−ジー第三ブチルフェニルエステル、および３．５−
ジー第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシル
エステル。

、　　アクル−　、例えば α−シアノ−β、β−ジフェニルーアクリル酸エチルエ
ステル、 α−シアノ−β、β−ジフェニルーアクリル酸イソオク
チルエステル、 α−カルボメトキシ−桂皮酸メチルエステル、α−シア
ノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸メチルエステル
、 α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸ブチル
エステル、 α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ桂皮酸メチルエステ
ル、および Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−
メチルインドリン。

二・　ル　人　、例えば ２．２°−チオビス−（４−（１，１，３，３−テトラ
メチルブチル）−フェノール〕のニッケル錯体、例えば
１：１または１：２錯体であって、所望によりｎ−ブチ
ルアミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘ
キシル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴
うもの、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒ
ドロキシ−３，５−ジー第三ブチルベンジルホスホン酸
モノアルキルエステル、例えばメチル、エチルもしくは
ブチルエステルのニッケル塩、２−ヒドロキシ−４−メ
チルーフェニルウンデシルケトキシムのようなケトキシ
ムのニッケル錯体、ｌフェニル−４−ラウロイル−５−
ヒドロキシ−ピラゾールのニッケル錯体であって、所望
により他の配位子を伴うもの。

染ン、例えば ビス（２，２，６，６−テトラメチルビペリジル）セバ
ケート、 ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）
セバケート、 ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）
ｎ−ブチル−３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルマロネート、 ｌ−ヒドロキシエチル−２，２，６，６−テトラメチル
−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物
、 Ｎ、　Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチルビペ
リジル）へキサメチレンジアミンと４−第三オクチルア
ミノ−２，６−ジクロロ−５−トリアジンとの縮合生成
物、 トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ニトリロトリアセテート、 テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジル’）　−１，２，３，４−ブタンテトラカルボン
酸、 １．１”−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，
５５−テトラメチルピペラジノン）。

シェ　　ジ　々゛、例えば ４．４”−ジ−オクチル−オキシオキサニリド、２．２
°−ジ−オクチルオキシ−５，５′−ジー第三ブチルオ
キサニリド、 ２．２°−ジ−ドデシルオキシ−５，５゛−ジー第三ブ
チルオキサニリド、 ２−エトキシ−２“−エチルオキサニリド、Ｎ、Ｎ’−
ビス（３−ジメチルアミノプロピル−オキサルアミド、 ２−エトキシ−５−第三ブチル−２゛−エチルオキサニ
リドおよび該化合物と２−エトキシ−２゛−エチル−５
，４′−ジー第三ブチル−オキサニリドとの混合物、 オルト−およびバラ−メトキシｍ：置換オキサニリドの
混合物、および ０−およびＰ−エトキシー二置換オキサニリドの混合物
。

２．８　　ヒ　ロキシフェニル−５−１ジン〜例えば ２．６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−４−（
２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−ｓ−
ｔ−リアジン、 ２．６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）４−（２
，４−ジヒドロキシフェニル）　−ｓトリアジン、 ２．４−ビス−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−６
−（４−クロロフェニル）−５−トリアジン、 ２．４−ビス−（２−ヒドロキシ−４−（２ヒドロキシ
エトキシ）フェニル）−６−（４−クロロフェニル）　
−ｓ　−）　ＩＪアシン、２．４−ビス−〔２−ヒドロ
キシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニルゴー６
−フエニルーｓ−トリアジン、 ２．４−ビス〜〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキ
シエトキシ）フェニル）　−６−（２４−ジメチルフェ
ニル）　−Ｓ−トリアジン、２．４−ビス−（２−ヒド
ロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）−
６−（４−ブロモフェニル）−Ｓ−）リアジン、 ２．４−ビス−（２−ヒドロキシ−４−（２アセトキシ
エトキシ）フェニル）−６−（４−クロロフェニル）−
Ｓ−）リアジン、 ２．４−ビス−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−６
−（２，４−ジメチルフェニル）　−ｓ−トリアジン。

・・　　　、例えば Ｎ、Ｎ’−ジフェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−サリチラ
ルーＮ′−サリチロイルヒドラジン、Ｎ、Ｎ’−ビス（
サリチロイル）ヒドラジン、Ｍ、Ｎｏ−ビス（３，５−
ジー第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル
）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−
トリアゾール、 ビス（ベンジリデン）シヱウ酸ジヒドラジン。

ス　　　　　　　　　　　　　　、例えばトリフェニル
ホスフィツト、 ジフェニルアルキルホスフィツト、 フエニルジアルキルホスフィツト、 トリス（ノニルフェニル）ホスフィツト、トリラウリル
ホスフィツト、 トリオクタデシルホスフィツト、 ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、 トリス（２，４−ジー第三ブチルフェニル）ホスフィツ
ト、 ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、 ビス（２，４−ジー第三ブチルフェニル）ペンタエリト
リトールジホスフィット、 トリステアリルソルビトールトリホスフィツト、テトラ
キス（２，４−ジー第三ブチルフェニル）４．４゛−ビ
フエニリレンジホスホナイト。

ム　、例えば β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、
ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、 メルカプトベンズイミダゾール、または２−メルカプト
ベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミ
ン酸亜鉛、 ジオクタデシルジスルフィド、 ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカ
プト）プロピオネート。

ヒドロキシル　≧ン、例えば Ｎ、Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ、Ｎ−ジエ
チルヒドロキシルアミン、Ｎ、Ｎ−ジオクチルヒドロキ
シルアミン、Ｎ、Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、
Ｎ、Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ、Ｎ−
ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ、Ｎ−ジオクタ
デシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オ
クタデシルヒドロキシルアミン、 Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミ
ン、 水素化タロウアミンから誘導されるＮ、　Ｎ−ジアルキ
ルヒドロキシルアミン。

ボ１　々゛　　　、例えば ヨウ化物および／またはリン化合物と組合せた銅塩、お
よび二価マンガンの塩。

、例えば メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミン、
トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導
体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、 高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩
、例えばＣａステアレート、Ｚｎステアレート、Ｍｇス
テアレート、Ｎａリシル−トおよびにパルミテート、 ピロカテコール酸アンチモン、または ピロカテコール酸亜鉛。

一矩一」Ｉ可、例えば ４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸
。

゛、例えば 炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、
タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物お
よび水酸化物、カーボンブラック、グラファイト。

の　の′　　、例えば 可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤、静電
防止剤、発泡剤およびチオ相乗剤例えばジラウリルチオ
ジプロピオネートまたはジステアリルチオジプロピオネ
ート。

室温硬化されおよび酸触媒されるコーティング系を含む
種々のコーティング系における本発明の誘導体の利用が
特に興味深い。特に、コーティングの物理的結合性は、
光沢の損失および黄変における顕著な低下の提示が高程
度に維持される０重要な改良は、Ｎ−アルキル立体障害
性アミン光安定剤で発生する硬化遅延が実質的にないこ
と；Ｎ−アルキル立体障害性アミンが着色されたコーテ
ィング系に利用される場合に見られるフロキュレーシッ
ンおよび分散不安定性が実質的にないこと、コーティン
グとポリカーボネート基材との間の接着損失がないこと
、を包含する。従って、本発明はまた、本発明の化合物
を、場合によりその他の安定剤と一緒に、アルキド樹脂
；熱可塑性アクリル樹脂；アクリルアルキド；シリコン
、イソシアネート、イソシアヌレート、ケチミンまたは
オキサゾリジンで変性されてもよいアクリルアルキドま
たはポリエステル樹脂；およびカルボン酸、無水物、ポ
リアミンまたはメルカプタンで架橋されたエポキシ摺脂
；および骨格において反応性基で変性され、そしてエポ
キシで架橋されたアクリルおよびポリエステル樹脂系を
ベースとする室温硬化性コーティングを光、湿気および
酸素の劣化作用に対して安定化するために使用すること
にも関する。

さらに、それらの工業用の使用において、架橋可能なア
クリル、ポリエステル、ウレタンまたはアルキド樹脂を
ベースとする高い固形含量を有するエナメルは別の酸触
媒で硬化される。

塩基性窒素基を有する光安定剤は一般に本発明において
十分なものではない、酸触媒と光安定剤との間の塩の生
成は、該塩の不適合性または不溶性および沈澱並びに硬
化の低下した程度および低下した光保護作用および低い
湿分耐性を導く。

これらの酸触媒された焼付はラッカーは熱架橋性アクリ
ル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミドまたはア
ルキド横腹をベースとしている０本発明に従って光、湿
気および酸素に対して安定化され得るアクリル樹脂ラッ
カーは、例えばＨ，Ｋｉｔｔｅｌ’ｓ″Ｌｅｈｒｂｕｃ
ｈ　ｄｅｒ　Ｌａｃｋｅ　ｕｎｄＢｅｓｃｈｉｃｈｔｕ
ｎｇｅｎ　１Ｖｏ１．Ｉ　Ｐａｒ　２＋７３５および７
４２頁（ベルリン、　１９７２年）　、　”Ｌａｃｋｋ
ｕｎ３ｔｈａｒｚｅ”Ｈ。

ＷａｇｎｅｒおよびＨ，Ｆ、　５ａｒｘ著、　２２９−
２３８頁、およびＳ、　Ｐａｕｌ’ｓ著”５ｕｒｆａｃ
ｅ　Ｃｏａｔｉｎｇｓ：　５ｃｉｅｎｃｅａｎｄ　Ｔｅ
ｃｈｎｏｌｏｇｙ”（１９８５）に記載されているアク
リル／メラミン系を包含する慣用のアクリル樹脂焼付は
ラッカーまたは熱硬化性樹脂である。

光および湿気の作用に対して安定化され得るポリエステ
ルラッカーは例えばＨ，ＷａｇｎｅｒおよびＩｌ、　Ｆ
、　５ａｒｘ著の上掲書８６−９９頁に記載されている
慣用の焼付はラッカーである。

本発明に従って光および湿気の作用に対して安定化され
得るアルキド樹脂ラッカーは特に自動車塗装に使用され
る慣用の焼付はランカー（自動車仕上げラッカー）であ
り、例えばアルキド／メラミン樹脂およびアルキド／ア
クリル／メラミン樹脂をベースとするラッカーである（
Ｈ，ＷａｇｎｅｒおよびＨ，Ｆ、　５ａｒｘ著の上掲書
９９−１２３頁参照）、その他の架橋剤はグリコールウ
リル樹脂、ブロックされたイソシアネートまたはエポキ
シ樹脂を包含する。

本発明に従って安定化される酸触媒された焼付はラッカ
ーは金属仕上げ塗装および固体シェード仕上げの両方に
、特に修正仕上げ、並びに種々のコイルコーティングの
場合に適当である。

本発明に従って安定化されるラッカーは、シングルコー
ト法またはツーコート法の２方法のいずれかによる慣用
の方法で塗装されるのが好ましい、後者の方法において
、顔料含有ベースコートがまず最初に塗布され、そして
次にその上に透明ラッカーのカバーコートを塗布する。

本発明の置換された立体障害性アミンは酸触媒されてい
ない熱硬化性樹脂、例えばシリコーン、イソシアネート
またはイソシアヌレートで変性されてもよいエポキシ、
エポキシポリエステル、ビニル、アルキド、アクリルお
よびポリエステル樹脂中への使用に適用可能である。エ
ポキシおよびエポキシポリエステル樹脂は慣用の架橋剤
例えば酸、酸無水物、アミン等で架橋される。

また、エポキシは主鎖上の反応性基の存在により変性さ
れた種々のアクリルまたはポリエステル樹脂系のための
架橋剤として利用され得る。

そのようなコーティングにおいて最大の光安定性を達成
するために、その他の慣用の光安定剤の同時使用が有利
であり得る０例はベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール
、アクリル酸誘導体またはオキサニリドタイプ、または
了り−ルーＳ−トリアジンまたは金属含有光安定剤例え
ば有機ニッケル化合物の上記紫外線吸収剤である。ツー
コート系において、これらのその他の光安定剤はクリア
コートおよび／または着色されたベースコートに添加さ
れ得る。

そのような組合せが使用される場合には、全体の光安定
剤の合計は、フィルム形成性樹脂に基づいて０．２ない
し２０重量％、好ましくは０．５ないし５重量％である
。

上記のピペリジン化合物と組み合わせた本発明の組成物
において使用され得る紫外線吸収剤の異なる類の例は、
Ｅｕｒｏｐｅａｎ　Ｐｏｌｙｍｅｒ　ＪｏｕｒｎａｌＳ
ｕｐｐｌｅｍｅｎｔ、　１９６９．１０５−１３２頁の
Ｉｔ、　Ｊ、　ｌ１ｅｌｌｅｒによる文献に引用されて
いる。これらの類はフェニルサリチレート、ｏ−ヒドロ
キシベンゾフェノン、ヒドロキシキサントン、ベンゾキ
サゾール、ベンズイミダゾール、オキサジアゾール、ト
リアゾール、ピリミジン、キナゾリン、Ｓ−トリアジン
、ヒドロキシフェニル−ベンゾトリアゾール、α−シア
ノアクリレートおよびベンゾエートを包含する。

特別重要な紫外線吸収剤は以下のものである：（ａ）２
−（２°−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリアゾール
例えば５′−メチル−１３゜５１−ジー第三ブチル−１
５′＝第三ブチル−５′−ジー（１，１，３，３−テト
ラメチルブチル）−１５−クロロ−３”、５’−ジー第
三ブチル−１５−クロロ−３′−第三ブチル−５−メチ
ル−１３１−第二ブチル−５′＝第三ブチル−１４′−
オクトキシ−１および３゜５′−ジー第三アミル誘導体
。

（ｂ）　　２−ヒドロキシベンゾフェノン例えば４ヒド
ロキシ−１４−メトキシ−１４−オクトキシ−１４−デ
シルオキシ−１４−ドデシルオキシ−１４−ベンジルオ
キシ−１４，２’、４トリヒドロキシ−および２゛−ヒ
ドロキシ４．４１−ジメトキシ誘導体。

（Ｃ）　　アクリレート例えばα−シアノ−β、β−ジ
フェニルアクリル酸エチルエステルまたはイックチルエ
ステル、α−カルボメトキシ桂皮酸メチルエステル、α
−シアノ−β−メチル−ｐメトキシ桂皮酸メチルエステ
ルまたはブチルエステル、α−カルボメトキシ−ｐ−メ
トキシ桂皮酸メチルエステル、Ｎ−（β−カルボメトキ
シ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。

（イ）ニッケル化合物例えば２，２゛−チオビス−（４
−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェノー
ル〕のニッケル錯体、例えば１：ｌまたは１：２錯体で
あって、所望によりｎ−ブチルアミン、トリエタノール
アミンもしくはＮ−シクロヘキシル−ジ−エタノールア
ミンのような他の配位子を伴うもの、ニッケルジブチル
ジチオカルバメート、４−ヒドロキシ−３，５−ジー第
三ブチルベンジルホスホン酸モノアルキルエステル、例
えばメチル、エチルもしくはブチルエステルのニッケル
塩、２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウンデシル
ケトキシムのようなケトキシムのニッケル錯体、ｌ−フ
ェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシ−ピラゾール
のニッケル錯体であって、所望により他の配位子を伴う
もの。

（ｅ）　　シュウ酸ジアミド例えば ４．４１−ジ−オクチル−オキシオキサニリド、２．２
゛−ジ−オクチルオキシ−５，５゛−ジー第三ブチルオ
キサニリド、 ２．２°−ジ−ドデシルオキシ−５，５゛−ジー第三ブ
チルオキサニリド、 ２−エトキシ−２１−エチルオキサニリド、Ｎ、Ｎ’−
ビス（３−ジメチルアミノプロピル）−オキサルアミド
、 ２−エトキシ−５−第三プチル−２゛−エチルオキサニ
リドおよび該化合物と２−エトキシ−２′−エチル−５
，４°−ジー第三ブチル−オキサニリドとの混合物、 オルト−およびバラ−メトキシｍ：置換オキサニリドの
混合物、および ０−およびｐ−エトキシー二置換オキサニリドの混合物
。

（ｆ）　　ヒドロキシフェニル−５−）リアジン例えば
２．６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−４−（２
−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−Ｓ−ト
リアジンまたは相当する４−（２，４−ジヒドロキシフ
ェニル）誘導体。

高分子量で低渾発性のベンゾトリアゾール例えば２−〔
２−ヒドロキシ−３，５−ジ（α。

α−ジメチルベンジル）フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリ
アゾール、２−（２−ヒドロキシ−３゜５−ジー第三オ
クチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（
２−ヒドロキシ−３−α、α−ジメチルベンジル−５−
第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、
２−（２−ヒドロキシ−３−第三オクチル−５−α。

α−ジメチルベンジルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾール、２−（２−ヒドロキシ−３゜５−第三アミルフ
ェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒド
ロキシ−３−第三ブチル−５−（２−ω−ヒドロキシ−
オクタ−（エチレンオキシ）カルボニル）−エチルフェ
ニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、ドデシル化２−（
２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾ
トリアゾール、２−　（２−ヒドロキシ−３−第三ブチ
ル−５−（２−オクチルオキシカルボニル）−エチルフ
ェニル）＝２Ｈ−ベンゾトリアゾールおよび上記のベン
ゾトリアゾールの各々に相当する５−クロロ化合物が本
発明の組成物において特に貴重である。

本発明の組成物に有用なベンゾトリアゾールとしては２
−〔２−ヒドロキシ−３，５−ジ（α、α−ジメチルベ
ンジル）フヱニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、ドデ
シル化２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−
２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ３−
第三ブチル−５−（２−ω−ヒドロキシ−オクタ−（エ
チレンオキシ）カルボニル）−エチルフェニル）−２Ｈ
−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−第
三ブチル−５−（２−オクチルオキシカルボニル）−エ
チルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールおよび５ク
ロロ−２−（２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−（
２−オクチルオキシカルボニル）−エチルフェニル）−
２Ｈ−ベンゾトリアゾールが最も好ましい。

本発明の化合物が、フェノール系酸化防止剤、立体障害
性アミン光安定剤、有機リン化合物、紫外線吸収剤およ
びそれらの混合物からなる群から選択されるその他の安
定剤と組み合わせて使用される場合、ポリオレフィンフ
ァイバー特にポリプロピレンファイバーの安定剤として
とりわけ有効であろうこともまた期待される。

本発明のその他の好ましい実施態様は、さらにホスフィ
ツトまたはホスホナイトを含有する安定化された組成物
である。

本発明の組成物において使用されるホスフィツトまたは
ホスホナイトの量は、フィルム形成性樹脂に基づいて０
．０５ないし２重量％、好ましくは０．１ないし１重量
％である。ツーコート系において、これらの安定剤はク
リアコートおよび／またはベースコートに添加されても
よい。

典型的なホスフィツトおよびホスホナイトはトリフェニ
ルホスフィツト、 ジフェニルアルキルホスフィツト、 フエニルジアルキルホスフィツト、 トリス（ノニルフェニル）ホスフィツト、トリラウリル
ホスフィツト、 トリオクタデシルホスフィツト、 ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、 トリス（２，４−ジー第三ブチルフェニル）ホスフィツ
ト・ ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、 ビス（２，４−ジー第三ブチルフェニル）ペンタエリト
リトールジホスフィット、 トリステアリルソルビトールトリホスフィツト、テトラ
キス（２，４−ジー第三ブチルフェニル）４．４°−ビ
フェニリレンジホスホナイトを包含する。

酸触媒された熱硬化性エナメルは、最終使用者において
適当に機能するために、安定化されなければならない、
使用される安定剤は、硬化に付随する遅延と酸触媒で安
定化された塩基性アミンの沈澱とを防止するために、場
合により紫外線吸収剤例えばベンゾトリアゾール、ベン
ゾフェノン、置換Ｓ−トリアジン、フェニルベンゾエー
トまたはオキサニリドと組み合わせた、立体障害性アミ
ン、好ましくはＮ−原子が不活性ブロック基により置換
されたものである。

安定剤は硬化されたエナメルにより、長い耐久性（２０
°光沢、画像の鮮明性、クラッキングまたはチラーキン
グにより測定されるようなもの）の維持を与えるために
必要とされ；安定剤は硬化を遅延させてはいけない（１
２１″Ｃでの自動仕上げのための通常の焼付けおよび８
２℃でのより低い焼付は修復、硬度、接着性、溶媒耐性
および湿分耐性により測定されるようなもの）；エナメ
ルは硬化して黄変すべきでなく、そしてさらに光への暴
露での変色は最低限にされなければならない；安定剤は
コーティングにおいて通常使用される有′ａ溶媒、例え
ばメチルアミルケトン、キシレン、ｎ−へキシルアセテ
ート、アルコール等中に溶解しなければならない。

Ｎ原子がＯ置換部分で置換された本発明の立体障害性ア
ミン光安定剤は、これらの要求の各々を満たし、そして
単独でまたは紫外線吸収剤と組み合わせて、硬化され酸
触媒された熱硬化性エナメルに対して顕著な光安定化保
護を付与する。

本発明の好ましい実施態様は、 （６）熱架橋性アクリル、ポリエステルまたはアルキド
樹脂をベースとする酸触媒された熱硬化性コーティング
またはエナメル、 Ｃｂ）　　Ｎ　Ｏ−Ｒ、置換された２、２，６．６−テ
トラアルキルピペリジン化合物、および（Ｃ）　　ベン
ゾフェノン、ベンゾトリアゾール、アクリル酸誘導体、
有機ニッケル化合物、アリール−５−）リアジンおよび
オキサニリドからなる群から選択される紫外線吸収剤、 からなる安定化された組成物に関する。

エナメルまたはコーティングが含有し得るその他の成分
は酸化防止剤、例えば立体障害性フェノール誘導体、リ
ン化合物例えばホスフィツト、ホスフィンまたはホスホ
ナイト、可塑剤、レベル補助剤、硬化触媒、増粘剤、分
散剤または接着促進剤である。

本発明の安定剤のさらに他の好ましい組合せは、ガス褪
色からポリプロピレンファイバーを保護するためのヒド
ロキシルアミンとの組合せである。

〔実施例・発明の効果〕

以下の実施例は説明のためのものであって、本発明の範
囲をなんら限定するものではない。

実施例１ ビス−（１−シクロへキシルオキシ−２，２゜６．６−
テトラメチルピベリジンー４−イル）トランス、トラン
ス−ムコネート ジメチルトランス−トランス−ムコネート１．７０ｇ５
　Ｌ−シクロへキシルオキシ−２，２゜６．６−テトラ
メチルビペリジン−４−オール５、６２　ｇおよびリチ
ウムアミド０．０２５　ｇのトルエン１００！ｄ中の溶
液をディーンースタークトラップでの還流下８時間加熱
する０反応部合物を次に酢酸エチルで希釈し、次に水、
塩水で洗浄し、そして無水の硫酸マグネシウムで乾燥さ
せる。＊圧下でのＩｍ、次にクロマトグラフィー分離を
行うと、表題化合物が白色固体として得られる。

実施例２ カルボキシ末端ポリブタジエン（ＨＹＣＡＲ２０００ｘ
１６２）の１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６
−テトラメチルビペリジン−４−イルエステル 塩化オキサリル（２，１０ｍ）をトルエン７５ｄ中のＨ
ＹＣＡＲ２０００ｘ１６２　（２５，０ｇ）の溶液に添
加する。室温で一晩撹拌した後、反応混合物を減圧下で
濃縮して、過剰の塩化オキサリルを除去する。残渣を乾
燥トルエン５０ｄ中に溶解し、そして次にトルエン５０
ｄ中の１−シクロへキシルオキシ−２，２，６，６−テ
トラメチルピペリジン−４−オール３．０６　ｇおよび
トリエチルアミン１．８　ｄで処理する。−晩撹拌後、
反応混合物を濾過し、そして減圧下での濃縮すると、表
題化合物が白色油状物として得られる。赤外線およびＮ
ＭＲ分析は、完全な反応およびポリマー内への立体障害
性アミン部分の挿入を示す。

実施例３ １−シクロへキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメ
チル−４−アクリロイルオキシピペリジン 塩化メチレン２〇−中の塩化アクリロイル１゜６Ｉ１１
の溶液を１−シクロへキシルオキシ−２゜２．６．６−
テトラメチルビペリジン−４−オール５．１１　ｇおよ
びトリエチルアミン３．１Ｏｄの塩化メチレン２〇−中
の撹拌された溶液に０℃で添加する。室温で２時間撹拌
した後、溶媒を減圧下で除去する０次に残渣を液体クロ
マトグラフィーにより精製し、表題化合物を融点４９−
５２℃の白色固体として得る。

分析結果 Ｃ＋２ＨｔｉＮＯｓに対する計算値： Ｃ６９，９、Ｈ１０，１；　Ｎ　４．５実験値： Ｃ７０，０、Ｈ１０，５；　Ｎ　４．５実施例４ ■−シクロへキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメ
チル−４−メタクリロイルオキシピペリジン 塩化メチレン中の１−シクロへキシルオキシ２．２，６
．６−テトラメチルピペリジン−４−オール５．１１　
ｇ、塩化メタクリロイル２．Ｏｄおよびトリエチルアミ
ン３．１Ｏｌｄを用いて実施例３の操作を繰り返す、上
記の生成物が無色油状物として単離される。

分析結果 Ｃ＋２ＨｔｉＮＯｓに対する計算値： Ｃ７０，６ｉ　Ｈ１０，３、Ｎ　４．３実験値： Ｃ７１，０；　Ｈ１０，６、Ｎ　４．３実施例５ ■−メトキシー２．２，６．６−チトラメチルー４−ア
クリロイルオキシピペリジン塩化メチレン中の１−メト
キシ−２，２，６゜６−テトラメチルピベリジン′−４
−オール３．５１ｇ、塩化アクリロイル１．６ｄおよび
トリエチルアミン３．１０−を用いて実施例３の操作を
繰り返す、上記の生成物が無色液体として単離される。

分析結果 Ｃ＋２ＨｔｉＮＯｓに対する計算値： Ｃ６４，７ｉ　Ｈ９，６ｉ　Ｎ　５．８実験値： Ｃ６４，Ｏｉ　Ｈ９，８；　Ｎ　５．６１−メトキシ−
４−メタクリロイルオキシ２．２，６．６−テトラメチ
ルビペリジンは、塩化アクリロイルを当量の塩化メタク
リロイルに代えることにより製造される。

実施例６ １−シクロへキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメ
チル−４−アクリルアミドピペリジン 塩化メチレン中の４−アミノ−１−シクロヘキシルオキ
シ−２，２，６，６−チトラメチルピペリジン３．０ｇ
、塩化アクリロイル０．９２　ｍおよびトリエチルアミ
ン１．８ｄを用いて実施例３の操作を繰り返す０表題化
合物が白色固体として単離される。

分析結果 Ｃ＋ｓＨｓ＊Ｎｚ０ｔに対する計算値：Ｃ７０，１；　
Ｈ１０，５；　Ｎ　　９．１実験値： Ｃ７０，５ｉ　Ｈ１０，８；　Ｎ　９．０実施例７ Ｎ、Ｎ−ビス（１−シクロへキシルオキシ−２，２，６
，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アクリルア
ミド 実施例６の操作において４−アミノ−１−シクロヘキシ
ルオキシ−２，２，６，６−チトラメチルピペリジンの
代わりに当量のＮ、　Ｎ−ヒス（１−シクロへキシルオ
キシ−２，２，６゜６−テトラメチルピペリジン−４−
イル）アミンを用いる時、表題化合物が得られる。

実施例８ ■−オクチルオキシー２．２，６．６−テトラメチル−
４−アクリロイルオキシピペリジン１−シクロヘキシル
オキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４
−オールの代わりに当量の１−オクチルオキシ−２，２
，６゜６−テトラメチルビペリジン−４−オールを用い
て実施Ｎ３の操作を繰り返すと、表題化合物が無色液体
として得られる。

分析結果 Ｃｔ　ｏ　Ｈ！？　Ｎ　Ｏｘに対する計算値：Ｃ７０，
８；　Ｈ１１，Ｏｉ　Ｎ　４．Ｌ実験値： Ｃ７１，０；　Ｈ１０，８ｉ　Ｎ　　４．６実施例９ ４−マレイミド−１−シクロヘキシルオキシ−２，２，
６，６−テトラメチルビベリジンアセトン５０＋ｄ中の
４−アミノ−１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，
６−チトラメチルピペリジン５．２９　ｇの溶液に、ア
セトン中の無水マレイン酸（１，９６ｇ）溶液を１０分
かけて滴下して添加する。還流下で３０分間加熱した後
、中間体マレアミン酸が得られる。マレアミン酸、酢酸
ナトリウム（０，３ｇ）および無水酢酸（６，４ａｉ）
の溶液を８０℃で２時間加熱する０次いで溶液を減圧下
で濃縮し、そして液体クロマトグラフィーにより精製す
ると、表題化合物が融点１３５−１３９℃の白色固体と
して得られる。

分析結果 Ｃ＋ｑＨｓ。Ｎ、０．に対する計算値；Ｃ６８，２；　
Ｈ９，０、Ｎ　８．４ 実験値： Ｃ６Ｂ、６　；　Ｈ９，３；　Ｎ　８．４実施例１０ １−シクロへキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ビニルベンジルオキシピペリジン １−シクロへキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメ
チルピベリジンー４−オールの溶液（Ｎ、Ｎ−ジメチル
ホルムアミド中に５．１１ｇ）を、水素化ナトリウムの
撹拌された！Ｑ濁液（６０％分散液０．８８ｇ）に滴下
して添加する。

反応混合物を室温で１時間そして６０℃で３０分間撹拌
した後、ＤＭＦ５ｄ中の塩化ビニルベンジル（３，０５
ｇ）の溶液を添加する０反応混合物を７５℃で７時間加
熱する０反応混合物を次に減圧下で濃縮し、そして残渣
を酢酸エチルと水との間に分配する。有機相を水で洗浄
し、無水の硫酸マグネシウムで乾燥し、そして次に蒸発
させると、黄色油状物が得られる。調製液体クロマトグ
ラフィーにより淡黄色油状物として表題化合物が得られ
る。

分析結果 Ｃ＊ａＨｘｑＮＯｔに対する計算４ｆＬ：Ｃ７７，６；
　Ｈ１０，０、Ｎ　３．８実験値： Ｃ７７，４；　Ｈ１０，２ｉ　Ｎ　３．７実施例１１ ■−オクチルオキシー２．２．６．６−テトラメチル−
４−アクリロイルオキシピペリジ′ンｎ−オクタン１５
０ｄ中の４−アクリロイルオキシ−２，２，６，６−テ
トラメチルピベリジンー１−オキシルｌ　０．　Ｏｇの
溶液に、三酸化モリブデン０．６ｇを添加する。生成す
る懸濁液をディーンースタークトラップでの還流下で適
当に加熱する。第三ブチルヒドロパーオキシド（１７，
０ｇ）の７０％水溶液を、共沸物を除去して３０分間滴
下して添加する。８時間還流下で加熱した後、無色の反
応混合物を室温まで冷却し、そして懸濁した触媒を濾過
により除去する。濾液を重硫酸ナトリウム水溶液と１時
間撹拌する。有機相を塩水で洗浄し、無水の硫酸マグネ
シウムで乾燥し、そして蒸発させる。残渣に液体クロマ
トグラフィーを行うと、無色液体として表題化合物が得
られる。

分析結果 ＣｚｅＨｓｔＮＯｓに対する計算値： Ｃ７０，８；　Ｈ１１，０；　Ｎ　４．１実験値ｔ Ｃ７０，６、Ｈ１１，１；　Ｎ　４．１実施例１２ ４−アリルオキシ−１−オクチルオキシ−２゜２．６．
６−チトラメチルピペリジン 水素化ナトリウム（２，６５ｇ、１１０ミリモル）をテ
トラヒドロフラン１５〇−中の４−ヒドロキシ−１−オ
クチルオキシ−２，２，６ローテトラメチルピベリジン
３０．０ｇ（１０５ミリモル）の溶液に窒素下で添加す
る０反応混合物を還流下で３時間加熱し、３５°Ｃまで
冷却し、そして臭化アリル１２．７ｇ（１１０ミリモル
）と処理する０反応混合物を還流下１時間加熱し、次い
で酢酸エチル（１５０ｒ１ｒｌ）と水（５０ｄ）との間
に分配する。有機相を飽和塩化ナトリウム溶液（１００
ｄ）で洗浄し、無水の硫酸マグネシウムで乾燥し、そし
て減圧下でｉｌｌ縮する。残渣をヘプタン（５０１）中
に溶解し、そしてシリカゲル充填物に通す（溶出液５：
１＝ヘプタン：酢酸エチル）、粗生成物をフランシヱク
ロマトグラフィーにより精製する（シリカゲル；９；１
−へブタン：酢酸エチル）と、無色油状物として表題化
合物２３．９ｇ（収率７０％）が得られる。

分析結果 Ｃｔｏ　Ｈｚｑ　Ｎ　Ｏ！に対する計算値：Ｃ７３，８
、Ｈ１２，１；　Ｎ　４．３実験値： Ｃ７４，Ｏｉ　Ｈ１２，７ｉ　Ｎ　４．７実施例１３ １−オクチルオキシ−４−メタクリロイルオキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピベリジン 塩化メチレン中の１−オクチルオキシ−４−ヒドロキシ
−２，２，６，６−チトラメチルピペリジン、塩化メタ
クリロイルおよびトリエチルアミンを用いて実施例３の
操作を綬り返すと、無色油状物として表題化合物が得ら
れる。ＮＭＲ，ＩＲおよびＭＳによる分析は所望の構造
に一致するデータが得られる。

分析結果 Ｃｔ、Ｈ，ＮＯ，に対する計算値； Ｃ７１，３ｉ　Ｈ１１，１；　Ｎ　４．０実験値： Ｃ７１，３；　Ｈ１１，２；　Ｎ　４．２実施例１４ ポリプロピレンの光安定化 本実施例は本発明の安定剤の光安定化作用を説明する。

ｎ−オクタデシル３．５−ジー第三ブチル−４−ヒドロ
キシヒドロシンナメート０．２重量％で安定化されたポ
リプロピレン粉末（旧ｗｏｎｔ　Ｐｒｏｆａｘ　６５０
１）を示された量の添加剤と十分に混合する。混合され
た材料を次に２本ロールミル上１８２°Ｃで５分間粉砕
し、その後安定化されたポリプロピレンをミルから出し
てシートとし、そして冷すする。粉砕されたポリプロピ
レンを次に小片に切断し、そして液圧ブレス上で５＋＋
ｉｔ　（０，ｌ　２７ＩＩｎ）に２５０℃および１７５
ｐｓｉ（１，２Ｘ　１０’　Ｐａ）で圧縮成形する。試
料を蛍光太陽光／ブラックライトチャンバーに破損する
まで暴露する。破損は暴露されたフィルムの赤外線スペ
クトル法によるカルボニル吸収が０゜５に達するまで要
する時間として表される。

ベース樹脂　　−３４０ 実施例　１　　０．１　　　　１２９０実施例　３　　
０．１　　　　１１５０実施例　６　　０．１　　　　
１０１０実施例　９　　０．１　　　　１５８０実施例
１０　　０．１　　　　１０９０実施例１５ ２３．５％ブチルアクリレート、２７％ブチルメタクリ
レート、３０％２−ヒドロキンエチルアクリレート、１
５％スチレン、３％アクリル酸および実施例１１におい
て製造されたアクリレートモノマー１．５％（全ての％
は重量％である）および第三アミルパーオキシ−０−（
２−エチルヘキシル）モノパーオキシカーボネート開始
剤０．４％からなるモノマー組成物を還流しているキシ
レン中で重合させて分子ｉ１ＭＷ、＝１３００およびＭ
Ｗ、＝６０００の安定化されたアクリルポリオールポリ
マーを生成する。

実施例１６ 実施例１５において製造した安定化アクリルポリオール
を、実施例１１のアクリレートモノマー１．５重量％が
ブチルアクリレートに置換された以外は実施例１５と同
じ操作により製造された十分に安定化されていないアク
リルポリオールと混合する。その結果、下記の最終的な
アクリルメラミン配合剤は全体の樹脂固体に基づいて立
体障害性アミンアクリレートを１％含有する。

アクリル−メラミン配合剤は、上記アクリルポリオール
混合物７０部、メラミン樹脂（Ｃｙｍｅｌ。

Ａｍｅｒｉｃａｎ　Ｃｙａｎａｓ＋ｉｄ）　１８部、ス
ルホン酸触媒（Ｄ口ＢＳＡ　　Ｃｙｃａｔ、　　７０χ
　６００．　　Ａ＋ｇｅｒｉｃａｎ　　Ｃｙａｎａｍｉ
ｄ）　　０゜５１部、流れ補助剤（ＦＣ４３１５０χソ
リツド・フルオロカーボン、３Ｍ）０．６部およびメチ
ルアミルケトン８．８部からなる（全ての部は重量部で
ある）。

熱硬化性アクリルエナメルは上記の配合剤を用いて製造
される。

鋼板の小片９．１６Ｃ１１Ｘ３０．４ＢＣＩにポリエス
テル／エポキシブライマーを被覆し、次いでこれにシル
バーメタリックベースコート、最後に透明仕上げエナメ
ルを被覆する。ベー、２．コートは被覆された板に約０
．０２３ｍｍの厚さにスプレーされ、そして３分間風乾
させる。

透明仕上げエナメルは次に板上に約０．０５ｍの厚さに
スプレーされる。１０分間の風乾後、被覆された板を１
２１“Ｃで３０分間焼き付ける。

焼付は後の被膜のヌープ硬さを次に決定する。

ハイソリッド酸硬化被膜のヌープ硬さ 対照 ９．３ たアクリルポリオール 硬化の有効性はヌープ硬さの値から評価される。より高
い数値はより硬く、より良い硬化を意味する。Ｎ−ヒド
ロカルビルオキシ基を有する本発明の化合物は、Ｎ−ア
ルキル置換基をもたない化合物のように硬化遅延を引き
起こさない、　空調室での１週間の貯蔵後、これらの被
覆されたパネルを次に、ＦＳ−４０バルブを用い、ＡＳ
ＴＭ　　（、−５３／７７に従って、ＱＵＶ暴露装置内
で耐候試験を行う 対　　　照　　９３　８６　　８２　　５７゜＊　クラ
ンキングを示す。

−ル 実施例１７ モノマー例えば２−ヒドロキシ−エチルアクリレート、
ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、スチレン
およびアクリル酸並びに脂肪族イソシアネート架橋性樹
脂〔モベイ（Ｍｏｂａｙ）社からのＤｅｓｍｏｄｕｒ　
Ｎ−３３９０）をベースとする２成分アクリルウレタン
再仕上げコーティング（上記成分の比率１．０５／１．
００）に立体障害性アミン先安定則１重量％配合する。

市販の鋼パネル１０．１６ＣＩＸ３０．４ＢＣ１（アド
バンスト・コーチインゲス・テクノロジー（Ａｄｖａｎ
ｃｅｄ　Ｃｏａｔｉｎｇｓ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ）　
）にまず市販のエポキシブライマーを下塗りし、次に熱
可塑性シルバーメタリックベースコートを約０．０２３
踵の厚さにスプレー被覆し、そして５分間風乾する。安
定化されたアクリルウレタンクリアコートを次にベース
コート上に厚さ０．０４９閤にスプレーする。空調室で
の１ケ月間貯蔵後、これらの被覆されたパネルを次に、
キセノ′ンアークウエザロメータ内で耐候試験を行う。

光沢および画像の鮮明さは３００時間間隔で測定される
。

対　　照 ポリマー９１χ く）で安定化させ、そして次にエポキシアミンブライマ
ーを下塗りしたパネル上に０．０７ｍｍの厚さにスプレ
ー塗布する。被覆したパネルを室温で１力月間老化させ
た後、それらをキセノンアークウエザロメータ内に暴露
して、６０°光沢を１００時間間隔で測定する。

非安定化 １３゜ ＊　クランキングを示す。

実施例１８ シルバーメタリックアクリルアルキドエナメルを紫外線
吸収剤および立体障害性アミン誘導体の指示量（全て全
体の樹脂固体の重ｌに基づアクチェンゲゼルシャフト 代　理　人　弁理士 萼　優美（ほか２名）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）１−Ｎ原子がヒドロカルビルオキシ基で置換され
   た立体障害性アミン部分を有する、エチレン性不飽和重
   合性モノマーであって、前記アミン部分は次式Ｅ： ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｅ） （式中、 Ｌ＿１およびＬ＿２は独立して炭素原子数１ないし４の
   アルキル基を表すか、またはＬ＿１およびＬ＿２は一緒
   になってペンタメチレン基を表し、そして Ｒ＿１はヒドロカルビル基を表す。） で表され、そして前記モノマーは次式 I −IX：Ｅ−Ｘ
   −ＣＯ−（ＣＨ＝ＣＨ）＿ａ−ＣＯ−Ｘ−Ｅ（ I ）▲
   数式、化学式、表等があります▼（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） Ｅ−Ｘ−ＣＨ＿２ＣＨ＝ＣＨＣＨ＿２−Ｘ−Ｅ（VII）
   ▲数式、化学式、表等があります▼（VIII） Ｅ−Ｘ＿１−ＣＴ＿１＝ＣＴ＿２Ｔ＿４（IX）〔式中、 Ｒ＿１は炭素原子数１ないし３６のアルキル基、炭素原
   子数２ないし１８のアルケニル基、炭素原子数２ないし
   １８のアルキニル基、炭素原子数７ないし１５のアルア
   ルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基
   、炭素原子数５ないし１２のシクロアルケニル基、炭素
   原子数７ないし１２の飽和もしくは不飽和二環式もしく
   は三環式炭化水素の基、または炭素原子数６ないし１０
   のアリール基もしくはアルキル基により置換された前記
   アリール基を表し、 Ｘは直接結合、炭素原子数２ないし１２の −Ｏ（ポリオキシアルキレン−Ｏ）−基、 −Ｏ−基、−ＮＨ−基、または次式：−ＮＧ−（式中、
   Ｇは炭素原子数１ないし８のアルキル基を表す。）で表
   される基を表し、 Ｘ＿１は直接結合または−Ｏ−基を表し、 ｎは１または２を表し、 Ｔ＿１、Ｔ＿２およびＴ＿４は独立して水素原子、ハロ
   ゲン原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基または
   炭素原子数６ないし１０のアリール機を表し、 Ｔ＿３は水素原子またはメチル基を表し、そして Ｒ＿２、Ｒ＿３およびＲ＿４は独立して水素原子または
   炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表すか、または
   Ｒ＿２は式IIIにおいてはシアノ基も表す。） で表される化合物群から選択される、前記エチレン性不
   飽和重合性モノマー。 （２）上記式中、Ｌ＿１およびＬ＿２が各々メチル基を
   表す請求項１記載のモノマー。 （３）上記式中、Ｒ＿１が炭素原子数１ないし１８のア
   ルキル基、炭素原子数２もしくは３のアルケニル基、プ
   ロパルギル基、ベンジル基またはシクロヘキシル基を表
   す請求項１記載のモノマー。 （４）上記式中、Ｇが炭素原子数１ないし４のアルキル
   基を表す請求項１記載のモノマー。 （５）上記式中、Ｔ＿１およびＴ＿２が各々水素原子を
   表す請求項１記載のモノマー。 （６）上記式中、Ｔ＿３が水素原子を表す請求項１記載
   のモノマー。 （７）上記式中、Ｒ＿２、Ｔ＿３およびＲ＿４が各々水
   素原子を表す請求項１記載のモノマー。 （８）上記式中、Ｒ＿２がメチル基を表し、そしてＲ＿
   ３およびＲ＿４が両方水素原子を表す請求項１記載のモ
   ノマー。 （９）（ａ）請求項１記載の化合物少なくとも１種を全
   体のポリマーまたはコポリマーに基づいて１ないし１０
   ０重量％、および （ｂ）式Ｅで表される基を有せず、かつアクリル酸およ
   びメタクリル酸のエステルおよびアミド、イタコネート
   、シトラコネート、スチレン、ビニルピリジン、ジビニ
   ルベンゼン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、
   Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール
   、マレイミド、ビニルスルホネート、ビニルホスホネー
   ト、アルファオレフィン、イソプレン、ブタジエン、ビ
   ニルエステル、ビニルエーテルおよびハロゲン化された
   オレフィンからなる群から選択される、少なくとも１種
   のエチレン性不飽和重合性モノマーを全体のポリマーま
   たはコポリマーに基づいて９９ないし０重量％、 の重合生成物からなるポリマーまたはコポリマ（１０）
   モノマー（ｂ）がアクリル酸およびメタクリル酸のエス
   テルおよびアミド、スチレン、ブタジエン、アクリロニ
   トリル、ビニルエステル、ビニルエーテルまたはハロゲ
   ン化されたオレフィンの少なくとも１種である請求項９
   記載のポリマーまたはコポリマー。 （１１）（Ａ）化学線の劣化作用に曝されている有機ポ
   リマー、および （Ｂ＿１）安定化量の請求項１記載のエチレン性不飽和
   重合性化合物、または （Ｂ＿２） （ａ）請求項１記載の化合物少なくとも１種を全体のポ
   リマーまたはコポリマーに基づいて１ないし１００重量
   ％、および （ｂ）式Ｅで表される基を有せず、かつアクリル酸およ
   びメタクリル酸のエステルおよびアミド、イタコネート
   、シトラコネート、スチレン、ビニルピリジン、ジビニ
   ルベンゼン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、
   Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール
   、マレイミド、ビニルスルホネート、ビニルホスホネー
   ト、アルファオレフィン、イソプレン、ブタジエン、ビ
   ニルエステル、ビニルエーテルおよびハロゲン化された
   オレフィンからなる群から選択される、少なくとも１種
   のエチレン性不飽和重合性モノマーを全体のポリマーま
   たはコポリマーに基づいて９９ないし０重量％、 の遊離ラジカル重合生成物からなる安定化量のポリマー
   またはコポリマー、 を含む安定化された組成物。 （１２）成分（Ａ）がポリオレフィン、好ましくはポリ
   プロピレンである請求項１１記載の組成物。 （１３）有機材料が、アルキド、アクリル、アクリルア
   ルキド、ポリエステル、エポキシド、ウレタン、ポリア
   ミド、ビニルまたはエポキシ−ポリエステル樹脂に基づ
   いたコーティング系である請求項１１記載の組成物。 （１４）紫外線吸収剤またはその他の光安定剤を含有す
   る請求項１３記載の組成物。