KR19980081646A - 폴리알킬렌 글리콜기-함유 입체 장애 아민 - Google Patents

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Abstract

하기 화학식 (1) 및 (2)의 화합물:
(1)
(2)
상기식에서, X, Y, Z, 라디칼 R1, m 및 n은 청구 범위 제 1항과 같은 의미를 갖는다.
상술된 화합물은 광, 산화 및/또는 열에 의한 손상 효과에 대해 유기 물질을 안정화시키기 위해 유리하게 사용된다.

Description

폴리알킬렌 글리콜기-함유 입체 장애 아민
본 발명은 관능기를 포함하는 입체 장애 아민[HALS]을 폴리알킬렌 글리콜 유도체와 반응시킴으로써 수득할 수 있는 신규 수용성 중합 HALS 화합물, 광, 산화 및/또는 열에 의해 손상되는 유기 물질을 안정화시키기 위한 이들의 용도뿐만아니라, 상응하는 안정화된 조성물에 관한 것이다.
2,2,6,6-테트라메틸-4-아미노피페리디닐 라디칼을 말단에 함유하는 폴리옥시알킬렌은 미국 특허 5 210 195에 공지되어 있고, 감광성 물질에서 광 안정화제로 제시되어 있다.
특히 우수한 열안정성 및 물 또는 수성 용액 또는 일반적으로 폴리아미드, 폴리에테르, 폴리우레탄 등과 같은 극성 매질에서 용해도가 우수한 개선된 특성을 갖는 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-아미노피페리디닐)폴리옥시알킬렌 형의 신규 안정화제에 대한 필요성이 여전히 존재한다.
현재 폴리알킬렌 글리콜 유도체 및 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘을 출발 물질로하는 특정 화합물이 놀랍게도 특히, 극성 유기 물질의 안정화제로서 매우 적합하다는 것이 발견되었다. 이들 화합물은 고온에서 안정성을 갖고, 따라서 고온 공정에 적용할 수 있으므로, 그렇게 안정화된 생성물을 더욱 가공할 때, 생산량이 높아진다.
광, 산화 및/또는 열에 의해 분해되는 유기 물질을 안정화시키기 위해 유리하게 사용되는 화합물을 제공하는 것이 본 발명의 과제이다.
따라서, 본 발명은 하기 화학식(1)의 화합물 및 하기 화학식(2)의 화합물에 관한 것이다:
상기식에서,
R1은 H 또는 CH3이고,
Y는또는의 기이고,
X는 O 또는 NR3이고,
R2는 H, C1-C20알킬, C1-C20히드록시알킬, O-C1-C20알킬, CO-C1-C20알킬, O-C5-C8시클로알킬, C2-C20알케닐, C2-C20알키닐, C6-C20아릴, CO-C6-C20아릴, C7-C20아랄킬, CO-C7-C20아랄킬이고,
R3은 H, C1-C20알킬이거나 또는이고,
R4는 H, C1-C20알킬, CO-C1-C20알킬, CO-C6-C20아릴 또는 CO-C7-C20아랄킬이고,
Z는 또는이고,
R5는 C1-C20알킬렌, C2-C20알케닐렌 또는 C2-C20알키닐렌이고,
n은 1 내지 100의 수이고, 및
m은 1 내지 100의 수이다.
C1-C20알킬로서 정의된 R2, R3및 R4는 직쇄 또는 측쇄일 수 있고, 예컨대, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, n-부틸, 2차-부틸, 이소부틸, 3차-부틸, 2-에틸부틸, n-펜틸, 이소펜틸, 1-메틸펜틸, 1,3-디메틸부틸, n-헥실, 1-메틸헥실, n-헵틸, 이소헵틸, 1,1,3,3-테트라메틸부틸, 1-메틸헵틸, 3-메틸헵틸, n-옥틸, 2-에틸헥실, 1,1,3-트리메틸헥실, 1,1,3,3-테트라메틸펜틸, 노닐, 데실, 운데실, 1-메틸운데실, 도데실, 1,1,3,3,5,5-헥사메틸헥실 등이다.
알킬기 R2, R3및 R4는 바람직하게 1 내지 12개의 탄소 원자를 함유하고, R2및 R4는 바람직하게 1 내지 8개의 탄소 원자를 함유한다.
C1-C20히드록시알킬로서 정의된 R2의 경우에 직쇄 또는 측쇄 알킬은 1 내지 20개의 탄소 원자를 함유하고, OH기는 상기 사슬의 어느 위치에도 존재할 수 있다.
라디칼은 바람직하게 1 내지 3개, 특히 바람직하게는 1 또는 2개의 히드록시기를 함유하며, 그 예로는, 히드록시메틸, 히드록시에틸, 3-히드록시프로필, 2-히드록시프로필, 4-히드록시부틸, 3-히드록시부틸, 2-히드록시부틸, 5-히드록시펜틸, 4-히드록시펜틸, 3-히드록시펜틸, 2-히드록시펜틸, 6-히드록시헥실, 5-히드록시헥실, 4-히드록시헥실, 3-히드록시헥실, 2-히드록시헥실, 7-히드록시헵틸, 6-히드록시헵틸, 5-히드록시헵틸, 4-히드록시헵틸, 3-히드록시헵틸, 2-히드록시헵틸, 8-히드록시옥틸, 7-히드록시옥틸, 6-히드록시옥틸, 5-히드록시옥틸, 4-히드록시옥틸, 3-히드록시옥틸, 2-히드록시옥틸, 9-히드록시노닐, 10-히드록시데실, 11-히드록시운데실, 12-히드록시도데실, 13-히드록시트리데실, 14-히드록시테트라데실, 15-히드록시펜타데실, 16-히드록시헥사데실, 17-히드록시헵타데실, 18-히드록시옥타데실 또는 20-히드록시아이코실이 있다.
C5-C8시클로알킬로서 정의된 R2는 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸 및 시클로옥틸이다. 시클로헥실이 바람직하다.
C2-C20알케닐로서 정의된 R2는 전형적으로 비닐, 1-프로페닐, 2-프로페닐, 1-부테닐, 2-부테닐, 3-부테닐 등이다. 2 내지 12개, 특히 2 내지 8개의 탄소 원자를 함유하는 알케닐기가 바람직하다.
C2-C20알키닐로서 정의된 R1은 예컨대, 에티닐, 1-프로피닐, 2-프로피닐, 1-부티닐, 2-부티닐, 3-부티닐 등이다. 이러한 알키닐기는 바람직하게 2 내지 12개, 특히, 2 내지 8개의 탄소 원자를 함유한다.
C6-C20아릴로서 정의된 R2및 R4는 전형적으로 페닐, 나프틸, 안트라세닐, 펜난트레닐이다. 페닐이 바람직하다.
아랄킬로서 정의된 R2및 R4는 예컨대, 벤질, 펜에틸, 3-페닐프로필, α-메틸벤질 또는 α,α'-디메틸벤질이다. 벤질이 바람직하다.
C1-C20알킬렌으로서 정의된 R5는 직쇄 또는 측쇄 라디칼, 예컨대, 메틸렌, 에틸렌, 프로필렌, 트리메틸렌, 테트라메틸렌, 펜타메틸렌, 헥사메틸렌, 헵타메틸렌, 옥타메틸렌, 데카메틸렌, 도데카메틸렌 또는 옥타데카메틸렌이다. C1-C12알킬렌이 바람직하고, C1-C8알킬렌이 특히 바람직하다.
C2-C20알케닐렌으로서 정의된 R5는 전형적으로 비닐렌, 메틸비닐렌, 옥테닐에틸렌 또는 도데세닐에틸렌이다. C2-C12알케닐렌이 바람직하고, C2-C8알케닐렌이특히 바람직하다.
C2-C20알키닐렌으로서 정의된 R5는 예컨대, 에티닐렌, 2-프로피닐렌, 1-부티닐렌, 2-부티닐렌, 1-펜티닐렌, 2-펜티닐렌, 1-헥시닐렌, 2-헥시닐렌, 3-헥시닐렌 등이다. C2-C12알키닐렌이 바람직하고, C2-C8알키닐렌이 특히 바람직하다.
바람직한 화학식 (1) 및 (2)의 화합물은 R1이 수소인 화합물이다.
기타 바람직한 화학식 (1) 및 (2)의 화합물은 R2가 H, C1-C12알킬, C1-C12히드록시알킬, O-C1-C12알킬, CO-C1-C12알킬, O-C5-C8시클로알킬, C2-C12알케닐, C2-C12알키닐, C6-C14아릴, CO-C6-C14아릴, C7-C15아랄킬 또는 CO-C7-C15아랄킬인 화합물이다.
특히 바람직한 화학식 (1) 및 (2)의 화합물은 R2가 H, C1-C8알킬, O-C1-C8알킬, O-C5-C8시클로알킬, C2-C8알케닐 또는 C2-C8알키닐인 화합물이다.
기타 바람직한 화학식 (1)의 화합물은 R3이 H, C1-C12알킬 또는이고, 및 R4가 H, C1-C12알킬, CO-C1-C12알킬, CO-C6-C14아릴 또는 CO-C7-C15아랄킬인 화합물이다.
특히 바람직한 화학식 (1)의 화합물은 R3이 H 또는이고, R4가 H, C1-C8알킬, CO-C1-C8알킬, CO-페닐 또는 CO-페닐알킬인 화합물이다.
특히 바람직한 화학식 (2)의 화합물은 Z가또는인 화합물이다.
바람직한 화학식 (1) 및 (2)의 화합물은 n이 1 내지 50의 수인 화합물이다.
기타 바람직한 화학식 (2)의 화합물은 m이 1 내지 50의 수인 화합물이다.
화학식 (1)의 화합물이 바람직하다.
특히 바람직한 화학식 (1)의 화합물은 Y가의 기인 화합물이다.
매우 특히 바람직한 화학식 (1)의 화합물은
Y가의 기이고,
R2가 H 또는 C1-C4알킬이고,
R3이 H 또는이고, 및
n이 5 내지 25의 수인 화합물이다.
신규 화합물은 각각 공지된 방법, 예컨대, 화학식의 폴리알킬렌 글리콜 이산 또는 이들의 유도체(예컨대, 할로겐화물, 에스테르, 무수물)를 특히 화학식 Y-NHR3또는 Y-OH의 2 당량의 아민 또는 알코올(화학식 (1)의 화합물을 제조하기 위해) 또는 바람직하게 화학식 H-Z-H의 1 당량의 이관능성 화합물(화학식 (2)의 화합물을 제조하기 위해)과 반응시킴으로써 제조된다. 상술된 석출물은 시중에서 판매되거나 또는 공지된 방법으로 쉽게 제조될 수 있다. 2차 아민의 경우, 아미드는 공지된 방법에서 폴리알킬렌 글리콜 이산 및 티오닐 클로라이드로부터 제조될 수 있는 상응하는 폴리알킬렌 글리콜 이산 클로라이드를 아민과 반응시킴으로써 유리하게 제조된다. 폴리알킬렌 글리콜산 디메틸 에스테르를 에스테르 교환 반응시킴으로써 상응하는 신규 화합물을 편리하게 수득할 수 있다. 이러한 에스테르 교환 반응은 일반적으로 공지되어 있다.
반응은 편리하게 불활성 용매에서 행해진다. 용매는 극성 또는 무극성 유기 용매, 예컨대, 탄화수소, 할로겐화 탄화수소, 에스테르, 에테르, 케톤, 아미드, 니트릴, 3차-아민 또는 술폭시드가 사용될 수 있다; 적합한 것은 톨루엔, 헥산, 시클로헥산, 리그로인, 석유 에테르 및 기타 탄화수소 혼합물, 디메틸포름아미드, 테트라히드로푸란, 디옥산, 클로로포름, 디에틸 에테르, 디메틸 술폭시드 및 아세토니트릴이고; 특히 바람직하게 클로로포름, 테트라히드로푸란 및 톨루엔이다.
반응 중의 온도는 -20 내지 200℃, 유용하게 0 내지 180℃, 바람직하게 10 내지 140℃의 범위일 수 있다.
반응을 지속시키기 위해, 반응 혼합물의 온도는 비등 범위(환류)로 유지 시킬 수 있다. 이 목적을 위해, 용매를 함유한 반응 혼합물을 일반적으로 상압하에서 비등점까지 가열시키고, 증발되는 용매를 적당한 응축기로 응축시켜, 다시 반응 혼합물로 순환시킨다.
반응은 산소를 차단시켜서, 예컨대, 아르곤과 같은 불활성 용매를 채워서 행해질 수 있다. 그러나 산소가 각 경우마다 방해하지는 않으므로, 반응은 상술한 조처를 취하지 않고도 행해질 수 있다.
반응을 종결시킨 후, 통상적인 방법으로 정제시킬 수 있다. 혼합물을 편리하게는 물, 예컨대, 반응 혼합물에 1 내지 4배의 (얼음)물을 가함으로 먼저 희석시키고, 생성물을 직접 분리시키거나 추출할 수 있다. 클로로포름, 에틸 아세테이트 또는 톨루엔이 추출에 적합하다. 추출시키면, 생성물은 통상적인 방법으로 유기상을 건조시킨 후에 용매를 제거시킴으로 편리하게 분리될 수 있다. 부가적인 정제 과정으로서, 예컨대, 수성 탄산수소 나트륨염 용액으로 세척, 활성탄의 분산, 실리카 겔에서 크로마토그래피, 여과, 재결정 및/또는 증류와 같은 단계를 거칠 수 있다.
본 발명의 화합물은 열, 산화 또는 화학선에 의한 분해로부터 유기물질을 안정화시키는데 특히 적합하다.
이러한 물질의 전형적인 예는 다음과 같다:
1. 모노올레핀 및 디올레핀의 중합체(예컨대 폴리프로필렌, 폴리이소부틸렌, 폴리부트-1-엔, 폴리-4-메틸펜트-1엔, 폴리이소프렌 또는 폴리부타디엔) 뿐만 아니라 시클로올레핀(예컨대 시클로펜텐 또는 노르보르넨)의 중합체, 경우에 따라 가교될 수 있는 폴리에틸렌, 예컨대 고밀도 폴리에틸렌(HDPE), 저밀도 폴리에틸렌(LDPE), 선형 저밀도 폴리에틸렌(LLDPE), 측쇄 저밀도 폴리에틸렌(VLDPE).
폴리올레핀, 즉 상기에서 예를 든 모노올레핀의 중합체, 바람직하게는 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌은 상이한 방법 및 특히 하기 방법으로 제조할 수 있다:
a) 라디칼 중합 반응(통상 고압 및 승온 상태에서).
b) 주기율표의 Ⅳb, Ⅴb, Ⅵb 또는 Ⅷ족 금속을 통상 하나 또는 하나 이상 함유하는 촉매를 사용하는 촉매 반응. 상기 금속은 보통 π- 또는 σ-배위 결합할 수 있는 리간드, 예컨대 산화물, 할로겐화물, 알코올레이트, 에스테르, 에테르, 아민, 알킬, 알켄일 및/또는 아릴을 하나 또는 하나 이상을 가진다. 상기 금속 착물은 유리(free)형태 이거나 예컨대 활성 염화 마그네슘, 염화 티탄(Ⅲ), 알루미나 또는 산화 실리콘과 같은 기재에 고정된 형태일 수 있다. 상기 촉매는 중합 반응 매질에 용해 또는 불용성일 수 있다. 상기 촉매는 중합 과정에서 단독으로 사용되거나 다른 활성화제, 예컨대 금속 알킬, 금속 수소화물, 금속 알킬 할로겐화물, 금속 알킬 산화물 또는 금속 알킬옥산이 사용될 수 있는데, 상기 금속은 주기율표의 Ⅰa, Ⅱa, Ⅲa족의 원소이다. 활성화제는 다른 에스테르, 에테르, 아민 또는 실릴 에테르기에 의해 유리하게 개질될 수 있다. 상기 촉매 계는 보통 필립스, 표준 오일 인디아나, 지글러(-나타), TNZ(듀퐁), 메탈로센 또는 단일 자리 촉매(SSC)로 통상 명명되어 있다.
2. 1)에서 상술한 중합체의 혼합물, 예컨대 폴리프로필렌과 폴리이소부틸렌, 폴리프로필렌과 폴리에틸렌(예컨대 PP/HDPE, PP/LDPE) 및 상이한 형태의 폴리에틸렌(예컨대 LPDE/HDPE)간의 혼합물.
3. 모노올레핀 및 디올레핀 상호간 또는 기타 비닐 단량체와의 공중합체, 예컨대 에틸렌/프로필렌 공중합체, 직쇄 저밀도 프로필렌(LLDPE) 및 이들의 저밀도 폴리에틸렌(LDPE)과의 혼합물, 프로필렌/부트-1-엔 공중합체, 프로필렌/이소부틸렌 공중합체, 에틸렌/부트-1-엔 공중합체, 에틸렌/헥센 공중합체, 에틸렌/메틸펜텐 공중합체, 에틸렌/헵텐 공중합체, 에틸렌/옥텐 공중합체, 프로필렌/부타디엔 공중합체, 이소부틸렌/이소프렌 공중합체, 에틸렌/알킬 아크릴레이트 공중합체, 에틸렌/알킬 메타크릴레이트 공중합체, 에틸렌/비닐 아세테이트 공중합체 및 이들과 일산화탄소와의 공중합체 또는 에틸렌/아크릴산 공중합체 및 이들의 염(이오노머) 뿐만 아니라 에틸렌과 프로필렌 및 디엔(예컨대 헥사디엔, 디시클로펜타디엔 또는 에틸리덴-노르보르넨)과의 삼합체; 및 상기 공중합체 상호간 또는 상기 1)에서 상술한 중합체와의 혼합물, 예컨대 폴리프로필렌/에틸렌-프로필렌 공중합체, LDPE/에틸렌-비닐 아세테이트 공중합체(EVA), LDPE/에틸렌-아크릴산 공중합체(EAA), LLDPE/EVA, LLDPE/EAA 및 교차 또는 랜덤 폴리알킬렌/일산화탄소 공중합체 및 이들과 다른 중합체(예컨대 폴리아미드)의 혼합물.
4. 수소화 개질물(예컨대 점착제 수지)을 포함하는 탄화수소 수지(예컨대 C5-C9) 및 폴리알킬렌 및 전분의 혼합물.
5. 폴리스티렌, 폴리(p-메틸스티렌), 폴리(α-메틸스티렌).
6. 예컨대 스티렌/부타디엔, 스티렌/아크릴로니트릴, 스티렌/알킬 메타크릴레이트, 스티렌/부타디엔/알킬 아크릴레이트, 스티렌/부타디엔/알킬 메타크릴레이트, 스티렌/말레산 무수물, 스티렌/아크릴로니트릴/메틸 아크릴레이트와 같은 스티렌 또는 α-메틸스티렌과 디엔 또는 아크릴산 유도체와의 공중합체; 스티렌 공중합체 및 예컨대 폴리아크릴레이트, 디엔 중합체 또는 에틸렌/프로필렌/디엔 삼합체와 같은 다른 중합체으로 이루어진 고 충격 강도의 혼합물; 및 예컨대 스티렌/부타디엔/스티렌, 스티렌/이소프렌/스티렌, 스티렌/에틸렌/부틸렌/스티렌 또는 스티렌/에틸렌/프로필렌/스티렌과 같은 스티렌의 블록 공중합체.
7. 예컨대 폴리부타디엔상의 스티렌, 폴리부타디엔-스티렌 또는 폴리부타티엔-아크릴로니트릴 공중합체상의 스티렌, 폴리부타디엔상의 스티렌 및 아크릴로니트릴(또는 메타크릴로니트릴); 폴리부타디엔상의 스티렌, 아크릴로니트릴 및 메틸메타크릴레이트; 폴리부타디엔상의 스티렌 및 말레산 무수물; 폴리부타디엔상의 스티렌, 아크릴로니트릴 및 말레산 무수물 또는 말레산이미드, 폴리부타디엔상의 스티렌 및 말레산이미드; 폴리부타디엔상의 스티렌 및 알킬 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트; 에틸렌/프로필렌/디엔 삼합체상의 스티렌 및 아크릴로니트릴; 폴리알킬아크릴레이트 또는 폴리알킬 메타크릴레이트상의 스티렌 및 아크릴로니트릴, 아크릴레이트/부타디엔 공중합체상의 스티렌 및 아크릴로니트릴과 같은 스티렌 또는 α-메틸스티렌의 그라프트 공중합체 뿐만 아니라 이들과 6)항에 수록한 공중합체(예컨대, 소위 ABS, MBS, ASA 또는 AES 중합체로 공지된 공중합체 혼합물)의 혼합물.
8. 예컨대 폴리클로로프렌, 염소화 고무, 이소부티렌-이소프렌(할로부틸 고무)의 염소화 또는 브롬화 공중합체, 염소화 또는 술포염소화 폴리에틸렌, 에틸렌 및 염소화에틸렌의 공중합체, 에피클로로히드린 동종- 및 공중합체, 특히 할로겐-함유 비닐 화합물의 중합체, 예컨대 폴리비닐 클로라이드, 폴리비닐리덴 클로라이드, 폴리비닐 플루오라이드, 폴리비닐리덴 플루라이드와 같은 할로겐 함유 중합체뿐만 아니라, 예컨대 비닐 클로라이드/비닐리덴 클로라이드, 비닐 클로라이드/비닐 아세테이트 또는 비닐리덴 클로라이드/비닐 아세테이트 공중합체와 같은 이들의 공중합체.
9. 폴리아크릴레이트 및 폴리메타크릴레이트와 같은 α,β-불포화산 및 이들의 유도체로부터 유도된 중합체; 부틸 아크릴레이트에 의해 내충격-개질된 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리아크릴아미드 및 폴리아크릴로니트릴.
10. 9)항에서 상술한 단량체 상호간 또는 다른 불포화 단량체간의 공중합체. 예컨대 아크릴로니트릴/부타디엔 공중합체, 아크릴로니트릴/알킬 아크릴레이트 공중합체, 아크릴로니트릴/알콕시알킬 아크릴레이트 공중합체 또는 아크릴로니트릴/비닐 할라이드 공중합체 또는 아크릴로니트릴/알킬 메타크릴레이트/부타디엔 삼합체.
11. 예컨대 폴리비닐 알코올, 폴리비닐 아세테이트, 폴리비닐 스테아레이트, 폴리비닐 벤조에이트 또는 폴리비닐 말레에이트, 폴리비닐부티랄, 폴리알릴 프탈레이트 또는 폴리알릴 멜라민과 같은 불포화 알코올 및 아민 또는 이들의 아실 유도체로부터 유도된 중합체; 뿐만 아니라 1)항에서 상술한 올레핀과 이들의 공중합체.
12. 폴리알킬렌 글리콜, 폴리에틸렌 옥사이드, 폴리프로필렌 옥사이드와 같은 고리형 에테르의 동종 중합체 및 공중합체 또는 이들과 비스글리시딜 에테르와의 공중합체.
13. 폴리아세탈, 예컨대 폴리옥시메틸렌 및 예컨대 에틸렌 옥사이드를 공단량체로 함유하는 폴리옥시메틸렌; 열가소성 폴리우레탄, 아크릴레이트 또는 MBS에 의해 개질된 폴리아세탈.
14. 폴리페닐렌 옥사이드 및 술피드, 및 폴리페닐렌 옥사이드와 스티렌 중합체 또는 폴리아미드의 혼합물.
15. 한 쪽 끝에는 히드록시기를 말단기로, 다른 한 쪽에는 지방족 또는 방향족 폴리이소시아네이트를 갖는 폴리에테르, 폴리에스테르 또는 폴리부타디엔으로부터 유도된 폴리우레탄, 뿐만 아니라 이들의 전구체.
16. 디아민 및 디카르복시산 및/또는 아미노카르복시산 또는 상응하는 락탐으로부터 유도된 폴리아미드 및 코폴리아미드, 예컨대 폴리아미드 4, 폴리아미드 6, 폴리아미드 6/6, 6/10, 6/9, 6/12, 4/6, 12/12, 폴리아미드 11, 폴리아미드 12, m-크실렌 디아민 및 아디프산에서 유도된 방향족 폴리아미드; 헥사메틸렌 디아민 및 이소프탈산 또는/및 테레프탈산 및 경우에 따라 개질제로서, 예컨대 폴리-2,4,4-트리메틸헥사메틸렌테레프탈아미드, 폴리-m-페닐렌이소프탈아미드와 같은 탄성중합체로부터 제조되는 폴리아미드; 상술한 폴리아미드와 폴리올레핀, 올레핀 공중합체, 이오노머 또는 화학적으로 결합된 또는 분지된 탄성중합체와의 블록 공중합체; 또는 폴리에테르, 예컨대 폴리에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜 또는 폴리테트라메틸렌 글리콜과의 블록 공중합체; 뿐만 아니라 또한 EPDM 또는 ABS에 의해 개질된 폴리아미드 또는 코폴리아미드; 및 가공 중에 축합된 폴리아미드(반응물 사출 성형법(RIM) 폴리아미드 계).
17. 폴리우레아, 폴리이미드, 폴리아미드-이미드 및 폴리벤즈이미다졸.
18. 예컨대 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리-1,4-디메틸올-시클로헥산 테레프탈레이트 및 폴리히드록시벤조에이트와 같은 디카르복시산 및 디올 및/또는 히드록시카르복시산으로부터 유도된 폴리에스테르 또는 상응하는 락톤 뿐만 아니라 히드록시 말단기를 갖는 폴리에테르로부터 유도된 블록-코폴리에테르 에스테르; 및 폴리카르보네이트 또는 MBS로 개질된 폴리에스테르.
19. 폴리카르보네이트 및 폴리에스테르 카르보네이트.
20. 폴리술폰, 폴리에테르 술폰 및 폴리에테르 케톤.
21. 한쪽에는 알데히드로부터, 다른 한쪽은 페놀, 우레아 및 멜라민으로부터 유도된 가교 중합체, 예컨대 페놀/포름알데히드 수지, 우레아/포름알데히드 수지 및 멜라민/포름알데히드 수지.
22. 건조 및 비건조 알키드 수지.
23. 가교제로 다가 알코올 및 비닐 화합물 및 저가연성인 이들의 할로겐-함유 개질물과 포화 및 불포화 디카르복시산의 코폴리에스테르로부터 유도된 불포화 폴리에스테르 수지.
24. 치환 아크릴레이트, 예컨대 에폭시 아크릴레이트, 우레탄 아크릴레이트 또는 폴리에스테르 아크릴레이트로부터 유도된 가교성 아크릴 수지.
25. 멜라민 수지, 우레아 수지, 이소시아네이트, 이소시아누레이트, 폴리이소시아네이트 또는 에폭시 수지로 가교된 알키드 수지, 폴리에스테르 수지 및 아크릴레이트 수지.
26. 폴리에폭시드, 예컨대 비스 글리시딜 에테르 또는 지환족 디에폭시드로부터 유도된 가교된 에폭시 수지.
27. 천연 중합체, 예컨대 셀룰로오스, 고무, 젤라틴 및 화학적으로 개질된 이들의 동족 유도체, 예컨대 셀룰로오스 아세테이트, 셀룰로오스 프로피오네이트 및 셀룰로오스 부티레이트 또는 메틸 셀룰로오스와 같은 셀룰로오스 에테르; 뿐만 아니라 송진 및 이들의 유도체.
28. 상술한 중합체의 혼합물(복혼합물), 예컨대 PP/EPDM, 폴리아미드/EPDM 또는 ABS, PVC/EVA, PVC/ABS, PVC/MBS, PC/ABS, PBTP/ABS, PC/ASA, PC/PBT, PVC/CPE, PVC/아크릴레이트, POM/열가소성 PUR, PC/열가소성 PUR, POM/아크릴레이트, POM/MBS, PPO/HIPS, PPO/PA 6.6 및 공중합체, PA/HDPE, PA/PP, PA/PPO.
따라서, 본 발명은 a) 산화, 열 및/또는 화학선 분해/축적에 민감한 유기 물질 및 b) 제 1항에 따른 하나 이상의 신규 화합물을 포함하는 조성물 뿐만아니라 산화, 열 및/또는 화학선 분해/축적에 대해 유기 물질을 안정화시키기 위한 신규 화합물의 용도에 관한 것이다.
또한 본 발명은 하나 이상의 신규 화합물을 유기 물질에 부가하는 것을 포함하는 산화, 열 및/또는 화학선 분해/축적에 대해 상기 유기 물질을 안정화시키기 위한 방법을 포함한다.
특히, 중요한 것은 합성 유기 물질 중합체 뿐만아니라 상응하는 조성물에서 안정화제로서 신규 화합물의 용도이다.
보호될 유기 물질은 바람직하게 천연, 반-합성 또는 특히 합성 유기 물질이다. 특히 바람직한 것은 합성 유기 중합체 또는 그러한 중합체의 혼합물, 특히 폴리에스테르 및 폴리아미드와 같은 열가소성 중합체이다. 기타 특히 바람직한 유기 물질은 피복 조성물이다. 본 발명에 따라 유리하게 안정화되는 피복 조성물은 Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, 5. Ed., A 18권, 359-464쪽, VCH Verlagsgesellschaft, Weinheim 1991에 기재되어 있다.
특히 중요한 것은 래커와 같은 피복제용 안정화제로서 신규 화합물의 용도이다. 따라서 다른 측면에서 본 발명은 성분 (A)가 필름-형성 결합제인 조성물에 관한 것이다.
본 발명에 따른 피복제는 고형분 결합제 A 100중량부에 대해서 신규 안정화제 B를 바람직하게는 0.01 내지 10중량부, 더욱 바람직하게는 0.05 내지 10중량부 및, 특히 바람직하게는 0.1 내지 5중량부를 함유한다.
다층 피복 시스템도 또한 가능하며, 이때 상부 피복층에서 성분 (B)의 농도는 고형분 결합제 A의 100 중량부 당 예컨대 1 내지 15중량부, 특히 3 내지 10중량부로 보다 높을 수 있다.
피복 안정화제로서 신규 화합물의 용도는 박리, 즉 피복이 기재로부터 벗겨지는 것을 방지하는 부가적인 잇점을 제공한다. 이러한 잇점은 금속 기재인 경우에 특히 중요하며, 또 금속 기재 상의 다층 피복 시스템의 경우에도 중요하다.
적합한 결합제(성분 (A))는 본 기술 분야에서는 통상적으로 사용되는 것이며, 예컨대 Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, 5. Ed., Vol. A 18, 368∼426쪽, VCH Verlagsgesellschaft, Weinheim 1991에 기재되어 있다. 일반적으로 결합제는 통상 열가소성 또는 열경화성 수지, 주로 열경화성 수지를 기재로 하는 필름-형성 결합제이다. 이들의 전형적인 예로는 알키드, 아크릴, 폴리에스테르, 페놀, 멜라민, 에폭시 및 폴리우레탄 수지; 및 이들의 혼합물이 있다.
성분 (A)은 경화 촉매의 첨가가 유리할 수 있는 냉- 또는 열-경화성 결합제일 수 있다. 결합제의 경화를 촉진시키기에 적합한 촉매의 예는 Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, Vol. A 18, 469쪽, VCH Verlagsgesellschaft, Weinheim 1991에 기재되어 있다.
성분 (A)이 관능성 아크릴레이트 수지 및 가교제를 포함하는 결합제인 표면 피복제가 바람직하다.
특정 결합제를 함유하는 피복제의 예는 다음과 같다:
1. 경우에 따라 경화 촉매를 부가하는 냉- 또는 열- 가교성 알키드, 아크릴레이트, 폴리에스테르, 에폭시 또는 멜라민 수지 또는 이들 수지의 혼합물을 기재로 하는 래커;
2. 히드록시기-함유 아크릴레이트, 폴리에스테르 또는 폴리에테르 수지 및 지방족 또는 방향족 이소시아네이트, 이소시아누레이트 또는 폴리이소시아네이트를 기재로 하는 2-성분 폴리우레탄 래커;
3. 가열 건조 중에 블로킹 해제되는 블로킹된 이소시아네이트, 이소시아누레이트 또는 폴리이소시아네이트를 기재로 하는 1-성분 폴리우레탄 래커;
4. 지방족 또는 방향족 우레탄 또는 폴리우레탄 및 히드록시기-함유 아크릴레이트, 폴리에스테르 또는 폴리에테르 수지를 기재로 하는 1-성분 폴리우레탄 래커;
5. 우레탄 구조에 자유 아민 기를 갖는 지방족 또는 방향족 우레탄 또는 폴리우레탄 및 경우에 따라 경화 촉매를 첨가하는 멜라민 수지 또는 폴리에테르 수지를 기재로 하는 1-성분 폴리우레탄 래커;
6. (폴리)케티민 및 지방족 또는 방향족 이소시아네이트, 이소시아누레이트 또는 폴리이소시아네이트를 기재로 하는 2-성분 래커;
7. (폴리)케티민 및 불포화 아크릴레이트 수지 또는 폴리아세토아세테이트 수지 또는 메타크릴아미도글리콜레이트 메틸 에스테르를 기재로 하는 2-성분 래커;
8. 카르복시- 또는 아미노기-함유 폴리아크릴레이트 및 폴리에폭시드를 기재로 하는 2-성분 래커;
9. 무수물기를 함유하는 아크릴레이트 수지 및 폴리히드록시 또는 폴리아미노 성분을 기재로 하는 2-성분 래커;
10. 아크릴레이트-함유 무수물 및 폴리에폭사이드를 기재로 하는 2-성분 래커;
11. (폴리)옥사졸린 및 무수물기를 함유하는 아크릴레이트 수지, 또는 불포화 아크릴레이트 수지 또는 지방족 또는 방향족 이소시아네이트, 이소시아누레이트 또는 폴리이소시아네이트를 기재로 하는 2-성분 래커;
12. 불포화 폴리아크릴레이트 및 폴리말로네이트를 기재로 하는 2-성분 래커;
13. 열가소성 아크릴레이트 수지 또는 에테르화 멜라민 수지와 조합한 외부 가교된 아크릴레이트 수지를 기재로 하는 열가소성 폴리아크릴레이트 래커;
14. 실옥산- 또는 플루오르-개질된 아크릴레이트 수지를 기재로 하는 도료계.
신규 피복제는 성분 (A) 및 (B) 이외에 성분 (C)으로서 바람직하게는 하나 이상의 부가적인 광안정화제, 특히 UV 흡수제, 예컨대 상기 2.1 내지 2.4, 2.7 또는 2.8항에 열거한 것과 같은 공안정화제를 포함한다. 공업적으로 특히 중요한 것은 2-히드록시페닐-2H-벤조트리아졸 및/또는 2-히드록시페닐-1,3,5-트리아진의 첨가이다.
부가적인 광안정화제[성분 (C)]는 바람직하게 고형분 결합제 100 중량부당 0.05 내지 5 중량부의 양으로 사용된다.
성분 (A), (B) 및 경우에 따라 (C) 이외에, 피복제는 다른 성분, 예컨대 용매, 안료, 염료, 가소제, 안정화제, 요변성제, 건조 촉매 및/또는 유동 조절제를 포함할 수도 있다.
사용가능한 성분의 예는 Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, 5. Ed., Vol.A 18, 429∼471쪽, VCH Verlagsgesellschaft, Weinheim 1991에 기재되어 있다.
사용가능한 건조 촉매 또는 경화 촉매는, 전형적으로 유기 금속 화합물, 아민, 아미노기-함유 수지 및/또는 포스핀이다. 유기 금속 화합물은 예컨대 금속 카르복실레이트, 특히 금속 Pb, Mn, Co, Zn, Zr 또는 Cu의 카르복실레이트, 또는 금속 킬레이트, 특히 금속 Al, Ti 또는 Zr의 킬레이트, 또는 유기주석 화합물과 같은 유기 금속 화합물이 있다.
금속 카르복실레이트의 전형적인 예는 Pb, Mn 또는 Zn의 스테아레이트, Co, Zn 또는 Cu의 옥토에이트, Mn 및 Co의 나프테네이트 또는 상응하는 리놀레에이트, 레지네이트 또는 탈레이트이다.
금속 킬레이트의 전형적인 예는 아세틸 아세톤, 에틸아세틸 아세테이트, 살리실알데히드, 살리실알독심, o-히드록시아세토페논 또는 에틸 트리플루오르아세틸 아세테이트의 알루미늄, 티탄 또는 지르코늄 킬레이트 및 상기 금속의 알콕시화물이다.
유기주석 화합물의 전형적인 예는 산화 디부틸주석, 디부틸주석 디라우레이트 또는 디부틸주석 디옥토에이트이다.
아민의 예는 특히 삼차 아민, 예컨대 트리부틸아민, 트리에탄올아민, N-메틸디에탄올아민, N-디메틸에탄올아민, N-에틸모르폴린, N-메틸모르폴린 또는 디아자비시클로옥탄(트리에틸렌디아민) 및 이들의 염이다. 다른 예는 4급 암모늄염, 예컨대 염화 트리메틸벤질암모늄이다.
아미노기-함유 수지는 동시에 결합제 및 경화 촉매이다. 이들의 전형적인 예는 아미노기-함유 아크릴레이트 공중합체이다.
경화 촉매로서 포스핀, 예컨대 트리페닐포스핀을 사용할 수도 있다.
본 발명의 표면 피복제는 또한 방사선-경화성 피복제일 수 있다. 이 경우, 결합제는 이들의 도포 후 화학선에 의해 경화, 즉 가교된 고분자의 덩어리 형태로 전환되는 에틸렌성 불포화 결합(전중합체)을 갖는 단량체성 또는 올리고머성 화합물로 주로 구성된다. UV-경화계는 통상 광개시제를 포함한다. 상응하는 계는 상술한 문헌 Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, 5. Ed., Vol. A 18, 451∼453쪽에 기재되어 있다. 방사선 경화성 피복제에서 신규 안정화제는 입체장애 아민의 부가없이도 사용될 수 있다.
신규 표면 피복제는 임의의 기재, 예컨대 금속, 목재, 플라스틱 또는 세라믹 물질에도 도포될 수 있다. 이들은 바람직하게 자동차 도료용 상도(topcoat)로서 사용된다. 상도가 하층은 착색되고 그 상층은 착색되지 않은 2층으로 구성된다면, 신규 피복제는 상층 또는 하층 또는 양층 모두에 사용할 수 있지만, 상층에 사용하는 것이 바람직하다.
신규 표면 피복제는 통상의 방법, 예컨대 살포, 분무, 유동 도포, 침지 또는 전기영동법에 의해 기재에 도포될 수 있다; Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, 5. Ed., Vol. A 18, 491∼500쪽 참조.
결합제계에 따라 표면 피복제는 상온에서 또는 가열에 의해 경화될 수 있다. 피복은 바람직하게는 50 내지 150℃에서 경화되고, 분말 피복은 보다 높은 온도에서 경화된다.
본 발명에 따라서 수득한 피복제는 광, 산소 및 열에 의한 손상 효과에 대하여 탁월한 안정성을 갖는다. 상기 방식으로 수득한 피복, 예컨대 래커의 양호한 광안정성 및 내후성이 특히 언급되어 있다.
따라서 본 발명은 하나 이상의 화합물을 부가함으로써 광, 산소 및 열에 의한 손상 효과에 대해 안정화된 표면 피복물, 특히 래커에 관한 것이다. 상기 래커는 바람직하게는 자동차용 상도이다. 본 발명은 또 상기 피복제에 하나 이상의 신규 화합물을 혼합하는 것을 포함하는, 광, 산소 및/또는 열에 의한 손상으로부터 유기 중합체를 기재로 하는 피복을 안정화시키는 방법, 및 광, 산소 및/또는 열에 의한 손상에 대한 안정화제로서 피복제에서 신규 화합물의 용도에 관한 것이다.
피복제는 결합제가 용해성인 유기 용매 또는 용매 혼합물을 함유할 수 있다. 그러나, 피복제는 수용액 또는 분산액일 수 있다. 전색제는 유기 용매 및 물의 혼합물일 수도 있다. 피복제는 높은 고형분 래커 또는 무용매(예컨대 분말 피복)일 수도 있다. 분말 피복은 Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, 5. Ed., Vol. A 18, 438∼444쪽에 기재되어 있다. 분말 피복은 분말 슬러리 형태, 즉 바람직하게는 수중 분말 분산액으로 존재할 수도 있다.
안료는 무기, 유기 또는 금속 안료일 수 있다. 신규 피복제는 바람직하게는 안료를 전혀 포함하지 않고 또 투명 피복 제제로서 사용된다.
자동차 산업에서 도포시키기 위한 마무리용 래커로서, 특히 피복계의 착색 또는 미착색 상도로서 피복제의 용도가 바람직하다. 그러나 하도를 위한 피복제의 용도도 가능하다.
신규 조성물로 안정화시킬 다른 물질은 기록 물질이다. 이들 물질은 사진 재생 및 다른 전자 복사 기술에 대해, 예컨대 Research Disclosure 1990, 31429(474-480쪽)에 기재된 물질을 의미한다.
신규 화합물은 안정화될 유기 물질의 중량을 기준으로 하여 0.01 내지 10%, 바람직하게는 0.01 내지 5%, 보다 바람직하게는 0.01 내지 2%의 양으로 안정화될 물질에 일반적으로 부가된다. 신규 화합물은 특히 바람직하게는 0.05 내지 1.5%, 가장 바람직하게는 0.1 내지 0.5%의 양으로 사용된다.
신규 화합물 및 적당한 기타 첨가제의 물질로의 혼입은 공지된 방법에 의해, 전형적으로 혼합 또는 적용시킴으로 행해질 수 있다. 중합체, 특히 합성 중합체는 성형 과정이나 그 전에 또는 용해 또는 분산된 화합물을 중합체에 적용시키고 필요에 따라 이어서 용매를 증발시킴으로써 혼입될 수 있다. 탄성 중합체의 경우, 이들은 라텍스로서 안정화될 수 있다. 신규 화합물은 상응하는 단량체의 중합 반응 전, 중간 또는 직후에 또는 가교반응 전에 부가될 수 있다. 신규 화합물은 안정화될 유기 물질에 상기와 같이 또는 캡슐화(예컨대, 왁스, 오일 또는 중합체 내에서)되어 혼입될 수 있다. 중합반응 전 또는 중간에 부가하는 경우, 신규 화합물은 중합체의 사슬 길이의 조절제(사슬 종결제)로서 작용할 수도 있다.
신규 화합물은 이들 화합물을 안정화시킬 플라스틱에 예컨대 2.5 내지 25 중량%의 농도로 포함하는 마스터 뱃치 형태로 부가될 수도 있다.
신규 화합물은 하기의 방법에 의해 편리하게 혼입될 수 있다:
- 유제 또는 분산제로서(예컨대 라텍스 또는 유제 중합체에);
- 부가적 성분 또는 중합체 혼합물을 혼합하는 동안 건조 혼합물로서;
- 가공 장치에 직접 부가하는 것에 의해(예컨대 압출기, 내부 혼합기 등);
- 용액 또는 용융물로서.
중합체 조성물은 상이한 형태로 사용되거나 또는 상이한 생성물로 예컨대 섬유, 필름, 테이프, 성형 조성물, 프로필 또는 도료, 접착제 또는 퍼티용 결합제로 가공될 수 있다.
신규 화합물 이외에, 본 발명에 따른 조성물은 부가적인 성분(c)로서, 하기와 같은 하나 또는 다수의 통상적인 첨가제를 포함할 수 있다.
1. 산화 방지제
1.1. 알킬화 모노페놀, 예컨대 2,6-디-삼차-부틸-4-메틸페놀, 2-삼차-부틸-4,6-디메틸페놀, 2,6-디-삼차-부틸-4-에틸페놀, 2,6-디-삼차-부틸-4-n-부틸페놀, 2,6-디-삼차-부틸-4-이소부틸페놀, 2,6-디-시클로펜틸-4-메틸페놀, 2-(α-메틸시클로헥실)-4,6-디메틸페놀, 2,6-디-옥타데실-4-메틸페놀, 2,4,6-트리시클로헥실페놀, 2,6-디-삼차-부틸-4-메톡시메틸페놀, 직쇄나 측쇄에 분지된 노닐페놀, 예컨대 2,6-디-노닐-4-메틸페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸운데스-1'-일)페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸헵타데크-1'-일)페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸트리데크-1'-일)페놀 및 이들의 혼합물.
1.2. 알킬티오메틸페놀, 예컨대 2,4-디옥틸티오메틸-6-삼차-부틸페놀, 2,4-디옥틸티오메틸-6-메틸페놀, 2,4-디옥틸티오메틸-6-에틸페놀, 2,6-디-도데실티오메틸-4-노닐페놀.
1.3. 히드로퀴논 및 알킬화 히드로퀴논, 예컨대 2,6-디-삼차-부틸-4-메톡시페놀, 2,5-디-삼차-부틸히드로퀴논, 2,5-디-삼차-아밀히드로퀴논, 2,6-디페닐-4-옥타데실옥시페놀, 2,6-디-삼차-부틸히드로퀴논, 2,5-디-삼차-부틸-4-히드록시아니솔, 3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시아니솔, 3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐 스테아레이트, 비스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐) 아디페이트.
1.4. 토코페롤, 예컨대 α-토코페롤, β-토코페롤, γ-토코페롤, δ-토코페롤 및 이들의 혼합물(비타민E).
1.5. 히드록시화 티오디페닐 에테르, 예컨대 2,2'-티오비스(6-삼차-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-티오비스(4-옥틸페놀), 4,4'-티오비스(6-삼차-부틸-3-메틸페놀), 4,4'-티오비스-(6-삼차-부틸-2-메틸페놀), 4,4'-티오비스-(3,6-디-이차-아밀페놀), 4,4'-비스-(2,6-디메틸-4-히드록시페닐)디술피드.
1.6. 알킬리덴비스페놀, 예컨대 2,2'-메틸렌비스(6-삼차-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-삼차-부틸-4-에틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[4-메틸-6-(α-메틸시클로헥실)-페놀], 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-시클로헥실페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-노닐-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-삼차-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-삼차-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(6-삼차-부틸-4-이소부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[6-(α-메틸벤질)-4-노닐페놀], 2,2'-메틸렌비스[6-(α,α-디메틸벤질)-4-노닐페놀], 4,4'-메틸렌비스(2,6-디-삼차-부틸페놀), 4,4'-메틸렌비스(6-삼차-부틸-2-메틸페놀), 1,1-비스(5-삼차-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)부탄, 2,6-비스(3-삼차-부틸-5-메틸-2-히드록시벤질)-4-메틸페놀, 1,1,3-트리스(5-삼차-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)부탄, 1,1-비스(5-삼차-부틸-4-히드록시-2-메틸-페닐)-3-n-도데실메르캅토부탄, 에틸렌 글리콜 비스[3,3-비스(3'-삼차-부틸-4'-히드록시페닐)부티레이트], 비스(3-삼차-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)디시클로펜타디엔, 비스[2-(3'-삼차-부틸-2'-히드록시-5'-메틸벤질)-6-삼차-부틸-4-메틸페닐]테레프탈레이트, 1,1-비스(3,5-디메틸-2-히드록시페닐)부탄, 2,2-비스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐)프로판, 2,2-비스-(5-삼차-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)-4-n-도데실메르캅토부탄, 1,1,5,5-테트라-(5-삼차-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)펜탄.
1.7. O-, N- 및 S-벤질 화합물, 예컨대 3,5,3',5'-테트라-삼차-부틸-4,4'-디히드록시디벤질 에테르, 옥타데실-4-히드록시-3,5-디메틸벤질메르캅토아세테이트, 트리데실-4-히드록시-3,5-디-삼차-부틸벤질메르캅토아세테이트, 트리스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질)아민, 비스(4-삼차-부틸-3-히드록시-2,6-디메틸벤질)디티오테레프탈레이트, 비스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질)술피드, 이소옥틸-3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질메르캅토아세테이트.
1.8. 히드록시벤질화 말로네이트, 예컨대 디옥타데실 2,2-비스(3,5-디-삼차-부틸-2-히드록시벤질)말로네이트, 디-옥타데실-2-(3-삼차-부틸-4-히드록시-5-메틸벤질)-말로네이트, 디-도데실메르캅토에틸-2,2-비스-(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질)말로네이트, 비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐]-2,2-비스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질)말로네이트.
1.9. 방향족 히드록시벤질 화합물, 예컨대 1,3,5-트리스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질)-2,4,6-트리메틸벤젠, 1,4-비스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질)-2,3,5,6-테트라메틸벤젠, 2,4,6-트리스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질)페놀.
1.10. 트리아진 화합물, 예컨대 2,4-비스(옥틸메르캅토)-6-(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸메르캅토-4,6-비스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸메르캅토-4,6-비스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페녹시)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페녹시)-1,2,3-트리아진, 1,3,5-트리스-(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(4-삼차-부틸-3-히드록시-2,6-디메틸벤질)이소시아누레이트, 2,4,6-트리스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐에틸)-1,3,5-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)-헥사히드로-1,3,5-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디시클로헥실-4-히드록시벤질)이소시아누레이트.
1.11. 벤질포스포네이트, 예컨대 디메틸-2,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질포스포네이트, 디에틸-3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질포스포네이트, 디옥타데실-3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질포스포네이트, 디옥타데실-5-삼차-부틸-4-히드록시-3-메틸벤질포스포네이트, 3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질포스폰산의 모노에틸 에스테르의 칼슘 염.
1.12. 아실아미노페놀, 예컨대 4-히드록시라우르아닐리드, 4-히드록시스테아르아닐리드, 옥틸 N-(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐)카르바메이트.
1.13.일가 또는 다가 알코올, 예컨대 메탄올, 에탄올, n-옥탄올, i-옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2.2.2]옥탄과β-(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐)프로피온산의 에스테르.
1.14.일가 또는 다가 알코올, 예컨대 메탄올, 에탄올, n-옥탄올, i-옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사아미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2.2.2]옥탄과β-(5-삼차-부틸-4-히드록시-3-메틸페닐)프로피온산의 에스테르.
1.15.일가 또는 다가 알코올, 예컨대 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2.2.2]옥탄과β-(3,5-디시클로헥실-4-히드록시페닐)프로피온산의 에스테르.
1.16.일가 또는 다가 알코올, 예컨대 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2.2.2]옥탄과3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐 아세트산의 에스테르.
1.17. β-(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐)프로피온산의 아미드, 예컨대 N,N'-비스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)헥사메틸렌디아민, N,N'-비스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)트리메틸렌디아민, N,N'-비스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)히드라진.
1.18. 아스코르브산(비타민 C).
1.19. 아민 산화방지제, 예컨대 N,N'-디-이소프로필-p-페닐렌디아민, N,N'-디-이차-부틸-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(1,4-디메틸펜틸)-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(1-에틸-3-메틸펜틸)-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(1-메틸헵틸)-p-페닐렌디아민, N,N'-디시클로헥실-p-페닐렌디아민, N,N'-디페닐-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(2-나프틸)-p-페닐렌디아민, N-이소프로필-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N-(1,3-디메틸부틸)-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N-(1-메틸헵틸)-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N-시클로헥실-N'-페닐-p-페닐렌디아민, 4-(p-톨루엔술파모일)-디페닐아민, N,N'-디메틸-N,N'-디-이차-부틸-p-페닐렌디아민, 디페닐아민, N-알릴디페닐아민, 4-이소프로폭시디페닐아민, N-페닐-1-나프틸아민, N-(4-삼차-옥틸페닐)-1-나프틸아민, N-페닐-2-나프틸아민, 옥틸화 디페닐아민, 예컨대 p,p'-디-삼차-옥틸디페닐아민, 4-n-부틸아미노페놀, 4-부티릴아미노페놀, 4-노나노일아미노페놀, 4-도데카노일아미노페놀, 4-옥타데카노일아미노페놀, 비스(4-메톡시페닐)아민, 2,6-디-삼차-부틸-4-디메틸아미노메틸페놀, 2,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐메탄, N,N,N',N'-테트라메틸-4,4'-디아미노디페닐메탄, 1,2-비스[(2-메틸페닐)아미노]에탄, 1,2-비스(페닐아미노)프로판, (o-톨일)비구아니드, 비스[4-(1',3'-디메틸부틸)페닐]아민, 삼차-옥틸화 N-페닐-1-나프틸아민, 모노- 및 디알킬화 삼차-부틸/삼차-옥틸디페닐아민의 혼합물, 모노- 및 디알킬화 노닐디페닐아민의 혼합물, 모노- 및 디알킬화 도데실디페닐아민의 혼합물, 모노- 및 디알킬화 이소프로필/이소헥실디페닐아민의 혼합물, 모노- 및 디알킬화 삼차-부틸디페닐아민의 혼합물, 2,3-디히드로-3,3-디메틸-4H-1,4-벤조티아진, 페노티아진, 모노- 및 디알킬화 삼차-부틸/삼차-옥틸페노티아진의 혼합물, 모노- 및 디알킬화 삼차-옥틸-페노티아진의 혼합물, N-알릴페노티아진, N,N,N',N'-테트라페닐-1,4-디아미노부트-2-엔, N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-피페리딘-4-일-헥사메틸렌디아민, 비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리드-4-일)세바케이트, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-온, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-올.
2. UV 흡수제와 광 안정화제.
2.1. 2-(2'-히드록시페닐)벤조트리아졸,예컨대 2-(2'-히드록시-5'-메틸페닐)-벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-삼차-부틸-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(5'-삼차-부틸-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-삼차-부틸-2'-히드록시페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-삼차-부틸-2'-히드록시-5'-메틸페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-2차부틸-5'-삼차-부틸-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-4'-옥틸옥시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-삼차-아밀-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-비스-(α,-α-디메틸벤질)-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-삼차-부틸-2'-히드록시-5'-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)페닐)-5-클로로-벤조트리아, 2'-(3'-삼차-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)-카르보닐에틸]-2'-히드록시페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-삼차-부틸-2'-히드록시-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-삼차-부틸-2'-히드록시-5'-(2-메톡시카르보닐)페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-삼차-부틸-2'-히드록시-5'-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-삼차-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)카르보닐에틸]-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-도데실-2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-삼차-부틸-2'-히드록시-5'-(2-이소옥틸옥시카르보닐에틸)페닐벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌-비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-벤조트리아졸-2-일페놀]; 2-[3'-삼차-부틸-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)-2'-히드록시페닐]-2H-벤조트리아졸과 폴리에틸렌 글리콜 300의 에스테르 교환 반응 생성물; [R-CH2CH2-COO-CH2CH2-]2(R은 3'-삼차-부틸-4'-히드록시-5'-2H-벤조트리아졸-2-일페닐임), 2-[2'-히드록시-3'-(α,α-디메틸벤질)-5'-(1,1,3,3-테트라메틸벤질)-페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-히드록시-3'-(1,1,3,3-테트라메틸벤질)-5'-(α,α-디메틸벤질)-페닐]벤조트리아졸.
2,2, 2-히드록시벤조페논,예컨대 4-히드록시, 4-메톡시, 4-옥틸옥시, 4-데실옥시, 4-도데실옥시, 4-벤질옥시, 4,2',4'-트리히드록시 및 2'-히드록시-4,4'-디메톡시 유도체.
2.3. 비치환 또는 치환된 벤조산의 에스테르, 예컨대 4-삼차-부틸-페닐 살리실레이트, 페닐 살리실레이트, 옥틸페닐 살리실레이트, 디벤조일 레조르시놀, 비스(4-삼차-부틸-벤조일)레조르시놀, 벤조일 레조르시놀, 2,4-디-삼차-부틸페닐 3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤조에이트, 헥사데실 3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤조에이트, 옥타데실 3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤조에이트, 2-메틸-4,6-디-삼차-부틸페닐 3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤조에이트.
2.4. 아크릴레이트, 예컨대 에틸 α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 이소옥틸 α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 메틸 α-카르보메톡시신나메이트, 메틸 α-시아노-β-메틸-p-메톡시-신나메이트, 부틸 α-시아노-β-메틸-p-메톡시-신나메이트, 메틸 α-카르보메톡시-p-메톡시-신나메이트 및 N-(β-카르보메톡시-β-시아노비닐)-2-메틸인돌린.
2.5 니켈 화합물, 예컨대 n-부틸아민, 트리에탄올아민 또는 N-시클로헥실디에탄올아민과 같은 부가적인 리간드를 경우에 따라 갖는 2,2'-티오-비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀]의 니켈 착물(예컨대 1:1 또는 1:2 착물), 니켈 디부틸 디티오카르바메이트, 4-히드록시-3,5-디-삼차-부틸벤질포스폰산의 모노알킬 에스테르(예컨대 메틸 에스테르 또는 에틸 에스테르)의 니켈 염, 케톡심(예컨대 2-히드록시-4-메틸페닐 운데실케톡심)의 니켈 착물, 부가적인 리간드를 경우에 따라 갖는 1-페닐-4-라우로일-5-히드록시 피라졸의 니켈 착물.
2.6. 입체 장애 아민, 예컨대 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)숙시네이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜) n-부틸-3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시벤질 말로네이트, 1-(2-히드록시에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시피페리딘과 숙신산의 축합 생성물, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 4-삼차-옥틸아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 선형 또는 고리형 축합 생성물, 트리스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)니트릴로트리아세테이트, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄-테트라카르복실레이트, 1,1'-(1,2-에탄디일)-비스-(3,3,5,5-테트라메틸피페라지논), 4-벤조일-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-2-n-부틸-2-(2-히드록시-3,5-디-삼차-부틸벤질)말로네이트, 3-n-옥틸-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4.5]데칸-2,4-디온, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)세바케이트, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)숙시네이트, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 4-모르폴리노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 선형 또는 고리형 축합 생성물, 2-클로로-4,6-비스(4-n-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합 생성물, 8-아세틸-3-도데실-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4.5]데칸-2,4-디온, 3-도데실-1-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)피롤리딘-2,5-디온, 3-도데실-1-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)피롤리딘-2,5-디온, 4-헥사데실옥시- 및 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 혼합물, N,N'-비스-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메티렌디아민과 4-시클로헥실아미노-2,6-디-클로로-1,3,5-트리아진의 축합 생성물, 1,2-비스-(3-아미노프로필아미노)에탄과 2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진 뿐만 아니라 4-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 축합 생성물 (CAS Reg. No.[136504-96-6]); N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-n-도데실숙신이미드, N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-n-도데실숙신이미드, 2-운데실-7,7,9,9-테트라메틸-1-옥사-3,8-디아자-4-옥소-스피로[4,5]데칸, 7,7,9,9-테트라메틸-2-시클로운데실-1-옥사-3,8-디아자-4-옥소스피로[4,5]데칸과 에피클로로히드린의 반응 생성물, 1,1-비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜옥시카르보닐)-2-(4-메톡시페닐)에텐, N,N'-비스-포밀-N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민, 4-메톡시-메틸렌-말론산과 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-히드록시피페리딘의 디에스테르, 폴리[메틸프로필-3-옥시-4-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)]실옥산, 말레산 무수물-α-올레핀-공중합체와 2,2,6,6-테트라메틸-4-아미노피페리딘 또는 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-아미노피페리딘의 반응 생성물.
2.7. 옥사미드,예컨대 4,4'-디옥틸옥시옥사닐리드, 2,2'-디에톡시옥사닐리드, 2,2'-디옥틸옥시-5,5'-디-삼차-부톡사닐리드, 2,2'-디도데실옥시-5,5'-디-삼차-부톡사닐리드, 2-에톡시-2'-에틸옥사닐리드, N,N'-비스(3-디메틸아미노프로필)옥사미드, 2-에톡시-5-삼차-부틸-2'-에톡사닐리드 및 이들과 2-에톡시-2'-에틸-5,4'-디-삼차-부톡사닐리드와의 혼합물 및 o- 및 p-메톡시-이치환 옥사닐리드의 혼합물 및 o- 및 p-에톡시-이치환 옥사닐리드의 혼합물.
2.8. 2-(2-히드록시페닐)-1,3,5-트리아진, 예컨대 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2,4-디히드록시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(2-히드록시-4-프로필옥시페닐)-6-(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(4-메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-도데실옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-트리데실옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-히드록시-4-(2-히드록시-3-부톡시-프로폭시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸)-1,3,5-트리아진, 2-[2-히드록시-4-(2-히드록시-3-옥틸옥시-프로필옥시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸)-1,3,5-트리아진, 2-[4-(도데실옥시/트리데실옥시-2-히드록시프로폭시)-2-히드록시-페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-히드록시-4-(2-히드록시-3-도데실옥시-프로폭시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-헥실옥시)페닐-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-메톡시페닐)-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스[2-히드록시-4-(3-부톡시-2-히드록시-프로폭시)페닐]-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시페닐)-4-(4-메톡시페닐)-6-페닐-1,3,5-트리아진, 2-{2-히드록시-4-[3-(2-에틸헥실-1-옥시)-2-히드록시프로필옥시]페닐}-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진.
3. 금속 탈활성화제, 예컨대 N,N'-디페닐옥사미드, N-살리실알-N'-살리실로일 히드라진, N,N'-비스(살리실로일) 히드라진, N,N'-비스(3,5-디-삼차-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐) 히드라진, 3-살리실로일아미노-1,2,4-트리아졸, 비스(벤질리덴)옥살일 디히드라지드, 옥사닐리드, 이소프탈로일 디히드라지드, 세바코일 비스페닐히드라지드, N,N'-디아세틸아디포일 디히드라지드, N,N'-비스(살리실로일)옥살일 디히드라지드, N,N'-비스(살리실로일)티오프로피온일 디히드라지드.
4. 포스파이트 및 포스포나이트, 예컨대 트리페닐 포스파이트, 디페닐 알킬 포스파이트, 페닐 디알킬 포스파이트, 트리스(노닐페닐)포스파이트, 트리라우릴 포스파이트, 트리옥타데실 포스파이트, 디스테아릴 펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리스(2,4-디-삼차-부틸페닐)포스파이트, 디이소데실 펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-삼차-부틸페닐) 펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,6-디-삼차-부틸-4-메틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 디이소데실옥시펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-삼차-부틸-6-메틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4,6-트리스(삼차-부틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리스테아릴 소르비톨 트리포스파이트, 테트라키스(2,4-디-삼차-부틸페닐)4,4'-비페닐렌 디포스포나이트, 6-이소옥틸옥시-2,4,8,10-테트라-삼차-부틸-12H-디벤즈[d,g]-1,3,2-디옥사포스포신, 6-플루오로-2,4,8,10-테트라-삼차-부틸-12-메틸-디벤즈[d,g]-1,3,2-디옥사포스포신, 비스(2,4-디-삼차-부틸-6-메틸페닐) 메틸 포스파이트, 비스(2,4-디-삼차-부틸-6-메틸페닐)에틸포스파이트, 2,2',2''-니트릴로[트리에틸트리스(3,3'5,5'-테트라-3차-부틸-1,1'-비페닐-2,2'-디일)포스파이트], 2-에틸헥실(3,3'5,5'-테트라-3차-부틸-1,1'-비페닐-2,2'-디일)포스파이트.
하기의 포스파이트가 특히 바람직하다:
트리스(2,4-디-3차-부틸페닐)포스파이트(IrgafosR168, Ciba-Geigy), 트리스(노닐페닐)포스파이트,
5. 히드록시아민, 예컨대 N,N-디벤질히드록시아민, N,N-디에틸히드록시아민, N,N-디옥틸히드록시아민, N,N-디라우릴히드록시아민, N,N-디테트라데실히드록시아민, N,N-디헥사데실히드록시아민, N,N-디옥타데실히드록시아민, N-헥사데실-N-옥타데실히드록시아민, N-헵타데실-N-옥타데실히드록시아민, 수소화 수지 아민으로부터 유도된 N,N-디알킬히드록시아민.
6. 니트론, 예컨대 N-벤질-알파-페닐-니트론, N-에틸-알파-메틸-니트론, N-옥틸-알파-헵틸-니트론, N-라우릴-알파-운데실-니트론, N-테트라데실-알파-트리데실-니트론, N-헥사데실-알파-펜타데실-니트론, N-옥타데실-알파-헵타데실-니트론, N-헥사데실-알파-헵타데실-니트론, N-옥타데실-알파-펜타데실-니트론, N-헵타데실-알파-헵타데실-니트론, N-옥타데실-알파-헥사데실-니트론, 수소화 수지 아민으로부터 유도된 N,N'-디알킬히드록시아민으로부터 유도된 니트론.
7. 티오상승제, 예컨대 디라우릴 티오디프로피오네이트 또는 디스테아릴 티오디프로피오네이트.
8. 과산화물 분해제, 예컨대 β-티오디프로피온산의 에스테르, 예컨대 라우릴, 스테아릴, 미리스틸 또는 트리데실 에스테르, 메르캅토벤즈이미다졸 또는 2-메르캅토벤즈이미다졸의 아연염, 디부틸디티오카르밤산 아연, 디옥타데실 디술피드, 펜타에리트리톨 테트라키스(β-도데실메르캅토)프로피오네이트.
9.폴리아미드 안정화제,예컨대 요오드화물 및/또는 인 화합물과 조합한 구리 염 및 이가 마그네슘 염.
10. 염기성 공안정화제, 예컨대 멜라민, 폴리비닐피롤리돈, 디시안디아미드, 트리알릴 시아누레이트, 우레아 유도체, 히드라진 유도체, 아민, 폴리아미드, 폴리우레탄, 고지방산의 알칼리금속 염 및 알칼리 토금속 염, 예컨대 스테아르산 칼슘, 스테아르산 아연, 베헨산 마그네슘, 스테아르산 마그네슘, 리시놀레산 나트륨 및 팔미트산 칼륨, 피로카테콜산 안티몬 또는 피로카테콜산 주석.
11. 핵 생성제, 예를 들어 무기 물질, 예컨대 활석, 금속 옥사이드, 예컨대 이산화 티타늄 또는 산화마그네슘, 바람직하게는 알칼리 토금속의 인산염, 탄산염 또는 황산염; 유기 화합물(예컨대 모노- 또는 폴리카르복시산) 및 이들의 염, 예컨대 4-삼차-부틸벤조산, 아디프산, 디페닐아세트산, 숙신산 나트륨 또는 벤조산 나트륨; 중합성 화합물, 예컨대 이온성 공중합체(이오노머).
12. 충전제 및 강화제, 예컨대 탄산 칼슘, 실리케이트, 유리 섬유, 유리 벌브(bulb), 석면, 활석, 카올린, 운모, 황산바륨, 금속 산화물 및 수산화물, 카본 블랙, 흑연, 목재 분말 및 기타 천연 생성물의 분말 또는 섬유, 합성 섬유.
13. 기타 첨가제, 예컨대 가소제, 윤활제, 유화제, 안료, 유동 첨가제, 촉매, 유량-조절제, 광학 광택제, 난연제, 대전 방지제 및 발포제.
14. 벤조푸라논 및 인돌리논, 예컨대 US-A-4,325,863호; US-A-4,338,244호; US-A-5,175,312호; US-A-5,216,052호; US-A-5,252,643호; DE-A-4316611호; DE-A-4316622호; DE-A-4316876호; EP-A-0589839호 또는 EP-A-0591102호에 개시된 것 또는 3-[4-(2-아세톡시에톡시)페닐]-5,7-디-삼차-부틸-벤조푸란-2-온, 5,7-디-삼차-부틸-3-[4-(2-스테아로일옥시에톡시)페닐]벤조푸란-2-온, 3,3'-비스[5,7-디-삼차-부틸-3-(4-[2-히드록시에톡시]페닐)벤조푸란-2-온], 5,7-디-삼차-부틸-3-(4-에톡시페닐)벤조푸란-2-온, 3-(4-아세톡시-3,5-디메틸페닐)-5,7-디-삼차-부틸-벤조푸란-2-온, 3-(3,5-디메틸-4-피발로일옥시페닐)-5,7-디-삼차-부틸-벤조푸란-2-온, 3-(3,4-디메틸페닐)-5,7-디-3차-부틸-벤조푸란-2-온, 3-(2,3-디-메틸페닐)-5,7-디-3차-부틸-벤조푸란-2-온.
이들 부가적인 첨가제는 안정화될 유기 물질을 기준으로 하여 0.1 내지 10 중량%, 전형적으로 0.2 내지 5 중량%의 양으로 편리하게 사용된다.
본 발명은 하기 실시예에 의해 보다 상세히 설명된다. 실시예 및 명세서의 상세한 설명 부분 및 특허 청구 범위에 있어 모든 부 또는 퍼센트는, 다른 언급이 없는 한 중량 기준이다. 실시예에서 사용된 약어는 다음과 같다:
ax: 수직 방향
CDCl3: 듀테로클로로포름
eq: 수평 방향
1H-NMR: 뉴클리드1H의 핵 자기 공명
MALDI-MS: 매트릭스 보조 레이저 탈착/이온화-질량 분석기
Mn: 수 평균 상대 분자량 (단위 g/mol)
Mw: 중량 평균 상대 분자량 (단위 g/mol)
PEG: 폴리에틸렌 글리콜 (600)
THF: 테트라히드로푸란
실시예
실시예 1: PEG-이산-비스(3,3,5,5-테트라메틸피페리디닐아미드)
PEG-이산 60g(0.1몰) 및 4-아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘 32g(0.2몰)을 불활성 기체하에서 180℃로 가열시켰다. 혼합물을 상기 온도에서 5시간 동안, 반응 중 증류 헤드를 통해 증류되어 형성되는 물과 반응시켰다. 그 후 혼합물을 실온으로 냉각시키고 반응 생성물을 클로로포름에 완전히 용해시켰다. 유기상을 수산화 나트륨의 염화 나트륨 포화 용액으로 세정시켰다. 유기상을 황산 나트륨으로 건조시키고, 용매를 회전 증발기에서 제거시켰다. 용매의 잔류물을 고-진공하 90℃에서 제거시켰다.
물에 매우 잘 용해되는 점질성 액체 60g(이론치의 75%)을 수득했다.
분석:
이론치 실측치
C 63.2% 59.7%
H 10.2% 10.0%
N 7.0% 7.0%
1 H-NMR( CDCl 3 ):
0.94 내지 1.02 ppm (t) ax-CH2(피페리딘 고리)
1.14 및 1.26 ppm (s) CH3(피페리딘 고리)
1.85 내지 1.90 ppm (2d) eq-CH2(피페리딘 고리)
3.63 내지 3.70 ppm (m) -O-CH2-CH2-O-
3.96 ppm (s) -O-CH2-CO-
4.26 내지 4.31 ppm (m)
6.64 ppm (d) -NH-CO-
MALDI-MS:Mn=796 Mw=867
실시예 2: PEG-이산-비스(3,3,4,5,5-펜타메틸피페리디닐아미드)
PEG-이산 110g(183밀리몰) 및 4-아미노-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘 70g(412밀리몰)을 실시예 1에 상술된 바와 같이 반응시키고 정제시켰다.
물에 매우 잘 용해되는 점질성 액체 105g(이론치의 58%)을 수득했다.
분석:
이론치 실측치
C 60.1% 59.6%
H 9.8% 9.8%
N 6.4% 7.1%
1 H-NMR( CDCl 3 ):
1.08 내지 1.16 ppm (s) CH3(피페리딘 고리)
1.25 및 1.34 ppm (t) ax-CH2(피페리딘 고리)
1.76 내지 1.81 ppm (2d) eq-CH2(피페리딘 고리)
2.24 ppm (s) CH3-N
3.63 내지 3.69 ppm (m) -O-CH2-CH2-O-
4.01 ppm (s) -O-CH2-CO-
4.15 내지 4.20 ppm (m)
6.67 ppm (d) -NH-CO-
MALDI-MS:Mn=847 Mw=911
실시예 3: PEG-이산-비스(3,3,4,5,5-펜타메틸피페리딘-1-일 에스테르)
3a)PEG-이산-디메틸 에스테르
자기 교반기 및 환류 응축기를 장착한 1 리터 둥근 바닥 플라스크에 PEG-이산 300g(0.5몰)을 300㎖ 메탄올에서 아르곤 하에 용해시켰다. 진한 황산 10㎖를 첨가한 후에 용액을 철야로 환류시켰다. 실온으로 냉각시킨 후, 용액을 얼음에 부었다. 클로로포름으로 추출시키고, 유기상을 수산화 나트륨의 염화 나트륨 포화 용액으로 세척시켰다. 유기상을 건조시키고 용매를 완전히 제거시켰다.
투명한 점질성 액체 250g(이론치의 83%)을 수득했다.
분석:
이론치 실측치
C 51.8% 52.8%
H 8.3% 8.6%
1 H-NMR( CDCl 3 ):
3.64 내지 3.76 ppm (m, 40 H) -O-CH2-CH2-O-
3.77 ppm (s, 6 H) COOCH3
4.23 ppm (s, 4 H) -O-CH2-CO-
3b)PEG-이산-비스(3,3,4,5,5-펜타메틸피페리딘-1-일 에스테르)
자기 교반기 및 증류 헤드를 장착한 1 리터 둥근 바닥 플라스크에 3a)에서 제조된 디메틸 에스테르 120g(0.2몰), 4-히드록시-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘 69g(0.4몰), 디부틸산화주석 7g 및 크실렌 600㎖을 아르곤하에 장입시켰다. 140℃로 가열시킨 후, 용액을 더 이상 메탄올이 증류되지 않을 때까지 상기 온도에서 유지시켰다. 계속 가열시켜 크실렌도 천천히 증류시켰다. 증류에 의해 크실렌 약 100㎖을 제거시킨 후, 혼합물을 실온으로 냉각시키고, 잔류 용매를 회전 증발기에서 제거시켰다. 잔류물을 클로로포름에 용해시키고, 유기상을 수산화 나트륨의 염화 나트륨 포화 용액으로 세척시켰다. 유기상을 건조, 여과시키고, 회전 증발기에서 용매를 제거시켰다.
점질성 액체 100g(이론치의 60%)을 수득했다.
분석:
이론치 실측치
C 59.1% 58.4%
H 9.5% 9.9%
N 2.6% 2.5%
1 H-NMR( CDCl 3 ):
1.08 및 1.16 ppm (s) CH3(피페리딘 고리)
1.47 내지 1.54 ppm (t) ax-CH2(피페리딘 고리)
1.83 내지 1.89 ppm (2d) eq-CH2(피페리딘 고리)
2.24 ppm (s) CH3-N
3.63 내지 3.71 ppm (m) -O-CH2-CH2-O-
4.11 ppm (s) -O-CH2-CO-
5.08 내지 5.16 ppm (m)
MALDI-MS:Mn=955 Mw=1005
실시예 4: PEG-이산-비스[디(3,3,4,5,5-펜타메틸피페리디닐)아미드]
4a)PEG-이산-디메틸 디클로라이드
PEG-이산 무수물 90g(0.15몰)을 클로로포름 300㎖에 용해시키고, 티오닐 클로라이드 150g을 넣었다. 상기 용액을 SO2의방출이 더 이상 검출되지 않을 때까지 환류시켰다(약 2시간 후). 반응 용액을 실온으로 냉각시키고 과량의 티오닐 클로라이드 및 용매를 회전 증발기에서 증발시켜 제거시켰다. 잔류물을 고-진공하 실온에서 건조시켰다.
액체 98g(이론치의 100%)을 수득했다.
분석:
이론치 실측치
C 47.63% 48.03%
H 7.33% 7.12%
Cl 10.84% 11.22%
4b)PEG-이산-비스[디(3,3,4,5,5-펜타메틸피페리디닐)아미드]
KPG 교반기, 점적 깔때기 및 내부 온도계를 장착한 750㎖ 술폰화 플라스크에, 4a)에서 제조된 PEG-이산 디클로라이드 30g(46밀리몰)을 아르곤하에서 클로로포름 150㎖에 용해시켰다. 점적 깔때기에 클로로포름 150㎖ 중 디(3,3,4,5,5-펜타메틸피페리디닐)아민 30g(92밀리몰)로 구성된 용액을 넣었다. 아민을 ≤10℃에서 천천히 적가시켰다. 혼합물을 철야로 반응시켰다. 맑은 용액에 얼음-냉각된 50% 수산화 나트륨 용액 20㎖을 붓고, 유기상을 흔들어 추출시켰다. 유기상을 분리시켜 황산 나트륨으로 건조시키고, 용매를 증발시켜 제거했다. 잔류물을 50℃ 고-진공하에서 건조시켰다.
점질성 액체 102g(이론치의 90%)을 수득했다.
분석:
이론치 실측치
C 64.49% 65.28%
H 10.42% 10.83%
N 6.84% 7.72%
1 H-NMR( CDCl 3 ):
1.04 및 1.16 ppm (s) CH3(피페리딘 고리)
1.22 내지 1.35 ppm (m) ax-CH2(피페리딘 고리)
1.69 내지 1.72 ppm (m) eq-CH2(피페리딘 고리)
2.24 ppm (s) CH3-N
2.65 내지 2.75 ppm (m)
3.63 내지 3.68 ppm (m) -O-CH2-CH2-O-
4.15 ppm (s) -O-CH2-CO-
MALDI-MS:Mn=1171 Mw=1240
실시예 5: PEG-이산-비스[디(3,3,5,5-테트라메틸피페리디닐)아미드]
KPG 교반기, 내부 온도계 및 점적 깔때기를 장착한 1.5리터 술폰화 플라스크에, 4a)에서 제조된 PEG-이산 디클로라이드 60g(92밀리몰)을 THF 400㎖에 용해시켰다. 용액을 아르곤 하에서 0℃ 로 냉각시켰다. THF 200㎖ 중 비스(3,3,5,5-테트라메틸피페리디닐)아민 54g(195밀리몰)으로 구성된 용액을 점적 깔때기에 장입시켰다. 이 용액을 반응 플라스크 내로 플라스크 안의 온도를 ≤10℃로 하여 천천히 적가시켰다. 완전히 부가한 후, 실온에서 철야로 교반시켰다. 탁한 현탁액을 얼음 및 수산화 나트륨 15g에 가했다. 수득한 용액을 염화 나트륨으로 포화시키고, 클로로포름 500㎖로 추출시켰다. 유기상을 분리시켜 황산 나트륨으로 건조시키고, 증발시켜 농축시켰다. 잔류물을 고-진공하에서 건조시켰다.
점질성 액체 81g(이론치의 35%)을 수득했다.
분석:
이론치 실측치
C 64.00% 63.96%
H 10.33% 10.31%
N 7.00% 7.87%
1 H-NMR( CDCl 3 ):
1.13 및 1.25 ppm (s) CH3(피페리딘 고리)
1.31 내지 1.39 ppm (m) ax-CH2(피페리딘 고리)
1.63 내지 1.70 ppm (m) eq-CH2(피페리딘 고리)
2.33 내지 2.47 ppm (m)
3.63 내지 3.72 ppm (m) -O-CH2-CH2-O-
4.17 ppm (s) -O-CH2-CO-N-
MALDI-MS:Mn=1239 Mw=1407
실시예 A1: 폴리프로필렌 섬유 광안정화
실시예 1의 신규 안정화제 2.5g을 폴리프로필렌 분말(230℃/2.16kg에서 측정한 용융 지수 12g/10분) 1000g이 들어있는 터어빈 교반기에서 트리스(2,4-디-삼차부틸페닐) 포스파이트 1g, 칼슘 모노에틸 3,5-디-삼차부틸-4-히드록시벤질포스포네이트 1g, 칼슘 스테아레이트 1g 및 TiO2(Kronos RN 57) 2.5g과 함께 혼합하였다. 상기 혼합물을 200 내지 230℃에서 과립으로 압출시켰다; 이어, 이들 과립을 하기 조건하에서 파일롯 플랜트(레오나르드; 수미라고/VA, 이태리)로 가공하여 섬유로 만들었다.
압출기 온도: 190 내지 230℃
헤드 온도: 255 내지 260℃
연신비: 1 : 3.5
연신 온도: 100℃
섬유: 10 den
상기 방식으로 제조된 섬유를 ASTM D 2565-85에 따른 63℃의 암상 표준 온도(black standard temperature)를 갖는 Weather-O-MeterR형 65 WR(Atlas 사)의 백색 환경(white background)에 노출시켰다. 상이한 노출 시간 후에 샘플의 잔여 인장 강도를 측정하였다. 이 측정치를 이용하여 샘플의 인장 강도가 정확히 원래 크기의 반이 된 후의 노출 시간 T50을 계산하였다.
비교를 위해 신규 안정화제가 함유되지 않은 섬유를 제조하였고 동일한 조건하에서 시험하였다.
본 발명에 따라 안정화된 섬유는 강도의 보유력이 우수하였다.
실시예 A2: 2층 도료 래커의 안정화
실시예 1의 신규 안정화제를 크실렌 5 내지 10g에 혼입시키고 하기 조성물의 투명 바니쉬에서 시험하였다:
SynthacryRSC 3031)27.51g
SynthacryRSC 3702)23.34g
MaprenalRMF 6503)27.29g
부틸 아세테이트/부탄올(37/8) 4.33g
이소부탄올 4.87g
SolvessoR1504)2.72g
화이트 스피릿 K-305)8.74g
유동 조절제 BaysilRMA6)1.20g
100.00g
1) Hoechst AG 사의 아크릴레이트 수지; 크실렌/부탄올 26:9에서 65% 용액
2) Hoechst AG 사의 아크릴레이트 수지; SolvessoR1004)에서 75% 용액
3) Hoechst AG 사의 멜라민 수지; 이소부탄올에서 55% 용액
4) 제조 업체; ESSO 사
5) 제조 업체; Shell 사
6) SolvessoR150에서 1%; 제조 업체: Bayer AG 사
피복제의 고형분 함량 기준으로 실시예 1의 안정화제(크실렌에서) 1%를 투명 바니쉬에 부가시켰다. 광안정화제를 전혀 함유하지 않는 투명 바니쉬가 비교용으로 사용되었다.
투명 바니쉬를 분무 점성이 될 때까지 SolvessR100으로 희석시켜 준비된 알루미늄 쉬트(코일 도료, 충전제, 은 금속 하도) 위에 분무한 다음, 또 130℃에서 30분 동안 가열 건조시켜 투명 바니쉬 두께가 40 내지 50㎛인 건성 필름을 형성하였다.
샘플을 아틀라스 사의 UVCONR내후 시험 장치에 노출시켰다. (60℃에서 4시간 UV 조사 및 50℃ 4시간 응축 과정이 1 주기인 UVB-313 램프로 조사)
일정한 간격을 두고 샘플의 균열을 측정하였다.
신규 안정화제를 함유하는 샘플은 균열에 대한 높은 안정성을 보였다.
실시예 A3: 사진 재료의 안정화
화학식의 황색 커플러 0.087g을 에틸 아세테이트(2.25g/100㎖)에 용해된 실시예 1의 신규 안정화제 용액 2.0㎖에 용해시켰다. 그 후, 상기 용액의 1.0㎖에 2.3% 수성 젤라틴 용액 9.0㎖을 가하여, pH 6.5로 맞추고, 화학식의 습윤제 1.744g/ℓ를 가했다. 상기와 같이 수득한 커플링 유제 5.0㎖에 은 함량 6.0g/ℓ인 브롬화 은 유제 및 화학식의 경화제 0.7% 수성 용액 1.0㎖을 가하고, 상기 혼합물을 플라스틱 물질로 피복된 13×18cm 종이에 부었다. 7일 동안 경화시킨 후, 샘플을 은 층 쐐기(wedge) 후면에 125Lux·s로 조사하고 Kodak 사의 Ektaprint2R방법에 의해 처리하였다.
황색 쐐기를 2500W-크세논 램프를 사용하여 Atlas Weather-O-meterR에서 총 60kJoule/cm2으로 UV 여과기(Kodac 2C) 후면에 조사시켰다.
동시에 안정화제를 함유하지 않은 샘플을 표준으로서 처리하였다.
황색 염료의 최대 흡수에서 조사 중에 발생되는 색 밀도의 손실을 Macbeth 사의 Densitometer TR 924A를 사용하여 측정했다.
광안정화 효과를 색 밀도의 손실로부터 측정할 수 있다. 밀도의 손실이 작을수록 광안정화 효과가 높다.
신규 안정화제는 양호한 광안정화 효과를 나타냈다.
실시예 A4: 폴리프로필렌 테이프의 안정화
실시예 1의 신규 안정화제 1.0g을 폴리프로필렌 분말(STATOILMF; 230℃/2.16kg에서 측정한 용융 지수 4.0g/10분) 1000g이 들어있는 터어빈 교반기에서 트리스(2,4-디-삼차부틸페닐) 포스파이트 1g, 펜타에리트리톨-테트라키스(3-[3',5'-디-3차-부틸-4'-히드록시페닐]프로피오네이트) 0.5g 및 칼슘 스테아레이트 1g과 함께 혼합하였다.
상기 혼합물을 200 내지 230℃에서 과립으로 압출시키고, 이들 과립을 하기 조건하에서 파일롯 플랜트(레오나르드; 수미라고/VA, 이태리)로 가공하여 50㎛ 두께, 2.5mm 넓이의 신장 테이프로 만들었다.
압출기 온도: 210 내지 230℃
헤드 온도: 240 내지 260℃
연신비: 1 : 6
연신 온도: 110℃
상기 방식으로 수득한 테이프를 ASTM D 2565-85에 따른 63℃의 암상 표준 온도를 갖는 Weather-O-MeterR형 65 WR(Atlas 사)의 백색 환경에 노출시켰다. 노출 시간을 달리한 후에 샘플의 잔여 인장 강도를 측정하였다. 이 측정치를 이용하여 샘플의 인장 강도가 정확히 원래 크기의 반이 된 후의 노출 시간 T50을 계산하였다.
비교를 위해 신규 안정화제가 함유되지 않은 섬유를 제조하였고 동일한 조건하에서 시험하였다.
본 발명에 따라 안정화된 섬유는 강도의 보유력이 우수하였다.
실시예 A5: 폴리아미드 6의 안정화
안정화되지 않은 폴리아미드 6 과립(BASF사의 UltramidRB3) 100부를 저온성 분쇄기로 분말화하고, 실시예 1의 신규 안정화제에 장입시켰다. 상기 혼합물을 Hanschel 혼합기에서 2분 동안 혼합시켰다. 수득한 분말을 80℃에서 6시간 동안 건조시키고, 최고 240℃의 압출기(Berstorff 형)에서 압출시키고, 과립화시켰다. 수득한 과립을 최고 240℃에서 두께 1.0mm인 아령형 및 두께 2.0mm인 판형의 주입 성형 기구에 주입시켰다.
아령형을 140℃의 순환 공기 오븐에서 에이징시켰다. 에이징의 진행을 1 내지 3일 간격으로 응력 변형 선도를 측정하여 관찰했다. 종말점은 잔여 변형도가 초기 값의 50%로 떨어지는 이후의 시간으로 측정했다. 상기 시간이 길수록 더 안정하다.
판형을 80℃의 순환 공기 오븐에서 1500시간 동안 숙성시켰다. 이들 판형의 황색 지수(YI)를 ASTM D 1925-70에 따라 측정하였다.
낮은 YI 값은 거의 변색되지 않음을 의미하고, 높은 YI 값은 샘플의 심한 변색을 의미한다. 변색이 적을수록 안정화제는 보다 효과적이다.
비교를 위해 신규 안정화제가 함유되지 않은 섬유를 제조하였고, 동일한 조건하에서 시험하였다.
신규 안정화제는 양호한 광안정화 효과를 나타냈고, 본 발명에 따라 안정화된 섬유는 강도의 보유력이 우수하였다.
실시예 A6: 폴리옥시메틸렌의 안정화
폴리옥시메틸렌(HostaformRC)를 칼슘 스테아레이트 0.3 중량%, 화학식의 안정화제 0.3 중량% 및 실시예 1의 신규 UV 흡수제 0.3 중량%와 함께 190℃, 30rpm으로 7분 동안 Brabender plasticorder에서 반죽시켰다.
물질을 190℃에서 3000psi 압력으로 판에 1mm두께로 성형시키고, 이 단계에서, 가공 시간을 3분으로 했다.
상기 판을 60℃, 습도 23%에서 UV-A 광원을 사용하여 20cm 거리에서 조사에 노출시켰다. UV-A 광원은 5 TL/09 형광 램프와 5 TL/12 램프(295 내지 400nm 파장 범위)로 구성되었다. 폴리옥시메틸렌의 최대 UV 조사를 통과한 황색 지수(YI, ASTM D 1925-70 방법)를 일정한 간격으로 측정했다. 상기 최대값은 아직 관찰될 수 없는 첫번째 미세 균열에 의해 야기되었다. 더욱 조사하는 중, 균열은 판에서 나중에 관찰되었다.
비교를 위해 신규 안정화제가 함유되지 않은 섬유를 제조하였고 동일한 조건하에서 시험하였다.
신규 안정화제는 양호한 광안정화 효과를 나타냈다; 즉 최대 YI값 또는 균열을 관찰할 수 있는 시간(주)이 안정화제를 함유하지 않은 경우 보다 현저하게 길어졌다.
본 발명은 광, 산화 및/또는 열에 의해 분해되기 쉬운 유기 물질을 안정화시키기 위해 유리하게 사용되는 화합물을 제공한다.

Claims (19)

  1. 하기 화학식 (1) 및 (2)의 화합물:
    (1)
    (2)
    상기식에서,
    R1은 H 또는 CH3이고,
    Y는또는의 기이고,
    X는 O 또는 NR3이고,
    R2는 H, C1-C20알킬, C1-C20히드록시알킬, O-C1-C20알킬, CO-C1-C20알킬, O-C5-C8시클로알킬, C2-C20알케닐, C2-C20알키닐, C6-C20아릴, CO-C6-C20아릴, C7-C20아랄킬, CO-C7-C20아랄킬이고,
    R3은 H, C1-C20알킬이거나 또는이고,
    R4는 H, C1-C20알킬, CO-C1-C20알킬, CO-C6-C20아릴 또는 CO-C7-C20아랄킬이고,
    Z는 또는이고,
    R5는 C1-C20알킬렌, C2-C20알케닐렌 또는 C2-C20알키닐렌이고,
    n은 1 내지 100의 수이고, 및
    m은 1 내지 100의 수이다.
  2. 제 1항에 있어서,
    R2가 H, C1-C12알킬, C1-C12히드록시알킬, O-C1-C12알킬, CO-C1-C12알킬, O-C5-C8시클로알킬, C2-C12알케닐, C2-C12알키닐, C6-C14아릴, CO-C6-C14아릴, C7-C15아랄킬 또는 CO-C7-C15아랄킬인 화합물.
  3. 제 1항에 있어서,
    R2가 H, C1-C8알킬, O-C1-C8알킬, O-C5-C8시클로알킬, C2-C8알케닐 또는 C2-C8알키닐인 화합물.
  4. 제 1항에 있어서,
    R3이 H, C1-C12알킬 또는이고, 및
    R4가 H, C1-C12알킬, CO-C1-C12알킬, CO-C6-C14아릴 또는 CO-C7-C15아랄킬인 화합물.
  5. 제 4항에 있어서,
    R3이 H 또는이고, 및
    R4가 H, C1-C8알킬, CO-C1-C8알킬, CO-페닐 또는 CO-페닐알킬인 화합물.
  6. 제 1항에 있어서, Z가또는인 화합물.
  7. 제 1항에 있어서, n이 1 내지 50의 수인 화합물.
  8. 제 1항에 있어서, m이 1 내지 50의 수인 화합물.
  9. 제 1항에 있어서, 화학식(1)의 화합물.
  10. 제 9항에 있어서, Y가의 기인 화합물.
  11. 제 9항에 있어서,
    Y가의 기이고,
    R2가 H 또는 C1-C4알킬이고,
    R3이 H 또는이고, 및
    n이 5 내지 25의 수인 화합물.
  12. 안정화제로서 a) 산화, 열 및/또는 화학선 분해/축적에 민감한 유기 물질 및 b) 제 1항에 따른 하나 이상의 신규 화합물을 포함하는 조성물.
  13. 제 12항에 있어서, 성분 a)가 유기 중합체인 조성물.
  14. 제 12항에 있어서, 성분 a)가 합성 중합체인 조성물.
  15. 제 12항에 있어서, 성분 a)가 극성 중합체 또는 아크릴, 알키드, 폴리우레탄, 폴리에스테르 또는 폴리아미드 수지를 기재로 하는 피복제 수지 또는 상응하는 개질된 수지인 조성물.
  16. 제 12항에 있어서, 성분 a) 및 b) 이외에 다른 통상적인 첨가제를 포함하는 조성물.
  17. 제 12항에 있어서, 조성물의 중량을 기준으로하여, 성분 b)의 0.01 내지 10 중량%를 포함하는 조성물.
  18. 제 1항에 따른 화합물을 유기 물질에 혼합시키는 것을 포함하는, 광, 산화 및/또는 열에 의한 손상에 대해 상기 유기 물질을 안정화시키기 위한 방법.
  19. 광, 산화 및/또는 열에 의한 손상에 대해 유기 물질을 안정화시키기 위한 제 1항에 따른 화합물의 용도.
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