JP2009185291A - 耐熱性の改善された紫外線吸収剤組成物及びこれを含有してなる合成樹脂組成物 - Google Patents

耐熱性の改善された紫外線吸収剤組成物及びこれを含有してなる合成樹脂組成物 Download PDF

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Abstract

【課題】耐熱着色性が改善された紫外線吸収剤組成物、及びこれを含有してなる合成樹脂組成物、並びに該合成樹脂組成物を用いた光学フィルム及び光学シートを提供する。
【解決手段】合成樹脂に対し、下記一般式(1)で表されるトリアジン系化合物と、特定構造のジアリールペンタエリスリトールジホスファイト化合物及び/又は特定構造の環状ホスファイト化合物及び/又は特定構造のヒンダードフェノール系化合物とを含む紫外線吸収剤組成物を配合する。
Figure 2009185291

【選択図】なし

Description

本発明は、特定のトリアジン系化合物及び特定のホスファイト系化合物及び/又はヒンダードフェノール系化合物からなる紫外線吸収剤組成物及びこれを含有してなる合成樹脂組成物に関するものであり、特に光学フィルム及び光学シート等の光学材料用途に有用であり、液晶表示装置等に用いられる偏光板用の保護フィルム及び保護シート、位相差フィルム、視野角拡大フィルム、防眩フィルム、輝度向上フィルム、光拡散フィルム及び光拡散シート、レンズフィルム及びレンズシート、防曇フィルム、帯電防止フィルムや導光板の他、各種基板、プラズマディスプレイに用いられる反射防止フィルム等の各種機能フィルム、並びに有機ELディスプレイ等で使用される各種機能フィルム等にも利用する事が出来る紫外線吸収剤組成物及び合成樹脂組成物に関するものである。
ポリエチレン、ポリプロピレン、スチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート等の合成樹脂や有機顔料又は染料は光の作用により劣化し、変色或いは機械的強度の低下等を引き起こして長期の使用に耐えないことが知られている。
これら有機材料の劣化を防止したり、透過光の波長をコントロールしたりするために、従来から種々の紫外線吸収剤が用いられ、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、2,4,6−トリアリールトリアジン系及びシアノアクリレート系の紫外線吸収剤が知られている。
例えば、光学材料用途においては、下記特許文献1にベンゾトリアゾール系化合物やトリアジン系化合物のような紫外線吸収剤が用いられる技術が開示され、下記特許文献2には紫外線吸収剤を含有してなるノルボルネン系樹脂フィルムが報告されている。
しかし、従来の紫外線吸収剤では、光学用途に必要な吸収能を与える量を配合するとブリードアウトや色調の変化を生じるものであった。
本発明で用いるトリアジン系化合物からなる紫外線吸収剤は、下記特許文献3に耐候性及び耐熱性が優れる紫外線吸収剤として開示され、更に下記特許文献4には光学フィルム用途に適した紫外線吸収能を有し、且つ、該紫外線吸収剤のブリードアウトが少ない紫外線吸収剤として報告されている。
しかし、該トリアジン系紫外線吸収剤は、ブリードアウトが少なく、光学材料用途に適した紫外線吸収能を有し、且つ、合成樹脂物性の熱劣化等の性能には優れるものの、合成樹脂の高温成型時等においてトリアジン系化合物自体が着色しやすいという耐熱着色性に関して課題を残していた。
特開2002−249600号公報 特開2001−324616号公報 特開平11−71356号公報 国際公開2005/109052号公報
本発明の目的は、耐熱着色性が改善されたトリアジン系化合物を配合してなる合成樹脂組成物並びに該合成樹脂組成物を用いた光学フィルム及び光学シートを提供することにある。
本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の構造を有するトリ
アジン系化合物を用いた合成樹脂の耐熱着色性を改善するにあたり、特定の構造を有するホスファイト系化合物及び/又はヒンダードフェノール系化合物が、前記トリアジン系化合物からなる紫外線吸収剤自体の耐熱着色性の改善に顕著な効果を発現することを見出し、本発明を完成するに至った。
本発明の第1は、下記一般式(1)で表されるトリアジン系化合物(好ましくは下記一般式(5)で表される化合物)0.1〜99.9質量%と、下記一般式(2)で表されるジアリールペンタエリスリトールジホスファイト化合物0〜99.9質量%及び/又は下記一般式(3)で表される有機環状ホスファイト化合物0〜99.9質量%及び/又は下記一般式(4)で表されるヒンダードフェノール系化合物0〜99.9質量%とを含有してなる紫外線吸収剤組成物を提供するものである(但し、前記一般式(2)、(3)及び(4)で表わされる化合物の合計の含有量は、0.1〜99.9質量%である)。
Figure 2009185291
(式中、R1は炭素原子数1〜12の直鎖若しくは分岐のアルキル基、炭素原子数3〜8のシクロアルキル基、炭素原子数3〜8のアルケニル基、炭素原子数6〜18のアリール基、炭素原子数7〜18のアルキルアリール基又は炭素原子数7〜18のアリールアルキル基を表す。但し、これらのアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルキルアリール基又はアリールアルキル基は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数1〜12のアルキル基又は炭素原子数1〜12のアルコキシ基で置換されていてもよく、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、エステル基、アミド基又はイミノ基で中断されていてもよい。また、前記の置換及び中断は組み合わされてもよい。R2は水素原子、炭素原子数1〜8のアルキル基又は炭素原子数3〜8のアルケニル基を表わし、R3は水素原子又はヒドロキシ基を表し、R4は水素原子又は−O−R1を表す。)
Figure 2009185291
(式中、R5は各々独立に水素原子又は炭素原子数1〜4のアルキル基を表す。)
Figure 2009185291
(式中、R6及びR8は各々独立に水素原子又は炭素原子数1〜4のアルキル基を表し、R7は炭素原子数1〜18のアルキル基を表す。)
Figure 2009185291
(式中、R9は1〜4価のアルコールからn個の水酸基を除いた残基を表し、nは1〜4の整数を表す。)
Figure 2009185291
(式中、R10は炭素原子数1〜12の直鎖又は分岐のアルキル基を表す。(但し、これらのアルキル基はヒドロキシ基、ハロゲン原子又はアルコキシ基で置換されていてもよく、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、エステル基、アミド基又はイミノ基で中断されていてもよい。))
本発明の第2は、合成樹脂(中でも、アクリル酸エステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、セルロースエステル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂又はノルボルネン系樹脂に好適に用いられる)100質量部に対して、前記一般式(1)で表されるトリアジン系化合物(好ましくは下記一般式(5)で表される化合物)0.001〜10質量部と前記一般式(2)で表されるジアリールペンタエリスリトールジホスファイト化合物0.001〜10質量部及び/又は前記一般式(3)で表される有機環状ホスファイト化合物0.001〜10質量部及び/又は前記一般式(4)で表されるヒンダードフェノール系化合物0.001〜10質量部とを配合してなる合成樹脂組成物を提供するものである。
本発明の第3は、前記合成樹脂組成物からなるフィルム又はシート(中でも光学フィルム又は光学シートに好適に使用することができ、特に偏光板用の保護フィルム又は保護シートに好適である)を提供するものである。
本発明により、耐熱着色性の改善された合成樹脂組成物、更には、該合成樹脂組成物からなる光学フィルム及び光学シートを提供することが可能となる。
以下、本発明の紫外線吸収剤組成物、合成樹脂組成物、並びに該樹脂組成物からなる光学フィルム及び光学シートについて、好ましい実施形態に基づき具体的に説明する。
先ず、本発明の紫外線吸収剤組成物について説明する。
本発明の紫外線吸収剤組成物は、前記一般式(1)で表されるトリアジン系化合物0.1〜99.9質量%と、前記一般式(2)で表されるジアリールペンタエリスリトールジホスファイト化合物0〜99.9質量%及び/又は前記一般式(3)で表される有機環状ホスファイト化合物0〜99.9質量%及び/又は前記一般式(4)で表されるヒンダードフェノール系化合物0〜99.9質量%とを含有する。
本発明に係る前記一般式(1)のR1で表される炭素原子数1〜12の直鎖又は分岐のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第二ブチル、第三ブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、ヘプチル、n−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、2−エチルヘキシル、ノニル、イソノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル等の直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられる。
前記一般式(1)のR1で表される炭素原子数3〜8のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル等が挙げられる。
前記一般式(1)のR1で表される炭素原子数6〜18のアリール基又は炭素原子7〜18のアルキルアリール基としては、例えば、フェニル、ナフチル、2−メチルフェニル、3−メチルフェニル、4−メチルフェニル、4−ビニルフェニル、3−イソプロピルフェニル、4−イソプロピルフェニル、4−ブチルフェニル、4−イソブチルフェニル、4−第三ブチルフェニル、4−ヘキシルフェニル、4−シクロヘキシルフェニル、4−オクチルフェニル、4−(2−エチルヘキシル)フェニル、2,3−ジメチルフェニル、2,4−ジメチルフェニル、2,5−ジメチルフェニル、2,6−ジメチルフェニル、3,4−ジメチルフェニル、3,5−ジメチルフェニル、2,4−ジ第三ブチルフェニル、2,5−ジ第三ブチルフェニル、2,6−ジ−第三ブチルフェニル、2,4−ジ第三ペンチルフェニル、2,5−ジ第三アミルフェニル、2,5−ジ第三オクチルフェニル、ビフェニル、2,4,5−トリメチルフェニル等が挙げられ、炭素数7〜18のアリールアルキル基としては、例えば、ベンジル、フェネチル、2−フェニルプロパン−2−イル、ジフェニルメチル等が挙げられる。
前記一般式(1)において、R1及びR2で表される炭素原子数3〜8のアルケニル基としては、例えば、直鎖及び分岐のプロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニルが不飽和結合の位置によらず挙げられる。
前記一般式(1)において、R2で表される炭素原子数1〜8のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、第三アミル、オクチル、第三オクチル等が挙げられ、中でもメチル基が、紫外線吸収能力に優れるため好ましい。
前記一般式(1)で表されるトリアジン系化合物としては、例えば、下記の化合物No.1〜No.8等の化合物が挙げられる。
Figure 2009185291
Figure 2009185291
Figure 2009185291
Figure 2009185291
Figure 2009185291
Figure 2009185291
Figure 2009185291
Figure 2009185291
前記一般式(1)で表されるトリアジン系化合物の中でも、前記一般式(5)で表わされるものが、紫外線吸収能及び合成樹脂物性面における耐熱着色性等の面から好ましい。
前記一般式(5)において、R10で表される炭素原子数1〜12のアルキル基としては、前記R1で例示の基が挙げられる。
前記一般式(1)又は(5)で表されるトリアジン系化合物の合成方法は、特に制限を受けることはなく、通常用いられる合成方法の何れでもよい。例えば、塩化シアヌルにフェノール誘導体又はレゾルシノール誘導体を三塩化アルミニウムを用いて付加反応させる方法が挙げられる。R1(R10)、R2、R3及びR4表される置換基は、トリアジン構造を形成した後に導入してもよく、トリアジン構造を形成する前に、フェノール化合物又はレゾルシノール誘導体に導入してもよい。
前記一般式(1)又は(5)で表されるトリアジン系化合物の含有量は、本発明の紫外線吸収剤組成物中、0.1〜99.9質量%、好ましくは1〜99質量%である。0.1質量%未満では、必要な紫外線吸収能が得られない場合があり、99.9質量%を超えると本発明の耐熱着色性効果に劣る傾向がある。
本発明に係る前記一般式(2)において、R5で表わされる炭素原子数1〜4のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第二ブチル、第三ブチル基が挙げられ、中でも合成容易性及び本発明の耐熱着色性効果の面から、メチル基が好ましい。
本発明に係る前記一般式(3)において、R6で表される炭素原子数1〜4のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル等が挙げられ、中でも本発明の効果の面から第三ブチル基が好ましい。
前記一般式(3)において、R7で表される炭素原子数1〜18のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、ヘプチル、2−ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、n−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、2−エチルヘキシル、ノニル、イソノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、へプタデシル、オクタデシル等が挙げられ、置換や中断を有するものとしては、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、2−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシプロピル、3−ヒドロキシプロピル、2−メトキシエチル、2−エトキシエチル、2−ブトキシエチル、2−メトキシプロピル、3−メトキシプロピル、2,3−ジヒドロキシプロピル、2−ヒドロキシ−3−メトキシプロピル、2,3−ジメトキシプロピル、2−(2−メトキシエトキシ)エチル等が挙げられ、中でも本発明の効果の面から2−エチルヘキシル基が好ましい。
前記一般式(3)において、R8は水素原子又は炭素原子数1〜4のアルキル基を表し、
炭素原子数1〜4のアルキル基としては、例えば、前記R6で例示した基と同じ基が挙げられ、中でも本発明の効果の面から水素原子が好ましい。
前記一般式(3)で表される有機環状ホスファイト化合物としては、例えば、下記の化合物No.9〜No.11等の化合物が挙げられる。
Figure 2009185291
Figure 2009185291
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本発明に係る前記一般式(4)において、R9は1〜4価のアルコールからn(1〜4の整数)個の水酸基を除いた残基を表し、該1〜4価のアルコールとしては、メタノール、エタノール、ブタノール、オクタノール、2−エチルヘキサノール、デカノール、ドデカノール、トリデカノール、イソトリデカノール、テトラデカノール、ヘキサデカノール、オクタデカノール、エイコサノール、ドコサノール、トリアコンタノール等の1価アルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、チオジエタノール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、1,10−デカンジオール、2,2−ビス(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル)プロパン、3,9−ビス(1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5,5〕ウンデカン等の2価アルコール、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート等の3価アルコール、ペンタエリスリトール、ジトリメチロールエタン、ジトリメチロールプロパン、ジグリセリン等の4価アルコールが挙げられ、中でも本発明の効果の面からR9はペンタエリスリトールから4個の水酸基を除いた残基が好ましい。
従って、本発明に係る前記一般式(4)で表されるヒンダードフェノール化合物の具体例としては、ステアリル−3−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、ヘキサメチレンビス−3−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、チオジエチレンビス(3−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート)、2,2−ビス(4−(2−(3−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ)エチル)フェニル)プロパン、トリス(2−(3−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ)エチル)イソシアヌレート、テトラキス(3−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシメチル)メタン等が挙げられる。
本発明の前記一般式(2)〜(4)で表される化合物の合成方法としては、特に制限されず、通常の有機合成における手法により合成可能である。また、精製方法としては、蒸留、再結晶、再沈、ろ過剤・吸着剤を用いる方法等を適宜使用することができる。更に、通常市販される安価に入手可能なものは混合物であることが多く、単独で用いても混合物で用いてもよく、製造方法、組成、融点、酸価等によらず利用できる。
前記一般式(2)〜(4)で表されるホスファイト系化合物及び/又はヒンダードフェノール系化合物の含有量は、各々、本発明の紫外線吸収剤組成物中、0〜99.9質量%、好ましくは0.1〜99質量%である。但し、前記ホスファイト系化合物及び/又はヒンダードフェノール系化合物の合計の含有量は、本発明の紫外線吸収剤組成物中、0.1〜99.9質量%である。合計の含有量が0.1質量%未満では充分な耐熱着色性効果が発揮できず、合計の含有量が99.9質量%を超えると紫外線吸収能が劣る傾向となる。
以上説明した本発明の紫外線吸収剤組成物は、以下に説明する合成樹脂に配合され、合成樹脂組成物として好適に用いられる。

次に、本発明の合成樹脂組成物について説明する。
本発明の合成樹脂組成物は、合成樹脂100質量部に対して、前記一般式(1)で表されるトリアジン系化合物0.001〜10質量部と前記一般式(2)で表されるジアリールペンタエリスリトールジホスファイト化合物0.001〜10質量部及び/又は前記一般式(3)で表される有機環状ホスファイト化合物0.001〜10質量部及び/又は前記一般式(4)で表されるヒンダードフェノール系化合物0.001〜10質量部とを配合したものである。
本発明に用いる合成樹脂としては、高密度ポリエチレン、アイソタクチックポリプロピレン、シンジオタクチックポリプロピレン、ヘミアイソタクチックポリプロピレン、ポリブテン−1、ポリ3−メチル−1−ブテン、ポリ3−メチル−1−ペンテン、ポリ4−メチル−1−ペンテン、エチレン/プロピレンブロック又はランダム共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、オレフィン−マレイミド共重合体等のポリオレフィン系樹脂及びこれらの重合体を与えるモノマーの共重合体;ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、ポリフッ化ビニリデン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化ビニル−シクロヘキシルマレイミド共重合体等の含ハロゲン樹脂;ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−1,2−ジフェノキシエタン−4,4'−ジカルボキシレート、ポリヘキサメチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂;ポリスチレン、ハイインパクトポリスチレン(HIPS)、アクリロニトリルブタジエンスチレン(ABS)、塩素化ポリエチレンアクリロニトリルスチレン(ACS)、スチレンアクリロニトリル(SAN)、アクリロニトリルブチルアクリレートスチレン(AAS)、ブタジエンスチレン、スチレンマレイン酸、スチレンマレイミド、エチレンプロピレンアクリロニトリルスチレン(AES)、ブタジエンメタクリル酸メチルスチレン(MBS)等のスチレン系樹脂;ポリカーボネート、分岐ポリカーボネート等のポリカーボネート系樹脂;ポリヘキサメチレンアジパミド(ナイロン66)、ポリカプロラクタム(ナイロン6)、ナイロン6T等の芳香族ジカルボン酸や脂環式ジカルボン酸を使用したポリアミド等のポリアミド系樹脂;ポリフェニレンオキシド(PPO)樹脂;変性ポリフェニレンオキシド樹脂;ポリフェニレンサルフィド(PPS)樹脂;ポリアセタール(POM);変性ポリアセタール;ポリスルホン;ポリエーテルスルホン;ポリエーテルケトン;ポリエーテルイミド;ポリオキシエチレン;石油樹脂;クマロン樹脂;ノルボルネン樹脂等のシクロオレフィン樹脂、シクロオレフィン−オレフィン共重合樹脂;ポリ酢酸ビニル樹脂;ポリビニルアルコール樹脂;ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂;ポリカーボネートとスチレン系樹脂とのポリマーアロイ;ポリビニルアルコール樹脂;ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース(TAC)、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース等のセルロース系樹脂;液晶ポリマー(LCP);シリコン樹脂;ウレタン樹脂;脂肪族ジカルボン酸、脂肪族ジオール、脂肪族ヒドロキシカルボン酸もしくはその環状化合物からの脂肪族ポリエステル、更にはこれらがジイソシアネート等により分子量が増加した脂肪族ポリエステル等の生分解性樹脂;及びこれらのリサイクル樹脂等が挙げられる。更にフェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等の熱硬化性樹脂が挙げられる。更に天然ゴム(NR)、ポリイソプレンゴム(IR)、スチレンブタジエンゴム(SBR)、ポリブタジエンゴム(BR)、エチレン−プロピレン−ジエンゴム(EPDM)、ブチルゴム(IIR)、クロロプレンゴム、アクリロニトリルブタジエンゴム(NBR)、シリコーンゴム等のゴム系高分子化合物であってもよく、光学材料用としては、可視光の透過率に優れる、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、セルローストリアセテートやセルロースアセテートブチレート等のセルロースエステル系樹脂、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル酸エステル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ノルボルネン系樹脂等が、透明性、耐久性、偏光特性、電気絶縁性に優れるため好適である。
本発明に用いられる前記一般式(1)又は(5)で表されるトリアジン系化合物、前記一般式(2)で表されるジアリールペンタエリスリトールジホスファイト化合物、前記一般式(3)で表される有機環状ホスファイト化合物及び前記一般式(4)で表されるヒンダードフェノール系化合物については、本発明の紫外線吸収剤組成物における説明が随時適用される。
前記一般式(1)又は(5)で表されるトリジン系化合物の合成樹脂への配合量は、合成樹脂100質量部に対し、0.001〜10質量部、好ましくは、0.01〜5質量部である。0.001質量部未満では十分な安定化効果が得られず、一方、10質量部を超えると樹脂物性の低下や、ブルームにより樹脂組成物の美観を損なう等の問題が生じる。
また、前記一般式(2)〜(4)で表されるホスファイト系化合物及びヒンダードフェノール系化合物の合成樹脂への配合量は、各々、合成樹脂100質量部に対して、0.001〜10質量部、好ましくは0.01〜5質量部である。但し、前記一般式(2)〜(4)で表されるホスファイト系化合物及びヒンダードフェノール系化合物の合計の使用量は、合成樹脂100質量部に対して、0.001〜10質量部である。合計の使用量が0.001質量部未満であると、充分な耐熱着色抑制効果が発揮できず、10質量部を超えると、合成樹脂物性の低下や、ブリード等により外観を損なう等の問題を生じる。
本発明の合成樹脂組成物には、用いる合成樹脂の種類に応じて通常用いられる他の酸化防止剤(フェノール系、リン系又はチオエーテル系等)、他の紫外線吸収剤(ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、他のトリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤等)、ヒンダードアミン系光安定剤、可塑剤、加工助剤等の添加剤を配合することができる。
前記フェノール系酸化防止剤としては、例えば、2,6−ジ第三ブチル−p−クレゾー
ル、2,6−ジフェニル−4−オクタデシロキシフェノール、4,4'−チオビス(6−第三ブチル−m−クレゾール)、2,2'−メチレンビス(4−メチル−6−第三ブチルフェノール)、2,2'−メチレンビス(4−エチル−6−第三ブチルフェノール)、4,4'−ブチリデンビス(6−第三ブチル−m−クレゾール)、2,2'−エチリデンビス(4,6−ジ第三ブチルフェノール)、2,2'−エチリデンビス(4−第二ブチル−6−第三ブチルフェノール)、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−第三ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリス(2,6−ジメチル−3−ヒドロキシ−4−第三ブチルベンジル)イソシアヌレート、1,3,5−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、1,3,5−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼン、2−第三ブチル−4−メチル−6−(2−アクリロイルオキシ−3−第三ブチル−5−メチルベンジル)フェノール、チオジエチレングリコールビス〔(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、ビス〔3,3−ビス(4−ヒドロキシ−3−第三ブチルフェニル)ブチリックアシッド〕グリコールエステル、ビス〔2−第三ブチル−4−メチル−6−(2−ヒドロキシ−3−第三ブチル−5−メチルベンジル)フェニル〕テレフタレート、1,3,5−トリス〔(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、3,9−ビス〔1,1−ジメチル−2−{(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ}エチル〕−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5.5〕ウンデカン、トリエチレングリコールビス〔(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオネート〕等が挙げられ、樹脂100質量部に対して、好ましくは0.001〜10質量部、より好ましくは、0.05〜5質量部用いられる。
前記リン系酸化防止剤としては、例えば、トリスノニルフェニルホスファイト、トリス
〔2−第三ブチル−4−(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニルチオ)
−5−メチルフェニル〕ホスファイト、トリデシルホスファイト、オクチルジフェニルホ
スファイト、ジ(デシル)モノフェニルホスファイト、ジ(トリデシル)ペンタエリスリ
トールジホスファイト、ジ(ノニルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビ
ス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,
4−ジクミルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラ(トリデシル)イ
ソプロピリデンジフェノールジホスファイト、テトラ(トリデシル)−4,4'−n−ブ
チリデンビス(2−第三ブチル−5−メチルフェノール)ジホスファイト、ヘキサ(トリ
デシル)−1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−第三ブチルフェニル
)ブタントリホスファイト、9,10−ジハイドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナンスレン−10−オキサイド、2,2'−エチリデンビス(4,6−ジ第三ブチルフェニル)フルオロホスファイト、トリス(2−〔(2,4,8,10−テトラキス第三ブチルジベンゾ〔d,f〕〔1,3,2〕ジオキサホスフェピン−6−イル)オキシ〕エチル)アミン、2−エチル−2−ブチルプロピレングリコールと2,4,6−トリ第三ブチルフェノールのホスファイト等が挙げられる。
前記チオエーテル系酸化防止剤としては、チオジプロピオン酸ジラウリル、チオジプロ
ピオン酸ジミリスチル、チオジプロピオン酸ジステアリル等のジアルキルチオジプロピオ
ネート類及びペンタエリスリトールテトラ(β−ドデシルメルカプトプロピオネート)等
のポリオールのβ−アルキルメルカプトプロピオン酸エステル類が挙げられる。
前記ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、2−(2'−ヒドロキシ−5'−メ
チルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2'−ヒドロキシ−3',5'−ジ第三ブチ
ルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2'−ヒドロキシ−3'−第三ブ
チル−5'−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2'−ヒドロキ
シ−5'−第三オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2'−ヒドロキシ−3'
,5'−ジクミルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2'−ヒドロキシ−3'−第三
ブチル−5'−カルボキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2,2'−メチレンビス(4
−第三オクチル−6−ベンゾトリアゾリル)フェノール等の2−(2'−ヒドロキシフェ
ニル)ベンゾトリアゾール類が挙げられる。
前記他のトリアジン系紫外線吸収剤としては、2−(2−ヒドロキシ−4−オクトキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−s−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシフェニル)−4,6−ジフェニル−s−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−プロポキシ−5−メチルフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−s−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシフェニル)−4,6−ジビフェニル−s−トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−オクトキシフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−オクトキシフェニル)−s−トリアジン等のトリアリールトリアジン類等が挙げられる。
前記ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、
2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾ
フェノン、5,5'−メチレンビス(2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン)等
の2−ヒドロキシベンゾフェノン類が挙げられる。
前記ヒンダードアミン系光安定剤としては、例えば、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルステアレート、1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルステアレート、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルベンゾエート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1−オクトキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルメタクリレート、2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジルメタクリレート、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)・ビス(トリデシル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)・ビス(トリデシル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−2−ブチル−2−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マロネート、3,9−ビス〔1,1−ジメチル−2−[トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルオキシカルボニルオキシ)ブチルカルボニルオキシ]エチル〕−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5.5〕ウンデカン、3,9−ビス〔1,1−ジメチル−2−[トリス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルオキシカルボニルオキシ)ブチルカルボニルオキシ]エチル〕−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5.5〕ウンデカン、1,6−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルアミノ)ヘキサン/2,4−ジクロロ−6−モルホリノ−s−トリアジン重縮合物、1,6−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルアミノ)ヘキサン/2,4−ジクロロ−6−第三オクチルアミノ−s−トリアジン重縮合物、1,5,8,12−テトラキス[2,4−ビス(N−ブチル−N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)アミノ)−s−トリアジン−6−イル]−1,5,8,12−テトラアザドデカン、1,5,8,12−テトラキス[2,4−ビス(N−ブチル−N−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)アミノ)−s−トリアジン−6−イル]−1,5,8,12−テトラアザドデカン、1,6,11−トリス[2,4−ビス(N−ブチル−N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)アミノ)−s−トリアジン−6−イルアミノ]ウンデカン、1,6,11−トリス[2,4−ビス(N−ブチル−N−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)アミノ)−s−トリアジン−6−イルアミノ]ウンデカン、1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジノール/コハク酸ジエチル重縮合物、1,6−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルアミノ)ヘキサン/ジブロモエタン重縮合物等が挙げられる。
これら他の酸化防止剤、紫外線吸収剤及びヒンダードアミン系光安定剤は、基材樹脂への溶解性に優れた構造が好ましく、また、加工時や使用時の熱で揮散しにくい高分子量の構造のものが好ましく、分子量500以上、より好ましくは分子量700以上であり、重合性基や反応性基を導入して高分子量化したり、合成樹脂に組み込んだものでもよい。これら他の酸化防止剤及び紫外線吸収剤の使用量は、合成樹脂100質量部に対して、好ましくは0.01〜10質量部、より好ましくは、0.05〜5質量部である。
前記可塑剤としては、特に限定されないが、例えばリン酸エステル系可塑剤やポリエス
テル系可塑剤が挙げられ、これらは、単独或いは2種以上混合して用いることができる。
前記リン酸エステル系可塑剤としては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホス
フェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェ
ニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が
挙げられる。
前記ポリエステル系可塑剤としては、脂肪族二塩基酸や芳香族二塩基酸とジオール化合
物からなる鎖状ポリエステルやヒドロキシカルボン酸の鎖状ポリエステルが挙げられる。
前記脂肪族二塩基酸としては、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン
酸、ピメリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フマル酸、2,2−ジメチルグルタル酸、
スベリン酸、1,3−シクロペンタンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン
酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、ジグリコール酸、イタコン酸、マレイン酸、
2,5−ノルボルネンジカルボン酸等。芳香族二塩基酸としてはフタル酸、1,5−ナフ
タレンジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、ビフェニルジカルボン酸、アン
トラセンジカルボン酸、ターフェニルジカルボン酸等が挙げられる。
前記ジオール化合物としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−
プロパンジオール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタン
ジオール、2−メチルプロパンジオール、1,3−ジメチルプロパンジオール、1,5−
ペンタンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール、1,6−ヘキサンジ
オール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,9−ノナンジオール、2,2,4
−トリメチル−1,6−ヘキサンジオール、2−エチル−2−ブチルプロパンジオール、
ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピ
レングリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリコール、チオジエチ
レングリコール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジメタ
ノール、2,2,4,4−テトラメチル−1,3−シクロブタンジオール、3,9−ビス
(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ
[5,5]ウンデカン等が挙げられる。
前記ヒドロキシカルボン酸としては、4−ヒドロキシルメチルシクロヘキサンカルボン
酸、ヒドロキシトリメチル酢酸、6−ヒドロキシカプロン酸、グリコール酸、乳酸等が挙
げられる。
他のポリエステル系可塑剤としては、3価以上のポリオールとモノカルボン酸化合物の
ポリエステルが挙げられる。3価以上のポリオールとしては、グリセリン、トリメチロー
ルプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトールやその縮合物であるジペンタエリスリ
トール、トリペンタエリスリトール等が挙げられる。また、これらポリオールにエチレン
オキサイド等のアルキレンオキサイドを付加したポリエーテルポリオールでもよい。
前記モノカルボン酸としては、安息香酸、p−メチル安息香酸、m−メチル安息香酸、
ジメチル安息香酸、p−tert−ブチル安息香酸、p−メトキシ安息香酸、p−クロロ
安息香酸、ナフチル酸、ビフェニルカルボン酸等の芳香族カルボン酸;シクロヘキサンカ
ルボン酸等の脂環式カルボン酸;酢酸、プロピオン酸、2−エチルヘキサン酸等の脂肪族
酸が挙げられる。モノカルボン酸は単独でも混合でもよい。
これら可塑剤の使用量は、合成樹脂性能、加工性等の点で、合成樹脂中、0〜20質量%が好ましい。液晶表示部材用としては、寸法安定性の観点から1〜15質量%が更に好ましく、特に好ましくは、2〜10質量%であり、加水分解の面でポリエステル系可塑剤が好ましい。
本発明の合成樹脂組成物において、合成樹脂、前記一般式(1)〜(5)で表わされる、トリアジン系化合物/ホスファイト化合物/ヒンダードフェノール系化合物及び上述の添加剤の混合の順序は特に制限されず、全ての成分を同時に混合してもよいし、予め紫外線吸収剤組成物を調製してから、これと合成樹脂を混合してしてもよいし、予め調製しておいた複数の成分を他の成分と混合してもよいし、或いは予め調製しておいた複数の成分同士をさらに混合してもよい。
本発明の合成樹脂組成物の製造において、予め紫外線吸収剤組成物を調製してから、これと合成樹脂を混合する場合、その配合量は、合成樹脂100質量部に対し、前記紫外線吸収剤組成物を好ましくは0.05〜10質量部、より好ましくは0.1〜5質量部である。
以上説明した本発明の合成樹脂組成物は、前記一般式(1)〜(5)で表わされるトリアジン系化合物/ホスファイト系化合物/ヒンダードフェノール系化合物が、前記合成樹脂、特に、光学材料用として好適なアクリル酸エステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、セルロースエステル系樹脂又はノルボルネン系樹脂等に対して優れた溶解性を有するので、偏光板等の基材との接着性に優れることやフィルムの物性が安定であること、他の部材を汚染しないこと等の効果が期待できる。
本発明の合成樹脂組成物は、特に制限されないが、シートやフィルム等に成形して、光学フィルムや光学シート等の光学材料として好適に使用できる他、塗料用材料としても使用できる。光学材料としては例えば、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、陰極管表示装置(CRT)、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイ等の画像表示装置に用いる光学フィルム又は光学シートとして有用であり、特に表示素子に紫外線耐性の劣る有機材料を用いる液晶表示装置や有機ELディスプレイの光学補正フィルム、発光体保護フィルム等の光学フィルムとして有用である。液晶表示装置用途としては、偏光板保護フィルム又は保護シート、
位相差フィルム、位相差フィルム、視野角拡大フィルム、防眩フィルム、輝度向上フィルム、光拡散フィルム及び光拡散シート、レンズフィルム及びレンズシート、防曇フィルム、帯電防止フィルム、光学補正フィルム、反射防止フィルム、色調調整フィルムや導光板等が挙げられ、特に液晶表示素子に接している偏光板の外表面側に設置される光学フィルム若しくは光学シート、又は、偏光板保護フィルム若しくは光学シートに好適に使用できる。

次に、本発明の合成樹脂組成物を光学フィルム又は光学シートに用いた場合について説明する。
本発明の光学フィルム及び光学シートは、本発明の合成樹脂組成物をフィルム又はシートに成形して得られるものであり、その成形方法としては、溶液流延法でも射出成形法でも溶融押出し法でもよく、従来と同様の方法によって成形することができる。またその厚さも特に限定されるものではないが、例えばフィルムに成形する場合には、好ましくは5〜300μmであり、より好ましくは5〜150μmであり、シートに成形する場合には、好ましくは200μm〜10mmであり、より好ましくは300μm〜5mmである。
本発明の光学フィルム及び光学シートは、前記合成樹脂組成物に含まれる前記一般式(1)〜(4)で表わされるトリアジン系化合物、ホスファイト化合物及びヒンダードフェノール系化合物が耐揮散性にも優れるので溶液流延法、射出成形法及び溶融押出し法の加工条件として生産性の高い高温条件(200〜350℃)での製造にも適している。
本発明の光学フィルム又は光学シートを用いた液晶表示装置は、偏光能の持続に優れるもので、適用される液晶表示装置は特に制限されず、TN、STN、TFT等の駆動方式、バックライトが蛍光灯かLEDか等の光源の種類、反射型か透過型か等の光源として太陽光等の外部光を利用するか否か、タッチパネル機能の有無等表示装置としての機能の付加、向上のための施策の有無や程度によらず好適に用いることができる。
実施例等により本発明を詳細に示す。但し、本発明は以下の実施例等により何ら制
限されるものではない。
[実施例1及び比較例1]
下記表1又は2記載の配合の如くトリアジン系化合物1質量部に対し、ホスファイト系化合物又はヒンダードフェノール系化合物を0.02質量部添加した混合物を試験管に入れ、ブロックバスにてエア中300℃で15分間加熱し、室温1時間冷却後の着色度合いを下記の基準に基づき目視評価した。結果を表1及び2に併せて記す。
[着色性目視評価](5段階評価)
1:僅かに着色(淡黄色)、2:着色小(黄褐色)、3:着色中(茶褐色)、4:着色大(黒褐色)、5:黒色化
Figure 2009185291
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〔実施例2及び比較例2〕
<ペレット作製>
下記表3又は表4に記載の合成樹脂100質量部に対して、前記化合物No.4を1質量部及び表中記載の如く化合物を配合し、表中記載の加工温度にて押出機((株)東洋精機製作所製、ラボプラストミルμ)を用いてペレットを作製した。
尚、使用した合成樹脂は下記の通りである。
PC:ポリカーボネート樹脂:三菱エンジニアリングプラスチックス(株)製、製品名E−2000
NBE:ノルボルネン樹脂:JSR(株)製、製品名ARTON F5023
PET:ポリエチレンテレフタレート樹脂:帝人化成(株)製、製品名TR−8550
PS:ポリスチレン樹脂:Aldrich製 試薬コード182427
PMMA:メタクリル樹脂:三菱レイヨン(株)製、製品名アクリペットVH000
CAB:セルロース・アセテート・ブチレート樹脂:イーストマンケミカル製、製品名CAB 381−20
<耐熱着色性評価方法>
前記で作製したペレットを多光源分光測色計(スガ試験機株式会社製)により黄色度(イエローインデックス:Y.I(反射))を測定し、耐熱着色性を評価した。結果を表3に併せて記す。
Figure 2009185291
Figure 2009185291
Figure 2009185291
表1〜4の結果から、本発明における特定の構造を有するトリアジン系化合物は、本発明における特定の構造を有するホスファイト化合物及び/又はヒンダードフェノール系化合物との併用系のみにおいて、耐熱着色性(ΔY.I)が顕著に改善されており、様々な合成樹脂において効果を示していることが分かる。
従って、本発明における特定のホスファイト系化合物及び/又はヒンダードフェノール系化合物は、本発明におけるトリアジン系化合物含有合成樹脂の耐熱着色性の改善に顕著な効果を示し、耐熱変色性に優れた紫外線吸収剤組成物及び該紫外線吸収剤組成物を含有した合成樹脂組成物を提供することが可能で、特に、光学フィルム及び光学シートに使用される合成樹脂の耐熱着色性の改善に非常に有用である。

Claims (15)

  1. 下記一般式(1)で表されるトリアジン系化合物0.1〜99.9質量%と、下記一般式(2)で表されるジアリールペンタエリスリトールジホスファイト化合物0〜99.9質量%及び/又は下記一般式(3)で表される有機環状ホスファイト化合物0〜99.9質量%及び/又は下記一般式(4)で表されるヒンダードフェノール系化合物0〜99.9質量%とを含有してなる紫外線吸収剤組成物(但し、前記一般式(2)、(3)及び(4)で表わされる化合物の合計の含有量は、0.1〜99.9質量%である)。
    Figure 2009185291
    (式中、R1は炭素原子数1〜12の直鎖若しくは分岐のアルキル基、炭素原子数3〜8のシクロアルキル基、炭素原子数3〜8のアルケニル基、炭素原子数6〜18のアリール基、炭素原子数7〜18のアルキルアリール基又は炭素原子数7〜18のアリールアルキル基を表す。但し、これらのアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルキルアリール基又はアリールアルキル基は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数1〜12のアルキル基又は炭素原子数1〜12のアルコキシ基で置換されていてもよく、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、エステル基、アミド基又はイミノ基で中断されていてもよい。また、前記の置換及び中断は組み合わされてもよい。R2は水素原子、炭素原子数1〜8のアルキル基又は炭素原子数3〜8のアルケニル基を表わし、R3は水素原子又はヒドロキシ基を表し、R4は水素原子又は−O−R1を表す。)
    Figure 2009185291
    (式中、R5は各々独立に水素原子又は炭素原子数1〜4のアルキル基を表す。)
    Figure 2009185291
    (式中、R6及びR8は各々独立に水素原子又は炭素原子数1〜4のアルキル基を表し、R7は炭素原子数1〜18のアルキル基を表す。)
    Figure 2009185291
    (式中、R9は1〜4価のアルコールからn個の水酸基を除いた残基を表し、nは1〜4の整数を表す。)
  2. 前記一般式(1)で表されるトリアジン系化合物が、下記一般式(5)で表されるトリアジン系化合物である請求項1に記載の紫外線吸収剤組成物。
    Figure 2009185291
    (式中、R10は炭素原子数1〜12の直鎖又は分岐のアルキル基を表す。(但し、これらのアルキル基はヒドロキシ基、ハロゲン原子又はアルコキシ基で置換されていてもよく、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、エステル基、アミド基又はイミノ基で中断されていてもよい。))
  3. 前記一般式(2)におけるR5が、メチル基であることを特徴とする請求項1又2に記載の紫外線吸収剤組成物。
  4. 前記一般式(3)におけるR6が第三ブチル基、R7が2−エチルヘキシル基、R8が水素原子である請求項1〜3の何れかに記載の紫外線吸収剤組成物。
  5. 前記一般式(4)におけるR9が、ペンタエリスリトールから4個の水酸基を除いた残基である請求項1〜4の何れかに記載の紫外線吸収剤組成物。
  6. 合成樹脂100質量部に対して、下記一般式(1)で表されるトリアジン系化合物0.001〜10質量部と下記一般式(2)で表されるジアリールペンタエリスリトールジホスファイト化合物0.001〜10質量部及び/又は下記一般式(3)で表される有機環状ホスファイト化合物0.001〜10質量部及び/又は下記一般式(4)で表されるヒンダードフェノール系化合物0.001〜10質量部とを配合してなる合成樹脂組成物。
    Figure 2009185291
    (式中、R1は炭素原子数1〜12の直鎖若しくは分岐のアルキル基、炭素原子数3〜8のシクロアルキル基、炭素原子数3〜8のアルケニル基、炭素原子数6〜18のアリール基、炭素原子数7〜18のアルキルアリール基又は炭素原子数7〜18のアリールアルキル基を表す。但し、これらのアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルキルアリール基又はアリールアルキル基は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数1〜12のアルキル基又はアルコキシ基で置換されていてもよく、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、エステル基、アミド基又はイミノ基で中断されていてもよい。また、前記の置換及び中断は組み合わされてもよい。R2は水素原子、炭素原子数1〜8のアルキル基又は炭素原子数3〜8のアルケニル基を表わし、R3は水素原子又はヒドロキシ基を表し、R4は水素原子又は−O−R1を表す。)
    Figure 2009185291
    (式中、R5は各々独立に水素原子又は炭素原子数1〜4のアルキル基を表す。)
    Figure 2009185291
    (式中、R6及びR8は各々独立に水素原子又は炭素原子数1〜4のアルキル基を表し、R7は炭素原子数1〜18のアルキル基を表す。)
    Figure 2009185291
    (式中、R9は1〜4価のアルコールからn個の水酸基を除いた残基を表し、nは1〜4の整数を表す。)
  7. 前記一般式(1)で表されるトリアジン系化合物が、下記一般式(5)で表されるトリアジン系化合物である請求項6に記載の合成樹脂組成物。
    Figure 2009185291
    (式中、R10は炭素原子数1〜12の直鎖又は分岐のアルキル基を表す。(但し、これらのアルキル基はヒドロキシ基、ハロゲン原子又はアルコキシ基で置換されていてもよく、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、エステル基、アミド基又はイミノ基で中断されていてもよい。))
  8. 前記一般式(2)におけるR5が、メチル基であることを特徴とする請求項6又7に記載の合成樹脂組成物。
  9. 前記一般式(3)におけるR6が第三ブチル基、R7が2−エチルヘキシル基、R8が水素原子である請求項6〜8の何れかに記載の合成樹脂組成物。
  10. 前記一般式(4)におけるR9が、ペンタエリスリトールから4個の水酸基を除いた残基である請求項6〜9の何れかに記載の合成樹脂組成物。
  11. 前記合成樹脂が、アクリル酸エステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、セルロースエステル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂又はノルボルネン系樹脂である請求項6〜10の何れかに記載の合成樹脂組成物。
  12. 請求項6〜11の何れかに記載の合成樹脂組成物からなるフィルム又はシート。
  13. 光学フィルム又は光学シートである請求項12に記載のフィルム又はシート。
  14. 液晶表示素子に接している偏光板の外表面側に設置される光学フィルム若しくは光学シート、又は、該偏光板用の保護フィルム若しくは保護シートである請求項13に記載のフィルム又はシート。
  15. 偏光板用の保護フィルム又は保護シートである請求項13に記載のフィルム又はシート。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010095502A1 (ja) * 2009-02-18 2010-08-26 株式会社Adeka 耐熱性の改善された紫外線吸収剤組成物及びこれを含有してなる合成樹脂組成物
JP2011026519A (ja) * 2009-07-28 2011-02-10 Adeka Corp 青紫色レーザー光吸収材料
WO2011027710A1 (ja) * 2009-09-04 2011-03-10 株式会社Adeka 紫外線吸収剤を含有した日焼け防止用化粧組成物
JP2011168764A (ja) * 2009-09-28 2011-09-01 Fujifilm Corp トリアジン化合物を含有するポリカーボネート樹脂組成物及びそれを用いた成形品
JP2011168705A (ja) * 2010-02-19 2011-09-01 Mitsubishi Engineering Plastics Corp ポリカーボネート樹脂組成物及び成形体
JP2012149156A (ja) * 2011-01-19 2012-08-09 Toyo Styrene Co Ltd スチレン系樹脂組成物、板状成形品および導光板
JP2012201768A (ja) * 2011-03-24 2012-10-22 Adeka Corp 蛍光部材被覆用樹脂組成物及びこれを塗布してなる蛍光部材

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11267951B2 (en) 2010-12-13 2022-03-08 Cytec Technology Corp. Stabilizer compositions containing substituted chroman compounds and methods of use
NZ611802A (en) 2010-12-13 2015-09-25 Cytec Tech Corp Processing additives and uses of same in rotational molding
WO2013088796A1 (ja) * 2011-12-13 2013-06-20 出光興産株式会社 芳香族ポリカーボネート樹脂組成物及び光学成形品
JP6239504B2 (ja) * 2012-06-28 2017-11-29 株式会社Adeka セルロースエステル系樹脂組成物
JP2013067811A (ja) * 2012-12-06 2013-04-18 Adeka Corp 遮光フィルム
KR101377201B1 (ko) * 2013-03-25 2014-03-25 주식회사 엘지화학 자외선 차단 기능이 우수한 광학 필름 및 이를 포함하는 편광판
TWI648163B (zh) * 2014-02-06 2019-01-21 日商住友化學股份有限公司 偏光器保護薄膜及偏光板
JP6586346B2 (ja) * 2014-11-17 2019-10-02 株式会社Adeka 紫外線吸収剤及び合成樹脂組成物
JP6472652B2 (ja) * 2014-12-18 2019-02-20 株式会社Adeka アクリル樹脂組成物及びそれを積層してなる積層体
CN107429032B (zh) * 2015-04-03 2019-10-25 株式会社可乐丽 树脂组合物及其制造方法、成型体、膜以及物品
WO2017212816A1 (ja) * 2016-06-09 2017-12-14 株式会社Adeka 樹脂組成物
JP6837147B2 (ja) * 2018-03-30 2021-03-03 株式会社Adeka 粒状紫外線吸収剤および樹脂組成物
CN111393822B (zh) * 2020-04-15 2022-05-31 佛山市汉纬新材料有限公司 一种壳体材料用pc/abs合金塑料及其制备方法

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1171355A (ja) * 1997-08-29 1999-03-16 Asahi Denka Kogyo Kk トリアジン系化合物及び紫外線吸収剤
JPH1171356A (ja) * 1997-08-29 1999-03-16 Asahi Denka Kogyo Kk トリアジン系化合物および紫外線吸収剤
JP2000313051A (ja) * 1999-03-02 2000-11-14 Asahi Denka Kogyo Kk ポリカーボネート樹脂成形物
JP2002302611A (ja) * 2001-04-06 2002-10-18 Asahi Denka Kogyo Kk 熱可塑性樹脂組成物
JP2004160883A (ja) * 2002-11-14 2004-06-10 Asahi Denka Kogyo Kk 光学記録材料
JP2005054032A (ja) * 2003-08-01 2005-03-03 Mitsubishi Engineering Plastics Corp 単層ポリカーボネートシートまたはフィルム
JP2005225018A (ja) * 2004-02-12 2005-08-25 Mitsubishi Gas Chem Co Inc ポリカーボネート樹脂積層体
JP2006001568A (ja) * 2004-06-16 2006-01-05 Asahi Denka Kogyo Kk 耐候性の改善されたポリエステル樹脂製容器
JP2007269903A (ja) * 2006-03-30 2007-10-18 Adeka Corp 高分子材料組成物

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002249600A (ja) 2001-02-23 2002-09-06 Sekisui Chem Co Ltd ノルボルネン系樹脂フィルム及びその製造方法
DE60215790T2 (de) * 2001-04-06 2007-09-13 Adeka Corp. Uv-absorber für kunstharz und diesen enthaltende kunstharzzusammensetzung
JP3404027B2 (ja) 2001-04-23 2003-05-06 日本ゼオン株式会社 液晶ディスプレイ用偏光フィルムの製造方法
EP1746445B1 (en) 2004-05-12 2012-02-22 Adeka Corporation Optical film
JP5411525B2 (ja) * 2009-02-18 2014-02-12 株式会社Adeka 耐熱性の改善された紫外線吸収剤組成物及びこれを含有してなる合成樹脂組成物

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1171355A (ja) * 1997-08-29 1999-03-16 Asahi Denka Kogyo Kk トリアジン系化合物及び紫外線吸収剤
JPH1171356A (ja) * 1997-08-29 1999-03-16 Asahi Denka Kogyo Kk トリアジン系化合物および紫外線吸収剤
JP2000313051A (ja) * 1999-03-02 2000-11-14 Asahi Denka Kogyo Kk ポリカーボネート樹脂成形物
JP2002302611A (ja) * 2001-04-06 2002-10-18 Asahi Denka Kogyo Kk 熱可塑性樹脂組成物
JP2004160883A (ja) * 2002-11-14 2004-06-10 Asahi Denka Kogyo Kk 光学記録材料
JP2005054032A (ja) * 2003-08-01 2005-03-03 Mitsubishi Engineering Plastics Corp 単層ポリカーボネートシートまたはフィルム
JP2005225018A (ja) * 2004-02-12 2005-08-25 Mitsubishi Gas Chem Co Inc ポリカーボネート樹脂積層体
JP2006001568A (ja) * 2004-06-16 2006-01-05 Asahi Denka Kogyo Kk 耐候性の改善されたポリエステル樹脂製容器
JP2007269903A (ja) * 2006-03-30 2007-10-18 Adeka Corp 高分子材料組成物

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010095502A1 (ja) * 2009-02-18 2010-08-26 株式会社Adeka 耐熱性の改善された紫外線吸収剤組成物及びこれを含有してなる合成樹脂組成物
US8287778B2 (en) 2009-02-18 2012-10-16 Adeka Corporation Ultraviolet absorber composition with improved heat resistance and synthetic resin composition containing the same
JP2011026519A (ja) * 2009-07-28 2011-02-10 Adeka Corp 青紫色レーザー光吸収材料
EP2474302A4 (en) * 2009-09-04 2015-01-21 Adeka Corp SUN PROTECTION COSMETICS COMPOSITION WITH ULTRAVIOLET ABSORBER
WO2011027710A1 (ja) * 2009-09-04 2011-03-10 株式会社Adeka 紫外線吸収剤を含有した日焼け防止用化粧組成物
KR101773536B1 (ko) * 2009-09-04 2017-08-31 가부시키가이샤 아데카 자외선 흡수제를 함유한 자외선 차단용 화장료 조성물
CN102448433A (zh) * 2009-09-04 2012-05-09 株式会社艾迪科 含有紫外线吸收剂的防晒用化妆组合物
EP2474302A1 (en) * 2009-09-04 2012-07-11 Adeka Corporation Sunscreen cosmetic composition containing ultraviolet absorber
US9498653B2 (en) 2009-09-04 2016-11-22 Adeka Corporation Sunscreen cosmetic composition containing ultraviolet absorber
JP5683468B2 (ja) * 2009-09-04 2015-03-11 株式会社Adeka 紫外線吸収剤を含有した日焼け防止用化粧組成物
JP2011168764A (ja) * 2009-09-28 2011-09-01 Fujifilm Corp トリアジン化合物を含有するポリカーボネート樹脂組成物及びそれを用いた成形品
US8748520B2 (en) 2009-09-28 2014-06-10 Fujifilm Corporation Polycarbonate resin composition containing triazine compound and molded article using the same
JP2011168705A (ja) * 2010-02-19 2011-09-01 Mitsubishi Engineering Plastics Corp ポリカーボネート樹脂組成物及び成形体
JP2012149156A (ja) * 2011-01-19 2012-08-09 Toyo Styrene Co Ltd スチレン系樹脂組成物、板状成形品および導光板
JP2012201768A (ja) * 2011-03-24 2012-10-22 Adeka Corp 蛍光部材被覆用樹脂組成物及びこれを塗布してなる蛍光部材

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