KR101290534B1

KR101290534B1 - 내열성이 개선된 자외선 흡수제 조성물 및 이것을 함유해서 이루어지는 합성수지 조성물

Info

Publication number: KR101290534B1
Application number: KR1020117015824A
Authority: KR
Inventors: 미츠루 후쿠시마; 토시타카 요시타케; 테츠오 카미모토; 토시오 나카지마
Original assignee: 가부시키가이샤 아데카
Priority date: 2009-02-18
Filing date: 2010-02-01
Publication date: 2013-07-30
Also published as: JP5411525B2; WO2010095502A1; TW201035062A; EP2399952A4; CN102282206B; CN102282206A; JP2009185291A; US20110272648A1; EP2399952A1; EP2399952B1; US8287778B2; KR20110110772A; TWI471315B

Abstract

본 발명은 합성수지 100질량부에 대하여, 하기 일반식(1)로 표시되는 트리아진계 화합물 0.001∼10질량부와, 하기 일반식(2)로 표시되는 디아릴펜타에리트리톨디포스파이트 화합물 0.001∼10질량부 및/또는 하기 일반식(3)으로 표시되는 유기 환상 포스파이트 화합물 0.001∼10질량부 및/또는 하기 일반식(4)로 표시되는 힌더드페놀계 화합물 0.001∼10질량부를 배합해서 이루어지는 합성수지 조성물이다.

(식(1) 중 R¹은 탄소원자수 1∼12의 알킬기 등을 나타내고, R²는 탄소원자수 1∼8의 알킬기를 나타내며, R³은 하이드록시기 등을 나타내고, R⁴는 -O-R¹ 등을 나타내며, 식 (2) 중 R⁵는 탄소원자수 1∼4의 알킬기 등을 나타내고, 식(3) 중 R⁵ 및 R⁸은 탄소원자수 1∼4의 알킬기 등을 나타내며, R⁷은 탄소원자수 1∼18의 알킬기를 나타내고, 식(4) 중 R⁹는 1∼4가의 알코올에서 n개의 수산기를 뺀 잔기를 나타내며, n은 1∼4의 정수를 나타낸다.)

Description

내열성이 개선된 자외선 흡수제 조성물 및 이것을 함유해서 이루어지는 합성수지 조성물{ULTRAVIOLET ABSORBER COMPOSITION WITH IMPROVED HEAT RESISTANCE AND SYNTHETIC RESIN COMPOSITION CONTAINING THE SAME}

본 발명은 특정한 트리아진계 화합물 및 특정한 포스파이트계 화합물 및/또는 힌더드페놀계 화합물로 이루어지는 자외선 흡수제 조성물 및 이것을 함유해서 이루어지는 합성수지 조성물에 관한 것으로서, 특히 광학 필름 및 광학 시트 등의 광학 재료 용도에 유용하고, 액정표시장치 등에 이용되는 편광판용 보호 필름 및 보호 시트, 위상차 필름, 시야각 확대 필름, 방현(antiglare) 필름, 휘도 향상 필름, 광확산 필름 및 광확산 시트, 렌즈 필름 및 렌즈 시트, 방담(antifog) 필름, 대전 방지 필름이나 도광판 외에, 각종 기판, 플라즈마 디스플레이에 이용되는 반사 방지 필름 등의 각종 기능 필름, 그리고 유기 EL 디스플레이 등에서 사용되는 각종 기능 필름 등에도 이용할 수 있는 자외선 흡수제 조성물 및 합성수지 조성물에 관한 것이다.

폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 스티렌계 수지, 폴리염화비닐, 폴리카보네이트 등의 합성수지나 유기 안료 또는 염료는 빛의 작용에 의해 열화(劣化)되어, 변색 혹은 기계적 강도의 저하 등을 일으켜 장기적인 사용을 견디지 못한다는 것이 알려져 있다.

이들 유기 재료의 열화를 방지하거나 투과광의 파장을 컨트롤하기 위해, 종래부터 다양한 자외선 흡수제가 사용되고 있는데, 벤조페논계, 벤조트리아졸계, 2,4,6-트리아릴트리아진계 및 시아노아크릴레이트계 자외선 흡수제가 알려져 있다.

예를 들어 광학 재료 용도에 있어서는, 하기 특허문헌 1에는 벤조트리아졸계 화합물이나 트리아진계 화합물과 같은 자외선 흡수제가 사용되는 기술이 개시되어 있고, 하기 특허문헌 2에는 자외선 흡수제를 함유해서 이루어지는 노르보르넨(norbornene)계 수지 필름이 보고되어 있다.

그러나 종래의 자외선 흡수제는 광학 용도에 필요한 흡수능을 부여하는 양을 배합하면 블리드 아웃이나 색조의 변화를 일으키는 것이었다.

본 발명에서 사용하는 트리아진계 화합물로 이루어지는 자외선 흡수제는 하기 특허문헌 3에 내후성 및 내열성이 뛰어난 자외선 흡수제로서 개시되어 있고, 또한 하기 특허문헌 4에는 광학 필름 용도에 적합한 자외선 흡수능을 가지면서, 상기 자외선 흡수제의 블리드 아웃이 적은 자외선 흡수제로서 보고되어 있다.

그러나 상기 트리아진계 자외선 흡수제는 블리드 아웃이 적고, 광학 재료 용도에 적합한 자외선 흡수능을 가지면서, 합성수지 물성의 열 열화 등의 성능은 뛰어나지만, 합성수지의 고온 성형시 등에 있어서 트리아진계 화합물 자체가 착색되기 쉽다는 내열착색성에 관한 과제를 안고 있었다.

일본국 공개특허공보 2002-249600호 일본국 공개특허공보 2001-324616호 일본국 공개특허공보 평11-71356호 미국 특허출원공개 제2007/215845호 명세서

본 발명의 목적은 내열착색성이 개선된 트리아진계 화합물을 배합해서 이루어지는 합성수지 조성물 그리고 상기 합성수지 조성물을 이용한 광학 필름 및 광학 시트를 제공하는 것에 있다.

본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토한 결과, 특정한 구조를 가지는 트리아진계 화합물을 이용한 합성수지의 내열착색성을 개선하는 데 있어서, 특정한 구조를 가지는 포스파이트계 화합물 및/또는 힌더드페놀계 화합물이, 상기 트리아진계 화합물로 이루어지는 자외선 흡수제 자체의 내열착색성의 개선에 현저한 효과를 발현하는 것을 발견하여 본 발명을 완성하기에 이르렀다.

본 발명은 첫째, 하기 일반식(1)로 표시되는 트리아진계 화합물(바람직하게는 하기 일반식(5)로 표시되는 화합물) 0.1∼99.9질량%와, 하기 일반식(2)로 표시되는 디아릴펜타에리트리톨디포스파이트 화합물 0∼99.9질량% 및/또는 하기 일반식(3)으로 표시되는 유기 환상 포스파이트 화합물 0∼99.9질량% 및/또는 하기 일반식(4)로 표시되는 힌더드페놀계 화합물 0∼99.9질량%를 함유해서 이루어지는 자외선 흡수제 조성물을 제공하는 것이다(단, 상기 일반식(2), (3) 및 (4)로 표시되는 화합물의 합계 함유량은 0.1∼99.9질량%이다).

(식 중, R¹은 탄소원자수 1∼12의 직쇄 혹은 분기된 알킬기, 탄소원자수 3∼8의 시클로알킬기, 탄소원자수 3∼8의 알케닐기, 탄소원자수 6∼18의 아릴기, 탄소원자수 7∼18의 알킬아릴기 또는 탄소원자수 7∼18의 아릴알킬기를 나타낸다. 단, 이들 알킬기, 시클로알킬기, 알케닐기, 아릴기, 알킬아릴기 또는 아릴알킬기는 하이드록시기, 할로겐원자, 탄소원자수 1∼12의 알킬기 또는 탄소원자수 1∼12의 알콕시기로 치환되어 있어도 되고, 산소원자, 유황원자, 카르보닐기, 에스테르기, 아미드기 또는 이미노기로 중단되어 있어도 된다. 또한 상기의 치환 및 중단은 조합되어도 된다. R²는 수소원자, 탄소원자수 1∼8의 알킬기 또는 탄소원자수 3∼8의 알케닐기를 나타내고, R³은 수소원자 또는 하이드록시기를 나타내며, R⁴는 수소원자 또는 -O-R¹을 나타낸다.)

(식 중, R⁵는 각각 독립적으로 수소원자 또는 탄소원자수 1∼4의 알킬기를 나타낸다.)

(식 중, R⁶ 및 R⁸은 각각 독립적으로 수소원자 또는 탄소원자수 1∼4의 알킬기를 나타내고, R⁷은 탄소원자수 1∼18의 알킬기를 나타낸다.)

(식 중, R⁹는 1∼4가의 알코올에서 n개의 수산기를 뺀 잔기를 나타내고, n은 1∼4의 정수를 나타낸다.)

(식 중, R¹⁰은 탄소원자수 1∼12의 직쇄 또는 분기된 알킬기를 나타낸다. (단, 이들 알킬기는 하이드록시기, 할로겐원자 또는 알콕시기로 치환되어 있어도 되고, 산소원자, 유황원자, 카르보닐기, 에스테르기, 아미드기 또는 이미노기로 중단되어 있어도 된다.))

본 발명은 둘째, 합성수지(그 중에서도 아크릴산에스테르계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지, 폴리에틸렌나프탈레이트계 수지, 폴리스티렌계 수지, 셀룰로오스에스테르계 수지, 시클로올레핀계 수지 또는 노르보르넨계 수지에 바람직하게 이용된다) 100질량부에 대하여, 상기 일반식(1)로 표시되는 트리아진계 화합물(바람직하게는 하기 일반식(5)로 표시되는 화합물) 0.001∼10질량부와 상기 일반식(2)로 표시되는 디아릴펜타에리트리톨디포스파이트 화합물 0.001∼10질량부 및/또는 상기 일반식(3)으로 표시되는 유기 환상 포스파이트 화합물 0.001∼10질량부 및/또는 상기 일반식(4)로 표시되는 힌더드페놀계 화합물 0.001∼10질량부를 배합해서 이루어지는 합성수지 조성물을 제공하는 것이다.

본 발명은 셋째, 상기 합성수지 조성물로 이루어지는 필름 또는 시트(그 중에서도 광학 필름 또는 광학 시트에 바람직하게 사용할 수 있으며, 특히 편광판용 보호 필름 또는 보호 시트에 적합하다)를 제공하는 것이다.

본 발명에 의해, 내열착색성이 개선된 합성수지 조성물, 나아가서는 상기 합성수지 조성물로 이루어지는 광학 필름 및 광학 시트를 제공하는 것이 가능하게 된다.

이하, 본 발명의 자외선 흡수제 조성물, 합성수지 조성물, 그리고 상기 수지 조성물로 이루어지는 광학 필름 및 광학 시트에 대하여, 바람직한 실시형태에 기초하여 구체적으로 설명한다.

먼저, 본 발명의 자외선 흡수제 조성물에 대하여 설명한다.

본 발명의 자외선 흡수제 조성물은 상기 일반식(1)로 표시되는 트리아진계 화합물 0.1∼99.9질량%와, 상기 일반식(2)로 표시되는 디아릴펜타에리트리톨디포스파이트 화합물 0∼99.9질량% 및/또는 상기 일반식(3)으로 표시되는 유기 환상 포스파이트 화합물 0∼99.9질량% 및/또는 상기 일반식(4)로 표시되는 힌더드페놀계 화합물 0∼99.9질량%를 함유한다.

본 발명에 따른 상기 일반식(1)의 R¹로 표시되는 탄소원자수 1∼12의 직쇄 또는 분기된 알킬기로서는, 예를 들면 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, 제2부틸, 제3부틸, 아밀, 이소아밀, 제3아밀, 헥실, 헵틸, n-옥틸, 이소옥틸, 제3옥틸, 2-에틸헥실, 노닐, 이소노닐, 데실, 운데실, 도데실 등의 직쇄 또는 분기된 알킬기를 들 수 있다.

상기 일반식(1)의 R¹로 표시되는 탄소원자수 3∼8의 시클로알킬기로서는, 예를 들면 시클로프로필, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸 등을 들 수 있다.

상기 일반식(1)의 R¹로 표시되는 탄소원자수 6∼18의 아릴기 또는 탄소원자 7∼18의 알킬아릴기로서는 예를 들면 페닐, 나프틸, 2-메틸페닐, 3-메틸페닐, 4-메틸페닐, 4-비닐페닐, 3-이소프로필페닐, 4-이소프로필페닐, 4-부틸페닐, 4-이소부틸페닐, 4-제3부틸페닐, 4-헥실페닐, 4-시클로헥실페닐, 4-옥틸페닐, 4-(2-에틸헥실)페닐, 2,3-디메틸페닐, 2,4-디메틸페닐, 2,5-디메틸페닐, 2,6-디메틸페닐, 3,4-디메틸페닐, 3,5-디메틸페닐, 2,4-디제3부틸페닐, 2,5-디제3부틸페닐, 2,6-디-제3부틸페닐, 2,4-디제3펜틸페닐, 2,5-디제3아밀페닐, 2,5-디제3옥틸페닐, 비페닐, 2,4,5-트리메틸페닐 등을 들 수 있고, 탄소수 7∼18의 아릴알킬기로서는 예를 들면 벤질, 페네틸, 2-페닐프로판-2-일, 디페닐메틸 등을 들 수 있다.

상기 일반식(1)에 있어서, R¹ 및 R²로 표시되는 탄소원자수 3∼8의 알케닐기로서는, 예를 들면 직쇄 및 분기된 프로페닐, 부테닐, 펜테닐, 헥세닐, 헵테닐, 옥테닐을 불포화 결합의 위치에 관계없이 들 수 있다.

상기 일반식(1)에 있어서, R²로 표시되는 탄소원자수 1∼8의 알킬기로서는 예를 들면 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 제2부틸, 제3부틸, 이소부틸, 아밀, 제3아밀, 옥틸, 제3옥틸 등을 들 수 있고, 그 중에서도 메틸기가 자외선 흡수 능력이 뛰어나기 때문에 바람직하다.

상기 일반식(1)로 표시되는 트리아진계 화합물로서는 예를 들면 하기 화합물 No.1∼No.8 등의 화합물을 들 수 있다.

상기 일반식(1)로 표시되는 트리아진계 화합물 중에서도 상기 일반식(5)로 표시되는 것이, 자외선 흡수능 및 합성수지 물성면에 있어서의 내열착색성 등의 면에서 바람직하다.

상기 일반식(5)에 있어서, R¹⁰으로 표시되는 탄소원자수 1∼12의 알킬기로서는 상기 R¹에서 예시된 기를 들 수 있다.

상기 일반식(1) 또는 (5)로 표시되는 트리아진계 화합물의 합성방법은 특별히 제한을 받지 않으며, 통상 이용되는 어떠한 합성방법이어도 좋다. 예를 들면 염화시아눌(cyanuric chloride)에 페놀 유도체 또는 레조르시놀(resorcinol) 유도체를 삼염화알루미늄을 이용해서 부가 반응시키는 방법을 들 수 있다. R¹(R¹⁰), R², R³ 및 R⁴로 표시되는 치환기는 트리아진 구조를 형성한 후에 도입해도 되고, 트리아진 구조를 형성하기 전에 페놀 화합물 또는 레조르시놀 유도체에 도입해도 된다.

상기 일반식(1) 또는 (5)로 표시되는 트리아진계 화합물의 함유량은 본 발명의 자외선 흡수제 조성물 중 0.1∼99.9질량%, 바람직하게는 1∼99질량%이다. 0.1질량% 미만에서는 필요한 자외선 흡수능이 얻어지지 않는 경우가 있고, 99.9질량%를 넘으면 본 발명의 내열착색성 효과가 떨어지는 경향이 있다.

본 발명에 따른 상기 일반식(2)에 있어서, R⁵로 표시되는 탄소원자수 1∼4의 알킬기로서는, 예를 들면 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, 제2부틸, 제3부틸기를 들 수 있고, 그 중에서도 합성 용이성 및 본 발명의 내열착색성 효과의 면에서 메틸기가 바람직하다.

본 발명에 따른 상기 일반식(3)에 있어서, R⁶으로 표시되는 탄소원자수 1∼4의 알킬기로서는 예를 들면 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 제2부틸, 제3부틸, 이소부틸 등을 들 수 있고, 그 중에서도 본 발명의 효과의 면에서 제3부틸기가 바람직하다.

상기 일반식(3)에 있어서, R⁷로 표시되는 탄소원자수 1∼18의 알킬기로서는 예를 들면 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 제2부틸, 제3부틸, 이소부틸, 아밀, 이소아밀, 제3아밀, 헥실, 헵틸, 2-헵틸, 이소헵틸, 제3헵틸, n-옥틸, 이소옥틸, 제3옥틸, 2-에틸헥실, 노닐, 이소노닐, 데실, 운데실, 도데실, 트리데실, 테트라데실, 펜타데실, 헥사데실, 헵타데실, 옥타데실 등을 들 수 있고, 치환이나 중단을 가지는 것으로서는 클로로메틸, 디클로로메틸, 트리클로로메틸, 2-하이드록시에틸, 2-하이드록시프로필, 3-하이드록시프로필, 2-메톡시에틸, 2-에톡시에틸, 2-부톡시에틸, 2-메톡시프로필, 3-메톡시프로필, 2,3-디하이드록시프로필, 2-하이드록시-3-메톡시프로필, 2,3-디메톡시프로필, 2-(2-메톡시에톡시)에틸 등을 들 수 있으며, 그 중에서도 본 발명의 효과의 면에서 2-에틸헥실기가 바람직하다.

상기 일반식(3)에 있어서, R⁸은 수소원자 또는 탄소원자수 1∼4의 알킬기를 나타내고, 탄소원자수 1∼4의 알킬기로서는 예를 들면 상기 R⁶에서 예시한 기와 같은 기를 들 수 있으며, 그 중에서도 본 발명의 효과의 면에서 수소원자가 바람직하다.

상기 일반식(3)으로 표시되는 유기 환상 포스파이트 화합물로서는 예를 들면 하기 화합물 No.9∼No.11 등의 화합물을 들 수 있다.

본 발명에 따른 상기 일반식(4)에 있어서, R⁹는 1∼4가의 알코올에서 n(1∼4의 정수)개의 수산기를 뺀 잔기를 나타내고, 상기 1∼4가의 알코올로서는 메탄올, 에탄올, 부탄올, 옥탄올, 2-에틸헥산올, 데칸올, 도데칸올, 트리데칸올, 이소트리데칸올, 테트라데칸올, 헥사데칸올, 옥타데칸올, 에이코사놀(eicosanol), 도코사놀(docosanol), 트리아콘타놀(triacontanol) 등의 1가 알코올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 티오디에탄올, 프로필렌글리콜, 부틸렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 1,6-헥산디올, 1,10-데칸디올, 2,2-비스(4-(2-하이드록시에톡시)페닐)프로판, 3,9-비스(1,1-디메틸-2-하이드록시에틸)-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5,5]운데칸 등의 2가 알코올, 글리세린, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 트리스(2-하이드록시에틸)이소시아누레이트 등의 3가 알코올, 펜타에리트리톨, 디트리메틸올에탄, 디트리메틸올프로판, 디글리세린 등의 4가 알코올을 들 수 있으며, 그 중에서도 본 발명의 효과의 면에서 R⁹는 펜타에리트리톨에서 4개의 수산기를 뺀 잔기가 바람직하다.

따라서 본 발명에 따른 상기 일반식(4)로 표시되는 힌더드페놀 화합물의 구체예로서는, 스테아릴-3-(3,5-디제3부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트, 헥사메틸렌비스-3-(3,5-디제3부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트, 티오디에틸렌비스(3-(3,5-디제3부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트), 2,2-비스(4-(2-(3-(3,5-디제3부틸-4-하이드록시페닐)프로피오닐옥시)에틸)페닐)프로판, 트리스(2-(3-(3,5-디제3부틸-4-하이드록시페닐)프로피오닐옥시)에틸)이소시아누레이트, 테트라키스 (3-(3,5-디제3부틸-4-하이드록시페닐)프로피오닐옥시메틸)메탄 등을 들 수 있다.

본 발명의 상기 일반식(2)∼(4)로 표시되는 화합물의 합성방법으로서는, 특별히 제한되지 않으며, 통상적인 유기 합성에 있어서의 수법으로 합성 가능하다. 또한 정제방법으로서는 증류, 재결정, 재침전, 여과제·흡착제를 사용하는 방법 등을 적절히 사용할 수 있다. 또한 통상 시판되는 저렴하게 입수 가능한 것은 혼합물인 경우가 많으며, 단독으로 사용해도 되고 혼합물로 사용해도 되며, 제조방법, 조성, 융점, 산가 등에 관계없이 이용할 수 있다.

상기 일반식(2)∼(4)로 표시되는 포스파이트계 화합물 및/또는 힌더드페놀계 화합물의 함유량은 각각 본 발명의 자외선 흡수제 조성물 중 0∼99.9질량%, 바람직하게는 0.1∼99질량%이다. 단, 상기 포스파이트계 화합물 및/또는 힌더드페놀계 화합물의 합계 함유량은 본 발명의 자외선 흡수제 조성물 중 0.1∼99.9질량%이다. 합계 함유량이 0.1질량% 미만에서는 충분한 내열착색성 효과가 발휘되지 않고, 합계 함유량이 99.9질량%를 넘으면 자외선 흡수능이 떨어지는 경향이 있다.

이상 설명한 본 발명의 자외선 흡수제 조성물은 이하에 설명하는 합성수지에 배합되어, 합성수지 조성물로서 바람직하게 사용된다.

다음으로 본 발명의 합성수지 조성물에 대하여 설명한다.

본 발명의 합성수지 조성물은 합성수지 100질량부에 대하여, 상기 일반식(1)로 표시되는 트리아진계 화합물 0.001∼10질량부와 상기 일반식(2)로 표시되는 디아릴펜타에리트리톨디포스파이트 화합물 0.001∼10질량부 및/또는 상기 일반식(3)으로 표시되는 유기 환상 포스파이트 화합물 0.001∼10질량부 및/또는 상기 일반식(4)로 표시되는 힌더드페놀계 화합물 0.001∼10질량부를 배합한 것이다.

본 발명에 사용되는 합성수지로서는 고밀도 폴리에틸렌, 아이소택틱 폴리프로필렌, 신디오택틱(syndiotactic) 폴리프로필렌, 헤미아이소택틱(hemi-isotactic) 폴리프로필렌, 폴리부텐-1, 폴리3-메틸-1-부텐, 폴리3-메틸-1-펜텐, 폴리4-메틸-1-펜텐, 에틸렌/프로필렌 블록 또는 랜덤 공중합체, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 올레핀-말레이미드 공중합체 등의 폴리올레핀계 수지 및 이들 중합체를 부여하는 모노머의 공중합체; 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 염소화폴리에틸렌, 폴리불화비닐리덴, 염화 고무, 염화비닐-아세트산비닐 공중합체, 염화비닐-에틸렌 공중합체, 염화비닐-염화비닐리덴-아세트산비닐 삼원 공중합체, 염화비닐-아크릴산에스테르 공중합체, 염화비닐-말레산에스테르 공중합체, 염화비닐-시클로헥실말레이미드 공중합체 등의 할로겐함유 수지; 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트(PBT), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리-1,4-시클로헥산디메틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌-1,2-디페녹시에탄-4,4'-디카르복실레이트, 폴리헥사메틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지; 폴리스티렌, 하이 임팩트 폴리스티렌(HIPS), 아크릴로니트릴부타디엔스티렌(ABS), 염소화폴리에틸렌아크릴로니트릴스티렌(ACS), 스티렌아크릴로니트릴(SAN), 아크릴로니트릴부틸아크릴레이트스티렌(AAS), 부타디엔스티렌, 스티렌말레산, 스티렌말레이미드, 에틸렌프로필렌아크릴로니트릴스티렌(AES), 부타디엔메타크릴산메틸스티렌(MBS) 등의 스티렌계 수지; 폴리카보네이트, 분기 폴리카보네이트 등의 폴리카보네이트계 수지; 폴리헥사메틸렌아디파미드(나일론 66), 폴리카프로락탐(나일론 6), 나일론 6T 등의 방향족 디카르복실산이나 지환식 디카르복실산을 사용한 폴리아미드 등의 폴리아미드계 수지; 폴리페닐렌옥시드(PPO) 수지; 변성 폴리페닐렌옥시드 수지; 폴리페닐렌술피드(PPS) 수지; 폴리아세탈(POM); 변성 폴리아세탈; 폴리술폰; 폴리에테르술폰; 폴리에테르케톤; 폴리에테르이미드; 폴리옥시에틸렌; 석유 수지; 쿠마론 수지; 노르보르넨 수지 등의 시클로올레핀 수지, 시클로올레핀-올레핀 공중합 수지; 폴리아세트산비닐 수지; 폴리비닐알코올 수지; 폴리메틸메타크릴레이트 등의 아크릴 수지; 폴리카보네이트와 스티렌계 수지의 폴리머 알로이(alloy); 폴리비닐알코올 수지; 디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스(TAC), 프로피오닐셀룰로오스, 부티릴셀룰로오스, 아세틸프로피오닐셀룰로오스, 니트로셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 수지; 액정 폴리머(LCP); 실리콘 수지; 우레탄 수지; 지방족 디카르복실산, 지방족 디올, 지방족 하이드록시카르복실산 혹은 그 환상 화합물로부터의 지방족 폴리에스테르, 나아가서는 이들이 디이소시아네이트 등에 의해 분자량이 증가한 지방족 폴리에스테르 등의 생분해성 수지; 및 이들의 리사이클 수지 등을 들 수 있다. 또한 페놀 수지, 우레아 수지, 멜라민 수지, 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르 수지 등의 열경화성 수지를 들 수 있다. 또한 천연 고무(NR), 폴리이소프렌 고무(IR), 스티렌부타디엔 고무(SBR), 폴리부타디엔 고무(BR), 에틸렌-프로필렌-디엔 고무(EPDM), 부틸 고무(IIR), 클로로프렌 고무, 아크릴로니트릴부타디엔 고무(NBR), 실리콘 고무 등의 고무계 고분자 화합물이어도 되고, 광학 재료용으로서는 가시광의 투과율이 뛰어난 폴리카보네이트계 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지, 폴리에틸렌나프탈레이트계 수지, 셀룰로오스트리아세테이트나 셀룰로오스아세테이트부티레이트 등의 셀룰로오스에스테르계 수지, 폴리메틸아크릴레이트, 폴리메틸메타크릴레이트 등의 아크릴산에스테르계 수지, 시클로올레핀계 수지, 폴리스티렌계 수지, 노르보르넨계 수지 등이 투명성, 내구성, 편광특성, 전기절연성이 뛰어나기 때문에 바람직하다.

본 발명에 사용되는 상기 일반식(1) 또는 (5)로 표시되는 트리아진계 화합물, 상기 일반식(2)로 표시되는 디아릴펜타에리트리톨디포스파이트 화합물, 상기 일반식(3)으로 표시되는 유기 환상 포스파이트 화합물 및 상기 일반식(4)로 표시되는 힌더드페놀계 화합물에 대해서는 본 발명의 자외선 흡수제 조성물에 있어서의 설명이 그때그때 적용된다.

상기 일반식(1) 또는 (5)로 표시되는 트리아진계 화합물의 합성수지에의 배합량은 합성수지 100질량부에 대하여 0.001∼10질량부, 바람직하게는 0.01∼5질량부이다. 0.001질량부 미만에서는 충분한 안정화 효과가 얻어지지 않고, 한편 10질량부를 넘으면 수지 물성의 저하나, 블루밍(blooming)에 의해 수지 조성물의 미관을 해하는 등의 문제가 생긴다.

또한 상기 일반식(2)∼(4)로 표시되는 포스파이트계 화합물 및 힌더드페놀계 화합물의 합성수지에의 배합량은 각각 합성수지 100질량부에 대하여 0.001∼10질량부, 바람직하게는 0.01∼5질량부이다. 단, 상기 일반식(2)∼(4)로 표시되는 포스파이트계 화합물 및 힌더드페놀계 화합물의 합계 사용량은 합성수지 100질량부에 대하여 0.001∼10질량부이다. 합계 사용량이 0.001질량부 미만이면 충분한 내열착색 억제 효과가 발휘되지 않고, 10질량부를 넘으면 합성수지 물성의 저하나 블리딩(bleeding) 등에 의해 외관을 해하는 등의 문제가 생긴다.

본 발명의 합성수지 조성물에는 사용하는 합성수지의 종류에 따라서 통상 사용되는 다른 산화 방지제(페놀계, 인계 또는 티오에테르계 등), 다른 자외선 흡수제(벤조트리아졸계 자외선 흡수제, 다른 트리아진계 자외선 흡수제, 벤조페논계 자외선 흡수제 등), 힌더드아민계 광안정제, 가소제, 가공 조제 등의 첨가제를 배합할 수 있다.

상기 페놀계 산화 방지제로서는 예를 들면 2,6-디제3부틸-p-크레졸, 2,6-디페닐-4-옥타데실옥시페놀, 4,4'-티오비스(6-제3부틸-m-크레졸), 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-제3부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-에틸-6-제3부틸페놀), 4,4'-부틸리덴비스(6-제3부틸-m-크레졸), 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디제3부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4-제2부틸-6-제3부틸페놀), 1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-제3부틸페닐)부탄, 1,3,5-트리스(2,6-디메틸-3-하이드록시-4-제3부틸벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(3,5-디제3부틸-4-하이드록시벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(3,5-디제3부틸-4-하이드록시벤질)-2,4,6-트리메틸벤젠, 2-제3부틸-4-메틸-6-(2-아크릴로일옥시-3-제3부틸-5-메틸벤질)페놀, 티오디에틸렌글리콜비스[(3,5-디제3부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트], 비스[3,3-비스(4-하이드록시-3-제3부틸페닐)부티릭 액시드]글리콜에스테르, 비스[2-제3부틸-4-메틸-6-(2-하이드록시-3-제3부틸-5-메틸벤질)페닐]테레프탈레이트, 1,3,5-트리스[(3,5-디제3부틸-4-하이드록시페닐)프로피오닐옥시에틸]이소시아누레이트, 3,9-비스[1,1-디메틸-2-{(3-제3부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피오닐옥시}에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸, 트리에틸렌글리콜비스[(3-제3부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피오네이트] 등을 들 수 있고, 합성수지 100질량부에 대하여 바람직하게는 0.001∼10질량부, 보다 바람직하게는 0.05∼5질량부 사용된다.

상기 인계 산화 방지제로서는 예를 들면 트리스노닐페닐포스파이트, 트리스 [2-제3부틸-4-(3-제3부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐티오)-5-메틸페닐]포스파이트, 트리데실포스파이트, 옥틸디페닐포스파이트, 디(데실)모노페닐포스파이트, 디(트리 데실)펜타에리트리톨디포스파이트, 디(노닐페닐)펜타에리트리톨디포스파이트, 비스(2,4-디제3부틸페닐)펜타에리트리톨디포스파이트, 비스(2,4-디쿠밀페닐)펜타에리트리톨디포스파이트, 테트라(트리데실)이소프로필리덴디페놀디포스파이트, 테트라(트리데실)-4,4'-n-부틸리덴비스(2-제3부틸-5-메틸페놀)디포스파이트, 헥사(트리 데실)-1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-제3부틸페닐)부탄트리포스파이트, 9,10-디하이드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드, 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디제3부틸페닐)플루오로포스파이트, 트리스(2-[(2,4,8,10-테트라키스제3부틸디벤조[d,f][1,3,2]디옥사포스페핀-6-일)옥시]에틸)아민, 2-에틸-2-부틸프로필렌글리콜과 2,4,6-트리제3부틸페놀의 포스파이트 등을 들 수 있다.

상기 티오에테르계 산화 방지제로서는 티오디프로피온산디라우릴, 티오디프로피온산디미리스틸, 티오디프로피온산디스테아릴 등의 디알킬티오디프로피오네이트류 및 펜타에리트리톨테트라(β-도데실메르캅토프로피오네이트) 등의 폴리올의 β-알킬메르캅토프로피온산에스테르류를 들 수 있다.

상기 벤조트리아졸계 자외선 흡수제로서는 2-(2'-하이드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3',5'-디제3부틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-제3부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-제3옥틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3',5'-디쿠밀페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-제3부틸-5'-카르복시페닐)벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스(4-제3옥틸-6-벤조트리아졸릴)페놀 등의 2-(2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸류를 들 수 있다.

상기 다른 트리아진계 자외선 흡수제로서는 2-(2-하이드록시-4-옥톡시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-헥실옥시페닐)-4,6-디페닐-s-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-프로폭시-5-메틸페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-헥실옥시페닐)-4,6-디비페닐-s-트리아진, 2,4-비스(2-하이드록시-4-옥톡시페닐)-6-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진, 2,4,6-트리스(2-하이드록시-4-옥톡시페닐)-s-트리아진 등의 트리아릴트리아진류 등을 들 수 있다.

상기 벤조페논계 자외선 흡수제로서는 2,4-디하이드록시벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-옥톡시벤조페논, 5,5'-메틸렌비스(2-하이드록시-4-메톡시벤조페논) 등의 2-하이드록시벤조페논류를 들 수 있다.

상기 힌더드아민계 광안정제로서는 예를 들면 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜스테아레이트, 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜스테아레이트, 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜벤조에이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1-옥톡시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜메타크릴레이트, 2,2,6,6-테트라메틸-피페리딜메타크릴레이트, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 테트라키스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)·비스(트리데실)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)·비스(트리데실)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-2-부틸-2-(3,5-디제3부틸-4-하이드록시벤질)말로네이트, 3,9-비스[1,1-디메틸-2-[트리스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜옥시카르보닐옥시)부틸카르보닐옥시]에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸, 3,9-비스[1,1-디메틸-2-[트리스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜옥시카르보닐옥시)부틸카르보닐옥시]에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸, 1,6-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜아미노)헥산/2,4-디클로로-6-모르폴리노-s-트리아진 중축합물, 1,6-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜아미노)헥산/2,4-디클로로-6-제3옥틸아미노-s-트리아진 중축합물, 1,5,8,12-테트라키스[2,4-비스(N-부틸-N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노)-s-트리아진-6-일]-1,5,8,12-테트라아자도데칸, 1,5,8,12-테트라키스[2,4-비스(N-부틸-N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)아미노)-s-트리아진-6-일]-1,5,8,12-테트라아자도데칸, 1,6,11-트리스[2,4-비스(N-부틸-N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노)-s-트리아진-6-일아미노]운데칸, 1,6,11-트리스[2,4-비스(N-부틸-N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)아미노)-s-트리아진-6-일아미노]운데칸, 1-(2-하이드록시에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디놀/숙신산디에틸 중축합물, 1,6-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜아미노)헥산/디브로모에탄 중축합물 등을 들 수 있다.

이들 다른 산화 방지제, 자외선 흡수제 및 힌더드아민계 광안정제는 기재(基材) 수지에의 용해성이 뛰어난 구조가 바람직하고, 또한 가공시나 사용시의 열로 휘산되기 어려운 고분자량의 구조인 것이 바람직하고, 분자량 500 이상, 보다 바람직하게는 분자량 700 이상이며, 중합성 기나 반응성 기를 도입하여 고분자량화하거나, 합성수지에 포함시킨 것이어도 된다. 이들 다른 산화 방지제 및 자외선 흡수제의 사용량은 합성수지 100질량부에 대하여 바람직하게는 0.01∼10질량부, 보다 바람직하게는 0.05∼5질량부이다.

상기 가소제로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 인산에스테르계 가소제나 폴리에스테르계 가소제를 들 수 있으며, 이들은 단독 혹은 2종 이상 혼합해서 사용할 수 있다.

상기 인산에스테르계 가소제로서는, 트리페닐포스페이트, 트리크레질포스페이트, 크레질디페닐포스페이트, 옥틸디페닐포스페이트, 디페닐비페닐포스페이트, 트리옥틸포스페이트, 트리부틸포스페이트 등을 들 수 있다.

상기 폴리에스테르계 가소제로서는, 지방족 2염기산이나 방향족 2염기산과 디올 화합물로 이루어지는 쇄상 폴리에스테르나 하이드록시카르복실산의 쇄상 폴리에스테르를 들 수 있다.

상기 지방족 2염기산으로서는 옥살산, 말론산, 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 피멜린산, 아젤라인산, 세바신산, 푸마르산, 2,2-디메틸글루타르산, 수베린산, 1,3-시클로펜탄디카르복실산, 1,4-시클로헥산디카르복실산, 1,3-시클로헥산디카르복실산, 디글리콜산, 이타콘산, 말레산, 2,5-노르보르넨디카르복실산 등을 들 수 있고, 방향족 2염기산으로서는 프탈산, 1,5-나프탈렌디카르복실산, 2,6-나프탈렌디카르복실산, 비페닐디카르복실산, 안트라센디카르복실산, 터페닐디카르복실산 등을 들 수 있다.

상기 디올 화합물로서는 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 1,3-프로판디올, 1,2-부탄디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 2-메틸프로판디올, 1,3-디메틸프로판디올, 1,5-펜탄디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올, 1,6-헥산디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 1,9-노난디올, 2,2,4-트리메틸-1,6-헥산디올, 2-에틸-2-부틸프로판디올, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 테트라에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리프로필렌글리콜, 테트라프로필렌글리콜, 티오디에틸렌글리콜, 1,3-시클로헥산디메탄올, 1,4-시클로헥산디메탄올, 2,2,4,4-테트라메틸-1,3-시클로부탄디올, 3,9-비스(2-하이드록시-1,1-디메틸에틸)-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5,5]운데칸 등을 들 수 있다.

상기 하이드록시카르복실산으로서는 4-하이드록실메틸시클로헥산카르복실산, 하이드록시트리메틸아세트산, 6-하이드록시카프론산, 글리콜산, 락트산 등을 들 수 있다.

다른 폴리에스테르계 가소제로서는 3가 이상의 폴리올과 모노카르복실산 화합물의 폴리에스테르를 들 수 있다. 3가 이상의 폴리올로서는 글리세린, 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 소르비톨이나 그 축합물인 디펜타에리트리톨, 트리펜타에리트리톨 등을 들 수 있다. 또한 이들 폴리올에 에틸렌옥사이드 등의 알킬렌옥사이드를 부가한 폴리에테르폴리올이어도 된다.

상기 모노카르복실산으로서는 안식향산, p-메틸안식향산, m-메틸안식향산, 디메틸안식향산, p-tert-부틸안식향산, p-메톡시안식향산, p-클로로안식향산, 나프틸산, 비페닐카르복실산 등의 방향족 카르복실산; 시클로헥산카르복실산 등의 지환식 카르복실산; 아세트산, 프로피온산, 2-에틸헥산산 등의 지방족 산을 들 수 있다. 모노카르복실산은 단독이어도 혼합이어도 된다.

이들 가소제의 사용량은 합성수지 성능, 가공성 등의 점에서 합성수지 중 0∼20질량%가 바람직하다. 액정표시 부재용으로서는 치수 안정성의 관점에서 1∼15질량%가 더욱 바람직하고, 특히 바람직하게는 2∼10질량%이며, 가수분해의 면에서 폴리에스테르계 가소제가 바람직하다.

본 발명의 합성수지 조성물에 있어서, 합성수지, 상기 일반식(1)∼(5)로 표시되는 트리아진계 화합물/포스파이트 화합물/힌더드페놀계 화합물 및 상술한 첨가제의 혼합 순서는 특별히 제한되지 않으며, 모든 성분을 동시에 혼합해도 되고, 미리 자외선 흡수제 조성물을 조제하고 나서 이것과 합성수지를 혼합해도 되며, 미리 조제해 둔 복수의 성분을 다른 성분과 혼합해도 되고, 혹은 미리 조제해 둔 복수의 성분끼리 더 혼합해도 된다.

본 발명의 합성수지 조성물의 제조에 있어서, 미리 자외선 흡수제 조성물을 조제하고 나서 이것과 합성수지를 혼합할 경우, 그 배합량은 합성수지 100질량부에 대하여, 상기 자외선 흡수제 조성물을 바람직하게는 0.05∼10질량부, 보다 바람직하게는 0.1∼5질량부이다.

이상 설명한 본 발명의 합성수지 조성물은 상기 일반식(1)∼(5)로 표시되는 트리아진계 화합물/포스파이트계 화합물/힌더드페놀계 화합물이, 상기 합성수지, 특히 광학 재료용으로서 적합한 아크릴산에스테르계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지, 폴리에틸렌나프탈레이트계 수지, 폴리스티렌계 수지, 셀룰로오스에스테르계 수지 또는 노르보르넨계 수지 등에 대하여 뛰어난 용해성을 가지므로, 편광판 등의 기재와의 접착성이 뛰어난 점이나 필름의 물성이 안정적인 점, 다른 부재를 오염시키지 않는 점 등의 효과를 기대할 수 있다.

본 발명의 합성수지 조성물은 특별히 제한되지 않지만, 시트나 필름 등으로 성형하여 광학 필름이나 광학 시트 등의 광학 재료로서 바람직하게 사용할 수 있을 뿐 아니라, 도료용 재료로서도 사용할 수 있다. 광학 재료로서는 예를 들면 액정표시장치(LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP), 전계 발광 디스플레이(ELD), 음극관 표시장치(CRT), 형광표시관, 전계방사형 디스플레이 등의 화상표시장치에 이용하는 광학 필름 또는 광학 시트로서 유용하고, 특히 표시소자에 자외선 내성이 떨어지는 유기 재료를 이용하는 액정표시장치나 유기 EL 디스플레이의 광학 보정 필름, 발광체 보호 필름 등의 광학 필름으로서 유용하다. 액정표시장치 용도로서는 편광판 보호 필름 또는 보호 시트, 위상차 필름, 위상차 필름, 시야각 확대 필름, 방현 필름, 휘도 향상 필름, 광확산 필름 및 광확산 시트, 렌즈 필름 및 렌즈 시트, 방담 필름, 대전 방지 필름, 광학 보정 필름, 반사 방지 필름, 색조 조정 필름이나 도광판 등을 들 수 있고, 특히 액정표시소자에 접해 있는 편광판의 외표면측에 설치되는 광학 필름 혹은 광학 시트, 또는 편광판 보호 필름 혹은 광학 시트에 바람직하게 사용할 수 있다.

다음으로 본 발명의 합성수지 조성물을 광학 필름 또는 광학 시트에 이용한 경우에 대하여 설명한다.

본 발명의 광학 필름 및 광학 시트는 본 발명의 합성수지 조성물을 필름 또는 시트로 성형하여 얻어지는 것이며, 그 성형방법으로서는 용액 유연법(流延法)이어도 사출 성형법이어도 용융 압출법이어도 되고, 종래와 동일한 방법으로 성형할 수 있다. 또한 그 두께도 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면 필름으로 성형할 경우에는 바람직하게는 5∼300㎛이고, 보다 바람직하게는 5∼150㎛이며, 시트로 성형할 경우에는 바람직하게는 200㎛∼10mm이고, 보다 바람직하게는 300㎛∼5mm이다.

본 발명의 광학 필름 및 광학 시트는 상기 합성수지 조성물에 포함되는 상기 일반식(1)∼(4)로 표시되는 트리아진계 화합물, 포스파이트 화합물 및 힌더드페놀계 화합물이 내휘산성도 뛰어나므로 용액 유연법, 사출 성형법 및 용융 압출법의 가공 조건으로서 생산성이 높은 고온 조건(200∼350℃)에서의 제조에도 적합하다.

본 발명의 광학 필름 또는 광학 시트를 이용한 액정표시장치는 편광능의 지속이 뛰어난 것으로, 적용되는 액정표시장치는 특별히 제한되지 않으며, TN, STN, TFT 등의 구동 방식, 백라이트가 형광등인지 LED인지 등의 광원의 종류, 반사형인지 투과형인지 등의 광원으로서 태양광 등의 외부광을 이용하는지 여부, 터치 패널 기능의 유무 등 표시장치로서의 기능의 부가, 향상을 위한 시책의 유무나 정도에 관계없이 바람직하게 이용할 수 있다.

<실시예>

실시예 등에 의해 본 발명을 상세하게 나타낸다. 단, 본 발명은 이하의 실시예 등에 의해 전혀 제한되지 않는다.

[실시예 1 및 비교예 1]

하기 표 1 또는 2에 기재된 배합과 같이 트리아진계 화합물 1질량부에 대하여, 포스파이트계 화합물 또는 힌더드페놀계 화합물을 0.02질량부 첨가한 혼합물을 시험관에 넣고, 블록 배스(block bath)로 에어 중 300℃로 15분간 가열하고, 실온 1시간 냉각 후의 착색 정도를 하기 기준에 기초하여 육안 평가하였다. 결과를 표 1 및 2에 함께 기재한다.

[착색성 육안 평가] (5단계 평가)

1: 약간 착색(담황색), 2: 가벼운 착색(황갈색), 3: 중간 정도의 착색(다갈색), 4: 심한 착색(흑갈색), 5: 흑색화

[실시예 2 및 비교예 2]

<펠렛 제작>

하기 표 3 또는 표 4에 기재된 합성수지 100질량부에 대하여, 상기 화합물 No.4를 1질량부 및 표 중에 기재된 바와 같이 화합물을 배합하고, 표 중에 기재된 가공 온도로 압출기((주)토요세이키 세이사쿠쇼 제품, 라보플라스토밀μ(Laboplastomill μ)를 이용해서 펠렛을 제작하였다.

한편, 사용한 합성수지는 하기와 같다.

PC: 폴리카보네이트 수지: 미츠비시 엔지니어링 플라스틱스(주) 제품, 제품명 E-2000

NBE: 노르보르넨 수지: JSR(주) 제품, 제품명 ARTON F5023

PET: 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지: 테이진카세이(주) 제품, 제품명 TR-8550

PS: 폴리스티렌 수지: Aldrich 제품 시약 코드 182427

PMMA: 메타크릴 수지: 미츠비시레이온(주) 제품, 제품명 아크리펫(Acrypet) VH000

CAB: 셀룰로오스·아세테이트·부티레이트 수지: 이스트만 케미컬(Eastman Chemical) 제품, 제품명 CAB 381-20

<내열착색성 평가 방법>

상기에서 제작한 펠렛을 다광원 분광 측색계(스가시켄키 가부시키가이샤 제품)에 의해 황색도(옐로우 인덱스: Y.I(반사))를 측정하여 내열착색성을 평가하였다. 결과를 표 3 및 표 4에 함께 기재한다.

표 1∼4의 결과로부터, 본 발명에 있어서의 특정한 구조를 가지는 트리아진계 화합물은 본 발명에 있어서의 특정한 구조를 가지는 포스파이트 화합물 및/또는 힌더드페놀계 화합물과의 병용계에서만 내열착색성(ΔY.I)이 현저하게 개선되어 있으며, 다양한 합성수지에 있어서 효과를 나타내고 있음을 알 수 있다.

따라서 본 발명에 있어서의 특정한 포스파이트계 화합물 및/또는 힌더드페놀계 화합물은 본 발명에 있어서의 트리아진계 화합물함유 합성수지의 내열착색성 개선에 현저한 효과를 나타내고, 내열변색성이 뛰어난 자외선 흡수제 조성물 및 상기 자외선 흡수제 조성물을 함유한 합성수지 조성물을 제공하는 것이 가능하며, 특히 광학 필름 및 광학 시트에 사용되는 합성수지의 내열착색성 개선에 매우 유용하다.

Claims

하기 일반식(5)로 표시되는 트리아진계 화합물 0.1∼99.9질량%; 및
하기 일반식(2)로 표시되는 디아릴펜타에리트리톨디포스파이트 화합물 0∼99.9질량%, 하기 일반식(3)으로 표시되는 유기 환상 포스파이트 화합물 0∼99.9질량%, 및 하기 일반식(4)로 표시되는 힌더드페놀계 화합물 0∼99.9질량% 중 1종 이상을 함유해서 이루어지는 자외선 흡수제 조성물(단, 상기 일반식(2), (3) 및 (4)로 표시되는 화합물의 합계 함유량은 0.1∼99.9질량%이다).
[화학식 5]

(식 중, R¹⁰은 탄소원자수 1∼12의 직쇄 또는 분기된 알킬기를 나타낸다. (단, 이들 알킬기는 하이드록시기, 할로겐원자 또는 알콕시기로 치환되어 있어도 되고, 산소원자, 유황원자, 카르보닐기, 에스테르기, 아미드기 또는 이미노기로 중단되어 있어도 된다.))
[화학식 2]

(식 중, R⁵는 각각 독립적으로 수소원자 또는 탄소원자수 1∼4의 알킬기를 나타낸다.)
[화학식 3]

(식 중, R⁶ 및 R⁸은 각각 독립적으로 수소원자 또는 탄소원자수 1∼4의 알킬기를 나타내고, R⁷은 탄소원자수 1∼18의 알킬기를 나타낸다.)
[화학식 4]

(식 중, R⁹는 1∼4가의 알코올에서 n개의 수산기를 뺀 잔기를 나타내고, n은 1∼4의 정수를 나타낸다.)
삭제
제1항에 있어서,
상기 일반식(2)에서의 R⁵가 메틸기인 것을 특징으로 하는 자외선 흡수제 조성물.
제1항에 있어서,
상기 일반식(3)에서의 R⁶이 제3부틸기, R⁷이 2-에틸헥실기, R⁸이 수소원자인 것을 특징으로 하는 자외선 흡수제 조성물.
제1항, 제3항 및 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 일반식(4)에서의 R⁹가, 펜타에리트리톨에서 4개의 수산기를 뺀 잔기인 것을 특징으로 하는 자외선 흡수제 조성물.
합성수지 100질량부에 대하여, 하기 일반식( 5 )로 표시되는 트리아진계 화합물 0.001∼10질량부; 및
하기 일반식(2)로 표시되는 디아릴펜타에리트리톨디포스파이트 화합물 0.001∼10질량부, 하기 일반식(3)으로 표시되는 유기 환상 포스파이트 화합물 0.001∼10질량부, 및 하기 일반식(4)로 표시되는 힌더드페놀계 화합물 0.001∼10질량부 중 1종 이상을 배합해서 이루어지는 것을 특징으로 하는 합성수지 조성물.
[화학식 10]

(식 중, R¹⁰은 탄소원자수 1∼12의 직쇄 또는 분기된 알킬기를 나타낸다. (단, 이들 알킬기는 하이드록시기, 할로겐원자 또는 알콕시기로 치환되어 있어도 되고, 산소원자, 유황원자, 카르보닐기, 에스테르기, 아미드기 또는 이미노기로 중단되어 있어도 된다.))
[화학식 7]

(식 중, R⁵는 각각 독립적으로 수소원자 또는 탄소원자수 1∼4의 알킬기를 나타낸다.)
[화학식 8]

(식 중, R⁶ 및 R⁸은 각각 독립적으로 수소원자 또는 탄소원자수 1∼4의 알킬 기를 나타내고, R⁷은 탄소원자수 1∼18의 알킬기를 나타낸다.)
[화학식 9]

(식 중, R⁹는 1∼4가의 알코올에서 n개의 수산기를 뺀 잔기를 나타내고, n은 1∼4의 정수를 나타낸다.)
삭제
제6항에 있어서,
상기 일반식(2)에서의 R⁵가 메틸기인 것을 특징으로 하는 합성수지 조성물.
제6항에 있어서,
상기 일반식(3)에서의 R⁶이 제3부틸기, R⁷이 2-에틸헥실기, R⁸이 수소원자인 것을 특징으로 하는 합성수지 조성물.
제6항에 있어서,
상기 일반식(4)에서의 R⁹가, 펜타에리트리톨에서 4개의 수산기를 뺀 잔기인 것을 특징으로 하는 합성수지 조성물.
제6항에 있어서,
상기 합성수지가, 아크릴산에스테르계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지, 폴리에틸렌나프탈레이트계 수지, 폴리스티렌계 수지, 셀룰로오스에스테르계 수지, 시클로올레핀계 수지 또는 노르보르넨계 수지인 것을 특징으로 하는 합성수지 조성물.
제6항, 제8항 내지 제11항 중 어느 한 항에 기재된 합성수지 조성물로 이루어지는 필름 또는 시트.
제12항에 있어서,
광학 필름 또는 광학 시트인 것을 특징으로 하는 필름 또는 시트.
제13항에 있어서,
액정표시소자에 접해 있는 편광판의 외표면측에 설치되는 광학 필름 혹은 광학 시트, 또는 상기 액정표시소자에 접해 있는 편광판용 보호 필름 혹은 보호 시트인 것을 특징으로 하는 필름 또는 시트.
제13항에 있어서,
편광판용 보호 필름 또는 보호 시트인 것을 특징으로 하는 필름 또는 시트.